JPH07142170A

JPH07142170A - 有機ｅｌ素子および有機ｅｌパネル

Info

Publication number: JPH07142170A
Application number: JP5288209A
Authority: JP
Inventors: Masahide Matsuura; 正英松浦; Chishio Hosokawa; 地潮細川; Tadashi Kusumoto; 正楠本
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1993-11-17
Filing date: 1993-11-17
Publication date: 1995-06-02
Anticipated expiration: 2013-06-04
Also published as: JP2761453B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】コントラストの高い有機ＥＬ素子およびコン
トラストの高い有機ＥＬパネルを提供する。【構成】有機ＥＬ素子は、有機発光材料を含有する有
機単層部または有機多層部３が１対の電極２，４によっ
て挟持されており、前記１対の電極２，４間に所定の電
圧もしくは電流を印加することにより前記有機発光材料
を発光させる有機ＥＬ素子であって、前記１対の電極の
うちで光取出し面側に位置する電極２の外側に偏光層５
を設けたことを特徴とするものである。また、本発明の
有機ＥＬパネルは、上述した有機ＥＬ素子を同一平面上
に二次元配列してなることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略記する）および
有機エレクトロルミネッセンスパネル（以下、有機ＥＬ
パネルと略記する）に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＥＬ素子は自己発光のため視認性が高
く、また、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れてい
る。このような特徴を有していることから、現在では、
発光材料として無機化合物を用いた種々の無機ＥＬ素子
や、発光材料として有機化合物（以下、この化合物を有
機発光材料という）を用いた種々の有機ＥＬ素子が提案
されており、かつ実用化が試みられている。

【０００３】なかでも有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子に
比べて印加電圧を大幅に低下させることができるため、
材料の開発・改良を通して、より高性能の有機ＥＬ素子
を得るための開発が活発に進められている。この有機Ｅ
Ｌ素子は、面光源としての利用も進められているが、い
ろいろな発光色の素子が開発されていることから、表示
装置の画素としての利用も進められている。有機ＥＬ素
子を画素として用いた表示装置では、複数の有機ＥＬ素
子を同一平面上に二次元配列することによってパネル
（表示パネル）を構成し、これらの素子を独立に駆動さ
せることで所望の表示を行う。

【０００４】有機ＥＬ素子の基本構成は、基板上に陽
極、発光層、陰極が順次積層された構成であるが、陽極
と陰極の位置は逆転する場合もある。また、性能を向上
させるために、陽極と発光層の間に正孔輸送層を設けた
り、陰極と発光層との間に電子注入層を設けたり、陰極
と発光層の間または電子注入層と発光層との間に接着層
を設けたりする場合がある。発光層は、通常、１種また
は複数種の有機発光材料により形成するが、有機発光材
料と正孔輸送材料および／または電子注入材料との混合
物により形成する場合もある。また、有機ＥＬ素子を構
成する１対の電極（陽極および陰極）のうち、発光素子
としての光取出し面（発光面）側に位置する電極は、光
の取出し効率を向上させるため、また、面発光素子とし
ての構成上、透明ないし半透明の薄膜からなる。一方、
光取出し面とは反対の側に位置する電極（以下、対向電
極という）は、特定の金属薄膜（金属、合金、混合金属
等の薄膜）からなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来よ
り対向電極として用いられている金属薄膜は可視光の反
射率が高く、有機ＥＬ素子の発光時および非発光時に拘
らず、外部から当該有機ＥＬ素子に入射した光の一部が
対向電極によって反射されて光取出し面から出射され
る。このため、従来の有機ＥＬ素子のコントラストおよ
びこの素子を同一平面上に二次元配列することによって
構成した従来の有機ＥＬパネルのコントラストは比較的
低い。本発明の目的は、コントラストの高い有機ＥＬ素
子およびコントラストの高い有機ＥＬパネルを提供する
ことにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の有機ＥＬ素子は、有機発光材料を含有する有機単層
部または有機多層部が１対の電極によって挟持されてお
り、前記１対の電極間に所定の電圧もしくは電流を印加
することにより前記有機発光材料を発光させる有機ＥＬ
素子であって、前記１対の電極のうちで光取出し面側に
位置する電極の外側に偏光層を設けたことを特徴とする
ものである。また、上記目的を達成する本発明の有機Ｅ
Ｌパネルは、上述した本発明の有機ＥＬ素子を同一平面
上に二次元配列してなることを特徴とするものである。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。まず本発
明の有機ＥＬ素子について説明すると、この有機ＥＬ素
子は、上述したように特定の位置に偏光層を設けたこと
を特徴とする有機ＥＬ素子であり、偏光層以外の構成部
材である１対の電極や、この１対の電極によって挟持さ
れる有機単層部または有機多層部は、従来の有機ＥＬ素
子と同じである。

【０００８】ここで、「有機単層部」とは、実質的に１
種または複数種の有機発光材料のみからなる層や、１種
または複数種の有機発光材料と正孔輸送材料および／ま
たは電子注入材料との混合物かなる層等、有機ＥＬ素子
の発光層として機能する単層構造部を意味する。また
「有機多層部」とは、発光層以外に正孔輸送層、電子注
入層または接着層を有する２層以上の積層構造部を意味
し、層の積層順は従来と同様に、陽極上に有機多層部を
形成するのか陰極上に有機多層部を形成するのかに応じ
て適宜選択される。

【０００９】有機単層部および有機多層部の構成材料は
特に限定されるものではなく、従来より有機ＥＬ素子用
の有機発光材料、正孔輸送材料、電子注入材料、接着層
材料として利用されている物質をそのまま利用すること
ができる。なお、有機ＥＬ素子用の正孔輸送材料および
電子注入材料としては無機半導体も利用されており、本
発明の有機ＥＬ素子においても無機半導体を正孔輸送材
料および／または電子注入材料として利用することがで
きる。したがって、上記有機単層部は無機半導体からな
る正孔輸送材料および／または電子注入材料と１種また
は複数種の有機発光材料との混合物からなる層をも包含
し、上記有機多層部は無機半導体からなる正孔輸送層お
よび／または電子注入層を有するものをも包含する。

【００１０】また、上述した有機単層部または有機多層
部を挟持する１つの電極（陽極および陰極）の材料も特
に限定されるものではなく、従来より有機ＥＬ素子用の
陽極材料および陰極材料として利用されているものをそ
のまま利用することができる。例えば陽極材料として
は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気
伝導性化合物、またはこれらの混合物等を利用すること
ができ、具体例としてはＡｕなどの金属や、ＣｕＩ，Ｉ
ＴＯ，ＳｎＯ₂，ＺｎＯ等の誘電性透明材料等が挙げら
れる。また陰極材料としては、仕事関数の小さい（４ｅ
Ｖ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれら
の混合物等を利用することができ、具体例としてはナト
リウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リ
チウム、マグネシウムと銀との合金または混合金属、Ａ
ｌ／ＡｌＯ₂、インジウム、希土類金属等が挙げられ
る。

【００１１】なお、上述した陽極材料同士であっても、
相対的に陽極の仕事関数の方が陰極の仕事関数よりも大
きくなるように２種の物質を選択することにより、有機
ＥＬ素子の陽極および陰極として利用し得る場合もある
ので（例えば陽極にＡｕ、陰極にＩＴＯ）、陽極材料お
よび陰極材料を選択する際に基準とする仕事関数の大き
さは４ｅＶに限定されるものではない。

【００１２】陽極および陰極のシート抵抗は、共に数百
Ω／□以下であることが好ましい。また、陽極および陰
極のうちで光取出し面側に位置する電極については、４
００〜６００ｎｍの波長域での光透過率が１０％以上と
なるように、材料および膜厚を選択することが好まし
い。前記光透過率が１０％未満では、実用上十分な輝度
を有する有機ＥＬ素子を得ることが困難である。前記光
透過率が１０％以上である電極は、例えば、ＩＴＯ，Ｓ
ｎＯ₂，ＺｎＯ等の透明電極材料からなる厚さ１０〜５
０μｍの膜や、厚さ１〜３０μｍの金属膜により形成す
ることができる。なお、本発明でいう４００〜６００ｎ
ｍの波長域での光透過率とは、有機発光材料からの発光
のうちで前記波長域に属する光の分光透過率の最低値を
意味する。

【００１３】また、対向電極（光取出し面とは反対の側
に位置する電極）を陰極とする場合は、４００〜６００
ｎｍの波長域での反射率が５０％以上である金属（合金
および混合金属を含む）膜で形成することが特に好まし
い。このような金属膜は、電荷特に電子の注入性に優れ
るため、素子の発光特性を向上させるうえで好適であ
る。なお、本発明でいう４００〜６００ｎｍの波長域で
の反射率とは、有機発光材料からの発光のうちで前記波
長域に属する光の分光反射率の最低値を意味する。

【００１４】本発明の有機ＥＬ素子は、前述したよう
に、光取出し面側に位置する電極の外側に偏光層を設け
たことを特徴とするものである。この偏光層における偏
光方法は特に限定されるものではなく、複屈折、反射、
散乱、二色性等のいずれを利用したものでもよい。ま
た、偏光層は１枚の偏光板または偏光フィルムにより形
成してもよいし、複数枚の偏光板または偏光フィルムを
組み合わせた多層構造にしてもよい。ただし、偏光層の
光透過率は、４００〜６００ｎｍの波長域で３０％以上
であることが好ましい。前記光透過率が３０％未満で
は、実用上十分な輝度を有する有機ＥＬ素子を得ること
が困難である。

【００１５】偏光層の好ましい例としては、複数枚の二
色性型偏光フィルムを組み合わせたものが挙げられる。
この二色性型偏光フィルムとしては、ＰＶＡ（ポリビニ
ルアルコール）の一軸延伸配向フィルムにその分子鎖に
沿ってヨウ素を配列させてなる多ハロゲン偏光フィル
ム、ＰＶＡ一軸延伸配向フィルムにその分子鎖に沿って
二色性染料を配列させてなる染料偏光フィルム、ＰＶＡ
一軸延伸配向フィルムにその分子鎖に沿って金属（Ａ
ｕ，Ａｇ，Ｈｇ，Ｆｅ等）粒子を配列させてなる金属偏
光フィルム等がある。偏光層の特に好ましい例として
は、ＰＶＡの一軸延伸配向フィルムにヨウ素や染料を配
列させた偏光フィルム（例えば三立電機（株）製のバリ
ライト）等の直線偏光板または直線偏光フィルムと、位
相差補償板または位相差補償フィルムとを組み合わせた
ものが挙げられる。

【００１６】市販されている偏光フィルムもしくは偏光
板の具体例としては、日東電気工業（株）製のＮＰＦシ
リーズ（ＮＰＦ−１０００，ＮＰＦ−１００８，ＮＰＦ
−３０００，ＮＰＦ−４０００，ＮＰＦ−５１６０
等）、三立電機（株）製のバリライト（Ｌ−１１−８，
Ｌ−１２−１８，Ｌ−１３−１８，Ｌ−８１−１８，Ｌ
−８２−１８，Ｌ−８３−１８等）、日本ポラロイド
（株）製のＨＮタイプシリーズ（ＨＮ−７，ＨＮ−２
２，ＨＮ−３２，ＨＮ−３８，ＨＮ−４２，ＨＮＣＰ−
３７，ＨＮ−４２ｃｃｐ等）等が挙げられる。

【００１７】上述した偏光層は、陽極および陰極のうち
で光取出し面側に位置する電極の外側に設けられていれ
ばよい。ここで、有機ＥＬ素子は、通常、透明基板上に
陽極、有機単層部または有機多層部、および陰極（対向
電極）を順次積層し、陽極等を積層した面とは反対の側
の透明基板表面（以下、この表面を透明基板の外側表面
といい、陽極等を積層した面を透明基板の内側表面とい
う）を光取出し面とするものが多いが、基板上に陰極
（対向電極）、有機単層部または有機多層部、および陽
極を順次積層し、この陽極側を光取出し面とすることも
できる。そして、偏光層を除いた本発明の有機ＥＬ素子
の構成は、前述した透明基板の外側表面を光取り出し面
とする構成であってもよいし、有機単層部または有機多
層部の上に積層された陽極側を光取出し面とする構成で
あってもよい。

【００１８】したがって、本発明の有機ＥＬ素子におけ
る偏光層の配設位置は、当該有機ＥＬ素子の構成を透明
基板の外側表面を光取出し面とする構成とした場合に
は、図１（ａ）に示すように透明基板の外側表面上とす
るか、図１（ｂ）に示すように透明基板の内側表面上と
する。ここで、図１（ａ）に示した本発明の有機ＥＬ素
子１０ａでは、透明基板１の内側表面上に陽極２，有機
単層部または有機多層部３，陰極（対向電極）４が順次
積層されており、透明基板１の外側表面上には偏光層５
が設けられている。一方、図１（ｂ）に示した本発明の
有機ＥＬ素子１０ｂでは、透明基板１の内側表面上に偏
光層５，陽極２，有機単層部または有機多層部３，陰極
（対向電極）４が順次積層されている。また、本発明の
有機ＥＬ素子の構成を、有機単層部または有機多層部の
上に積層された陽極側を光取出し面とする構成とした場
合には、陽極上に偏光層を設ける。なお、透明基板の外
側表面または内側表面に偏光層を設ける場合には、透明
基板表面に偏光層を設けてなる部材の光透過率が４００
〜６００ｎｍの波長域で１０％以上となるように、透明
基板および偏光層の材料を選択することが好ましい。

【００１９】上述した構成からなる本発明の有機ＥＬ素
子は、所定の位置に偏光層を設ける以外は従来の有機Ｅ
Ｌ素子と同様に抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、ス
パッタ法、キャスト法、スピンコート法等を利用して製
造することができる。蒸着法を用いれば、この蒸着法だ
けによって電極（陽極および陰極）および有機単層部ま
たは有機多層部を形成することができるため、設備の簡
略化や生産時間の短縮を図るうえで有利である。また、
偏光層を所定の位置に設けるための方法としては、当該
偏光層の材料を接着剤等によって所定の位置に固着させ
る方法が挙げられる。本発明の有機ＥＬ素子の構成を、
透明基板の外側表面を光取出し面とする構成にする場合
には、予め偏光層を設けておいた透明基板の所定の面
（偏光層表面を含む）上に陽極、有機単層部または有機
多層部、および陰極（対向電極）を順次積層してもよい
し、予め有機単層部または有機多層部、および陰極（対
向電極）を順次積層しておいた透明基板の外側表面に偏
光層を設けてもよい。

【００２０】なお、対向電極（光取出し面とは反対の側
に位置する電極）として、４００〜６００ｎｍの波長域
での反射率が５０％以上である金属（合金および混合金
属を含む）膜を用いる場合、このような金属膜を得るた
めには少なくとも１０^-2Ｐａ以下の真空度での成膜が必
要である。また、本発明の有機ＥＬ素子は、陽極と陰極
との間に電圧を印加して、エージングを行ったものであ
ってもよい。ここで、エージングとは、電圧を印加する
ことで、リーク電流を発生する領域を除去するととも
に、素子内に溜まった正孔や電子を除去する処理をいう
（特開平４−１４７９４号公報参照）。このエージング
により、有機ＥＬ素子の安定動作が図れる。エージング
は必ずしも必要ではないが、素子の動作安定性の観点か
らはエージングを行うことが望ましい。

【００２１】上述したようにして得ることができる本発
明の有機ＥＬ素子は、光取出し面側に位置する電極の外
側に偏光層が設けられていることから、素子の発光時お
よび素子の非発光時のいずれにおいても、対向電極から
の反射光の多くは偏光層に吸収される。したがって、本
発明の有機ＥＬ素子のコントラストは高い。

【００２２】次に、本発明の有機ＥＬパネルについて説
明する。本発明の有機ＥＬパネルは、前述したように、
上述した本発明の有機ＥＬ素子を同一平面上に二次元配
列してなることを特徴とするものである。ここで、二次
元配列の具体例としてはＸ−Ｙマトリックス型の配列が
挙げられる。この場合、同じ行または列に属する有機Ｅ
Ｌ素子は１本の電極（陽極または陰極）兼用導線を共有
し、陽極兼用導線および陰極兼用導線はこれらを平面視
したときの全体形状が格子状を呈するように設けられ
る。また、前述した本発明の有機ＥＬ素子は、陽極兼用
導線と陰極兼用導線の平面視上の交差部に形成される。
偏光層は、パネルを構成する全ての有機ＥＬ素子につい
て各々独立に設けてもよいが、実用上は全ての有機ＥＬ
素子によって共有される大形状の偏光層を１つだけ設け
るほうが簡便である。

【００２３】図１（ａ）に示した構成の有機ＥＬ素子を
Ｘ−Ｙマトリックス型に二次元配列してなるタイプの有
機ＥＬパネルは、例えば、透明基板上に陽極兼用導線を
ストライプ状に所望本数平行に設け、これらの陽極兼用
導線上（陽極兼用導線によっ被覆されていない部分の透
明電極表面を含む）に有機単層部または有機多層部を設
け、この有機単層部または有機多層部の上に、前記陽極
兼用導線と直交する向きに陰極兼用導線をストライプ状
に所望本数平行に設けた後、透明基板の外側表面に全て
の有機ＥＬ素子によって共有される大形状の偏光層を設
けることにより得ることができる。偏光層は、陽極兼用
導線等の形成に先だって、透明基板の所定の表面上に設
けてもよい。

【００２４】また、図１（ｂ）に示した構成の有機ＥＬ
素子をＸ−Ｙマトリックス型に二次元配列してなるタイ
プの有機ＥＬパネルは、例えば、透明基板の所定の表面
上に全てのＥＬ素子によって共有され得る大形状の偏光
層を設け、この偏光層上に陽極兼用導線をストライプ状
に所望本数平行に設け、これらの陽極兼用導線上（陽極
兼用導線によって被覆されていない部分の偏光層表面を
含む）に有機単層部または有機多層部を設けた後、この
有機単層部または有機多層部の上に、前記陽極兼用導線
と直交する向きに陰極兼用導線をストライプ状に所望本
数平行に設けることにより得ることができる。

【００２５】さらに、有機単層部または有機多層部の上
に積層された陽極側を光取出し面とする構成とした有機
ＥＬ素子をＸ−Ｙマトリックス型に二次元配列してなる
タイプの有機ＥＬパネルは、例えば、透明基板上に陽極
兼用導線をストライプ状に所望本数平行に設け、この上
（陽極兼用導線が設けられていない部分の透明電極表面
を含む）に有機単層部または有機多層部を設け、この有
機単層部または有機多層部の上に、前記陽極兼用導線と
直交する向きに陰極兼用導線をストライプ状に所望本数
平行に設けた後、これらの陰極兼用導線の上（陰極兼用
導線が設けられていない部分の有機単層部または有機多
層部の表面を含む）に全ての有機ＥＬ素子によって共有
される大形状の偏光層を設けることにより得ることがで
きる。

【００２６】上述のようにして得ることができる本発明
の有機ＥＬパネルは、このパネルを構成する有機ＥＬ素
子が前述した本発明の有機ＥＬ素子であることからコン
トラストが高く、表示パターンの視認性に優れる。

【００２７】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。実施例１（有機ＥＬ素子の作製）２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上に膜厚
１００ｎｍのＩＴＯ膜を蒸着法により成膜したものを透
明支持基板として用意した。この基板の光透過率を島津
製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣで測定したところ、４
００〜６００ｎｍの波長域で約８０％であった。この基
板をイソプロピルアルコール中で５分間、次いで純水中
で５分間、それぞれ超音波洗浄し、さらに、（株）サム
コインターナショナル研究所製の装置用いてＵＶオゾン
洗浄を１０分間行った。

【００２８】次に、この基板を市販の蒸着装置（日本真
空技術（株）製）の基板ホルダーに固定する一方で、モ
リブデン製の抵抗加熱ボートにＮ，Ｎ′−ビス（３−メ
チルフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジフェニル［１，１′−ビフ
ェニル］−４，４′−ジアミン（以下、ＴＰＤと略記す
る）を２００ｍｇ入れ、また、違うモリブデン製の抵抗
加熱ボートに４，４′−ビス（２，２′−ジフェニルビ
ニル）ビフェニル（以下、ＤＰＶＢｉと略記する）を２
００ｍｇ入れた後、真空槽を１×１０^-4Ｐａまで減圧し
た。

【００２９】この後、ＴＰＤ入りの前記ボートを２１５
〜２２０℃まで加熱し、ＴＰＤを蒸着速度０．１〜０．
３ｎｍ／ｓで前記ＩＴＯ膜上に蒸着させて、膜厚６０ｎ
ｍの正孔輸送層を形成した。このときの基板温度は室温
であった。これを真空槽より取り出すことなく、正孔輸
送層の成膜に引き続きＤＰＶＢｉ入りの前記ボートを２
４０℃まで加熱し、ＤＰＶＢｉを蒸着速度０．１〜０．
３ｎｍ／ｓで前記正孔輸送層上に蒸着させて、膜厚４０
ｎｍの発光層を形成した。このときの基板温度も室温で
あった。

【００３０】これを真空槽より取出し、上記発光層の上
にステンレススチール製のマスクを設置し、再び基板ホ
ルダーに固定した。次いで、モリブデン製ボートにトリ
ス（８−キノリノール）アルミニウム（以下、Ａｌｑ₃
と略記する）を２００ｍｇ入れ、また、違うモリブデン
製ボートにマグネシウムリボン１ｇを入れ、さらに、タ
ングステン製バスケットに銀ワイヤー５００ｍｇを入れ
て、これらのボートを真空槽に装着した。

【００３１】次に、真空槽を１×１０^-4Ｐａまで減圧し
てからＡｌｑ₃入りの前記ボートを２３０℃まで加熱
し、Ａｌｑ₃を蒸着速度０．０１〜０．０３ｎｍ／ｓで
前記発光層上に蒸着させて、膜厚２０ｎｍの接着層を形
成した。さらに、銀を蒸着速度０．１ｎｍで前記接着層
上に蒸着させると同時に、マグネシウムを蒸着速度１．
４ｎｍで前記接着層上に蒸着させて、マグネシウムと銀
の混合金属からなる膜厚１５０ｎｍの対向電極を形成し
た。この対向電極の反射率を島津製作所社製のＵＶ−３
１００ＰＣで測定したところ、４００〜６００ｎｍの波
長域で８０％であった。

【００３２】この後、ガラス基板の外側表面（ＩＴＯ膜
などを積層した面とは反対の側の表面）に偏光板（日本
ポラロイド（株）製のＨＮ−４２ｃｐｐ、４００〜６０
０ｎｍの波長域での光透過率＝４０％）を接着剤（チバ
ガイギー社製のアラルダイト）で固着させて、目的とす
る有機ＥＬ素子を得た。このときのガラス基板と偏光板
との固着は、ガラス基板および偏光板の四方の側面につ
いて、接着剤をガラス基板の側面から偏光板の側面にか
けて塗布することで行った。したがって、接着剤の光透
過率はガラス基板の光透過率に何等影響を及ぼさない。

【００３３】このようにして得られた有機ＥＬ素子で
は、ガラス基板の一主表面上に陽極としてのＩＴＯ膜、
正孔輸送層としてのＴＰＤ層、発光層としてのＤＰＶＢ
ｉ層、接着層としてのＡｌｑ₃層、および対向電極とし
てのマグネシウム−銀混合金属層が順次積層されてお
り、ガラス基板の外側表面には偏光板が設けられてい
る。この有機ＥＬ素子は図１（ａ）に示したタイプのも
のである。なお、この有機ＥＬ素子ではＴＰＤ層、ＤＰ
ＶＢｉ層およびＡｌｑ₃層によって有機多層部が構成さ
れている。

【００３４】実施例２（有機ＥＬ素子の作製）偏光板として豊和産業社製のＡＲフィルター（マルチ）
（４００〜６００ｎｍの波長域での光透過率＝５５％）
を用いた以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を
得た。

【００３５】実施例３（有機ＥＬ素子の作製）偏光板として日本ポラロイド（株）製のＨＮ−３８ｐ
（４００〜６００ｎｍの波長域での光透過率＝３０〜４
０％）を用いた以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬ
素子を得た。

【００３６】比較例１（有機ＥＬ素子の作製）偏光板を設けなかった以外は実施例１と同様にして、有
機ＥＬ素子を得た。

【００３７】実施例４（有機ＥＬ素子の作製）まず、ＤＰＶＢｉ層を設けなかった以外は実施例１と同
様にして、ガラス基板の一主表面上に設けられたＩＴＯ
膜上にＴＰＤ層、Ａｌｑ₃層、およびマグネシウム−銀
混合金属層を順次積層した。ただし、Ａｌｑ₃層につい
てはその膜厚を６０ｎｍとした。また、Ａｌｑ₃の蒸着
速度は０．０１〜０．０２ｎｍ／ｓ、マグネシウム−銀
混合金属層を形成する際の真空槽の初期真空圧力は２×
１０^-4Ｐａとした。この後、ガラス基板の外側表面に実
施例１と同じ偏光板を実施例１と同様にして設けて、目
的とする有機ＥＬ素子を得た。

【００３８】このようにして得られた有機ＥＬ素子で
は、ＩＴＯ膜、ＴＰＤ層およびマグネシウム−銀混合金
属層はそれぞれ実施例１と同様に陽極、正孔輸送層およ
び対向電極として機能し、Ａｌｑ₃層は接着層としてで
はなく発光層として機能する。この有機ＥＬ素子も実施
例１の有機ＥＬ素子と同様に図１（ａ）に示したタイプ
のものであり、この有機ＥＬ素子ではＴＰＤ層およびＡ
ｌｑ₃層によって有機多層部が構成されている。なお、
上述のマグネシウム−銀混合金属層の反射率を実施例１
と同様にして測定したところ、４００〜６００ｎｍの波
長域で７８％であった。

【００３９】実施例５（有機ＥＬ素子の作製）偏光板として、実施例２で使用したものと同じ豊和産業
社製のＡＲフィルター（マルチ）（４００〜６００ｎｍ
の波長域での光透過率＝５５％）を用いた以外は実施例
４と同様にして、有機ＥＬ素子を得た。

【００４０】比較例２（有機ＥＬ素子の作製）偏光板を設けなかった以外は実施例４と同様にして、有
機ＥＬ素子を得た。

【００４１】実施例６（有機ＥＬ素子の作製）まず、実施例１で用いたものと同じ透明支持基板を用意
し、この基板を実施例１と同様にして洗浄した。次に、
この基板を市販の蒸着装置（日本真空技術（株）製）の
基板ホルダーに固定する一方で、モリブデン製の抵抗加
熱ボートにＴＰＤを２００ｍｇ入れ、また、違うモリブ
デン製の抵抗加熱ボートにＤＰＶＢｉを２００ｍｇ入
れ、さらに、違うモリブデン製の抵抗加熱ボートにルモ
ゲンＦレッド（バスフ（ＢＡＳＦ）社製の赤色色素）を
２００ｍｇ入れた後、真空槽を１×１０^-4Ｐａまで減圧
した。

【００４２】この後、ＴＰＤ入りの前記ボートを２１５
〜２２０℃まで加熱し、ＴＰＤを蒸着速度０．１〜０．
３ｎｍ／ｓで前記ＩＴＯ膜上に蒸着させて、膜厚６０ｎ
ｍの正孔輸送層を形成した。このときの基板温度は室温
であった。これを真空槽より取り出すことなく、正孔輸
送層の成膜に引き続きルモゲンＦレッド入りの前記ボー
トを３３０℃に加熱し、ルモゲンＦレッドの蒸着速度を
０．０１〜０．０３ｎｍ／ｓに安定させた後にＤＰＶＢ
ｉ入りの前記ボートを加熱し、ＤＰＶＢｉの蒸着速度が
０．６〜０．７ｎｍ／ｓ程度に安定するのを確かめた後
に蒸着源と基板との間のシャッターを開けて、ルモゲン
ＦレッドドープＤＰＶＢｉからなる膜厚４０ｎｍの発光
層を前記正孔輸送層上に形成した。この発光層における
ドーパント含有率は、ＤＰＶＢｉに対して２〜４モル％
であった。

【００４３】これを真空槽より取出し、上記発光層の上
にステンレススチール製のマスクを設置し、再び基板ホ
ルダーに固定した。次いで、モリブデン製ボートにＡｌ
ｑ₃を２００ｍｇ入れ、また、違うモリブデン製ボート
にマグネシウムリボン１ｇを入れ、さらに、タングステ
ン製バスケットに銀ワイヤー５００ｍｇを入れて、これ
らのボートを真空槽に装着した。

【００４４】次に、真空槽を１×１０^-4Ｐａまで減圧し
てからＡｌｑ₃入りの前記ボートを加熱し、Ａｌｑ₃を
蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓで前記発光層上に蒸着
させて、膜厚２０ｎｍの接着層を形成した。さらに、銀
を蒸着速度０．１ｎｍで前記接着層上に蒸着させると同
時に、マグネシウムを蒸着速度１．５ｎｍで前記接着層
上に蒸着させて、マグネシウムと銀の混合金属からなる
膜厚１５０ｎｍの対向電極を形成した。この対向電極の
反射率を実施例１と同様にして測定したところ、４００
〜６００ｎｍの波長域で８０％であった。この後、ガラ
ス基板の外側表面に実施例１と同じ偏光板を実施例１と
同様にして設けて、目的とする有機ＥＬ素子を得た。

【００４５】このようにして得られた有機ＥＬ素子で
は、ガラス基板の一主表面上に陽極としてのＩＴＯ膜、
正孔輸送層としてのＴＰＤ層、発光層としてのルモゲン
ＦレッドドープＤＰＶＢｉ層、接着層としてのＡｌｑ₃
層、および対向電極としてのマグネシウム−銀混合金属
層が順次積層されており、ガラス基板の外側表面には偏
光板が設けられている。この有機ＥＬ素子も実施例１の
有機ＥＬ素子と同様に図１（ａ）に示したタイプのもの
であり、この有機ＥＬ素子ではＴＰＤ層、ルモゲンＦレ
ッドドープＤＰＶＢｉ層およびＡｌｑ₃層によって有機
多層部が構成されている。

【００４６】実施例７（有機ＥＬ素子の作製）偏光板として、実施例２で使用したものと同じ豊和産業
社製のＡＲフィルター（マルチ）（４００〜６００ｎｍ
の波長域での光透過率＝５５％）を用いた以外は実施例
６と同様にして、有機ＥＬ素子を得た。

【００４７】比較例３（有機ＥＬ素子の作製）偏光板を設けなかった以外は実施例６と同様にして、有
機ＥＬ素子を得た。

【００４８】コントラストの測定コントラストを次式

【００４９】

【式１】によって定義し、上述した実施例１〜実施例７および比
較例１〜比較例３で作製した各有機ＥＬ素子のコントラ
ストを以下のようにして測定した。

【００５０】まず、通常の実験室内の蛍光灯点灯下で、
所定の台上に発光面を上にして素子を置くとともに、こ
の素子の斜め上方約５０ｃｍの距離に白熱電球（１００
Ｗ）を配置する。そして、白熱電球を点灯しながら、素
子に所定電圧を印加して当該素子を発光させたときの輝
度と素子に電圧を印加していないときの輝度とをそれぞ
れ色彩色差計（ミノルタカメラ社製のＣＳ−１００）に
より測定した。そして、これらの測定結果から上記式に
基づいてコントラストを算出した。なお、輝度測定時の
光学的環境は、有機ＥＬ素子が実際に使用される際の代
表的な光学的環境を模したものである。また、コントラ
ストの測定の他に、各有機ＥＬ素子から出射される光の
色（光源色）を上記輝度測定時の光学的環境下および暗
室内でそれぞれＪＩＳＺ８７２４に基づいて測定す
るとともに、ＪＩＳＺ８７０１に基づいて光源色を
ＸＹＺ表色系におけるＣＩＥ色度座標で表した。これら
の結果を表１に示す。

【００５１】

【表１】

【００５２】表１から明らかなように、実施例１〜実施
例３で作製した各有機ＥＬ素子のコントラストは、偏光
板を設けなかった以外はこれらの有機ＥＬ素子と同じ構
成の素子である比較例１の有機ＥＬ素子のコントラスト
より遥かに高い。そして、同じことが実施例４〜実施例
５で作製した各有機ＥＬ素子と比較例２の有機ＥＬ素子
との間、および実施例６〜実施例７で作製した各有機Ｅ
Ｌ素子と比較例３の有機ＥＬ素子との間でもいえる。ま
た、輝度測定時の光学的環境下および暗室内でそれぞれ
測定した光源色のＣＩＥ色度座標から明らかなように、
実施例１〜実施例７で作製した各有機ＥＬ素子は輝度測
定時の光学的環境下での発光色と暗室内での発光色との
間に差が認められず、輝度測定時の光学的環境下でも発
光色は鮮明であった。これに対し、比較例１〜比較例３
で作製した各有機ＥＬ素子は輝度測定時の光学的環境下
での発光色と暗室内での発光色との間に差があり、輝度
測定時の光学的環境下では発光色の鮮明さが低下してい
る。

【００５３】実施例８（有機ＥＬパネルの作製）まず、４０ｍｍ×４０ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板の
一主表面に１０ｍｍ×４０ｍｍ×１００ｎｍのＩＴＯ膜
からなる陽極兼用導線を２ｍｍ間隔でストライプ状に３
本設けたものを透明支持基板として用意し、この基板を
実施例１と同様にして洗浄した。次に、ＩＴＯ膜からな
る陽極兼用導線が設けられている側のガラス基板表面お
よび陽極兼用導線上に、実施例１と同様にして正孔輸送
層としてのＴＰＤ層および発光層としてのＤＰＶＢｉ層
を順次積層した。次いで、これを真空槽より取出し、前
記発光層の上に所定のステンレススチール製マスクを設
置して、再び基板ホルダーに固定した。

【００５４】この後、実施例１と同様にして接着層とし
てのＡｌｑ₃層を積層するとともに、このＡｌｑ₃層上
に陰極兼用導線としてのマグネシウム−銀混合金属層を
実施例１と同様にして積層した。このときのＡｌｑ₃層
は、前記ステンレススチール製マスクを使用したことに
より、前記陽極兼用導線（ＩＴＯ膜）と平面視上直交す
る３本のストライプ状に設けられており、ストライプ１
本の幅は１０ｍｍ、その平面視上の長さは４０ｍｍ、互
いに隣接するストライプ間の間隔は２ｍｍである。ま
た、Ａｌｑ₃層上に積層されたマグネシウム−銀混合金
属層（陰極兼用導線）も、その下地となっているＡｌｑ
₃層と平面視上同一形状を呈する。３本の陽極兼用導線
（ＩＴＯ膜）と３本の陰極兼用導線（マグネシウム−銀
混合金属層）は、これらを平面視したときに格子状を呈
する。この後、ガラス基板の外側表面に実施例１で使用
した偏光板と同じもの（大きさは縦×横＝４０ｍｍ×４
０ｍｍ）を実施例１と同様にして固着させて、目的とす
る有機ＥＬパネルを得た。

【００５５】この有機ＥＬパネルの背面図を図２に示
す。図２に示したように、この有機ＥＬパネル２０で
は、ガラス基板２１の一主表面（内側表面）上にＩＴＯ
膜からなる３本の陽極兼用導線２２ａ，２２ｂ，２２ｃ
がストライプ状に設けられており、これらの陽極兼用導
線２２ａ，２２ｂ，２２ｃ上には、図示を省略したＴＰ
Ｄ層、ＤＰＶＢｉ層およびＡｌｑ₃層を介して、マグネ
シウム−銀混合金属層からなる３本の陰極兼用導線２３
ａ，２３ｂ，２３ｃが、前記陽極兼用導線と２２ａ，２
２ｂ，２２ｃと平面視上直交する向きにストライプ状に
設けられている。またガラス基板２１の外側表面には、
図示を省略した偏光板が設けられている。この有機ＥＬ
パネル２０では、陽極兼用導線２２ａ，２２ｂ，２２ｃ
と陰極兼用導線２３ａ，２３ｂ，２３ｃとの平面視上の
交差部（計９箇所）に、実施例１で作製した有機ＥＬ素
子と同じ構成の有機ＥＬ素子が形成されている。

【００５６】この有機ＥＬパネルの中央部（Ｘ−Ｙマト
リックス上の２行２列）に形成されている有機ＥＬ素子
２４に１１Ｖの電圧を印加して（図２参照）、そのコン
トラストを実施例１〜実施例７と同様にして測定したと
ころ、コントラストは７８と良好であった（電圧印加時
の輝度＝１３２ｃｄ／ｍ²、電圧を印加していない時の
輝度＝１．７ｃｄ／ｍ²）。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の有機ＥＬ
素子および有機ＥＬパネルはコントラストが高い。した
がって、本発明によれば視認性の高い有機ＥＬパネルを
提供することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機ＥＬ素子の構成例を示す側面図で
ある。

【図２】実施例８で作製した有機ＥＬパネルを示す背面
図である。

【符号の説明】

１…透明基板、２…陽極、３…有機単層部または有
機多層部、４…陰極（対向電極）、５…偏光層、
１０ａ，１０ｂ，２４…有機ＥＬ素子、２０…有機Ｅ
Ｌパネル、２１…ガラス基板、２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ…陽極兼用導線、２３ａ，２３ｂ，２３ｃ…陰極兼
用導線。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機発光材料を含有する有機単層部また
は有機多層部が１対の電極によって挟持されており、前
記１対の電極間に所定の電圧もしくは電流を印加するこ
とにより前記有機発光材料を発光させる有機ＥＬ素子に
おいて、前記１対の電極のうちで光取出し面側に位置する電極の
外側に偏光層を設けたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】光取出し面側に位置する電極の光透過率
が、４００〜６００ｎｍの波長域で１０％以上であり、
前記光取出し面とは反対の側に位置する電極の反射率
が、４００〜６００ｎｍの波長域で５０％以上である、
請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】偏光層が多層構造である、請求項１また
は請求項２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】請求項１〜請求項３のいずれかに記載の
有機ＥＬ素子を、同一平面上に二次元配列してなること
を特徴とする有機ＥＬパネル。