Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JPH07135101A - Chip component and manufacture thereof - Google Patents

Chip component and manufacture thereof

Info

Publication number
JPH07135101A
JPH07135101A JP5282562A JP28256293A JPH07135101A JP H07135101 A JPH07135101 A JP H07135101A JP 5282562 A JP5282562 A JP 5282562A JP 28256293 A JP28256293 A JP 28256293A JP H07135101 A JPH07135101 A JP H07135101A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode layer
chip
ceramic substrate
layer
ceramic sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5282562A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Zenichi Tamaki
善一 玉木
Tamotsu Yoshimura
保 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP5282562A priority Critical patent/JPH07135101A/en
Publication of JPH07135101A publication Critical patent/JPH07135101A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a chip component, in which the adhesion of an electrode layer to edges of a ceramic chip is improved by making the chip in such manner that it includes its edges having a random combination of fired areas and cut areas. CONSTITUTION:A ceramic green sheet 10 is provided both with longitudinal slits 10b, cut through from the front side to the reverse side, and with transverse grooves 10a. The green sheet is fired to form a ceramic substrate 11, which has transverse slits 11a corresponding to the slits 10a and longitudinal slits 11b corresponding to the slits 10b. A front electrode layer 13, a resistor layer 14 and a back electrode layer are formed on each unit area 12 defined by longitudinal and transverse slits. The resistor layer is trimmed to obtain a desired resistance value, and it is covered with a protective layer 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、チップ状電子部品及び
その製造方法に関し、より詳しくは、セラミック基板を
用い、該セラミック基板を分割し、その分割面に電極層
を形成してなる、例えばチップ抵抗器、チップコンデン
サ等のチップ状電子部品及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip-shaped electronic component and a method for manufacturing the same, and more specifically, it uses a ceramic substrate, and divides the ceramic substrate and forms an electrode layer on the divided surface. The present invention relates to a chip-shaped electronic component such as a chip resistor and a chip capacitor, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、チップ状電子部品の一つであるチ
ップ抵抗器の製造は、未焼成セラミックシートの表面
に、該未焼成セラミックシートの厚みの半分程度の深さ
の複数の縦横のスリット溝を格子状となるように型押し
して設けた後、焼成して、図4及び図5に示すような、
表面に縦横スリット溝1a,1bを有するセラミック基
板1を得、このセラミック基板1表面の上記縦横スリッ
ト溝1a,1bで区画される単位領域毎に、図6に示す
ように、表面電極層2及び抵抗体層3を形成し、トリミ
ングして抵抗値調整した後に、上記抵抗体層3を覆う保
護層4を形成し、次に、図7に示すように、上記表面電
極層2の形成された側の上記縦スリット溝1aに沿って
分割して上記セラミック基板1を複数の棒状片1’と
し、図8に示すように、上記棒状片1’の長手方向両側
面1’a,1’bに側面電極層5を形成し、その後、上
記棒状片1’を横スリット溝1bに沿って分割すること
によりチップ状とするという方法により行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a chip resistor, which is one of chip-shaped electronic components, is manufactured by forming a plurality of vertical and horizontal slits on the surface of an unfired ceramic sheet at a depth of about half the thickness of the unfired ceramic sheet. After the grooves are embossed to form a grid pattern, the grooves are fired and then, as shown in FIGS. 4 and 5,
A ceramic substrate 1 having vertical and horizontal slit grooves 1a and 1b on its surface is obtained. As shown in FIG. 6, a surface electrode layer 2 and a ceramic substrate 1 are provided for each unit region defined by the vertical and horizontal slit grooves 1a and 1b on the surface of the ceramic substrate 1. After the resistor layer 3 is formed, the resistance value is adjusted by trimming, the protective layer 4 covering the resistor layer 3 is formed, and then the surface electrode layer 2 is formed as shown in FIG. The ceramic substrate 1 is divided into a plurality of rod-shaped pieces 1 ′ along the vertical slit groove 1a on one side, and as shown in FIG. 8, both longitudinal side surfaces 1′a, 1′b of the rod-shaped pieces 1 ′ are formed. Then, the side surface electrode layer 5 is formed on the substrate, and then the rod-shaped piece 1'is divided along the lateral slit groove 1b to obtain a chip shape.

【0003】一般に、上記棒状片1’の長手方向両側面
1’a,1’bに側面電極層5を形成する方法として
は、例えばAgペースト、Ag−Pdペースト等の導体
ペーストを印刷・焼成して金属層を形成する方法が採ら
れている。ところで、上記保護層4及び側面電極層5
は、抵抗体層3の抵抗値調整後に形成されるために、こ
れら保護層4及び側面電極層5を高温焼成により設ける
と、上記抵抗体層5中の金属成分の酸化状態等が変化し
て抵抗体層5の抵抗値が調整値から僅かにずれるという
問題がある。この問題は、最近益々電子部品の高精度化
が要求される中、チップ抵抗器における解決課題の一つ
となっている。そこで、上記現状に対応すべく、上記側
面電極層5を、導電性樹脂ペーストを用いて樹脂系の電
極層として、或いは、例えばNi−Cr、Ti等の金属
層をスパッタリング又は蒸着法により形成して、比較的
低温で形成することにより、抵抗値のズレを少しでも低
減することが行われている。
Generally, as a method of forming the side surface electrode layers 5 on both side surfaces 1'a, 1'b in the longitudinal direction of the rod-shaped piece 1 ', for example, a conductor paste such as Ag paste or Ag-Pd paste is printed and fired. Then, a method of forming a metal layer is adopted. By the way, the above-mentioned protective layer 4 and side electrode layer 5
Is formed after the resistance value of the resistor layer 3 is adjusted, and therefore, when the protective layer 4 and the side surface electrode layer 5 are provided by high temperature firing, the oxidation state of the metal components in the resistor layer 5 is changed. There is a problem that the resistance value of the resistor layer 5 deviates slightly from the adjusted value. This problem has become one of the problems to be solved in the chip resistor as the precision of electronic parts has been required more and more recently. Therefore, in order to cope with the current situation, the side surface electrode layer 5 is formed as a resin-based electrode layer using a conductive resin paste, or a metal layer such as Ni—Cr or Ti is formed by a sputtering or vapor deposition method. Then, by forming at a relatively low temperature, the deviation of the resistance value is reduced as much as possible.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法に従い、表面電極層2、抵抗体層3及び保護層
4が形成されたセラミック基板1を、その縦スリット溝
1aに沿って分割し、得られた棒状片1’の長手方向両
側面1’a,1’bに側面電極層5を形成する場合、上
記棒状片1’の長手方向両側面1’a,1’bは、図9
に示すように、上記縦スリット溝1aの側壁部Xと実際
に分割される破断部Yとからなり、上記側壁部Xは、未
焼成セラミックシートの焼成時、外気と接触しつつ焼成
が進むために、その表面は比較的粗面となるのだが、一
方、上記破断部Yは、ブレイクしたときのセラミックの
特性上、滑らかな鏡面となり、このような棒状片1’の
長手方向両側面1’a,1’bに側面電極層5を形成す
ると、鏡面となっている上記破断部Yの部分で上記側面
電極層5の密着力が低く、側面電極層が剥離するという
問題があるのである。この問題は、上記スパッタリン
グ、蒸着法で形成された比較的層厚の薄い側面電極層の
場合やセラミックとの密着性に劣る樹脂を含む導電性樹
脂ペーストを用いて樹脂系の側面電極層の場合によく見
られ、特に導電性樹脂ペーストを用いた場合は顕著であ
る。
However, according to the above conventional method, the ceramic substrate 1 on which the surface electrode layer 2, the resistor layer 3 and the protective layer 4 are formed is divided along the vertical slit groove 1a, When the side surface electrode layers 5 are formed on the longitudinal side surfaces 1'a, 1'b of the obtained rod-shaped piece 1 ', the longitudinal side surfaces 1'a, 1'b of the rod-shaped piece 1'shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the vertical slit groove 1a includes a side wall portion X and a fractured portion Y that is actually divided. Since the side wall portion X is in contact with the outside air during firing of the unfired ceramic sheet, firing proceeds. On the other hand, the surface thereof is relatively rough, but on the other hand, the breaking portion Y is a smooth mirror surface due to the characteristics of the ceramic when it is broken, and both side surfaces 1'in the longitudinal direction of such a rod-shaped piece 1 '. When the side surface electrode layer 5 is formed on a and 1'b, there is a problem that the side surface electrode layer 5 is peeled off due to low adhesion of the side surface electrode layer 5 at the portion of the broken portion Y which is a mirror surface. This problem occurs in the case of a side electrode layer having a relatively thin thickness formed by the above-mentioned sputtering or vapor deposition method or in the case of a resin-based side electrode layer using a conductive resin paste containing a resin having poor adhesion to ceramics. , And it is remarkable especially when a conductive resin paste is used.

【0005】そこで、上記問題を解決すべく、特公平5
−36921号公報には、図10に示すように、縦スリ
ット溝として未焼成セラミックシート6を表面から裏面
に貫通する長溝(スリット状穴)6aを打ち抜きにより
形成し、横スリット溝6bを上記方法と同様に型押しに
より形成する方法が提案されている。このように側面電
極層を形成する側のスリット溝を完全に打ち抜いた長溝
6aとすることで、未焼成セラミックシートの焼成時に
上記長溝6aの側壁の実質上全てを外気と接触できるの
で、得られるセラミック基板の縦スリット溝の側壁は粗
面となり、側面電極層の密着性を向上できるのである。
Therefore, in order to solve the above problem, Japanese Patent Publication No.
In JP-A-36921, as shown in FIG. 10, a long groove (slit-shaped hole) 6a penetrating from the front surface to the back surface of the unfired ceramic sheet 6 is formed as a vertical slit groove by punching, and the lateral slit groove 6b is formed by the above method. A method of forming by stamping has been proposed in the same manner as in. Thus, by forming the long groove 6a in which the slit groove on the side of the side electrode layer is completely punched out, substantially all of the side wall of the long groove 6a can be brought into contact with the outside air when firing the unfired ceramic sheet. The side wall of the vertical slit groove of the ceramic substrate becomes a rough surface, and the adhesion of the side surface electrode layer can be improved.

【0006】しかしながら、上記公報に記載の方法は、
未焼成セラミックシート6に完全に打ち抜いた貫通する
長溝6aを形成し、これを焼成してセラミック基板に縦
スリット溝を設けるために、図11に示すように、得ら
れるセラミック基板7における貫通する縦スリット溝7
aは、上記未焼成セラミックシート6の上記焼成による
収縮率が部分的に異なることにより、鼓状等に歪みが生
じたり、セラミック基板7に反りが生じたりするのであ
る。上記歪み、反り等が生じると、表面電極層、抵抗体
層、保護層等の形成工程において形成位置のズレが発生
して作業性を低下を招いたり、得られるチップ抵抗器の
サイズにばらつきをもたらし寸法精度の低下を招くとと
もに、外観不良をも招いたりするという問題がある。
However, the method described in the above publication is
As shown in FIG. 11, in order to form a long punched through long groove 6a in the unfired ceramic sheet 6 and fire it to provide a vertical slit groove in the ceramic substrate 7, a through vertical hole in the obtained ceramic substrate 7 is formed. Slit groove 7
With respect to a, the shrinkage rate of the unfired ceramic sheet 6 due to the firing is partially different, so that distortion occurs in a drum shape or the like, and the ceramic substrate 7 warps. When the above-mentioned distortion, warpage, etc. occur, a deviation of the formation position occurs in the forming process of the surface electrode layer, the resistor layer, the protective layer, etc., leading to a decrease in workability, and the obtained chip resistor has a variation in size. As a result, there is a problem that the dimensional accuracy is lowered and the appearance is also deteriorated.

【0007】本発明は、上記問題を解決し、セラミック
基板を用い、該セラミック基板の分割面に電極層を形成
してなるチップ状電子部品において、上記電極層とセラ
ミック基板の分割面との密着性を向上することによる信
頼性の高いチップ状電子部品を提供することを目的とす
る。
The present invention solves the above problems, and in a chip-shaped electronic component in which a ceramic substrate is used and an electrode layer is formed on the divided surface of the ceramic substrate, the electrode layer and the divided surface of the ceramic substrate are in close contact with each other. It is an object of the present invention to provide a highly reliable chip-shaped electronic component having improved reliability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、少なくとも電極層が形成されるセラミッ
ク基板の側面に粗面部と鏡面部とを不規則に混在させる
ようにした。また、未焼成セラミックシートに設けられ
る分割用のスリット溝のうち少なくとも電極層(側面電
極層)形成側のスリット溝を切り込みにより行うように
した。即ち、本発明は、次の方法に係るものである。 セラミック基板の側面に電極層を設けてなるチップ
状電子部品において、上記側面が、不規則に混在する破
断面と焼成面とから形成されていることを特徴とするチ
ップ状電子部品。 未焼成セラミックシートに、該未焼成セラミックシ
ートの表面から裏面に達する複数の切り込みを入れる工
程と、上記未焼成セラミックシートを焼成してセラミッ
ク基板とする工程と、上記セラミック基板を、上記切り
込みに相当する部位に沿って分割する工程と、上記分割
による分割面に電極層を設ける工程と、を有することを
特徴とするチップ状電子部品の製造方法。 切り込みが、未焼成セラミックシートの表面の周縁
を残して設けられる上記に記載のチップ状電子部品の
製造方法。 電極層が導電性樹脂ペーストを用いて設けられる上
記又はに記載のチップ状電子部品の製造方法。 電極層をスパッタリングもしくは蒸着法により設け
る上記又はに記載のチップ状電子部品の製造方法。
In order to achieve the above object, the present invention is arranged such that at least a side surface of a ceramic substrate on which an electrode layer is formed has a rough surface portion and a mirror surface portion randomly mixed. Further, among the slit slits for division provided in the unfired ceramic sheet, at least the slit groove on the electrode layer (side electrode layer) formation side is formed by cutting. That is, the present invention relates to the following method. A chip-shaped electronic component having an electrode layer provided on a side face of a ceramic substrate, wherein the side face is formed of a fracture surface and a firing surface that are randomly mixed. The step of making a plurality of cuts in the unfired ceramic sheet from the front surface to the back surface of the unfired ceramic sheet, the step of firing the unfired ceramic sheet to form a ceramic substrate, and the ceramic substrate corresponding to the notch A method of manufacturing a chip-shaped electronic component, comprising: a step of dividing along a portion to be formed; and a step of providing an electrode layer on a division surface by the division. The method for manufacturing a chip-shaped electronic component as described above, wherein the notch is provided leaving a peripheral edge of the surface of the unfired ceramic sheet. The method for manufacturing a chip-shaped electronic component as described above or in which the electrode layer is provided using a conductive resin paste. The method for producing a chip-shaped electronic component as described above or in which the electrode layer is provided by sputtering or vapor deposition.

【0009】[0009]

【作用】焼成面と破断面とが不規則に混在しているセラ
ミック基板の側面に、電極層を設けるので、上記電極層
は、上記焼成面の部位で強固に密着する。。従って、上
記電極層は、上記側面に略均一且つ強固に密着されるこ
ととなり、得られるチップ状電子部品は、上記電極層の
密着性に優れた信頼性の高いものである。
Since the electrode layer is provided on the side surface of the ceramic substrate in which the fired surface and the fractured surface are mixed irregularly, the electrode layer is firmly adhered at the site of the fired surface. . Therefore, the electrode layer is substantially uniformly and firmly adhered to the side surface, and the obtained chip-shaped electronic component is excellent in the adhesiveness of the electrode layer and has high reliability.

【0010】一方、未焼成セラミックシートに、該未焼
成セラミックシートの表面から裏面に達する複数の切り
込みを入れると、上記切り込みにより切断面間に生じた
隙間には、該隙間を狭めようとする力が作用して、上記
切断面間は、部分的に接触している状態となる。この状
態で未焼成セラミックシートを焼成してセラミック基板
とすると、上記切り込みによる切断面の間の未接触部は
外気に触れながら焼成が進むために粗面となり、得られ
るセラミック基板における上記切断面に相当する部位
は、部分的に連続(融着)した状態となる(図3参
照)。また、上記未焼成セラミックシートにおける上記
切断面間の部分的な接触により気泡が閉じこめられた状
態が生じた場合には、上記気泡とセラミック基板とが熱
膨張率を異にするために、焼成してセラミック基板とす
るとき、上記気泡の膨張により発生する応力が上記切断
面間に沿った部位に集中することにより部分的にクラッ
クが生じつつ焼成が進行する。従って、このクラックの
成長とともに、上記クラックに空気が入り込みながら焼
成がすすむこととなり、上記クラックの生じた部位は粗
面となり、得られるセラミック基板における上記切断面
に相当する部位は、部分的に連続した状態となる。
On the other hand, when a plurality of incisions extending from the front surface to the back surface of the unsintered ceramic sheet are made in the unsintered ceramic sheet, the force that tends to narrow the gaps between the cut surfaces due to the incisions. Acts, and the cut surfaces are in partial contact with each other. When the unfired ceramic sheet is fired in this state to form a ceramic substrate, the non-contact portion between the cut surfaces due to the cuts becomes a rough surface because firing progresses while contacting the outside air, and thus the cut surface of the obtained ceramic substrate becomes The corresponding portion is in a partially continuous (fused) state (see FIG. 3). Further, in the case where bubbles are trapped due to partial contact between the cut surfaces of the unfired ceramic sheet, firing is performed in order to make the thermal expansion coefficient different between the bubbles and the ceramic substrate. When a ceramic substrate is used as the ceramic substrate, the stress generated by the expansion of the bubbles concentrates on the portion along the cut surface, so that the firing proceeds while the crack partially occurs. Therefore, along with the growth of the cracks, firing proceeds while air enters the cracks, the portion where the cracks occur becomes a rough surface, and the portion corresponding to the cut surface in the obtained ceramic substrate is partially continuous. It will be in the state of doing.

【0011】このようにしてなるセラミック基板を、上
記切り込みを入れた切断面に相当する部位に沿って分割
すると、破断面は滑らかな鏡面となり、結果として、分
割面は粗面部(焼成面)と鏡面部(破断面)とが不規則
に混在した状態となる。この分割面に電極層を設ける
と、該電極層は、上記粗面部の凹凸によりセラミック基
板に対し高い密着力において形成され得るのである。
When the thus-formed ceramic substrate is divided along the portion corresponding to the cut surface where the above-mentioned cut is made, the fracture surface becomes a smooth mirror surface, and as a result, the divided surface becomes a rough surface portion (fired surface). The mirror surface portion (broken surface) is irregularly mixed. When the electrode layer is provided on this divided surface, the electrode layer can be formed with high adhesion to the ceramic substrate due to the unevenness of the rough surface portion.

【0012】また、上記のように未焼成セラミックシー
トは、その切り込みを入れた切断面が部分的に連続した
状態で焼成されるので、得られるセラミック基板は、反
りや歪みの発生がほぼ解消されるのである。
Further, as described above, the unfired ceramic sheet is fired in a state where the cut surface where the notch is formed is partially continuous, so that the obtained ceramic substrate is almost free from warpage and distortion. It is.

【0013】[0013]

【実施例】以下、チップ抵抗器を例として実施例を示す
ことにより、本発明の特徴とするところをより詳細に説
明するが、本発明がこれに限定されることはない。上記
チップ抵抗器は、対向する左右両側面が不規則に混在す
る破断面と焼成面とからなるチップ状セラミック基板
と、該チップ状セラミック基板の表面側において上記左
右両側面側の両端部に設けられた一対の表面電極層と、
該表面電極層と対応するように上記セラミック基板の裏
面側に設けられた一対の裏面電極層と、上記一対の表面
電極層間に跨るように設けられた抵抗体層と、該抵抗体
層を覆う保護層と、上記チップ状セラミック基板の左右
両側面のそれぞれに設けられ上記表面電極層と裏面電極
層とを電気的に接続する側面電極層と、これら電極層の
露出部を覆うように設けられたメッキ層と、から構成さ
れる。
EXAMPLES The features of the present invention will be described in more detail below by showing examples with a chip resistor as an example, but the present invention is not limited thereto. The chip resistor is provided on both sides of the chip-shaped ceramic substrate, which has a fractured surface and a firing surface in which the opposite left and right side surfaces are randomly mixed and a front surface side of the chip-shaped ceramic substrate. A pair of front surface electrode layers,
A pair of back surface electrode layers provided on the back surface side of the ceramic substrate corresponding to the front surface electrode layers, a resistor layer provided so as to extend between the pair of front surface electrode layers, and the resistor layers are covered. Protective layers, side surface electrode layers provided on each of the left and right side surfaces of the chip-shaped ceramic substrate and electrically connecting the front surface electrode layer and the back surface electrode layer, and are provided so as to cover exposed portions of these electrode layers. And a plated layer.

【0014】上記チップ抵抗器は、例えば次のようにし
て製造することができる。先ず、図1に示すように、未
焼成セラミックシート10の表面に、該未焼成セラミッ
クシート10の厚みの半分程度の深さの、横方向に延び
る略V字状のスリット溝10aを複数平行に型押しによ
り設け、続いて上記未焼成セラミックシート10の表面
から裏面に達する切り込み10bを、上記横方向に延び
るスリット溝10aと略直交するように、切断刃等を用
いて縦方向に平行に複数入れる。尚、ここで云う「切り
込み」とは、その切り込みによる未焼成セラミックシー
トの切断面が実質上接触する部分と未接触の部分とから
なるよう切り込むことをいう。このとき、上記スリット
溝10a及び切り込み10bのうち少なくとも切り込み
10bを、上記未焼成セラミックシート10の周縁10
cを余して設けるのが好ましく、後に焼成して得られる
セラミック基板の最小限の強度をより確実に保持するこ
とができる。また、上記スリット溝10aと切り込み1
0bとは、どちらが先に設けられてもよく、同時であっ
てもよい。更に、上記横方向に延びるスリット溝10a
に代え、上記縦方向の切り込み10bを行うのと同様の
方法で、切り込みとしてもよい。
The chip resistor can be manufactured, for example, as follows. First, as shown in FIG. 1, a plurality of substantially V-shaped slit grooves 10a extending in the lateral direction and having a depth of about half the thickness of the unfired ceramic sheet 10 are arranged in parallel on the surface of the unfired ceramic sheet 10. A plurality of notches 10b are formed by embossing and subsequently reach the back surface from the front surface of the unfired ceramic sheet 10 so as to be substantially orthogonal to the slit grooves 10a extending in the horizontal direction by using a cutting blade or the like in parallel in the vertical direction. Put in. The term "cut" as used herein means to make a cut so that the cut surface of the unfired ceramic sheet due to the cut has a portion that is substantially in contact and a portion that is not in contact. At this time, at least the notch 10b of the slit groove 10a and the notch 10b is formed in the peripheral edge 10 of the unfired ceramic sheet 10.
It is preferable to provide extra c, so that the minimum strength of the ceramic substrate obtained by subsequent firing can be more reliably maintained. In addition, the slit groove 10a and the notch 1
Either 0b may be provided first, or both may be provided at the same time. Furthermore, the slit groove 10a extending in the lateral direction is provided.
Alternatively, the cut may be made in the same manner as the cut 10b in the vertical direction.

【0015】次に、上記のようにしてスリット溝10a
及び切り込み10bの設けられた未焼成セラミックシー
ト10を焼成し、図2及び図3に示すような、上記スリ
ット溝10a及び切り込み10bに相当する横スリット
溝11a及び縦スリット溝11bを有するセラミック基
板11を得、図9に示すように、上記横スリット溝11
a及び縦スリット溝11bにより区画される単位領域1
2毎に、表面電極層13及び抵抗体層14、更には裏面
電極層を形成し、必要に応じてトリミングにより抵抗値
調整し、上記抵抗体層14を覆うように保護層15を形
成する。
Next, the slit groove 10a is formed as described above.
And the unfired ceramic sheet 10 provided with the notches 10b are fired to have a ceramic substrate 11 having lateral slit grooves 11a and vertical slit grooves 11b corresponding to the slit grooves 10a and notches 10b as shown in FIGS. 2 and 3. As shown in FIG. 9, the lateral slit groove 11 is obtained.
unit area 1 defined by a and the vertical slit groove 11b
The front electrode layer 13 and the resistor layer 14 and the back electrode layer are formed for each two, and the resistance value is adjusted by trimming as necessary, and the protective layer 15 is formed so as to cover the resistor layer 14.

【0016】そして、図10に示すように、上記のよう
に各層13,14,15が形成されたセラミック基板1
1を上記縦スリット溝11bに沿って分割して棒状片1
1’を得、図11に示すように、この棒状片11’の長
手方向両側面11’a,11’b(分割面)に側面電極
層16を設ける。上記側面電極層16は、例えばAgペ
ースト、Ag−Pdペースト等の導体ペーストを印刷・
焼成する方法、例えばNi−Cr、Ti等の金属を用い
たスパッタリングまたは蒸着法による方法、Ag−レジ
ン系等の導電性樹脂ペーストを塗着・硬化させる方法等
により設けられ得る。これら側面電極層16の形成方法
の中でも、セラミック基板との密着力が比較的弱い、ス
パッタリング及び蒸着法により形成する方法及び導電性
樹脂ペーストを用いる方法を適用したときは、上記密着
力の向上の効果は大きく、特に導電性樹脂ペーストを用
いるときは極めて効果的である。
Then, as shown in FIG. 10, the ceramic substrate 1 on which the layers 13, 14, and 15 are formed as described above.
1 is divided along the vertical slit groove 11b to obtain a rod-shaped piece 1
1'is obtained, and as shown in FIG. 11, side surface electrode layers 16 are provided on both longitudinal side surfaces 11'a, 11'b (divided surfaces) of this rod-shaped piece 11 '. The side surface electrode layer 16 is formed by printing a conductive paste such as Ag paste or Ag-Pd paste.
It may be provided by a firing method, for example, a sputtering or vapor deposition method using a metal such as Ni-Cr or Ti, or a method of applying and curing a conductive resin paste such as an Ag-resin system. Among these forming methods of the side surface electrode layer 16, when the method of forming by the sputtering and vapor deposition method and the method of using the conductive resin paste, which have a relatively weak adhesion with the ceramic substrate, are applied, the above-mentioned adhesion is improved. The effect is great, and it is extremely effective especially when a conductive resin paste is used.

【0017】そして、上記棒状片11’を上記横スリッ
ト溝11aに沿って分割してチップ状とし、上記表面電
極層13、裏面電極層及び側面電極層16を覆うよう
に、メッキ層、例えばNiメッキ層及び半田メッキ層を
設けることによりチップ抵抗器を得る。
Then, the rod-shaped piece 11 'is divided along the lateral slit groove 11a into a chip shape, and a plating layer, for example, Ni, is formed so as to cover the front surface electrode layer 13, the back surface electrode layer and the side surface electrode layer 16. A chip resistor is obtained by providing a plating layer and a solder plating layer.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
セラミック基板の分割面に対する電極層の密着性を極め
て向上することができ、信頼性の高いチップ状電子部品
を提供することができる。また、反り、歪み等の変形の
殆どない寸法精度の高いセラミック基板を得ることがで
きるので、上記セラミック基板上に、例えば、チップ抵
抗器の場合は表面電極層、抵抗体層、保護層等の各層を
形成するときの形成位置のズレ等の発生を極めて低減で
き作業性を向上できる。
As described above, according to the present invention,
The adhesiveness of the electrode layer to the divided surface of the ceramic substrate can be extremely improved, and a highly reliable chip-shaped electronic component can be provided. Further, since it is possible to obtain a ceramic substrate with high dimensional accuracy that is almost free from deformation such as warpage and distortion, for example, in the case of a chip resistor, a surface electrode layer, a resistor layer, a protective layer, etc. It is possible to significantly reduce the occurrence of misalignment of the formation position when forming each layer and improve workability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例における未焼成セラミックシー
トの部分斜視図である。
FIG. 1 is a partial perspective view of an unfired ceramic sheet according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の未焼成セラミックシートを焼成して得ら
れるセラミック基板の横スリット溝を説明する拡大断面
図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view illustrating a lateral slit groove of a ceramic substrate obtained by firing the unfired ceramic sheet of FIG.

【図3】図1の未焼成セラミックシートを焼成して得ら
れるセラミック基板の縦スリット溝を説明する拡大断面
図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view illustrating vertical slit grooves of a ceramic substrate obtained by firing the unfired ceramic sheet of FIG.

【図4】従来のチップ抵抗器製造用セラミック基板の部
分上面図である。
FIG. 4 is a partial top view of a conventional ceramic substrate for manufacturing a chip resistor.

【図5】図4のI−I拡大断面図である。5 is an enlarged sectional view taken along line I-I of FIG. 4. FIG.

【図6】セラミック基板上に表面電極層、抵抗体層及び
保護層が設けられた状態を示す部分上面図である。
FIG. 6 is a partial top view showing a state where a surface electrode layer, a resistor layer and a protective layer are provided on a ceramic substrate.

【図7】セラミック基板を分割して棒状片とされる様子
を説明する概略上面図である。
FIG. 7 is a schematic top view for explaining how the ceramic substrate is divided into rod-shaped pieces.

【図8】棒状片の長手方向に沿う両側面に側面電極層を
設けた状態を示す拡大上面図である。
FIG. 8 is an enlarged top view showing a state in which side surface electrode layers are provided on both side surfaces along the longitudinal direction of the rod-shaped piece.

【図9】従来の方法で得られる棒状片の側面の表面状態
をしめす説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing a surface state of a side surface of a rod-shaped piece obtained by a conventional method.

【図10】従来の他の方法における未焼成セラミックシ
ートの部分上面図である。
FIG. 10 is a partial top view of an unfired ceramic sheet according to another conventional method.

【図11】図10の未焼成セラミックシートを焼成して
得られるセラミック基板の拡大上面図である。
11 is an enlarged top view of a ceramic substrate obtained by firing the unfired ceramic sheet of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 未焼成セラミックシート 10a スリット溝 10b 切り込み 11 セラミック基板 11a 横スリット溝 11b 縦スリット溝 11’ 棒状片 11’a,11’b 分割面 12 単位領域 13 表面電極層 14 抵抗体層 15 保護層 16 側面電極層 10 Unfired Ceramic Sheet 10a Slit Groove 10b Notch 11 Ceramic Substrate 11a Horizontal Slit Groove 11b Vertical Slit Groove 11 'Rod-shaped Piece 11'a, 11'b Dividing Surface 12 Unit Area 13 Surface Electrode Layer 14 Resistor Layer 15 Protective Layer 16 Side Surface Electrode layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミック基板の側面に電極層を設けて
なるチップ状電子部品において、上記側面が、不規則に
混在する破断面と焼成面とから形成されていることを特
徴とするチップ状電子部品。
1. A chip-shaped electronic component in which an electrode layer is provided on a side surface of a ceramic substrate, wherein the side surface is formed of a fracture surface and a firing surface which are randomly mixed. parts.
【請求項2】 未焼成セラミックシートに、該未焼成セ
ラミックシートの表面から裏面に達する複数の切り込み
を入れる工程と、上記未焼成セラミックシートを焼成し
てセラミック基板とする工程と、上記セラミック基板
を、上記切り込みに相当する部位に沿って分割する工程
と、上記分割による分割面に電極層を設ける工程と、を
有することを特徴とするチップ状電子部品の製造方法。
2. A step of making a plurality of cuts in a green ceramic sheet from the front surface to the back surface of the green ceramic sheet, a step of firing the green ceramic sheet to form a ceramic substrate, and the ceramic substrate A method for manufacturing a chip-shaped electronic component, comprising: a step of dividing along a portion corresponding to the cut, and a step of providing an electrode layer on a division surface by the division.
【請求項3】 切り込みが、未焼成セラミックシートの
周縁を残して設けられる請求項2に記載のチップ状電子
部品の製造方法。
3. The method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 2, wherein the notch is provided while leaving a peripheral edge of the unfired ceramic sheet.
【請求項4】 電極層が導電性樹脂ペーストを用いて設
けられる請求項2又は3に記載のチップ状電子部品の製
造方法。
4. The method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 2, wherein the electrode layer is provided using a conductive resin paste.
【請求項5】 電極層をスパッタリングもしくは蒸着法
により設ける請求項2又は3に記載のチップ状電子部品
の製造方法。
5. The method for producing a chip-shaped electronic component according to claim 2, wherein the electrode layer is provided by sputtering or vapor deposition.
JP5282562A 1993-11-11 1993-11-11 Chip component and manufacture thereof Pending JPH07135101A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5282562A JPH07135101A (en) 1993-11-11 1993-11-11 Chip component and manufacture thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5282562A JPH07135101A (en) 1993-11-11 1993-11-11 Chip component and manufacture thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07135101A true JPH07135101A (en) 1995-05-23

Family

ID=17654100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5282562A Pending JPH07135101A (en) 1993-11-11 1993-11-11 Chip component and manufacture thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07135101A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07135101A (en) Chip component and manufacture thereof
JPH09260187A (en) Manufacture of ceramic electronic part
JPH05267025A (en) Manufacture of chip part and manufacture of electronic part
JPH02260598A (en) Manufacture of three-dimensional wiring board
JP2007242939A (en) Manufacturing method of ceramic multilayer substrate
JP2002223044A (en) Method for manufacturing electronic component and aggregate board
JP2004088027A (en) Electronic component assembly and ceramic electronic component, and mthod for manufacturing ceramic electronic component
JP2001167914A (en) Dividing trench shape of insulating substrate
JP4881557B2 (en) Manufacturing method of chip resistor
JPH1126913A (en) Manufacture of wiring substrate
JPH10321421A (en) Manufacture of chip resistor
JPH09306710A (en) Chip network electronic component
JP3065743B2 (en) Manufacturing method of ceramic insulating substrate for electronic components
JPH08130107A (en) Manufacture of ceramic substrate for chip-type electronic component and chip-type electronic component
JP3115706B2 (en) Mejiro placement wiring board manufacturing method
JP3779417B2 (en) Electronic component having a film resistor
JP2705681B2 (en) Cutting method of ceramic substrate
JP2834968B2 (en) Method for manufacturing electronic component with substrate
JPH02267989A (en) Ceramic circuit substrate and manufacture thereof
JP2003273272A (en) Ceramic board and its manufacturing method
JPS63271911A (en) Manufacture of laminated electronic component
JPH04278507A (en) Electronic component and manufacture thereof
JPH11168038A (en) Method for forming constituent element of ceramic sheet base
JP3766663B2 (en) Manufacturing method of chip parts
JPH0831620A (en) Manufacture of chip part