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JPH0694900A - Vacuum optical system - Google Patents

Vacuum optical system

Info

Publication number
JPH0694900A
JPH0694900A JP4242232A JP24223292A JPH0694900A JP H0694900 A JPH0694900 A JP H0694900A JP 4242232 A JP4242232 A JP 4242232A JP 24223292 A JP24223292 A JP 24223292A JP H0694900 A JPH0694900 A JP H0694900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
vacuum container
optical system
soft
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4242232A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Nagai
宏明 永井
Yoshiaki Horikawa
嘉明 堀川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP4242232A priority Critical patent/JPH0694900A/en
Priority to US08/118,246 priority patent/US5432831A/en
Publication of JPH0694900A publication Critical patent/JPH0694900A/en
Priority to US08/431,325 priority patent/US5533083A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable the accuracy in the alignment of an optical system to be secured by supporting the resting table of the optical system by a part whose displacement is small within a specified range even when a vacuum container is deformed due to the change in atmospheric pressure. CONSTITUTION:A metallic target 1, a capacitor lens 2, an objective lens 3 and a reflection mirror 4 are provided on stages 7 through 10 over a plate 6 respectively in an vacuum container 5. And a soft X-ray detector 11 and a reflection mirror 12 are also provided on stages 15 and 16 over a plate 14 in a vacuum container 13. Each plate 6 and 14 is supported at three points, that is, at end sections 5a through 5c, and 13a through 13c of the bottom plates of the vacuum containers 5 and 13 respectively. And the movement of the stages 7 through 10, 15 and 16 is driven through universal joints. By this constitution, when the vacuum is drawn, each plate 6 and 14 is supported by means of three point suspension in opposition to the deformation of the vacuum containers 5 and 13, and even when each stage is driven, no transmission of unnecessary force is made because of the aforesaid constitution, optical alignment therefore will never be out of order.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、真空中で使用する光学
系を格納する真空容器を備えた真空光学系、例えば軟X
線を用いた光学系に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum optical system having a vacuum container for storing an optical system used in a vacuum, for example, a soft X optical system.
It relates to an optical system using a line.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、放射光等の軟X線の光源の進歩に
より、軟X線光学の研究が盛んになってきた。半導体露
光装置については、集積回路の微細化に伴って転写され
る線幅も一層細くなり、露光に用いられる光の波長が紫
外光から軟X線の領域に迫ってきている。顕微鏡につい
ては、生体観察に適するといわれる波長22Åから44
Åの所謂「水の窓」領域での観察が注目されている。
又、分析装置については軟X線領域に元素の吸収端が多
数存在していることより、元素分析への応用が試みられ
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, research on soft X-ray optics has become popular due to advances in light sources for soft X-rays such as synchrotron radiation. Regarding semiconductor exposure apparatuses, the line width transferred is becoming narrower with the miniaturization of integrated circuits, and the wavelength of light used for exposure is approaching from the ultraviolet light to the soft X-ray region. Regarding the microscope, wavelengths from 22Å to 44, which are said to be suitable for living body observation
Attention has been paid to the observation in the so-called "water window" area of Å.
Further, with respect to the analyzer, since there are many absorption edges of elements in the soft X-ray region, application to elemental analysis has been attempted.

【0003】軟X線は、大気による吸収が大きいため、
光学系を真空中で組む必要があるが、光学系の支持手段
としては真空フランジに取付けられたマニピュレータや
真空容器に直接取付けたステージがあり、これらを用い
てアライメントを行っている。
Since soft X-rays are highly absorbed by the atmosphere,
Although it is necessary to assemble the optical system in a vacuum, as a supporting means of the optical system, there are a manipulator attached to a vacuum flange and a stage directly attached to a vacuum container, and these are used for alignment.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の真空
光学系においては、a)図14に示すように、光学系の
取付台であるステージが真空容器又は真空フランジと兼
用又はこれらに直接取付けられており、大気中でのアラ
イメント後に真空排気を行うと、図15に示すように、
大気圧による真空容器の変形のためにアライメントが狂
ったり、b)真空状態で真空容器内にある移動機構とし
てのステージ等を駆動するためには、放熱対策が必要な
真空用モータや高電圧を用いるPZT素子が必要となる
ため、装置全体が大きくなったり、c)軟X線による観
察においては、光電子増倍管等の高電圧を用いる検出器
が必要とする高真空に達するまでに長時間を必要とした
り、d)観察対象物を封じ込めるための薄膜や、軟X線
観察の際不必要な光を除去するために用いる超薄膜フィ
ルタや、軟X線を真空容器外に取り出す薄膜の窓等が真
空排気の際の急激な空気の流れによって破壊されたりす
る等の問題があり、必ずしも使い勝手が良いと言えなか
った。
By the way, in the conventional vacuum optical system, a) as shown in FIG. 14, a stage which is a mounting base of the optical system also serves as a vacuum container or a vacuum flange or is directly mounted on them. Therefore, if vacuum exhaust is performed after alignment in the atmosphere, as shown in FIG.
Alignment may be misaligned due to deformation of the vacuum container due to atmospheric pressure, or b) In order to drive the stage as a moving mechanism in the vacuum container in a vacuum state, a vacuum motor or high voltage that requires heat radiation measures should be used. Since the PZT element to be used is required, the size of the entire apparatus becomes large, and in c) observation by soft X-ray, it takes a long time to reach a high vacuum required by a detector using a high voltage such as a photomultiplier tube. Or d) a thin film for containing the observation object, an ultra-thin film filter used for removing unnecessary light during soft X-ray observation, and a thin film window for extracting soft X-rays out of the vacuum container. However, there is a problem that the above components are destroyed by a rapid flow of air during vacuum evacuation, and it is not always easy to use.

【0005】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、コンパクトで而も使い勝手の良い真空光学系を
提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object thereof is to provide a vacuum optical system which is compact and easy to use. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明による真空光学系
は、真空容器内の気圧変化に伴う真空容器の変形により
真空容器に変位が生じても、使用されるべき光学系に伝
達される変位量がその光学系に要求される精度から定ま
る所定の変動誤差量を越えない程度の変位伝達量の小さ
い部分で支持された、光学系載置部材を真空容器内に備
えている。
A vacuum optical system according to the present invention is a displacement which is transmitted to an optical system to be used even if a displacement of the vacuum container occurs due to the deformation of the vacuum container due to a change in atmospheric pressure in the vacuum container. An optical system mounting member is provided in the vacuum container, the optical system mounting member being supported by a portion having a small displacement transmission amount that does not exceed a predetermined variation error amount determined by the accuracy required for the optical system.

【0007】[0007]

【作用】この真空光学系によれば、真空容器の真空排気
及び大気開放の前後において光学系のアライメントを保
持することができる。即ち、例えば、図1及び2に示す
如く、光学系達成部材であるプレート上に全光学系があ
る場合、真空容器の変位による該部材の変形量が光学系
に要求される精度よりも小さければ、真空容器の真空排
気及び大気開放の前後において光学系のアライメント精
度は保持される。
According to this vacuum optical system, the alignment of the optical system can be maintained before and after the evacuation of the vacuum container and the opening to the atmosphere. That is, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, when the entire optical system is on a plate which is an optical system achievement member, if the deformation amount of the member due to the displacement of the vacuum container is smaller than the accuracy required for the optical system. The alignment accuracy of the optical system is maintained before and after the vacuum container is evacuated and the atmosphere is opened.

【0008】光学系載置部材上に設置された移動機構を
有する装置と真空容器に取付けられた駆動機構とを、真
空容器の変形を吸収し得る手段を有する動力伝達機を用
いて接続すれば、真空容器が変形しても移動機構には変
位が伝わらないため、光学系のアライメントに狂いが生
じることなく外部から移動機構を駆動することができ、
構造が簡単でコンパクトな装置となる。
If a device having a moving mechanism installed on the optical system mounting member and a driving mechanism attached to the vacuum container are connected using a power transmission device having a means capable of absorbing deformation of the vacuum container, Since the displacement is not transmitted to the moving mechanism even if the vacuum container is deformed, the moving mechanism can be driven from the outside without causing misalignment in the alignment of the optical system,
The device has a simple structure and is compact.

【0009】軟X線源から発した軟X線を対象物に集光
させる軟X線レンズによって収束された軟X線を検出す
る軟X線検出器と、軟X線検出器を格納する検出器用真
空容器と、前記真空容器と検出器用真空容器とを接続す
るパイプと、このパイプの途中に設けられていて前記両
真空容器間を真空的に絶縁し得るゲートバルブとを備え
ることにより、観察に必要な真空度に到達するまでの時
間が短くて済み、又真空容器内の急激な空気の流れを軽
減することができる。
A soft X-ray detector for detecting soft X-rays converged by a soft X-ray lens for condensing soft X-rays emitted from a soft X-ray source on an object, and a detection for storing the soft X-ray detector. By providing a vacuum container for a container, a pipe connecting the vacuum container and a vacuum container for a detector, and a gate valve provided in the middle of the pipe and capable of vacuum-insulating the two vacuum containers. The time required to reach the required vacuum degree is short, and the rapid flow of air in the vacuum container can be reduced.

【0010】このように本発明によれば、真空排気の前
後において容器が変形しても真空容器内の光学系のアラ
イメントが狂うことはなく、又外部から真空容器内の移
動機構を操作できるコンパクトな真空光学となる。更
に、軟X線観察時には、真空排気の時間が短く内部の薄
膜構造を破壊しない装置となる。
As described above, according to the present invention, even if the container is deformed before and after evacuation, the alignment of the optical system in the vacuum container is not disturbed, and the moving mechanism in the vacuum container can be operated from the outside. Vacuum optics. Furthermore, during soft X-ray observation, the apparatus is a device that does not destroy the internal thin film structure because the vacuum exhaust time is short.

【0011】尚、本発明は、軟X線光学系のみならず、
真空中で使用される総ゆる光学系例えば紫外光や可視光
を用いる光学系にも適用され得る。
The present invention is not limited to the soft X-ray optical system,
It can be applied to all optical systems used in vacuum, for example, optical systems using ultraviolet light or visible light.

【0012】[0012]

【実施例】以下、図面を参照にして本発明の実施例につ
いて説明する。図3及び4は本発明による軟X線光学系
の第1実施例の平面図及び側面図である。本実施例では
光学系として軟X線顕微鏡を採用し、軟X線光源として
レーザプラズマ光源を用い、真空容器及び排気用ターボ
分子ポンプは防振台上に設置されている。1はX線源と
なる金属ターゲット、2は回転楕円面形状のコンデンサ
レンズ、3はシュヴァルツシルト型対物レンズ、4は可
視光の反射ミラーであって、これらは真空容器5中に置
かれたプレート6上のステージ7,8,9,10に夫々
設置されている。プレート6は角型真空容器5では変形
の少ない底板の端部5a,5b,5cに3点で支持され
ている。又、11は入射X線とは異なる波長で発光する
蛍光面付マイクロチャンネルプレート(以下、MCPと
いう)等の軟X線検出器、12は入射レーザの波長の光
に対する反射防止膜をコーティングした可視光の反射ミ
ラーで真空容器13中におかれたプレート14上のステ
ージ15,16に夫々設置されている。プレート14も
プレート6と同様に真空容器13の底板の端部13a,
13b,13cに3点で支持されている。17は真空容
器5と真空容器13とを接続するパイプ、18は真空容
器5と真空容器13を真空的に絶縁して夫々独立の真空
系として機能するようにすることのできるゲートバルブ
である。ゲートバルブ18は、真空容器5,真空容器1
3内が共に大気又は共に真空のとき開閉可能となってお
り、大気下で光学系のアライメントやフォーカシングが
行えるようになっている。又、パイプ17の中には複数
の遮光板19が収められている。20は可視光源、21
は入射レーザの波長の光に対する反射防止膜をコーティ
ングした可視接眼レンズ、22は高出力パルスYAGレ
ーザ、23は光ファイバ、24は集光レンズ、25は試
料、26は試料用ステージ、27は光学系全体を担持す
る防振台、28は真空紫外光除去用の軟X線フィルタで
ある。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 3 and 4 are a plan view and a side view of a first embodiment of a soft X-ray optical system according to the present invention. In this embodiment, a soft X-ray microscope is used as an optical system, a laser plasma light source is used as a soft X-ray light source, and a vacuum container and an exhaust turbo molecular pump are installed on a vibration isolation table. Reference numeral 1 is a metal target that serves as an X-ray source, 2 is a spheroidal condenser lens, 3 is a Schwarzschild type objective lens, 4 is a visible light reflection mirror, and these are plates placed in a vacuum container 5. It is installed on each of the stages 7, 8, 9, and 10 on the No. 6 stage. The plate 6 is supported at three points on the ends 5a, 5b, 5c of the bottom plate, which is less deformable in the rectangular vacuum container 5. Reference numeral 11 is a soft X-ray detector such as a microchannel plate with a fluorescent screen (hereinafter referred to as MCP) that emits light at a wavelength different from that of the incident X-ray, and 12 is a visible light coated with an antireflection film for light of the wavelength of the incident laser Light reflecting mirrors are installed on the stages 15 and 16 on the plate 14 placed in the vacuum container 13, respectively. Similarly to the plate 6, the plate 14 has an end portion 13a of the bottom plate of the vacuum container 13,
It is supported by 13b and 13c at three points. Reference numeral 17 is a pipe that connects the vacuum container 5 and the vacuum container 13, and 18 is a gate valve that can insulate the vacuum container 5 and the vacuum container 13 in a vacuum manner and function as independent vacuum systems. The gate valve 18 includes a vacuum container 5 and a vacuum container 1.
It can be opened and closed when both of them are in the atmosphere or both in vacuum, and the alignment and focusing of the optical system can be performed in the atmosphere. Further, a plurality of light shielding plates 19 are housed in the pipe 17. 20 is a visible light source, 21
Is a visible eyepiece lens coated with an antireflection film for the light of the wavelength of the incident laser, 22 is a high-power pulse YAG laser, 23 is an optical fiber, 24 is a condenser lens, 25 is a sample, 26 is a sample stage, and 27 is optical. An anti-vibration table that supports the entire system, and 28 is a soft X-ray filter for removing vacuum ultraviolet light.

【0013】可視光反射ミラー4は、金属ターゲット1
とコンデンサレンズ2との間の軟X線光路に挿脱自在に
配置されていて、可視光源20から真空容器5に入射し
た可視光を反射してこれを上記軟X線と実質的に同じ光
軸に沿って導き対物レンズ3に入射せしめる。又、可視
光反射ミラー12は、対物レンズ3と軟X線検出器11
との間の軟X線光路に挿脱自在に配置されていて、対物
レンズ3からの可視光を反射して上記軟X線の光軸から
分離せしめ、これを軟X線検出器11の受光面と共役な
位置に結像せしめる。可視光反射ミラー12により分離
された光路上の可視光像は、接眼レンズ21を介して真
空容器13の外側から観察できる。これらが可視光用の
観察系をなしている。尚、真空容器5と真空容器13の
排気系は、図5に示すように、ロータリーポンプ20
1,202とターボ分子ポンプ203,204と排気径
の断面積が可変となるコンダクタンスバルブ205,2
06と複数個所に配置されたバタフライバルブ207と
から成っている。
The visible light reflection mirror 4 is a metal target 1.
It is arranged in the soft X-ray optical path between the condenser lens 2 and the condenser lens 2 so as to be freely inserted and removed, and reflects the visible light that has entered the vacuum container 5 from the visible light source 20 and makes it substantially the same as the soft X-ray. It is guided along the axis and made incident on the objective lens 3. Further, the visible light reflection mirror 12 includes the objective lens 3 and the soft X-ray detector 11
Is arranged in the soft X-ray optical path between and so that the visible light from the objective lens 3 is reflected and separated from the optical axis of the soft X-ray, and this is received by the soft X-ray detector 11. The image is formed at a position conjugate with the surface. The visible light image on the optical path separated by the visible light reflecting mirror 12 can be observed from the outside of the vacuum container 13 via the eyepiece lens 21. These form an observation system for visible light. The exhaust system for the vacuum container 5 and the vacuum container 13 is, as shown in FIG.
1, 202, turbo molecular pumps 203, 204, and conductance valves 205, 2 having variable cross-sectional areas of exhaust diameter
06 and butterfly valves 207 arranged at a plurality of positions.

【0014】高出力パルスYAGレーザ22からのレー
ザ光を、光ファイバ23で、レーザ光の波長に対する反
射防止膜をコーティングした集光レンズ24の直前まで
導き、集光レンズ24によって金属ターゲット1に集光
させる。ターゲット1からでた軟X線は、コンデンサレ
ンズ2によって試料25上に集光し、試料25を透過・
回折した軟X線は、対物レンズ3によって軟X線検出器
11上に収束され、検出器の蛍光面を介して観察される
ようになっている。尚、コンデンサレンズ2は無酸素銅
の回転楕円面鏡であり、又、軟X線を反射させることに
よって対物レンズ3を構成するシュヴァルツシルト光学
系は、所定の波長域の軟X線に対して反射率分布を持つ
多層膜を被覆してなるものであるが、これらは可視光に
対しても大きな反射率を有するため、可視光用レンズと
しても使用できる。
The laser light from the high-power pulsed YAG laser 22 is guided by an optical fiber 23 to just before a condenser lens 24 coated with an antireflection film for the wavelength of the laser light, and is collected on the metal target 1 by the condenser lens 24. Light up. The soft X-ray emitted from the target 1 is focused on the sample 25 by the condenser lens 2 and transmitted through the sample 25.
The diffracted soft X-rays are converged on the soft X-ray detector 11 by the objective lens 3 and observed through the fluorescent screen of the detector. Incidentally, the condenser lens 2 is a spheroidal mirror of oxygen-free copper, and the Schwarzschild optical system which constitutes the objective lens 3 by reflecting the soft X-rays with respect to the soft X-rays in a predetermined wavelength range. Although it is formed by coating a multilayer film having a reflectance distribution, these have a large reflectance also with respect to visible light and thus can be used as a lens for visible light.

【0015】図6は、真空容器301内のプレート30
0上に設置されたステージ(移動機構)302を真空容
器外から操作するための機構の概略図である。回転導入
端子303及びユニバーサルジョイント304を用いて
真空容器内のステージ302のマイクロメータ305を
駆動しており、回転導入端子306とフレキシブルシャ
フト307でマイクロメータ308を駆動している。3
09はユニバーサルジョイント304及びフレキシブル
シャフト307を回転させるためのハンドルである。
FIG. 6 shows the plate 30 in the vacuum container 301.
FIG. 3 is a schematic view of a mechanism for operating a stage (moving mechanism) 302 installed on 0 from outside the vacuum container. The rotation introducing terminal 303 and the universal joint 304 are used to drive the micrometer 305 of the stage 302 in the vacuum container, and the rotation introducing terminal 306 and the flexible shaft 307 drive the micrometer 308. Three
Reference numeral 09 is a handle for rotating the universal joint 304 and the flexible shaft 307.

【0016】図7は、真空容器401内のプレート40
2上に固定し得るステージ403を真空容器外から操作
するための機構の概略図である。ステージ403は支持
台404Aの長手軸方向に沿った面上に設けられてお
り、支持台404Aの端部には、プレート402に対し
て垂直方向に長手軸方向が向くように配置された固定端
子(ビス止め,ネジ止め等)が設けられていて、支持台
404Aはその固定端子を介して固定台405上に固定
支持されている。固定台405上には更にマイクロメー
タ406が設けられていて、図示しない回転導入端子及
びユニバーサルジョイントを用いて真空容器401の外
部から操作できるようになっている。又、ステージ40
3の一端にはワイヤー407が接続されており、このワ
イヤーの他端はプーリ408,409を介してマイクロ
メータ406に接続されている。ステージ403は、マ
イクロメータ406を操作することによりワイヤー40
7,プーリ409,408を介して、支持台404Aの
長手軸方向に沿って上下動せしめられる。
FIG. 7 shows a plate 40 in a vacuum vessel 401.
2 is a schematic view of a mechanism for operating a stage 403 that can be fixed on the second stage from outside the vacuum container. FIG. The stage 403 is provided on a surface along the longitudinal axis direction of the support base 404A, and fixed terminals arranged at the end of the support base 404A so that the longitudinal axis direction is perpendicular to the plate 402. (Screws, screws, etc.) are provided, and the support base 404A is fixedly supported on the fixed base 405 via the fixed terminals. A micrometer 406 is further provided on the fixed base 405 so that the micrometer 406 can be operated from the outside of the vacuum container 401 by using a rotation introduction terminal and a universal joint (not shown). Also, the stage 40
A wire 407 is connected to one end of the wire 3, and the other end of the wire is connected to the micrometer 406 via pulleys 408 and 409. The stage 403 is operated by operating the micrometer 406 so that the wire 40
7, via the pulleys 409, 408, it is moved up and down along the longitudinal axis direction of the support base 404A.

【0017】更に、上記支持台404Aを取外し、代わ
りにプレート402に対して長手軸が或る所定の角度θ
だけ傾いて設置できるように端部に固定端子が設けられ
た支持台404Bを、固定台405に固定支持させる。
かくして、図8に示すように、マイクロメータ406を
操作することにより、ステージ403をプレート402
に対し角度θ方向へ移動させることが可能となる。
Further, the support 404A is removed, and instead, the longitudinal axis is set to a predetermined angle θ with respect to the plate 402.
The support base 404B provided with the fixed terminal at the end portion so that the support base 405 can be tilted only is fixedly supported by the fixed base 405.
Thus, as shown in FIG. 8, the stage 403 is moved to the plate 402 by operating the micrometer 406.
It is possible to move in the angle θ direction.

【0018】このように、複数の支持台404A,40
4B等を用いることにより、ステージ403の移動方向
を任意に設定することが可能である。又、支持台404
A,404Bと固定台405とを保持する固定端子を段
階的に固定できるような固定溝付きレールを設置して、
図7から図8への変更を上述の如き支持台の取外し交換
による方式ではなく、支持台の端部と固定台405との
接続位置の移動によって行う方式にすれば、支持台の長
手軸方向の傾き角θを任意に選択することが可能とな
る。
As described above, the plurality of support bases 404A, 40
By using 4B or the like, the moving direction of the stage 403 can be set arbitrarily. In addition, the support base 404
A, 404B and the fixed base for holding the fixed base 405 are installed with a rail with a fixed groove that can fix the fixed terminals in stages,
If the change from FIG. 7 to FIG. 8 is made by moving the connection position between the end of the support base and the fixed base 405 instead of the method of removing and replacing the support base as described above, the longitudinal direction of the support base It is possible to arbitrarily select the inclination angle θ of.

【0019】図9は、真空容器501内のプレート50
0上に固定されたステージ502を真空容器外から操作
するための機構の概略図で、直線導入端子503の先端
のヒッカケ504で、ステージ502の溝部505を押
引することによってステージ502を駆動する。ヒッカ
ケ504と溝部505の間には遊びがあって、真空容器
501が変形してもステージ502が移動しないように
なっている。又、ステージ502には鋼球502aを取
り付けた板バネ506を、ステージの取付け台507に
はステージの移動方向と直角に508aが切ってあるレ
ール508を取り付けてあるので、ステージ502は設
定された幾つかの位置に確実に停止するようになってい
る。図6から図9までの機構はステージ間の取り合い、
マイクロメータの位置,ステージの駆動精度等に応じて
図4のステージに用いられている。更に、各ステージの
マイクロメータの目盛りやステージの位置が大気中から
目視できるように真空容器には窓が付けてある。尚、上
記説明において、ステージ及びステージ支持台の如き被
動部材は移動機構を、ハンドル,回転導入端子及び直線
導入端子の如き部材は駆動機構を、又ユニバーサルジョ
イントやフレキシブルシャフトの如き移動機構と駆動機
構をつないで動力を伝達する部材は動力電圧機構を夫々
構成する。
FIG. 9 shows a plate 50 in a vacuum container 501.
0 is a schematic view of a mechanism for operating the stage 502 fixed on the outer surface of the vacuum vessel from outside the vacuum container. The stage 502 is driven by pushing and pulling the groove portion 505 of the stage 502 with the hook 504 at the tip of the linear introduction terminal 503. . There is a play between the hint 504 and the groove 505 so that the stage 502 does not move even if the vacuum container 501 is deformed. Further, the stage 502 is set because the leaf spring 506 having the steel ball 502a attached thereto is attached to the stage 502, and the rail 508 having the section 508a cut at a right angle to the moving direction of the stage is attached to the stage attachment base 507. It is designed to reliably stop in several positions. The mechanism from FIG. 6 to FIG.
It is used in the stage of FIG. 4 depending on the position of the micrometer, the driving accuracy of the stage, and the like. Further, the vacuum container is provided with a window so that the scale of the micrometer of each stage and the position of the stage can be visually observed from the atmosphere. In the above description, the driven members such as the stage and the stage support are the moving mechanism, the members such as the handle, the rotation introducing terminal and the linear introducing terminal are the driving mechanism, and the moving mechanism and the driving mechanism such as the universal joint and the flexible shaft. The members that connect to each other and transmit power form a power voltage mechanism.

【0020】本実施例は上記の如く構成されているが、
次にその作用を説明する。まず、真空容器5,13内を
真空排気せずにゲートバルブ18を開き可視光ミラー
4,12を軟X線光路内に挿入すると、可視光源20を
発した可視光は、可視光ミラー4によって光路を曲げら
れ、コンデンサレンズ2に導かれる。コンデンサレンズ
2に導かれた可視光はコンデンサレンズ2により集光さ
れ、試料25を照明する。試料25を透過・回折した可
視光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ3に導かれた
可視光は対物レンズ3による収束作用を受け、可視光ミ
ラー12でその光路を曲げられた後軟X線検出器11の
受光面と共役な位置に試料像として拡大結像せしめられ
る。そして、この試料像が接眼レンズ21を通して肉眼
で観察される。従って、操作者は可視光による試料25
の像の観察が可能になると共に、この可視光による観察
を行いながら、図6乃至9に例示したような機構を利用
して、アライメントやフォーカシングを行うことができ
る。
Although this embodiment is constructed as described above,
Next, the operation will be described. First, when the gate valve 18 is opened and the visible light mirrors 4 and 12 are inserted into the soft X-ray optical path without evacuating the vacuum containers 5 and 13, the visible light emitted from the visible light source 20 is reflected by the visible light mirror 4. The optical path is bent and guided to the condenser lens 2. The visible light guided to the condenser lens 2 is condensed by the condenser lens 2 and illuminates the sample 25. The visible light transmitted and diffracted through the sample 25 is guided to the objective lens 3, the visible light guided to the objective lens 3 is subjected to a converging action by the objective lens 3, and its optical path is bent by the visible light mirror 12, and then the soft X A sample image is enlarged and formed at a position conjugate with the light receiving surface of the line detector 11. Then, this sample image is visually observed through the eyepiece lens 21. Therefore, the operator can
The image can be observed, and the alignment and focusing can be performed by utilizing the mechanism illustrated in FIGS. 6 to 9 while observing with the visible light.

【0021】次に、ゲートバルブ18を閉じて真空排気
を行うが、プレート16,14は夫々真空容器5,13
の底板の端部5a,5b,5c;13a,13b,13
cで接しているだけなので、真空容器の変形に対して
も、プレート16,14上の光学系のアライメントが狂
うことはない。又、各ステージを駆動する動力の伝達
は、前述の動力伝達機構を用いて行われるので、真空容
器側板が変形してもフレキシブルシャフト307の変形
やユニバーサルジョイント304の伸縮によって、ステ
ージに不必要な力が加わらないため、アライメントが狂
うことはない。
Next, the gate valve 18 is closed to perform vacuum evacuation, and the plates 16 and 14 are evacuated to the vacuum vessels 5 and 13, respectively.
Bottom plate ends 5a, 5b, 5c; 13a, 13b, 13
Since they are only in contact with each other at c, the alignment of the optical system on the plates 16 and 14 will not be disturbed even when the vacuum container is deformed. Further, since the power for driving each stage is transmitted using the above-described power transmission mechanism, even if the vacuum vessel side plate is deformed, the flexible shaft 307 is deformed or the universal joint 304 is expanded or contracted, which is unnecessary for the stage. Since no force is applied, the alignment does not go wrong.

【0022】真空排気に際しては、先ずコンダクタンス
バルブ205,206を閉じた状態でロータリーポンプ
201,202を始動し、コンダクタンスバルブ20
5,206を徐々に開きながら真空排気を行うが、この
ように真空排気が徐々に行われれば、真空容器内に激し
い気体の流れは生じないため、衝撃によってアライメン
トが狂ったり、内部の薄膜構造が破壊されたりすること
はない。かくして、各真空容器内部の真空度が数torrま
で達すると、コンダクタンスバルブ205,206を全
開にしても、もはや内部に激しい気体の流れは生じな
い。又、この真空度に達するまでにはさほど時間が掛か
らないため、コンダクタンスバルブ205,206を徐
々に開きながら排気することによる時間のロスは、観察
可能な高真空度に達するまでにかかる時間の割合に対し
て小さい。
In evacuation, first, the rotary pumps 201 and 202 are started with the conductance valves 205 and 206 closed, and the conductance valves 20
Vacuum evacuation is performed while gradually opening 5, 206. However, if the vacuum evacuation is gradually performed in this way, a violent gas flow does not occur in the vacuum container, and thus alignment may be misaligned due to impact or the internal thin film structure may be reduced. Will not be destroyed. Thus, when the degree of vacuum inside each vacuum container reaches several torr, even if the conductance valves 205 and 206 are fully opened, a violent gas flow no longer occurs inside. Also, since it does not take so long to reach this degree of vacuum, the loss of time due to exhaust while gradually opening the conductance valves 205, 206 is the ratio of the time required to reach an observable high degree of vacuum. Small against.

【0023】真空容器間のパイプ17に設置されたゲー
トバルブ18は排気初期においては他方の真空容器から
気体が流れ込むのをおさえ、内部の薄膜構造の破壊を防
ぐと共に、2系統で真空排気を行うことができるため検
出器を常に高真空に保つことが可能となり、真空排気開
始から観察までの時間を大幅に短縮できる。
The gate valve 18 installed in the pipe 17 between the vacuum containers prevents gas from flowing from the other vacuum container at the initial stage of evacuation to prevent the internal thin film structure from being destroyed and perform the evacuation in two systems. Therefore, the detector can always be kept in a high vacuum, and the time from the start of vacuum evacuation to the observation can be greatly shortened.

【0024】コンダクタンス(流動抵抗の逆数)の小さ
いパイプ17で真空容器5,13を接続することにより
差動排気が可能となり、真空容器5内が軟X線の発生・
透過に必要な1×10-4torrの真空度の状態でゲートバ
ルブ18を開いても、真空容器13内の真空度は1×1
-6torrに保つことができ、真空容器5内が高真空状態
になるまで長時間待つ必要がない。接続パイプ17は、
コンダクタンスを小さくするためには内径が小さいこと
が望ましいが、内径を小さくするとパイプ内面での可視
光及び真空紫外光の乱反射が増大する。遮光板19は乱
反射を防ぐと共にパイプ17のコンダクタンスを小さく
する役割を果たしている。
By connecting the vacuum vessels 5 and 13 with a pipe 17 having a small conductance (reciprocal of flow resistance), differential evacuation can be performed, and soft X-rays are generated in the vacuum vessel 5.
Even if the gate valve 18 is opened in a vacuum degree of 1 × 10 −4 torr necessary for permeation, the vacuum degree in the vacuum container 13 is 1 × 1.
It can be maintained at 0 -6 torr, and it is not necessary to wait for a long time until the inside of the vacuum container 5 becomes a high vacuum state. The connection pipe 17 is
It is desirable that the inner diameter is small in order to reduce the conductance, but when the inner diameter is reduced, diffuse reflection of visible light and vacuum ultraviolet light on the inner surface of the pipe increases. The light shielding plate 19 serves to prevent diffuse reflection and reduce the conductance of the pipe 17.

【0025】次に、可視光反射ミラー4のみを軟X線の
光路外に退避させ、真空容器5,13が所定の真空度に
達した後ゲートパルプ18を開き、パルスレーザ22か
らのレーザ光を集光レンズ24で金属ターゲット1に集
光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発生させ
る。発生した前記プラズマ光はコンデンサレンズ2によ
り収束され、試料25を照明する。試料25を透過・回
折したプラズマ光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ
3の収束作用を受け、可視光反射ミラー12で光路を曲
げられた後軟X線検出器11と共役な位置に結像せしめ
られ、可視光接眼レンズ21によって肉眼で観察され
る。このとき、可視光反射ミラー12の反射防止膜と接
眼レンズ21の透過防止膜とにより、レーザ光の波長の
光はカットされ、スペックルパタンのない良好な可視像
が得られる。
Next, only the visible light reflection mirror 4 is retracted out of the optical path of the soft X-rays, the gate pulp 18 is opened after the vacuum containers 5 and 13 reach a predetermined vacuum degree, and the laser light from the pulse laser 22 is opened. Is condensed on the metal target 1 by the condenser lens 24 to generate white plasma light containing soft X-rays. The generated plasma light is converged by the condenser lens 2 and illuminates the sample 25. The plasma light that has passed through the sample 25 and is diffracted is guided to the objective lens 3, is subjected to the converging action of the objective lens 3, is bent in the optical path by the visible light reflection mirror 12, and then is formed at a position conjugate with the soft X-ray detector 11. It is imaged and observed by the visible light eyepiece lens 21 with the naked eye. At this time, the antireflection film of the visible light reflection mirror 12 and the transmission prevention film of the eyepiece lens 21 cut the light of the wavelength of the laser light, and a good visible image without speckle pattern can be obtained.

【0026】この場合、高出力パルスレーザ22を集光
レンズ24の直前までファイバ23で導いているので、
レーザ光の光路は露出しておらず安全であり、且つレー
ザを防振台の上に設置しなくてもよいため防振台が小さ
くて済む。又、通常防振台の下部は空間になっているの
で、ここにレーザ22本体を置くと軟X線顕微鏡システ
ム全体としてコンパクトになる。更に、検出器11とし
て入射レーザの光と異なる波長で発光する蛍光面付のM
CPを用いているので、観察し易い。
In this case, since the high-power pulse laser 22 is guided by the fiber 23 just before the condenser lens 24,
The optical path of the laser light is not exposed, and it is safe, and since the laser does not have to be installed on the vibration isolation table, the vibration isolation table can be small. Further, since the lower part of the vibration isolation table is usually a space, placing the laser 22 main body here makes the entire soft X-ray microscope system compact. Further, as the detector 11, an M with a fluorescent screen that emits light with a wavelength different from that of the incident laser light
Since CP is used, it is easy to observe.

【0027】尚、本実施例では、プレート6,14を真
空容器の底板端部で支持しているが、変位が小さい部分
であれば底面,側面,上面に拘らず他の位置でプレート
は支持されてもよい。
In this embodiment, the plates 6 and 14 are supported by the bottom plate end portion of the vacuum container, but if the displacement is small, the plates are supported at other positions regardless of the bottom surface, the side surface or the top surface. May be done.

【0028】又、本実施例ではステージ等の駆動機構を
全て真空容器外から操作可能となっているが、真空容器
のスペース,光学系等の必要に応じた機構のみ真空容器
外から操作し、その他の機構は従来例の駆動機構でもよ
い。又、コンデンサレンズに回転楕円鏡,対物レンズに
シュヴァルツシルト光学系を用いたが、これに限定する
ことなくウォルター光学系や、ゾーンプレート光学系等
を用いてもよい。又、ゲートバルブ18は真空容器5と
真空容器13の何れかに直接接続されていてもよい。
Further, in the present embodiment, all the drive mechanisms such as the stage can be operated from the outside of the vacuum container, but only the necessary mechanism such as the space of the vacuum container and the optical system can be operated from the outside of the vacuum container. The other mechanism may be a conventional drive mechanism. Although the spheroidal mirror is used as the condenser lens and the Schwarzschild optical system is used as the objective lens, the present invention is not limited to this, and a Walter optical system, a zone plate optical system, or the like may be used. Further, the gate valve 18 may be directly connected to either the vacuum container 5 or the vacuum container 13.

【0029】又、本実施例では排気系はロータリーポン
プ,ターボ分子ポンプを2組用いたが、図10に示した
如く1組のポンプを用いて、各バルブを適当に開閉する
ことによって、二つの真空容器の排気を行うようにして
もよい。更に、可視光反射ミラーの反射防止膜と可視光
接眼レンズの透過防止膜は何れか一方でもよい。
In this embodiment, two sets of rotary pumps and turbo molecular pumps were used as the exhaust system, but one set of pumps was used as shown in FIG. 10 to open and close each valve appropriately. You may make it evacuate one vacuum container. Further, either one of the antireflection film of the visible light reflection mirror and the antireflection film of the visible light eyepiece lens may be used.

【0030】図11は第2実施例の要部を示している。
本実施例では光学系としてX線縮小露光装置を採用し、
軟X線光源としては放射光光源を用い、真空容器及び排
気用ターボ分子ポンプは定盤の上に設置されている。図
中、601は定盤,602は定盤601の上に固定され
た金属棒,603はOリング,604はOリング603
を締め付けている治具で、金属棒602とOリング60
3と治具604で真空を保持する真空容器605の一部
を構成している。606はバネで、真空容器605を支
えている。607は光学系を保持するのに十分な剛性を
備えた金属板で、金属棒602に固定されている。60
8はOリング603を押さえるためのOリング押さえで
ある。治具604を締めれば、その締付け力はOリング
押さえ608を伝わってOリング603を押圧する。押
圧されたOリング603は、真空容器605の内側と外
側とをつなぐ金属棒602の周囲の隙間を遮断するよう
に変形し、真空容器605内の真空を保持する。609
はシュヴァルツシルト型コンデンサレンズ、610はX
線マスク、611はシュヴァルツシルト型縮小投影レン
ズ、612はウエハであって、これらは、図示しないス
テージによって、金属板607上に設置されている。
又、613はベリリウム製の軟X線用透過窓である。真
空容器605には、小排気量のロータリーポンプ614
と大排気量のロータリーポンプ615とターボ分子ポン
プ616が接続されている。617はバタフライバルブ
である。
FIG. 11 shows the essential parts of the second embodiment.
In this embodiment, an X-ray reduction exposure device is used as an optical system,
A synchrotron radiation light source is used as the soft X-ray light source, and the vacuum container and the exhaust turbo molecular pump are installed on a surface plate. In the figure, 601 is a surface plate, 602 is a metal rod fixed on the surface plate 601, 603 is an O ring, and 604 is an O ring 603.
The jig that tightens the metal rod 602 and the O-ring 60
3 and the jig 604 form a part of a vacuum container 605 that holds a vacuum. A spring 606 supports the vacuum container 605. A metal plate 607 has a rigidity sufficient to hold the optical system, and is fixed to the metal rod 602. 60
Reference numeral 8 is an O-ring retainer for retaining the O-ring 603. When the jig 604 is tightened, the tightening force is transmitted to the O-ring retainer 608 and presses the O-ring 603. The pressed O-ring 603 is deformed so as to block the gap around the metal rod 602 that connects the inside and the outside of the vacuum container 605, and holds the vacuum inside the vacuum container 605. 609
Is a Schwarzschild type condenser lens, 610 is an X
A line mask, 611 is a Schwarzschild type reduction projection lens, and 612 is a wafer, and these are installed on the metal plate 607 by a stage (not shown).
Reference numeral 613 is a transparent X-ray transmission window made of beryllium. The vacuum container 605 has a small displacement rotary pump 614.
A large displacement rotary pump 615 and a turbo molecular pump 616 are connected. Reference numeral 617 is a butterfly valve.

【0031】本実施例は、上記の如く構成されている
が、その作用は次の通りである。先ず、小排気量のロー
タリーポンプ614を始動し、真空容器605の排気を
開始する。ロータリーポンプ614の排気能力は小さい
ため、真空容器内に激しい気体の流れが生じることはな
く、従って衝撃によって軟X線透過窓613が破壊され
ることはない。真空容器内の真空度が数torrまで達した
段階で大排気量のロータリーポンプ615に切り替えて
も、もはや内部に激しい気体の流れが生じることはな
い。又、この真空度に達するまでにはさほど時間が掛か
らないため、小排気量のロータリーポンプ614で徐々
に排気することによる時間のロスは、露光可能な高真空
度に達するまでにかかる時間の割合に対して小さい。
The present embodiment is constructed as described above, and its operation is as follows. First, the small displacement rotary pump 614 is started to start exhausting the vacuum container 605. Since the rotary pump 614 has a small exhaust capacity, a violent gas flow does not occur in the vacuum container, and therefore the soft X-ray transmission window 613 is not destroyed by the impact. Even if the rotary pump 615 with a large displacement is switched to a stage where the degree of vacuum in the vacuum container reaches several torr, a violent gas flow no longer occurs inside. Further, since it does not take much time to reach this degree of vacuum, the loss of time due to the gradual evacuation by the rotary pump 614 with a small displacement is the ratio of the time taken to reach the high vacuum level at which exposure is possible. Small against.

【0032】又、真空容器605内の圧力変動に伴う容
器の変形はバネ606が吸収するため、金属棒603が
変形することはない。従って、金属棒603に固定され
た光学系を設置した金属板607は、真空容器605の
排気前後で定盤601に対して、変位することはない。
Further, since the spring 606 absorbs the deformation of the container due to the pressure fluctuation in the vacuum container 605, the metal rod 603 is not deformed. Therefore, the metal plate 607 having the optical system fixed to the metal rod 603 is not displaced with respect to the surface plate 601 before and after the evacuation of the vacuum container 605.

【0033】本実施例においては、コンデンサレンズと
縮小投影レンズにシュヴァルツシルト光学系を用いてい
るが、ウォルター光学系等の他の軟X線光学系を用いて
もよい。又、本実施例では、金属棒602は定盤601
の上に設けられていたが、例えば定盤を横にした壁に金
属棒602を横付けしてやり、真空容器605の底面を
振動を吸収するバネなどで支える構成としても、真空容
器605の変形に際し金属板607は金属棒602を介
して壁に固定されていて、その変形の影響を受けないの
で良い。従って、この金属棒602によってのみ支持さ
れた金属板607上に配設されているコンデンサレンズ
609,X線マスク610,縮小投影レンズ611及び
ウエハ612もまた真空にすることによって生じる真空
容器の変形の影響を受けない。更に金属棒602を上述
の如き上付け,横付け以外の場合でも同様である。
In the present embodiment, the Schwarzschild optical system is used for the condenser lens and the reduction projection lens, but other soft X-ray optical system such as the Walter optical system may be used. Further, in this embodiment, the metal rod 602 is the surface plate 601.
Although the metal rod 602 is provided on the wall on which the surface plate is laid side by side, and the bottom surface of the vacuum container 605 is supported by a spring or the like that absorbs vibration, the metal is not deformed when the vacuum container 605 is deformed. The plate 607 is fixed to the wall via the metal rod 602 and is not affected by its deformation. Therefore, the condenser lens 609, the X-ray mask 610, the reduction projection lens 611, and the wafer 612, which are arranged on the metal plate 607 supported only by the metal rod 602, are also deformed in the vacuum container caused by applying a vacuum. Not affected. The same applies to the case where the metal rod 602 is other than the above-mentioned top and side attachments.

【0034】図12及び13は、本発明による軟X線光
学系の第3実施例の要部の平面図及び側面図である。本
実施例では光学系として、生物用軟X線顕微鏡を採用
し、軟X線光源としてレーザプラズマ光源を用い、真空
容器及び排気用ターボ分子ポンプは防振台上に設置され
ている。図中、701は金属ターゲット,702はウォ
ルター型コンデンサレンズであって、これらは軟X線用
の照明系を構成していると共に、空気による軟X線の吸
収を出来るだけ避けるために真空容器703中におかれ
たプレート704上にステージ705,706を用いて
夫々設置されている。そして、コンデンサレンズ702
により収束される軟X線は、真空容器703に設けられ
たSi3 4 の薄膜製の窓707から出射して空気中に
おかれた試料708を照射するようになっている。70
9はコンデンサレンズ702と同じ構造のシュヴァルツ
シルト型対物レンズ、710はCCDを用いた軟X線検
出器、711は軟X線検出器710の前面に配置された
可視光及び真空紫外光カット用の軟X線フィルタとして
用いるベリリウム薄膜であって、これらは軟X線用の拡
大結像系を構成していると共に、空気による軟X線の吸
収を出来るだけ避けるために、真空容器712中に置か
れたプレート713上にステージ714,715,71
6を用いて夫々設置されている。そして、試料708を
透過・回折した軟X線は真空容器712に設けられたS
3 4 の薄膜製の窓717から入射して対物レンズ7
09により軟X線検出器710上収束されるようになっ
ている。尚、対物レンズ709を構成するシュヴァルツ
シルト光学系は、「水の窓」領域の波長の軟X線に対し
て高い反射率を持つNi/Ti多層膜を被膜してなって
いる。718は図示しない手段によって金属ターゲット
701とコンデンサレンズ702との間の光路に挿脱自
在に配置されている入射レーザ光の波長の光に対する透
過防止膜をコーティングした厚さ10μmの硝子板であ
る。
12 and 13 are a plan view and a side view of the essential parts of a third embodiment of the soft X-ray optical system according to the present invention. In this embodiment, a biological soft X-ray microscope is used as an optical system, a laser plasma light source is used as a soft X-ray light source, and a vacuum container and an exhaust turbo molecular pump are installed on a vibration isolation table. In the figure, 701 is a metal target, and 702 is a Walter type condenser lens, which constitute an illumination system for soft X-rays, and a vacuum container 703 for avoiding absorption of soft X-rays by air as much as possible. They are installed on the plate 704 placed inside by using stages 705 and 706, respectively. Then, the condenser lens 702
The soft X-rays converged by are emitted from a window 707 made of a thin film of Si 3 N 4 provided in a vacuum container 703, and irradiate a sample 708 placed in the air. 70
Reference numeral 9 denotes a Schwarzschild type objective lens having the same structure as the condenser lens 702, 710 is a soft X-ray detector using a CCD, and 711 is a visible light and a vacuum ultraviolet light cut arranged in front of the soft X-ray detector 710. A beryllium thin film used as a soft X-ray filter, which constitutes an enlarged image forming system for soft X-rays and is placed in a vacuum container 712 in order to avoid absorption of soft X-rays by air as much as possible. Stages 714, 715, 71 on the plate 713
6 are installed respectively. The soft X-ray transmitted and diffracted by the sample 708 is S
The light enters through the window 717 made of a thin film of i 3 N 4 and enters the objective lens 7
09, the soft X-ray detector 710 is made to converge. The Schwarzschild optical system constituting the objective lens 709 is coated with a Ni / Ti multilayer film having a high reflectance for soft X-rays having a wavelength in the “water window” region. Reference numeral 718 is a glass plate having a thickness of 10 μm, which is arranged by an unillustrated means in the optical path between the metal target 701 and the condenser lens 702 so as to be insertable and removable so as to be coated with a film for preventing transmission of light of the wavelength of the incident laser light.

【0035】高出力パルスYAGレーザ719からのレ
ーザ光を光ファイバ720で真空容器703内の集光レ
ンズ721へ導き、集光レンズ721によって金属ター
ゲット701に集光させ、プラズマ光を発生させる。光
ファイバ720の端部と集光レンズ721は、プレート
704上に図示しないステージを介して設置されてい
る。これらが軟X線光源系をなしている。集光レンズ7
21と金属ターゲット701の間にはレーザ径よりも大
きな孔のある遮光板724が、遮光板724と集光レン
ズ721の間にはレーザの波長の光に対する反射防止膜
をコーティングした硝子板725が配置されている。遮
光板724は、少なくとも金属ターゲット701から飛
散する電子,イオン,中性粒子などの汚染物質が遮光板
の孔以外からは硝子板725や集光レンズ721に直接
付着しないようにするだけの大きさを持ち、硝子板72
5の径は少なくとも遮光板724の孔から飛散してきた
金属ターゲット701からの汚染物質が直接集光レンズ
721に付着しないようにするだけの大きさを持つ。
Laser light from the high-power pulsed YAG laser 719 is guided by an optical fiber 720 to a condenser lens 721 in a vacuum container 703, and is condensed on the metal target 701 by the condenser lens 721 to generate plasma light. The end of the optical fiber 720 and the condenser lens 721 are installed on the plate 704 via a stage (not shown). These form a soft X-ray light source system. Condenser lens 7
21 and a metal target 701 are provided with a light shield plate 724 having a hole larger than the laser diameter, and between the light shield plate 724 and the condenser lens 721 is a glass plate 725 coated with an antireflection film for light of a laser wavelength. It is arranged. The light shielding plate 724 has a size sufficient to prevent at least contaminants such as electrons, ions, and neutral particles scattered from the metal target 701 from directly adhering to the glass plate 725 and the condenser lens 721 except the holes of the light shielding plate. Holding a glass plate 72
The diameter of 5 is at least large enough to prevent contaminants from the metal target 701 scattered from the holes of the light shielding plate 724 from directly adhering to the condenser lens 721.

【0036】又、本実施例においても、第1実施例と同
様に、プレート704は真空容器703の底板の端部7
03a,703b,703c,703dにより、プレー
ト713は真空容器712の底板の端部712a,71
2b,712c,712dにより、夫々支持されてい
る。更に、各ステージは図6乃至9に示した如き機構等
を用いて真空容器の外部から移動させることができるよ
うになっている。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the plate 704 is the end portion 7 of the bottom plate of the vacuum container 703.
03a, 703b, 703c, and 703d, the plate 713 is attached to the end portions 712a, 71 of the bottom plate of the vacuum container 712.
2b, 712c and 712d respectively support. Further, each stage can be moved from the outside of the vacuum container by using the mechanism shown in FIGS. 6 to 9.

【0037】本実施例は上述の如く構成されているか
ら、先ず、真空容器703,712を真空排気せずに図
示しない手段によって可視光によるアライメント及びフ
ォーカシングを行った後に真空排気を行っても、プレー
ト704,705が夫々変位しないため、アライメント
が狂うことはない。
Since this embodiment is constructed as described above, first, even if the vacuum vessels 703 and 712 are not evacuated, alignment and focusing are performed by visible light by means not shown, and then evacuated. Since the plates 704 and 705 are not displaced, the alignment will not be disturbed.

【0038】次に、硝子板718を軟X線の光路内に挿
入し、軟X線フィルタ711を軟X線の光路外に退避さ
せ、真空容器703,712内が所定の真空度に達した
後、パルスレーザ719からのレーザ光を集光レンズ7
21で集光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発
生させる。レーザを光ファイバ720で真空容器703
内に導いているため、レーザの光路が大気中になく極め
て安全である。発生したプラズマ光は硝子板718に入
射するが、ここで軟X線やターゲット701からの前記
汚染物質がカットされるため、可視光によるアライメン
ト,フォーカシング及び観察時には試料708に不必要
な軟X線の被爆が生じず、後の軟X線観察時まで、生き
たままの状態で生物試料を保つことができる。又、ター
ゲット701からの汚染物質はコンデンサ等の光学系で
弾性反射してくるため、後段のX線透過窓707等に付
着するか又はこれを破壊することがあるので、このよう
に可視光観察のときに飛散する汚染物質をカットするこ
とが好ましい。又、硝子板725を外部から移動させる
ことができるので、硝子板725に汚染粒子が付着して
も真空を開放せずに新しい面をターゲットへ向けること
ができる。
Next, the glass plate 718 is inserted into the optical path of the soft X-rays, the soft X-ray filter 711 is evacuated to the outside of the optical path of the soft X-rays, and the inside of the vacuum containers 703 and 712 reaches a predetermined vacuum degree. After that, the laser light from the pulse laser 719 is collected by the condenser lens 7
The light is condensed at 21 to generate white plasma light including soft X-rays. Laser with optical fiber 720 in vacuum chamber 703
Since it is guided inside, the optical path of the laser is not in the atmosphere and it is extremely safe. The generated plasma light is incident on the glass plate 718, but since the soft X-rays and the contaminants from the target 701 are cut off here, unnecessary soft X-rays on the sample 708 during alignment, focusing, and observation with visible light. The biological sample can be kept alive until the subsequent soft X-ray observation. Further, since contaminants from the target 701 are elastically reflected by an optical system such as a condenser, they may adhere to or destroy the X-ray transmission window 707 or the like in the subsequent stage. It is preferable to remove the contaminants scattered at the time. Further, since the glass plate 725 can be moved from the outside, even if contaminant particles adhere to the glass plate 725, a new surface can be directed to the target without releasing the vacuum.

【0039】本実施例では、軟X線や汚染物質をカット
するための硝子板718を金属ターゲット701とコン
デンサレンズ702の間に配置しているが、コンデンサ
レンズ702の直後に配置してもよい。又、コンデンサ
レンズ,対物レンズにシュヴァルツシルト光学系を用い
たが、これに限定されることなくウォルター光学系や、
ゾーンプレート光学系等を用いても良い。更に、各光学
系をステージに複数積載し、本実施例に用いた駆動機構
によってレボルバー方式又はスライド方式で交換すると
観察対象に適当な光学系を真空を開放することなく外部
から選択する事が出来る。
In this embodiment, the glass plate 718 for cutting soft X-rays and contaminants is arranged between the metal target 701 and the condenser lens 702, but it may be arranged immediately after the condenser lens 702. . Although the Schwarzschild optical system is used for the condenser lens and the objective lens, the present invention is not limited to this, and the Walter optical system,
A zone plate optical system or the like may be used. Furthermore, by mounting a plurality of each optical system on the stage and exchanging it by the revolver system or the slide system by the drive mechanism used in this embodiment, it is possible to select an appropriate optical system for the observation object from the outside without opening the vacuum. .

【0040】[0040]

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、真空容器の
真空排気及び大気開放の前後において光学系のアライメ
ントが狂うことなく、装置全体を小型且つコンパクトに
構成することができる。使い勝手の良い真空光学系を提
供することができる。尚、本発明は軟X線光学系のみに
限定されるものではなく、真空中で使用する総ての光学
系、例えば真空紫外光や可視光にも適用することができ
る。
As described above, according to the present invention, the entire apparatus can be made compact and compact without causing misalignment of the optical system before and after the vacuum container is evacuated and exposed to the atmosphere. It is possible to provide a convenient vacuum optical system. The present invention is not limited to the soft X-ray optical system, but can be applied to all optical systems used in vacuum, such as vacuum ultraviolet light and visible light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による真空光学系において真空容器内が
大気圧状態にある場合の光学系のアライメント状態を示
す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an alignment state of an optical system in a vacuum optical system according to the present invention when the inside of a vacuum container is in an atmospheric pressure state.

【図2】図1に示した真空容器内が真空状態にある場合
の光学系のアライメント状態を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an alignment state of an optical system when the inside of the vacuum container shown in FIG. 1 is in a vacuum state.

【図3】本発明による真空光学系の第1実施例の平面図
である。
FIG. 3 is a plan view of the first embodiment of the vacuum optical system according to the present invention.

【図4】図1の側面図である。FIG. 4 is a side view of FIG.

【図5】第1実施例に用いられる真空排気装置の一例の
ブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram of an example of an evacuation device used in the first embodiment.

【図6】第1実施例に適用され得る移動機構,駆動機構
及び動力伝達機構の一例を示す構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram showing an example of a moving mechanism, a drive mechanism, and a power transmission mechanism that can be applied to the first embodiment.

【図7】第1実施例に適用され得る移動機構及び動力伝
達機構の他の例の一使用状態を示す構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram illustrating another usage state of another example of the moving mechanism and the power transmission mechanism that can be applied to the first embodiment.

【図8】図7に示された例の他の使用状態を示す構成図
である。
8 is a configuration diagram showing another usage state of the example shown in FIG. 7. FIG.

【図9】第1実施例に適用され得る移動機構,駆動機構
及び動力伝達機構の更に他の例を示す構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram showing still another example of a moving mechanism, a drive mechanism, and a power transmission mechanism that can be applied to the first embodiment.

【図10】第1実施例に用いられる真空排気装置の他の
例のブロック図である。
FIG. 10 is a block diagram of another example of the vacuum exhaust device used in the first embodiment.

【図11】本発明による真空光学系の第2実施例の側面
図である。
FIG. 11 is a side view of a second embodiment of the vacuum optical system according to the present invention.

【図12】本発明による真空光学系の第3実施例の平面
図である。
FIG. 12 is a plan view of a third embodiment of the vacuum optical system according to the present invention.

【図13】図12の側面図である。FIG. 13 is a side view of FIG.

【図14】従来の真空光学系において真空容器内が大気
圧状態にある場合の光学系のアライメント状態を示す説
明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing an alignment state of an optical system when the inside of a vacuum container is in an atmospheric pressure state in a conventional vacuum optical system.

【図15】図14に示した真空容器内が真空状態にある
場合の光学系のアライメント状態を示す説明図である。
15 is an explanatory diagram showing an alignment state of the optical system when the inside of the vacuum container shown in FIG. 14 is in a vacuum state.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・金属ターゲット, 2・・・・コンデン
サレンズ,3・・・・対物レンズ, 4・・
・・可視光反射ミラー,5・・・・真空容器,
6・・・・プレート,7・・・・ターゲット用ステージ,
8・・・・コンデンサ用ステージ,9・・・・対物レン
ズ用ステージ, 10・・・・反射ミラー用ステージ,
11・・・・軟X線検出器, 12・・・・可視光
反射ミラー,13・・・・真空容器, 1
4・・・・プレート,15・・・・検出器用ステージ,
16・・・・反射ミラー用ステージ,17・・・・真空容器接
続用パイプ, 18・・・・ゲートバルブ,19・・・・遮
光板, 20・・・・可視光観察用光
源,21・・・・可視接眼レンズ, 22・・・・高
出力パルスYAGレーザ,23・・・・光ファイバ
24・・・・集光レンズ,25・・・・試料,
26・・・・試料用ステージ,27・・・・防
振台, 28・・・・軟X線フィルタ,
201・・・・ロータリーポンプ, 202・・・・ロー
タリーポンプ,203・・・・ターボ分子ポンプ,
204・・・・ターボ分子ポンプ,205・・・・コンダクタン
スバルブ, 206・・・・コンダクタンスバルブ,20
7・・・・バタフライバルブ, 300・・・・プレー
ト,301・・・・真空容器, 302・・・・
ステージ,303・・・・回転導入端子, 30
4・・・・ユニバーサルジョイント,305・・・・マイクロメ
ータ, 306・・・・回転導入端子,307・・・・
フレキシブルシャフト, 308・・・・マイクロメー
タ,309・・・・ハンドル, 401・・・・
真空容器,402・・・・プレート, 40
3・・・・ステージ,404A,404B・・・・支持台,
405・・・・固定台,406・・・・マイクロメータ,
407・・・・ワイヤー408,409・・・・プーリ,
500・・・・プレート,501・・・・真空容器,
502・・・・ステージ,503・・・・直線
導入端子, 504・・・・ヒッカケ,505・・
・・ステージ溝部, 506・・・・板バネ,60
1・・・・定盤, 602・・・・金属棒,
603・・・・Oリング, 604・・・・Oリ
ング締め付け用治具,605・・・・真空容器,
606・・・・バネ,607・・・・金属板,
608・・・・Oリング押さえ,609・・・・コンデ
ンサレンズ, 610・・・・X線マスク,611・・
・・縮小投影レンズ, 612・・・・ウエハ,61
3・・・・軟X線透過窓, 614・・・・ロータリ
ーポンプ,615・・・・ロータリーポンプ, 61
6・・・・ターボ分子ポンプ,617・・・・バタフライバル
ブ, 701・・・・金属ターゲット,702・・・・コ
ンデンサレンズ, 703・・・・真空容器,704
・・・・プレート, 705・・・・ターゲット
用ステージ,706・・・・コンデンサ用ステージ, 7
07・・・・軟X線透過窓,708・・・・試料,
709・・・・対物レンズ,710・・・・軟X線検出
器, 711・・・・軟X線フィルタ,712・・
・・真空容器, 713・・・・プレート,7
14・・・・対物レンズ用ステージ, 715・・・・検出器
用ステージ,716・・・・フィルタ用ステージ, 7
17・・・・軟X線透過窓,718・・・・硝子板,
719・・・・高出力パルスレーザ,720・・・・光
ファイバ, 721・・・・集光レンズ,72
2・・・・光ファイバー用ステージ, 723・・・・集光レン
ズ用ステージ,724・・・・遮光板,
725・・・・硝子板,726・・・・防振台
1 ... Metal target, 2 ... Condenser lens, 3 ... Objective lens, 4 ...
..Visible light reflection mirrors, 5 ... Vacuum containers,
6 ... Plate, 7 ... Target stage,
8 ... ・ Condenser stage, 9 ・ ・ ・ Objective lens stage, 10 ・ ・ ・ ・ Reflecting mirror stage,
11 ... ・ Soft X-ray detector, 12 ・ ・ ・ ・ Visible light reflecting mirror, 13 ・ ・ ・ ・ Vacuum container, 1
4 ... Plate, 15 ... Detector stage,
16 ... ・ Reflecting mirror stage, 17 ・ ・ ・ ・ Vacuum container connecting pipe, 18 ・ ・ ・ ・ Gate valve, 19 ・ ・ ・ ・ Shading plate, 20 ・ ・ ・ ・ Visible light observation light source, 21 ・... Visible eyepiece, 22 ... High-power pulsed YAG laser, 23 ... Optical fiber
24 ... Condensing lens, 25 ... Sample,
26 ... ・ Sample stage, 27 ・ ・ ・ ・ Vibration isolation table, 28 ・ ・ ・ ・ Soft X-ray filter,
201 ... Rotary pump, 202 ... Rotary pump, 203 ... Turbo molecular pump,
204 ··· turbo molecular pump, 205 ··· conductance valve, 206 · · · conductance valve, 20
7 ... Butterfly valve, 300 ... Plate, 301 ... Vacuum container, 302 ...
Stage, 303 ... Rotation introduction terminal, 30
4 ・ ・ ・ ・ Universal joint, 305 ・ ・ ・ ・ Micrometer, 306 ・ ・ ・ ・ Rotation introduction terminal, 307 ・ ・ ・ ・
Flexible shaft, 308 ... Micrometer, 309 ... Handle, 401 ...
Vacuum container, 402 ... Plate, 40
3 ... ・ Stage, 404A, 404B ...
405 ... Fixed base, 406 ... Micrometer,
407 ... Wires 408, 409 ... Pulley,
500 ... Plate, 501 ... Vacuum container,
502 ... Stage, 503 ... Straight lead-in terminal, 504 ...
..Stage grooves, 506 ... Leaf springs, 60
1 ... Surface plate, 602 ... Metal rod,
603 ... O-ring, 604 ... O-ring tightening jig, 605 ... Vacuum container,
606 ... Spring, 607 ... Metal plate,
608 ... O-ring holder, 609 ... Condenser lens, 610 ... X-ray mask, 611 ...
..Reduction projection lens, 612 .... Wafer, 61
3 ··· Soft X-ray transmission window, 614 ··· Rotary pump, 615 ··· Rotary pump, 61
6 ... Turbo molecular pump, 617 ... Butterfly valve, 701 ... Metal target, 702 ... Condenser lens, 703 ... Vacuum container, 704
.... Plate, 705 ... Target stage, 706 ... Capacitor stage, 7
07 ・ ・ ・ ・ Soft X-ray transmission window, 708 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Sample,
709 ... ・ Objective lens, 710 ・ ・ ・ ・ Soft X-ray detector, 711 ・ ・ ・ ・ Soft X-ray filter, 712 ・ ・
.... Vacuum vessels, 713 ... Plates, 7
14 ··· Objective lens stage, 715 ··· Detector stage, 716 ··· Filter stage, 7
17 ... Soft X-ray transmission window, 718 ... Glass plate,
719 ... High-power pulse laser, 720 ... Optical fiber, 721 ... Condensing lens, 72
2 ...- Optical fiber stage, 723-Condensing lens stage, 724-Light-shielding plate,
725 ··· Glass plate, 726 ··· Anti-vibration table

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年11月5日[Submission date] November 5, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0006[Correction target item name] 0006

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明による真空光学系
は、真空容器内の気圧変化に伴う真空容器の変形により
真空容器に変位が生じても、使用されるべき光学系に伝
達される変位量がその光学系に要求される精度から定ま
る所定の変動誤差量を越えない程度の変位量の小さい部
分で支持された、光学系載置部材を真空容器内に備えて
いる。
A vacuum optical system according to the present invention is a displacement which is transmitted to an optical system to be used even if a displacement of the vacuum container occurs due to the deformation of the vacuum container due to a change in atmospheric pressure in the vacuum container. An optical system mounting member, which is supported by a portion having a small displacement amount that does not exceed a predetermined variation error amount determined by the accuracy required for the optical system, is provided in the vacuum container.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0007】[0007]

【作用】この真空光学系によれば、真空容器の真空排気
及び大気開放の前後において光学系のアライメントを保
持することができる。即ち、例えば、図1及び2に示す
如く、光学系載置部材であるプレート上に光学系がある
場合、真空容器の変形による該部材を支持する部分の変
形量が光学系に要求される精度よりも小さければ、真空
容器の真空排気及び大気開放の前後において光学系のア
ライメント精度は保持される。
According to this vacuum optical system, the alignment of the optical system can be maintained before and after the evacuation of the vacuum container and the opening to the atmosphere. That is, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, when an optical system is provided on a plate which is an optical system mounting member, the amount of deformation of the portion supporting the member due to the deformation of the vacuum container is required to be the accuracy required for the optical system. If it is smaller than this, the alignment accuracy of the optical system is maintained before and after the vacuum container is evacuated and opened to the atmosphere.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0010[Correction target item name] 0010

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0010】このように本発明によれば、真空排気の前
後において容器が変形しても真空容器内の光学系のアラ
イメントが狂うことはなく、又外部から真空容器内の移
動機構を操作できるコンパクトな真空光学となる。更
に、軟X線観察時には、真空排気の時間が短く内部や真
空容器の窓などの薄膜構造を破壊しない装置となる。
As described above, according to the present invention, even if the container is deformed before and after evacuation, the alignment of the optical system in the vacuum container is not disturbed, and the moving mechanism in the vacuum container can be operated from the outside. Vacuum optics. Further, during the soft X-ray observation, the apparatus is a device that does not destroy the thin film structure such as the inside and the window of the vacuum container because the vacuum exhaust time is short.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0019[Correction target item name] 0019

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0019】図9は、真空容器501内のプレート50
0上に固定されたステージ502を真空容器外から操作
するための機構の概略図で、直線導入端子503の先端
のヒッカケ504で、ステージ502の溝部505を押
引することによってステージ502を駆動する。ヒッカ
ケ504と溝部505の間には遊びがあって、真空容器
501が変形してもステージ502が移動しないように
なっている。又、ステージ502には鋼球502aを取
り付けた板バネ506を、ステージの取付け台507に
はステージの移動方向と直角に508aが切ってあるレ
ール508を取り付けてあるので、ステージ502は設
定された幾つかの位置に確実に停止するようになってい
る。図6から図9までの機構はステージ間の取り合い、
マイクロメータの位置,ステージの駆動精度等に応じて
図4のステージに用いられている。更に、各ステージの
マイクロメータの目盛りやステージの位置が大気中から
目視できるように真空容器には窓が付けてある。尚、上
記説明において、ステージ及びステージ支持台の如き被
動部材は移動機構を、ハンドル,回転導入端子及び直線
導入端子の如き部材は駆動機構を、又ユニバーサルジョ
イントやフレキシブルシャフトの如き移動機構と駆動機
構をつないで動力を伝達する部材は動力伝達機構を夫々
構成する。
FIG. 9 shows a plate 50 in a vacuum container 501.
0 is a schematic view of a mechanism for operating the stage 502 fixed on the outer surface of the vacuum vessel from outside the vacuum container. The stage 502 is driven by pushing and pulling the groove portion 505 of the stage 502 with the hook 504 at the tip of the linear introduction terminal 503. . There is a play between the hint 504 and the groove 505 so that the stage 502 does not move even if the vacuum container 501 is deformed. Further, the stage 502 is set because the leaf spring 506 having the steel ball 502a attached thereto is attached to the stage 502, and the rail 508 having the section 508a cut at a right angle to the moving direction of the stage is attached to the stage attachment base 507. It is designed to reliably stop in several positions. The mechanism from FIG. 6 to FIG.
It is used in the stage of FIG. 4 depending on the position of the micrometer, the driving accuracy of the stage, and the like. Further, the vacuum container is provided with a window so that the scale of the micrometer of each stage and the position of the stage can be visually observed from the atmosphere. In the above description, the driven members such as the stage and the stage support are the moving mechanism, the members such as the handle, the rotation introducing terminal and the linear introducing terminal are the driving mechanism, and the moving mechanism and the driving mechanism such as the universal joint and the flexible shaft. The members that connect to each other to transmit power form a power transmission mechanism.

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0025[Name of item to be corrected] 0025

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0025】次に、可視光反射ミラー4のみを軟X線の
光路外に退避させ、真空容器5,13が所定の真空度に
達した後ゲートバルブ18を開き、パルスレーザ22か
らのレーザ光を集光レンズ24で金属ターゲット1に集
光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発生させ
る。発生した前記プラズマ光はコンデンサレンズ2によ
り収束され、試料25を照明する。試料25を透過・回
折したプラズマ光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ
3の収束作用を受け、可視光反射ミラー12で光路を曲
げられた後軟X線検出器11と共役な位置に結像せしめ
られ、可視光接眼レンズ21によって肉眼で観察され
る。このとき、可視光反射ミラー12の反射防止膜と接
眼レンズ21の透過防止膜とにより、レーザ光の波長の
光はカットされ、スペックルパタンのない良好な可視像
が得られる。
Next, only the visible light reflecting mirror 4 is retracted out of the optical path of the soft X-rays, and after the vacuum chambers 5 and 13 have reached a predetermined vacuum degree, the gate valve 18 is opened and the laser light from the pulse laser 22 is emitted. Is condensed on the metal target 1 by the condenser lens 24 to generate white plasma light containing soft X-rays. The generated plasma light is converged by the condenser lens 2 and illuminates the sample 25. The plasma light that has passed through the sample 25 and is diffracted is guided to the objective lens 3, is subjected to the converging action of the objective lens 3, is bent in the optical path by the visible light reflection mirror 12, and then is formed at a position conjugate with the soft X-ray detector 11. It is imaged and observed by the visible light eyepiece lens 21 with the naked eye. At this time, the antireflection film of the visible light reflection mirror 12 and the transmission prevention film of the eyepiece lens 21 cut the light of the wavelength of the laser light, and a good visible image without speckle pattern can be obtained.

【手続補正6】[Procedure correction 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0037[Name of item to be corrected] 0037

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0037】本実施例は上述の如く構成されているか
ら、先ず、真空容器703,712を真空排気せずに図
示しない手段によって可視光によるアライメント及びフ
ォーカシングを行った後に真空排気を行っても、プレー
ト704,705が夫々アライメント誤差許容量よりも
変位が小さいため、アライメントが狂うことはない。
Since this embodiment is constructed as described above, first, even if the vacuum vessels 703 and 712 are not evacuated, alignment and focusing are performed by visible light by means not shown, and then evacuated. Since the displacements of the plates 704 and 705 are smaller than the alignment error allowable amount, the alignment will not be disturbed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // G01J 3/02 Z 9215−2G ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location // G01J 3/02 Z 9215-2G

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空中で使用する光学系を格納する真空
容器を備えた真空光学系において、前記真空容器内の気
圧変化に伴う前記真空容器の変形により前記真空容器に
変位が生じても前記光学系に伝達される変位量が前記光
学系に要求される精度から定まる所定の変動誤差量を越
えない程度の変位量の小さい部分で支持された、少なく
とも前記光学系を載置した部材を前記真空容器内に備え
ていることを特徴とする真空光学系。
1. A vacuum optical system provided with a vacuum container for storing an optical system used in a vacuum, wherein the vacuum container is displaced even if the vacuum container is displaced due to deformation of the vacuum container due to a change in atmospheric pressure in the vacuum container. At least a member on which the optical system is mounted is supported by a portion having a small displacement amount such that the displacement amount transmitted to the optical system does not exceed a predetermined variation error amount determined by the accuracy required for the optical system. A vacuum optical system, which is provided in a vacuum container.
JP4242232A 1992-09-10 1992-09-10 Vacuum optical system Pending JPH0694900A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4242232A JPH0694900A (en) 1992-09-10 1992-09-10 Vacuum optical system
US08/118,246 US5432831A (en) 1992-09-10 1993-09-09 Vacuum optical system
US08/431,325 US5533083A (en) 1992-09-10 1995-04-28 Vacuum optical system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4242232A JPH0694900A (en) 1992-09-10 1992-09-10 Vacuum optical system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0694900A true JPH0694900A (en) 1994-04-08

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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0786156A (en) * 1993-07-21 1995-03-31 Canon Inc Processing system and fabrication of device employing
JPH095499A (en) * 1995-06-16 1997-01-10 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Soft x-ray micrscope
JPH10293200A (en) * 1997-04-18 1998-11-04 Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan Structure of vacuum optical system
JP2001270691A (en) * 2000-03-28 2001-10-02 Shin Meiwa Ind Co Ltd Article conveying device
JP2002015989A (en) * 1993-07-21 2002-01-18 Canon Inc Processing system, aligner using the same, and device manufacturing method
JP2003068609A (en) * 2001-08-24 2003-03-07 Nikon Corp Processing equipment linder atmospheric pressure, energy beam irradiation equipment and aligner
JP2003168642A (en) * 2001-12-04 2003-06-13 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Extreme ultraviolet-ray exposure apparatus
JP2003218189A (en) * 2002-01-22 2003-07-31 Ebara Corp Stage device
JP2004235226A (en) * 2003-01-28 2004-08-19 Kyocera Corp Vacuum chamber device and vacuum stage device
JP2015011029A (en) * 2013-06-26 2015-01-19 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Gas-tight packaging of detectors
WO2017110507A1 (en) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 Radiation detection device, radiation testing system, and method for adjusting radiation detection device
US10796877B2 (en) 2018-06-27 2020-10-06 Nuflare Technology, Inc. Charged particle beam image acquisition apparatus

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0786156A (en) * 1993-07-21 1995-03-31 Canon Inc Processing system and fabrication of device employing
JP2002015989A (en) * 1993-07-21 2002-01-18 Canon Inc Processing system, aligner using the same, and device manufacturing method
JPH095499A (en) * 1995-06-16 1997-01-10 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Soft x-ray micrscope
JPH10293200A (en) * 1997-04-18 1998-11-04 Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan Structure of vacuum optical system
JP2001270691A (en) * 2000-03-28 2001-10-02 Shin Meiwa Ind Co Ltd Article conveying device
JP4655433B2 (en) * 2001-08-24 2011-03-23 株式会社ニコン Depressurized atmosphere processing apparatus, energy beam irradiation apparatus, and exposure apparatus
JP2003068609A (en) * 2001-08-24 2003-03-07 Nikon Corp Processing equipment linder atmospheric pressure, energy beam irradiation equipment and aligner
JP2003168642A (en) * 2001-12-04 2003-06-13 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Extreme ultraviolet-ray exposure apparatus
JP2003218189A (en) * 2002-01-22 2003-07-31 Ebara Corp Stage device
JP2004235226A (en) * 2003-01-28 2004-08-19 Kyocera Corp Vacuum chamber device and vacuum stage device
JP2015011029A (en) * 2013-06-26 2015-01-19 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Gas-tight packaging of detectors
WO2017110507A1 (en) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 Radiation detection device, radiation testing system, and method for adjusting radiation detection device
JP2017116282A (en) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 Radiation detection device, radiation inspection system, and radiation detection device adjustment method
US10677938B2 (en) 2015-12-21 2020-06-09 Hamamatsu Photonics K.K. Radiation detection device, radiation inspection system, and method for adjusting radiation detection device
US10796877B2 (en) 2018-06-27 2020-10-06 Nuflare Technology, Inc. Charged particle beam image acquisition apparatus

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