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JPH0669588A - Semiconductor laser array light source - Google Patents

Semiconductor laser array light source

Info

Publication number
JPH0669588A
JPH0669588A JP4218895A JP21889592A JPH0669588A JP H0669588 A JPH0669588 A JP H0669588A JP 4218895 A JP4218895 A JP 4218895A JP 21889592 A JP21889592 A JP 21889592A JP H0669588 A JPH0669588 A JP H0669588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
optical system
laser
semiconductor laser
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4218895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naotaro Nakada
直太郎 中田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP4218895A priority Critical patent/JPH0669588A/en
Publication of JPH0669588A publication Critical patent/JPH0669588A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make an expensive demagnification projection lens having a large aperture unnecessary, by arranging each couple of a plurality of semiconductor lasers arranged in one-dimensional or two-dimensional array type and convergent optical systems which correspond with the semiconductor lasers and converge casted laser beams, in a spherical surface type or a circular arc type. CONSTITUTION:A plurality of semiconductor lasers 10 arranged in a two-dimensional array type and convergent optical systems 20 which correspond with the semiconductor lasers 10 and converge laser beams casted from the respective semiconductor lasers 10 are installed. Each couple of the semiconductor laser 10 and the convergent optical system 20 is so arranged in a spherical surface type that each laser beam spot 47 gathers on a virtual image surface 40 at specific intervals and forms a laser beam pattern image 45. In order to arrange each of the couples of the semiconductor lasers 10 and the convergent optical systems 20 in a spherical surface type, an arm type fixing part member 33 constituting a part of the spherical surface is used. Penetrating holes 36 are arranged in a two-dimensional type on the fixing part member 33, and each of the couples is inserted into the hole and fixed. All of the penetrating holes 36 stretch toward a center point P0 of the spherical surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は製版用イメージスキャ
ナ,プリント配線基板製造用レーザプロッタ,レーザプ
リンタ,2次元画像処理センサ用光源等に用いられる半
導体レーザアレイ光源に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser array light source used for an image scanner for plate making, a laser plotter for manufacturing a printed wiring board, a laser printer, a light source for a two-dimensional image processing sensor, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体レーザ等から成るレーザ光源は、
上記のような様々な装置の発光源として用いられてい
る。例えば、レーザプリンタにおいては、感光体ドラム
上に文字等の画像を高速で形成するためのレーザビーム
放射用の装置として用いられている。また、2次元画像
処理センサ用光源においては、物体からの反射光により
情報を得るためのレーザビーム放射用の装置として用い
られている。
2. Description of the Related Art A laser light source such as a semiconductor laser is
It is used as a light emission source for various devices as described above. For example, in a laser printer, it is used as a device for emitting a laser beam for forming an image such as characters on a photosensitive drum at high speed. Further, in a light source for a two-dimensional image processing sensor, it is used as a laser beam emitting device for obtaining information by reflected light from an object.

【0003】上記レーザ光源を用いた構成として、例え
ば半導体レーザ1個とコリメータを構成する1個のレン
ズとのペアで1本のレーザビームを形成し、そのレーザ
ビームをポリゴンスキャナーで反射して所定の面上に画
像を形成するものが知られている。このような1個の半
導体レーザを用いた構成では、スキャニングの速度で処
理速度が決まってしまうため、高速化に限界があるとい
った問題がある。
As a structure using the above laser light source, for example, a pair of one semiconductor laser and one lens forming a collimator forms one laser beam, and the laser beam is reflected by a polygon scanner and predetermined. It is known to form an image on the surface of. In such a configuration using one semiconductor laser, the processing speed is determined by the scanning speed, so there is a problem in that there is a limit to speeding up.

【0004】このような点から、処理速度の高速化を図
るために、複数本のレーザビーム(以下、「マルチレー
ザビーム」という)で画像形成等を行う装置が知られて
いる(特開平2−110424号,同3−15018号
等)。例えば、特開平3−15018号の装置では、先
ずレーザ光源(例えば、He-Neレーザ,Arレーザ)から放
射された1本のレーザービームを、ビーム分割手段(ビ
ームスプリッタ)で複数本に分けることにより、マルチ
レーザビームを形成する。このマルチレーザビームを構
成するレーザビームのそれぞれが、電気的なシャッター
でON/OFFされうるようになっている。
From this point of view, there is known an apparatus for forming an image with a plurality of laser beams (hereinafter, referred to as "multi-laser beam") in order to increase the processing speed (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2). -110424, 3-15018, etc.). For example, in the apparatus of Japanese Patent Laid-Open No. 3-15018, first, one laser beam emitted from a laser light source (for example, He-Ne laser, Ar laser) is divided into a plurality of beams by a beam splitting means (beam splitter). Thus, a multi-laser beam is formed. Each of the laser beams forming this multi-laser beam can be turned on / off by an electric shutter.

【0005】そして、マルチレーザビームを望遠レンズ
及び対物レンズから成るアフォーカル光学系で、2段階
に分けて縮小投影し、感光体ドラム,感光フィルム等に
アレイ状のレーザビームパターン像を形成する。望遠レ
ンズではマルチレーザビームが1/10に縮小され、次に対
物レンズ(例えば、顕微鏡用対物レンズ,LSIステッ
パー用レンズ等)では更に1/10に縮小される。
Then, the multi-laser beam is reduced and projected in two steps by an afocal optical system consisting of a telephoto lens and an objective lens to form an array-shaped laser beam pattern image on the photosensitive drum, photosensitive film or the like. The multi-laser beam is reduced to 1/10 in the telephoto lens, and then further reduced to 1/10 in the objective lens (for example, microscope objective lens, LSI stepper lens, etc.).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平3
−15018号の装置では、第1に、ビームスプリッタ
で分割されたレーザビームのそれぞれについて電気的な
シャッタでON/OFFするための手段が必要となるた
め、装置が大型化してしまうといった問題がある。第2
に、2段の縮小光学系が用いられており、特に最初の縮
小光学系としては大口径の高価な縮小投影レンズが必要
であるため、装置が高価で大型化してしまうといった問
題がある。
However, the above-mentioned Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
In the device of No. -15018, first, there is a problem that the device becomes large in size because means for turning on / off each of the laser beams divided by the beam splitter by an electric shutter is required. . Second
In addition, since a two-stage reduction optical system is used, and in particular, an expensive reduction projection lens having a large aperture is required as the first reduction optical system, there is a problem that the apparatus becomes expensive and becomes large in size.

【0007】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであって、低コスト化及び小型化が図られた半導体レ
ーザアレイ光源を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor laser array light source whose cost and size are reduced.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の半導体レーザアレイ光源は、1次元又は2次元
のアレイ状に配された複数個の半導体レーザと,該半導
体レーザと対応して各々の半導体レーザから発せられる
レーザビームを収束させる収束光学系とを備え、前記半
導体レーザと収束光学系の各組が、各々のレーザビーム
スポットが所定位置に所定間隔で集合してレーザビーム
パターン像を形成するように球面状又は円弧状に配され
ていることを特徴としている。
To achieve the above object, a semiconductor laser array light source of the present invention includes a plurality of semiconductor lasers arranged in a one-dimensional or two-dimensional array, and the semiconductor lasers corresponding to the semiconductor lasers. Converging optical system for converging the laser beam emitted from each semiconductor laser, each set of the semiconductor laser and the converging optical system, each laser beam spot gather at a predetermined position at a predetermined interval laser beam pattern image Is formed so as to form a spherical surface or an arc shape.

【0009】更に、前記レーザビームパターン像を縮小
して所定位置において再結像させる縮小光学系を備えた
構成としてもよい。
Further, a reduction optical system for reducing the laser beam pattern image and re-imaging it at a predetermined position may be provided.

【0010】[0010]

【作用】このような構成によると、各半導体レーザから
発せられるレーザビームは、収束光学系で収束されるた
め、いずれのレーザビームスポットの径も均等な特性を
もった状態で小さくなる。一方、レーザビームスポット
は、所定位置に所定間隔で集合してレーザビームパター
ンを形成する。従って、半導体レーザ及び収束光学系の
アレイのパターンよりも小さくレーザビームパターン像
が形成される。レーザビームパターンは、更に縮小光学
系によって小さく再結像されることにより、微細な露光
が可能となる。
With this structure, the laser beams emitted from the respective semiconductor lasers are converged by the converging optical system, so that the diameters of all the laser beam spots become small with uniform characteristics. On the other hand, the laser beam spots gather at predetermined positions at predetermined intervals to form a laser beam pattern. Therefore, a laser beam pattern image smaller than the pattern of the array of the semiconductor laser and the focusing optical system is formed. The laser beam pattern is re-imaged in a small size by the reduction optical system, so that fine exposure becomes possible.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明の第1実施例の外観を示す概略斜視
図である。図2はその要部構成を示す断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic perspective view showing the outer appearance of the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing the configuration of the main part thereof.

【0012】本実施例の半導体レーザアレイ光源は、4
×4の2次元アレイ状に配された複数個の半導体レーザ
10と,半導体レーザ10と対応して各々の半導体レー
ザ10から発せられるレーザビームを収束させる収束光
学系20とを備え、半導体レーザ10と収束光学系20
の各組が、各々のレーザビームスポットが所定位置(仮
想像面40上)に所定間隔で集合してレーザビームパタ
ーン像45を形成するように球面状に配された構成とな
っている。
The semiconductor laser array light source of this embodiment has four
The semiconductor laser 10 is provided with a plurality of semiconductor lasers 10 arranged in a two-dimensional array of 4 × 4, and a focusing optical system 20 that focuses the laser beams emitted from the respective semiconductor lasers 10 corresponding to the semiconductor lasers 10. And converging optical system 20
Each of the sets is arranged in a spherical shape so that the laser beam spots gather at a predetermined position (on the virtual image plane 40) at a predetermined interval to form a laser beam pattern image 45.

【0013】更に、レーザビームパターン像45を縮小
して所定位置において再結像させる縮小光学系を備えた
構成としてもよい。図3は、本実施例に適用可能な縮小
光学系50のレンズ構成及び光路を示す図である。縮小
光学系50としては、例えば、顕微鏡用対物レンズ,L
SIステッパー用レンズ等(特開昭49−106840
号等)を用いることができるが、本実施例で用いられて
いる縮小光学系50の性能は、倍率が1/20,レンズ枚数
が7枚,開口数(NA)が0.40,焦点深度(λ/2(NA)2)
が±2.1μm,解像度(λ/2NA)が0.8μm,使用可能な
焦点深度が±7μmとなっている。
Further, a reduction optical system for reducing the laser beam pattern image 45 and re-imaging it at a predetermined position may be provided. FIG. 3 is a diagram showing a lens configuration and an optical path of the reduction optical system 50 applicable to this embodiment. As the reduction optical system 50, for example, a microscope objective lens, L
Lens for SI stepper, etc. (JP-A-49-106840)
No.) can be used, but the performance of the reduction optical system 50 used in this embodiment is that the magnification is 1/20, the number of lenses is 7, the numerical aperture (NA) is 0.40, and the depth of focus (λ / 2 (NA) 2 )
Is ± 2.1 μm, resolution (λ / 2NA) is 0.8 μm, and usable depth of focus is ± 7 μm.

【0014】半導体レーザ10は、図2に示すように、
キャンでハーメチックシールされた一般的なパッケージ
タイプの半導体レーザである。半導体レーザ10の内部
には、1本のレーザビーム(波長:780.0nm)を発
する1個のレーザチップ(図示せず)が設けられており、
レーザチップのチップ接合面から所定位置に向けてレー
ザビームが発せられる。また、半導体レーザ10の内部
には、モニタ用フォトダイオードが設けられており、フ
ォトダイオードによってモニタすることにより各半導体
レーザ10のレーザ発光の強さが制御される。
The semiconductor laser 10 is, as shown in FIG.
It is a general package type semiconductor laser that is hermetically sealed with a can. Inside the semiconductor laser 10, one laser chip (not shown) that emits one laser beam (wavelength: 780.0 nm) is provided.
A laser beam is emitted from the chip bonding surface of the laser chip toward a predetermined position. A monitoring photodiode is provided inside the semiconductor laser 10, and the intensity of laser emission of each semiconductor laser 10 is controlled by monitoring with the photodiode.

【0015】図2に示す収束光学系(焦点距離f=4m
m,開口数NA=0.35)20は、半導体レーザ10から
発せられたレーザビームを、図1に示すように収束させ
ることによって、仮想像面40上にレーザビームスポッ
ト47を所定の大きさ・間隔で形成する。その結果、仮
想像面40上には図1に示すようなレーザビームパター
ン像45が形成されることになる。
The converging optical system shown in FIG. 2 (focal length f = 4 m
m, numerical aperture NA = 0.35) 20 converges the laser beam emitted from the semiconductor laser 10 as shown in FIG. 1 to form a laser beam spot 47 on the virtual image plane 40 with a predetermined size and interval. To form. As a result, a laser beam pattern image 45 as shown in FIG. 1 is formed on the virtual image plane 40.

【0016】上記のように、半導体レーザ10と収束光
学系20との各組を球面状に配するために、本実施例で
は、固定部材として球面の一部を成す椀状の固定部材3
3が用いられている。図2に示すように固定部材33に
貫通孔36を4×4の2次元アレイ状に設け、上記各組
が固定部材33に挿入固定されると、上記球面状に配さ
れるようになっている。尚、全ての貫通孔36は、固定
部材33の球面の中心点P0に向かって延びている。
As described above, in order to arrange each set of the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in a spherical shape, in this embodiment, a bowl-shaped fixing member 3 forming a part of a spherical surface is used as a fixing member.
3 is used. As shown in FIG. 2, the through holes 36 are provided in the fixing member 33 in a 4 × 4 two-dimensional array, and when each set is inserted and fixed in the fixing member 33, the through holes 36 are arranged in the spherical shape. There is. Note that all the through holes 36 extend toward the center point P 0 of the spherical surface of the fixing member 33.

【0017】よって、仮想像面40上に形成されるレー
ザビームパターン像45は、半導体レーザ10等の各組
と同様の配列となり、いずれのレーザビームスポット4
7の径も均等な特性を持った状態で小さくなる。また、
本実施例では仮想像面40は平面であるが、必要に応
じ、後記鏡枠25の移動(矢印m2)により各レーザビー
ムスポット47の結像位置を調整することによって、仮
想像面が曲面を成すようにしてもよい。尚、図1におい
ては光軸AXは、半導体レーザ10等から成る1組につ
いて示しているが、全ての組の光軸AXが、固定部材3
3の球面の中心点(即ち、半導体レーザ10等の各組の
球面状配列の中心点)P0を通過するようになっている。
本実施例では、仮想像面40が中心点P0よりも縮小光
学系20側に位置しているが、中心点P0が縮小光学系
20と仮想像面40との間に位置し、光ビームクロスの
状態となっていてもよい。
Therefore, the laser beam pattern image 45 formed on the virtual image plane 40 has the same arrangement as that of each set of the semiconductor lasers 10 and the like, and any laser beam spot 4
The diameter of 7 also becomes smaller with uniform characteristics. Also,
In the present embodiment, the virtual image plane 40 is a flat surface, but if necessary, the image formation position of each laser beam spot 47 is adjusted by moving the lens frame 25 (arrow m2), which will be described later. It may be done. In FIG. 1, the optical axis AX is shown for one set including the semiconductor laser 10 and the like, but the optical axis AX of all the sets is fixed to the fixing member 3.
The center point of the spherical surface of 3 (that is, the center point of the spherical array of each set of the semiconductor laser 10 and the like) P 0 is passed.
In this embodiment, the virtual image plane 40 is located in the reduction optical system 20 side from the center point P 0, located between the center point P 0 is the reduction optical system 20 and the virtual image plane 40, the light It may be in a beam cross state.

【0018】図2に示すように、固定部材33に形成さ
れている穴36の凸面側には半導体レーザ10が先端部
のみ挿入されており、穴36の凹面側には鏡枠25が挿
入されている。穴36は、半導体レーザ10と鏡枠25
とがそれぞれ挿入されたときに、光軸AX1,AX2が
調整されうるように穴の形状,大きさ等が設定されてお
り、それぞれ必要とされるレーザビームの配列の形に形
成されている。尚、穴36の代わりに溝を形成したり、
また1列だけでなく面状に広がるように多数列、アレイ
状に形成してもよい。
As shown in FIG. 2, the semiconductor laser 10 is inserted only into the convex side of the hole 36 formed in the fixing member 33, and the lens frame 25 is inserted into the concave side of the hole 36. ing. The hole 36 has the semiconductor laser 10 and the lens frame 25.
The shapes and sizes of the holes are set so that the optical axes AX1 and AX2 can be adjusted when the and are respectively inserted, and the holes are formed in the required arrangement of the laser beams. A groove may be formed instead of the hole 36,
Further, not only one row but also a plurality of rows may be formed so as to spread in a plane.

【0019】先に述べたようにレーザビームスポット4
7は、図1に示す仮想像面40上に形成されるが、必ず
しも各レーザビームスポットが同一平面上に存在する必
要はない。例えば、回転する感光体ドラムの表面やスキ
ャニング用のXYテーブル上に固定された感光体フィル
ムの表面が、仮想像面60上に位置するようにすればよ
い。また、レーザビームパターン像45が図3に示す縮
小光学系50で再結像される場合には、仮想像面60上
で適切にレーザビームパターン像45が形成されるよう
にすればよく、例えば縮小光学系50が有する像面湾曲
等の諸収差を考慮した位置に各レーザビームスポット4
7を形成するのが好ましい。
As described above, the laser beam spot 4
7 is formed on the virtual image plane 40 shown in FIG. 1, but each laser beam spot does not necessarily have to be on the same plane. For example, the surface of the rotating photosensitive drum or the surface of the photosensitive film fixed on the XY table for scanning may be positioned on the virtual image plane 60. When the laser beam pattern image 45 is re-imaged by the reduction optical system 50 shown in FIG. 3, the laser beam pattern image 45 may be appropriately formed on the virtual image plane 60. Each laser beam spot 4 is placed at a position in consideration of various aberrations of the reduction optical system 50 such as field curvature.
Preferably, 7 is formed.

【0020】ところで、本実施例から出射される各レー
ザビームBの発光の強さをフォトダイオードで制御する
だけでなく、結像位置,レーザビームの方向,間隔(レ
ーザビーム位置)についても整列させるための調整が必
要である。これらの整列のための半導体レーザ10及び
収束光学系20の位置調整について説明する。
By the way, not only the emission intensity of each laser beam B emitted from this embodiment is controlled by the photodiode, but also the image forming position, the direction of the laser beam, and the interval (laser beam position) are aligned. Need to be adjusted. The position adjustment of the semiconductor laser 10 and the focusing optical system 20 for aligning these will be described.

【0021】図2に示すように、半導体レーザ10のZ
方向の位置は一定であるため、結像位置の調整について
は、鏡枠(内部に収束光学系20が固定されている)25
を挿通した状態で、固定部材33の外側から鏡枠25を
押したり引いたりして(矢印m2)、収束光学系20のZ
方向に沿った位置を調整することにより行う。また、レ
ーザビームの方向及び間隔の調整については、鏡枠25
はXY方向の位置が一定であるため、半導体レーザ10
の固定部材33の凸面に沿った球面状の移動(矢印m1)
により行うことができる。
As shown in FIG. 2, the Z of the semiconductor laser 10 is
Since the position in the direction is constant, the lens frame (with the converging optical system 20 fixed inside) 25 is used for adjusting the imaging position.
Z of the converging optical system 20 by pushing or pulling the lens frame 25 from the outside of the fixing member 33 (arrow m2) in a state where the focusing optical system 20 is inserted.
This is done by adjusting the position along the direction. In addition, regarding the adjustment of the direction and the interval of the laser beam, the lens frame 25
Has a constant position in the XY directions, so that the semiconductor laser 10
Spherical movement along the convex surface of the fixing member 33 (arrow m1)
Can be done by.

【0022】上記結像位置,レーザビームの方向及び間
隔の調整は、仮想像面40上におけるレーザビームスポ
ット47を拡大して見ながら各半導体レーザ10及び鏡
枠25を手動で移動させることによって行ってもよい
し、適当な検知手段によって自動的に行ってもよい。例
えば、固定部材33の凹面側から鏡枠25を把持する光
学系用治具を用い、その光学系用治具をZ方向(光軸A
X2方向)に沿って移動させる(図2中の矢印m2)こと
によって、収束光学系20の位置調整を行うことができ
る。また、固定部材33の凸面側から半導体レーザ10
を把持する半導体レーザ用治具を用い、その半導体レー
ザ用治具をXY方向に沿って移動させる(図2中の矢印
m1)ことによって、半導体レーザ10の位置調整を行
うことができる。
The adjustment of the image forming position, the direction of the laser beam and the interval is carried out by manually moving each semiconductor laser 10 and the lens frame 25 while enlarging and looking at the laser beam spot 47 on the virtual image plane 40. Alternatively, it may be automatically performed by an appropriate detection means. For example, an optical system jig that holds the lens frame 25 from the concave side of the fixing member 33 is used, and the optical system jig is used in the Z direction (optical axis A
By moving along the X2 direction) (arrow m2 in FIG. 2), the position of the converging optical system 20 can be adjusted. In addition, the semiconductor laser 10 from the convex side of the fixing member 33.
The position of the semiconductor laser 10 can be adjusted by using a semiconductor laser jig that holds the semiconductor laser 10 and moving the semiconductor laser jig along the XY directions (arrow m1 in FIG. 2).

【0023】上記位置調整を自動的に行う場合には、光
学系用治具を移動させる光学系駆動手段と,光学系駆動
手段の駆動を仮想像面40上でのレーザビームスポット
47の光量値等を検知する検知手段の出力結果に基づい
て制御する制御手段とを用いればよい。尚、半導体レー
ザ10及び鏡枠25の移動量については、上記検知手段
の出力と予め設定されている基準値との比較結果に基づ
いて決定することができる。
When the above position adjustment is automatically performed, the optical system driving means for moving the optical system jig and the driving of the optical system driving means are driven by the light amount value of the laser beam spot 47 on the virtual image plane 40. It is sufficient to use a control unit that controls based on the output result of the detection unit that detects the above. The amount of movement of the semiconductor laser 10 and the lens frame 25 can be determined based on the result of comparison between the output of the detection means and a preset reference value.

【0024】固定部材33への半導体レーザ10及び鏡
枠25の固定は、YAGレーザによる溶接で行うことが
できる。例えば、YAGレーザにより半導体レーザ10
の当て付いた面の2箇所で溶接し、固定することができ
る。このYAGレーザによる溶接においては、固定部材
33,鏡枠25,半導体レーザ10が同じ材料(例え
ば、鉄)で構成されていると容易、かつ、安定に溶接を
行うことができるので好ましい。
The semiconductor laser 10 and the lens frame 25 can be fixed to the fixing member 33 by welding with a YAG laser. For example, a semiconductor laser 10 using a YAG laser
It can be fixed by welding at two points on the surface where it is pressed. In this welding with the YAG laser, it is preferable that the fixing member 33, the lens frame 25, and the semiconductor laser 10 are made of the same material (for example, iron) because the welding can be performed easily and stably.

【0025】上記のようにして調整された本実施例につ
いて、半導体レーザ10をONすると、収束光学系20
は、半導体レーザ10及び収束光学系20より成る2次
元アレイパターンを200dot/inchの密度で4×4の2次
元アレイ状のレーザビームパターン像(レーザビームス
ポットの直径:60〜80μm,スポット間隔:120μm)4
5を形成する。
When the semiconductor laser 10 is turned on in the present embodiment adjusted as described above, the converging optical system 20 is turned on.
Is a 4 × 4 two-dimensional array-shaped laser beam pattern image (laser beam spot diameter: 60 to 80 μm, spot spacing: 200 nm / inch) formed by a semiconductor laser 10 and a focusing optical system 20. 120 μm) 4
5 is formed.

【0026】ところで、一般的なレーザビームプリンタ
の解像度は、400dot/inchである。オフセット印刷の原
版作成に用いられる製版用カラースキャナ等に用いる場
合には、4000dot/inch程度の密度に対応しうるように解
像度を上げる必要があるが、収束光学系20のみでは約
770dot/inchまでしか縮小することができない。そこ
で、本実施例では4000dot/inchのパターンを作成するた
めに200dot/inchのパターンを更に縮小するため、前記
縮小光学系50を備えた構成とするのが好ましい。
By the way, the resolution of a general laser beam printer is 400 dots / inch. When used in a plate-making color scanner or the like used for making an original plate for offset printing, it is necessary to increase the resolution so as to correspond to a density of about 4000 dots / inch, but only with the converging optical system 20
It can only be reduced to 770 dots / inch. Therefore, in the present embodiment, in order to further reduce the 200 dot / inch pattern in order to create the 4000 dot / inch pattern, it is preferable that the reduction optical system 50 is provided.

【0027】つまり、図3に示す縮小光学系50によっ
て、レーザビームパターン像45を更に1/20に縮小し、
4000dot/inchの密度でレーザビームパターン像(レーザ
ビームスポットの直径:3〜4μm,スポット間隔:6μ
m)を感光体表面上に形成することができるのである。
尚、光源として要求されるドットサイズに応じて、倍率
の異なる収束光学系や縮小光学系を用いてもよく、ま
た、縮小光学系50を用いずに収束光学系20のみ用い
て200dot/inchのサイズのレーザビームパターン像45
を形成する構成としてもよい。また、スポット数につい
ても必要に応じて半導体レーザ10等の設置数を変えれ
ばよいが、10×10のパターンで4μmのスポットが6μ
m間隔で並ぶようにするのが実使用上一般的である。
That is, the laser beam pattern image 45 is further reduced to 1/20 by the reduction optical system 50 shown in FIG.
Laser beam pattern image with a density of 4000dot / inch (laser beam spot diameter: 3-4μm, spot interval: 6μ
m) can be formed on the surface of the photoreceptor.
Depending on the dot size required as a light source, a converging optical system or a reducing optical system having different magnifications may be used, and the converging optical system 20 alone may be used without using the reducing optical system 50 to obtain 200 dots / inch. Size laser beam pattern image 45
May be formed. Regarding the number of spots, the number of semiconductor lasers 10 or the like may be changed as necessary, but a spot of 4 μm is 6 μm in a 10 × 10 pattern.
It is common in practice to arrange them at m intervals.

【0028】本実施例をレーザビームプリンタや製版用
カラースキャナ等に適用した場合には、図1に示すレー
ザビームパターン像45(縮小光学系50を用いた場合
には、その1/20の縮小像)を、例えば感光体ドラムの表
面に形成することができる。但し、図1に示すように1
6個全てのレーザビームスポット47が同時に形成され
る必要はなく、画像情報に応じた各半導体レーザ10の
ON/OFF動作を行うことで、複数本のレーザビーム
を用いたマルチビームスキャニングにより、処理の高速
化を図ることが可能となるのである。例えば、感光体ド
ラム表面に対するレーザビームのスキャン速度を1本の
レーザビームでスキャンする従来の方法によるスキャン
速度の約16倍にすることが可能である。また、本実施
例の規模を必要に応じて拡大すれば、必要な高速化率を
達成することもできる。
When the present embodiment is applied to a laser beam printer, a color scanner for plate making, etc., the laser beam pattern image 45 shown in FIG. Image) can be formed on the surface of the photosensitive drum, for example. However, as shown in FIG.
It is not necessary that all six laser beam spots 47 be formed at the same time. By performing ON / OFF operation of each semiconductor laser 10 according to image information, processing is performed by multi-beam scanning using a plurality of laser beams. It is possible to increase the speed. For example, the scanning speed of the laser beam on the surface of the photosensitive drum can be set to about 16 times the scanning speed by the conventional method of scanning with one laser beam. Further, if the scale of this embodiment is enlarged as necessary, the required speed-up rate can be achieved.

【0029】半導体レーザ10はパルス駆動を行うため
ON/OFFの動作をそれぞれ独立に繰り返す。従っ
て、ONする半導体レーザ10の発光の強さを積極的に
変化させることによって、階調性を変化させることも可
能である。また、前述した各調整により整列したレーザ
ビームの特性が揃っているので、縮小光学系50に対し
てユニットとしての互換性をもたせることもできる。ま
た、半導体レーザ10,収束光学系20及び固定部材3
3として、いずれも同一性能・同一構造のものを用いる
ことができるので、コストが安くなり、位置調整や交換
修理等も簡単である。また、本実施例ごとの交換も容易
である。
Since the semiconductor laser 10 performs pulse driving, ON / OFF operations are independently repeated. Therefore, it is possible to change the gradation by positively changing the emission intensity of the semiconductor laser 10 that is turned on. Further, since the characteristics of the laser beams aligned by the above-described adjustments are uniform, it is possible to provide the reduction optical system 50 with compatibility as a unit. Further, the semiconductor laser 10, the focusing optical system 20, and the fixing member 3
As No. 3, it is possible to use those having the same performance and the same structure, so that the cost is low, and the position adjustment, replacement repair, etc. are easy. Also, the replacement for each embodiment is easy.

【0030】ところで、先に説明した特開平3−150
18号の装置よりも低コスト化及びコンパクト化を図り
うる構成として、本発明者は、次のような半導体レーザ
アレイ光源を特願平4−169801号で提案した。そ
の一具体例としては、アレイ状に配された複数個の半導
体レーザと,その半導体レーザと対応して各々の半導体
レーザから発せられるレーザビームを収束させる収束光
学系とを備え、前記半導体レーザと収束光学系の各組
が、各々のレーザビームスポットが所定位置に所定間隔
で集合してレーザビームパターン像を形成するように調
整されている半導体レーザアレイ光源において、前記収
束光学系の光軸が互いに平行に位置しており、前記半導
体レーザのアレイにおいて中心部分に位置する半導体レ
ーザよりも外側に位置する半導体レーザほど、前記収束
光学系の光軸から半導体レーザの発光中心が遠ざかるよ
うに配されている構成を挙げることができる。そこで、
このような半導体レーザの光軸と収束光学系の光軸との
平行偏心を伴う構成によって形成されるビーム特性につ
いて、以下のようにして検討を加えた。
By the way, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 3-150.
The present inventor has proposed the following semiconductor laser array light source in Japanese Patent Application No. 4-169801 as a structure capable of achieving cost reduction and compactness as compared with the device of No. 18. As one specific example thereof, a plurality of semiconductor lasers arranged in an array and a converging optical system for converging a laser beam emitted from each semiconductor laser corresponding to the semiconductor lasers are provided, and the semiconductor lasers In each of the sets of converging optical systems, in which the respective laser beam spots are adjusted to gather at predetermined positions at predetermined intervals to form a laser beam pattern image, the optical axis of the converging optical system is The semiconductor lasers located in parallel to each other and located further outside the semiconductor laser located in the central portion of the array of semiconductor lasers are arranged so that the emission centers of the semiconductor lasers are farther from the optical axis of the converging optical system. Can be mentioned. Therefore,
The beam characteristics formed by such a configuration with parallel eccentricity between the optical axis of the semiconductor laser and the optical axis of the converging optical system were examined as follows.

【0031】上記偏心を伴う構成における半導体レーザ
10と縮小光学系20との1組について、その配置及び
光路を図9に示す。半導体レーザ10の光軸と縮小光学
系20の光軸との偏心量dは6mmである。半導体レー
ザ10と縮小光学系20との間隔(半導体レーザ10の
発光点位置と縮小光学系20の前側面との軸上間隔)
は、4mmである。縮小光学系20と感光体表面60と
の間隔(縮小光学系20の後側面と感光体表面60との
軸上面間隔)は、80mmである。この構成によると、
構造が簡単で、スポット径が中程度の細密度となるレー
ザビームスポットを形成しうるといった長所がある。
FIG. 9 shows the arrangement and the optical path of one set of the semiconductor laser 10 and the reduction optical system 20 in the configuration with the above eccentricity. The eccentricity d between the optical axis of the semiconductor laser 10 and the optical axis of the reduction optical system 20 is 6 mm. Distance between the semiconductor laser 10 and the reduction optical system 20 (axial distance between the light emitting point of the semiconductor laser 10 and the front side surface of the reduction optical system 20)
Is 4 mm. The distance between the reduction optical system 20 and the photoconductor surface 60 (the axial upper surface distance between the rear surface of the reduction optical system 20 and the photoconductor surface 60) is 80 mm. According to this configuration,
It has the advantages that the structure is simple and a laser beam spot with a medium density of spot density can be formed.

【0032】しかし、半導体レーザ10のアレイにおい
て中心部分に位置する半導体レーザ10よりも外側に位
置する半導体レーザ10ほど、上記偏心量dが大きくな
っていると、収束光学系20のアレイにおいて中心部分
に位置する収束光学系20よりも外側に位置する収束光
学系20ほど、収束光学系20に入射するレーザビーム
の光量も低下することになる。それに伴って、感光体表
面60上に形成されるビームスポットの明るさについて
も、レーザビームパターン像の中心から離れたビームス
ポットほど、暗いものとなってしまう。
However, if the semiconductor laser 10 located outside the semiconductor laser 10 located in the central portion of the array of the semiconductor lasers 10 has a larger decentering amount d, the central portion of the array of the converging optical system 20 is larger. The light amount of the laser beam incident on the converging optical system 20 is reduced as the converging optical system 20 is located outside the converging optical system 20. Accordingly, the brightness of the beam spot formed on the surface 60 of the photoconductor also becomes darker as the beam spot is farther from the center of the laser beam pattern image.

【0033】また、半導体レーザ10のアレイにおいて
中心部分に位置する半導体レーザ10よりも外側に位置
する半導体レーザ10ほど、上記偏心量dが大きくなっ
ているため、収束光学系20のアレイにおいて中心部分
に位置する収束光学系20よりも外側に位置する収束光
学系20ほど、感光体表面60上に形成されるレーザビ
ームスポットの楕円率(楕円の短軸と長軸との比率)が大
きくなってしまう。その結果、大きなアレイ構造を構成
することは困難となる。それは、大きな傾斜角度で上記
偏心を伴った構成とする必要があるからである。
Further, since the semiconductor laser 10 located outside the semiconductor laser 10 located in the central portion of the array of the semiconductor lasers 10 has the larger decentering amount d, the central portion of the array of the converging optical system 20 is larger. The ellipticity (ratio of the minor axis to the major axis of the ellipse) of the laser beam spot formed on the photoconductor surface 60 becomes larger as the converging optical system 20 located outside the converging optical system 20 located at. I will end up. As a result, it is difficult to construct a large array structure. This is because it is necessary to have a configuration with the above eccentricity at a large inclination angle.

【0034】ここで、実際に形成されるレーザビームス
ポットの形状を比較検討する。図5に、本実施例におい
て1個の半導体レーザによって形成される1本のレーザ
ビームスポット(図1)47の結像位置におけるX−Y平
面上での強度分布を測定した結果を立体的にグラフで示
す。このレーザビームスポット47は、感光体等の表面
が位置する仮想像面40に対して主光線が直交するレー
ザビームによって形成される。よって、傾斜角度(仮想
像面40に対する垂線とレーザビームの主光線とが成す
角度であり、以下、「θ」で表す)は0°である。
Here, the shapes of the laser beam spots actually formed will be compared and examined. FIG. 5 shows three-dimensionally the result of measuring the intensity distribution on the XY plane at the image forming position of one laser beam spot (FIG. 1) 47 formed by one semiconductor laser in this embodiment. Shown in a graph. The laser beam spot 47 is formed by a laser beam whose principal ray is orthogonal to the virtual image plane 40 on which the surface of the photoconductor or the like is located. Therefore, the tilt angle (an angle formed by the perpendicular to the virtual image plane 40 and the principal ray of the laser beam, and hereinafter represented by “θ”) is 0 °.

【0035】また、図5におけるレーザビーム強度(以
下、「I」で表す)のX−Y平面上でのI=20,50,80
%位置の強度分布(θ=0°)を図6に示す。I=20%で
のスポット径は47μmであり、I=50%でのスポット径
は32μmである。θ=15,30°(θ=0°の半導体レー
ザ10等との間隔は、それぞれ21mm,42mmである)
での強度分布についても、図6と同様に図7及び図8に
示す。また、前記偏心を伴った構成(d=6m)について
も、図6と同様に図10に示す。
Further, I = 20, 50, 80 on the XY plane of the laser beam intensity (hereinafter referred to as "I") in FIG.
The intensity distribution (θ = 0 °) at the% position is shown in FIG. The spot diameter at I = 20% is 47 μm, and the spot diameter at I = 50% is 32 μm. θ = 15, 30 ° (The distance between the semiconductor laser 10 and the like at θ = 0 ° is 21 mm and 42 mm, respectively)
The intensity distribution at is also shown in FIGS. 7 and 8 as in FIG. The configuration with eccentricity (d = 6 m) is also shown in FIG. 10 as in FIG.

【0036】図5及び図6に示す本実施例の要部構成
(θ=0°)では、形成されるレーザビームスポット径
(光強度が50%の位置におけるスポット径をいう)が32
μmの真円状となった。これに対し、図9に示す構成で
は、θ=4.4°となり、感光体表面60上に形成される
レーザビームスポットの形状は、短軸が32μmで長軸
が38μmの楕円となった。また、図7に示す本実施例
の要部構成では(θ=15°)、形成されるレーザビームス
ポットの形状は、短軸が32μmで長軸が34μmの楕
円となり、図8に示す本実施例の要部構成では(θ=30
°)、形成されるレーザビームスポットの形状は、短軸
が32μmで長軸が37μmの楕円となった。従って、
本実施例によれば、ビーム本数の多い1次元又は2次元
アレイにおいても、傾斜角度θの大きい周辺部のレーザ
ビームスポット47の楕円率を下げ、スポット形状を真
円状に近づけることができるのである。よって、スポッ
ト数の多い半導体レーザアレイ光源の形成が可能であ
る。
Configuration of essential parts of this embodiment shown in FIGS. 5 and 6.
At (θ = 0 °), the diameter of the formed laser beam spot
(The spot diameter at the position where the light intensity is 50%) is 32.
It became a perfect circle of μm. On the other hand, in the configuration shown in FIG. 9, θ = 4.4 °, and the shape of the laser beam spot formed on the surface 60 of the photoconductor was an ellipse having a short axis of 32 μm and a long axis of 38 μm. Further, in the configuration of the main part of this embodiment shown in FIG. 7 (θ = 15 °), the shape of the laser beam spot formed is an ellipse with the short axis of 32 μm and the long axis of 34 μm. In the configuration of the main part of the example (θ = 30
), The shape of the laser beam spot formed was an ellipse with a short axis of 32 μm and a long axis of 37 μm. Therefore,
According to the present embodiment, even in a one-dimensional or two-dimensional array having a large number of beams, the ellipticity of the laser beam spot 47 in the peripheral portion having a large inclination angle θ can be reduced and the spot shape can be made closer to a perfect circle. is there. Therefore, it is possible to form a semiconductor laser array light source having a large number of spots.

【0037】図4は、本発明の第2実施例の外観を示す
概略斜視図である。同図中、第1実施例と同一の部分に
は、同一の符号を付してある。第1実施例において球面
状の固定部材33を用い、2次元アレイ状に半導体レー
ザ10及び収束光学系20を配した構成とする代わり
に、本実施例では円弧状の固定部材53を用い、円弧
状、かつ、1次元アレイ状に半導体レーザ10及び収束
光学系20を配した構成となっているほかは、第1実施
例と同様の構成となっている。仮想像面40上に形成さ
れるレーザビームパターン像55は、直線状配列とな
り、各組の光軸AXは全て固定部材53の円弧の中心点
(即ち、半導体レーザ10等の各組の円弧状配列の中心
点)P0を通過する。前記第1,第2実施例から判るよう
に、本発明によると、面状,線状等の種々のアレイ状レ
ーザビームパターンを形成することができるのである。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing the appearance of the second embodiment of the present invention. In the figure, the same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals. Instead of using the spherical fixing member 33 in the first embodiment and arranging the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in a two-dimensional array, in this embodiment, an arc-shaped fixing member 53 is used. The structure is the same as that of the first embodiment except that the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 are arranged in an arc shape and a one-dimensional array shape. The laser beam pattern image 55 formed on the virtual image plane 40 has a linear array, and the optical axes AX of each set are all center points of the arc of the fixed member 53.
(That is, the center point of the arcuate array of each set such as the semiconductor laser 10) P 0 is passed. As can be seen from the first and second embodiments, according to the present invention, it is possible to form various array-shaped laser beam patterns such as a planar shape and a linear shape.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明した通り本発明によれば、1次
元又は2次元のアレイ状に配された複数個の半導体レー
ザと,その半導体レーザと対応して各々の半導体レーザ
から発せられるレーザビームを収束させる収束光学系と
を備え、前記半導体レーザと収束光学系の各組が、各々
のレーザビームスポットが所定位置に所定間隔で集合し
てレーザビームパターン像を形成するように球面状又は
円弧状に配された構成となっているので、従来必要とさ
れていた電気的なシャッタで分割されたレーザビームを
ON/OFFするための手段や大口径の高価な縮小投影
レンズが不要となり、その結果、低コスト化及び小型化
が図られた半導体レーザアレイ光源を実現することがで
きる。しかも、各々のレーザビームスポットが所定位置
に所定間隔で均等な特性をもった状態で集合してレーザ
ビームパターン像を形成するように調整することが可能
となり、その結果、容易に製造しうる簡単な構成で半導
体レーザアレイ光源を実現することができる。
As described above, according to the present invention, a plurality of semiconductor lasers arranged in a one-dimensional or two-dimensional array, and laser beams emitted from the respective semiconductor lasers corresponding to the semiconductor lasers. And a focusing optical system for focusing each of the semiconductor laser and the focusing optical system, wherein each of the semiconductor laser and the focusing optical system is spherical or circular so that each laser beam spot gathers at a predetermined position at a predetermined interval to form a laser beam pattern image. Since they are arranged in an arc shape, a means for turning on / off a laser beam divided by an electric shutter and a large-scale expensive reduction projection lens which are conventionally required are unnecessary. As a result, it is possible to realize a semiconductor laser array light source whose cost and size are reduced. Moreover, it is possible to adjust so that each laser beam spot is gathered at a predetermined position at a predetermined interval and has uniform characteristics to form a laser beam pattern image, and as a result, easy manufacture is possible. A semiconductor laser array light source can be realized with such a structure.

【0039】更に、前記レーザビームパターン像を縮小
して所定位置において再結像させる縮小光学系を備える
ことにより、高い解像度を有するレーザビームパターン
像の形成が可能となり、製版用カラースキャナ等の高い
解像度が要求される用途にも適用可能な半導体レーザア
レイ光源を実現することができる。
Further, by providing a reduction optical system which reduces the laser beam pattern image and re-images it at a predetermined position, it becomes possible to form a laser beam pattern image having a high resolution, which is high in a plate-making color scanner or the like. It is possible to realize a semiconductor laser array light source that can be applied to applications requiring resolution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の構成を概略的に示す斜視
図。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施例の要部断面図。FIG. 2 is a sectional view of a main portion of the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施例に用いられる縮小光学系5
0のレンズ構成及び光路を示す図。
FIG. 3 is a reduction optical system 5 used in the first embodiment of the present invention.
The figure which shows the lens structure of 0, and an optical path.

【図4】本発明の第2実施例の構成を概略的に示す斜視
図。
FIG. 4 is a perspective view schematically showing the configuration of a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施例において、一組の半導体レ
ーザ10及び収束光学系20によって形成されるレーザ
ビームスポットの結像位置における強度分布(θ=0°)
を立体的に示すグラフ。
FIG. 5 is an intensity distribution (θ = 0 °) at an image forming position of a laser beam spot formed by a set of the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in the first embodiment of the present invention.
A three-dimensional graph.

【図6】本発明の第1実施例において、一組の半導体レ
ーザ10及び収束光学系20によって形成されるレーザ
ビームスポットの結像位置における強度分布(θ=0
°)を示すグラフ。
FIG. 6 shows the intensity distribution (θ = 0) at the image forming position of the laser beam spot formed by the set of the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in the first embodiment of the present invention.
(°) graph.

【図7】本発明の第1実施例において、一組の半導体レ
ーザ10及び収束光学系20によって形成されるレーザ
ビームスポットの結像位置における強度分布(θ=15
°)を示すグラフ。
FIG. 7 shows the intensity distribution (θ = 15) at the imaging position of the laser beam spot formed by the pair of semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in the first embodiment of the present invention.
(°) graph.

【図8】本発明の第1実施例において、一組の半導体レ
ーザ10及び収束光学系20によって形成されるレーザ
ビームスポットの結像位置における強度分布(θ=30
°)を示すグラフ。
FIG. 8 is an intensity distribution (θ = 30) at an image forming position of a laser beam spot formed by a set of the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in the first embodiment of the present invention.
(°) graph.

【図9】第1実施例の参考例に用いられている一組の半
導体レーザ10及び収束光学系20から感光体表面60
にかけての光路を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing a set of the semiconductor laser 10 and the focusing optical system 20 used in the reference example of the first embodiment to the surface 60 of the photosensitive member.
The figure which shows the optical path to.

【図10】第1実施例の参考例において、一組の半導体
レーザ10及び収束光学系20によって形成されるレー
ザビームスポットの結像位置における強度分布(d=6
mm)を示すグラフ。
FIG. 10 shows an intensity distribution (d = 6) at an image forming position of a laser beam spot formed by a set of the semiconductor laser 10 and the converging optical system 20 in the reference example of the first embodiment.
(mm) showing the graph.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 …半導体レーザ 20 …収束光学系 25 …鏡枠 33 …固定部材 40 …仮想像面 45 …レーザビームパターン像 47 …レーザビームスポット 50 …縮小光学系 60 …感光体表面 P0 …中心点10 ... semiconductor laser 20 ... focusing optics 25 ... lens frame 33 ... fixing member 40 ... virtual image plane 45 ... laser beam pattern image 47 ... laser beam spot 50 ... reduction optical system 60 ... photoreceptor surface P 0 ... center point

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】1次元又は2次元のアレイ状に配された複
数個の半導体レーザと,該半導体レーザと対応して各々
の半導体レーザから発せられるレーザビームを収束させ
る収束光学系とを備え、 前記半導体レーザと収束光学系の各組が、各々のレーザ
ビームスポットが所定位置に所定間隔で集合してレーザ
ビームパターン像を形成するように球面状又は円弧状に
配されていることを特徴とする半導体レーザアレイ光
源。
1. A plurality of semiconductor lasers arranged in a one-dimensional or two-dimensional array, and a converging optical system for converging a laser beam emitted from each semiconductor laser corresponding to the semiconductor lasers. Each set of the semiconductor laser and the converging optical system is arranged in a spherical shape or an arc shape so that each laser beam spot gathers at a predetermined position at a predetermined interval to form a laser beam pattern image. A semiconductor laser array light source.
【請求項2】更に、前記レーザビームパターン像を縮小
して所定位置において再結像させる縮小光学系を備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザアレイ
光源。
2. The semiconductor laser array light source according to claim 1, further comprising a reduction optical system that reduces the laser beam pattern image and re-images it at a predetermined position.
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