Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JPH062682B2 - Acetylene purification method and apparatus used therefor - Google Patents

Acetylene purification method and apparatus used therefor

Info

Publication number
JPH062682B2
JPH062682B2 JP60159283A JP15928385A JPH062682B2 JP H062682 B2 JPH062682 B2 JP H062682B2 JP 60159283 A JP60159283 A JP 60159283A JP 15928385 A JP15928385 A JP 15928385A JP H062682 B2 JPH062682 B2 JP H062682B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acetylene
solvent
tower
absorption
absorbing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60159283A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6219539A (en
Inventor
稔 西田
傅三 林
安夫 小谷
謙治 山脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NICHIGO ASECHIREN KK
Original Assignee
NICHIGO ASECHIREN KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NICHIGO ASECHIREN KK filed Critical NICHIGO ASECHIREN KK
Priority to JP60159283A priority Critical patent/JPH062682B2/en
Publication of JPS6219539A publication Critical patent/JPS6219539A/en
Publication of JPH062682B2 publication Critical patent/JPH062682B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアセチレンの精製法およびそれに用いる装置に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for purifying acetylene and an apparatus used therefor.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来よりアセチレンがアセチレン熔接の分野や化学工業
における原料などとして使用されている。
Conventionally, acetylene has been used as a raw material in the field of acetylene welding and the chemical industry.

アセチレン熔接の分野や化学工業における原料などとし
て使用されるアセチレンは、カーバイドや石油を原料と
して製造されており、製造直後の粗なカーバイドアセチ
レンや石油アセチレンから、人体に有害であったり熔接
用に用いたばあいに強度を低下させたりするPH3、H2S、
NH3、ASH3などや、化学反応の触媒毒となるO2、PH3、H2
Sなどを除去し、JIS K 1901、1902に規定されているよ
うに、98容量%以上の純度になるように精製されてい
る。
Acetylene, which is used as a raw material in the field of acetylene welding and chemical industry, is manufactured from carbide and petroleum as raw materials, and it is harmful to the human body or used for welding from crude carbide acetylene or petroleum acetylene immediately after production. PH 3 , H 2 S, which reduces the strength in case of
NH 3 , ASH 3, etc., and O 2 , PH 3 , H 2 which are catalytic poisons for chemical reactions
Purified to a purity of 98% by volume or higher, as specified in JIS K 1901 and 1902, by removing S, etc.

たとえば、通常市販のカーバイドを原料にした溶解アセ
チレンのばあいには、アセチレンが98.0〜99.5容量%含
有されており、空気からの不純物であるN2、O2、Arなど
が主要不純物として混入し、この他に原料に起因するNH
3、PH3、H2S、H2、CH4などが不純物として混入してい
る。溶解アセチレンのガス組成の大阪環境技術センター
での測定データの一例として、アセチレン99.45容量
%、H2 0.01容量%、N2 0.2844容量%、O2 0.0756容量
%、CO 0.01容量%未満、CO2 0.01容量%未満、CH4 0.1
3容量%なる結果が報告されている。また、石油を原料
にした市販の石油アセチレンのばあいには、回収された
アセチレンは約99.5容量%含有されており、不純物とし
てC2 H4やCO2などが含まれている。
For example, if the normal commercial carbide dissolution acetylene was raw material, acetylene has been contained from 98.0 to 99.5 volume%, such as N 2, O 2, Ar is an impurity from the air is mixed as the main impurity , NH due to other raw materials
3 , PH 3 , H 2 S, H 2 , CH 4, etc. are mixed as impurities. As an example of measurement data of the gas composition of dissolved acetylene at the Osaka Environmental Technology Center, acetylene 99.45% by volume, H 2 0.01% by volume, N 2 0.2844% by volume, O 2 0.0756% by volume, CO less than 0.01% by volume, CO 2 0.01% Less than% by volume, CH 4 0.1
Results of 3% by volume have been reported. Further, in the case of commercially available petroleum acetylene using petroleum as a raw material, the recovered acetylene contains about 99.5% by volume, and contains C 2 H 4 and CO 2 as impurities.

最近の技術進歩にともなってアセチレンを原料として新
規材料が製造されるようになってきている。
With the recent technological progress, new materials have come to be produced from acetylene as a raw material.

たとえば導電性有機物であるポリアセチレンや感光性有
機物であるアセチレン誘導体などの原料としてアセチレ
ンが利用されるようになってきている。またファインセ
ラミックスと称される機能材料としての高純度の炭化物
の炭素源として、あるいは太陽電池の窓側半導体として
多く用いられている太陽光の変換効率の高いa-SiC:Hを
製造するばあいの原料として、反応性の高いアセチレン
が利用されるようになってきている。
For example, acetylene has come to be used as a raw material for a conductive organic substance such as polyacetylene and a photosensitive organic substance such as an acetylene derivative. It is also used as a carbon source for high-purity carbides as a functional material called fine ceramics, or as a raw material when producing a-SiC: H with high solar conversion efficiency, which is often used as a window-side semiconductor for solar cells. As such, highly reactive acetylene has come to be used.

これらの新規材料に要求される特性をうるためには新規
材料の組成などが厳密に制御される必要があり、それら
の原料となるアセチレンにも高純度のものが要求される
ようなってきている。
In order to obtain the properties required for these new materials, it is necessary to strictly control the composition of the new materials, and acetylene as a raw material for them is required to have high purity. .

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

新規材料の製造に用いるような精製アセチレンをうる方
法としては、液化チッ素浴でアセチレンを約-150℃以下
に冷却して固体アセチレンをつくり、気相分を真空引き
して充分蒸気分を除去したのち蒸発させて精製アセチレ
ンをうるという、小規模で研究用に適した方法がある
が、圧力が1.4kg/cm2・abs.以上になると分解爆発の危
険性があり、工業用に必要な量を安全かつ経済的に供給
しうるものではない。
As a method to obtain purified acetylene for use in the production of new materials, acetylene is cooled to about -150 ° C or lower in a liquefied nitrogen bath to form solid acetylene, and the vapor phase component is evacuated to sufficiently remove the vapor component. There is a method suitable for research on a small scale, in which it is then evaporated to obtain purified acetylene, but if the pressure exceeds 1.4 kg / cm 2 abs., There is a risk of decomposition and explosion, which is necessary for industrial use. The quantity cannot be supplied safely and economically.

本発明は安全かつ工業的に必要な量の精製アセチレンを
うることを目的としてなされたものである。
The present invention has been made for the purpose of obtaining a safe and industrially necessary amount of purified acetylene.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、アセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレン
を吸収させ、温度差による溶解量の差を利用して回分的
または連続的に放散・回収し、精製アセチレンを製造す
る際に、溶剤温度-20〜-81.8℃でアセチレンを吸収させ
たのち-10〜+20℃に昇温し、拡散したアセチレンを-50
〜-81.8℃に再冷却して溶剤などを凝縮させ、さらに多
孔質物質充填部を通すことによって吸着により共存する
溶剤などを除去し、純度99.99容量%以上にすることを
特徴とするアセチレンの精製法、および-20〜-81.8℃で
アセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレンを吸収せし
めるアセチレン吸収塔、アセチレンを選択吸収する溶剤
に吸収せしめたアセチレンを-10〜+20℃で放散せしめる
アセチレン放散塔、放散せしめられたアセチレンを-50
〜-81.8℃に再冷却する冷却塔および冷却せしめられた
アセチレン中の不純物を除去するための多孔質物質を充
填した吸着塔からなり、アセチレン吸収塔内のアセチレ
ンを吸収した前記溶剤をアセチレン放散塔に送るための
手段およびアセチレン放散塔でアセチレンを拡散した前
記溶剤をアセチレン拡散塔からアセチレン吸収塔にもど
すための手段が設けられていることを特徴とするアセチ
レン精製装置に関する。
The present invention absorbs acetylene in a solvent which selectively absorbs acetylene, and diffuses or recovers it batchwise or continuously by utilizing the difference in the amount of dissolution due to the temperature difference, at the time of producing purified acetylene, at a solvent temperature of -20 After absorbing acetylene at ~ -81.8 ° C, the temperature is raised to -10 ~ + 20 ° C and the diffused acetylene is -50
Re-cooling to ~ -81.8 ° C to condense solvent etc., and further remove coexisting solvent etc. by adsorption by passing through porous material filling section, purification of acetylene characterized by purity of 99.99% by volume or more Method, and an acetylene absorption tower that absorbs acetylene in a solvent that selectively absorbs acetylene at -20 to -81.8 ° C, an acetylene diffusion tower that diffuses acetylene that has been absorbed in a solvent that selectively absorbs acetylene at -10 to + 20 ° C, 50 acetylene that has been diffused
To a cooling tower for re-cooling to -81.8 ° C and an adsorption tower filled with a porous substance for removing impurities in the cooled acetylene, and the acetylene diffusion tower for absorbing the solvent in which the acetylene is absorbed in the acetylene absorption tower. And a means for returning the solvent in which acetylene is diffused in the acetylene stripping tower from the acetylene diffusion tower to the acetylene absorption tower.

〔実施例〕〔Example〕

本発明においては、アセチレンを選択吸収する溶剤(以
下、アセチレン吸収溶剤という)にアセチレンを吸収さ
せ、温度差による溶解量の差を利用して回分的または連
続的に放散せしめることにより精製アセチレンが取得さ
れる。
In the present invention, a solvent which selectively absorbs acetylene (hereinafter, referred to as an acetylene absorbing solvent) absorbs acetylene, and the purified acetylene is obtained by releasing the acetylene batchwise or continuously by utilizing the difference in the amount of dissolution due to the temperature difference. To be done.

アセチレン吸収溶剤に吸収せしめられるアセチレンと
は、カーバイドや石油を分解して製造した粗なアセチレ
ンであってもよく、PH3、H2S、NH3、ASH3などを除去し
てJIS K 1901、1902の規定に適合するように精製したア
セチレンでもよく、アセチレンを運搬などする際にその
分解爆発の危険性を低下せしめるために多孔質物質を溶
剤に浸漬含浸させたものを入れた容器に溶解させた溶解
アセチレンでもよく、その純度、原料などによって規定
されるものではない。しかし、精製アセチレンを効率よ
くえられるという観点からすると、カーバイドアセチレ
ンのばあいには特許第203622号明細書などのアセチレン
の液体式精製法(通称「エキセイ」という装置を用いた
方法)により前処理したものであることが好ましい。
Acetylene that can be absorbed in an acetylene absorbing solvent may be coarse acetylene produced by decomposing carbide or petroleum, and PH 3 , H 2 S, NH 3 , A S H 3 etc. are removed to JIS K Acetylene purified to comply with the regulations of 1901 and 1902 may be used.In order to reduce the risk of decomposition and explosion of acetylene when transporting it, put it in a container containing a substance impregnated with a porous substance in a solvent. Dissolved acetylene may be dissolved and is not limited by its purity, raw material, or the like. However, from the viewpoint that purified acetylene can be efficiently obtained, in the case of carbide acetylene, pretreatment by a liquid acetylene purification method such as Japanese Patent No. 203622 (a method using an apparatus called "Exisei") is used. It is preferable that

本明細書にいう精製アセチレンとは、合計不純物量が10
0ppm以下のアセチレンを意味し、たとえばH2 0.5ppm未
満、O2 1.0〜2.5ppm、N2 1.0〜2.5ppm、CO 0.5ppm以
下、CO2 1.0ppm以下、PH3、AsH3および溶剤はいずれも
検出されず(0.1ppm検出限界)のごとき組成のものであ
る。
Purified acetylene as used herein means that the total amount of impurities is 10
Means: acetylene 0 ppm, such as H 2 less than 0.5ppm, O 2 1.0~2.5ppm, N 2 1.0~2.5ppm, CO 0.5ppm or less, CO 2 1.0 ppm or less, PH 3, both AsH 3 and solvents The composition is such that it is not detected (0.1 ppm detection limit).

前記アセチレンを溶剤に吸収させる際の温度としては、
溶解量および溶解速度を増加させ、かつアセチレンを液
化させない(アセチレンのの液化温度-81.8℃、760mmH
g)で経済的に吸収させるという点から-20〜-81.8℃で
あることが必要であり、なかんずく-40〜-60℃であるこ
とが好ましい。また吸収させる温度が-20℃をこえるば
あいには、えられるアセチレン純度が99.9容量%程度の
ものしかえれなくなる。
The temperature when absorbing the acetylene in the solvent,
Increases the amount and rate of dissolution and does not liquefy acetylene (liquefaction temperature of acetylene-81.8 ℃, 760mmH
From the viewpoint of economical absorption in g), it is necessary to be -20 to -81.8 ° C, preferably -40 to -60 ° C. If the absorption temperature exceeds -20 ° C, only acetylene with a purity of about 99.9% by volume can be obtained.

また前記アセチレンを溶剤に吸収させる際の圧力として
は、溶剤と共存するときのアセチレンの分解爆発の危険
性の少ない7.0kg/cm2・abs.以下であればとくに限
定はないが、アセチレンの供給源によりおのずからその
範囲はきまる。たとえばカーバイドアセチレンや石油ア
セチレンのばあいには1.02〜1.5kg/cm2・abs.程度、溶
解アセチレンのばあいには1.2〜1.5kg/cm2・ab
s.程度に圧力調整器で減圧して使用するのが一般的であ
る。
The pressure for absorbing the acetylene in the solvent is not particularly limited as long as it is 7.0 kg / cm 2 abs. Or less, which is less likely to cause decomposition and explosion of acetylene when coexisting with the solvent. The range naturally depends on the source. For example, in the case of carbide acetylene or petroleum acetylene, about 1.02 to 1.5 kg / cm 2 · abs., And in the case of dissolved acetylene, 1.2 to 1.5 kg / cm 2 · ab.
It is common to use the pressure regulator to reduce the pressure to about s.

アセチレン吸収溶剤は前記のごとき条件下で液体として
存在し、アセチレンを選択吸収し、-10〜+20℃好ましく
は-5〜+10℃でアセチレンを放散してアセチレンを精製
することができ、アセチレンと反応したりすることのな
い溶剤であればとくに限定はない。このような溶剤の具
体例としては、アセチレンの選別吸収性の高いアセト
ン、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N-メチルピロ
リドンなどがあげられ、これらは単独で用いてもよく、
2種以上併用してもよい。
The acetylene absorbing solvent exists as a liquid under the conditions as described above, selectively absorbs acetylene, and acetylene can be purified by releasing acetylene at -10 to + 20 ° C, preferably -5 to + 10 ° C. There is no particular limitation as long as it is a solvent that does not react with. Specific examples of such a solvent include acetone, which has high selective absorption of acetylene, N, N-dimethylformamide (DMF), N-methylpyrrolidone, and the like, and these may be used alone,
You may use 2 or more types together.

なお前記アセチレンを選択吸収するとは、不純物として
存在するO2、N2、CO、H2などとアセチレンとの溶解度に
著しい差があること、たとえばDMFについては第1表に
示すように溶解度に著しい差があることを意味し、アセ
チレンを放散するとは、吸収されたアセチレンのうちの
少なくとも溶剤1当りアセチレンを標準状態で約70
以上を-10〜+20℃で放散することを意味する。なおDMF
1当り-40℃で標準状態で約238、-60℃で標準状態
で約382程度のアセチレンが吸収される。
It should be noted that selective absorption of acetylene means that there is a significant difference in solubility between acetylene and O 2 , N 2 , CO, H 2 and the like existing as impurities. For example, for DMF, the solubility is significant as shown in Table 1. It means that there is a difference, and that acetylene is released means that at least 1 acetylene of the absorbed acetylene per solvent is about 70 in the standard state.
It means that the above is emitted at -10 to + 20 ° C. DMF
About 238 of acetylene is absorbed at -40 ° C in the standard state and about 382 of 382 at -60 ° C in the standard state.

溶剤に吸収されたアセチレンが放散される温度が-10〜+
20℃のばあいには、吸収時との温度差による溶解度差が
大きいため、回収効率が高く、経済的に好ましい。とく
に熱エネルギー効率の点からは-10〜0℃程度が好まし
く、アセチレンの精製量の点からは−5〜+10℃が好ま
しい。
The temperature at which the acetylene absorbed by the solvent is released is -10 to +
In the case of 20 ° C., there is a large difference in solubility due to the temperature difference from the time of absorption, so the recovery efficiency is high and this is economically preferable. Particularly, from the viewpoint of heat energy efficiency, about -10 to 0 ° C is preferable, and from the viewpoint of the amount of acetylene purified, -5 to + 10 ° C is preferable.

また放散時のアセチレンの圧力は、純粋なアセチレンの
みで取扱うばあいには空気を吸込まず、かつまちがって
点火可能なエネルギーが加わっても分解が伝播しない。
1.0〜1.2kg/cm2・ads.であることが好ましい。
In addition, the pressure of acetylene at the time of emission does not suck air when handled only with pure acetylene, and decomposition does not propagate even if incorrect ignitable energy is applied.
It is preferably 1.0 to 1.2 kg / cm 2 · ads.

このようにして精製されたアセチレンには精製に用いた
溶剤などが混入しているため、アセチレンが液化せず、
しかも共存する溶剤などの上記の含有量をできるだけ低
下させるために-50〜-81.8℃に冷却させ、溶剤やその凝
縮物を吸着除去するために多孔質物質充填部を通過させ
られる。
Since the solvent used for purification is mixed in the acetylene thus purified, acetylene does not liquefy,
Moreover, it is cooled to -50 to -81.8 ° C in order to reduce the content of the above-mentioned coexisting solvent as much as possible, and is passed through the porous material filling part to adsorb and remove the solvent and its condensate.

前記多孔質物質充填部とは、活性炭、モレキュラーシー
ブ、シリカゲルなどから形成された孔径が5Å程度で4
〜14メッシュ程度の多孔体を、たとえば円筒形の筒に入
れた通常の冷却可能な充填塔に入れたようなものであ
る。
The porous material-filled part is made of activated carbon, molecular sieve, silica gel, etc. and has a pore size of about 5Å.
It is like putting a porous body of about 14 mesh in a usual coolable packed tower placed in, for example, a cylindrical tube.

多孔質物質充填部に通すアセチレンの量や滞留時間など
を目的とするアセチレンの純度や精製効率などを考慮し
て適宜選択すればよいが、通常使用されるのは多孔質吸
着剤単位容積当り、吸着ガス容積が時間当り10,000倍以
下が適当である。
The amount of acetylene passed through the porous material filling part and the residence time may be appropriately selected in consideration of the purity and the purification efficiency of acetylene, etc., but usually used per unit volume of the porous adsorbent, It is appropriate that the adsorbed gas volume is 10,000 times or less per hour.

このような方法により、たとえば98〜99.5容量%のアセ
チレンを99.99〜99.9999容量%程度まで精製することが
できる。
By such a method, for example, 98 to 99.5% by volume of acetylene can be purified to about 99.99 to 99.9999% by volume.

精製したアセチレンはそのまま使用されたり、ボンベな
どに充填されたり、さらには一層精製するため再度本発
明の方法を適用して、従来えられなかった9(セブン
ナイン)以上というような精製アセチレンをうることが
できる。
The purified acetylene may be used as it is, may be filled in a cylinder or the like, and the method of the present invention may be applied again for further purification to obtain purified acetylene such as 9 7 (seven nine) or more that has not been obtained in the past. You can get it.

本発明の方法は、第2図に示すように同一の槽中でアセ
チレンの吸収および放散を行なわしむる回分的方法であ
ってもよく、また第1図に示すように1つの槽中でアセ
チレンの吸収を行なわしめ、アセチレンを吸収した溶剤
を連続的に他の槽に移し、該他の槽でアセチレンの放散
を行なわしむる連続的な方法であってもよい。
The method of the present invention may be a batchwise method in which absorption and desorption of acetylene are carried out in the same tank as shown in FIG. 2, and as shown in FIG. 1, acetylene is used in one tank. May be carried out, and the solvent in which acetylene has been absorbed is continuously transferred to another tank, and acetylene can be released in this other tank.

つぎに本発明の方法を第1図にもとづき説明する。Next, the method of the present invention will be described with reference to FIG.

(吸収工程) 1 冷却槽(6)でアセチレン吸収塔(1)内のアセチレン吸
収溶剤(2)を-20〜-81.8℃に冷却し、アセチレン吸収塔
(1)内のアセチレン吸収溶剤(2)にアセチレンを吸収させ
る。またアセチレンが吸収されるときに発熱するため、
冷却槽(6)はこの熱を除去し、アセチレン吸収溶剤(2)の
温度を-20〜-81.8℃の所定の温度に保つようにする。
(Absorption process) 1 Cool the acetylene absorption solvent (2) in the acetylene absorption tower (1) in the cooling tank (6) to -20 to -81.8 ° C, and then cool the acetylene absorption tower.
The acetylene absorbing solvent (2) in (1) absorbs acetylene. Also, when acetylene is absorbed, it generates heat,
The cooling tank (6) removes this heat and keeps the temperature of the acetylene absorbing solvent (2) at a predetermined temperature of -20 to -81.8 ° C.

アセチレンの吸込みはアセチレン吸収塔(1)の底に近い
部分で行ない、アセチレンはアセチレン吸収溶剤(2)の
中を上昇する際に吸収される。
The acetylene is sucked in at a portion near the bottom of the acetylene absorption tower (1), and the acetylene is absorbed when rising in the acetylene absorbing solvent (2).

2 アセチレン吸収溶剤(2)として、とくにアセチレン
を溶解するものが使用され、混入しているO2、N2、CO、
H2などの不純物ガスの多くはアセチレン吸収溶剤(2)に
吸収されずアセチレン吸収塔(1)の上部にたまる。これ
は、一部のアセチレンとともに排出弁(11)の操作により
排出口(10)より排出される。
2 As the acetylene absorbing solvent (2), one that dissolves acetylene is used, and it contains O 2 , N 2 , CO,
Most of the impurity gas such as H 2 is not absorbed by the acetylene absorption solvent (2) and accumulates in the upper part of the acetylene absorption tower (1). This is discharged from the discharge port (10) by operating the discharge valve (11) together with a part of acetylene.

3 アセチレン吸収溶剤(2)の冷却は、冷却槽(6)にメタ
ノールにドライアイスを加えるとか、液化窒素をエチレ
グリコール水溶液に滴下するなどして冷却した低温液を
つくり、アセチレン吸収塔(1)の壁を介して冷却しても
よく、またアセチレン吸収塔(1)内に冷却管を設置し
て、これに上述の低温液を通して冷却してもよい。
3 To cool the acetylene absorption solvent (2), dry ice is added to methanol in the cooling tank (6), or liquefied nitrogen is added dropwise to the ethylene glycol aqueous solution to form a cooled low-temperature liquid, and the acetylene absorption tower (1) It may be cooled through the wall of the above, or a cooling pipe may be installed in the acetylene absorption tower (1), and the above-mentioned low temperature liquid may be passed through the cooling pipe for cooling.

4 -20〜-81.8℃においてアセチレンを充分吸収溶解し
たアセチエン吸収溶剤(2)はアセチレン吸収塔(1)の上部
気相に存在する不純物ガスが混入しないように、たとえ
ばアセチレン吸収溶剤(2)の液中の下部まで達している
配管および定量ポンプ(9)よりなる手段、あるいは前記
配管および流量調整弁を用い、アセチレン吸収塔(1)内
の圧力>アセチレン放散塔(3)内の圧力になるようにし
た手段などを用い、アセチレン放散塔(3)内に移送され
る。
The acetylene-absorption solvent (2) that has sufficiently absorbed and dissolved acetylene at 4 -20 to -81.8 ° C does not mix the impurity gas existing in the upper gas phase of the acetylene absorption tower (1) with, for example, the acetylene-absorption solvent (2). The pressure in the acetylene absorption tower (1)> the pressure in the acetylene absorption tower (3), using the pipe that reaches the lower part of the liquid and a means consisting of a metering pump (9), or the pipe and the flow rate adjustment valve. It is transferred into the acetylene stripping tower (3) by using the above-mentioned means.

(放散工程) 1 アセチレン放散塔(3)に移送されたアセチレン吸収
溶剤(2)は-10〜+20℃程度の範囲まで加温され、この温
度差により生ずるアセチレンの溶解度差の分に当るアセ
チレンがアセチレン吸収溶剤(2)から放散せしめられ
る。
(Dissipation process) 1 Acetylene absorption solvent (2) transferred to acetylene dispersal tower (3) is heated to the range of about -10 to + 20 ° C, and acetylene corresponding to the difference in solubility of acetylene caused by this temperature difference. Are released from the acetylene absorbing solvent (2).

2 前記アセチレン吸収溶剤の加温方法に使用された溶
剤の1部は、アセチレン吸収塔(1)からアセチレン放散
塔(3)内に導入された-20〜-81.8℃のアセチレン吸収溶
剤とアセチレン放散塔(3)の底部液溜部で-10〜+20℃と
なりアセチレンを放散したものから定量ポンプ(8)によ
り吸い上げられたアセチレン吸収塔へもどされるアセチ
レン吸収溶剤とをアセチレン放散塔(3)内の上部に熱交
換部を設け、要すれば充填材などを併用して熱交換させ
るようにすると放散後の溶剤の冷却と導入されるアセチ
レン吸収溶剤の加熱との熱交換の効率を向上させる点か
ら好ましい。
2 Part of the solvent used for the heating method of the acetylene absorbing solvent is acetylene absorbing solvent and acetylene absorbing solvent at -20 to -81.8 ° C introduced from the acetylene absorbing tower (1) into the acetylene releasing tower (3). In the acetylene diffusion tower (3), the acetylene absorption solvent returned to the acetylene absorption tower that was sucked up by the metering pump (8) from the acetylene that had diffused to -10 to + 20 ° C in the bottom liquid reservoir of the tower (3) If a heat exchange part is provided on the upper part of the above, and if necessary heat is exchanged together with a filler, etc., the efficiency of heat exchange between cooling of the solvent after being diffused and heating of the acetylene absorbing solvent to be introduced is improved. Is preferred.

3 アセチレン吸収溶剤からのアセチレンの放散は徐々
に定常的に行なうのが内部圧力の上昇を抑え、安全性の
点から重要であるとともに、熱経済上効率がよい。この
熱交換はアセチレン放散塔(3)内で行なわれ、アセチレ
ン吸収溶剤(2)の温度上昇により放散されるアセチレン
は、冷却塔(4)、吸着塔(5)を経由して回収される。
3 It is important from the standpoint of safety that the acetylene is released from the acetylene absorbing solvent gradually and steadily in order to suppress the rise in internal pressure, and it is efficient in terms of thermo-economics. This heat exchange is performed in the acetylene stripping tower (3), and the acetylene released by the temperature rise of the acetylene absorbing solvent (2) is recovered via the cooling tower (4) and the adsorption tower (5).

4 好ましくはアセチレンの放散塔内の上部に設けられ
た熱交換部を経由して底部にためられたアセチレン吸収
溶剤には、要すれば10%エチレングリコール液などの凍
結しない液を加熱用熱交換器(15)に通して熱交換
し、-10〜+20℃の所定の温度まで昇温し、アセチレンを
放散させる。
4 Preferably, the acetylene absorbing solvent accumulated at the bottom via the heat exchange section provided at the upper part of the acetylene stripping tower is, if necessary, a non-freezing liquid such as 10% ethylene glycol liquid for heat exchange for heating. Heat is exchanged through the vessel (15), the temperature is raised to a predetermined temperature of -10 to + 20 ° C, and acetylene is diffused.

5 アセチレン放散塔(3)の液溜部の底部にまで達する
配管から大半のアセチレン放散した1部のアセチレン吸
収溶剤を定量ポンプ(8)により吸い上げ、好ましくは前
記熱交換部を経由してアセチレン吸収塔(1)の上部、好
ましくは充填物を充填して冷却効率をよくした上部に導
入し、アセチレン吸収塔(1)内のアセチレン吸収溶剤(2)
の量を一定に保ち、継続して吸収工程、放散工程が行な
えるようにする。
5 From the pipe that reaches the bottom of the liquid storage part of the acetylene stripping tower (3), most of the acetylene-dissipating part of the acetylene-absorbing solvent is sucked up by the metering pump (8), preferably the acetylene-absorbing via the heat exchange part. The upper part of the tower (1), preferably introduced into the upper part where the packing is filled to improve cooling efficiency, the acetylene absorbing solvent (2) in the acetylene absorption tower (1)
Keeping the amount of a certain amount constant so that the absorption process and the emission process can be performed continuously.

(溶剤蒸気等除去工程) アセチレン放散等(3)で放散せしめられたアセチレンに
は溶剤蒸気などが約30〜180ppm含まれているため、該ア
セチレンを冷却槽(7)で-50〜-81.8℃に冷却中の冷却塔
(4)、好ましくはシリカゲルあるいはSUSの細線などを充
填して冷却効率をよくした冷却塔(4)に導き、含まれて
いる溶剤蒸気などの除去がはかられる。さらにアセチレ
ン中の溶剤蒸気などの除去をさらに完全にするため、活
性炭、モレキュラーシーブ、シリカゲルなどの多孔質物
質を充填した-50〜-81.8℃に冷却せしめられた吸着塔
(5)を通される。
(Solvent vapor removal step) Acetylene that has been emitted by acetylene emission, etc. (3) contains approximately 30-180 ppm of solvent vapor, so the acetylene is cooled in the cooling tank (7) at -50 to -81.8 ° C. Cooling tower during cooling
(4), and preferably lead to a cooling tower (4) which is filled with a fine wire such as silica gel or SUS to improve cooling efficiency, and removes solvent vapor contained therein. Furthermore, in order to remove solvent vapors in acetylene more completely, an adsorption tower filled with a porous material such as activated carbon, molecular sieves and silica gel and cooled to -50 to -81.8 ° C.
(5) is passed.

冷却塔(4)や吸着塔(5)は2組並列に設け、切換うるよう
にするのが好ましい。
It is preferable that two sets of the cooling tower (4) and the adsorption tower (5) are provided in parallel so that they can be switched.

前記のような操作によりアセチレン吸収溶剤1当り標
準状態で約55〜650のアセチレンを精製することがで
きる。
By the above-mentioned procedure, about 55 to 650 acetylene can be purified per standard acetylene absorbing solvent.

えられたアセチレンは99.99〜99.9999容量%の精製アセ
チレンである。
The obtained acetylene is 99.99 to 99.9999% by volume of purified acetylene.

前記冷却塔、吸着塔としては、-50〜-81.8℃に効率よく
冷却することができ、ガス中の溶剤蒸気を捕集すること
ができるものであればとくに限定はなく、たとえばエチ
レングリコールあるいはメタノールにドライアイスある
いは液体窒素を滴下するなどの方法により冷却される。
The cooling tower and the adsorption tower are not particularly limited as long as they can efficiently cool to -50 to -81.8 ° C and can collect the solvent vapor in the gas, for example, ethylene glycol or methanol. It is cooled by a method such as dropping dry ice or liquid nitrogen onto the.

上記説明においては、連続法による精製アセチレンの製
法についてのべたが、第2図に示すような回分式の装置
を用いても同様にして高純度アセチレンが製造される。
In the above description, the method for producing purified acetylene by the continuous method has been described, but high-purity acetylene can be similarly produced by using a batch type apparatus as shown in FIG.

第2図に示すような装置を用いたばあいには、温度調節
管(13)によりアセチレン吸収分離塔(12)内のアセチ
レン吸収溶剤(2)を冷却してアセチレンを吸収せしめた
のち、あるいは吸収せしめながらアセチレン吸収溶剤上
の不純物ガスおよびアセチレンをバルブ(11)の操作に
より排出口(10)から排出し、さらに真空ポンプ(14)
により排気し、気相中の不純物ガスを除去する。ついで
温度調節管(13)によりアセチレンを吸収させたアセチ
レン吸収溶剤の温度を上昇せしめ、放散したアセチレン
を冷却塔(4)および吸着塔(5)を通すことにより精製アセ
チレンがえられる。
When an apparatus as shown in FIG. 2 is used, the acetylene absorbing solvent (2) in the acetylene absorption separation column (12) is cooled by the temperature control pipe (13) to absorb acetylene, or While absorbing, the impurity gas on the acetylene absorbing solvent and acetylene are discharged from the discharge port (10) by operating the valve (11), and further the vacuum pump (14).
And the impurity gas in the gas phase is removed. Then, the temperature of the acetylene absorbing solvent which has absorbed acetylene is raised by the temperature control pipe (13), and the acetylene thus diffused is passed through the cooling tower (4) and the adsorption tower (5) to obtain purified acetylene.

つぎに本発明の方法および装置を実施例にもとづき説明
する。
Next, the method and apparatus of the present invention will be described based on examples.

実施例1 第1図に示すごとき装置を用いた。Example 1 An apparatus as shown in FIG. 1 was used.

アセチレン吸収塔は直径10cm、高さ50cm、内容積3925cm
3の円筒状のステンレススチール製の塔で、アセチレン
吹込みラインの開口、アセチレン放散塔からアセチレン
吸収溶剤をもどすラインの開口およびアセチレン放散塔
ヘアセチレン吸収溶剤を送るラインの開口がそれぞれ底
から 1cm、49cmおよび11cmのところにあった。またア
セチレン放散塔は直径10cm、高さ50cm、内容積3925cm3
の円筒状のステンレススチール製の塔で、アセチレン吸
収塔からアセチレン吸収溶剤を送るラインの開口および
アセチレン吸収塔へアセチレン吸収溶剤をもどすライン
の開口がそれぞれ底から49cmおよび 1cmのところにあっ
た。さらに冷却塔は直径2.5cm、高さ50cmの円筒状のも
のの内部にシリカゲルを充填したステンレススチール製
の塔で、吸着塔は直径2.5cm、高さ50cmの円筒状のもの
の内部に活性炭を充填したステンレススチール製の塔で
あった。
The acetylene absorption tower has a diameter of 10 cm, a height of 50 cm, and an internal volume of 3925 cm.
In the cylindrical stainless steel column of 3, the opening of the acetylene blowing line, the opening of the line for returning the acetylene absorbing solvent from the acetylene stripping tower and the opening of the line for sending the acetylene stripping tower hair acetylene absorbing solvent are 1 cm from the bottom, respectively. It was at 49 cm and 11 cm. The acetylene stripping tower has a diameter of 10 cm, a height of 50 cm, and an internal volume of 3925 cm 3.
In the cylindrical stainless steel column of No. 3, the opening of the line for sending the acetylene absorbing solvent from the acetylene absorption tower and the opening of the line for returning the acetylene absorbing solvent to the acetylene absorption tower were located 49 cm and 1 cm from the bottom, respectively. Further, the cooling tower is a stainless steel tower having a diameter of 2.5 cm and a height of 50 cm that is filled with silica gel, and the adsorption tower has a diameter of 2.5 cm and a height of 50 cm that is filled with activated carbon. It was a stainless steel tower.

アセチレン吸収塔およびアセチレン放散塔にアセチレン
吸収溶剤であるDMFをそれぞれ500ml入れて圧力0.5kg/c
m2 G、流量500/hrアセチレンを吸込み、50分後アセ
チレン吸収塔内圧>アセチレン放散塔内圧になり定常的
になったのでアセチレン吸収塔からアセチレン放散塔へ
アセチレンを吸収した溶剤が微量流量調整弁を通って55
ml/minづつ定量的に流れるように弁を開いた。またア
セチレン放散塔からアセチレン吸収塔にアセチレンを放
散したアセチレン吸収溶剤が40ml/minづつ定量ポンプ
によりもどるようにした。
Put 500 ml of DMF, which is the acetylene absorbing solvent, into the acetylene absorption tower and the acetylene stripping tower, and apply a pressure of 0.5 kg / c
m 2 G, flow rate 500 / hr Suction of acetylene, and 50 minutes later, acetylene absorption tower internal pressure> acetylene diffusion tower internal pressure became steady, so the solvent that absorbed acetylene from the acetylene absorption tower to the acetylene diffusion tower was a small flow rate control valve Through 55
The valve was opened for quantitative flow at ml / min. In addition, the acetylene absorbing solvent from which acetylene was diffused from the acetylene stripping tower to the acetylene absorbing tower was returned by a metering pump at 40 ml / min.

アセチレン吸収塔の冷却は冷却槽(6)の冷媒を-60℃に冷
し、溶解アセチレン容器中のアセチレンを0.5kg/cm2 G
に減圧し、500/hrの割合で吸収させたばあいにアセ
チレン吸収塔の上部液で約-50℃になるように冷却し
た。
To cool the acetylene absorption tower, cool the refrigerant in the cooling tank (6) to -60 ° C and add 0.5 kg / cm 2 G of acetylene in the molten acetylene container.
When the pressure was reduced to 500 ° C. and absorbed at a rate of 500 / hr, the liquid was cooled to about −50 ° C. in the upper liquid of the acetylene absorption tower.

アセチレンの溶解速度は非常に速く、最初の約50分はほ
ぼすべてのアセチレンが溶解し、アセチレン吸収塔の内
圧が0.2kg/cm2 Gになるように排出弁(11)を調整し、
昇圧した余分なガスは積算流量計を通して大気中へ放出
した。
The dissolution rate of acetylene is very fast, almost all acetylene is dissolved in the first about 50 minutes, and the discharge valve (11) is adjusted so that the internal pressure of the acetylene absorption tower becomes 0.2 kg / cm 2 G.
The extra gas, which was boosted in pressure, was released into the atmosphere through an integrating flowmeter.

アセチレン放散塔に送られた約-50℃のアセチレン吸収
溶剤は、該塔の上部からアセチレン吸収塔にもどす際の
温度が約0℃になるようにアセチレン放散塔内にメタノ
ール10%水溶液(液温約15℃)を流して加温し、その際
放散したアセチレンを冷媒としてメタノールにドライア
イスを加えて-75℃に冷却した冷却塔に送り、含有され
ている溶剤蒸気などを凝縮除去し、さらに吸着塔を通し
て精製アセチレンをえた。
The acetylene absorbing solvent of about -50 ° C sent to the acetylene stripping tower is a 10% aqueous solution of methanol (liquid temperature: 10% in the acetylene stripping tower so that the temperature at the time of returning to the acetylene absorbing tower from the upper part of the tower is about 0 ° C). (About 15 ° C) to heat the mixture, and at that time, the acetylene released is added as a refrigerant to dry ice added to methanol and sent to a cooling tower cooled to -75 ° C to condense and remove the solvent vapor contained in it. Purified acetylene was obtained through the adsorption tower.

えられた精製アセチレンは、島津GC9A型ガスクロマトグ
ラフTCDおよびFID自動切換検出器を用いた分析の結果、
検出限界3.0ppmにおいてN2 3ppm以下、O2 2ppm、CO23p
pm以下でCOは検出されず、検出限界1.0ppmにおいてP
H3、H2S、AsH3が検出されない純度99.999%の精製アセチ
レンであった。
The obtained purified acetylene was the result of analysis using Shimadzu GC9A type gas chromatograph TCD and FID automatic switching detector,
N 2 3ppm or less, O 2 2ppm, CO 2 3p at the detection limit of 3.0ppm
CO is not detected below pm and P at the detection limit of 1.0 ppm
It was purified acetylene with a purity of 99.999% in which H 3 , H 2 S, and AsH 3 were not detected.

なお定常状態に達したのちのアセチレン精製量は425
/hr(標準状態)であり、原料アセチレンに対する収率
は85%であった。
The amount of acetylene purified after reaching steady state is 425.
/ Hr (standard state), and the yield based on the starting acetylene was 85%.

実施例2 第2図に示すごとき装置を用いた。Example 2 An apparatus as shown in FIG. 2 was used.

アセチレン吸収拡散塔は直径10cm、高さ50cm、内容積39
25cm3の円筒状のステンレンススチール製の塔で、アセ
チレン吸収溶剤の入る部分には温度調節管が取付けられ
ており、アセチレン吹込みラインの開口はアセチレン吸
収放散塔の底から1cmの位置にあった。また冷却塔およ
び吸着塔として直径2.5cm、高さ30cmの円筒状のものの
内部に活性炭を充填したステンレススチール製の塔を2
段直列に接続したものを用いた。
The acetylene absorption and diffusion tower has a diameter of 10 cm, a height of 50 cm, and an internal volume of 39.
This is a 25 cm 3 cylindrical steel tower with a temperature control tube attached to the part where the acetylene absorbing solvent enters, and the opening of the acetylene blowing line is located 1 cm from the bottom of the acetylene absorbing / dissipating tower. It was As a cooling tower and an adsorption tower, a stainless steel tower having a 2.5 cm diameter and a height of 30 cm and filled with activated carbon was used.
Those connected in series were used.

アセチレン吸収放散塔にアセチレン吸収溶剤であるDMF
を1入れて、冷媒を用いてDMFを-50℃になるように冷
却しながら、NH3、H2S、PH3、AsH3などを前記「エキセ
イ」を通して前処理によって除去した溶解アセチレンを
圧力0.5kg/cm2 Gで流量300/hrで吹込んだ。このと
きアセチレン吸収放散塔内の気相の圧力を0.2kg/cm2 G
に保持するようにバルブ(11)を調整して、昇圧した余
分なガスを積算流量計を通して大気中へ放出した。
Acetylene absorption solvent DMF which is an acetylene absorption solvent
Put 1, while cooling in DMF to be -50 ° C. using a coolant, NH 3, H 2 S, PH 3, a pressure dissolution acetylene removal AsH 3 and the pretreatment through the "humoral" It was blown with 0.5 kg / cm 2 G at a flow rate of 300 / hr. At this time, the pressure of the gas phase in the acetylene absorption and diffusion tower was set to 0.2 kg / cm 2 G.
The valve (11) was adjusted so that it was maintained at 1, and the extra pressure-enhanced gas was discharged into the atmosphere through the integrating flow meter.

約1時間アセチレンを吹込むとアセチレン吸収溶剤はほ
ぼ飽和した。アセチレン吸収放散塔の気相部にはアセチ
レン吸収剤に吸収されにくいアセチレン中の不純物ガス
が多くたまっているため、これを除去するためにアセチ
レン吸収溶剤を約-60℃までさらに冷却したのち真空ポ
ンプ(14)を用いて10-1Torrになるまで真空引きした。
ひきつづぎ高純度Arの注入および真空引きを10回になる
まで繰返し、気相の不純物ガスを排気した。そののちア
セチレン吸収溶剤を温度調節管を空にして徐々に昇温し
て溶解しているアセチレンを放散させた。
When acetylene was blown in for about 1 hour, the acetylene absorbing solvent was almost saturated. Since a large amount of impurity gas in acetylene, which is difficult to be absorbed by the acetylene absorbent, is accumulated in the gas phase part of the acetylene absorption / desorption tower, in order to remove it, the acetylene absorption solvent is further cooled to about -60 ° C and then the vacuum pump is used. Vacuum was evacuated using (14) to 10 -1 Torr.
Continuously, injection of high-purity Ar and evacuation were repeated 10 times to exhaust gas phase impurity gas. After that, the acetylene absorbing solvent was emptied from the temperature control tube and gradually heated to release the dissolved acetylene.

放散によりえられたアセチレンをメタノールにドライア
イスを加えて冷媒とした冷却槽を用いて約-75℃に冷却
した2段の吸着塔を通して精製アセチレンをえた。
Purified acetylene was obtained from the acetylene obtained by stripping through a two-stage adsorption tower cooled to about -75 ° C using a cooling tank in which dry ice was added to methanol as a refrigerant.

えられた精製アセチレンは、島津GC9A型ガスクロマトグ
ラフTCDおよびFID自動切換分析器を用いた分析の結果、
検出限界3ppmにおいてN2、O2、CO2、H2はいずれも3ppm
未満、検出限界1ppmにおいてCO、PH3、NH3、AsH3、H2S
は検出されない純度99.999%の高純度アセチレンであっ
た。
The obtained purified acetylene is the result of analysis using a Shimadzu GC9A type gas chromatograph TCD and an FID automatic switching analyzer,
Both the detection limit 3ppm N 2, O 2, CO 2, H 2 is 3ppm
Less than, detection limit 1ppm CO, PH 3 , NH 3 , AsH 3 , H 2 S
Was high-purity acetylene with a purity of 99.999%, which was not detected.

なおアセチレンの精製量は2時間を要する1バッチ当り
180(標準状態)であり、原料アセチレンに対する収
率は約60%であった。
It takes 2 hours to purify acetylene per batch.
It was 180 (standard state), and the yield based on the raw material acetylene was about 60%.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の方法によると従来研究室規模でしかえられなか
った高純度のアセチレンのみならず、従来えられていな
かった9以上のアセチレンをも工業的規模で経済的に
うることができる。また本発明の方法では溶解アセチレ
ンのごとき市販のアセチレンを原料として使用すること
ができるため、高純度アセチレンを使用する場所に本発
明の装置を設置し、本発明の方法により高純度アセチレ
ンを製造すると、輸送比の低減をはかりうる、ボンベ詰
などのばあいに生ずる純度の低下を防止しうる、必要な
量のアセチレンを精製して使用しうるなどの効果がえら
れる。
Not only high purity acetylene was not Shikae conventional laboratory scale according to the method of the present invention, the 9 7 or more acetylene has not been e conventionally can sell economically on an industrial scale. Further, in the method of the present invention, since commercially available acetylene such as dissolved acetylene can be used as a raw material, the apparatus of the present invention is installed in a place where high-purity acetylene is used, and high-purity acetylene is produced by the method of the present invention. In addition, it is possible to reduce the transport ratio, prevent a decrease in purity that occurs in the case of cylinder filling, and purify and use a necessary amount of acetylene.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の方法に用いる本発明の装置の一実施例
態様に関する説明図、第2図は本発明の方法に用いる装
置の他の実施態様に関する説明図である。 (図面の主要符号) (1):アセチレン吸収塔 (2):アセチレン吸収溶剤 (3):アセチレン放散塔 (4):冷却塔 (5):吸着塔
FIG. 1 is an explanatory view of an embodiment of the apparatus of the present invention used in the method of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the apparatus of the present invention used in the method. (Main symbols in the drawing) (1): Acetylene absorption tower (2): Acetylene absorption solvent (3): Acetylene diffusion tower (4): Cooling tower (5): Adsorption tower

フロントページの続き (72)発明者 山脇 謙治 大阪府堺市平井108の1 (56)参考文献 特公 昭40−26893(JP,B1) 特公 昭37−4851(JP,B1) 特公 昭47−19246(JP,B1)Front Page Continuation (72) Inventor Kenji Yamawaki 108-1 Hirai, Sakai City, Osaka (56) References Japanese Patent Publication No. 40-26893 (JP, B1) Japanese Patent Publication No. 37-4851 (JP, B1) Japanese Patent Publication No. 47 -19246 (JP, B1)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレ
ンを吸収させ、温度差による溶解量の差を利用して回分
的または連続的に放散・回収し、精製アセチレンを製造
する際に、溶剤温度-20〜-81.8℃でアセチレンを吸収さ
せたのち-10〜+20℃に昇温し、放散したアセチレンを-5
0〜-81.8℃に再冷却し、さらに多孔質物質充填部を通
し、純度99.99容量%以上にすることを特徴とするアセ
チレンの精製法。
1. A solvent which absorbs acetylene into a solvent which selectively absorbs acetylene, and diffuses or recovers the acetylene batchwise or continuously by utilizing the difference in the amount of dissolution due to a temperature difference to produce a purified acetylene at a solvent temperature- After absorbing acetylene at 20 to -81.8 ° C, raise the temperature to -10 to + 20 ° C and remove the emitted acetylene to -5.
A method for purifying acetylene, which comprises re-cooling to 0 to -81.8 ° C and further passing through a porous material-filled portion to obtain a purity of 99.99% by volume or more.
【請求項2】前記溶剤がアセトン、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N-メチルピロリドンまたはこれらの混合物で
ある特許請求の範囲第1項記載の精製法。
2. The purification method according to claim 1, wherein the solvent is acetone, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone or a mixture thereof.
【請求項3】前記吸収時のアセチレンの圧力が0.1〜7.0
kg/cm2・abs.である特許請求の範囲第1項記載の精製
法。
3. The pressure of acetylene at the time of absorption is 0.1 to 7.0.
The purification method according to claim 1, which is kg / cm 2 · abs.
【請求項4】前記放散時のアセチレンの圧力が0.1〜1.4
kg/cm2・abs.である特許請求の範囲第1項記載の精製
法。
4. The pressure of acetylene during the emission is 0.1 to 1.4.
The purification method according to claim 1, which is kg / cm 2 · abs.
【請求項5】前記多孔質物質が活性炭、モレキュラーシ
ーブまたはシリカゲルである特許請求の範囲第1項記載
の精製法。
5. The purification method according to claim 1, wherein the porous substance is activated carbon, molecular sieve or silica gel.
【請求項6】-20〜-81.8℃でアセチレンを選択吸収する
溶剤にアセチレンを吸収せしめるアセチレン吸収塔、ア
セチレンを選択吸収する溶剤に吸収せしめたアセチレン
を-10〜+20℃で放散せしめるアセチレン放散塔、放散せ
しめられたアセチレンを-50〜-81.8℃に再冷却する冷却
塔および冷却せしめられたアセチレン中の不純物を除去
するための多孔質物質を充填した吸着塔からなり、アセ
チレン吸収塔内のアセチレンを吸収した前記溶剤をアセ
チレン放散塔に送るための手段およびアセチレン放散塔
でアセチレンを放散した前記溶剤をアセチレン放散塔か
らアセチレン吸収塔にもどすための手段が設けられてい
ることを特徴とするアセチレン精製装置。
6. An acetylene absorption tower capable of absorbing acetylene in a solvent which selectively absorbs acetylene at -20 to -81.8 ° C., and acetylene diffusion which diffuses acetylene absorbed in a solvent which selectively absorbs acetylene at -10 to + 20 ° C. The acetylene absorption column consists of a column, a cooling column for re-cooling the diffused acetylene to -50 to -81.8 ° C., and an adsorption column filled with a porous material for removing impurities in the cooled acetylene. Means for sending the solvent that has absorbed acetylene to the acetylene stripping tower and means for returning the solvent that has stripped acetylene in the acetylene stripping tower from the acetylene stripping tower to the acetylene absorption tower is provided with acetylene Refining equipment.
JP60159283A 1985-07-18 1985-07-18 Acetylene purification method and apparatus used therefor Expired - Lifetime JPH062682B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60159283A JPH062682B2 (en) 1985-07-18 1985-07-18 Acetylene purification method and apparatus used therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60159283A JPH062682B2 (en) 1985-07-18 1985-07-18 Acetylene purification method and apparatus used therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6219539A JPS6219539A (en) 1987-01-28
JPH062682B2 true JPH062682B2 (en) 1994-01-12

Family

ID=15690408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60159283A Expired - Lifetime JPH062682B2 (en) 1985-07-18 1985-07-18 Acetylene purification method and apparatus used therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH062682B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010065880A3 (en) * 2008-12-05 2010-08-12 Matheson Tri-Gas, Inc. Acetylene process gas purification methods and systems
JP2012516278A (en) * 2009-01-28 2012-07-19 サリー ナノシステムズ リミテッド Provision of gas used to form carbon nanomaterials

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774171B2 (en) * 1987-05-27 1995-08-09 東邦アセチレン株式会社 Purification method of acetylene gas
JPH0228539A (en) * 1988-07-19 1990-01-30 Toho Asechiren Kk High-purity gaseous acetylene composition for atomic absorption and atomic emission analysis
FR2853313B1 (en) * 2003-04-04 2005-05-06 Air Liquide PROCESS FOR REMOVING A SOLVENT CONTAINED IN ACETYLENE, INSTALLATION FOR CARRYING OUT THE PROCESS
US7820556B2 (en) * 2008-06-04 2010-10-26 Novellus Systems, Inc. Method for purifying acetylene gas for use in semiconductor processes
US8435608B1 (en) 2008-06-27 2013-05-07 Novellus Systems, Inc. Methods of depositing smooth and conformal ashable hard mask films
US8129577B2 (en) 2008-09-16 2012-03-06 Air Products And Chemicals, Inc. Process and system for providing acetylene
JP5643529B2 (en) * 2010-03-25 2014-12-17 大陽日酸株式会社 Method for producing acetylene
US8563414B1 (en) 2010-04-23 2013-10-22 Novellus Systems, Inc. Methods for forming conductive carbon films by PECVD
US9362133B2 (en) 2012-12-14 2016-06-07 Lam Research Corporation Method for forming a mask by etching conformal film on patterned ashable hardmask
US9304396B2 (en) 2013-02-25 2016-04-05 Lam Research Corporation PECVD films for EUV lithography
KR20220002748A (en) 2019-05-29 2022-01-06 램 리써치 코포레이션 High Selectivity, Low Stress, and Low Hydrogen Diamond-Like Carbon Hard Masks with High Power Pulsed Low Frequency RF
CN114195614A (en) * 2021-12-30 2022-03-18 大连科利德光电子材料有限公司 Method for preparing 4N-purity acetylene gas

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010065880A3 (en) * 2008-12-05 2010-08-12 Matheson Tri-Gas, Inc. Acetylene process gas purification methods and systems
US8182589B2 (en) 2008-12-05 2012-05-22 Matheson Tri-Gas, Inc. Acetylene process gas purification methods and systems
JP2012516278A (en) * 2009-01-28 2012-07-19 サリー ナノシステムズ リミテッド Provision of gas used to form carbon nanomaterials

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6219539A (en) 1987-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4863493A (en) High purity acetylene gas
JPH062682B2 (en) Acetylene purification method and apparatus used therefor
CN100475315C (en) Gas supplying method and system
CN1176736C (en) Gas separating and purifying method and its apparatus
EP2272815A1 (en) Processes for purification of acetylene
JPS6265918A (en) Adsorbent for separating and recovering co, its production and method for separating and recovering high-purity co by using its adsorbent
KR20070116258A (en) Purification of nitrogen trifluoride
US4874592A (en) Production process of xenon
KR100225449B1 (en) Process for the purification of ammonia
KR20020025740A (en) Cleaning process and cleaning agent for harmful gas
JP4314015B2 (en) Portable ultra-high purity acetylene feeder
KR100923357B1 (en) A Process and Apparatus for Purifying Hydrogen Bromide
JPH0379288B2 (en)
US6033460A (en) Reactive matrix for removing moisture from a fluorine containing gas and process
JPS62285988A (en) Method of providing high-purity acetylene gas and purifying apparatus for use in said method
JP2004010391A (en) Method and apparatus for recovering and purifying nitrous oxide
JP3294067B2 (en) Krypton manufacturing method
US6790419B1 (en) Purification of gaseous inorganic halide
US5064627A (en) Continuous process for separating hydrogen in high purity from a gaseous hydrogen-containing mixture
JPH01132535A (en) Concentration of acetylene gas
CN219290992U (en) Gas purification device and glove box
JPH0250770B2 (en)
JP3292311B2 (en) Purification method of methanol
JP2002012565A (en) Method for recycling perfluoro compound
JPS6265919A (en) Adsorbent for separating and recovering co, its production and method for separating and recovering co by using its adsorbent