JPH06200059A - 半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法 - Google Patents
半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 付着結合を形成する半結晶質材料の機械的性
質に不利な影響を及ぼすことなく、高められた温度で圧
力下に半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法を
提供すること。 【構成】 結合を意図した表面を融蝕限界値を下廻るエ
ネルギー密度で120〜400nmの波長範囲内のエキ
シマーの分解によって生じたUV光に暴露することによ
る半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法。
質に不利な影響を及ぼすことなく、高められた温度で圧
力下に半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法を
提供すること。 【構成】 結合を意図した表面を融蝕限界値を下廻るエ
ネルギー密度で120〜400nmの波長範囲内のエキ
シマーの分解によって生じたUV光に暴露することによ
る半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半結晶質重合体を金属
で圧力下に重合体のガラス転移温度と軟化温度との間の
温度で、先に重合体表面をUV光に暴露することによっ
てヒートシールする方法に関する。
で圧力下に重合体のガラス転移温度と軟化温度との間の
温度で、先に重合体表面をUV光に暴露することによっ
てヒートシールする方法に関する。
【0002】
【従来の技術】数多くの重合体の高い機械的強度は、こ
れらの物質の半結晶質構造に基づくものである。このよ
うな半結晶質重合体は、非晶質領域と結晶質領域との混
合物から構成されている。結晶質領域は、実質的に秩序
立っており、かつ重合鎖が鎖を構成している種々の化学
的形成ブロックの鎖の折り畳みにより格子構造を形成し
ている領域を有する。これとは異なり、秩序立っていな
い非晶質領域内の重合鎖は、ランダムコイルの形であ
る。この半結晶質重合体が軟化温度を上廻って加熱され
る場合には、結晶質の配置は、X線回折の研究によって
示されるように破壊される。急速な冷却ならびに加熱処
理により、完全に非晶質の性質を有する1つの物質が生
じる。
れらの物質の半結晶質構造に基づくものである。このよ
うな半結晶質重合体は、非晶質領域と結晶質領域との混
合物から構成されている。結晶質領域は、実質的に秩序
立っており、かつ重合鎖が鎖を構成している種々の化学
的形成ブロックの鎖の折り畳みにより格子構造を形成し
ている領域を有する。これとは異なり、秩序立っていな
い非晶質領域内の重合鎖は、ランダムコイルの形であ
る。この半結晶質重合体が軟化温度を上廻って加熱され
る場合には、結晶質の配置は、X線回折の研究によって
示されるように破壊される。急速な冷却ならびに加熱処
理により、完全に非晶質の性質を有する1つの物質が生
じる。
【0003】この方法は、既にポリエチレンテレフタレ
ート(PET)とクロムめっきされた鋼との貼合せに使
用された(H. Yokoya およびR. S. Poster, J. Appl.Po
lymer Sci.44(1992),1679〜1683、参照)。PET材料
は、上記融点に加熱され、圧力下に鋼と結合される。し
かし、この方法は、半結晶質重合体の特殊な機械的性質
が重要でありかつ別の材料との結合後にも必要とされる
場合にいつでも使用できるとは限らない。
ート(PET)とクロムめっきされた鋼との貼合せに使
用された(H. Yokoya およびR. S. Poster, J. Appl.Po
lymer Sci.44(1992),1679〜1683、参照)。PET材料
は、上記融点に加熱され、圧力下に鋼と結合される。し
かし、この方法は、半結晶質重合体の特殊な機械的性質
が重要でありかつ別の材料との結合後にも必要とされる
場合にいつでも使用できるとは限らない。
【0004】また、非晶質形へのPETフィルムの変換
の効果は、摩擦係数の減少のためおよび自己付着のため
に使用された。特に、PETの場合のように十分に高い
吸光係数を有する半結晶質重合体の場合には、適当な波
長のUV光への暴露により、薄い非晶質表面層を生じる
ことができ、同時に鎖の分解およびオリゴマー成分の形
成を伴ないうる。このことは、厚さが数ナノメートルな
いし数百ナノメートルである薄い表面層を過熱すること
によって行なわれる。例えば、米国特許第486800
6号明細書には、193〜248nmの波長を有するエ
キシマーレーザーのUV輻射線に暴露された半結晶質P
ETフィルムおよび表面上での溶融によって形成された
準非晶質領域は、さらに結晶化を誘発する物質、例えば
アセトン、塩化メチレンまたはクロロホルムに暴露する
ことができ、こうして静摩擦抵抗および動摩擦抵抗が低
いポリエステルフィルム表面を得ることができることが
開示されている。同様の方法は、米国特許第48224
51号明細書の場合にも採用されている。この場合、非
晶質表面は、特に光の反射の減少、透過率の増大ならび
にフィルムの付着および自己付着の改善に役立つ。
の効果は、摩擦係数の減少のためおよび自己付着のため
に使用された。特に、PETの場合のように十分に高い
吸光係数を有する半結晶質重合体の場合には、適当な波
長のUV光への暴露により、薄い非晶質表面層を生じる
ことができ、同時に鎖の分解およびオリゴマー成分の形
成を伴ないうる。このことは、厚さが数ナノメートルな
いし数百ナノメートルである薄い表面層を過熱すること
によって行なわれる。例えば、米国特許第486800
6号明細書には、193〜248nmの波長を有するエ
キシマーレーザーのUV輻射線に暴露された半結晶質P
ETフィルムおよび表面上での溶融によって形成された
準非晶質領域は、さらに結晶化を誘発する物質、例えば
アセトン、塩化メチレンまたはクロロホルムに暴露する
ことができ、こうして静摩擦抵抗および動摩擦抵抗が低
いポリエステルフィルム表面を得ることができることが
開示されている。同様の方法は、米国特許第48224
51号明細書の場合にも採用されている。この場合、非
晶質表面は、特に光の反射の減少、透過率の増大ならび
にフィルムの付着および自己付着の改善に役立つ。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高め
られた温度で圧力下に半結晶質重合体を金属でヒートシ
ールする方法を得ることであり、この場合付着結合を形
成する半結晶質材料の機械的性質は、不利な影響を及ぼ
されない。
られた温度で圧力下に半結晶質重合体を金属でヒートシ
ールする方法を得ることであり、この場合付着結合を形
成する半結晶質材料の機械的性質は、不利な影響を及ぼ
されない。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、結合を意図
した表面を融蝕限界値を下廻るエネルギー密度で120
〜400nmの波長範囲内のエキシマーの分解によって
生じたUV光に暴露する場合に、半結晶質重合体を金属
で圧力下に重合体のガラス転移温度と軟化温度との間の
温度で、結合を意図した重合体表面をUV光に暴露する
ことによりヒートシールする方法によって達成されるこ
とが見い出された。
した表面を融蝕限界値を下廻るエネルギー密度で120
〜400nmの波長範囲内のエキシマーの分解によって
生じたUV光に暴露する場合に、半結晶質重合体を金属
で圧力下に重合体のガラス転移温度と軟化温度との間の
温度で、結合を意図した重合体表面をUV光に暴露する
ことによりヒートシールする方法によって達成されるこ
とが見い出された。
【0007】この新規方法の好ましい実施態様の場合、
UV輻射線は、輻射源としてのUVレーザーによって行
なわれ、この場合UVレーザーは、殊に波長が248n
m(KrF)または308nm(XeCl)であるエキ
シマーレーザーである。
UV輻射線は、輻射源としてのUVレーザーによって行
なわれ、この場合UVレーザーは、殊に波長が248n
m(KrF)または308nm(XeCl)であるエキ
シマーレーザーである。
【0008】このようなエキシマーレーザーは公知であ
る。エキシマーレーザーが新規方法に使用される場合に
は、反復率は1〜1000Hzであり、かつ適当なパル
ス長は10〜100nsである。
る。エキシマーレーザーが新規方法に使用される場合に
は、反復率は1〜1000Hzであり、かつ適当なパル
ス長は10〜100nsである。
【0009】新規方法の別の好ましい実施態様の場合、
UV輻射線は、輻射源としての非干渉UVエキシマー蛍
光灯によって行なわれ、この場合波長は、殊に172n
m(Xe2 )、222nm(KrCl)または308n
m(XeCl)である。
UV輻射線は、輻射源としての非干渉UVエキシマー蛍
光灯によって行なわれ、この場合波長は、殊に172n
m(Xe2 )、222nm(KrCl)または308n
m(XeCl)である。
【0010】UV輻射線の定義された波長範囲内で新規
方法による輻射線に重合体を暴露することは、特殊な重
合体の融蝕限界値を下廻るエネルギー密度を使用して行
なわれ、かつ前記波長が使用される。この融蝕限界値
は、未だ融蝕が存在しないエネルギー密度として定義さ
れ、即ちこの場合には、物質の重大な除去は未だ存在し
ていない。融蝕率を測定するために、融蝕率は種々のエ
ネルギー密度で測定される。融蝕率を使用したエネルギ
ー密度に対して片対数的にプロットした場合には、外挿
法を行なった後のエネルギー密度の軸線との交差点は、
融蝕限界値として定義される。UV源の融蝕率は、例え
ばUV輻射線に暴露されるアパーチュアをレンズで重合
体上にピント調節することによって定められ、この場合
には、種々の深さの円形の孔がUV光のエネルギー密度
に依存して重合体表面内に形成される。融蝕限界値は、
特に簡単な方法でUVレーザーを使用して測定すること
ができる。このために、測定された腐蝕率は、重合体内
の孔の特殊な深さとパルス数との比として第1に定めら
れたものである。この値は、エネルギー密度の対数に対
してプロットされたものであり、即ちパルスエネルギー
と支持体中の孔の面積との比である。更に、外挿法によ
る線とエネルギー密度の軸線との交差点は、融蝕に対す
る限界値のエネルギー密度を定める。
方法による輻射線に重合体を暴露することは、特殊な重
合体の融蝕限界値を下廻るエネルギー密度を使用して行
なわれ、かつ前記波長が使用される。この融蝕限界値
は、未だ融蝕が存在しないエネルギー密度として定義さ
れ、即ちこの場合には、物質の重大な除去は未だ存在し
ていない。融蝕率を測定するために、融蝕率は種々のエ
ネルギー密度で測定される。融蝕率を使用したエネルギ
ー密度に対して片対数的にプロットした場合には、外挿
法を行なった後のエネルギー密度の軸線との交差点は、
融蝕限界値として定義される。UV源の融蝕率は、例え
ばUV輻射線に暴露されるアパーチュアをレンズで重合
体上にピント調節することによって定められ、この場合
には、種々の深さの円形の孔がUV光のエネルギー密度
に依存して重合体表面内に形成される。融蝕限界値は、
特に簡単な方法でUVレーザーを使用して測定すること
ができる。このために、測定された腐蝕率は、重合体内
の孔の特殊な深さとパルス数との比として第1に定めら
れたものである。この値は、エネルギー密度の対数に対
してプロットされたものであり、即ちパルスエネルギー
と支持体中の孔の面積との比である。更に、外挿法によ
る線とエネルギー密度の軸線との交差点は、融蝕に対す
る限界値のエネルギー密度を定める。
【0011】新規方法に適当な半結晶質重合体は、公知
である。ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ
イミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリアミド(PA)、ポリブチレンテレフタレー
ト(PBT)、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリ
−p−フェニレン、ポリウレタン(PUR)およびポリ
スルホン(PSU)は、好ましい。
である。ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ
イミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリアミド(PA)、ポリブチレンテレフタレー
ト(PBT)、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリ
−p−フェニレン、ポリウレタン(PUR)およびポリ
スルホン(PSU)は、好ましい。
【0012】これらの重合体に結合すべき金属は、主と
してCo、Cr、Ni、Ptまたはこれらの合金および
Al、Cu、Fe、鋼、Ag、Au、Ti、Zr、Zn
またはSnである。
してCo、Cr、Ni、Ptまたはこれらの合金および
Al、Cu、Fe、鋼、Ag、Au、Ti、Zr、Zn
またはSnである。
【0013】新規方法を有利に使用する場合には、結合
すべき金属は、密着した薄い金属層の形である。このよ
うな金属層は、一般にコバルト含有またはコバルト/ク
ロム含有の層、例えばCo−Ni−Cr層、Co−Pt
層、Co−Ni−O層、クロム15〜35原子%を含有
するCo−Cr層、ニッケルを10原子%を超えて含有
するコバルト/ニッケル層、またはニッケルを10原子
%を超えて含有しかつ酸素を3〜45原子%を超えて含
有するコバルト/ニッケル/酸素層である。しかし、鉄
を基礎とする相応する薄い金属層もよく知られている。
この層は、PVD法によって、例えば蒸着、電子ビーム
蒸着、スパッタリング、イオンめっきまたは電子アーク
法による金属成分の塗布によって生成される。蒸着およ
びスパッタリングは好ましい。前記方法で製造されかつ
しばしば強磁性である金属層は、20〜500nmの厚
さである。
すべき金属は、密着した薄い金属層の形である。このよ
うな金属層は、一般にコバルト含有またはコバルト/ク
ロム含有の層、例えばCo−Ni−Cr層、Co−Pt
層、Co−Ni−O層、クロム15〜35原子%を含有
するCo−Cr層、ニッケルを10原子%を超えて含有
するコバルト/ニッケル層、またはニッケルを10原子
%を超えて含有しかつ酸素を3〜45原子%を超えて含
有するコバルト/ニッケル/酸素層である。しかし、鉄
を基礎とする相応する薄い金属層もよく知られている。
この層は、PVD法によって、例えば蒸着、電子ビーム
蒸着、スパッタリング、イオンめっきまたは電子アーク
法による金属成分の塗布によって生成される。蒸着およ
びスパッタリングは好ましい。前記方法で製造されかつ
しばしば強磁性である金属層は、20〜500nmの厚
さである。
【0014】更に、前記重合体は、新規方法によって、
融蝕限界値よりも低いエネルギー密度を有するエキシマ
ーレーザーのUV輻射線に暴露される。この限界値のエ
ネルギー密度は、波長に依存し、かつ種々の重合体にと
って異なるものである。PETについては、一般に10
〜200mJ/cm2 である。例えば、308nmの波
長の際に限界値は約170mJ/cm2 であるけれど
も、248nmのエキシマーレーザーの波長の際にマイ
ラー(Mylar )PETフィルムの限界値エネルギーは、
約40mJ/cm2 である。新規方法を有利な方法で実
施するために、UVエキシマーレーザーは、有利に使用
され、支持板は、減圧下または酸素、窒素、アルゴン、
アンモニアまたはフレオン雰囲気(1000ミリバール
まで)中で少数のパルス、即ち単位面積当たり1〜25
個のパルスに暴露される。
融蝕限界値よりも低いエネルギー密度を有するエキシマ
ーレーザーのUV輻射線に暴露される。この限界値のエ
ネルギー密度は、波長に依存し、かつ種々の重合体にと
って異なるものである。PETについては、一般に10
〜200mJ/cm2 である。例えば、308nmの波
長の際に限界値は約170mJ/cm2 であるけれど
も、248nmのエキシマーレーザーの波長の際にマイ
ラー(Mylar )PETフィルムの限界値エネルギーは、
約40mJ/cm2 である。新規方法を有利な方法で実
施するために、UVエキシマーレーザーは、有利に使用
され、支持板は、減圧下または酸素、窒素、アルゴン、
アンモニアまたはフレオン雰囲気(1000ミリバール
まで)中で少数のパルス、即ち単位面積当たり1〜25
個のパルスに暴露される。
【0015】新規方法の特に重要な適用は、例えば剥離
試験におけるヒートシールフィルムとしてのUV輻射さ
れた半結晶質重合体フィルムの使用である。
試験におけるヒートシールフィルムとしてのUV輻射さ
れた半結晶質重合体フィルムの使用である。
【0016】剥離試験は、硬質または可撓性の支持板上
での十分な厚さの上層の付着力を評価するための1つの
公知方法である。この試験の場合、被膜は、引張試験装
置中で掴み具によって掴まれ、かつ支持板から引き剥が
され、このために必要とされる剥離力が測定される。し
かし、数μmのみまたは次微小範囲内の極めて薄い層の
場合には、この直接的な方法は、剥離試験に使用するこ
とができない。それというのも、引張試験装置の掴み具
によって直接に掴むには、層は薄すぎるからである。そ
れ故に、貼合せシート中に強行に引き入れる他の方法に
頼ることが必要である。
での十分な厚さの上層の付着力を評価するための1つの
公知方法である。この試験の場合、被膜は、引張試験装
置中で掴み具によって掴まれ、かつ支持板から引き剥が
され、このために必要とされる剥離力が測定される。し
かし、数μmのみまたは次微小範囲内の極めて薄い層の
場合には、この直接的な方法は、剥離試験に使用するこ
とができない。それというのも、引張試験装置の掴み具
によって直接に掴むには、層は薄すぎるからである。そ
れ故に、貼合せシート中に強行に引き入れる他の方法に
頼ることが必要である。
【0017】薄い被膜の場合にしばしば使用される標準
試験は、スコッチテープ試験であり、この場合感圧自己
接着性テープ(スコッチテープまたはテサ(Tesa)フィ
ルム)は、被膜に対して粘着し、かつ次に剥離される。
しかし、この市販の自己接着性テープの接着力は、堅固
に付着している被膜を剥離しうるには不十分である。そ
の後に使用された補助フィルムの被膜に対する実質的に
改善された付着力は、ヒートシールフィルム(ホットメ
ルトフィルム)を使用することによって達成することが
できる。例えばプラスチック支持板上の薄い金属層の場
合には、EAA剥離試験がしばしば使用される[De Puy
dt他,Surf. Interf. Anal. 12(1988),486]:このため
に、EAAヒートシールフィルム(Ethylene Acrylic
Acid,UCB S.A.社(Gent, Belgium 在)のVISTAFIX)
は、熱間プレス中で層系(例えば、可撓性の磁性薄膜媒
体)の金属側と貼り合わされる(105℃、接触圧力7
5kN/20cm2 、20秒)。次に、この貼合せシー
トは、幅1cmのストリップに切断される。EAAフィ
ルムから離れた側、即ち支持体側は、両面自己接着性テ
ープにより硬質金属支持体(Alシート)に貼り付けら
れる。引張試験装置中で、EAAフィルムは、掴み具中
で掴まれ、引張力が加えられる。層の平面に対して例え
ば180°の固定した角度で支持体から金属層を剥離す
るのに必要とされる力が測定される(180°EAA剥
離試験)。剥離速度は、典型的に50mm/分である。
ストリップの幅に対して標準化されたN/cmでの剥離
力は、金属層の付着力の1つの測定値として記載され
る。こうして、金属と補助フィルムとの間のより良好な
接着強さ、ひいてはスコッチテープまたはテサフィルム
の場合よりもできるだけ高い剥離力が達成されるが、し
かし常用のヒートシールフィルムは、中位の内部強度お
よび機械的安定性をもつにすぎないという欠点を有し、
したがって極めて堅固に付着している被膜の場合には、
自己接着性フィルムは、直ちに拡大しすぎ、引張試験の
間に破断される。測定可能な最大剥離力、ひいてはEA
A剥離試験(薄い金属層)における上昇試験の限界は、
4〜5N/cmであり、この値を上廻る場合には、EA
Aフィルムの内部凝集力は過剰となる。
試験は、スコッチテープ試験であり、この場合感圧自己
接着性テープ(スコッチテープまたはテサ(Tesa)フィ
ルム)は、被膜に対して粘着し、かつ次に剥離される。
しかし、この市販の自己接着性テープの接着力は、堅固
に付着している被膜を剥離しうるには不十分である。そ
の後に使用された補助フィルムの被膜に対する実質的に
改善された付着力は、ヒートシールフィルム(ホットメ
ルトフィルム)を使用することによって達成することが
できる。例えばプラスチック支持板上の薄い金属層の場
合には、EAA剥離試験がしばしば使用される[De Puy
dt他,Surf. Interf. Anal. 12(1988),486]:このため
に、EAAヒートシールフィルム(Ethylene Acrylic
Acid,UCB S.A.社(Gent, Belgium 在)のVISTAFIX)
は、熱間プレス中で層系(例えば、可撓性の磁性薄膜媒
体)の金属側と貼り合わされる(105℃、接触圧力7
5kN/20cm2 、20秒)。次に、この貼合せシー
トは、幅1cmのストリップに切断される。EAAフィ
ルムから離れた側、即ち支持体側は、両面自己接着性テ
ープにより硬質金属支持体(Alシート)に貼り付けら
れる。引張試験装置中で、EAAフィルムは、掴み具中
で掴まれ、引張力が加えられる。層の平面に対して例え
ば180°の固定した角度で支持体から金属層を剥離す
るのに必要とされる力が測定される(180°EAA剥
離試験)。剥離速度は、典型的に50mm/分である。
ストリップの幅に対して標準化されたN/cmでの剥離
力は、金属層の付着力の1つの測定値として記載され
る。こうして、金属と補助フィルムとの間のより良好な
接着強さ、ひいてはスコッチテープまたはテサフィルム
の場合よりもできるだけ高い剥離力が達成されるが、し
かし常用のヒートシールフィルムは、中位の内部強度お
よび機械的安定性をもつにすぎないという欠点を有し、
したがって極めて堅固に付着している被膜の場合には、
自己接着性フィルムは、直ちに拡大しすぎ、引張試験の
間に破断される。測定可能な最大剥離力、ひいてはEA
A剥離試験(薄い金属層)における上昇試験の限界は、
4〜5N/cmであり、この値を上廻る場合には、EA
Aフィルムの内部凝集力は過剰となる。
【0018】薄い金属層の剥離試験を改善するために、
金属に対する接着層の十分に高い強度を適度の内部凝集
力と組み合わせる自己接着性フィルムを使用することは
必要なことである。配向されたPETフィルムは、機械
的に安定であり、かつ高い引張強さを有する強いフィル
ムであることが知られている。配向されたPETは、高
い内部凝集力を有するが、しかし半結晶質物質および高
分子量物質として直接に金属に直接にヒートシールする
ことができないかまたは溶接することができず、金属に
対する付着は、高められた温度での簡単な貼合せによっ
て達成することができない。従って、記載された問題
は、簡単で有利な方法で新規の方法によって解決するこ
とができる。
金属に対する接着層の十分に高い強度を適度の内部凝集
力と組み合わせる自己接着性フィルムを使用することは
必要なことである。配向されたPETフィルムは、機械
的に安定であり、かつ高い引張強さを有する強いフィル
ムであることが知られている。配向されたPETは、高
い内部凝集力を有するが、しかし半結晶質物質および高
分子量物質として直接に金属に直接にヒートシールする
ことができないかまたは溶接することができず、金属に
対する付着は、高められた温度での簡単な貼合せによっ
て達成することができない。従って、記載された問題
は、簡単で有利な方法で新規の方法によって解決するこ
とができる。
【0019】次に、実施例につき本発明を詳説する。
【0020】
実施例1 蒸着によって施こされた厚さ200nmのCo−Ni層
の接着力を、厚さ50μmのユピレックス(Upilex)5
0R PIフィルム(Ube 社製)に対して試験するため
に、180°剥離試験を実施した。使用したヒートシー
ルフィルムは、半結晶質マイラー200DPETフィル
ム(DuPont社製、Tg =75℃)であり、これは、事前
に減圧下で20mJ/cm2 のエネルギー密度および6
個のパルスを有するKrFエキシマーレーザー(248
nm)に暴露しておいた。この方法でUVによって予熱
されたPETフィルムを熱間プレス中で105℃および
190バールで20秒間Co−Ni被覆ユピレックス
(Upilex)フィルムの金属被覆された側に溶接した。次
に、PETフィルムを180°の角度で剥離した。金属
層は、レーザーに暴露したPETフィルムと一緒にユピ
レックスフィルムから円滑に剥離することができた。
の接着力を、厚さ50μmのユピレックス(Upilex)5
0R PIフィルム(Ube 社製)に対して試験するため
に、180°剥離試験を実施した。使用したヒートシー
ルフィルムは、半結晶質マイラー200DPETフィル
ム(DuPont社製、Tg =75℃)であり、これは、事前
に減圧下で20mJ/cm2 のエネルギー密度および6
個のパルスを有するKrFエキシマーレーザー(248
nm)に暴露しておいた。この方法でUVによって予熱
されたPETフィルムを熱間プレス中で105℃および
190バールで20秒間Co−Ni被覆ユピレックス
(Upilex)フィルムの金属被覆された側に溶接した。次
に、PETフィルムを180°の角度で剥離した。金属
層は、レーザーに暴露したPETフィルムと一緒にユピ
レックスフィルムから円滑に剥離することができた。
【0021】参照試験において、暴露していないPET
フィルムを上記と同じ条件下でCo−Ni層に溶接する
ことを試みた。このことは、不可能であった。暴露され
ていないPETフィルムは、金属層に接着しなかった。
フィルムを上記と同じ条件下でCo−Ni層に溶接する
ことを試みた。このことは、不可能であった。暴露され
ていないPETフィルムは、金属層に接着しなかった。
【0022】もう1つの参照試験の場合には、180°
剥離試験の場合と同じCo−Ni層(Uplex 50R)を
用いて熱間プレス中で貼り合わされたEAAフィルムを
剥離することを試みた。これも不可能であり;EAAフ
ィルムは、拡大しすぎ、かつ破断した。その理由は、付
着力がEAAフィルムの凝集強さを上廻るからである。
剥離試験の場合と同じCo−Ni層(Uplex 50R)を
用いて熱間プレス中で貼り合わされたEAAフィルムを
剥離することを試みた。これも不可能であり;EAAフ
ィルムは、拡大しすぎ、かつ破断した。その理由は、付
着力がEAAフィルムの凝集強さを上廻るからである。
【0023】実施例2 マイラー200DPETフィルムを空気中で30分間5
mW/cm2 の出力密度を有するKrClエキシマー蛍
光灯(22nm)に暴露した。次に、このフィルムを厚
さ200nmのCo−Ni層で被覆されたユピレックス
(Upilex)50R PIフィルムの金属側に熱間プレス
中で125℃で190バールで20秒間溶接した。PE
Tフィルムは、剥離を試みた際にフィルムが破断する程
度に堅固にCo−Ni層に付着していた。
mW/cm2 の出力密度を有するKrClエキシマー蛍
光灯(22nm)に暴露した。次に、このフィルムを厚
さ200nmのCo−Ni層で被覆されたユピレックス
(Upilex)50R PIフィルムの金属側に熱間プレス
中で125℃で190バールで20秒間溶接した。PE
Tフィルムは、剥離を試みた際にフィルムが破断する程
度に堅固にCo−Ni層に付着していた。
【0024】参照試験において、暴露していないPET
フィルムを上記と同じ条件下でCo−Ni被覆された同
じユピレックス50Rフィルムに溶接することを試み
た。このことは、不可能であった。暴露されていないP
ETフィルムは、熱間プレス後にCo−Ni層に付着し
なかった。
フィルムを上記と同じ条件下でCo−Ni被覆された同
じユピレックス50Rフィルムに溶接することを試み
た。このことは、不可能であった。暴露されていないP
ETフィルムは、熱間プレス後にCo−Ni層に付着し
なかった。
【0025】実施例3 Tg 125℃、厚さ7μmおよび結晶度約40%を有す
るテイジン(Teijin)社の半結晶質テオネックス(Teon
ex)PENフィルムを減圧下で単位面積当たり6.5個
のパルスを有するエキシマーレーザーからの248nm
のUV光に暴露し、厚さ100μmのAlシート上に1
50℃、即ちガラス転移温度を約25℃上廻る温度で
7.5トン/20cm2 で20秒間圧縮した。剥離試験
において、入射エネルギー密度の関数として、次の結果
が得られた:暴露せず 貼り合わせたPEN
フィルムは容易に剥離することが可能 2.6mJ/cm2 容易に剥離することが可能 5.0mJ/cm2 容易に剥離することが可能 10mJ/cm2 部分的にのみ剥離することが可能 15mJ/cm2 部分的に剥離することが可能 20mJ/cm2 もはや剥離不可能 30mJ/cm2 剥離不可能 40mJ/cm2 剥離不可能
るテイジン(Teijin)社の半結晶質テオネックス(Teon
ex)PENフィルムを減圧下で単位面積当たり6.5個
のパルスを有するエキシマーレーザーからの248nm
のUV光に暴露し、厚さ100μmのAlシート上に1
50℃、即ちガラス転移温度を約25℃上廻る温度で
7.5トン/20cm2 で20秒間圧縮した。剥離試験
において、入射エネルギー密度の関数として、次の結果
が得られた:暴露せず 貼り合わせたPEN
フィルムは容易に剥離することが可能 2.6mJ/cm2 容易に剥離することが可能 5.0mJ/cm2 容易に剥離することが可能 10mJ/cm2 部分的にのみ剥離することが可能 15mJ/cm2 部分的に剥離することが可能 20mJ/cm2 もはや剥離不可能 30mJ/cm2 剥離不可能 40mJ/cm2 剥離不可能
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルフレート、ハーゲマイァ ドイツ連邦共和国、6700、ルートヴィヒス ハーフェン、アン、デァ、フロシュラヘ、 23 (72)発明者 ハルトムート、ヒブスト ドイツ連邦共和国、6905、シュリースハイ ム、ブラニヒシュトラーセ、23 (72)発明者 ディーター、ボイエレ オーストリア、4203、アルテンベルク、オ ーベルクラマーシュトラーセ、47 (72)発明者 ヨハネス、ハイツ ドイツ連邦共和国、7800、フライブルク、 ハンガー、ヴェーク、38
Claims (3)
- 【請求項1】 半結晶質重合体を金属で圧力下に重合体
のガラス転移温度と軟化温度との間の温度で、結合を意
図した重合体表面をUV光に暴露することによってヒー
トシールする方法において、結合を意図した表面を融蝕
限界値を下廻るエネルギー密度で120〜400nmの
波長範囲内のエキシマーの分解によって生じたUV光に
暴露することを特徴とする、半結晶質重合体を金属でヒ
ートシールする方法。 - 【請求項2】 UV光への暴露をUVエキシマーレーザ
ーを使用して実施する、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 UV光への暴露を非干渉UVエキシマー
蛍光灯を使用して実施する、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4231810.6 | 1992-09-23 | ||
DE4231810A DE4231810A1 (de) | 1992-09-23 | 1992-09-23 | Verfahren zum Heißverkleben von semikristallinen Polymeren mit Metallen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06200059A true JPH06200059A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=6468609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5235043A Withdrawn JPH06200059A (ja) | 1992-09-23 | 1993-09-21 | 半結晶質重合体を金属でヒートシールする方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5500459A (ja) |
EP (1) | EP0589351B1 (ja) |
JP (1) | JPH06200059A (ja) |
DE (2) | DE4231810A1 (ja) |
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JP3206310B2 (ja) * | 1994-07-01 | 2001-09-10 | ダイキン工業株式会社 | 表面改質されたフッ素樹脂成形品 |
DE19758020A1 (de) * | 1997-12-29 | 1999-07-01 | Volkswagen Ag | Behandlung von Kunststoffoberflächen |
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US6649225B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-11-18 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Process for the treatment of a fiber |
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US7218596B2 (en) * | 2003-05-12 | 2007-05-15 | Invent Technologies, Llc | Apparatus and method for optical data storage and retrieval |
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US9090021B2 (en) | 2012-08-02 | 2015-07-28 | Frito-Lay North America, Inc. | Ultrasonic sealing of packages |
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US5032209A (en) * | 1987-03-16 | 1991-07-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Heat sealing of semicrystalline quasi-amorphous polymers |
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JPH01286212A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 鉛ラミネートテープの製造方法 |
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1992
- 1992-09-23 DE DE4231810A patent/DE4231810A1/de not_active Withdrawn
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1993
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