JPH06208948A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄部分と薄膜部分との境界部から溶け出し
た薄膜材を少量の溶剤でしかも短時間で効率良く除去す
る。 【構成】 表面に薄膜が形成されるとともに基板保持手
段で保持された角型基板１の端縁の表面側に、溶剤を吐
出して不要薄膜を溶解する第１の表面側溶剤ノズル２６
ｂを設け、かつ、ガスを吐出して溶解物を角型基板１の
端縁よりも外方に吹き飛ばす表面側ガスノズル２７ｂを
設け、更に、第１の表面側溶剤ノズル２６ｂによる吐出
位置よりも角型基板１の端縁側の位置に溶剤を吐出して
不要薄膜を溶解する第２の表面側溶剤ノズル２８ｂを設
け、境界部から溶け出した薄膜材等の残存物をも溶解除
去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト塗布液
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤
といった薄膜が表面に形成された液晶表示装置用のガラ
ス基板やフォトマスク用のガラス基板、半導体素子製造
用の半導体ウエハ、もしくはサーマルヘッド製造用のセ
ラミックス基板などの基板に対し、その薄膜形成後の基
板の端縁に溶剤を吐出して、基板端縁の不要薄膜を溶解
除去する基板端縁洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような薄膜が形成された基板は、
その製造工程等において、基板の表面に薄膜が形成され
た後、各種処理工程を経る間に、カセットに挿抜された
り、搬送機構に保持されたりする。このとき、基板の端
縁がカセット内の収納溝や搬送機構のチャック部に接触
することにより、基板の端縁の薄膜が剥離して発塵源に
なることが知られている。

【０００３】また、回転塗布時に裏面まで回り込んだ薄
膜の一部がそのまま乾燥して残存すると、後工程の装置
を汚染したり、露光時に基板が傾いて部分的に焦点が合
わない場合を生じ、歩留りが低下する問題があった。殊
に、近年では、集積度が増大する傾向にあり、より一層
歩留りが低下する問題があった。

【０００４】このような基板端縁の不要薄膜を洗浄除去
する装置として、従来、特開平３−７８７７７号公報に
開示されているものが知られている。この従来例によれ
ば、基板の周縁部の上面および下面に対して第１および
第２の管から溶剤を供給し、その溶剤および溶解物を第
３の管から排出するように構成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の基板端縁洗浄装置では、図８に示すように、薄膜５０
が形成された基板５１の端縁を洗浄すると、溶剤が吐出
されてその溶剤によって不要薄膜が洗浄除去される基板
５１端縁に沿った部分（以下、洗浄部分という）５１ａ
と、その内側（基板１の中央側）であって薄膜が除去さ
れない部分（以下、薄膜部分という）５０ａとの境界部
において、基板５１に供給された溶剤が薄膜５０の端縁
と接触し続ける状態になる。このとき、洗浄部分５１ａ
との境界部付近の薄膜５０の縁からその溶剤によって薄
膜材が少しづつ溶け出し、その溶解された薄膜材が境界
部から洗浄部分５１ａ側にかけて線状に残存し、一旦洗
浄された洗浄部分５１ａに薄膜材の残存物５２を残して
しまう。これは、後の工程においてパーティクルの発生
の原因となり、製品の歩留りを低下させる。また、基板
５１に供給された溶解が薄膜５０の端縁と接触し続ける
と、薄膜５０に溶解が滲み込んで境界部に盛り上がりを
起こし、現像終了後にこの部分のレジストが残ってしま
う。なお、図８は、薄膜５０の厚みや残存物５２の大き
さ等は誇張して描いてあり、また薄膜５０の端縁の形状
は角ばって描いてあるが、実際には溶剤による溶解で不
規則な丸まった形状となるのが通常である。

【０００６】このような薄膜材の溶け出しによる不都合
を解消しようとすれば、薄膜材が溶け出さなくなるまで
洗浄処理をすれば良いが、処理時間を長くするに伴っ
て、溶剤の使用量が増大して不経済になるとともに、処
理効率が低下する欠点があった。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、洗浄部分と薄膜部分との境界部から溶
け出した薄膜材を少量の溶剤でしかも短時間で効率良く
除去できるようにすることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するため
に、表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手
段と、その基板保持手段によって保持された基板の端縁
の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して
不要薄膜を溶解する第１の溶剤ノズルと、その第１の溶
剤ノズルによる吐出位置よりも基板の端縁側の位置に溶
剤を吐出して不要薄膜を溶解する第２の溶剤ノズルと、
第１および第２の溶剤ノズルから吐出された溶剤によっ
て溶解された溶解物を基板の端縁よりも外方に除去する
除去手段と、第１および第２の溶剤ノズル、ならびに、
溶解物除去手段を前記基板の端縁に沿わせて相対的に移
動する移動手段とを備えて構成する。

【０００９】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄
膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基
板保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の
少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶
解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶
剤によって溶解された溶解物を基板の端縁よりも外方に
除去する溶解物除去手段と、溶剤ノズルおよび溶解物除
去手段を前記基板の端縁に沿わせて相対的に移動する移
動手段と、溶剤ノズルを、第１の洗浄位置と、その第１
の洗浄位置における吐出位置よりも基板の端縁側の位置
に溶剤を吐出する第２の洗浄位置とにわたり、基板に対
して相対的に移動する洗浄位置移動手段とを備えて構成
する。

【００１０】使用する溶剤としては、フォトレジスト塗
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロル
エチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタ
ン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロ
ゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエ
ーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキ
サイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解
する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ
ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトン
などを用いることができ、そして、これらの液体中に基
板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良
い。

【００１１】溶解物除去手段としては、第１および第２
の溶剤ノズルによる溶剤吐出箇所またはその近くに窒素
ガスなどの不活性ガスや空気などの気体を供給して溶剤
や溶解物を基板の端縁の外方に吹き飛ばすように構成す
るとか、あるいは、第１および第２の溶剤ノズルによる
溶剤吐出箇所から基板の端縁の外方側にわたって、排気
手段に接続した排気口を設け、溶剤や溶解物を吸引排気
するように構成するとか、更には、それらの両構成を併
用するなど各種の手段が採用可能である。

【００１２】

【作用】請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置の構成
によれば、表面に均一に薄膜を形成した基板を基板保持
手段に保持し、その基板の端縁に沿わせて移動手段によ
り第１および第２の溶剤ノズルを相対的に移動し、第１
の溶剤ノズルから基板の表裏両面の少なくともいずれか
一方に溶剤を吐出して基板の端縁の不要薄膜を溶解し、
それらの溶剤や溶解物を溶解物除去手段によって基板の
端縁よりも外方に除去し、その移動過程において同時
に、あるいは、続いて行われる次の移動過程において、
第２の溶剤ノズルから第１の溶剤ノズルによる吐出位置
よりも基板の端縁側の位置に溶剤を吐出し、第１の溶剤
ノズルによる洗浄時に洗浄部分との境界部の薄膜から溶
け出して洗浄部分に残存する薄膜材の線状の残存物を溶
解し、それらの溶剤や溶解物を溶解物除去手段によって
基板の端縁よりも外方に除去することができる。このと
き、第２の溶剤ノズルから吐出される溶剤は、第１の溶
剤ノズルによる吐出位置よりも基板の端縁側の位置に吐
出されるので、溶剤が薄膜部分の薄膜に接触して新たに
溶解させることはなく、したがって新たな残存物を生じ
させることがなく、洗浄部分に残存する残存物のみを有
効に溶解除去する。

【００１３】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、表面に均一に薄膜を形成した基板
を基板保持手段に保持し、溶剤ノズルを第１の洗浄位置
に位置させた状態で基板の端縁に沿わせて移動手段によ
り相対的に移動し、溶剤ノズルから基板の表裏両面の少
なくともいずれか一方に溶剤を吐出して基板の端縁の不
要薄膜を溶解し、それらの溶剤や溶解物を溶解物除去手
段によって基板の端縁よりも外方に除去し、しかる後
に、溶剤ノズルを第２の洗浄位置に位置させた状態で基
板の端縁に沿わせて移動手段により相対的に移動し、第
１の洗浄位置における溶剤の吐出位置よりも基板の端縁
側の位置に溶剤を吐出し、第１の洗浄位置に溶剤ノズル
を位置させての洗浄時に洗浄部分との境界部の薄膜から
溶け出して洗浄部分に残存する薄膜材の線状の残存物を
溶解し、それらの溶剤や溶解物を溶解物除去手段によっ
て基板の端縁よりも外方に除去することができる。この
とき、第２の洗浄位置にある溶剤ノズルから吐出される
溶剤は、溶剤ノズルが第１の洗浄位置から吐出した場合
の吐出位置よりも基板の端縁側の位置に吐出されるの
で、溶剤が薄膜部分の薄膜に接触して新たに溶解させる
ことはなく、したがって新たな残存物を生じさせること
がなく、洗浄部分に残存する残存物のみを有効に溶解除
去する。

【００１４】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。

【００１５】図１は、本発明の第１実施例に係る基板端
縁洗浄装置の概略斜視図であり、回転塗布によって表面
に薄膜が形成された角型基板１を載置保持する基板保持
手段２の横一側方に基板端縁洗浄具３が備えられて、基
板端縁洗浄装置４が構成されている。

【００１６】図２の一部切欠側面図に示すように、基台
Ｂに、第１のエアーシリンダ５と一対のガイド６，６を
介してモータ支持台７が昇降可能に設けられ、そのモー
タ支持台７上に第１の電動モータ８が設けられるととも
に、第１の電動モータ８のモータ軸８ａに角型基板１を
載置する基板載置プレート９が中空筒軸１０を介して一
体的に設けられ、基板載置プレート９上に載置した角型
基板１を90°づつ回転できるように基板保持手段２が構
成されている。

【００１７】基板載置プレート９の上面に吸着孔１１…
が形成されるとともに、基板載置プレート９内に吸着孔
１１…それぞれに連通する第１の連通孔１２が形成さ
れ、更に、中空筒軸１０を回転可能に保持する軸受部材
１３に吸気管１４が接続されるとともに内部に第２の連
通孔１５が形成され、また、その第２の連通孔１５と同
レベルにおいて、中空筒軸１０に径方向を向いた第３の
連通孔１６が形成され、軸受部材１３の内周面に上下方
向に所定間隔を隔ててＯ−リング１７，１７が設けられ
て第２の連通孔１５と第３の連通孔１６とを連通する環
状の空間が形成され、基板載置プレート９上に載置され
た角型基板１を真空吸着によって保持するように構成さ
れている。

【００１８】前記基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１８
と、その洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて
直線移動する移動手段１９と、洗浄具本体１８を角型基
板１の端縁に対して遠近変位する位置調整手段２０とか
ら構成されている。

【００１９】箱形状の第１の支持枠２１に、角型基板１
の端縁に対して遠近する方向に固定位置を微調整可能に
アングル形状の第２の支持枠２２が取り付けられるとと
もに、その第２の支持枠２２に、上下方向に固定位置を
微調整可能に第３の支持枠２３が取り付けられ、その第
３の支持枠２３に第４および第５の支持枠２４，２５が
一体的に取り付けられ、第３の支持枠２３に、角型基板
１の端縁の裏面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第
１の裏面側溶剤ノズル２６ａと、気体を吐出して溶解物
を角型基板１の端縁よりも外方に吹き飛ばす裏面側ガス
ノズル２７ａとが設けられ、一方、第４の支持枠２４
に、角型基板１の端縁の表面に溶剤を吐出して不要薄膜
を溶解する第１の表面側溶剤ノズル２６ｂが設けられる
とともに、第５の支持枠２５に、気体を吐出して溶解物
を角型基板１の端縁よりも外方に吹き飛ばす表面側ガス
ノズル２７ｂが設けられ、更に、第１の裏面側溶剤ノズ
ル２６ａおよび第１の表面側溶剤ノズル２６ｂそれぞれ
よりも角型基板１の端縁側の箇所に、それらのノズル２
６ａ，２６ｂによる吐出位置よりも角型基板１の端縁側
の位置に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第２の裏面
側溶剤ノズル２８ａおよび第２の表面側溶剤ノズル２８
ｂが設けられ、角型基板１の端縁を洗浄する前記洗浄具
本体１８が構成されている。

【００２０】前記基台Ｂに、一対のガイド２９，２９と
第２のエアーシリンダ３０とを介して、角型基板１に対
して遠近する方向に駆動移動可能に取付台３１が設けら
れ、洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に対して遠近変
位させ、洗浄具本体１８を角型基板１の長辺側端縁に沿
わせて移動する状態と、短辺側端縁に沿わせて移動する
状態とに切換えることができるように前記位置調整手段
２０が構成されている。

【００２１】前記取付台３１に、主動プーリー３２と従
動プーリー３３とが取り付けられ、両プーリー３２，３
３にベルト３４が巻回されるとともに主動プーリー３２
に第２の電動モータ３５が連動連結され、そして、ベル
ト３４に第１の支持枠２１が一体的に取り付けられると
ともに、ガイド３６を介して直線的に移動するように案
内され、洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて
直線移動するように前記移動手段１９が構成されてい
る。

【００２２】第３の支持枠２３に、排気路形成部材３７
が設けられ、この排気路形成部材３７の、第１および第
２の裏面側溶剤ノズル２６ａ，２８ａ、第１および第２
の表面側溶剤ノズル２６ｂ，２８ｂ、ならびに、裏面側
および表面側ガスノズル２７ａ，２７ｂ側の箇所に、外
拡がりの排気口３８が形成されるとともに、排気路形成
部材３７に、排気手段（図示せず）に接続された排気管
３９が接続され、気体とともにそれによって吹き飛ばさ
れた溶解物を吸引排出し、吹き飛ばされた溶解物が不測
に角型基板１の外面に飛散付着することを確実に防止で
きるように構成されている。なお、排気口３８の基板端
縁方向の長さは、対応する裏面側および表面側のガスノ
ズル２７ａ，２７ｂの基板端縁方向の長さよりも長く構
成されている。

【００２３】前記排気管３９、第１および第２の裏面側
溶剤ノズル２６ａ，２８ａ、第１および第２の表面側溶
剤ノズル２６ｂ，２８ｂそれぞれに接続された溶剤供給
管４０ａ，４０ｂ、ならびに、裏面側および表面側ガス
ノズル２７ａ，２７ｂそれぞれに接続されたガス供給管
４１ａ，４１ｂは、洗浄具本体１８の移動を許容するよ
うにいずれも可撓性を有する材料で構成されている。

【００２４】以下、第１および第２の表面側溶剤ノズル
２６ｂ，２８ｂ、ならびに、表面側ガスノズル２７ｂを
例にして説明するが、第１および第２の裏面側溶剤ノズ
ル２６ａ，２８ａ、ならびに、裏面側ガスノズル２７ａ
も同様に構成されるものである。

【００２５】裏面側ガスノズル２７ｂは、図３の（ａ）
の側面図、および、図３の（ｂ）の平面図に示すよう
に、箱型形状に構成され、そして、その角型基板１の端
縁に沿う方向の中央箇所の上部に、第１の表面側溶剤ノ
ズル２６ｂが設けられるとともに、角型基板１の端縁に
沿う方向の第１の表面側溶剤ノズル２６ｂの両側それぞ
れに、第２の表面側溶剤ノズル２８ｂが設けられてい
る。

【００２６】この構成により、第１および第２の表面側
溶剤ノズル２６ｂ，２８ｂ、ならびに、表面側ガスノズ
ル２７ｂを角型基板１の端縁に沿って往復移動するとき
に、角型基板１の端縁（図３のＡの位置）に第１の表面
側溶剤ノズル２６ｂから溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
するとともに、その溶剤および溶解物を表面側ガスノズ
ル２７ｂから吐出される気体によって角型基板１の端縁
の外方に吹き飛ばし、排気路形成部材３７の排気口３８
から吸引排気して除去し、更に、第１の表面側溶剤ノズ
ル２６ｂからの溶剤のしみ込みにより洗浄部分と薄膜部
分との境界部から洗浄部分に溶け出した薄膜材を、第２
の表面側溶剤ノズル２８ｂ，２８ｂのいずれか一方から
吐出される溶剤を第１の表面側溶剤ノズル２６ｂによる
吐出位置Ａよりも角型基板１の端縁側の位置（図３のＢ
の位置）へ吐出することによって溶解し、同様にして残
存物を有効に除去することができる。なお、図３のＣは
表面側ガスノズル２７ｂから吐出される気体の吐出位置
を示している。

【００２７】図４の（ａ）は第２実施例の平面図であ
り、表面側ガスノズル２７ｂの上方の角型基板１の端縁
に沿う方向の中央箇所に２本の第１の表面側溶剤ノズル
２６ｂ，２６ｂが設けられ、その両側それぞれに２本の
第２の表面側溶剤ノズル２８ｂ，２８ｂが設けられてい
る。

【００２８】図４の（ｂ）は第３実施例の平面図であ
り、表面側ガスノズル２７ｂの上方に、角型基板１の端
縁に沿う方向に所定間隔を隔てて４本の第２の表面側溶
剤ノズル２８ｂ…が設けられ、隣合う第２の表面側溶剤
ノズル２８ｂ，２８ｂの間それぞれに第１の表面側溶剤
ノズル２６ｂ…が設けられている。

【００２９】図５は第４実施例の平面図であり、表面側
ガスノズル２７ｂの上方に、角型基板１の端縁に沿う方
向に所定間隔を隔てて３本の表面側溶剤ノズル４２…が
設けられ、そして、前記位置調整手段２０を洗浄位置移
動手段として利用し、表面側ガスノズル２７ｂおよび表
面側溶剤ノズル４２…を、図５の（ａ）に示す第１の洗
浄位置と、図５の（ｂ）に示すように第１の洗浄位置に
おける吐出位置よりも角型基板１の端縁側の位置に溶剤
を吐出する第２の洗浄位置とにわたって一体的に移動す
るように構成されている。角型基板１の裏面側について
も同様に構成されるものである。

【００３０】この第４実施例の構成によれば、先ず、表
面側ガスノズル２７ｂおよび表面側溶剤ノズル４２…を
第１の洗浄位置に位置させた状態で、角型基板１の端縁
に沿って数回程度往復移動させ、角型基板１の端縁の不
要薄膜を十分に溶解除去するとともに、溶剤および溶解
物を気体で角型基板１の端縁に吹き飛ばし、排気路形成
部材３７の排気口３８から吸引排気して除去し、しかる
後に、表面側ガスノズル２７ｂおよび表面側溶剤ノズル
４２…を第２の洗浄位置に移動させ、角型基板１の端縁
に沿って数回程度往復移動させ、溶剤のしみ込みにより
洗浄部分と薄膜部分との境界部から溶け出した薄膜材を
溶解し、同様にして残存物を有効に除去することができ
る。

【００３１】上記第４実施例において、洗浄位置移動手
段を構成するのに、第２のエアーシリンダ３０に代え
て、ネジ軸を正逆転可能な電動モータで回転駆動する構
成を採用するとか、あるいは、第２のエアーシリンダ３
０を短縮して第１の洗浄位置から第２の洗浄位置に移動
したときに作用するようにストッパーを設け、第２の洗
浄位置に精度良く位置させるように構成しても良い。

【００３２】図６は第５実施例の側面図であり、第１実
施例における表面側ガスノズル２７ｂを無くし、第１お
よび第２表面側溶剤ノズル２６ｂ，２８ｂから吐出され
る溶剤および溶解物を、排気路形成部材３７の排気口３
８からの吸引排気のみによって除去するように構成され
ている。

【００３３】前述した裏面側および表面側ガスノズル２
７ａ，２７ｂ、ならびに、排気路形成部材３７の排気口
３８から吸引排気する手段をして、溶剤や溶解物を除去
する溶解物除去手段と総称する。

【００３４】上記実施例では、基板保持手段２に対して
洗浄具本体１８を移動するように構成しているが、洗浄
具本体１８を固定し、その洗浄具本体１８に対して基板
保持手段２を移動するように構成しても良く、要する
に、第１および第２の裏面側溶剤ノズル２６ａ，２８
ａ、第１および第２の表面側溶剤ノズル２６ｂ，２８
ｂ、、表面側溶剤ノズル４２ならびに、裏面側および表
面側ガスノズル２７ａ，２７ｂと角型基板１とを相対的
に直線移動するように構成するものであれば良い。

【００３５】なお、上記第２ないし第５の実施例におい
ては、洗浄具本体１８について、第１の実施例と異なる
部分のみ説明したが、その他の構成部分は第１の実施例
と同一である。

【００３６】また、洗浄具本体１８を直交する方向に移
動可能に２個設け、一方を長辺用に、そして、他方を短
辺用にして、一挙に長短両端縁の不要薄膜を溶解除去
し、その後、角型基板１を 180°回転させ、残りの長短
両端縁の不要薄膜を溶解除去できるように構成しても良
い。

【００３７】また、上記実施例では、基板端縁の表裏両
面に溶剤を吐出するように構成しているが、例えば、回
転可能に保持された角型基板１の下方側に溶剤を供給
し、角型基板１の裏面に回り込んで形成される薄膜を溶
解除去するように構成した裏面洗浄タイプの回転塗布装
置で回転塗布により薄膜が形成された角型基板１に対し
ては、角型基板１の端縁の表面側にのみ溶剤を吐出する
ように構成するとか、あるいは、角型基板１の端縁の裏
面側にのみ溶剤を吐出して表面張力により表面側に回り
込ませるように構成するなど、角型基板１の端縁の表裏
両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するように
構成すれば良い。

【００３８】また、上記実施例では、移動手段１９は、
洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて直線往復
移動するようになっている。したがって、第１の裏面側
および表面側溶剤ノズル２６ａ，２６ｂに対して、その
移動方向前後の位置に第２の裏面側および表面側溶剤ノ
ズル２８ａ，２８ｂを設け、角型基板１の端縁に沿って
往復移動するときに対処できるようにしているが、往復
移動しない場合であれば、第１の裏面側および表面側溶
剤ノズル２６ａ，２６ｂの移動方向後方側にのみ第２の
裏面側および表面側溶剤ノズル２８ａ，２８ｂを設ける
ようにしても良い。図７はこの場合に相当する第６実施
例の平面図を示す。ここでは、第１の表面側溶剤ノズル
２６ｂおよび表面側ガスノズル２７ｂは角型基板１に対
して図中左方向に移動するので、第２の表面側溶剤ノズ
ル２８ｂはその移動方向後方側である図中右側に設けら
れている。

【００３９】なお、上記実施例においては、いずれも基
板端縁に対する基板面に平行な方向の距離を第１の裏面
側および表面側溶剤ノズル２６ａ，２６ｂと第２の裏面
側および表面側溶剤ノズル２８ａ，２８ｂとで異ならし
めるように構成されていたが、本発明はこれに限定され
るものではない。すなわち、第１の裏面側および表面側
溶剤ノズル２６ａ，２６ｂと第２の裏面側および表面側
溶剤ノズル２８ａ，２８ｂとで基板端縁に対する基板面
に垂直な方向の距離を異ならしめるように構成しても良
い。この場合、基板端縁に沿って配列される複数の溶剤
ノズルのうち基板端縁に平行な方向の両端に配置される
溶剤ノズルのみ他の溶剤ノズルよりも基板面からの垂直
方向距離を大きくする構成、もしくは基板面からの垂直
方向距離を大きくした溶剤ノズルと大きくしない溶剤ノ
ズルとを交互に基板端縁に沿って配列する構成などが考
えられる。複数の溶剤ノズルについて、基板端縁に対す
る基板面に垂直な方向の距離を異ならしめるように構成
すると基板端縁における溶剤の線速を異ならしめること
ができるので、基板面に平行な方向の距離を異ならしめ
るように構成した場合と同様の効果が得られる。更に、
複数の溶剤ノズルについて、基板面に平行な方向の距離
を異ならしめる構成と基板面に垂直な方向の距離を異な
らしめる構成とを併用することも可能である。

【００４０】また、上記実施例では、基板１が角型の場
合について説明したが、本発明は角型以外の基板、例え
ば円形の半導体ウエハを処理する場合に対しても適用で
きる。その場合も、第１の溶剤ノズルの基板に対する相
対移動方向後方側に第２の溶剤ノズルを設けるなどによ
り、第１の溶剤ノズルにより溶剤を吐出した位置よりも
基板端縁側の位置に溶剤を吐出するように構成すれば良
い。この場合、基板上での溶剤吐出位置は、円形基板の
端縁に沿って円弧を描く形になる。

【００４１】また、以上の実施例では、第１の裏面側お
よび表面側溶剤ノズル２６ａ，２６ｂと、第２の裏面側
および表面側溶剤ノズル２８ａ，２８ｂとから吐出され
る溶剤は同一種類のものを使用するのが一般的である
が、異種のものを使用することもできる。例えば、第１
の裏面側および表面側溶剤ノズル２６ａ，２６ｂからは
メチルメトキシプロピオネートシンナー、乳酸エチル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を
吐出し、第２の裏面側および表面側溶剤ノズル２８ａ，
２８ｂからは、第１の裏面側および表面側溶剤ノズル２
６ａ，２６ｂから吐出される溶剤よりも揮発性の高いメ
チルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等を吐出す
るように構成すれば、薄膜部分へのレジストの滲み込み
を低減させることができ、境界部のレジストの盛り上が
りを防ぐことができる。また、薄膜材の残存物を第２の
裏面側および表面側溶剤ノズル２８ａ，２８ｂから吐出
される溶剤により除去することができ、境界部の形状を
美しくすることができるとともに、パーティクルの発生
を防止することができる。

【００４２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の基板端縁洗浄装置によれば、第１の溶剤
ノズルによる洗浄処理後に、洗浄部分と薄膜部分との境
界部から溶け出した薄膜材といった不要薄膜を第２の溶
剤ノズルから溶剤を吐出して洗浄除去するから、溶け出
さなくなるまで洗浄処理を継続するといったことをせず
に済み、処理時間を短縮でき、洗浄部分と薄膜部分との
境界部から溶け出した薄膜材を少量の溶剤でしかも短時
間で効率良く除去できるようになった。

【００４３】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、第１の洗浄位置に位置させた状態
で、溶剤ノズルにより洗浄処理した後に、洗浄部分と薄
膜部分との境界部から溶け出した薄膜材といった不要薄
膜を、第２の洗浄位置に位置させた溶剤ノズルから溶剤
を吐出して洗浄除去するから、溶け出さなくなるまで洗
浄処理を継続するといったことをせずに済み、処理時間
を短縮でき、洗浄部分と薄膜部分との境界部から溶け出
した薄膜材を少量の溶剤でしかも短時間で効率良く除去
できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板端縁洗浄装置の
概略斜視図である。

【図２】一部切欠全体側面図である。

【図３】（ａ）は要部の側面図、そして、（ｂ）は平面
図である。

【図４】（ａ）は第２実施例の平面図、（ｂ）は第３実
施例の平面図である。

【図５】第４実施例の平面図である。

【図６】第５実施例の側面図である。

【図７】第６実施例の平面図である。

【図８】従来例を示す要部斜視図である。

【符号の説明】

１…角型基板 ２…基板保持手段 １９…移動手段 ２０…位置調整手段 ２６ａ…第１の裏面側溶剤ノズル ２６ｂ…第１の表面側溶剤ノズル ２７ａ…裏面側ガスノズル ２７ｂ…表面側ガスノズル ２８ａ…第２の裏面側溶剤ノズル ２８ｂ…第２の表面側溶剤ノズル ３７…排気路形成部材 ４２…表面側溶剤ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｐ 8418−4Ｍ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が形成された基板を保持する
   基板保持手段と、 その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の
   表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不
   要薄膜を溶解する第１の溶剤ノズルと、 その第１の溶剤ノズルによる吐出位置よりも前記基板の
   端縁側の位置に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第２
   の溶剤ノズルと、 前記第１および第２の溶剤ノズルから吐出された溶剤に
   よって溶解された溶解物を基板の端縁よりも外方に除去
   する溶解物除去手段と、 前記第１および第２の溶剤ノズル、ならびに、溶解物除
   去手段を前記基板の端縁に沿わせて相対的に移動する移
   動手段と、 を備えた基板端縁洗浄装置。
2. 【請求項２】 表面に薄膜が形成された基板を保持する
   基板保持手段と、 その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の
   表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不
   要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、 前記溶剤ノズルから吐出された溶剤によって溶解された
   溶解物を基板の端縁よりも外方に除去する溶解物除去手
   段と、 前記溶剤ノズルおよび溶解物除去手段を前記基板の端縁
   に沿わせて相対的に移動する移動手段と、 前記溶剤ノズルを、第１の洗浄位置と、その第１の洗浄
   位置における吐出位置よりも前記基板の端縁側の位置に
   溶剤を吐出する第２の洗浄位置とにわたり、前記基板に
   対して相対的に移動する洗浄位置移動手段と、 を備えた基板端縁洗浄装置。