JPH061183B2 - 欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents
欠陥検査方法及びその装置Info
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- JPH061183B2 JPH061183B2 JP60219041A JP21904185A JPH061183B2 JP H061183 B2 JPH061183 B2 JP H061183B2 JP 60219041 A JP60219041 A JP 60219041A JP 21904185 A JP21904185 A JP 21904185A JP H061183 B2 JPH061183 B2 JP H061183B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、被検査物自体の微小な凹凸や屈折率の不均一
性等の欠陥を塵埃等の異物から弁別して検出するのに好
適な欠陥検査方法及びその装置に関する。
性等の欠陥を塵埃等の異物から弁別して検出するのに好
適な欠陥検査方法及びその装置に関する。
明暗の差や色の差を識別する人間の目の能力はかなりす
ぐれているが、ガラスのように透明な物体になると、よ
ほど大きな傷や汚れでないとこれを見分けることはでき
ない。透明な物体の中にごくわずか存在する屈折率や厚
さの差を観察する手段として、なまの細胞や菌などのよ
うに透明で明暗や色調の差に乏しい物体を観察するのに
用いられる位相差顕微鏡がある。位相差顕微鏡は、例え
ば医学書院発行「生体の科学」第17巻６号（1966年）に
おける水平敏和の「位相差顕微鏡と干渉顕微鏡」と題す
る文献において述べられている。位相差顕微鏡の原理を
第３図により説明する。
ぐれているが、ガラスのように透明な物体になると、よ
ほど大きな傷や汚れでないとこれを見分けることはでき
ない。透明な物体の中にごくわずか存在する屈折率や厚
さの差を観察する手段として、なまの細胞や菌などのよ
うに透明で明暗や色調の差に乏しい物体を観察するのに
用いられる位相差顕微鏡がある。位相差顕微鏡は、例え
ば医学書院発行「生体の科学」第17巻６号（1966年）に
おける水平敏和の「位相差顕微鏡と干渉顕微鏡」と題す
る文献において述べられている。位相差顕微鏡の原理を
第３図により説明する。
第３図において、10は光源、11はコレクタレンズ、15は
対物レンズである。コンデンサレンズ13の前焦点位置に
環状のスリット12が置かれ、このスリット12の像ができ
る対物レンズ15の後焦点位置に環状の吸収膜18及び位相
板16が置かれる。吸収膜18は、回折光９に比べて著しく
強度の大きな直接光８を減衰させ、回折光と直接光の強
度バランスをとっている。直接光８は、被検査物体14の
透過率によって変調される。一方、回折光９は、被検査
物体14の屈折率変化あるいは厚みの変化によって変調さ
れる。直接光８と回折光９は、互いに位相がπ/2ずれて
いるので、このままではたがいに干渉することはない。
しかし、回折光９の光路上に位相板16を設け回折光の位
相を直接光と干渉するように変化させているので、直接
光８を背景強度として、被検査物体14による回折光を明
暗コントラストとして像面17で観察できる。すなわち、
被検査物体の屈折率変化や厚みの変化という位相量変化
を明暗コントラストで観察できる。
対物レンズである。コンデンサレンズ13の前焦点位置に
環状のスリット12が置かれ、このスリット12の像ができ
る対物レンズ15の後焦点位置に環状の吸収膜18及び位相
板16が置かれる。吸収膜18は、回折光９に比べて著しく
強度の大きな直接光８を減衰させ、回折光と直接光の強
度バランスをとっている。直接光８は、被検査物体14の
透過率によって変調される。一方、回折光９は、被検査
物体14の屈折率変化あるいは厚みの変化によって変調さ
れる。直接光８と回折光９は、互いに位相がπ/2ずれて
いるので、このままではたがいに干渉することはない。
しかし、回折光９の光路上に位相板16を設け回折光の位
相を直接光と干渉するように変化させているので、直接
光８を背景強度として、被検査物体14による回折光を明
暗コントラストとして像面17で観察できる。すなわち、
被検査物体の屈折率変化や厚みの変化という位相量変化
を明暗コントラストで観察できる。
しかし、この明暗コントラストは、被検査物の表面に塵
埃等の異物が存在していても生ずる。従って、位相差顕
微鏡は被検査物自体の凹凸等の欠陥と異物とを検出でき
るが、欠陥と異物とを弁別することができない。このた
め、従来は、位相差顕微鏡によって被検査物の像を得た
後、第３図のスリット12を除去して得られる通過照明顕
微鏡を用いて被検査物を再検鏡し、異物による像を確認
している。
埃等の異物が存在していても生ずる。従って、位相差顕
微鏡は被検査物自体の凹凸等の欠陥と異物とを検出でき
るが、欠陥と異物とを弁別することができない。このた
め、従来は、位相差顕微鏡によって被検査物の像を得た
後、第３図のスリット12を除去して得られる通過照明顕
微鏡を用いて被検査物を再検鏡し、異物による像を確認
している。
しかるに、上記通過照明顕微鏡による異物の像の確認は
困難であり、しかも、検鏡を少なくとも２回行なうた
め、検査に時間がかかるという不都合がある。
困難であり、しかも、検鏡を少なくとも２回行なうた
め、検査に時間がかかるという不都合がある。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決すべく、被
検査物体自体に存在する微小凹凸や屈折率不均一性の欠
陥と被検査物体表面に付着した異物欠陥とを高感度で且
つ明確に弁別して検査できるようにした欠陥検査方法及
びその装置を提供することにある。
検査物体自体に存在する微小凹凸や屈折率不均一性の欠
陥と被検査物体表面に付着した異物欠陥とを高感度で且
つ明確に弁別して検査できるようにした欠陥検査方法及
びその装置を提供することにある。
被検査物表面上の異物をコントラストよく検出する手段
として、第４図に例示するような斜方照明顕微鏡があ
る。この斜方照明顕微鏡では、光源20を被検査物体22に
対して浅い照明角度になるように配置し、被検査物体22
上に凹凸がないときの照明光23の反射光27が、対物レン
ズ21に直接入射しないようにしている。そして、被検査
物体22上に異物26などが存在すると、回折光24を生じ、
像面25でコントラストよく異物26の像を検出することが
できる。
として、第４図に例示するような斜方照明顕微鏡があ
る。この斜方照明顕微鏡では、光源20を被検査物体22に
対して浅い照明角度になるように配置し、被検査物体22
上に凹凸がないときの照明光23の反射光27が、対物レン
ズ21に直接入射しないようにしている。そして、被検査
物体22上に異物26などが存在すると、回折光24を生じ、
像面25でコントラストよく異物26の像を検出することが
できる。
即ち、本発明は、上記目的を達成するために、位相差顕
微鏡だけでは被検査物体自体に存在する微小凹凸や屈折
率不均一性の欠陥と被検査物体表面に付着した異物欠陥
とを高感度で、且つ明確に弁別して検査できないことに
着目して、第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂直に照
明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の光束を
前記被検査物体の表面に斜め方向から照明し、前記第１
の照明光束によって照明された被検査物体から得られる
位相差量に応じて振幅変調された回折光と前記第２の照
明光束によって斜め方向から照明された被検査物体の表
面からの回折反射光との各々を、対物レンズと位相板及
び吸収膜並びに中心透過部とで構成された位相差顕微鏡
検出光学系を通して結像させて波長によって分離し、該
分離して結像された回折光像を第１の光電変換手段で受
光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた濃淡画
像信号を検出し、該検出された濃淡画像信号を２値化手
段で第１の２値化画像信号に変換し、前記分離されて結
像された回折反射光像を第２の光電変換手段で受光して
被検査物体の表面上の異物の画像信号を検出し、該検出
された異物の画像信号を２値化手段で第２の２値化画像
信号に変換し、前記変換された第１の２値化画像信号と
第２の２値化画像信号とを比較して被検査物体の微小凹
凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査物体の表面上の異物
欠陥とを弁別して検出することを特徴とする欠陥検査方
法である。
微鏡だけでは被検査物体自体に存在する微小凹凸や屈折
率不均一性の欠陥と被検査物体表面に付着した異物欠陥
とを高感度で、且つ明確に弁別して検査できないことに
着目して、第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂直に照
明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の光束を
前記被検査物体の表面に斜め方向から照明し、前記第１
の照明光束によって照明された被検査物体から得られる
位相差量に応じて振幅変調された回折光と前記第２の照
明光束によって斜め方向から照明された被検査物体の表
面からの回折反射光との各々を、対物レンズと位相板及
び吸収膜並びに中心透過部とで構成された位相差顕微鏡
検出光学系を通して結像させて波長によって分離し、該
分離して結像された回折光像を第１の光電変換手段で受
光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた濃淡画
像信号を検出し、該検出された濃淡画像信号を２値化手
段で第１の２値化画像信号に変換し、前記分離されて結
像された回折反射光像を第２の光電変換手段で受光して
被検査物体の表面上の異物の画像信号を検出し、該検出
された異物の画像信号を２値化手段で第２の２値化画像
信号に変換し、前記変換された第１の２値化画像信号と
第２の２値化画像信号とを比較して被検査物体の微小凹
凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査物体の表面上の異物
欠陥とを弁別して検出することを特徴とする欠陥検査方
法である。
また、本発明は、第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂
直に照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の
光束を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明する照
明手段と、対物レンズと位相板及び吸収膜並びに中心透
過部とで構成され、前記照明手段により第１の照明光束
によって照明された被検査物体から得られる位相差量に
応じて振幅変調された回折光と前記照明手段により第２
の照明光束によって斜め方向から照明された被検査物体
の表面からの回折反射光との各々を、前記対物レンズと
前記位相板及び吸収膜並びに中心透過部とを通して結像
させる位相差顕微鏡検出光学系と、該位相差顕微鏡検出
光学系によって結像される回折光と回折反射光とを波長
によって分離する分離光学系と、前記分離光学系で分離
され、前記位相差顕微鏡検出光学系で結像された回折光
像を受光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた
濃淡画像信号を検出する第１の光電変換手段と、前記分
離光学系で分離され、前記位相差顕微鏡検出光学系で結
像された回折反射光像を受光して被検査物体の表面上の
異物の画像信号を検出する第２の光電変換手段と、前記
第１の光電変換手段で検出された濃淡画像信号を所望の
閾値で２値化して第１の２値化画像信号に変換する第１
の２値化手段と、前記第２の光電変換手段で検出された
異物の画像信号を所望の閾値で２値化して第２の２値化
画像信号に変換する第２の２値化手段と、前記第１の２
値化手段で得られる第１の２値化画像信号と前記第２の
２値化手段で得られる第２の２値化画像信号とを比較し
て被検査物体の微小凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検
査物体の表面上の異物欠陥とを弁別して検出する欠陥検
出手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置であ
る。
直に照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の
光束を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明する照
明手段と、対物レンズと位相板及び吸収膜並びに中心透
過部とで構成され、前記照明手段により第１の照明光束
によって照明された被検査物体から得られる位相差量に
応じて振幅変調された回折光と前記照明手段により第２
の照明光束によって斜め方向から照明された被検査物体
の表面からの回折反射光との各々を、前記対物レンズと
前記位相板及び吸収膜並びに中心透過部とを通して結像
させる位相差顕微鏡検出光学系と、該位相差顕微鏡検出
光学系によって結像される回折光と回折反射光とを波長
によって分離する分離光学系と、前記分離光学系で分離
され、前記位相差顕微鏡検出光学系で結像された回折光
像を受光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた
濃淡画像信号を検出する第１の光電変換手段と、前記分
離光学系で分離され、前記位相差顕微鏡検出光学系で結
像された回折反射光像を受光して被検査物体の表面上の
異物の画像信号を検出する第２の光電変換手段と、前記
第１の光電変換手段で検出された濃淡画像信号を所望の
閾値で２値化して第１の２値化画像信号に変換する第１
の２値化手段と、前記第２の光電変換手段で検出された
異物の画像信号を所望の閾値で２値化して第２の２値化
画像信号に変換する第２の２値化手段と、前記第１の２
値化手段で得られる第１の２値化画像信号と前記第２の
２値化手段で得られる第２の２値化画像信号とを比較し
て被検査物体の微小凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検
査物体の表面上の異物欠陥とを弁別して検出する欠陥検
出手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置であ
る。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図を参照して
説明する。尚、第３図に示す構成要素と同一のものには
同一符号を付して説明する。
説明する。尚、第３図に示す構成要素と同一のものには
同一符号を付して説明する。
第１図において、コレクタレンズ11と環状のスリット12
との間に、ある波長の光のみを透過する光学フィルタ30
を介装し、像面17の前に光学フィルタ30と同一特性の光
学フィルタ31を配置してある。その他の位相差顕微鏡と
しての構成は第３図のものと同じである。
との間に、ある波長の光のみを透過する光学フィルタ30
を介装し、像面17の前に光学フィルタ30と同一特性の光
学フィルタ31を配置してある。その他の位相差顕微鏡と
しての構成は第３図のものと同じである。
この位相差顕微鏡光学系の一部に一体に組み込んだ斜方
照明顕微鏡の照明光源32は、被検査物14に対して浅い照
明角度をとるように配置し、照明光源32と被検査物14と
の間に、前記フィルタ30とは別の波長の光を透過する光
学フィルタ33を介装してある。そして、前記光学フィル
タ31の前にハーフミラー34を配置し、ハーフミラー34か
らの反射光を前記光学フィルタ33と同一特性の光学フィ
ルタ35を通して像面36に結像させるようにしてある。
照明顕微鏡の照明光源32は、被検査物14に対して浅い照
明角度をとるように配置し、照明光源32と被検査物14と
の間に、前記フィルタ30とは別の波長の光を透過する光
学フィルタ33を介装してある。そして、前記光学フィル
タ31の前にハーフミラー34を配置し、ハーフミラー34か
らの反射光を前記光学フィルタ33と同一特性の光学フィ
ルタ35を通して像面36に結像させるようにしてある。
位相顕微鏡の照明光源10からの照明光は、コレクタレン
ズ11、フィルタ30、スリット12を通過してコンデンサレ
ンズ13によって被検査物体14を照明する。コンデンサレ
ンズ13の前焦点位置に配置されたスリット12の像は、対
物レンズ15の後焦点位置に置かれた吸収膜18で結像する
ので、被検査物体14を通過してくる直接光37は減衰を受
け、かつ、位相板16によって回折光38と可干渉となり、
位相差顕微鏡による検出像の背景光となる。
ズ11、フィルタ30、スリット12を通過してコンデンサレ
ンズ13によって被検査物体14を照明する。コンデンサレ
ンズ13の前焦点位置に配置されたスリット12の像は、対
物レンズ15の後焦点位置に置かれた吸収膜18で結像する
ので、被検査物体14を通過してくる直接光37は減衰を受
け、かつ、位相板16によって回折光38と可干渉となり、
位相差顕微鏡による検出像の背景光となる。
一方、斜方照明顕微鏡における照明光源32の照明光39に
よる被検査物体14上の異物等による回折光40は、対物レ
ンズ15、ハーフミラー34を経て像面36に斜方照明検微鏡
像を形成する。この回折光40は、吸収膜18の位置では結
像せず、吸収膜18による影響はほとんどない。
よる被検査物体14上の異物等による回折光40は、対物レ
ンズ15、ハーフミラー34を経て像面36に斜方照明検微鏡
像を形成する。この回折光40は、吸収膜18の位置では結
像せず、吸収膜18による影響はほとんどない。
このように、フィルタ30と31，33と35を用いているの
で、位相差顕微鏡と斜方照明顕微鏡による被検査物体１
４の像を同時に得ることができる。フィルタとしては多
層薄膜フィルタ，色ガラスフィルタ等が使用できる。
で、位相差顕微鏡と斜方照明顕微鏡による被検査物体１
４の像を同時に得ることができる。フィルタとしては多
層薄膜フィルタ，色ガラスフィルタ等が使用できる。
位相差顕微鏡によれば、被検査物体14の微小凹凸、屈折
率の不均一の様子、被検査物体上の異物がコントラスト
よく検出される。一方、斜方照明顕微鏡によれば、主と
して被検査物体14上の異物がコントラストよく検出され
る。斜方照明顕微鏡では、被検査物体14に大きな段差等
がある場合、これを検出することが可能であるが、微小
な凹凸、とりわけ、ゆるやかに変化する傾斜を検出する
ことは困難である。しかし、位相差顕微鏡では、これも
検出可能である。よって、位相差顕微鏡による検出像と
斜方照明顕微鏡による検出像とを比較することにより、
異物を弁別でき、被検査物自体の欠陥のみを識別でき
る。つまり、両検出像に共に検出されていればそれは異
物と判断でき、位相差顕微鏡による像のみに検出されて
いれば、欠陥であると判断できる。
率の不均一の様子、被検査物体上の異物がコントラスト
よく検出される。一方、斜方照明顕微鏡によれば、主と
して被検査物体14上の異物がコントラストよく検出され
る。斜方照明顕微鏡では、被検査物体14に大きな段差等
がある場合、これを検出することが可能であるが、微小
な凹凸、とりわけ、ゆるやかに変化する傾斜を検出する
ことは困難である。しかし、位相差顕微鏡では、これも
検出可能である。よって、位相差顕微鏡による検出像と
斜方照明顕微鏡による検出像とを比較することにより、
異物を弁別でき、被検査物自体の欠陥のみを識別でき
る。つまり、両検出像に共に検出されていればそれは異
物と判断でき、位相差顕微鏡による像のみに検出されて
いれば、欠陥であると判断できる。
第２図は欠陥判別装置のブロックである。第１図の像面
17，36に結像した被検査物の夫々の像を光電変換素子等
のテレビカメラ51，52で電気信号に変換する。そして、
次に２値化回路55，56で２値化し、得られた２値化出力
Ｖ1，Ｖ2を判定回路57で次のように判定する。
17，36に結像した被検査物の夫々の像を光電変換素子等
のテレビカメラ51，52で電気信号に変換する。そして、
次に２値化回路55，56で２値化し、得られた２値化出力
Ｖ1，Ｖ2を判定回路57で次のように判定する。
ＶD＝Ｖ1・2 ＶA＝Ｖ1・Ｖ2 ここで、ＶDは欠陥有りを示す信号、ＶAは異物有りの信
号であり、Ｖ1，Ｖ2は、検出信号が有りの場合１，無し
の場合０とする。
号であり、Ｖ1，Ｖ2は、検出信号が有りの場合１，無し
の場合０とする。
尚、第１図において、対物レンズ15、吸収膜18、位相板
16は、一体となって位相差顕微鏡用対物レンズとして通
常市販されているが、本実施例によれば、調整困難な対
物レンズを全く改装なしに市販のものを用いることがで
きる。また、光電変換素子として、たとえばカラーテレ
ビカメラ等を用いれば、ハーフミラー34、フィルタ31，
35が不要になることは勿論である。
16は、一体となって位相差顕微鏡用対物レンズとして通
常市販されているが、本実施例によれば、調整困難な対
物レンズを全く改装なしに市販のものを用いることがで
きる。また、光電変換素子として、たとえばカラーテレ
ビカメラ等を用いれば、ハーフミラー34、フィルタ31，
35が不要になることは勿論である。
以上の実施例は、透過形の位相差顕微鏡を用いて説明し
てきたが、透過形に限らず落射形を用いてもよい。落射
形を用いれば、被検査物体が透明でなくとも検査できる
という効果がある。
てきたが、透過形に限らず落射形を用いてもよい。落射
形を用いれば、被検査物体が透明でなくとも検査できる
という効果がある。
この様に、被検査物自体の欠陥と異物との像を同時に得
ることができ、しかも両者の区別が容易なため、欠陥検
査装置の自動化を容易に達成できる。
ることができ、しかも両者の区別が容易なため、欠陥検
査装置の自動化を容易に達成できる。
本発明によれば、第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂
直に照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の
光束を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明し、前
記第１の照明光束によって照明された被検査物体から得
られる位相差量に応じて振幅変調された回折光と前記第
２の照明光束によって斜め方向から照明された被検査物
体の表面からの回折反射光との各々を、位相差顕微鏡検
出光学系を通して結像させて波長によって分離し、該分
離して結像された回折光像と回折反射光像との各々を第
１および第２の光電変換手段で受光して被検査物体の厚
さ若しくは屈折率に応じた濃淡画像信号と被検査物体の
表面上の異物の画像信号とを検出し、該検出された濃淡
画像信号および異物の画像信号を２値化手段で第１およ
び第２の２値化画像信号に変換し、前記変換された第１
の２値化画像信号と第２の２値化画像信号とを比較して
被検査物体の微小凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査
物体の表面上の異物欠陥とを弁別して検出するように構
成したので、異物欠陥を被検査物体の屈折率や反射率に
全く影響を受けることなく弁別して検査でき、しかも位
相差顕微鏡だけでは識別不可能な被検査物体上の微小凹
凸や屈折率不均一性の欠点と該被検査物体の表面上に付
着した塵埃等の異物欠陥とを高感度で、しかも明確に弁
別して検査することができる効果を奏する。
直に照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の
光束を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明し、前
記第１の照明光束によって照明された被検査物体から得
られる位相差量に応じて振幅変調された回折光と前記第
２の照明光束によって斜め方向から照明された被検査物
体の表面からの回折反射光との各々を、位相差顕微鏡検
出光学系を通して結像させて波長によって分離し、該分
離して結像された回折光像と回折反射光像との各々を第
１および第２の光電変換手段で受光して被検査物体の厚
さ若しくは屈折率に応じた濃淡画像信号と被検査物体の
表面上の異物の画像信号とを検出し、該検出された濃淡
画像信号および異物の画像信号を２値化手段で第１およ
び第２の２値化画像信号に変換し、前記変換された第１
の２値化画像信号と第２の２値化画像信号とを比較して
被検査物体の微小凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査
物体の表面上の異物欠陥とを弁別して検出するように構
成したので、異物欠陥を被検査物体の屈折率や反射率に
全く影響を受けることなく弁別して検査でき、しかも位
相差顕微鏡だけでは識別不可能な被検査物体上の微小凹
凸や屈折率不均一性の欠点と該被検査物体の表面上に付
着した塵埃等の異物欠陥とを高感度で、しかも明確に弁
別して検査することができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】第１図は本考案の一実施例に係る
欠陥検査装置の構成図、第２図は欠陥判別装置のブロッ
ク図、第３図は位相差顕微鏡の構成図、第４図は斜方照
明顕微鏡の構成図である。 10，32…光源、11，13，15…レンズ、12…スリット、14
…被検査物、17，36…像面、30，31，33，35…フィル
タ。
欠陥検査装置の構成図、第２図は欠陥判別装置のブロッ
ク図、第３図は位相差顕微鏡の構成図、第４図は斜方照
明顕微鏡の構成図である。 10，32…光源、11，13，15…レンズ、12…スリット、14
…被検査物、17，36…像面、30，31，33，35…フィル
タ。
Claims (2)
- 【請求項１】第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂直に
照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の光束
を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明し、前記第
１の照明光束によって照明された被検査物体から得られ
る位相差量に応じて振幅変調された回折光と前記第２の
照明光束によって斜め方向から照明された被検査物体の
表面からの回折反射光との各々を、対物レンズと位相板
及び吸収膜並びに中心透過部とで構成された位相差顕微
鏡検出光学系を通して結像させて波長によって分離し、
該分離して結像された回折光像を第１の光電変換手段で
受光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた濃淡
画像信号を検出し、該検出された濃淡画像信号を２値化
手段で第１の２値化画像信号に変換し、前記分離されて
結像された回折反射光像を第２の光電変換手段で受光し
て被検査物体の表面上の異物の画像信号を検出し、該検
出された異物の画像信号を２値化手段で第２の２値化画
像信号に変換し、前記変換された第１の２値化画像信号
と第２の２値化画像信号とを比較して被検査物体の微小
凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査物体の表面上の異
物欠陥とを弁別して検出することを特徴とする欠陥検査
方法。 - 【請求項２】第１の照明光束を被検査物体にほぼ垂直に
照明し、更に前記第１の光束と異なる波長の第２の光束
を前記被検査物体の表面に斜め方向から照明する照明手
段と、対物レンズと位相板及び吸収膜並びに中心透過部
とで構成され、前記照明手段により第１の照明光束によ
って照明された被検査物体から得られる位相差量に応じ
て振幅変調された回折光と前記照明手段により第２の照
明光束によって斜め方向から照明された被検査物体の表
面からの回折反射光との各々を、前記対物レンズと前記
位相板及び吸収膜並びに中心透過部とを通して結像させ
る位相差顕微鏡検出光学系と、該位相差顕微鏡検出光学
系によって結像される回折光と回折反射光とを波長によ
って分離する分離光学系と、前記分離光学系で分離さ
れ、前記位相差顕微鏡検出光学系で結像された回折光像
を受光して被検査物体の厚さ若しくは屈折率に応じた濃
淡画像信号を検出する第１の光電変換手段と、前記分離
光学系で分離され、前記位相差顕微鏡検出光学系で結像
された回折反射光像を受光して被検査物体の表面上の異
物の画像信号を検出する第２の光電変換手段と、前記第
１の光電変換手段で検出された濃淡画像信号を所望の閾
値で２値化して第１の２値化画像信号に変換する第１の
２値化手段と、前記第２の光電変換手段で検出された異
物の画像信号を所望の閾値で２値化して第２の２値化画
像信号に変換する第２の２値化手段と、前記第１の２値
化手段で得られる第１の２値化画像信号と前記第２の２
値化手段で得られる第２の２値化画像信号とを比較して
被検査物体の微小凹凸や屈折率不均一性の欠陥と被検査
物体の表面上の異物欠陥とを弁別して検出する欠陥検出
手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60219041A JPH061183B2 (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 欠陥検査方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60219041A JPH061183B2 (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 欠陥検査方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6279335A JPS6279335A (ja) | 1987-04-11 |
| JPH061183B2 true JPH061183B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=16729330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60219041A Expired - Lifetime JPH061183B2 (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 欠陥検査方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061183B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7102271B2 (ja) * | 2018-07-17 | 2022-07-19 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767844A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Surface inspecting device |
| JPS5990813A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-25 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 落射型顕微鏡 |
-
1985
- 1985-10-03 JP JP60219041A patent/JPH061183B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6279335A (ja) | 1987-04-11 |
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