JPH0554812A - イオン源 - Google Patents
イオン源Info
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- JPH0554812A JPH0554812A JP3236968A JP23696891A JPH0554812A JP H0554812 A JPH0554812 A JP H0554812A JP 3236968 A JP3236968 A JP 3236968A JP 23696891 A JP23696891 A JP 23696891A JP H0554812 A JPH0554812 A JP H0554812A
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イオン源はカソ−ドフィラメントを用いて熱
電子を発生させてガスをプラズマにするようになってい
る。しかし高融点の材料の場合はカソ−ドフィラメント
の温度が高くなりすぎてフィラメントの消耗が激しく頻
繁に交換しなければならない。カソ−ドフィラメントを
不要とし保守容易な高融点材料用のイオン源を提供する
こと。 【構成】 イオン源の放電室の中にカソ−ドフィラメン
トの代わりに面積の広い電極を設けこれと放電室の間に
高周波電力を印加する。この電極と放電室または放電室
内部の輻射シ−ルドとの間に高周波放電が起こり高融点
材料の蒸気が励起されてプラズマとなる。
電子を発生させてガスをプラズマにするようになってい
る。しかし高融点の材料の場合はカソ−ドフィラメント
の温度が高くなりすぎてフィラメントの消耗が激しく頻
繁に交換しなければならない。カソ−ドフィラメントを
不要とし保守容易な高融点材料用のイオン源を提供する
こと。 【構成】 イオン源の放電室の中にカソ−ドフィラメン
トの代わりに面積の広い電極を設けこれと放電室の間に
高周波電力を印加する。この電極と放電室または放電室
内部の輻射シ−ルドとの間に高周波放電が起こり高融点
材料の蒸気が励起されてプラズマとなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は融点の高い物質のイオ
ンビ−ムを作るのに適した高温で機能することのできる
イオン源に関する。
ンビ−ムを作るのに適した高温で機能することのできる
イオン源に関する。
【0002】
【従来の技術】イオン源は従来放電室に導入された原料
ガスを放電によってプラズマとしこれを引出電極によっ
てイオンビ−ムとして引き出すものであった。放電室の
何れかにガス導入口がある。放電室の内部は真空に引く
ことができる。内部にはカソ−ドフィラメントがありこ
れはフィラメント電源で加熱される。これはまた陰極と
なり放電室が陽極となって直流のア−ク放電がその間に
引き起こされる。フィラメントから熱電子が放出され加
速されガス分子と衝突するのでこれをイオン化しプラズ
マを形成する。放電室の外周には永久磁石が設けられプ
ラズマを放電室の中央部に閉じ込めるようになってい
る。放電室の出口には多孔金属板である引出電極があり
内部のプラズマをイオンビ−ムとして引き出すことがで
きる。従来は原料ガスの状態のものを扱っていたのでそ
のようなイオン源でよかった。しかしイオン源の用途が
拡がると伴に融点の高い金属等のイオンビ−ムに対する
要求が出てきた。例えばSi、Al、Cr、P等であ
る。
ガスを放電によってプラズマとしこれを引出電極によっ
てイオンビ−ムとして引き出すものであった。放電室の
何れかにガス導入口がある。放電室の内部は真空に引く
ことができる。内部にはカソ−ドフィラメントがありこ
れはフィラメント電源で加熱される。これはまた陰極と
なり放電室が陽極となって直流のア−ク放電がその間に
引き起こされる。フィラメントから熱電子が放出され加
速されガス分子と衝突するのでこれをイオン化しプラズ
マを形成する。放電室の外周には永久磁石が設けられプ
ラズマを放電室の中央部に閉じ込めるようになってい
る。放電室の出口には多孔金属板である引出電極があり
内部のプラズマをイオンビ−ムとして引き出すことがで
きる。従来は原料ガスの状態のものを扱っていたのでそ
のようなイオン源でよかった。しかしイオン源の用途が
拡がると伴に融点の高い金属等のイオンビ−ムに対する
要求が出てきた。例えばSi、Al、Cr、P等であ
る。
【0003】もちろんこれらの物質を化合物として含む
ガス物質を原料として熱分解してこれらのイオンを作る
ということが可能である。その場合は様々のイオンが発
生するから所望のイオンだけを取り出すための質量分析
が必要になる。大口径イオンビ−ムを欲しいという場合
質量分析器自体が大きくなる。質量分析をしないで所望
のイオンを得たいという要求もある。この場合は単体金
属固体を原料として出発しなければならない。固体原料
の場合は、別に設けられたオ−ブンのなかで加熱蒸発さ
せたものを放電室内に導く形態のものがある。そうでな
くて原料固体を入れたるつぼを放電室に内蔵するという
こともありうる。いずれにしても放電室の内部は従来に
ない高温になる。高温を保持するために放電室の内壁に
沿ってTa、W等の輻射シ−ルドを設ける必要がある。
さらに固体原料を高熱に加熱するためにアノ−ド電位の
フィラメントを設けて抵抗加熱することもある。
ガス物質を原料として熱分解してこれらのイオンを作る
ということが可能である。その場合は様々のイオンが発
生するから所望のイオンだけを取り出すための質量分析
が必要になる。大口径イオンビ−ムを欲しいという場合
質量分析器自体が大きくなる。質量分析をしないで所望
のイオンを得たいという要求もある。この場合は単体金
属固体を原料として出発しなければならない。固体原料
の場合は、別に設けられたオ−ブンのなかで加熱蒸発さ
せたものを放電室内に導く形態のものがある。そうでな
くて原料固体を入れたるつぼを放電室に内蔵するという
こともありうる。いずれにしても放電室の内部は従来に
ない高温になる。高温を保持するために放電室の内壁に
沿ってTa、W等の輻射シ−ルドを設ける必要がある。
さらに固体原料を高熱に加熱するためにアノ−ド電位の
フィラメントを設けて抵抗加熱することもある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図3に従来例にかかる
イオン源の例を示す。これは Y.Inouchi,H.Tanaka,H.Inam
i,F.Fukumaru,and K.Matsun
aga:”High−current metalio
n beam extraction from a
multicusp ion source”Rev.
Sci.Instrum.61(1),Jan.199
0,p538 に所載のものである。固体原料を気化するために別に蒸
発源を持つ。アノ−ドフィラメントAFがあってこれに
通電して加熱する。この熱で輻射シ−ルドRSを金属蒸
気の保持に必要な温度に加熱する。カソ−ドフィラメン
トCFがありこれは陰極となって放電室との間にア−ク
放電を発生させる。カソ−ドフィラメントは従来よりも
高温になり熱電子の発生量も多いのでスパッタが増え
る。金属蒸気との反応による消耗もある。またもともと
カソ−ドフィラメントは細長い線である。こういうわけ
で従来よりカソ−ドフィラメントの消耗が激しい。カソ
−ドフィラメントの寿命が短く従ってカソ−ドフィラメ
ントを頻繁に交換しなければならず保守点検が煩労であ
る。本発明はカソ−ドフィラメント交換を不要とするこ
とによってこのような難点を克服し保守点検の労を軽減
した高融点物質用のイオン源を提供する事を目的とす
る。
イオン源の例を示す。これは Y.Inouchi,H.Tanaka,H.Inam
i,F.Fukumaru,and K.Matsun
aga:”High−current metalio
n beam extraction from a
multicusp ion source”Rev.
Sci.Instrum.61(1),Jan.199
0,p538 に所載のものである。固体原料を気化するために別に蒸
発源を持つ。アノ−ドフィラメントAFがあってこれに
通電して加熱する。この熱で輻射シ−ルドRSを金属蒸
気の保持に必要な温度に加熱する。カソ−ドフィラメン
トCFがありこれは陰極となって放電室との間にア−ク
放電を発生させる。カソ−ドフィラメントは従来よりも
高温になり熱電子の発生量も多いのでスパッタが増え
る。金属蒸気との反応による消耗もある。またもともと
カソ−ドフィラメントは細長い線である。こういうわけ
で従来よりカソ−ドフィラメントの消耗が激しい。カソ
−ドフィラメントの寿命が短く従ってカソ−ドフィラメ
ントを頻繁に交換しなければならず保守点検が煩労であ
る。本発明はカソ−ドフィラメント交換を不要とするこ
とによってこのような難点を克服し保守点検の労を軽減
した高融点物質用のイオン源を提供する事を目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のイオン源は、真
空に引くことができ内部に放電を起こさせることにより
ガス物質をプラズマに励起する放電室と、放電室内壁に
沿って設けられる輻射シ−ルドと、放電室の外周に設け
られプラズマを閉じ込めるための磁石と、放電室の出口
に設けられ多孔金属板よりなる引出電極系と、放電室の
内部に設けられ放電室と絶縁されたプラズマ発生電極
と、放電室とプラズマ発生電極の間に高周波電力を供給
する高周波電源とを含み、放電室とプラズマ発生電極の
間で高周波放電を起こさせこれによって中性粒子蒸気を
励起してプラズマとし引き出し電極からイオンビ−ムと
して引き出すようにしたことを特徴とする。つまりカソ
−ドフィラメントがなく、これとは別に 新しくプラズ
マ発生電極を放電室の内部に設ける。そしてプラズマ発
生電極と放電室の間で高周波放電を起こさせる。又プラ
ズマ発生電極を設ける代わりに一つの輻射シ−ルドを電
極としてこれと放電室の間に高周波放電を起こさせるよ
うにしても良い。さらに金属蒸気を生成するためにイオ
ン源とは別に蒸発源を設けても良いし、或はイオン源の
中に固体原料をいれたるつぼを置いても良い。
空に引くことができ内部に放電を起こさせることにより
ガス物質をプラズマに励起する放電室と、放電室内壁に
沿って設けられる輻射シ−ルドと、放電室の外周に設け
られプラズマを閉じ込めるための磁石と、放電室の出口
に設けられ多孔金属板よりなる引出電極系と、放電室の
内部に設けられ放電室と絶縁されたプラズマ発生電極
と、放電室とプラズマ発生電極の間に高周波電力を供給
する高周波電源とを含み、放電室とプラズマ発生電極の
間で高周波放電を起こさせこれによって中性粒子蒸気を
励起してプラズマとし引き出し電極からイオンビ−ムと
して引き出すようにしたことを特徴とする。つまりカソ
−ドフィラメントがなく、これとは別に 新しくプラズ
マ発生電極を放電室の内部に設ける。そしてプラズマ発
生電極と放電室の間で高周波放電を起こさせる。又プラ
ズマ発生電極を設ける代わりに一つの輻射シ−ルドを電
極としてこれと放電室の間に高周波放電を起こさせるよ
うにしても良い。さらに金属蒸気を生成するためにイオ
ン源とは別に蒸発源を設けても良いし、或はイオン源の
中に固体原料をいれたるつぼを置いても良い。
【0006】
【作用】従来のイオン源は、カソ−ドフィラメントに通
電し熱電子を発生させ、カソ−ドフィラメントと放電室
壁の間に直流を流して直流ア−ク放電を形成する。高融
点材料を対象とする場合、カソ−ドフィラメントの温度
は2800℃〜3000℃という高温になる。ところが
本発明の場合はカソ−ドフィラメントが存在しない。代
わりに高周波放電のためのプラズマ発生電極がある。こ
れはフィラメントではなく自ら発熱しない。それゆえ周
囲の輻射シ−ルドとほぼ同程度の温度にしか上がらな
い。つまり1800℃程度である。しかもプラズマ発生
電極はフィラメントのように抵抗値を上げるため線状に
する必要がなく面積の大きい板状のものとすることがで
きる。より低温で体積も大きいので従来のカソ−ドフィ
ラメントに比べて消耗が殆ど起こらず長寿命である。
電し熱電子を発生させ、カソ−ドフィラメントと放電室
壁の間に直流を流して直流ア−ク放電を形成する。高融
点材料を対象とする場合、カソ−ドフィラメントの温度
は2800℃〜3000℃という高温になる。ところが
本発明の場合はカソ−ドフィラメントが存在しない。代
わりに高周波放電のためのプラズマ発生電極がある。こ
れはフィラメントではなく自ら発熱しない。それゆえ周
囲の輻射シ−ルドとほぼ同程度の温度にしか上がらな
い。つまり1800℃程度である。しかもプラズマ発生
電極はフィラメントのように抵抗値を上げるため線状に
する必要がなく面積の大きい板状のものとすることがで
きる。より低温で体積も大きいので従来のカソ−ドフィ
ラメントに比べて消耗が殆ど起こらず長寿命である。
【0007】
【実施例】図1によって本発明の実施例を説明する。放
電室1は真空に引くことのできる容器であり、円筒状の
側板2と側板の一方を閉塞する蓋板3とで形成される。
蓋板3の中央を貫いてプラズマ発生電極4が放電室1の
ほぼ真中に設けられる。側板2の内周にはTaまたはW
よりなる薄板の円筒状輻射シ−ルド5が設けられる。さ
らに放電室の中央より少し蓋板3によった所に軸方向に
直角な円板状の輻射シ−ルド6が設けられる。蓋板3か
ら直角にアノ−ドフィラメント7がいくつか突出してい
る。これはアノ−ド電位であって放電室内部を加熱する
ためのヒ−タになっている。タングステン等の細線より
なるヒ−タであるが陽極電位であるからプラズマ中のイ
オンによるスパッタリングを受けないので消耗が少な
い。蓋板に平行な輻射シ−ルド6をこれらのプラズマ発
生電極4、アノ−ドフィラメント7が貫いている。放電
室1の蓋板3と反対側には多孔電極板であるプラズマ電
極8、引出電極9、接地電極10よりなる引出電極系1
1が設けられる。これらはイオン源のなかからプラズマ
をイオンビ−ムとして引き出すためのものである。放電
室1の外周には磁石12が幾つか設けられる。これはカ
スプ磁場を形成することにより放電室1の壁面にプラズ
マが接触しないようにする。磁化方向は半径方向で隣接
磁石間で磁化方向が反転するよう配置される。プラズマ
電極4と放電室1の間に高周波電源13が接続される。
これはプラズマ発生電極4と放電室1の間に高周波電界
を印加し高周波放電を起こさせるためのものである。
電室1は真空に引くことのできる容器であり、円筒状の
側板2と側板の一方を閉塞する蓋板3とで形成される。
蓋板3の中央を貫いてプラズマ発生電極4が放電室1の
ほぼ真中に設けられる。側板2の内周にはTaまたはW
よりなる薄板の円筒状輻射シ−ルド5が設けられる。さ
らに放電室の中央より少し蓋板3によった所に軸方向に
直角な円板状の輻射シ−ルド6が設けられる。蓋板3か
ら直角にアノ−ドフィラメント7がいくつか突出してい
る。これはアノ−ド電位であって放電室内部を加熱する
ためのヒ−タになっている。タングステン等の細線より
なるヒ−タであるが陽極電位であるからプラズマ中のイ
オンによるスパッタリングを受けないので消耗が少な
い。蓋板に平行な輻射シ−ルド6をこれらのプラズマ発
生電極4、アノ−ドフィラメント7が貫いている。放電
室1の蓋板3と反対側には多孔電極板であるプラズマ電
極8、引出電極9、接地電極10よりなる引出電極系1
1が設けられる。これらはイオン源のなかからプラズマ
をイオンビ−ムとして引き出すためのものである。放電
室1の外周には磁石12が幾つか設けられる。これはカ
スプ磁場を形成することにより放電室1の壁面にプラズ
マが接触しないようにする。磁化方向は半径方向で隣接
磁石間で磁化方向が反転するよう配置される。プラズマ
電極4と放電室1の間に高周波電源13が接続される。
これはプラズマ発生電極4と放電室1の間に高周波電界
を印加し高周波放電を起こさせるためのものである。
【0008】この例では放電室1の外部に蒸発源14が
あり、高融点の固体を加熱して蒸気にしている。蒸発源
14は原料の固体を収容するべきるつぼ15と、ヒ−タ
16、オ−ブン17とを有する。これらが外套管18で
囲まれている。ヒ−タ16によって原料を加熱して蒸気
とする。外部との熱交換を遮断するために輻射シ−ルド
がいくつか設けられる。蒸発源14と放電室1とは連絡
管19によって連結される。蒸気が通る経路は輻射シ−
ルドで囲まれたフィ−ドパイプ20となっている。イオ
ン源の先には絶縁物21で囲まれた領域がありその先は
多様な処理装置につながっている。
あり、高融点の固体を加熱して蒸気にしている。蒸発源
14は原料の固体を収容するべきるつぼ15と、ヒ−タ
16、オ−ブン17とを有する。これらが外套管18で
囲まれている。ヒ−タ16によって原料を加熱して蒸気
とする。外部との熱交換を遮断するために輻射シ−ルド
がいくつか設けられる。蒸発源14と放電室1とは連絡
管19によって連結される。蒸気が通る経路は輻射シ−
ルドで囲まれたフィ−ドパイプ20となっている。イオ
ン源の先には絶縁物21で囲まれた領域がありその先は
多様な処理装置につながっている。
【0009】引出電極系11のプラズマ電極8の直前に
も輻射シ−ルド22があり、放電室1内周の輻射シ−ル
ド5と、中間の輻射シ−ルド6とによって円柱状の空間
が仕切られる。この内部でプラズマが発生する。前記の
アノ−ドフィラメント7とプラズマ発生電極4はこのプ
ラズマ空間の内部にある。カソ−ドフィラメントは輻射
熱を発生しプラズマ空間を加熱する。側面の輻射シ−ル
ド5と中間の輻射シ−ルド6は放電室1と同じアノ−ド
電位である。放電室1とプラズマ発生電極4の間に高周
波電力が供給されるからプラズマ発生電極4と輻射シ−
ルド6、5との間に高周波放電が発生しこれが蒸気を励
起してプラズマとする。高周波電源はイオン源の寸法や
材料によって適当に周波数、パワ−が選ばれるべきであ
る。例えば13MHz、1kWのものを使うことができ
る。プラズマが引出電極系11によってイオンビ−ムに
なって引き出される。
も輻射シ−ルド22があり、放電室1内周の輻射シ−ル
ド5と、中間の輻射シ−ルド6とによって円柱状の空間
が仕切られる。この内部でプラズマが発生する。前記の
アノ−ドフィラメント7とプラズマ発生電極4はこのプ
ラズマ空間の内部にある。カソ−ドフィラメントは輻射
熱を発生しプラズマ空間を加熱する。側面の輻射シ−ル
ド5と中間の輻射シ−ルド6は放電室1と同じアノ−ド
電位である。放電室1とプラズマ発生電極4の間に高周
波電力が供給されるからプラズマ発生電極4と輻射シ−
ルド6、5との間に高周波放電が発生しこれが蒸気を励
起してプラズマとする。高周波電源はイオン源の寸法や
材料によって適当に周波数、パワ−が選ばれるべきであ
る。例えば13MHz、1kWのものを使うことができ
る。プラズマが引出電極系11によってイオンビ−ムに
なって引き出される。
【0010】プラズマ発生電極は陰極でなく熱電子を発
生しないから比較的低温である。先述のようにこれは1
800℃程度である。厚い面積の大きい電極板にできる
からスパッタによる損傷が少ない。逆にプラズマ発生電
極は輻射シ−ルドで囲まれた高温のプラズマ空間にある
からこれに金属蒸気等が堆積するということがない。た
とえ一時的に付着しても高温であるので再び蒸発する。
従ってプラズマ発生電極は常に正常でしかも消耗もしな
いから交換の必要性が殆どない。
生しないから比較的低温である。先述のようにこれは1
800℃程度である。厚い面積の大きい電極板にできる
からスパッタによる損傷が少ない。逆にプラズマ発生電
極は輻射シ−ルドで囲まれた高温のプラズマ空間にある
からこれに金属蒸気等が堆積するということがない。た
とえ一時的に付着しても高温であるので再び蒸発する。
従ってプラズマ発生電極は常に正常でしかも消耗もしな
いから交換の必要性が殆どない。
【0011】図2に本発明の他の実施例を示す。これは
独立のプラズマ発生電極4を設ける代わりにもともと存
在する中間部の輻射シ−ルド6の一つをプラズマ発生電
極24に転用するものである。この場合、この輻射シ−
ルドと他の輻射シ−ルド6、5とは絶縁しなければなら
ない。このようにすると部材を一つ節減でき構造を単純
化できる。さらに放電の起こる範囲が広くなるのでプラ
ズマ発生がより盛んになるという長所もある。さらにこ
の例では蒸発源を別に設けず放電室1の内部に固体原料
25を入れたるつぼ26を置いてある。カソ−ドフィラ
メント7の熱によって固体原料が蒸気になる。これは蒸
発源を不要とするので装置が簡略化されるという利点が
ある。
独立のプラズマ発生電極4を設ける代わりにもともと存
在する中間部の輻射シ−ルド6の一つをプラズマ発生電
極24に転用するものである。この場合、この輻射シ−
ルドと他の輻射シ−ルド6、5とは絶縁しなければなら
ない。このようにすると部材を一つ節減でき構造を単純
化できる。さらに放電の起こる範囲が広くなるのでプラ
ズマ発生がより盛んになるという長所もある。さらにこ
の例では蒸発源を別に設けず放電室1の内部に固体原料
25を入れたるつぼ26を置いてある。カソ−ドフィラ
メント7の熱によって固体原料が蒸気になる。これは蒸
発源を不要とするので装置が簡略化されるという利点が
ある。
【0012】
【発明の効果】本発明で用いるプラズマ発生電極はカソ
−ドフィラメントより温度が低いし抵抗値を上げる必要
がないので幾何学的にも熱に強い構造にできる。高融点
の材料をプラズマにするイオン源は一層高温にせざるを
えないが、本発明は寿命の短いカソ−ドフィラメントを
用いないので保守点検の労が軽減されメンテナンスが容
易になる。
−ドフィラメントより温度が低いし抵抗値を上げる必要
がないので幾何学的にも熱に強い構造にできる。高融点
の材料をプラズマにするイオン源は一層高温にせざるを
えないが、本発明は寿命の短いカソ−ドフィラメントを
用いないので保守点検の労が軽減されメンテナンスが容
易になる。
【図1】本発明の実施例にかかるイオン源の概略断面
図。
図。
【図2】本発明の他の実施例に係るイオン源の概略断面
図。
図。
【図3】従来例に係るイオン源の概略断面図。
1 放電室 2 側板 3 蓋板 4 プラズマ発生電極 5 輻射シ−ルド 6 輻射シ−ルド 7 アノ−ドフィラメント 8 プラズマ電極 9 引出電極 10 接地電極 11 引出電極系 12 磁石 13 高周波電源 14 蒸発源 15 るつぼ 16 ヒ−タ 17 オ−ブン 18 外套部 19 連絡管 20 フィ−ドパイプ 21 絶縁物 22 輻射シ−ルド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 恭博 京都市右京区梅津高畝町47番地日新電機株 式会社内 (72)発明者 松永 幸二 京都市右京区梅津高畝町47番地日新電機株 式会社内 (72)発明者 井内 裕 京都市右京区梅津高畝町47番地日新電機株 式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】真空に引くことができ内部に放電を起こさ
せることによりガス物質をプラズマに励起する放電室
と、放電室内壁に沿って設けられる輻射シ−ルドと、放
電室の外周に設けられプラズマを閉じ込めるための磁石
と、放電室の内部に設けられ放電室と同一またはほぼ同
電位のヒ−タであるアノ−ドフィラメントと、放電室の
出口に設けられ多孔金属板よりなる引出電極系と、放電
室の内部に設けられ放電室と絶縁されたプラズマ発生電
極と、放電室とプラズマ発生電極の間に高周波電力を供
給する高周波電源とを含み、放電室とプラズマ発生電極
の間で高周波放電を起こさせこれによってガスを励起し
てプラズマとし引き出し電極からイオンビ−ムとして引
き出すようにしたことを特徴とするイオン源。 - 【請求項2】真空に引くことができ内部に放電を起こさ
せることによりガス物質をプラズマに励起する放電室
と、放電室内壁に沿って設けられる輻射シ−ルドと、放
電室の外周に設けられプラズマを閉じ込めるための磁石
と、放電室の内部に設けられ放電室と同一またはほぼ同
電位のヒ−タであるアノ−ドフィラメントと、放電室の
出口に設けられ多孔金属板よりなる引出電極系と、放電
室の内部に設けられ放電室及び他の輻射シ−ルドと絶縁
された面積の広い電極用輻射シ−ルドと、放電室と電極
用輻射シ−ルドの間に高周波電力を供給する高周波電源
とを含み、放電室と電極用輻射シ−ルドの間で高周波放
電を起こさせこれによってガスを励起してプラズマとし
引き出し電極からイオンビ−ムとして引き出すようにし
たことを特徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3236968A JPH0554812A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3236968A JPH0554812A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | イオン源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0554812A true JPH0554812A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=17008436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3236968A Pending JPH0554812A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | イオン源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0554812A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100418317B1 (ko) * | 1994-12-22 | 2004-05-24 | 더 세크러터리 오브 스테이트 포 디펜스 | 무선주파수이온소스 |
JP2019525381A (ja) * | 2016-06-21 | 2019-09-05 | アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド | アルミニウム原子イオンを生成するための固体ヨウ化アルミニウム(ali3)を用いた注入およびヨウ化アルミニウムとそれに関連付けられた副産物のインサイチュクリーニング |
WO2020197938A1 (en) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | Axcelis Technologies, Inc. | Liquid metal ion source |
-
1991
- 1991-08-22 JP JP3236968A patent/JPH0554812A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100418317B1 (ko) * | 1994-12-22 | 2004-05-24 | 더 세크러터리 오브 스테이트 포 디펜스 | 무선주파수이온소스 |
JP2019525381A (ja) * | 2016-06-21 | 2019-09-05 | アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド | アルミニウム原子イオンを生成するための固体ヨウ化アルミニウム(ali3)を用いた注入およびヨウ化アルミニウムとそれに関連付けられた副産物のインサイチュクリーニング |
WO2020197938A1 (en) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | Axcelis Technologies, Inc. | Liquid metal ion source |
US11170967B2 (en) | 2019-03-22 | 2021-11-09 | Axcelis Technologies, Inc. | Liquid metal ion source |
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