JPH05299850A - Multilayered flexible printed wiring board - Google Patents
Multilayered flexible printed wiring boardInfo
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- JPH05299850A JPH05299850A JP9637592A JP9637592A JPH05299850A JP H05299850 A JPH05299850 A JP H05299850A JP 9637592 A JP9637592 A JP 9637592A JP 9637592 A JP9637592 A JP 9637592A JP H05299850 A JPH05299850 A JP H05299850A
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- diamine
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、多層フレキシブルプリ
ント配線板に関するものであり、さらに詳しくは、銅箔
およびポリイミドフィルムとの接着力に優れたポリイソ
イミドをポリイミドフィルム上に形成したものと両面フ
レキシブルプリント配線板とを複数枚重ね合わせて構成
された多層板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer flexible printed wiring board, and more particularly to a double-sided flexible printed board having a polyimide film on which polyisoimide having excellent adhesion to copper foil and polyimide film is formed. The present invention relates to a multi-layer board configured by stacking a plurality of wiring boards.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子・電気工業の発展に伴い、通
信用、民生用機器の実装方式の簡略化、小型化、高信頼
性が要求され、プリント回路基板の使用が望まれてい
る。特に軽量で立体的に実装できるフレキシブルプリン
ト回路板の使用が有利であり、注目されている。さら
に、最近では多層構造を有するフレキシブルプリント回
路基板の使用が強く望まれている。従来、多層構造を有
するフレキシブルプリント回路基板を製造するには、接
着層としてエポキシ樹脂、アクリル樹脂などが用いられ
ていた。しかしながら、これらの接着剤層を用いた場
合、ポリイミドの耐熱性を充分に生かすことができな
い。また、ポリアミック酸を多層フレキシブルプリント
回路基板の接着剤層に用いた場合、乾燥条件が穏やかな
場合、銅箔同志を張り合わせたときに、イミド化の際に
生成する水などにより、銅箔上に、膨れ、しわなどを生
じ、反対に、乾燥条件が強すぎると十分な接着力が得ら
れないという欠点があった。また、熱可塑性のポリイミ
ドを用いた例もいくつか報告されているが、接着力、耐
熱性の面でまだ十分とは言えない。2. Description of the Related Art In recent years, with the development of the electronic and electric industries, simplification, miniaturization and high reliability of mounting methods for communication and consumer equipment have been demanded, and use of printed circuit boards has been desired. In particular, the use of a flexible printed circuit board which is light in weight and can be mounted three-dimensionally is advantageous and attracts attention. Furthermore, recently, the use of flexible printed circuit boards having a multilayer structure has been strongly desired. Conventionally, in manufacturing a flexible printed circuit board having a multilayer structure, an epoxy resin, an acrylic resin, or the like has been used as an adhesive layer. However, when these adhesive layers are used, the heat resistance of polyimide cannot be fully utilized. In addition, when polyamic acid is used for the adhesive layer of the multilayer flexible printed circuit board, when the drying conditions are mild, when the copper foils are bonded together, the water generated during imidization causes the copper foil to adhere to the copper foil. However, there is a drawback that blisters and wrinkles occur and, on the contrary, if the drying conditions are too strong, sufficient adhesive force cannot be obtained. Also, some examples using thermoplastic polyimide have been reported, but they are still insufficient in terms of adhesive strength and heat resistance.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】発明者は、耐熱性に優
れ、しかも銅箔および他のポリイミドフィルムとの接着
力に優れたポリイソイミド樹脂組成物からなる多層フレ
キシブルプリント回路基板を得ようとして研究した結
果、本発明に至ったものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors have conducted research to obtain a multilayer flexible printed circuit board composed of a polyisoimide resin composition having excellent heat resistance and excellent adhesion to copper foil and other polyimide films. As a result, the present invention has been achieved.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族テトラ
カルボン酸二無水物成分と芳香族ジアミン成分とをジア
ミン成分過剰の状態で重合させたのち該両末端をジカル
ボン酸無水物および/またはその誘導体で封止したポリ
アミック酸をイソイミド化したポリイソイミド溶液をポ
リイミドフィルムの両面に塗布してなる接着材と両面に
回路を形成したフレキシブルプリント配線板とを交互に
所定の枚数重ね合わせ硬化一体化させた多層フレキシブ
ルプリント配線板である。According to the present invention, an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride component and an aromatic diamine component are polymerized in a state in which the diamine component is in excess, and then the both ends are dicarboxylic acid anhydride and / or Adhesive made by applying a polyisoimide solution of polyamic acid isoimidized with the derivative to both sides of a polyimide film and a flexible printed wiring board with circuits formed on both sides are alternately laminated and cured and integrated. It is a multilayer flexible printed wiring board.
【0005】[0005]
【作用】本発明において、ポリイソイミドを得る反応
は、通常、テトラカルボン酸二無水物またはジアミン類
と反応しない有機極性溶媒中で行われる。この有機極性
溶媒は、反応系に対して不活性であり、かつ生成物に対
して良溶媒であること以外に、反応成分の少なくとも一
方、好ましくは両者に対して良溶媒でなければならな
い。この種の溶媒として代表的なものは、テトラヒドロ
フラン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、
N-メチル-2-ピロリドン等があり、これらの溶媒は単独
または組み合わせて使用される。この他にも溶媒として
組み合わせて用いられるものとしてベンゼン、ジオキサ
ン、キシレン、トルエン、シクロヘキサン等の非極性溶
媒が、原料の分散媒、反応調節剤あるいは生成物からの
揮散調節剤、皮膜平滑剤等として使用される。In the present invention, the reaction for obtaining polyisoimide is usually carried out in an organic polar solvent which does not react with tetracarboxylic dianhydride or diamines. Besides being inert to the reaction system and being a good solvent for the product, this organic polar solvent must be a good solvent for at least one, preferably both, of the reaction components. Typical solvents of this type are tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide,
There are N-methyl-2-pyrrolidone and the like, and these solvents are used alone or in combination. In addition to these, nonpolar solvents such as benzene, dioxane, xylene, toluene, and cyclohexane that are used in combination as a solvent are used as a dispersion medium of the raw material, a reaction regulator or a volatilization regulator from the product, and a film smoothing agent. used.
【0006】反応は一般的に無水の条件下で行うことが
好ましい。これはテトラカルボン酸二無水物が水により
開環し、不活性化し、反応を停止させる恐れがあるため
である。このため仕込原料中の水分も溶媒中の水分も除
去する必要がある。しかし一方、反応の進行を調節し、
樹脂重合度をコントロールするためにあえて水を添加す
ることも行われる。また反応は不活性ガス雰囲気中で行
われることが好ましい。これはジアミン類の酸化を防止
するためである。不活性ガスとしては一般的に乾燥窒素
ガスが使用される。The reaction is generally preferably carried out under anhydrous conditions. This is because the tetracarboxylic acid dianhydride may be ring-opened by water and may be inactivated to stop the reaction. Therefore, it is necessary to remove both the water content in the raw material and the water content in the solvent. But on the other hand, it regulates the progress of the reaction,
Water may be added to control the degree of resin polymerization. Further, the reaction is preferably carried out in an inert gas atmosphere. This is to prevent the oxidation of diamines. Dry nitrogen gas is generally used as the inert gas.
【0007】本発明において用いられる酸二無水物の例
としては、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-2,3,
6,7-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,5,6-
テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,4,5-テト
ラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカ
ルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,6,7-テトラカルボ
ン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒド
ロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、4,8
-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタレン-2,3,
6,7-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロロナフタレ
ン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,7-ジクロロ
ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,3,
6,7-テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン
酸二無水物、1,4,5,8-テトラクロロナフタレン-2,3,6,7
-テトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ジフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、3,3",4,4"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2",3,3"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,3",4"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)
-プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)-プロパン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)スル
ホン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホ
ン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタ
ン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタ
ン二無水物、ペリレン-2,3,8,9-テトラカルボン酸二無
水物、ペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン-4,5,10,11-テトラカルボン酸二無水物、ペリ
レン-5,6,11,12-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,7,8-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,9,10-テトラカルボン酸二無水物、シクロペ
ンタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-
2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン-2,3,
4,5-テトラカルボン酸二無水物、チオフェン-2,3,4,5-
テトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキシジフタル酸二
無水物などが挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。Examples of the acid dianhydride used in the present invention include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3 '-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-2,3,
6,7-Tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-1,2,5,6-
Tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-1,2,6,7 -Tetracarboxylic acid dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, 4,8
-Dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-2,3,
6,7-Tetracarboxylic acid dianhydride, 2,6-Dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 2,7-Dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Acid dianhydride, 2,3,
6,7-Tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-Tetrachloronaphthalene-2,3,6,7
-Tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ' , 4'-Diphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ", 4,4" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ", 3,3" -p-terphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,3,3 ", 4" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl)
-Propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -propane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, perylene-2,3,8,9-tetracarboxylic dianhydride, perylene-3,4,9,10- Tetracarboxylic dianhydride,
Perylene-4,5,10,11-tetracarboxylic dianhydride, perylene-5,6,11,12-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,7,8-tetracarboxylic dianhydride , Phenanthrene-1,2,6,7-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride Anhydrous, pyrazine
2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,
4,5-Tetracarboxylic acid dianhydride, thiophene-2,3,4,5-
Examples thereof include, but are not limited to, tetracarboxylic acid dianhydride and 4,4′-oxydiphthalic acid dianhydride.
【0008】本発明において用いられるジアミン成分の
例としては、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノビフェニ
ル、4,6-ジメチル-m-フェニレンジアミン、2,5-ジメチ
ル-p-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノメシチレン、
4,4'-メチレンジ-o-トルイジン、4,4'-メチレンジ-2,6-
キシリジン、4,4'-メチレン-2,6-ジエチルアニリン、2,
4-トルエンジアミン、m-フェニレン-ジアミン、p-フェ
ニレン-ジアミン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルプロパ
ン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルプロパン、4,4'-ジアミ
ノ-ジフェニルエタン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルエタ
ン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルメタン、3,3'-ジアミノ-
ジフェニルメタン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルスルフィ
ド、3,3'-ジアミノ-ジフェニルスルフィド、4,4'-ジア
ミノ-ジフェニルスルホン、3,3'-ジアミノ-ジフェニル
スルホン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルエーテル、3,3'-
ジアミノ-ジフェニルエーテル、ベンジジン、3,3'-ジア
ミノ-ビフェニル、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノ-ビフ
ェニル、3,3'-ジメトキシ-ベンジジン、4,4"-ジアミノ-
p-テルフェニル、3,3"-ジアミノ-p-テルフェニル、ビス
(p-アミノ-シクロヘキシル)メタン、ビス(p-β-アミノ-
t-ブチルフェニル)エーテル、ビス(p-β-メチル-δ-ア
ミノペンチル)ベンゼン、p-ビス(2-メチル-4-アミノ-ペ
ンチル)ベンゼン、p-ビス(1,1-ジメチル-5-アミノ-ペン
チル)ベンゼン、1,5-ジアミノ-ナフタレン、2,6-ジアミ
ノ-ナフタレン、2,4-ビス(β-アミノ-t-ブチル)トルエ
ン、2,4-ジアミノ-トルエン、m-キシレン-2,5-ジアミ
ン、p-キシレン-2,5-ジアミン、m-キシリレン-ジアミ
ン、p-キシリレン-ジアミン、2,6-ジアミノ-ピリジン、
2,5-ジアミノ-ピリジン、2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジ
アゾール、1,4-ジアミノ-シクロヘキサン、ピペラジ
ン、メチレン-ジアミン、エチレン-ジアミン、プロピレ
ン-ジアミン、2,2-ジメチル-プロピレン-ジアミン、テ
トラメチレン-ジアミン、ペンタメチレン-ジアミン、ヘ
キサメチレン-ジアミン、2,5-ジメチル-ヘキサメチレン
-ジアミン、3-メトキシ-ヘキサメチレン-ジアミン、ヘ
プタメチレン-ジアミン、2,5-ジメチル-ヘプタメチレン
-ジアミン、3-メチル-ヘプタメチレン-ジアミン、4,4-
ジメチル-ヘプタメチレン-ジアミン、オクタメチレン-
ジアミン、ノナメチレン-ジアミン、5-メチル-ノナメチ
レン-ジアミン、2,5-ジメチル-ノナメチレン-ジアミ
ン、デカメチレン-ジアミン、1,10-ジアミノ-1,10-ジメ
チル-デカン、2,11-ジアミノ-ドデカン、1,12-ジアミノ
-オクタデカン、2,12-ジアミノ-オクタデカン、2,17-ジ
アミノ-アイコサン、1,3'-ビス(3-アミノフェノキシ)ベ
ンゼンなどが挙げられる。Examples of the diamine component used in the present invention include 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,6-dimethyl-m-phenylenediamine and 2,5-dimethyl-p-phenylene. Diamine, 2,4-diaminomesitylene,
4,4'-methylenedi-o-toluidine, 4,4'-methylenedi-2,6-
Xylidine, 4,4'-methylene-2,6-diethylaniline, 2,
4-toluenediamine, m-phenylene-diamine, p-phenylene-diamine, 4,4'-diamino-diphenylpropane, 3,3'-diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylethane, 3,3 '-Diamino-diphenylethane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, 3,3'-diamino-
Diphenylmethane, 4,4'-diamino-diphenyl sulfide, 3,3'-diamino-diphenyl sulfide, 4,4'-diamino-diphenyl sulfone, 3,3'-diamino-diphenyl sulfone, 4,4'-diamino-diphenyl ether , 3,3'-
Diamino-diphenyl ether, benzidine, 3,3'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxy-benzidine, 4,4 "-diamino-
p-terphenyl, 3,3 "-diamino-p-terphenyl, bis
(p-amino-cyclohexyl) methane, bis (p-β-amino-
t-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-δ-aminopentyl) benzene, p-bis (2-methyl-4-amino-pentyl) benzene, p-bis (1,1-dimethyl-5- Amino-pentyl) benzene, 1,5-diamino-naphthalene, 2,6-diamino-naphthalene, 2,4-bis (β-amino-t-butyl) toluene, 2,4-diamino-toluene, m-xylene- 2,5-diamine, p-xylene-2,5-diamine, m-xylylene-diamine, p-xylylene-diamine, 2,6-diamino-pyridine,
2,5-diamino-pyridine, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 1,4-diamino-cyclohexane, piperazine, methylene-diamine, ethylene-diamine, propylene-diamine, 2,2- Dimethyl-propylene-diamine, tetramethylene-diamine, pentamethylene-diamine, hexamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-hexamethylene
-Diamine, 3-methoxy-hexamethylene-diamine, heptamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-heptamethylene
-Diamine, 3-methyl-heptamethylene-diamine, 4,4-
Dimethyl-heptamethylene-diamine, octamethylene-
Diamine, nonamethylene-diamine, 5-methyl-nonamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-nonamethylene-diamine, decamethylene-diamine, 1,10-diamino-1,10-dimethyl-decane, 2,11-diamino-dodecane, 1,12-diamino
-Octadecane, 2,12-diamino-octadecane, 2,17-diamino-icosane, 1,3'-bis (3-aminophenoxy) benzene and the like can be mentioned.
【0009】特に本発明で使用する樹脂組成物として
は、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物(以下BTDAと略す)と3,3',4,4'-ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物(以下BPDAと略す)とのモル
比(BTDA:BPDA)が70:30〜10:90である芳香
族テトラカルボン酸二無水物成分と、2,2-ビス[4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下BAPPと
略す)と1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下
APBと略す)とのモル比(BAPP:APB)が10:
90〜90:10である芳香族ジアミン成分とをジアミン成分
過剰の状態で重合させたのち該両末端をジカルボン酸無
水物および/またはその誘導体で封止したポリアミック
酸をイソイミド化したポリイソイミドが好ましい。In particular, the resin composition used in the present invention includes 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BTDA) and 3,3', 4,4'-biphenyl. An aromatic tetracarboxylic dianhydride component having a molar ratio (BTDA: BPDA) of 70:30 to 10:90 with tetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BPDA), and 2,2-bis [4- The molar ratio (BAPP: APB) of (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter abbreviated as BAPP) and 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB) is 10:
A polyisoimide obtained by polymerizing an aromatic diamine component of 90 to 90:10 in a state in which the diamine component is in excess and then isoimidating a polyamic acid whose both terminals are blocked with a dicarboxylic acid anhydride and / or its derivative is preferable.
【0010】ジカルボン酸無水物としては、無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、ナフタレンジカルボン酸無水物な
どが一般に用いられる。ジカルボン酸の添加時期は、ポ
リアミック酸の生成後が好ましい。これは、ジアミン成
分過剰で反応させたポリアミック酸の末端のアミンを消
失させるためである。末端にアミノ基が残存している
と、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミドの様な脱水
閉環剤を添加した際に、アミノ基の付加反応が起こり好
ましくない。As the dicarboxylic acid anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, naphthalenedicarboxylic acid anhydride and the like are generally used. The dicarboxylic acid is preferably added after the polyamic acid is formed. This is because the amine at the terminal of the polyamic acid reacted with excess diamine component is eliminated. When the amino group remains at the terminal, an addition reaction of the amino group occurs undesirably when a dehydration ring-closing agent such as N, N′-dicyclohexylcarbodiimide is added.
【0011】テトラカルボン酸二無水物成分、ジアミン
成分、酸無水物成分の反応は、酸二無水物成分/ジアミ
ン成分/酸無水物成分(モル比)=0.9/1.0/0.1〜0.9
9/1.0/0.01で行うのが好ましい。酸二無水物成分が0.
90より低いと重合度が上がらず硬化後の皮膜特性が悪
い。1.00より大きいと、硬化時にガスを発生し、平滑な
皮膜を得ることが出来ない。The reaction of the tetracarboxylic dianhydride component, the diamine component, and the acid anhydride component is carried out by acid dianhydride component / diamine component / acid anhydride component (molar ratio) = 0.9 / 1.0 / 0.1 to 0.9.
It is preferable to carry out at 9 / 1.0 / 0.01. Acid dianhydride component is 0.
If it is lower than 90, the degree of polymerization does not increase and the film properties after curing are poor. If it is greater than 1.00, gas is generated during curing, and a smooth film cannot be obtained.
【0012】イソイミド化を行なう脱水剤としては、N,
N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、無水酢酸、塩化
チオニルなどが一般に用いられる。ただし、これらの脱
水剤は、溶媒や、触媒の種類によりイソイミド環とイミ
ド環の生成比率が異なるので溶媒などの選択には注意を
要する。尚、このようにして得られたポリイソイミド中
に物性に大きな影響を及ぼさない範囲内であれば、イミ
ド環および未環化のアミック酸部分が残存していてもさ
しつかえない。As the dehydrating agent for isoimidation, N,
N'-dicyclohexylcarbodiimide, acetic anhydride, thionyl chloride and the like are generally used. However, these dehydrating agents require careful selection of the solvent and the like because the production ratio of the isoimide ring and the imide ring varies depending on the solvent and the type of the catalyst. It should be noted that the imide ring and the uncyclized amic acid moiety may remain in the polyisoimide thus obtained as long as the physical properties are not significantly affected.
【0013】ポリイミドフィルムの両面に塗布するに
は、ロールコーター、フローコーター、カーテンコータ
ーなどの塗布装置を用いて行い、樹脂組成物の乾燥温度
は、通常30〜150℃であり、溶剤を除去後、複数枚の両
面フレキシブルプリント配線板と接着材を重ねて貼り合
わせ、100〜250℃の範囲で3〜90分間、加熱・加圧硬化
させるか、上記温度以下で加圧、圧着後、180〜250℃の
範囲で3〜90分間加熱するかして、多層フレキシブルプ
リント配線板を得ることができる。両面フレキシブルプ
リント板のうち、最表(裏)面に用いるものについて
は、表(裏)側に出る面は回路未加工のものを用いるこ
ともできる。The coating on both sides of the polyimide film is carried out using a coating device such as a roll coater, a flow coater or a curtain coater. The drying temperature of the resin composition is usually 30 to 150 ° C. , A plurality of double-sided flexible printed wiring boards and adhesives are laminated and laminated, and heated and pressure-cured for 3 to 90 minutes in the range of 100 to 250 ° C, or after pressure and pressure bonding below the above temperature, 180 to A multilayer flexible printed wiring board can be obtained by heating at 250 ° C. for 3 to 90 minutes. Among the double-sided flexible printed boards, the one used for the outermost (back) surface may be the one whose circuit is not processed for the surface exposed on the front (back) side.
【0014】[0014]
【実施例】(実施例1)撹拌機、温度計、還流冷却管を
備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、APB
292.4g(1.0mol)を加え、さらにテトラヒドロフラン
(以下THFと略す)3000gを加え、ジアミンが溶解す
るまでよく撹拌した。ジアミン成分が溶解した後、溶液
を15℃以下まで冷却し、BPDA 279.5g(0.95mol)
を系内の温度が15℃を越えないように徐々に添加し、添
加終了後、15℃で3時間撹拌を行った。続いて、末端の
アミンを封止するために、無水フタル酸 14.8g(0.1mo
l)を添加し、15℃で3時間さらに反応を行なった。次
いで、600gのTHF溶液に溶解した N,N'-ジシクロヘ
キシルカルボジイミド 412.6gを8時間かけてゆっくり
と滴下した。滴下終了後、20℃で24時間撹拌を行った。
撹拌終了後、反応混合物を濾過し、ジシクロヘキシル尿
素を除去し、ポリイソイミド溶液を得た。Example 1 A 4-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser was charged with APB as a diamine component.
292.4 g (1.0 mol) was added, and further 3000 g of tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF) was added and well stirred until the diamine was dissolved. After the diamine component has dissolved, the solution is cooled to below 15 ° C and 279.5 g (0.95 mol) BPDA
Was gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after completion of the addition, stirring was carried out at 15 ° C for 3 hours. Subsequently, in order to seal the terminal amine, 14.8 g (0.1 mol) of phthalic anhydride was used.
l) was added and the reaction was further carried out at 15 ° C. for 3 hours. Next, 412.6 g of N, N'-dicyclohexylcarbodiimide dissolved in 600 g of a THF solution was slowly added dropwise over 8 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred at 20 ° C. for 24 hours.
After completion of stirring, the reaction mixture was filtered to remove dicyclohexylurea to obtain a polyisoimide solution.
【0015】(実施例2)撹拌機、温度計、還流冷却管
を備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、AP
B 292.4g(1.0mol)を加え、さらにNMPを3000g加
え、ジアミンが溶解するまでよく撹拌した。ジアミン成
分が溶解した後、溶液を15℃以下まで冷却し、BPDA
223.6g(0.76mol)、BTDA 61.2g(0.19mol)を
系内の温度が15℃を越えないように徐々に添加し、添加
終了後、15℃で3時間撹拌を行った。続いて、末端のア
ミンを封止するために、無水フタル酸 14.8g(0.1mo
l)を添加し、15℃で3時間さらに反応を行なった。次
いで、600gのNMP溶液に溶解した N,N'-ジシクロヘ
キシルカルボジイミド 412.6gを8時間かけてゆっくり
と滴下した。滴下終了後、20℃で24時間撹拌を行った。
撹拌終了後、反応混合物を濾過し、ジシクロヘキシル尿
素を除去した。得られた溶液は、メタノール中に沈澱
し、黄色のポリイソイミド粉末を得た。この粉末50gを
200gの1,4-ジオキサンに溶解し、ポリイソイミド溶液
とした。Example 2 A diamine component was added to a 4-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser as AP.
292.4 g (1.0 mol) of B was added, 3000 g of NMP was further added, and the mixture was stirred well until the diamine was dissolved. After the diamine component has dissolved, the solution is cooled to below 15 ° C and BPDA
223.6 g (0.76 mol) and BTDA 61.2 g (0.19 mol) were gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after the addition was completed, stirring was carried out at 15 ° C for 3 hours. Subsequently, in order to seal the terminal amine, 14.8 g (0.1 mol) of phthalic anhydride was used.
l) was added and the reaction was further carried out at 15 ° C. for 3 hours. Next, 412.6 g of N, N'-dicyclohexylcarbodiimide dissolved in 600 g of NMP solution was slowly added dropwise over 8 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred at 20 ° C. for 24 hours.
After completion of stirring, the reaction mixture was filtered to remove dicyclohexylurea. The resulting solution was precipitated in methanol to give a yellow polyisoimide powder. 50g of this powder
It was dissolved in 200 g of 1,4-dioxane to obtain a polyisoimide solution.
【0016】(比較例1)撹拌機、温度計、還流冷却管
を備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、AP
B 146.2g(0.5mol)、BAPP 205.3g(0.5mol)を
加え、さらにテトラヒドロフラン(以下THFと略す)
3000gを加え、ジアミンが溶解するまでよく撹拌した。
ジアミン成分が溶解した後、溶液を15℃以下まで冷却
し、BPDA223.6g(0.76mol)、BTDA 61.2g
(0.19mol)を系内の温度が15℃を越えないように徐々
に添加し、添加終了後、15℃で3時間撹拌を行った。COMPARATIVE EXAMPLE 1 A 4-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser was charged with AP as a diamine component.
B 146.2 g (0.5 mol) and BAPP 205.3 g (0.5 mol) were added, and further tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF)
3000 g was added and stirred well until the diamine was dissolved.
After the diamine component was dissolved, the solution was cooled to 15 ° C or lower, and 223.6 g (0.76 mol) of BPDA and 61.2 g of BTDA.
(0.19 mol) was gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after completion of the addition, stirring was carried out at 15 ° C for 3 hours.
【0017】(多層フレキシブルプリント配線板の製
造)以上、実施例1,2、比較例1で合成したポリイソ
イミド溶液を市販のポリイミドフィルム(宇部興産製、
ユーピレックス-R)上に乾燥後の厚みが40μmになるよ
うに塗布し、60℃、1時間乾燥し、タックフリー状態に
した後、樹脂を塗布していないもう一方の面にも、乾燥
後の厚みが40μmになるように樹脂を塗布し、60℃、1
時間、100℃、1時間(比較例1については熱イミド化
を完結するために250℃、3時間)加熱を行った。得ら
れたポリイソイミド接着剤層付きのシートを両面に回路
が印刷してある2枚のフレキシブルプリント回路板の間
に挿入し、200℃、40kg/cm2、30分加熱、圧着を行なっ
た。得られた試験片のピール強度を測定した値を第1表
に示す。(Production of Multilayer Flexible Printed Wiring Board) The polyisoimide solutions synthesized in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are commercially available polyimide films (manufactured by Ube Industries, Ltd.).
It is coated on Upilex-R) so that the thickness after drying is 40 μm, dried at 60 ° C. for 1 hour, and tack-free, then the other surface not coated with resin is also dried. Apply resin to a thickness of 40μm, 60 ℃, 1
Heating was performed for 100 hours at 100 ° C. for 1 hour (250 ° C. for 3 hours for completing thermal imidization in Comparative Example 1). The obtained sheet with the polyisoimide adhesive layer was inserted between two flexible printed circuit boards having circuits printed on both sides, and heated at 200 ° C., 40 kg / cm 2 , 30 minutes, and pressure-bonded. The values measured for the peel strength of the obtained test pieces are shown in Table 1.
【0018】[0018]
【表1】 [Table 1]
【0019】比較例1は、イソイミド化を行なわなかっ
たもので200℃では溶融しないため、接着強度はほとん
ど得られなかった。Comparative Example 1 did not undergo the imidization and did not melt at 200 ° C., so almost no adhesive strength was obtained.
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明により、耐熱性に優れ、しかも接
着工程において高温を要さずに強力な接着力を示す、ポ
リイソイミド接着剤層付きボンディングシートを得るこ
とが可能となった。このポリイソイミド接着剤層付きボ
ンディングシートは、加熱硬化後はイソイミド環がイミ
ド環へ転位するために通常のポリイミドと同程度の耐熱
性を示すことが可能となる。また、本発明は、連続シー
トを用いた多層フレキシブル印刷回路基板の連続工程に
も容易に適用できるなど、工業的な多層フレキシブル印
刷回路基板の製造方法として好適なものである。Industrial Applicability According to the present invention, it is possible to obtain a bonding sheet with a polyisoimide adhesive layer, which has excellent heat resistance and exhibits a strong adhesive force without requiring a high temperature in the adhesive step. This bonding sheet with a polyisoimide adhesive layer can exhibit heat resistance similar to that of a normal polyimide because the isoimide ring is rearranged to the imide ring after heat curing. Further, the present invention is suitable as an industrial method for manufacturing a multilayer flexible printed circuit board because it can be easily applied to a continuous process of a multilayer flexible printed circuit board using a continuous sheet.
Claims (1)
芳香族ジアミン成分とをジアミン成分過剰の状態で重合
させたのち該両末端をジカルボン酸無水物および/また
はその誘導体で封止したポリアミック酸をイソイミド化
したポリイソイミド溶液をポリイミドフィルムの両面に
塗布してなる接着材と両面に回路を形成したフレキシブ
ルプリント配線板とを交互に所定の枚数重ね合わせ硬化
一体化させた多層フレキシブルプリント配線板。1. A polyamic acid in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and an aromatic diamine component are polymerized in a state in which the diamine component is in excess, and the both ends are sealed with a dicarboxylic acid anhydride and / or a derivative thereof. A multilayer flexible printed wiring board in which an adhesive material obtained by applying a polyisoimide solution of isimidized on both sides of a polyimide film and a flexible printed wiring board having circuits formed on both sides are alternately laminated and cured to be integrated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9637592A JPH05299850A (en) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Multilayered flexible printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9637592A JPH05299850A (en) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Multilayered flexible printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05299850A true JPH05299850A (en) | 1993-11-12 |
Family
ID=14163225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9637592A Pending JPH05299850A (en) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Multilayered flexible printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05299850A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7892651B2 (en) * | 2004-09-14 | 2011-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composite metal foil, laminate and process for the production of printed wiring board using the laminate |
-
1992
- 1992-04-16 JP JP9637592A patent/JPH05299850A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7892651B2 (en) * | 2004-09-14 | 2011-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composite metal foil, laminate and process for the production of printed wiring board using the laminate |
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