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JPH0528753A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH0528753A
JPH0528753A JP3204913A JP20491391A JPH0528753A JP H0528753 A JPH0528753 A JP H0528753A JP 3204913 A JP3204913 A JP 3204913A JP 20491391 A JP20491391 A JP 20491391A JP H0528753 A JPH0528753 A JP H0528753A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
mos transistor
input
channel mos
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3204913A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanobu Nagai
昌伸 永井
Shoichiro Matsumoto
昭一郎 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP3204913A priority Critical patent/JPH0528753A/en
Publication of JPH0528753A publication Critical patent/JPH0528753A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent destruction of data caused when an input output line is connected to a bit line at a data read-out time and to attain read-out or write-in without a signal of read-out of the data or write-in of the data. CONSTITUTION:Gates are connected to bit lines B1, BL2 between the bit lines BL1, BL2 constituting a bit line pair and the input/output lines IO1, IO2 constituting the input/output line pair and drains are connected to data read-out N channel MOS transistors NR1, NR2 and the gates are connected to the input/ output lines IO1, IO2. Data write-in P channel MOS transistors PW1, PW2 in which the drains are connected to bit lines BL1, BL2, are provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はデータの入出力線を通じ
てデータの読出し、及び書込みが可能な半導体記憶装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device capable of reading and writing data through a data input / output line.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来のスタティックカラム動作モ
ードのDRAMにおけるビット線対と入出力線対との接続関
係を示す回路図であり、図中BL1 ,BL2 はビット線対を
なすビット線、IO1 ,IO2 は入出力線対をなすデータ入
出力線、BLTGはビット線トランスファゲートコントロー
ル信号線を示している。各ビット線BL1,BL2 はその一
端部が図示しないメモリセルアレイ中のメモリセルに接
続されており、また夫々途中にゲートをビット線トラン
スファゲートコントロール信号線BLTGに接続したNチャ
ネルMOS トランジスタTG1 ,TG2 ,TG3 ,TG4 が介装せ
しめられている。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a circuit diagram showing a connection relationship between a bit line pair and an input / output line pair in a conventional static column operation mode DRAM, in which BL 1 and BL 2 are bits forming a bit line pair. Lines, IO 1 and IO 2, are data input / output lines forming an input / output line pair, and BLTG is a bit line transfer gate control signal line. One end of each of the bit lines BL 1 and BL 2 is connected to a memory cell in a memory cell array (not shown), and an N-channel MOS transistor TG 1 whose gate is connected to a bit line transfer gate control signal line BLTG in the middle , TG 2 , TG 3 , TG 4 are inserted.

【0003】また両ビット線BL1 ,BL2 には前記トラン
ジスタTG1 ,TG3 間、TG2 ,TG4 間においてセンスアン
プ10が接続されると共に、このセンスアンプ10による増
幅が行われるノード、所謂センスノードSN1 ,SN2 は夫
々カラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1 ,NC2
を介在させて入出力線IO1 ,IO2 に接続されている。カ
ラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1 ,NC2 はそ
のゲートがカラム選択信号線YSに接続され、ソース又は
ドレインの一方がセンスノードSN1 ,SN2 に、他方が入
出力線IO1 ,IO2 に接続されている。
A sense amplifier 10 is connected between the transistors TG 1 and TG 3 and TG 2 and TG 4 to both bit lines BL 1 and BL 2, and a node where amplification is performed by the sense amplifier 10, So-called sense nodes SN 1 and SN 2 are column selection N-channel MOS transistors NC 1 and NC 2, respectively.
Are connected to input / output lines IO 1 and IO 2 . The gates of the column selection N-channel MOS transistors NC 1 and NC 2 are connected to the column selection signal line YS, one of the source and the drain thereof is the sense nodes SN 1 and SN 2 , and the other is the input / output lines IO 1 and IO 2. It is connected to the.

【0004】次にこのような半導体記憶装置の動作を説
明する。先ずデータの読出し動作においては入出力線IO
1 ,IO2 をプリチャージする一方、ビット線トランスフ
ァゲートコントロール信号線BLTGにハイレベルの信号
「H」を与えて選択されたビット線BL1 ,BL2 を導通状
態とする。これによって図示しないメモリセルからの微
弱なデータはセンスノードSN1 ,SN2 に導かれ、センス
アンプ10にて増幅される。
Next, the operation of such a semiconductor memory device will be described. First, in the data read operation, the input / output line IO
While 1 and IO 2 are precharged, a high level signal “H” is applied to the bit line transfer gate control signal line BLTG to make the selected bit lines BL 1 and BL 2 conductive. As a result, weak data from a memory cell (not shown) is guided to the sense nodes SN 1 and SN 2 and amplified by the sense amplifier 10.

【0005】センスアンプ10による増幅は、例えばセン
スノードSN1 のデータ信号をハイレベル「H」側に増幅
するときはセンスノードSN2 のデータ信号はこれと対応
するローレベル「L」側に増幅するようになっている。
カラム選択信号線YSにハイレベル「H」の信号を入力
し、両カラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1
NC2 をオン状態とする。これによってセンスノードSN1
は入出力線IO1 と、またセンスノードSN2 は入出力線IO
2 と夫々接続されることとなり、データの読み出しが行
われる。データの書込み動作はカラム選択信号線YSにハ
イレベル「H」の信号を与え、各カラム選択用Nチャネ
ルMOS トランジスタNC1 ,NC2 をオン状態とする。これ
によって各入出力線IO1 ,IO2 をビット線BL1 ,BL2
接続し、入出力線IO1 ,IO2 、ビット線BL1 ,BL2 を通
じてメモリセルにデータが書き込まれる。
In the amplification by the sense amplifier 10, for example, when the data signal of the sense node SN 1 is amplified to the high level "H" side, the data signal of the sense node SN 2 is amplified to the corresponding low level "L" side. It is supposed to do.
Input a high level "H" signal to the column selection signal line YS to select both column selection N-channel MOS transistors NC 1 ,
Turn on NC 2 . This makes sense node SN 1
Is the input / output line IO 1, and the sense node SN 2 is the input / output line IO
2 will be connected respectively, and data will be read. Data write operation provides a signal of high level "H" to the column selection signal line YS, the respective column selecting N-channel MOS transistor NC 1, NC 2 turned on. This connects the input and output lines IO 1, IO 2 to the bit lines BL 1, BL 2, data is written to the memory cell via the input and output lines IO 1, IO 2, the bit lines BL 1, BL 2.

【0006】ところでこのような従来装置にあっては、
データの読出し時には入出力線IO1 ,IO2 はいずれもプ
リチャージされており、カラム選択信号線YSにハイレベ
ル「H」の信号を与えてカラム選択用NチャネルMOS ト
ランジスタNC1 ,NC2 をオン状態とすると入出力線I
O1 ,IO2 のハイレベル「H」の電荷がセンスノードSN
1 ,SN2 に逆流入する。
By the way, in such a conventional device,
When reading data, the input / output lines IO 1 and IO 2 are both precharged, and a high level “H” signal is applied to the column selection signal line YS to turn on the column selection N-channel MOS transistors NC 1 and NC 2 . I / O line I when turned on
The high level “H” charges of O 1 and IO 2 are applied to the sense node SN.
1 and flows back into SN 2 .

【0007】センスノードSN1 ,SN2 のデータがセンス
アンプ10にて十分大きい電位差に迄増幅されている場合
にはデータが破壊されることは少ないが、増幅途中にお
いてはセンスアンプ10の動作が不安定となり、データが
破壊されることが生じる。このためカラム選択信号線YS
にハイレベル「H」の信号を設定するのはセンスアンプ
10によるデータ信号の増幅が十分行われたタイミングで
行われねばならずそのための待ち時間が必要となり、迅
速な読み出しが出来ないという難点があった。
When the data of the sense nodes SN 1 and SN 2 is amplified by the sense amplifier 10 to a sufficiently large potential difference, the data is less likely to be destroyed, but the operation of the sense amplifier 10 does not occur during the amplification. It may become unstable and destroy data. Therefore, the column selection signal line YS
The high level “H” signal is set to the sense amplifier
The data signal must be amplified by 10 at a time when it has been sufficiently amplified, and a waiting time is required for that purpose, which makes it difficult to read quickly.

【0008】図5は従来における他の半導体記憶装置に
おけるビット線と読出し用データ線, 書込み用データ線
との接続関係を示す回路図である。この半導体記憶装置
においては入出力線に代わって一対の読出しデータ線RD
1 ,RD2 、書込みデータ線WD1 ,WD2 及び書込み開始信
号線WEを備えており、これらとビット線BL1,BL2 との
間に読出し用NチャネルMOS トランジスタNR1 ,NR2
カラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1 ,NC2
NC3 及び書込用NチャネルMOS トランジスタNW1 ,NW2
が介在せしめられている。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a connection relationship between a bit line and a read data line and a write data line in another conventional semiconductor memory device. In this semiconductor memory device, a pair of read data lines RD are used instead of the input / output lines.
1, RD 2, the write data line WD 1, WD 2 and provided with a write start signal line WE, read N-channel MOS transistor NR 1, NR 2 between these and the bit lines BL 1, BL 2,
N-channel MOS transistor for column selection NC 1 , NC 2 ,
NC 3 and write N-channel MOS transistors NW 1 and NW 2
Is intervened.

【0009】読出し用NチャネルMOS トランジスタN
R1 ,NR2 は夫々そのゲートをセンスノードSN1 ,SN2
に、またドレインを読出しデータ線RD1 ,RD2 に、ソー
スをカラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1 を介
して接地してある。カラム選択用NチャネルMOS トラン
ジスタNC1 はゲートをカラム選択信号線YSに、またソー
スを接地せしめてある。カラム選択用NチャネルMOS ト
ランジスタNC2 ,NC3 はそのゲートをカラム選択信号線
YSに、またソース又はドレインの一方をデータ線WD1
WD2 に、他方を各書込み用NチャネルMOS トランジスタ
NW1 ,NW2に接続されている。
Read N-channel MOS transistor N
R 1 and NR 2 have their gates connected to sense nodes SN 1 and SN 2, respectively.
, The drain is connected to the read data lines RD 1 and RD 2 , and the source is grounded via the column selecting N-channel MOS transistor NC 1 . The column selection N-channel MOS transistor NC 1 has its gate grounded to the column selection signal line YS and its source grounded. Column selection N-channel MOS transistors NC 2 and NC 3 have their gates connected to column selection signal lines.
The data line WD 1 ,
WD 2 and the other N-channel MOS transistor for writing
Connected to NW 1 and NW 2 .

【0010】書込み用NチャネルMOS トランジスタN
W1 ,NW2 は夫々そのゲートを書込み開始信号線WEに、
またソース, ドレインの一方を前記カラム選択用Nチャ
ネルMOSトランジスタNC2 ,NC3 に、他方をセンスノー
ドSN1 ,SN2 に接続してある。他の構成は図4に示す従
来装置と同じであり、対応する部位には同じ符号を付し
てある。
Write N-channel MOS transistor N
The gates of W 1 and NW 2 are respectively connected to the write start signal line WE,
Further, one of the source and the drain is connected to the column selecting N channel MOS transistors NC 2 and NC 3 , and the other is connected to the sense nodes SN 1 and SN 2 . Other configurations are the same as those of the conventional device shown in FIG. 4, and corresponding parts are designated by the same reference numerals.

【0011】次にこのような半導体記憶装置の動作につ
いて説明する。データの読み出し動作は読出しデータ線
RD1 ,RD2 をプリチャージしてハイレベル「H」に設定
し、またビット線トランスファゲートコントロール信号
線BLTGをハイレベル「H」としてビット線BL1,BL2
導通状態とする。所定のメモリセルからのデータはセン
スノードSN1 ,SN2 に導出されてセンスアンプ10にて増
幅される。カラム選択信号線YSをハイレベル「H」に設
定してカラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC1
オン状態にしておくと、データ信号がセンスアンプ10に
て閾値を越えるレベルに増幅された時点で、読出し用N
チャネルMOS トランジスタNR1 ,NR2 がオン状態とな
り、プリチャージされた読出しデータ線RD1 ,RD2 の電
荷が放電され、データが読み出される。
Next, the operation of such a semiconductor memory device will be described. Data read operation is read data line
RD 1 and RD 2 are precharged and set to a high level “H”, and the bit line transfer gate control signal line BLTG is set to a high level “H” to make the bit lines BL 1 and BL 2 conductive. Data from a predetermined memory cell is led to the sense nodes SN 1 and SN 2 and amplified by the sense amplifier 10. When the column selection signal line YS is set to the high level “H” and the column selection N-channel MOS transistor NC 1 is turned on, when the data signal is amplified by the sense amplifier 10 to a level exceeding the threshold value, , For reading N
Channel MOS transistors NR 1 and NR 2 are turned on, the precharged read data lines RD 1 and RD 2 are discharged, and data is read.

【0012】なおデータの書込みはカラム選択信号線YS
及び書込み開始信号線WEを夫々ハイレベル「H」に設定
すると、カラム選択用NチャネルMOS トランジスタN
C2 ,NC3 及び書込み用NチャネルMOS トランジスタNW
1 ,NW2 がいずれもオン状態となり、書込みデータ線WD
1 ,WD2 はビット線BL1 ,BL2 に接続され、所定のメモ
リセルにデータが書込まれることとなる。
Data is written in the column selection signal line YS.
When the write start signal line WE and the write start signal line WE are set to the high level "H" respectively, the column selection N-channel MOS transistor N
C 2 , NC 3 and write N-channel MOS transistor NW
Both 1 and NW 2 are turned on and write data line WD
1 and WD 2 are connected to the bit lines BL 1 and BL 2 , and the data is written in a predetermined memory cell.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】ところで図5に示す如
き従来の半導体記憶装置にあっては、図4に示す従来装
置の如く、読出しデータ線RD1 ,RD2 とビット線BL1
BL2 とが直接接続されることがないため、読出し時のデ
ータ破壊が生じず、カラム選択信号の入力タイミングを
早く設定することが可能で読出し動作の高速化が図れる
反面、読出しと、書込みが夫々別個の読出しデータ線RD
1 ,RD2 、書込みデータ線WD1 ,WD2 によって行われ、
しかも書込み開始信号線WEも必要となるため、必要な路
線長が長くなり、MOS トランジスタ等の素子数も多くパ
ターン面積が増大する等の問題があった。本発明はかか
る事情に鑑みなされたものであって、その目的とすると
ころはデータ読出し時のデータの破壊がなく、配線長が
短くて済み、しかもトランジスタ等の素子数の増大を伴
わない半導体記憶装置を提供するにある。
In the conventional semiconductor memory device as shown in FIG. 5, the read data lines RD 1 and RD 2 and the bit line BL 1 , as in the conventional device shown in FIG.
Since it is not directly connected to BL 2 , data destruction at the time of reading does not occur and the input timing of the column selection signal can be set earlier, which speeds up the reading operation, while reading and writing Separate read data line RD
1 , RD 2 , write data lines WD 1 , WD 2 ,
Moreover, since the write start signal line WE is also required, the required line length becomes long, the number of elements such as MOS transistors is large, and the pattern area increases. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is a semiconductor memory in which data is not destroyed at the time of reading data, a wiring length can be short, and the number of elements such as transistors is not increased. To provide the equipment.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体記憶
装置は、メモリセルに接続されたビット線と、データの
入出力線との間に設けたMOS トランジスタを制御して選
択されたメモリセルのデータの読出し、又はこれに対す
るデータの書込みを行うようにした半導体記憶装置にお
いて、前記MOS トランジスタはゲートをビット線に接続
し、ドレインを入出力線に接続した読出し用MOS トラン
ジスタと、ゲートを入出力線に接続し、ドレインをビッ
ト線に接続した書込み用MOS トランジスタとからなり、
また前記読出し用MOS トランジスタ、書込み用MOS トラ
ンジスタを含む回路を活性化する回路を具備することを
特徴とする。
A semiconductor memory device according to the present invention is a memory cell selected by controlling a MOS transistor provided between a bit line connected to a memory cell and a data input / output line. In the semiconductor memory device configured to read or write the data of the above, in the MOS transistor, the gate is connected to the bit line and the drain is connected to the input / output line. It consists of a write MOS transistor connected to the output line and the drain connected to the bit line.
Further, it is characterized by comprising a circuit for activating a circuit including the read MOS transistor and the write MOS transistor.

【0015】[0015]

【作用】本発明にあってはビット線とデータの入出力線
との間に、ゲートをビット線に接続し、ドレインを入出
力線に接続した読出し用MOS トランジスタと、ゲートを
入出力線に接続し、ドレインをビット線に接続した書込
み用MOS トランジスタとを設けたから、入出力線はビッ
ト線と直接接続されることがなく、データ破壊を生じな
い。
According to the present invention, a read MOS transistor having a gate connected to the bit line and a drain connected to the input / output line, and a gate connected to the input / output line are provided between the bit line and the data input / output line. Since the writing MOS transistor is connected and the drain is connected to the bit line, the input / output line is not directly connected to the bit line and the data is not destroyed.

【0016】[0016]

【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。 (実施例1)図1は本発明に係る半導体記憶装置におけ
るビット線と入出力線との接続関係を示す回路図であ
り、図中BL1 ,BL2 はビット線対を構成するビット線、
IO1 ,IO2 はデータの入出力線対を構成する入出力線、
BLTGはビット線トランスファゲートコントロール信号線
を示している。各ビット線BL1 ,BL2は夫々その一端部
は図示しないメモリセルに接続され、また途中にはゲー
トをビット線トランスファゲートコントロール信号線BL
TGに接続したトランジスタTG1 〜TG4 が介装され、ビッ
ト線トランスファゲートコントロール信号線BLTGをハイ
レベル「H」に設定することにより選択されたメモリセ
ルアレイに連なるビット線BL1 ,BL2 が選択されること
となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. (Embodiment 1) FIG. 1 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines in a semiconductor memory device according to the present invention, in which BL 1 and BL 2 are bit lines forming a bit line pair,
IO 1 and IO 2 are input / output lines that form a data input / output line pair,
BLTG represents a bit line transfer gate control signal line. One end of each bit line BL 1 and BL 2 is connected to a memory cell (not shown), and a gate is provided in the middle of the bit line transfer gate control signal line BL.
Transistors TG 1 to TG 4 connected to TG are interposed, and bit lines BL 1 and BL 2 connected to the selected memory cell array are selected by setting the bit line transfer gate control signal line BLTG to high level “H”. Will be done.

【0017】また各ビット線BL1 ,BL2 におけるMOS ト
ランジスタTG1 ,TG3 とTG2 ,TG4 との中間にはセンス
アンプ10が接続されている。センスアンプ10は直列的に
接続した一対のNチャネルMOS トランジスタ、同じく直
列的に接続した一対のPチャネルMOS トランジスタをビ
ット線BL1 , BL2 に並列的に接続すると共に、Nチャネ
ルMOS トランジスタのソースは共通ソース線VSNに、ま
たPチャネルMOS トランジスタのソースは共通ソース線
SPに夫々接続し、また対応するNチャネルMOS トラン
ジスタとPチャネルMOS トランジスタのゲートを夫々ビ
ット線BL1 , BL2 に接続して構成されている。
A sense amplifier 10 is connected between the MOS transistors TG 1 , TG 3 and TG 2 , TG 4 in each bit line BL 1 , BL 2 . The sense amplifier 10 has a pair of N-channel MOS transistors connected in series, and a pair of P-channel MOS transistors also connected in series to the bit lines BL 1 and BL 2 in parallel, and the source of the N-channel MOS transistor. Is connected to the common source line V SN , the source of the P-channel MOS transistor is connected to the common source line V SP , and the gates of the corresponding N-channel MOS transistor and P-channel MOS transistor are connected to the bit lines BL 1 and BL 2 , respectively. Connected and configured.

【0018】また、ビット線BL1 , BL2 と入出力線I
O1 , IO2 とには読出し用NチャネルMOS トランジスタN
R1 , NR2 及び書込み用PチャネルMOS トランジスタPW
1 , PW2 が介装されている。
The bit lines BL 1 and BL 2 and the input / output line I
O 1 and IO 2 are read N-channel MOS transistor N
R 1 , NR 2 and write P channel MOS transistor PW
1 , PW 2 is installed.

【0019】読出し用NチャネルMOS トランジスタN
R1 ,NR 2 は夫々ゲートをビット線BL1 , BL2 における
センスノードSN1 , SN2 に接続され、ドレインを入出力
線IO1 ,IO2 に、ソースをカラム選択用NチャネルMOS
トランジスタNC1 のドレインに接続されている。カラム
選択用NチャネルMOS トランジスタNC1 はゲートをカラ
ム選択信号線YS1 に接続し、またソースを接地してあ
る。
Read N-channel MOS transistor N
The gates of R 1 and NR 2 are respectively connected to the sense nodes SN 1 and SN 2 in the bit lines BL 1 and BL 2 , the drains are input / output lines IO 1 and IO 2 , and the sources are N-channel MOS for column selection.
Connected to the drain of transistor NC 1 . The column selection N-channel MOS transistor NC 1 has its gate connected to the column selection signal line YS 1 and its source grounded.

【0020】一方、書込み用PチャネルMOS トランジス
タPW1 , PW2 は夫々そのゲートを入出力線IO1 , IO2
接続し、各ドレインをビット線BL1 , BL2 におけるセン
スノードSN1 , SN2 に接続し、またソースを夫々カラム
選択用PチャネルMOS トランジスタPC1 のドレインに接
続してある。カラム選択用PチャネルMOS トランジスタ
PC1 はゲートをカラム選択信号線YS2 に、またソースを
電源VCCに接続してある。
On the other hand, the write P-channel MOS transistors PW 1 and PW 2 have their gates connected to the input / output lines IO 1 and IO 2 , respectively, and their drains to the sense nodes SN 1 and SN on the bit lines BL 1 and BL 2 , respectively. 2 and the source thereof is connected to the drain of the column selecting P-channel MOS transistor PC 1 , respectively. P-channel MOS transistor for column selection
PC 1 has its gate connected to the column selection signal line YS 2 and its source connected to the power supply V CC .

【0021】次にこのような半導体記憶装置の動作を説
明する。先ずデータの読出し動作は入出力線IO1 , IO2
をプリチャージし、またビット線トランスファゲートコ
ントロール信号線BLTGにハイレベルの信号を設定し、ビ
ット線BL1 , BL2 を導通状態とする。これによってデー
タはセンスノードSN1 ,SN2 に導出され、センスアンプ1
0にて増幅される。読出し用NチャネルMOS トランジス
タNR1 , NR2 のいずれか一方がオン状態に、他方がオフ
状態になると、カラム選択信号線YS1 をハイレベル
「H」に、またカラム選択信号線YS2 をローレベル
「L」に設定する。
Next, the operation of such a semiconductor memory device will be described. First, the data read operation is performed with the input / output lines IO 1 , IO 2
Is precharged and a high level signal is set to the bit line transfer gate control signal line BLTG to bring the bit lines BL 1 and BL 2 into a conductive state. As a result, the data is led to the sense nodes SN 1 and SN 2 , and the sense amplifier 1
Amplified at 0. When one of the read N-channel MOS transistors NR 1 and NR 2 is turned on and the other is turned off, the column selection signal line YS 1 is set to high level “H” and the column selection signal line YS 2 is set to low. Set to level “L”.

【0022】これによって読出し用NチャネルMOS トラ
ンジスタNR1 又はNR2 のいずれか一方及びカラム選択用
NチャネルMOS トランジスタNC1 がオン状態となり、プ
リチャージされた入出力線IO1 又はIO2 の電荷が放電さ
れ、入出力線IO1 又はIO2 を通じてデータの読出しが行
われる。
As a result, either one of the read N-channel MOS transistor NR 1 or NR 2 and the column select N-channel MOS transistor NC 1 is turned on, and the charge of the precharged input / output line IO 1 or IO 2 is reduced. After being discharged, data is read out through the input / output line IO 1 or IO 2 .

【0023】入出力線IO1 , IO2 のプリチャージされた
電荷は直接ビット線BL1 , BL2 のセンスノードSN1 , SN
2 を経ることなく放電されるため、センスノードSN1 ,
SN2 のデータが破壊されることがなく、またカラム選択
信号線YS1 は読出し用NチャネルMOS トランジスタN
R1 ,NR2 のいずれか一方がオン状態,他方がオフ状態
となった時点でハイレベルに設定するから、従来装置と
比較してより早い時期に設定が可能となり、データの読
出しの高速化が図れる。
The precharged charges of the input / output lines IO 1 and IO 2 are directly transferred to the sense nodes SN 1 and SN of the bit lines BL 1 and BL 2.
Since it is discharged without passing through 2 , the sense node SN 1 ,
The data of SN 2 is not destroyed, and the column selection signal line YS 1 is a read N-channel MOS transistor N.
The high level is set when one of R 1 and NR 2 is in the on state and the other is in the off state, so that it is possible to set it at an earlier time compared to the conventional device and speed up the data read. Can be achieved.

【0024】そして、データの読出しが進行し、入出力
線IO1 又はIO2 の電位がVCC−VtP(書込み用Nチャネ
ルMOS トランジスタPW1 ,PW2 の閾値)以下の電位にな
るとこれにゲートが接続されている書込み用Pチャネル
MOSトランジスタPW1 又はPW2 がオン状態となり、一方
カラム選択信号線YS2 には既にローレベル「L」の信号
が付与されているから、カラム選択用PチャネルMOS ト
ランジスタPC1 がオン状態となっており、電源VCCの電
圧がカラム選択用PチャネルMOS トランジスタPC1 及び
書込み用PチャネルMOS トランジスタPW1 又はPW2 を経
てビット線BL1 又はBL2 のセンスノードSN1 又はSN2
印加され、読出し時における動作を阻害することなく、
むしろ読出し動作を助長するように動作する。
When the data reading progresses and the potential of the input / output line IO 1 or IO 2 becomes equal to or lower than V CC -V tP (threshold of the write N-channel MOS transistors PW 1 and PW 2 ), this occurs. P channel for writing with gate connected
The MOS transistor PW 1 or PW 2 is turned on, while the column selection signal line YS 2 has already been given a low level “L” signal, so the column selection P-channel MOS transistor PC 1 is turned on. The voltage of the power supply V CC is applied to the sense node SN 1 or SN 2 of the bit line BL 1 or BL 2 via the column selection P-channel MOS transistor PC 1 and the write P-channel MOS transistor PW 1 or PW 2. , Without disturbing the operation at the time of reading,
Rather, it operates to facilitate the read operation.

【0025】一方データの書込み動作はビット線トラン
スファゲートコントロール信号線BLTGをハイレベル
「H」に設定した後、入出力線IO1 , IO2 にデータ信号
を与えると低レベルの信号が付与された入出力線IO1
はIO2 にゲートが接続されている書込み用NチャネルMO
S トランジスタPW1 又はPW2 がオン状態となり、電源V
CCの電圧が書込み用NチャネルMOS トランジスタPW1
はPW2 を経てビット線BL1又はBL2 のセンスノードSN1
又はSN2 に付与されて書込みが行われ、読出し動作に優
先してデータの書込みが行われる。
On the other hand, in the data write operation, when the bit line transfer gate control signal line BLTG is set to the high level "H" and then the data signal is applied to the input / output lines IO 1 and IO 2 , the low level signal is applied. N channel MO for writing, whose gate is connected to input / output line IO 1 or IO 2
S transistor PW 1 or PW 2 is turned on and power supply V
The voltage of CC passes through the write N-channel MOS transistor PW 1 or PW 2 and the sense node SN 1 of the bit line BL 1 or BL 2.
Alternatively, the data is written by being added to SN 2 , and the data is written in priority to the read operation.

【0026】(実施例2)図2は本発明の他の実施例に
おけるビット線と入出力線との接続関係を示す回路図で
ある。この実施例にあっては実施例1におけるセンスア
ンプ10をNチャネルセンスアンプ11と、Pチャネルセン
スアンプ12とに分割し、Nチャネルセンスアンプ11の共
通ソース線VSNにカラム選択用NチャネルMOS トランジ
スタNC1 のソースを接続し、一方Pチャネルセンスアン
プ12の共通ソース線VSPにカラム選択用PチャネルMOS
トランジスタPC1 のソースを接続してある。他の構成は
実施例1と実質的に同じであり、対応する部位には同じ
番号を付して説明を省略する。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines in another embodiment of the present invention. In this embodiment, the sense amplifier 10 in the first embodiment is divided into an N-channel sense amplifier 11 and a P-channel sense amplifier 12, and a common source line V SN of the N-channel sense amplifier 11 has a column selection N-channel MOS transistor. The source of the transistor NC 1 is connected, while the common source line V SP of the P-channel sense amplifier 12 is connected to the P-channel MOS for column selection.
The source of transistor PC 1 is connected. The other structure is substantially the same as that of the first embodiment, and the corresponding parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

【0027】このような実施例2の動作を説明する。デ
ータ読出し動作は、ビット線トランスファゲートコント
ロール信号線BLTGにハイレベル「H」の信号を設定し、
両ビット線BL1 , BL2 のセンスノードSN1 ,SN2 にデー
タを導出し、Nチャネルセンスアンプ11及びPチャネル
センスアンプ12にて、例えばセンスノードSN1のレベル
は高く、またセンスノードSN2 のレベルは低くなるよう
増幅されてゆくものとすると、Nチャネルセンスアンプ
11の共通ソース線VSNは零V側に引かれてゆく。これに
伴ってこれにソースが接続されているカラム選択用Nチ
ャネルMOS トランジスタNC1 が共通ソース線VSNと同電
位の零V側に降圧されてゆく。
The operation of the second embodiment will be described. In the data read operation, a high level “H” signal is set to the bit line transfer gate control signal line BLTG,
Data is derived to the sense nodes SN 1 and SN 2 of both bit lines BL 1 and BL 2 , and the N-channel sense amplifier 11 and the P-channel sense amplifier 12 have, for example, a high level of the sense node SN 1 and the sense node SN 1. Assuming that the level of 2 is amplified so that it becomes lower, the N channel sense amplifier
The 11 common source lines V SN are pulled toward the zero V side. Along with this, the column selection N-channel MOS transistor NC 1 whose source is connected to this is stepped down to the zero V side having the same potential as the common source line V SN .

【0028】この過程でカラム選択用信号線YSをハイレ
ベル「H」に設定するとカラム選択用NチャネルMOS ト
ランジスタNC1 がオン状態となり、そのドレイン側、換
言すれば読出し用NチャネルMOS トランジスタNR1 , NR
2 のソース側電位が引下げられることとなり、センスノ
ードSN1 又はSN2 の電位差が読出し用NチャネルMOSト
ランジスタNR1 又はNR2 の閾値を越えると同時にオン状
態となり、入出力線IO1 又はIO2 のプリチャージ電位が
引下げられデータの読出しが行われる。
[0028] By setting the column selection signal line YS in this process to the high level "H" column selecting N-channel MOS transistor NC 1 is turned on, the drain side, N-channel readout other words MOS transistor NR 1 , NR
The source-side potential of 2 is lowered, and at the same time the potential difference of the sense node SN 1 or SN 2 exceeds the threshold value of the read N-channel MOS transistor NR 1 or NR 2 , it is turned on and the input / output line IO 1 or IO 2 The precharge potential of is reduced and data is read.

【0029】次に書込み動作を説明する。先の読出し動
作中Pチャネルセンスアンプ12のハイレベル側における
増幅作用によってその共通ソース線VSPの電位は電源V
CCの電圧側に高められ、これにソースを接続した書込み
用PチャネルMOS トランジスタPC1 のソースを共通ソー
ス線VSPの電位に高められた状態となっている。
Next, the write operation will be described. During the previous read operation, the potential of the common source line V SP is changed to the power source V by the amplifying action on the high level side of the P-channel sense amplifier 12.
The source of the write P-channel MOS transistor PC 1 having its source connected to the voltage side of CC has been raised to the potential of the common source line V SP .

【0030】一方、カラム選択信号線YS2 にはデータ読
出し時にカラム選択信号線YS1 にハイレベル「H」の信
号を設定するのと同時的にローレベル「L」の信号を設
定してあるから、カラム選択用PチャネルMOS トランジ
スタPC1 がオン状態となっており、そのドレイン側も共
通ソースVSPの電位に迄高められた状態となっている。
On the other hand, the column selection signal line YS 2 is set to the low level “L” signal at the same time as the high level “H” signal is set to the column selection signal line YS 1 at the time of data reading. Therefore, the column selection P-channel MOS transistor PC 1 is in the ON state, and the drain side thereof is also raised to the potential of the common source V SP .

【0031】書込み用PチャネルMOS トランジスタP
W1 , PW2 のゲートには入出力線IO1 ,IO2 のプリチャー
ジ電圧が印加されているから、データ読出し動作中はオ
フ状態に維持されている。いま、前述した如きデータの
読出し動作が進行して入出力線IO1 又はIO2 のプリチャ
ージ電位が引下げられ、VCC−VtP(書込み用Pチャネ
ルMOS トランジスタ閾値)以下に迄降圧されると書込み
用PチャネルMOS トランジスタPW1 及び/又はPW2 がオ
ン状態となり、ビット線BL1 , BL2 のセンスノードS
N1 , SN2 に共通ソース線VSPの電荷が充填され、デー
タの書込みが行われることとなる。
Write P-channel MOS transistor P
Since the precharge voltage of the input / output lines IO 1 and IO 2 is applied to the gates of W 1 and PW 2 , they are kept in the off state during the data read operation. Now, when the data read operation as described above progresses and the precharge potential of the input / output line IO 1 or IO 2 is lowered, it is stepped down to V CC -V tP (write P channel MOS transistor threshold) or less. The write P-channel MOS transistor PW 1 and / or PW 2 is turned on, and the sense node S of the bit lines BL 1 and BL 2
N 1 and SN 2 are filled with the charges of the common source line V SP , and data writing is performed.

【0032】この実施例2においてはカラム選択用信号
線YS1 ,YS2 にハイレベル「H」の信号を設定するタイ
ミングは読出し速度を速くする観点からいくら速くして
も読出し用NチャネルMOS トランジスタNR1 , NR2 はセ
ンスノードSN1 , SN2 の電位がこれらの閾値を越えない
限りオン状態とならないから、カラム選択用信号線Y
S1 , YS2 のハイレベル設定タイミングが読出し用Nチ
ャネルMOS トランジスタNR1 , NR2 の事情の如何に拘ら
ず設定出来ることとなり、読出し速度の一層の高速化が
可能となる。
In the second embodiment, the read N-channel MOS transistor may be set at any timing to set the high level "H" signal to the column selection signal lines YS 1 and YS 2 from the viewpoint of increasing the read speed. Since the NR 1 and NR 2 are not turned on unless the potentials of the sense nodes SN 1 and SN 2 exceed these thresholds, the column selection signal line Y
The high level setting timing of S 1 and YS 2 can be set regardless of the circumstances of the read N-channel MOS transistors NR 1 and NR 2 , and the read speed can be further increased.

【0033】(実施例3)図3は本発明の更に他の実施
例におけるビット線と、入出力線との接続関係を示す回
路図であり、ビット線BL1 , BL2 のセンスノードSN1 ,
SN2 と入出力線IO1 , IO2 との間には読出し用Pチャネ
ルMOS トランジスタPR1 , PR2 及び書込み用Nチャネル
MOS トランジスタNW1 , NW2 が介装されている。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a circuit diagram showing a connection relationship between a bit line and an input / output line in still another embodiment of the present invention. Sense node SN 1 of bit lines BL 1 and BL 2 ,
P channel MOS transistors PR 1 and PR 2 for reading and N channel for writing between SN 2 and the input / output lines IO 1 and IO 2.
MOS transistors NW 1 and NW 2 are interposed.

【0034】読出し用PチャネルMOS トランジスタP
R1 , PR2 はゲートを夫々センスノードSN1 , SN2 に接
続され、またソースはカラム選択用NチャネルMOS トラ
ンジスタNC1 に、ドレインは各入出力線IO1 , IO2 に夫
々接続されている。カラム選択用NチャネルMOS トラン
ジスタNC1 はゲートがカラム選択用信号線YSに、またソ
ースは電源VCCに夫々接続されている。
Read P-channel MOS transistor P
The gates of R 1 and PR 2 are connected to the sense nodes SN 1 and SN 2 , respectively, the source is connected to the N-channel MOS transistor NC 1 for column selection, and the drain is connected to each of the input / output lines IO 1 and IO 2. There is. The column selection N-channel MOS transistor NC 1 has its gate connected to the column selection signal line YS and its source connected to the power supply V CC .

【0035】一方、書込み用NチャネルMOS トランジス
タNW1 , NW2 は夫々ゲートが入出力線IO1 , IO2 に接続
され、ドレインはセンスノードSN1 , SN2 に、ソースは
カラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC2 に夫々接
続されている。カラム選択用NチャネルMOS トランジス
タNC2 はゲートがカラム選択用信号線YSに接続され、ソ
ースは接地されている。
On the other hand, in the write N-channel MOS transistors NW 1 and NW 2 , the gates are connected to the input / output lines IO 1 and IO 2 , respectively, the drains are the sense nodes SN 1 and SN 2 , and the source is the column selecting N-channel. Each is connected to the MOS transistor NC 2 . The column selection N-channel MOS transistor NC 2 has a gate connected to the column selection signal line YS and a source grounded.

【0036】次にこのような半導体記憶装置の動作を説
明する。データの読出し動作は実施例1と実質的に同じ
であり、入出力線IO1 , IO2 をプリチャージし、また各
ビット線トランスファゲートコントロール信号線BLTGを
ハイレベルに設定し、メモリセルのデータをセンスノー
ドSN1 , SN2 に導出し、センスアンプ10にて増幅する。
Next, the operation of such a semiconductor memory device will be described. The data read operation is substantially the same as that of the first embodiment, the input / output lines IO 1 and IO 2 are precharged, and the bit line transfer gate control signal line BLTG is set to the high level to set the memory cell data. To the sense nodes SN 1 and SN 2 and amplified by the sense amplifier 10.

【0037】これによってデータがローレベル側に増幅
されたセンスノードSN1 又はSN2 にゲートが接続されて
いる読出し用PチャネルMOS トランジスタPR1 又はPR2
がオン状態となり、所定のタイミングでカラム選択用信
号線YSをハイレベル「H」に設定すると、カラム選択用
NチャネルMOS トランジスタNC1がオン状態となり、電
源VCCの電圧が入出力線IO1 ,IO2 に充填され読出しが
行われることとなる。
Thus, the read P-channel MOS transistor PR 1 or PR 2 whose gate is connected to the sense node SN 1 or SN 2 whose data is amplified to the low level side
Is turned on, and the column selection signal line YS is set to the high level “H” at a predetermined timing, the column selection N-channel MOS transistor NC 1 is turned on and the voltage of the power supply V CC is changed to the input / output line IO 1 Therefore, IO 2 is filled and read.

【0038】データの読出し過程で入出力線IO1 又はIO
2 に電源VCCの電圧が加えられると、高電圧となった入
出力線IO1 又はIO2 にゲートが接続されている書込み用
NチャネルMOS トランジスタNW1 又はNW2 がオン状態と
なり、カラム選択用信号線YSは既にハイレベル「H」に
設定され、カラム選択用NチャネルMOS トランジスタNC
2 がオン状態となっているから、書込み用NチャネルMO
S トランジスタNW1 又はNW2 は接地され、センスノード
SN1 又はSN2 は零電位に接続される。データの書込み動
作も実施例1と実質的に同じであり、説明を省略する。
In the process of reading data, the input / output line IO 1 or IO
When the voltage of the power supply V CC is applied to 2 , the write N-channel MOS transistor NW 1 or NW 2 whose gate is connected to the high-voltage input / output line IO 1 or IO 2 is turned on, and column selection is performed. The signal line YS is already set to the high level "H" and the column selection N-channel MOS transistor NC
2 is on, so write N channel MO
S-transistor NW 1 or NW 2 is grounded and the sense node
SN 1 or SN 2 is connected to zero potential. The data writing operation is also substantially the same as that of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上の如く本発明装置にあっては、ビッ
ト線とデータの入出力線との間にゲートをビット線に接
続し、ドレインを入出力線に接続した読出し用MOS トラ
ンジスタと、ゲートを入出力線に接続し、ドレインをビ
ット線に接続した書込み用MOSトランジスタを介装した
からデータ読出し時に入出力線とビット線とが直接的に
接続されることがなく、データ破壊が確実に防止され、
しかもそのための回路自体も特に複雑化することがな
く、データの読出しの高速化が図れる等本発明は優れた
効果を奏するものである。
As described above, in the device of the present invention, a read MOS transistor in which the gate is connected to the bit line and the drain is connected to the input / output line between the bit line and the data input / output line, Since the write MOS transistor with the gate connected to the I / O line and the drain connected to the bit line is interposed, the I / O line and the bit line are not directly connected when reading data, and data destruction is guaranteed. Is prevented by
Moreover, the circuit itself for that purpose is not particularly complicated, and the present invention has excellent effects such as speeding up of data reading.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置におけるビット線
と入出力線との接続関係を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a connection relationship between a bit line and an input / output line in a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】本発明の他の実施例におけるビット線と入出力
線との接続関係を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の更に他の実施例におけるビット線と入
出力線との接続関係を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines according to still another embodiment of the present invention.

【図4】従来装置におけるビット線と入出力線との接続
関係を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines in a conventional device.

【図5】他の従来装置におけるビット線と入出力線との
接続関係を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a connection relationship between bit lines and input / output lines in another conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 センスアンプ 11 Nチャネルセンスアンプ 12 Pチャネルセンスアンプ BL1 , BL2 ビット線 IO1 , IO2 入出力線 SN1 , SN2 センスノード NR1 , NR2 読出し用NチャネルMOS トランジスタ PW1 , PW2 書込み用PチャネルMOS トランジスタ NC1 カラム選択用NチャネルMOS トランジスタ PC1 カラム選択用PチャネルMOS トランジスタ10 Sense amplifier 11 N-channel sense amplifier 12 P-channel sense amplifier BL 1 , BL 2 Bit line IO 1 , IO 2 I / O line SN 1 , SN 2 Sense node NR 1 , NR 2 Read N-channel MOS transistor PW 1 , PW 2 P channel MOS transistor for writing NC 1 N channel MOS transistor for column selection PC 1 P channel MOS transistor for column selection

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 7323−5L G11C 11/34 305 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location 7323-5L G11C 11/34 305

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 メモリセルに接続されたビット線と、デ
ータの入出力線との間に設けたMOS トランジスタを制御
して選択されたメモリセルのデータの読出し、又はこれ
に対するデータの書込みを行うようにした半導体記憶装
置において、 前記MOS トランジスタはゲートをビット線に接続し、ド
レインを入出力線に接続した読出し用MOS トランジスタ
と、ゲートを入出力線に接続し、ドレインをビット線に
接続した書込み用MOS トランジスタとからなり、また前
記読出し用MOSトランジスタ、書込み用MOS トランジス
タを含む回路を活性化する回路を具備することを特徴と
する半導体記憶装置。
Claim: What is claimed is: 1. A MOS transistor provided between a bit line connected to a memory cell and a data input / output line is controlled to read data from a selected memory cell, or In a semiconductor memory device adapted to write data to a MOS transistor, the MOS transistor has a gate connected to a bit line and a drain connected to an input / output line, and a read MOS transistor connected to the input / output line and a drain. And a circuit for activating a circuit including the read MOS transistor and the write MOS transistor, the semiconductor memory device comprising:
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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