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JPH05206376A - Laminated multi-chip semiconductor device - Google Patents

Laminated multi-chip semiconductor device

Info

Publication number
JPH05206376A
JPH05206376A JP4011927A JP1192792A JPH05206376A JP H05206376 A JPH05206376 A JP H05206376A JP 4011927 A JP4011927 A JP 4011927A JP 1192792 A JP1192792 A JP 1192792A JP H05206376 A JPH05206376 A JP H05206376A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
connector frame
chip
laminated
chip semiconductor
Prior art date
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Granted
Application number
JP4011927A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3126784B2 (en
Inventor
Masaru Sakaguchi
勝 坂口
Toshiharu Ishida
寿治 石田
Koji Ashizawa
弘二 芦沢
Hiroyuki Tanaka
大之 田中
Ichiro Miyano
一郎 宮野
Kazuo Yamazaki
和夫 山崎
Munehiro Yamada
宗博 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP04011927A priority Critical patent/JP3126784B2/en
Publication of JPH05206376A publication Critical patent/JPH05206376A/en
Priority to JP2000204078A priority patent/JP3538123B2/en
Application granted granted Critical
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/141One or more single auxiliary printed circuits mounted on a main printed circuit, e.g. modules, adapters
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/145Arrangements wherein electric components are disposed between and simultaneously connected to two planar printed circuit boards, e.g. Cordwood modules

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a space between a terminal and a lead and improve solder permeability by providing a spacer on the terminal of a connector frame. CONSTITUTION:A connector frame 2a is provided with a front plane terminal, a rear plane terminal 26a and a rear plane terminal 27a. A front plane spacer 30a and a rear plane spacer 31a are formed on the top plane of the frame 2a. The front plane terminal 26a and the rear plane terminal 27a are connected by an edge plane through hole 29a. A connector frame 2b has a same structure as the connector frame 2a. The outer lead 15a of a TCP 1a passes between the front plane terminal 26a and the rear plane terminal 27b being sandwiched between the front plane spacer frame 2a and a rear plane spacer 31b and reaches the edge of the connector frame. Solder 33a wets the through hole 29a, the front plane terminal 26a and the rear plane terminal 27b and fills the whole connecting part. Solder 5 can be filled in the space between a board 34, which faces a board spacer 35 and the rear plane spacer 31a of the connector frame 2a making contact and that holds a fixed space by the spacer, and the rear plane terminal of the connector frame 2a.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は情報機器等に用いられる
半導体装置に係り、特に、大容量でかつ接続部の高信頼
度を確保することのできる積層マルチチップ半導体装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device used in information equipment and the like, and more particularly to a laminated multi-chip semiconductor device which has a large capacity and can secure high reliability of a connecting portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリは大型コンピュータ、ワー
クステーション、パーソナルコンピュータ、ワードプロ
セッサ等の情報機器に多量に使用されており、今後これ
らの機器の高性能化、多機能化、製品拡大がさらに進む
と予想されることから、ここで用いられる半導体メモリ
の需要も加速度的に増大して行くものと考えられる。こ
の場合、大容量のメモリを必要とする装置では、機器内
で半導体メモリの占める実装面積が益々増大する傾向に
あり、機器の小型化、軽量化を阻害する最大の要因とな
っている。
2. Description of the Related Art Semiconductor memories are used in large quantities in information devices such as large computers, workstations, personal computers, word processors, etc., and it is expected that these devices will have higher performance, more functions and more products in the future. Therefore, it is considered that the demand for the semiconductor memory used here will increase at an accelerating rate. In this case, in an apparatus that requires a large capacity memory, the mounting area occupied by the semiconductor memory in the device tends to increase more and more, which is the biggest factor inhibiting the miniaturization and weight reduction of the device.

【0003】この問題を解決する方法として、従来から
強力に推し進められているチップ内素子の高集積化によ
り1チップ当りのメモリ容量を増大する方法、または、
パッケージされたメモリモジュールをプリント配線板に
高密度に実装する方法、あるいは、特開昭 59‐180386
号公報及び特開昭 61‐101067号公報記載のように、複
数個の半導体チップを厚さ方向に積み重ねて高密度化を
図る方法がある。
As a method for solving this problem, a method of increasing the memory capacity per chip by increasing the integration of elements in the chip, which has been strongly promoted conventionally, or
A method for mounting a packaged memory module on a printed wiring board at high density, or Japanese Patent Laid-Open No. 59-180386.
As described in JP-A-61-101067 and JP-A-61-101067, there is a method of stacking a plurality of semiconductor chips in the thickness direction to increase the density.

【0004】これらの方法のうち、チップ内素子を高密
度化する方法は、従来技術の延長では解決できない新し
い局面にきており、新技術、新生産設備の開発が必要に
なってきている。また、プリント配線板に高密度実装す
る方法は、モジュールの小型化、プリント配線板への両
面実装、ZIP (zigzag in‐line‐package)部品の採用な
どが行われているが、1個のチップを1パッケージとし
たモジュールを使用する限りでは、これ以上の大幅な高
密度化は困難な状況にある。
Among these methods, the method of densifying the elements in a chip has reached a new stage that cannot be solved by extending the conventional technology, and it is necessary to develop new technology and new production equipment. As for the method of high-density mounting on a printed wiring board, miniaturization of the module, double-sided mounting on the printed wiring board, and the use of ZIP (zigzag in-line-package) components have been adopted. As far as the module with one package is used, it is difficult to further increase the density.

【0005】これに対し、複数個の IC チップを厚さ方
向に積み重ねる方法が極めて有利であり、これまで、種
々の提案がなされている。
On the other hand, a method of stacking a plurality of IC chips in the thickness direction is extremely advantageous, and various proposals have been made so far.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報における開示を含めこれまでに提示されている方法で
は、各層の端子を密着して接続する構造であるため、接
続の信頼性が十分に確保できないという不具合点があっ
た。
However, in the methods presented so far, including the disclosure in the above publication, the terminals of each layer are closely connected to each other, so that the reliability of the connection cannot be sufficiently ensured. There was a problem.

【0007】本発明の目的は、上記従来技術の有してい
た課題を解決して、接続部の高信頼性を確保した大容量
のマルチチップ半導体装置を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to provide a large-capacity multi-chip semiconductor device which ensures high reliability of the connection portion.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的は、フィルムキ
ャリアテープに半導体チップを電気的に接続したテープ
キャリアパッケージを、少なくともその一面に接続端子
を有するコネクタ枠を介して複数個積層接続した積層マ
ルチチップ半導体装置において、上記コネクタ枠の少な
くとも一面に上記接続端子厚さよりも厚く絶縁膜を形成
したマルチチップ半導体装置とすること、あるいは、上
記コネクタ枠の少なくとも一面の端子の一部に突起を形
成したマルチチップ半導体装置とすること、あるいは、
フィルムキャリアテープに半導体チップを電気的に接続
したテープキャリアパッケージを少なくともその一面に
配線パターンを有するコネクタ枠を介して複数個積層接
続した積層マルチチップ半導体装置において、上記コネ
クタ枠の一端をコネクタ枠端部に露出させた構造とした
積層マルチチップ半導体装置とすること、あるいは、少
なくとも一面に配線パターンを有するフィルムキャリア
テープに半導体チップを電気的に接続したテープキャリ
アパッケージをコネクタ枠を介して複数個積層接続した
積層マルチチップ半導体装置において、上記フィルムキ
ャリアパッケージのリードを該コネクタ枠端子の端部面
と同一か、またはそれ以上に露出させたテープキャリア
パッケージを有する構成とした積層マルチチップ半導体
装置とすることによって達成することができる。
The above object is to provide a laminated multi-layer structure in which a plurality of tape carrier packages in which semiconductor chips are electrically connected to a film carrier tape are laminated and connected through a connector frame having a connection terminal on at least one surface thereof. In the chip semiconductor device, a multi-chip semiconductor device in which at least one surface of the connector frame is formed with an insulating film thicker than the connection terminal thickness, or a projection is formed on a part of the terminal on at least one surface of the connector frame A multi-chip semiconductor device, or
In a laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages in which semiconductor chips are electrically connected to a film carrier tape are laminated and connected via a connector frame having a wiring pattern on at least one surface thereof, one end of the connector frame is a connector frame end. To be a laminated multi-chip semiconductor device having a structure exposed at a portion, or a plurality of tape carrier packages in which semiconductor chips are electrically connected to a film carrier tape having a wiring pattern on at least one surface are laminated through a connector frame. In the connected multi-chip semiconductor device, a lead of the film carrier package has a tape carrier package which is exposed to the same end as or more than the end face of the connector frame terminal. Especially It can be achieved me.

【0009】[0009]

【作用】上記構成とすることによって、各層間の接合は
んだ厚さをある一定厚さ以上に確保するとともに、接続
部に十分なはんだを供給することができ、接続部の接続
の高信頼性を確保することができる。
With the above structure, the thickness of the joint solder between the layers can be ensured to be a certain thickness or more, and sufficient solder can be supplied to the connecting portion, so that the connection of the connecting portion can be highly reliable. Can be secured.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明マルチチップ半導体装置の構成
について実施例によって具体的に説明する。
EXAMPLES The structure of the multi-chip semiconductor device of the present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0011】本発明マルチチップ半導体装置の一実施例
を図1〜16により説明する。なお、各図において同一符
号は同一内容を示し、また、テープキャリアパッケージ
(以下、TCP と略称する)及びコネクタ枠を複数段積み重
ねた図においては、下段から上段に、各符号数字の後に
a、b、c、d 等の記号を付して区分した。
An embodiment of the multi-chip semiconductor device of the present invention will be described with reference to FIGS. In each drawing, the same reference numerals indicate the same contents, and the tape carrier package
(Hereinafter, abbreviated as TCP) and in a diagram in which a plurality of connector frames are stacked, from the bottom to the top, after each code numeral
It was classified by adding symbols such as a, b, c, and d.

【0012】まず、図1は、TCP 1とコネクタ枠2とを
交互に積み重ね、電気的に接続した本発明マルチチップ
半導体装置6をはんだ5によってマザーボード4に接続
したモジュールの断面を示した図である。すなわち、コ
ネクタ枠2と TCP 1とが4段交互に積み重ねられ、最
上層に蓋を付され、はんだによって接合されてマルチチ
ップ半導体装置6となり、このマルチチップ半導体装置
6がはんだ5によってマザーボード4上に配置接続され
ていることを示す。
First, FIG. 1 is a view showing a cross section of a module in which TCP 1 and connector frame 2 are alternately stacked and electrically connected multi-chip semiconductor device 6 of the present invention is connected to mother board 4 by solder 5. is there. That is, the connector frames 2 and the TCPs 1 are alternately stacked in four stages, a lid is attached to the uppermost layer, and they are joined by solder to form a multi-chip semiconductor device 6. The multi-chip semiconductor device 6 is soldered on the motherboard 4. Indicates that they are connected to.

【0013】次に、図2に TCP 1の平面図、図3に図
2 A‐A 部の断面を示す。これらの図において、半導体
チップ10の上面にバンプ11が形成されており、該バンプ
11にフィルムキャリアテープ12上に形成されたインナー
リード13が接続されており、フィルムキャリアテープ12
の基材の一部で構成されるサポートリング14がリードを
保持するとともに、インナーリード13からアウターリー
ド15へのリードピッチを広げるための配線エリアの役目
を有している。
Next, FIG. 2 shows a plan view of the TCP 1, and FIG. 3 shows a cross section taken along the line A--A in FIG. In these figures, the bumps 11 are formed on the upper surface of the semiconductor chip 10.
The inner lead 13 formed on the film carrier tape 12 is connected to the film carrier tape 12
The support ring 14 formed of a part of the base material holds the leads, and also has a role of a wiring area for increasing the lead pitch from the inner leads 13 to the outer leads 15.

【0014】半導体チップ10の表面及びインナーリード
ボンディング部を含めサポートリング部14にかけて保護
コート樹脂16が塗布されている。短辺方向に配置される
リードにはチップ選択バンプ17につながるチップ選択リ
ード18、その他のバンプ11につながる共通リード15、さ
らにバンプとはつながらないダミーリード19がある。ま
た、長辺方向のサポートリング14上には仮固定リード20
が配置されている。
A protective coat resin 16 is applied to the surface of the semiconductor chip 10 and the support ring portion 14 including the inner lead bonding portion. The leads arranged in the short side direction include a chip selection lead 18 connected to the chip selection bump 17, a common lead 15 connected to other bumps 11, and a dummy lead 19 not connected to the bump. In addition, the temporary fixing lead 20 is provided on the support ring 14 in the long side direction.
Are arranged.

【0015】次に、図4にコネクタ枠の平面図、図5に
コネクタ枠の一部の平面拡大図、図6に図5の側面図、
図7に図5の A‐A 部の断面図を示す。この図4〜7に
おいて、基材25の表裏面には表面端子26と裏面端子27と
が形成されており、表裏面の端子は表裏のランド28を有
する端面スルーホール29によって電気的に接続されてい
る。端子の内側部分には表面スペーサ30、裏面スペーサ
31が形成されている。また、長手方向の基材25面上には
仮固定用端子32が配置されている。
Next, FIG. 4 is a plan view of the connector frame, FIG. 5 is an enlarged plan view of a part of the connector frame, and FIG. 6 is a side view of FIG.
Figure 7 shows a cross-sectional view of section AA in Figure 5. 4 to 7, front and rear terminals 26 and 27 are formed on the front and rear surfaces of the base material 25, and the front and rear terminals are electrically connected by end face through holes 29 having front and rear lands 28. ing. Front side spacer 30 and back side spacer on the inner part of the terminal
31 is formed. Further, a temporary fixing terminal 32 is arranged on the surface of the base material 25 in the longitudinal direction.

【0016】図8は接続部の一部拡大断面図である。こ
の図において、第1段目のコネクタ枠2aには表面端子
26a、裏面端子27aがが形成され、その端子の上面には表
面スペーサ30a、裏面スペーサ31aが形成されている。表
面端子26aと裏面端子27aとは端面スルーホール29aによ
って接続されている。第2段目のコネクタ枠2bも第1
段目のコネクタ枠2aと同じ構造である。TCP 1aのア
ウターリード15aは表面スペーサ30aと裏面スペーサ31b
とに挾まれた形で表面端子26aと裏面端子27bとの間を通
り、コネクタ枠の端部に達している。また、はんだ33a
は端面スルーホール29a、表面端子26a、裏面端子27bを
濡らし接続部全体に充填されている。
FIG. 8 is a partially enlarged sectional view of the connecting portion. In this figure, surface terminals are provided on the first-stage connector frame 2a.
26a and a back surface terminal 27a are formed, and a surface spacer 30a and a back surface spacer 31a are formed on the upper surface of the terminal. The front surface terminal 26a and the back surface terminal 27a are connected by an end surface through hole 29a. The second-stage connector frame 2b is also the first
It has the same structure as that of the connector frame 2a at the stage. The outer lead 15a of the TCP 1a has a front surface spacer 30a and a rear surface spacer 31b.
It passes between the front-side terminal 26a and the back-side terminal 27b while reaching the end of the connector frame. Also, solder 33a
The end surface through hole 29a, the front surface terminal 26a, and the back surface terminal 27b are wet to fill the entire connecting portion.

【0017】マザーボード4には基板端子34が形成され
ており、該基板端子34の上には基板スペーサ35が形成さ
れている。基板スペーサ35とコネクタ枠2aの裏面スペ
ーサ31aとは対向して接しており、これらのスペーサに
よって一定の間隔を保持された基板端子34とコネクタ枠
2aの裏面端子27aとの間にははんだ5が充填されてい
る。
A substrate terminal 34 is formed on the mother board 4, and a substrate spacer 35 is formed on the substrate terminal 34. The board spacer 35 and the back surface spacer 31a of the connector frame 2a face each other and are in contact with each other, and the solder 5 is placed between the board terminal 34 and the back surface terminal 27a of the connector frame 2a, which are held at a constant distance by these spacers. It is filled.

【0018】図9はマルチチップ半導体装置6の動作を
説明するための回路ブロック図である。この図におい
て、半導体チップ10a、10b、10c、10d にはアドレス端
子40、データ入出力端子41、ライトイネーブル端子42、
アウトイネーブル端子43、電源端子44、グランド端子4
5、チップ選択端子46a、46b、46c、46d が電気的に接続
されている。これらの端子の内、チップ選択端子46a〜4
6dはそれぞれの半導体チップ10a〜10dに独立に接続され
ているが、その他の端子は半導体チップ10a〜10dに共通
に接続されている。なお、図9においてアドレス端子40
及びデータ入力端子41は1本のラインで示してあるが、
実際の配線では複数本で構成されている。これに対し、
ライトイネーブル端子42、アウトイネーブル端子43、電
源端子44、グランド端子45及びチップ選択端子46a〜46d
は実際の配線ではそれぞれ各1本の場合が多い。
FIG. 9 is a circuit block diagram for explaining the operation of the multichip semiconductor device 6. In this figure, the semiconductor chips 10a, 10b, 10c, and 10d have address terminals 40, data input / output terminals 41, write enable terminals 42,
Out enable terminal 43, power supply terminal 44, ground terminal 4
5. Chip select terminals 46a, 46b, 46c, 46d are electrically connected. Of these terminals, chip select terminals 46a-4
6d is independently connected to each of the semiconductor chips 10a to 10d, but the other terminals are commonly connected to the semiconductor chips 10a to 10d. In FIG. 9, the address terminal 40
And the data input terminal 41 is shown by one line,
The actual wiring is composed of multiple wires. In contrast,
Write enable terminal 42, out enable terminal 43, power supply terminal 44, ground terminal 45, and chip selection terminals 46a to 46d
In many cases, there is one each for actual wiring.

【0019】この回路において、まず半導体チップ10へ
のデータの書き込みはアドレス線とデータ線に必要な情
報を電気信号として与えておき、書き込み許可信号線を
onにしておいて、情報を記憶させたいチップのチップ
選択端子を on にすることにより、選択されたチップの
希望のアドレスに所定の情報が記憶される。他の3個の
チップは、それぞれのチップ選択端子が off に保たれ
ているため、チップ内部の情報の変化はない。同様に、
チップからの情報の読み出しは、情報を取り出したいア
ドレスを示す信号をアドレス線に与えておき、データ入
出力許可端子をon にしておいて、情報を取り出したい
チップ選択端子を on にすることによって、選択したチ
ップの希望するアドレスからの情報がデータ入出力端子
に出力される。
In this circuit, first, when writing data to the semiconductor chip 10, necessary information is given to the address line and the data line as an electric signal, and the write enable signal line is set.
By turning on the chip select terminal of the chip whose information is to be stored after turning it on, predetermined information is stored at the desired address of the selected chip. Since the chip select terminals of the other three chips are kept off, there is no change in the information inside the chips. Similarly,
To read information from the chip, apply a signal indicating the address you want to retrieve information to the address line, turn on the data input / output enable terminal, and turn on the chip selection terminal from which you want to retrieve information. Information from the desired address of the selected chip is output to the data input / output terminal.

【0020】図10はチップ選択端子部の斜視図である。
この図において、マザーボード4上にはチップ選択端子
50a〜50dが、また、コネクタ枠2上にはチップ選択端子
51a〜51dが形成されている。また、TCP 1 側には各段の
半導体チップ10の共通位置にそれぞれのチップ選択バン
プ17a〜17dが形成されており、これらのバンプ17a〜17d
に接続して各段によってパターン形状の異なるチップ選
択リード18a〜18dが形成されており、コネクタ枠2
のチップ選択端子51に接続されている。TCP 1のフィ
ルム上にはチップ上のバンプと接続されない3個のダミ
ーリード19が形成されており、このダミーリード19はコ
ネクタ枠2の端子と接続されている。
FIG. 10 is a perspective view of the chip selection terminal portion.
In this figure, the chip selection terminals are on the mother board 4.
50a to 50d are also chip selection terminals on the connector frame 2.
51a to 51d are formed. Further, on the TCP 1 side, chip selection bumps 17a to 17d are formed at the common positions of the semiconductor chips 10 of the respective stages, and these bumps 17a to 17d are formed.
And the chip selection leads 18a to 18d having different pattern shapes are formed in each step.
Of the chip selection terminal 51. Three dummy leads 19 that are not connected to the bumps on the chip are formed on the TCP 1 film, and these dummy leads 19 are connected to the terminals of the connector frame 2.

【0021】図11、12 はコネクタ枠端子と TCP 1 リー
ド及びマルチチップ半導体装置6とマザーボード4との
接続状態を示す接続部の拡大断面図で、図11は共通端子
部(図9の A‐A 部位置)、図12 は第4段目の半導体10d
がマザーボードと接続している(図9の B‐B 位置)チッ
プ選択位置の接続部の拡大断面図である。図11 におい
て、マザーボード4の表面には基板端子34が形成されて
おり、基板端子34上には基板スペーサ35が形成されてい
る。コネクタ枠2aとコネクタ枠2bとはTCP1aのアウタ
ーりード15aを挾んではんだによって接続されている。
同様に、コネクタ枠2bとコネクタ枠2c、コネクタ枠2
cとコネクタ枠2d、コネクタ枠2dと蓋3もそれぞれの
TCP 1 のアウターリード15を挾み込んではんだ33によっ
て接続されている。コネクタ枠2aとマザーボード4と
ははんだ5によって接続されている。
11 and 12 are enlarged cross-sectional views of the connection portion showing the connection state between the connector frame terminal, the TCP 1 lead and the multi-chip semiconductor device 6 and the mother board 4, and FIG. 11 is a common terminal portion (A- in FIG. 9). (Part A position), Fig. 12 shows the semiconductor 10d on the fourth level.
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion at a chip selection position where is connected to the motherboard (position BB in FIG. 9). In FIG. 11, board terminals 34 are formed on the surface of the mother board 4, and board spacers 35 are formed on the board terminals 34. The connector frame 2a and the connector frame 2b are connected to each other by solder while sandwiching the outer cord 15a of the TCP 1a.
Similarly, the connector frame 2b, the connector frame 2c, and the connector frame 2
c and connector frame 2d, connector frame 2d and lid 3
The outer lead 15 of TCP 1 is sandwiched and connected by solder 33. The connector frame 2a and the mother board 4 are connected by solder 5.

【0022】図12において、チップ選択バンプ17dはチ
ップ選択リード18dと接続されており、また、各コネク
タ枠間はダミーリード19を間に挾んではんだ33a〜33dに
よってつながっており、さらにマザーボード4上に配置
されたチップ選択基板端子50dと電気的に接続される。
これに対し、第1段〜第3段のチップ選択バンプ17a〜1
7cはこの断面位置ではリードとはつながっていない。
In FIG. 12, the chip selection bumps 17d are connected to the chip selection leads 18d, and the respective connector frames are connected by solders 33a to 33d with a dummy lead 19 interposed therebetween. Is electrically connected to the chip selection substrate terminal 50d arranged at.
On the other hand, the chip selection bumps 17a to 1
7c is not connected to the lead at this cross-sectional position.

【0023】このような構成において、本発明になるマ
ルチチップ半導体装置の各部の詳細構造について以下に
説明する。
The detailed structure of each part of the multi-chip semiconductor device according to the present invention having such a structure will be described below.

【0024】まず、図1において、マザーボード4は単
層及び多層の配線を有するプリント配線板であって、そ
の表面に本図に示すマルチチップ半導体装置6と共にそ
の他の半導体部品及び一般電気部品を搭載したもので
(配線及びその他の部品は図示せず)、入出力、演算、記
憶、表示などの機能を備えた電子デバイスの一部であ
る。
First, in FIG. 1, a mother board 4 is a printed wiring board having single-layer and multi-layer wirings, and other semiconductor components and general electric components are mounted on the surface thereof along with the multi-chip semiconductor device 6 shown in this figure. What I did
It is a part of an electronic device having functions such as input / output, calculation, storage and display (wiring and other parts are not shown).

【0025】図2、3において、半導体チップ10はシリ
コンからなり内部にメモリ素子を形成したもので、4M
ビットの記憶容量を有するダイナミック・ランダム・ア
クセスメモリである。半導体チップ10の表面には信号の
入出力用の端子としてめっき法によって形成された金バ
ンプ11及び17が配置されている。
2 and 3, the semiconductor chip 10 is made of silicon and has a memory element formed therein.
A dynamic random access memory having a storage capacity of bits. Gold bumps 11 and 17 formed by a plating method are arranged on the surface of the semiconductor chip 10 as terminals for inputting and outputting signals.

【0026】フィルムキャリアテープ12はポリイミドフ
ィルムに銅箔を固着してその銅箔をパターニングしてリ
ードとしたもので、パターニング後のリード表面にはニ
ッケルを下地として金めっきを施してある。
The film carrier tape 12 is obtained by fixing a copper foil to a polyimide film and patterning the copper foil to form a lead, and the lead surface after patterning is plated with gold using nickel as a base.

【0027】半導体チップ10上のバンプ11及び17にフィ
ルムキャリアテープに形成したインナーリード13を位置
合わせし、インナーリード13の上から加熱ブロックを押
し当てて、金‐金の熱圧着ボンディング法によって接続
する。
The inner leads 13 formed on the film carrier tape are aligned with the bumps 11 and 17 on the semiconductor chip 10, the heating block is pressed against the inner leads 13, and the connection is made by a gold-gold thermocompression bonding method. To do.

【0028】ここで、半導体チップ10上のバンプ11及び
17の形成は特にめっき法による形成に限定されるもので
はなく、予め別工程で形成しておいた金の小片を固着さ
せること、あるいはワイヤボンディングの原理を用いて
金線をバンプ11及び17の形状に熱圧着させることなどの
方法も適用できる。また、材料も金に限定されるもので
はなく、銅、ニッケル及びこれらの合金であってもよ
い。
Here, the bumps 11 on the semiconductor chip 10 and
The formation of 17 is not particularly limited to the formation by a plating method, and a small piece of gold formed in a separate step in advance is fixed, or the gold wire is formed by using the principle of wire bonding. A method such as thermocompression bonding to the shape can also be applied. Further, the material is not limited to gold, and may be copper, nickel and alloys thereof.

【0029】また、フィルムキャリアテープ上のリード
の表面処理についても、金めっきに限定されるものでは
なく、すずめっき、はんだめっき等も十分適用可能であ
る。また、リードの材質も銅に限定されるものではな
く、銅合金、鉄、鉄合金等も適用することができる。
Further, the surface treatment of the leads on the film carrier tape is not limited to gold plating, and tin plating, solder plating, etc. can be sufficiently applied. Further, the material of the lead is not limited to copper, and copper alloy, iron, iron alloy, etc. can be applied.

【0030】また、保護コートは、チップ10の表面及び
インナーリード13部を保護するもので、本実施例ではエ
ポキシ系の樹脂を用いた。なお、チップ上のバンプ11及
び17の配置は図2においては短辺上のものを示したが、
長辺上に配置されるもの、四辺に配置されるもの、チッ
プの中央部に配置されるものも当然含まれる。
The protective coat protects the surface of the chip 10 and the inner lead 13 portion. In this embodiment, an epoxy resin is used. Although the bumps 11 and 17 on the chip are arranged on the short side in FIG. 2,
Of course, those arranged on the long side, those arranged on the four sides, and those arranged in the central portion of the chip are also included.

【0031】図2において、長辺上に形成された仮固定
用リードは TCP 1 とコネクタ枠2を位置合わせして固
定するときの仮接続用に用いるものである。すなわち、
TCP1 とコネクタ枠2を複数段積層接続する工程におい
て、まず一組の TCP 1 とコネクタ枠2とを仮固定して
コネクタ枠付き TCP (以下、枠付き TCP と略称する)と
するが、このとき、コネクタ枠2と TCP 1 との位置合
わせはそれぞれの上に設けた位置合わせマーク(図示せ
ず)を用いて行い、TCP 1 の上記仮固定用リードをコネ
クタ枠の仮固定用端子に熱圧着する。
In FIG. 2, the temporary fixing lead formed on the long side is used for temporary connection when the TCP 1 and the connector frame 2 are aligned and fixed. That is,
In the process of connecting TCP1 and connector frame 2 in multiple layers, first, a set of TCP 1 and connector frame 2 is temporarily fixed to form a TCP with a connector frame (hereinafter abbreviated as TCP with a frame). , The connector frame 2 and TCP 1 are aligned using the alignment marks (not shown) provided on each, and the above-mentioned temporary fixing leads of TCP 1 are thermocompression bonded to the temporary fixing terminals of the connector frame. To do.

【0032】図4〜図8に示すコネクタ枠2は、TCP 1
を複数個積層接続するときの各 TCP1 のリード間を接続
し、同時に TCP 1 間の間隔を一定に保つためのもので
ある。
The connector frame 2 shown in FIG. 4 to FIG.
This is to connect the leads of each TCP1 when a plurality of TCPs are stacked and connected, and at the same time to keep the interval between TCPs constant.

【0033】図4〜図8において、コネクタ枠2は、ガ
ラスエポキシ基材25の両面銅張積層板を用いて表裏にパ
ターンを形成して接続端子とし、該表裏パターンを接続
するためのスルーホールを形成し、接続端子の一部にス
ペーサとなる樹脂層をスクリーン印刷法によって形成し
た後、金型により図4に示した形状に外形の打ち抜きを
行う。表裏パターン及びスルーホールは銅めっきの上に
はんだめっき処理を施す。上記の打ち抜きに際しては、
スルーホールの中心線に沿って切断するように金型を設
計することにより、スルーホールの内壁の一部を露出さ
せた端面スルーホール29の形成を行う。仮固定用端子
は、上述したように、TCP 1 との仮接続に用いる。
In FIGS. 4 to 8, the connector frame 2 is a through-hole for connecting the front and back patterns by forming a pattern on the front and back using a double-sided copper-clad laminate of glass epoxy base material 25 to form a connection terminal. Is formed, and a resin layer to serve as a spacer is formed on a part of the connection terminal by a screen printing method, and then the outer shape is punched out by a mold into the shape shown in FIG. The front and back patterns and through holes are solder-plated on copper plating. In the above punching,
By designing the mold so as to cut along the center line of the through hole, the end face through hole 29 in which a part of the inner wall of the through hole is exposed is formed. The temporary fixing terminal is used for temporary connection with TCP 1, as described above.

【0034】本実施例においてはコネクタ枠2にガラス
エポキシ基材25の両面銅張積層板を用いたが、コネクタ
枠2の材質はこれに限定されるものではなく、その他の
有機樹脂あるいはセラミック等の無機系材料を用いるこ
ともできる。
In this embodiment, a double-sided copper-clad laminate of glass epoxy base material 25 was used for the connector frame 2, but the material of the connector frame 2 is not limited to this, and other organic resins or ceramics, etc. Inorganic materials can also be used.

【0035】スペーサ30及び31は積層接続時のはんだ接
続層の厚さを確保し、かつ、接続部のはんだが TCP 1
リードを伝わって内部に侵入しないようにするためのも
ので、はんだ付け温度に耐えるエポキシ系の樹脂を用い
ているが、これもエポキシ系樹脂に限定されるものでは
なく、その他の有機樹脂あるいはセラミック等の無機系
材料を用いることができる。また、表裏パターン形成時
に、図に示すスペーサ位置のパターンの一部を凸状にめ
っきあるいはエッチング処理によって形成することも可
能である。表裏パターンの内スペーサで覆われた部分以
外の面が接続に寄与する接続端子となる。コネクタ枠上
の端子表面にははんだめっきを施しているが、これもは
んだに限るものではなく、金、すずあるいはスルーホー
ルを形成したときの銅であってもよい。
The spacers 30 and 31 ensure the thickness of the solder connecting layer at the time of stacking connection, and the solder at the connecting portion is TCP 1
It is an epoxy resin that withstands the soldering temperature to prevent it from penetrating inside through the leads.However, this is not limited to epoxy resin, and other organic resins or ceramics can be used. Inorganic materials such as can be used. Further, when the front and back patterns are formed, it is also possible to form a part of the pattern at the spacer position shown in the figure by convex plating or plating. The surfaces of the front and back patterns other than the portions covered by the spacers are the connection terminals that contribute to the connection. Although the surface of the terminals on the connector frame is plated with solder, this is not limited to solder, and may be gold, tin, or copper when a through hole is formed.

【0036】図2及び図10において、マルチチップ半導
体装置6上のチップ選択用バンプ17は、チップ10上の定
位置に配置されるため、チップの種類は積層される段に
影響されることなく一種類でよい。また、コネクタ枠2
についても各段とも同じパターン位置のものでよく、こ
れも一種類でよい。これに対し、フィルムキャリアテー
プ12は、各段に対してパターン形状が異なるため、それ
ぞれのパターンに応じた4種類のものを用意している。
TCP 1 上のダミーリード19は、図12に示すように、チッ
プ選択端子部の各段のコネクタ枠2間の接続を行うため
のものである。
In FIGS. 2 and 10, since the bump 17 for chip selection on the multi-chip semiconductor device 6 is arranged at a fixed position on the chip 10, the type of chip is not affected by the stacking step. One kind is enough. Also, the connector frame 2
As for each stage, the same pattern position may be used for each stage, and only one type may be used. On the other hand, since the film carrier tape 12 has different pattern shapes for each step, four types are prepared according to each pattern.
As shown in FIG. 12, the dummy lead 19 on the TCP 1 is for connecting between the connector frames 2 at the respective stages of the chip selection terminal portion.

【0037】図1及び図10に示す蓋は、内部のくり抜き
のない印刷配線板を用いることによってマルチチップ半
導体装置6をマザーボード4に実装したときの内部保護
を行うと共に、表面に形成した端子の面積を広くとるこ
とによって、4段積層した時点での電気的特性検査を容
易に行えるようにしたものである。
The lid shown in FIGS. 1 and 10 protects the inside when the multi-chip semiconductor device 6 is mounted on the mother board 4 by using a printed wiring board having no hollow inside, and protects the terminals formed on the surface. By making the area large, it is possible to easily perform the electrical characteristic inspection when four layers are stacked.

【0038】ここで、TCP 1 とコネクタ枠2との積層接
続方法について説明する。TCP 1 とコネクタ枠2との積
層接続は、まず各段の TCP 1 とコネクタ枠2とを位置
合わせ、仮固定して枠付き TCP 1 とした後、該枠付き
TCP 1 を4段位置合わせし、さらに最上層に蓋を位置合
わせして積層接続する。ここで、枠付き TCP 1 の仮固
定には、パルスヒート方式の加熱圧着方式によって、コ
ネクタ枠2の仮固定用端子32と TCP 1 の仮固定用リー
ド20を圧着する。この場合、コネクタ枠2の端子にはん
だめっきを、TCP 1 のりードに金めっきを用いているた
め、フラックスの使用なしではんだリフロー接続が可能
であり、この工程を経た後の洗浄が不要であるという利
点がある。なお、本実施例では熱圧着による仮固定につ
いて説明したが、接着剤による固定、機械的挾みつけに
よる固定等の方法も適用可能である。
Now, a method of stacking and connecting the TCP 1 and the connector frame 2 will be described. For stacking connection of TCP 1 and connector frame 2, first align TCP 1 and connector frame 2 of each stage and temporarily fix them to make TCP 1 with frame, then
Align TCP 1 in 4 steps, and then align the lid on the top layer and connect them in layers. Here, for temporary fixing of the TCP 1 with a frame, the temporary fixing terminal 32 of the connector frame 2 and the temporary fixing lead 20 of the TCP 1 are pressure-bonded by a pulse heat type thermocompression bonding method. In this case, since solder plating is used for the terminals of the connector frame 2 and gold plating is used for the TCP 1 paste, solder reflow connection is possible without the use of flux, and no cleaning is required after this step. There is an advantage. In addition, although the temporary fixing by thermocompression bonding is described in the present embodiment, a method such as fixing by an adhesive or fixing by mechanical clamping can be applied.

【0039】また、この枠付き TCP 1 の4個と最上層
の蓋の仮固定には、第1番目から順次一段づつ位置合わ
せし、接着剤で仮固定して行く方法をとった。この場
合、各接続層の厚さが一定になるように、接着剤の硬化
時に上段の枠付き TCP 1 を一定荷重で押し付ける方法
をとった。枠付き TCP 1 4個と最上層の蓋を位置合わ
せし、仮固定した後、接続部にはんだ付け用のフラック
スを塗布し、端面スルーホール29部を溶融はんだに浸漬
することによって接続部のはんだ付けを行った。
Further, for temporarily fixing the four TCP 1s with the frame and the lid of the uppermost layer, the positions were sequentially aligned from the first one by one, and the adhesives were temporarily fixed. In this case, the upper framed TCP 1 was pressed with a constant load when the adhesive was cured so that the thickness of each connection layer was constant. After aligning the four TCPs with a frame with the lid of the uppermost layer and temporarily fixing it, apply flux for soldering to the connection part and immerse the end through hole 29 part in the molten solder to solder the connection part. I added it.

【0040】このようにしてはんだ接続したマルチチッ
プ半導体装置6をはんだ印刷を施したマザーボード4上
に位置合わせ配置し、ベーパーリフローソルダリングに
よりはんだ接続を行ってマルチチップ半導体モジュール
とした。
The multi-chip semiconductor device 6 thus connected by soldering is aligned and arranged on the mother board 4 on which solder printing is performed, and soldered by vapor reflow soldering to obtain a multi-chip semiconductor module.

【0041】図11はこのマルチチップ半導体モジュール
の接続部の断面を示す図で、マザーボード4とマルチチ
ッップ半導体装置6及び各段のコネクタ枠の端子と TCP
1のリードとがはんだによって完全に接続されているこ
とを示している。
FIG. 11 is a cross-sectional view of the connecting portion of this multi-chip semiconductor module, which shows the mother board 4, the multi-chip semiconductor device 6, the terminals of the connector frame of each stage and the TCP.
It shows that the lead of 1 is completely connected by the solder.

【0042】次に、本実施例の応用例について、図13、
14 によって説明する。
Next, regarding an application example of this embodiment, FIG.
Explain by 14.

【0043】図13はコネクタ枠2の端子と TCP 1 のア
ウターリードとの接続部の断面図である。この図におい
て、コネクタ枠2a の表面端子26aとコネクタ枠2b の
裏面端子27bとで挾まれた TCP 1 のアウターリード15a
はコネクタ枠2の端部からLだけ張り出した構造であ
る。
FIG. 13 is a sectional view of a connecting portion between the terminal of the connector frame 2 and the outer lead of TCP 1. In this figure, the outer lead 15a of the TCP 1 sandwiched between the front terminal 26a of the connector frame 2a and the rear terminal 27b of the connector frame 2b.
Is a structure in which L is extended from the end of the connector frame 2.

【0044】図14は図13に示した接続部の平面図であ
る。この図において、アウターリード15の先端部分は元
部分よりも幅広になっており、ランド28とほぼ同じ広さ
になっている。また、図15及び図16ははんだ接続後の接
続部の断面の拡大図で、図15はリードのはんだ濡れ性が
良好な接続部、図16は濡れ性の悪い接続部の状態を示し
たものである。
FIG. 14 is a plan view of the connecting portion shown in FIG. In this figure, the tip portion of the outer lead 15 is wider than the original portion, and is almost the same size as the land 28. Further, FIGS. 15 and 16 are enlarged views of a cross section of the connection portion after solder connection, FIG. 15 shows a connection portion with good solder wettability of leads, and FIG. 16 shows a state of a connection portion with poor wettability. Is.

【0045】本実施例はマルチチップ半導体装置の組
立、はんだ接続時の TCP 1 のリードのはんだ濡れ性検
査を確実に行い得る構造を提供するものである。すなわ
ち、図13及び図14に示したようにアウターリードをコネ
クタ枠2の端部から張り出させることによって、また、
アウターリード15の先端部の幅を端面スルーホール29の
幅と同等にすることによって、はんだ濡れ性が良好な場
合は図15に示すように良好なはんだフィレット60が形成
され、濡れ性が悪い場合には図16に示すようにはんだフ
ィレットが形成されないことから、はんだ濡れ性の検査
を外観から容易に検査することができるものである。
The present embodiment provides a structure capable of surely performing the solder wettability test of the TCP 1 lead at the time of assembling the multi-chip semiconductor device and connecting the solder. That is, as shown in FIGS. 13 and 14, by extending the outer leads from the ends of the connector frame 2,
By making the width of the tip of the outer lead 15 equal to the width of the end face through hole 29, when the solder wettability is good, a good solder fillet 60 is formed as shown in FIG. 15, and when the wettability is bad. Since the solder fillet is not formed in the solder as shown in FIG. 16, the solder wettability can be easily inspected from the outside.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上述べてきたように、マルチチップ半
導体装置を本発明構成の装置とすることによって、従来
技術の有していた課題を解決して、接続部の高信頼性を
確保した大容量のマルチチップ半導体装置を提供するこ
とができた。
As described above, by using a multi-chip semiconductor device as the device of the present invention, the problems of the prior art can be solved and a high reliability of the connecting portion can be secured. A multi-chip semiconductor device having a capacity can be provided.

【0047】すなわち、コネクタ枠の端子上にスペーサ
を設けたことにより端子とリードとの間に一定の間隔を
設けることができ、はんだ溶融接続時のはんだ浸透性の
向上と接続部のはんだ中に占める金の含有率を大幅に低
下させることができ、接続信頼性の大幅な向上を図るこ
とができた。また、端面スルーホール構造にしてコネク
タ枠の接続部を端面に露出させ、また同時に TCP リー
ドの端部も露出する構造にすることにより、接続状態の
外観検査が一目で行えるようになり、品質の向上と生産
性の向上が図れるようになった。さらに、溶融はんだ法
によるはんだ接続が可能になって接続プロセスの単純化
が図れ、かつ、TCP リード表面の金が溶融はんだ中に拡
散することによって、接続部の金含有量を微量に抑える
ことができ、接続の信頼性を大幅に向上させることがで
きた。
That is, by providing the spacers on the terminals of the connector frame, it is possible to provide a constant space between the terminals and the leads. It was possible to greatly reduce the content ratio of gold, and it was possible to significantly improve the connection reliability. In addition, the end face through-hole structure exposes the connection part of the connector frame to the end face, and at the same time the end part of the TCP lead is also exposed. It has become possible to improve productivity and productivity. In addition, the soldering process by the molten solder method is possible, which simplifies the connection process, and the gold on the TCP lead surface diffuses into the molten solder, so that the gold content in the connection part can be suppressed to a very small amount. It was possible and the reliability of the connection could be improved significantly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明マルチチップ半導体装置の接続部の断面
図。
FIG. 1 is a sectional view of a connecting portion of a multi-chip semiconductor device of the present invention.

【図2】TCP の平面図。FIG. 2 is a plan view of TCP.

【図3】図2の A‐A 部の断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図4】コネクタ枠の平面図。FIG. 4 is a plan view of a connector frame.

【図5】コネクタ枠の一部拡大平面図。FIG. 5 is a partially enlarged plan view of a connector frame.

【図6】コネクタ枠の側面図。FIG. 6 is a side view of a connector frame.

【図7】コネクタ枠の A‐A 部の断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view of the AA portion of the connector frame.

【図8】マルチチップ半導体装置の一部拡大断面図。FIG. 8 is a partially enlarged sectional view of a multi-chip semiconductor device.

【図9】マルチチップ半導体装置の回路ブロック図。FIG. 9 is a circuit block diagram of a multi-chip semiconductor device.

【図10】チップ選択端子部の斜視図。FIG. 10 is a perspective view of a chip selection terminal portion.

【図11】共通端子部の接続部拡大断面図。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a common terminal portion.

【図12】チップ選択端子部の接続部拡大断面図。FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a chip selection terminal portion.

【図13】コネクタ枠端子と TCP のアウターリードと
の接続部の断面図。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a connection portion between a connector frame terminal and a TCP outer lead.

【図14】図13の接続部の平面図。14 is a plan view of the connection portion of FIG.

【図15】リードのはんだ濡れの良い接続部の拡大断面
図。
FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a lead having good solder wetting.

【図16】リードのはんだ濡れの悪い接続部の拡大断面
図。
FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a lead having poor solder wetting.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…TCP (テープキャリアパッケージ)、2…コネクタ
枠、4…マザーボード、5、33 …はんだ、6…マルチ
チップ半導体装置、10 …半導体チップ、15 …アウター
リード、18 …チップ選択リード、19 …ダミーリード、
26 …表面端子、27 …裏面端子、29 …端面スルーホー
ル、30 …表面スペーサ、31 …裏面スペーサ、50 …チ
ップ選択基板端子、51 …チップ選択端子、60 …フィレ
ット。
1 ... TCP (tape carrier package), 2 ... Connector frame, 4 ... Motherboard, 5, 33 ... Solder, 6 ... Multi-chip semiconductor device, 10 ... Semiconductor chip, 15 ... Outer lead, 18 ... Chip selection lead, 19 ... Dummy Reed,
26 ... front surface terminal, 27 ... rear surface terminal, 29 ... end through hole, 30 ... front surface spacer, 31 ... rear surface spacer, 50 ... chip selection board terminal, 51 ... chip selection terminal, 60 ... fillet.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 大之 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 宮野 一郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 山崎 和夫 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体設計開発センタ内 (72)発明者 山田 宗博 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体設計開発センタ内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hiroyuki Tanaka, Inventor Hiroyuki Tanaka, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside the Hitachi, Ltd. Institute of Industrial Science (72) Ichiro Miyano 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Address Company, Hitachi, Ltd., Production Engineering Laboratory (72) Inventor, Kazuo Yamazaki, 5-20-1, Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo, Ltd., Hitachi, Ltd., Semiconductor Design and Development Center (72) Inventor, Munehiro Yamada, Kodaira, Tokyo 5-20-1 Joumizuhoncho, Ichi, Japan Semiconductor design and development center, Hitachi, Ltd.

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フィルムキャリアテープに半導体チップを
電気的に接続したテープキャリアパッケージを、少なく
ともその一面に接続端子を有するコネクタ枠を介して複
数個積層接続した積層マルチチップ半導体装置におい
て、上記コネクタ枠の少なくとも一面に上記接続端子厚
さよりも厚く絶縁膜を形成したことを特徴とする積層マ
ルチチップ半導体装置。
1. A laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages, each having a semiconductor chip electrically connected to a film carrier tape, are laminated and connected via a connector frame having a connection terminal on at least one surface thereof. A laminated multi-chip semiconductor device having an insulating film thicker than the thickness of the connection terminal on at least one surface thereof.
【請求項2】上記絶縁膜を上記コネクタ枠の基材上に形
成したことを特徴とする請求項1記載の積層マルチチッ
プ半導体装置。
2. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is formed on a base material of the connector frame.
【請求項3】上記絶縁膜を上記コネクタ枠の端子上に形
成したことを特徴とする請求項1記載の積層マルチチッ
プ半導体装置。
3. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is formed on the terminals of the connector frame.
【請求項4】上記絶縁膜に有機系樹脂を用いたことを特
徴とする請求項1〜3記載の積層マルチチップ半導体装
置。
4. The laminated multichip semiconductor device according to claim 1, wherein an organic resin is used for the insulating film.
【請求項5】上記絶縁膜に無機系絶縁物を用いたことを
特徴とする請求項1〜3記載の積層マルチチップ半導体
装置。
5. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein an inorganic insulating material is used for said insulating film.
【請求項6】上記絶縁膜をソルダーレジスト膜で形成し
たことを特徴とする請求項1〜4記載の積層マルチチッ
プ半導体装置。
6. The laminated multichip semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is formed of a solder resist film.
【請求項7】上記絶縁膜をセラミック絶縁膜で形成した
ことを特徴とする請求項1〜3及び請求項5記載の積層
マルチチップ半導体装置。
7. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is a ceramic insulating film.
【請求項8】フィルムキャリアテープに半導体チップを
電気的に接続したテープキャリアパッケージを、少なく
ともその一面に接続端子を有するコネクタ枠を介して複
数個積層接続した積層マルチチップ半導体装置におい
て、上記コネクタ枠の少なくとも一面の上記端子の一部
に凸起を形成したことを特徴とする積層マルチチップ半
導体装置。
8. A laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages, each of which has a semiconductor chip electrically connected to a film carrier tape, are laminated and connected via a connector frame having a connection terminal on at least one surface thereof. A multi-layered multi-chip semiconductor device having a protrusion formed on at least one surface of at least one of the terminals.
【請求項9】上記凸起を端子と同じ材質で形成したこと
を特徴とする請求項8記載の積層マルチチップ半導体装
置。
9. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 8, wherein the protrusion is made of the same material as the terminal.
【請求項10】上記突起を端子と異なる材質で形成した
ことを特徴とする請求項8記載の積層マルチチップ半導
体装置。
10. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 8, wherein the protrusion is made of a material different from that of the terminal.
【請求項11】上記凸起をめっき法によって形成したこ
とを特徴とする請求項8〜10記載の積層マルチチップ半
導体装置。
11. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 8, wherein the protrusions are formed by a plating method.
【請求項12】上記凸起を印刷法によって形成したこと
を特徴とする請求項8〜10記載の積層マルチチップ半導
体装置。
12. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 8, wherein the protrusions are formed by a printing method.
【請求項13】フィルムキャリアテープに半導体チップ
を電気的に接続したテープキャリアパッケージを、少な
くともその一面に配線パターンを有するコネクタ枠を介
して複数個積層接続した積層マルチチップ半導体装置に
おいて、上記コネクタ枠上のパターンの一端をコネクタ
枠端部に露出する構造としたことを特徴とする積層マル
チチップ半導体装置。
13. A laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages, each of which has a semiconductor chip electrically connected to a film carrier tape, are laminated and connected via a connector frame having a wiring pattern on at least one surface thereof. A laminated multi-chip semiconductor device having a structure in which one end of the upper pattern is exposed at an end of a connector frame.
【請求項14】上記パターンが接続端子であることを特
徴とする請求項13記載の積層マルチチップ半導体装置。
14. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 13, wherein the pattern is a connection terminal.
【請求項15】上記コネクタ枠が表裏を貫通する貫通孔
を有するコネクタ枠であることを特徴とする請求項13及
び14記載の積層マルチチップ半導体装置。
15. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 13, wherein the connector frame is a connector frame having through holes penetrating the front and back sides.
【請求項16】上記コネクタ枠の有する貫通孔がスルー
ホールであることを特徴とする請求項13及び14記載の積
層マルチチップ半導体装置。
16. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 13, wherein the through hole of the connector frame is a through hole.
【請求項17】上記スルーホールの内壁の一部を上記コ
ネクタ枠の端部に露出させたことを特徴とする請求項13
及び16記載の積層マルチチップ半導体装置。
17. A part of an inner wall of the through hole is exposed at an end of the connector frame.
16. A laminated multichip semiconductor device according to 16 above.
【請求項18】請求項1〜7に掲げた絶縁膜を付加した
ことを特徴とする請求項13〜17記載の積層マルチチップ
半導体装置。
18. A laminated multi-chip semiconductor device according to claim 13, wherein the insulating film according to any one of claims 1 to 7 is added.
【請求項19】請求項8〜12に掲げた凸起形成を付加し
たことを特徴とする請求項13〜17記載の積層マルチチッ
プ半導体装置。
19. The laminated multi-chip semiconductor device according to claim 13, further comprising the protrusion formed in any one of claims 8 to 12.
【請求項20】少なくとも一面に配線パターンを有する
フィルムキャリアテープに半導体チップを電気的に接続
したテープキャリアパッケージを、コネクタ枠を介して
複数個積層接続した積層マルチチップ半導体装置におい
て、上記フィルムキャリアパッケージのリードを上記コ
ネクタ枠端子の端部面と同一か、または、それ以上に露
出させたテープキャリアパッケージを有することを特徴
とする積層マルチチップ半導体装置。
20. A laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages, each having a semiconductor chip electrically connected to a film carrier tape having a wiring pattern on at least one surface thereof, are laminated and connected via a connector frame. A multi-layer semiconductor device having a tape carrier package in which the lead of the above is exposed to the same or more than the end face of the connector frame terminal.
【請求項21】上記コネクタ枠の端部近傍に位置するフ
ィルムキャリアパッケージのリード幅を上記コネクタ枠
の端子幅と同等かそれ以上に広くしたことを特徴とする
請求項20記載の積層マルチチップ半導体装置。
21. The laminated multi-chip semiconductor according to claim 20, wherein the lead width of the film carrier package located near the end of the connector frame is made wider than or equal to the terminal width of the connector frame. apparatus.
【請求項22】請求項1〜19に示した内の少なくとも一
種類の構造を有するコネクタ枠を用いたことを特徴とす
る請求項20、21記載の積層マルチチップ半導体装置。
22. A stacked multi-chip semiconductor device according to claim 20, wherein a connector frame having at least one of the structures shown in claims 1 to 19 is used.
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