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JPH05170590A - 分子線セル - Google Patents

分子線セル

Info

Publication number
JPH05170590A
JPH05170590A JP3356796A JP35679691A JPH05170590A JP H05170590 A JPH05170590 A JP H05170590A JP 3356796 A JP3356796 A JP 3356796A JP 35679691 A JP35679691 A JP 35679691A JP H05170590 A JPH05170590 A JP H05170590A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
molecular beam
heater
thermocouple
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3356796A
Other languages
English (en)
Inventor
Misao Takakusaki
操 高草木
Kazuhiro Akamatsu
和弘 赤松
Tsutomu Ozaki
勉 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd, Nikko Kyodo Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP3356796A priority Critical patent/JPH05170590A/ja
Publication of JPH05170590A publication Critical patent/JPH05170590A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】振動や温度の昇降温などにより熱電対とるつぼ
の接触状態が変化せず、成長速度および混晶組成の再現
性の高い制御を可能とする分子線セルの構造を提供す
る。 【構成】開口部、側部および底部からなり分子線源を収
容するるつぼと、該るつぼの側部を加熱するヒータと、
該るつぼの底部に適合するるつぼ受けと、該るつぼと前
記るつぼ受けの間に固定された測温素子とを含むもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、分子線エピタキシャル
成長(MBE)装置に用いる分子線セルの構造に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】MBE装置は、高真空容器内に設けられ
た原料元素を蒸発させて分子線を発生させるための分子
線セル、発生した分子線を開閉するためのシャッター、
基板の加熱機構などから構成されている。
【0003】MBE装置により成長されるエピタキシャ
ル膜の成長速度、混晶の組成等は、分子線セルから照射
される分子線の量である分子線量(特に、III−V族化
合物半導体では、III族の分子線量)により決定され
る。この分子線量は、分子線セルの温度・形状、分子線
セルと基板の間の距離などのパラメータにより決定され
る。
【0004】図1は、従来の分子線セルの構造を示す断
面図である。分子線セルは、原料を入れて蒸発させ分子
線を得るためのるつぼ1、るつぼ1を加熱するためのヒ
ーター2、ヒーター2を制御するための測定用の熱電対
3、及び、熱電対3を支持する支持管4などから構成さ
れている。熱電対3は、支持管4の下部に取り付けられ
たバネ5により、るつぼ1の底部に押し付けられてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、バネ5の力のみで熱電対3がるつぼの底部に押し付
けられる構造のため、装置全体の振動、原料のチャー
ジ、またはセル温度の昇降温により、るつぼの底部と熱
電対の接触の仕方が変化する。このため、同一温度にヒ
ーターを制御しても、実際のるつぼ内の原料の温度が変
化し、蒸発する分子線量が変化する。そのため、従来の
構造ではエピタキシャル成長の成長速度、混晶組成など
の再現性が乏しいという欠点があった。
【0006】本発明は上記の欠点を解決したもので、本
発明の目的は、振動や温度の昇降温などにより熱電対と
るつぼの接触状態が変化せず、成長速度および混晶組成
の再現性の高い制御を可能とする分子線セルの構造を提
供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による分子線セル
は、開口部、側部および底部からなり分子線源を収容す
るるつぼと、該るつぼの側部を加熱するヒータと、該る
つぼの底部に適合するるつぼ受けと、該るつぼと前記る
つぼ受けの間に固定された測温素子とを含むものであ
る。
【0008】前記るつぼと前記るつぼ受けがパイロリテ
ィブ・ボロンナイトライド(p−BN)などの同一素材
で形成されており、熱電対などの前記測温素子の配線が
前記るつぼ受けに設けられた開口に通されていることが
望ましい。
【0009】
【発明の作用及び効果】るつぼとその底部に適合するる
つぼ受けとの間に測温素子を固定しているので、装置全
体の振動やるつぼ内への原料供給時の振動等があって
も、るつぼと測温素子との接触状態に変化は起こらず、
常に同一状態で温度を測定することができる。したがっ
て、分子線セルの温度安定性を向上させることが可能と
なり、分子線強度の再現性を著しく向上することができ
る。
【0010】また、前記るつぼと前記るつぼ受けを同一
素材で形成し、測温素子の配線がるつぼ受けに設けられ
た開口に通されているため、セル温度の昇降温により、
測温素子の接触状態は変化せず、加えて、配線が短絡す
ることもない。したがって、分子線強度の再現性をさら
に向上することが可能となる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例である分子線セルを図
2及び図3を用いてより詳細に説明する。
【0012】p−BN(パイロリティブ・ボロンナイト
ライド)製のるつぼ1は、底付円筒形状であり、開口部
の口径は底部に比べて広くなっており、底部は半球状で
ある。るつぼ1の底部に原料元素をいれ、開口部から分
子線を照射する。なお、るつぼ1はその開口部で固定さ
れており、開口部には、シャッターが設けられている。
るつぼ1の側面には、タンタル金属製のヒータ2が設け
られており、分子線を発生するために原料元素を所定温
度に加熱する。
【0013】るつぼ1の底部は、るつぼ受け8に嵌め合
わされている。るつぼ受け8は、るつぼ1の底部と同一
の半球状であり、るつぼ1と同一のp−BNでできてい
る。
【0014】測温素子である熱電対3は、W/W・Re
のリード対からなり、それぞれのリードはるつぼ受け8
の中心付近に設けられた一対の穴(開口)8aを通り、
熱電対3の接合部3aは、るつぼ1とるつぼ受け8の間
にはさまれて固定されている。
【0015】熱電対3のリードは保護管4を通して真空
容器外へ接続され、その測定された温度によりヒータ2
を制御している。熱電対の支持管4は、るつぼ受け8を
支持しており、下部のバネ5およびバネ押え6で、るつ
ぼ受け8をるつぼ1に押し上げている。
【0016】したがって、MBE装置全体の振動、原料
のチャージ、またはセル温度の昇降温によってもるつぼ
1と熱電対3の接触は変化することなく、るつぼ1内の
原料の実際の温度を一定にすることが可能となり、再現
性の高い分子線量の照射を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術による分子線セルを説明するための断
面図である。
【図2】本発明の実施例である分子線セルを説明するた
めの断面図である。
【図3】本発明の実施例である分子線セルのるつぼ受け
を説明するための断面図である。
【符号の説明】
1 … るつぼ、 2 … ヒータ、 3 … 熱電対、 3a… 熱電対の接合部、 4 … 熱電対支持管、 5 … バネ、 6 … バネ押さえ、 7 … 熱シールド、 8 … るつぼ受け、 8a… 穴(開口)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 開口部、側部および底部からなり分子線
    源を収容するるつぼと、 該るつぼの側部を加熱するヒータと、 該るつぼの底部に適合するるつぼ受けと、 該るつぼと前記るつぼ受けの間に固定された測温素子と
    を含むことを特徴とする分子線セル。
JP3356796A 1991-12-26 1991-12-26 分子線セル Pending JPH05170590A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3356796A JPH05170590A (ja) 1991-12-26 1991-12-26 分子線セル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3356796A JPH05170590A (ja) 1991-12-26 1991-12-26 分子線セル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05170590A true JPH05170590A (ja) 1993-07-09

Family

ID=18450816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3356796A Pending JPH05170590A (ja) 1991-12-26 1991-12-26 分子線セル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05170590A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103726022A (zh) * 2013-11-22 2014-04-16 上海和辉光电有限公司 一种有机材料加热蒸镀源

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103726022A (zh) * 2013-11-22 2014-04-16 上海和辉光电有限公司 一种有机材料加热蒸镀源

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