JPH05170590A - 分子線セル - Google Patents
分子線セルInfo
- Publication number
- JPH05170590A JPH05170590A JP3356796A JP35679691A JPH05170590A JP H05170590 A JPH05170590 A JP H05170590A JP 3356796 A JP3356796 A JP 3356796A JP 35679691 A JP35679691 A JP 35679691A JP H05170590 A JPH05170590 A JP H05170590A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- molecular beam
- heater
- thermocouple
- opening
- Prior art date
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- Pending
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
の接触状態が変化せず、成長速度および混晶組成の再現
性の高い制御を可能とする分子線セルの構造を提供す
る。 【構成】開口部、側部および底部からなり分子線源を収
容するるつぼと、該るつぼの側部を加熱するヒータと、
該るつぼの底部に適合するるつぼ受けと、該るつぼと前
記るつぼ受けの間に固定された測温素子とを含むもので
ある。
Description
成長(MBE)装置に用いる分子線セルの構造に関する
ものである。
た原料元素を蒸発させて分子線を発生させるための分子
線セル、発生した分子線を開閉するためのシャッター、
基板の加熱機構などから構成されている。
ル膜の成長速度、混晶の組成等は、分子線セルから照射
される分子線の量である分子線量(特に、III−V族化
合物半導体では、III族の分子線量)により決定され
る。この分子線量は、分子線セルの温度・形状、分子線
セルと基板の間の距離などのパラメータにより決定され
る。
面図である。分子線セルは、原料を入れて蒸発させ分子
線を得るためのるつぼ1、るつぼ1を加熱するためのヒ
ーター2、ヒーター2を制御するための測定用の熱電対
3、及び、熱電対3を支持する支持管4などから構成さ
れている。熱電対3は、支持管4の下部に取り付けられ
たバネ5により、るつぼ1の底部に押し付けられてい
る。
は、バネ5の力のみで熱電対3がるつぼの底部に押し付
けられる構造のため、装置全体の振動、原料のチャー
ジ、またはセル温度の昇降温により、るつぼの底部と熱
電対の接触の仕方が変化する。このため、同一温度にヒ
ーターを制御しても、実際のるつぼ内の原料の温度が変
化し、蒸発する分子線量が変化する。そのため、従来の
構造ではエピタキシャル成長の成長速度、混晶組成など
の再現性が乏しいという欠点があった。
発明の目的は、振動や温度の昇降温などにより熱電対と
るつぼの接触状態が変化せず、成長速度および混晶組成
の再現性の高い制御を可能とする分子線セルの構造を提
供することにある。
は、開口部、側部および底部からなり分子線源を収容す
るるつぼと、該るつぼの側部を加熱するヒータと、該る
つぼの底部に適合するるつぼ受けと、該るつぼと前記る
つぼ受けの間に固定された測温素子とを含むものであ
る。
ィブ・ボロンナイトライド(p−BN)などの同一素材
で形成されており、熱電対などの前記測温素子の配線が
前記るつぼ受けに設けられた開口に通されていることが
望ましい。
つぼ受けとの間に測温素子を固定しているので、装置全
体の振動やるつぼ内への原料供給時の振動等があって
も、るつぼと測温素子との接触状態に変化は起こらず、
常に同一状態で温度を測定することができる。したがっ
て、分子線セルの温度安定性を向上させることが可能と
なり、分子線強度の再現性を著しく向上することができ
る。
素材で形成し、測温素子の配線がるつぼ受けに設けられ
た開口に通されているため、セル温度の昇降温により、
測温素子の接触状態は変化せず、加えて、配線が短絡す
ることもない。したがって、分子線強度の再現性をさら
に向上することが可能となる。
2及び図3を用いてより詳細に説明する。
ライド)製のるつぼ1は、底付円筒形状であり、開口部
の口径は底部に比べて広くなっており、底部は半球状で
ある。るつぼ1の底部に原料元素をいれ、開口部から分
子線を照射する。なお、るつぼ1はその開口部で固定さ
れており、開口部には、シャッターが設けられている。
るつぼ1の側面には、タンタル金属製のヒータ2が設け
られており、分子線を発生するために原料元素を所定温
度に加熱する。
わされている。るつぼ受け8は、るつぼ1の底部と同一
の半球状であり、るつぼ1と同一のp−BNでできてい
る。
のリード対からなり、それぞれのリードはるつぼ受け8
の中心付近に設けられた一対の穴(開口)8aを通り、
熱電対3の接合部3aは、るつぼ1とるつぼ受け8の間
にはさまれて固定されている。
容器外へ接続され、その測定された温度によりヒータ2
を制御している。熱電対の支持管4は、るつぼ受け8を
支持しており、下部のバネ5およびバネ押え6で、るつ
ぼ受け8をるつぼ1に押し上げている。
のチャージ、またはセル温度の昇降温によってもるつぼ
1と熱電対3の接触は変化することなく、るつぼ1内の
原料の実際の温度を一定にすることが可能となり、再現
性の高い分子線量の照射を得ることができる。
面図である。
めの断面図である。
を説明するための断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 開口部、側部および底部からなり分子線
源を収容するるつぼと、 該るつぼの側部を加熱するヒータと、 該るつぼの底部に適合するるつぼ受けと、 該るつぼと前記るつぼ受けの間に固定された測温素子と
を含むことを特徴とする分子線セル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3356796A JPH05170590A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 分子線セル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3356796A JPH05170590A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 分子線セル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05170590A true JPH05170590A (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=18450816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3356796A Pending JPH05170590A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 分子線セル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05170590A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103726022A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-04-16 | 上海和辉光电有限公司 | 一种有机材料加热蒸镀源 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP3356796A patent/JPH05170590A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103726022A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-04-16 | 上海和辉光电有限公司 | 一种有机材料加热蒸镀源 |
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