JPH05163317A - 樹脂組成物、光ディスク用材料及びその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目 的】表面抵抗が低く、ゴミの付着がしにくく、接
着性、耐擦傷性に優れ、ブリードが少ない硬化物を与え
る樹脂組成物を提供すること。 【構 成】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なくと
も１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重量
％、特定の構造を有する化合物（Ｂ）１〜２０重量％及
び光重合開始剤（Ｃ）０．５〜２０重量％を含んでなる
樹脂組成物、光ディスク材料及びその硬化物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光信号を高速、高密度に
記録再生する光ディスク記録媒体用の帯電防止能を有す
る保護コート剤や、光ディスクの傷つき防止用ハードコ
ート剤として有用な紫外線等により硬化し、記録媒体に
対する接着性、耐湿性の良好な硬度の優れた、光ディス
ク表面にゴミの付着しにくい紫外線硬化型樹脂組成物及
びその硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、民生用のコンパクトディスク記録
媒体用保護コート剤としては紫外線硬化型オーバーコー
ト剤が使用されている。一方、現在書き込み消去の可能
な光ディスクの開発が行われており、光ディスク用保護
コート剤や傷つき防止用ハードコート剤等の開発も進め
られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】光ディスク用の記録媒
体は水分やヒートショックに弱く、保護コート剤に対す
る特性として、耐湿性、耐ヒートショック性、高い硬
度、ゴミが付着しにくい等の優れた品質が要求されてい
る。従来使用されているコンパクトディスク用保護コー
ト剤は光ディスクの保護コート剤やハードコート剤とし
て使用するには耐湿性が不十分であり、又ゴミの付着の
問題もあり使用できない。又、従来紫外線硬化型樹脂組
成物としては多くの組成物が知られているが、帯電防止
能を有した組成物は今日まで十分に満足するものは見い
出されていないのが実状である。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明者らは、鋭意研究の結果、紫外線により硬化が
速く、帯電防止能を有し、ゴミの付着が少なく、接着
性、耐湿性、硬度の優れた光ディスク用材料を提供する
ことに成功し本発明を完成した。すなわち、本発明は、 １． 分子中に少なくとも１個の水酸基と少なくとも１
個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重量％、
式（１）及び／又は式（２）で表される化合物（Ｂ）に
１〜２０重量％

【０００５】

【化３】

【０００６】（式中、Ｒ₁ は水素原子またはメチル基
を、Ｒ₂ は−Ｏ−または−ＮＨ−を、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 及びＲ
₅ は同一でも異種でもよい炭素数１〜５のアルキル基
を、Ｘ^- はＣｌ^- Ｂｒ^- 及びＣ_m Ｈ_2m+1ＳＯ₄ ^- （ｍは
１〜３の整数である。）からなる群から選ばれた基を示
し、ｎは１〜５の整数である。）

【０００７】

【化４】

【０００８】（式中、Ｒ₆ は水素原子またはメチル基
を、Ｒ₇ 及びＲ₈ は同一でも異種でもよい炭素数１〜５
のアルキル基を示す。）及び光重合開始剤（Ｃ）０．５
〜２０重量％を含んでなる樹脂組成物及び光ディスク用
材料。 ２． １項記載の樹脂組成物及び光ディスク用材料の硬
化物、に関する。

【０００９】本発明に於いて使用される分子中に少なく
とも１個の水酸基と少なくとも１個の不飽和基を有する
化合物（Ａ）としては、具体的には例えば２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、フェニルグリシジルエーテルの（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡのエポキシ樹脂のジ（メタ）アク
リレート等を挙げることができる。

【００１０】本発明で使用する式（１）及び式（２）で
表される化合物（Ｂ）の具体的なものとしては、例えば
式（１）で表される化合物としてはメタクリロイルオキ
シエチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリ
ルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、
アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモ
ニウムブロマイド等を、式（２）で表される化合物とし
てはターシャリブチルアクリルアミドスルフォン酸、ア
クリロイルオキシエチルメチルジエチルアンモニウムメ
チルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメ
チルアンモニウムメチルサルフェート等を挙げることが
できる。

【００１１】本発明の樹脂組成物或は光ディスク用材料
（以降併せて組成物という。）では前記化合物（Ａ）以
外の不飽和基含有化合物を使用することができる。その
不飽和基含有化合物の具体的な例としては、例えばイソ
ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテト
ラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これ
ら不飽和基含有化合物を１種又は２種以上使用すること
ができる。

【００１２】光重合開始剤（Ｃ）としては公知のどのよ
うな光重合開始剤でも使用することができるが配合後の
貯蔵安定性の良いものが望ましい。この様な光重合開始
剤としては、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル系、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、４´−フェノキシ
−２，２−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノ
ン系、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、
４´−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノンなどのプロピオフェノン系、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケ
トン及び２−エチルアントラキノン、２−クロロアント
ラキノンなどのアントラキノン系、２−クロロチオキサ
ントン、２，４−ジエチルチオキサンサトンなどのチオ
キサントン系光重合開始剤などがあげられる。特に好ま
しいものとしては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等があげられる。これら光重合開始剤は１種
または２種以上を任意の割合で混合して使用する事が出
来る。

【００１３】本発明に使用される化合物（Ａ）の使用量
は、組成物中４０〜９５重量％、好ましくは５０〜９５
重量％である。化合物（Ａ）の使用量が４０重量％より
少ない場合には化合物（Ｂ）が組成物中に完全に溶解せ
ず組成物が白ダクする場合があり好ましくない。化合物
（Ｂ）の使用量は、組成物中１〜２０重量％、好ましく
は５〜１０重量％である。化合物（Ｂ）の使用量が１重
量％より少ない場合には組成物の硬化物の表面抵抗が高
くなり、帯電防止能が不十分となり好ましくない。又、
化合物（Ｂ）の使用量が２０重量％より多いと基材との
接着性が悪くなったり、硬化物の硬度が低下して好まし
くない。光重合開始剤（Ｃ）の使用量は組成物中０．５
〜２０重量％好ましくは３〜１０重量％である。

【００１４】本発明の組成物は各成分（Ａ）、（Ｂ）及
び（Ｃ）成分を均一混合、溶解することにより得ること
ができる。本発明の組成物には、更にシランカップリン
グ剤、重合禁止剤、レベリング剤、スリップ剤、光安定
剤、酸化防止剤、有機溶剤を使用することができる。

【００１５】本発明の組成物の硬化物は常法により紫外
線照射により得ることができる。具体的には例えば、低
圧又は、高圧水銀灯、キセノン灯等を用いて紫外線を照
射して得ることができる。本発明の組成物は特に光ディ
スク用保護コーティング剤及び光ディスク用ハードコー
ト剤として有用であるが、その他にも金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用塗料等を使用でき
る。本発明の光ディスク用材料は特に光ディスクの記録
膜の保護剤として、又、光ディスクの傷つき防止剤とし
て有用である。

【００１６】本発明の光ディスク用材料を用いた光ディ
スクの傷つき防止膜の形成は光ディスクの基板（例え
ば、ポリカーボネート等）上に光ディスク用材料を例え
ば、スピンコート法等により塗布し、紫外線を照射して
硬化することによって傷つき防止膜を形成される。光デ
ィスクの基板上の光ディスク用材料を塗布する場合、そ
の厚さは、通常２〜１０μ程度とするが好ましい。

【００１７】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、実施例中の部は重量部である。 実施例１〜４、比較例１、２ 表１に示す配合組成比（数値は重量部を示す。）に従っ
て光ディスク用材料を得た。これを光ディスク基板上に
スピンコートにより５μｍの膜厚で塗布した後、紫外線
を照射し硬化し傷つき防止膜を形成された光ディスク基
板を得た。（以後、これを供試体という。）供試体を用
いて各種の性能試験を行った。それらの結果を表２に示
す。

【００１８】（密着性）供試体を８０℃、１００％ＲＨ
の条件で１００時間放置後、塗膜に切目を入れて１×１
mmの大きさのゴバン目を１００個刻み、セロハンテープ
で剥離した後の密着性を評価した。 （表面抵抗値（Ω／口））供試体を２３℃、５０％ＲＨ
の条件で２４時間放置した後、測定を行った。値が小さ
いほどよい。 （拭き取り試験）供試体の塗膜面をエタノールを含ませ
た脱脂綿で１０００回拭き取った後、表表面抵抗を測定
した。

【００１９】（耐擦傷性）供試体の塗膜面をスチールウ
ール（日本スチールウール社製＃００００）で擦り、表
面状態を観察した。 ◎・・・・強く擦っても傷つかない ○・・・・強く擦ると少し傷つく △・・・・軽く擦ると少し傷つく ×・・・・軽く擦っても非常に傷つく （タバコ吸着テスト）供試体の塗膜面をテトロン布で１
５回強く摩擦した後タバコの灰をふりかけ、吸着してな
い灰を光ディスク基板をふって落とし、灰の付着の程度
を目視で観察した。 ○・・・・全く付着していない △・・・・わずかに付着している ×・・・・全面に付着している

【００２０】（ブリード試験）供試体を８０℃、１００
％ＲＨの条件で１００時間放置後塗膜面を目視し、ブリ
ードの状態を観察した。 ○・・・・全く異常なし △・・・・ややブリード発生 ×・・・・全面にブリード発生

【００２１】 表１（１） 実施例 １ ２ ３ ４ ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ａ） 40 50 30 40 ２−ヒドロキエチルアクリレート （Ａ） 20 20 ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（Ａ） 20 配 エポキシアクリレート ＊１ （Ａ） 10 フェニルグリシジルエーテルのアクリレート（Ａ） 20 合 メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム クロライド（Ｂ） 8 組 ターシャリブチルアクリルアミドスルフォン酸（Ｂ） 5 アクリロイルオキシエチルトリメチル 成 アンモニウムクロライド（Ｂ） 9 アクリロイルオキシエチルメチルジエチル アンモニウムメチルサルフェート（Ｂ） 7 イルガキュアー１８４ ＊２ （Ｃ） 7 7 7 7 表１（１）続き 実施例 １ ２ ３ ４ そ の 他 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 30 20 30 配 トリメチロールプロパントリアクリレート 10 20 10 合 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 10 10 組 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール 20 成 ジアクリレート テトラヒドロフルフリルアクリレート 20 イソボルニルアクリレート 10

【００２２】 表１（２） 実施例 １ ２ ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ａ） 20 40 ２−ヒドロキエチルアクリレート （Ａ） 10 20 ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（Ａ） 配 エポキシアクリレート ＊１ （Ａ） フェニルグリシジルエーテルのアクリレート（Ａ） 合 メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム クロライド（Ｂ） 8 組 ターシャリブチルアクリルアミドスルフォン酸（Ｂ） アクリロイルオキシエチルトリメチル 成 アンモニウムクロライド（Ｂ） アクリロイルオキシエチルメチルジエチル アンモニウムメチルサルフェート（Ｂ） イルガキュアー１８４ ＊２ （Ｃ） 7 7 そ の 他 表１（２）続き 実施例 １ ２ ペンタエリスリトールテトラアクリレート 50 30 配 トリメチロールプロパントリアクリレート 10 10 合 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 10 10 組 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール 成 ジアクリレート テトラヒドロフルフリルアクリレート イソボルニルアクリレート

【００２３】注 ＊１ エポキシアクリレート：エピコ
ート８２８（油化シェルエポキシ（株）製、ビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステル化した
もの。 ＊２ イルガキュアー１８４：チバ・ガイギー社製、光
重合開始剤。

【００２４】 表２（１） 実 施 例 １ ２ ３ ４ 光テ゛ィスク用材料の液の状態 透明 透明 透明 透明 密 着 性 100/100 100/100 100/100 100/100 表面抵抗値（Ω／口） 5.0×10¹¹ 1.5×10¹¹ 3.0×10¹² 9.5×10¹² 拭き取り試験（Ω／口） 5.1×10¹¹ 1.4×10¹¹ 3.2×10¹² 9.3×10¹² 耐擦傷性 ◎ ○ ○ ◎ タバコ吸着テスト ○ ○ ○ ○ ブリード試験 ○ ○ ○ ○

【００２５】

【００２６】表２の結果から明らかなように本発明の光
ディスク用材料は、透明でその硬化物は密着性、耐擦傷
性に優れ、表面抵抗値が低く、帯電防止性能を有し、ゴ
ミの付着が少ない。又、拭き取り試験後の表面抵抗値も
変化が少ない。

【００２７】

【発明の効果】本発明の樹脂組成物及び光ディスク用材
料の硬化物は帯電防止性能を有しており、ゴミが付着し
にくく、密着性、耐擦傷性に優れ、エタノール等の有機
溶剤で塗布面を拭き取っても表面抵抗に変化がなく、特
に光ディスク用ハードコート剤（傷つき防止膜）、光デ
ィスク用保護コート剤として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３６ 7215−5Ｄ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なく
   とも１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重
   量％、式（１）及び／又は式（２）で表される化合物
   （Ｂ）１〜２０重量％ 【化１】 （式中、Ｒ₁ は水素原子またはメチル基を、Ｒ₂ は−Ｏ
   −または−ＮＨ−を、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 及びＲ₅ は同一でも異
   種でもよい炭素数１〜５のアルキル基、Ｘ^- はＣｌ^- 、
   Ｂｒ^- 及びＣ_m Ｈ_2m+1ＳＯ₄ ^- （ｍは１〜３の整数であ
   る。）からなる群から選ばれた基を示し、ｎは１〜５の
   整数である。） 【化２】 （式中、Ｒ₆ は水素原子またはメチル基を、Ｒ₇ 及びＲ
   ₈ は同一でも異種でもよい炭素数１〜５のアルキル基を
   示す。）及び光重合開始剤（Ｃ）０．５〜２０重量％を
   含んでなる樹脂組成物。
2. 【請求項２】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なく
   とも１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重
   量％と請求項１記載の式（１）及び／又は式（２）で表
   される化合物（Ｂ）１〜２０重量％及び光重合開始剤
   （Ｃ）０．５〜２０重量％を含んでなる光ディスク用材
   料。
3. 【請求項３】請求項１記載の樹脂組成物の硬化物。
4. 【請求項４】請求項２記載の光ディスク用材料の硬化
   物。