JPH05124208A - Liquid jet recording head and production thereof - Google Patents
Liquid jet recording head and production thereofInfo
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- JPH05124208A JPH05124208A JP29174191A JP29174191A JPH05124208A JP H05124208 A JPH05124208 A JP H05124208A JP 29174191 A JP29174191 A JP 29174191A JP 29174191 A JP29174191 A JP 29174191A JP H05124208 A JPH05124208 A JP H05124208A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、吐出口に連通するイン
ク流路と、該インク流路に対応して配置されインクを前
記吐出口から吐出するために利用されるエネルギーを発
生するエネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッ
ドの製造方法と、この製造方法によって製造された液体
噴射記録ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ink flow path communicating with an ejection port, and energy generation for generating energy used for ejecting ink from the ejection port, which is arranged corresponding to the ink flow channel. The present invention relates to a method for manufacturing a liquid jet recording head having an element and a liquid jet recording head manufactured by this manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】インクジェット記録方法(液体噴射記録
方法)で用いられる液体噴射記録ヘッドは、一般に、イ
ンクが吐出する微細な吐出口に連通するインク流路、イ
ンク流路内に配置されインクを吐出するためのエネルギ
ーを発生するエネルギー発生素子とを備えている。エネ
ルギー発生素子としては、圧電素子や電気熱変換体など
が使用される。2. Description of the Related Art Generally, a liquid jet recording head used in an ink jet recording method (liquid jet recording method) ejects ink in an ink channel communicating with a fine ejection port for ejecting ink And an energy generating element for generating energy for A piezoelectric element, an electrothermal converter, or the like is used as the energy generating element.
【0003】従来このような液体噴射記録ヘッドは、例
えばガラスや金属などの板を用い、この板に切削やエッ
チングなどの加工を施してインク流路に相当する微細な
溝を形成し、この板と所定の位置にエネルギー発生素子
を予め設けた別の板とを位置合わせして貼り合わせるこ
とによって製造されていた。この場合、インク流路に対
応する溝の末端であって外部に開口しているところが吐
出口となる。しかしながらこの従来の液体噴射記録ヘッ
ドでは、インク流路に対応する溝を切削加工で形成する
場合に溝の内壁面の荒れが大きくなりすぎたり、エッチ
ングでこの溝を形成する場合にエッチング率の差によっ
て溝に歪みが生じたりして、流れ抵抗が一定であるイン
ク流路が得難く、記録特性にばらつきが出やすいという
問題点があった。また、エッチングでインク流路に対応
する溝を形成する場合には、工程数が多いので、製造コ
ストの上昇を招きやすい。さらに、2枚の板を貼り合わ
せるときに、一方の板に設けられた溝と他方の板に設け
られたエネルギー発生素子とを正確に位置合わせするこ
とが困難であって、量産性に欠けるという問題点もあ
る。Conventionally, such a liquid jet recording head uses a plate made of, for example, glass or metal, and performs machining such as cutting or etching on the plate to form fine grooves corresponding to ink flow paths. And another plate in which an energy generating element is previously provided at a predetermined position are aligned and bonded together. In this case, the end of the groove corresponding to the ink flow path, which is open to the outside, is the ejection port. However, in this conventional liquid jet recording head, when the groove corresponding to the ink flow path is formed by cutting, the roughness of the inner wall surface of the groove becomes too large, or when the groove is formed by etching, the difference in the etching rate becomes large. As a result, the groove is distorted, which makes it difficult to obtain an ink flow path having a constant flow resistance, and there is a problem in that the recording characteristics tend to vary. In addition, when the groove corresponding to the ink flow path is formed by etching, the number of steps is large, so that the manufacturing cost is likely to increase. Furthermore, it is difficult to accurately align the groove provided on one plate and the energy generating element provided on the other plate when the two plates are bonded together, and this lacks mass productivity. There are also problems.
【0004】そこで、特開昭62-154947号公報に開示さ
れているように、予め吐出エネルギー発生素子の形成さ
れている基板を用い、この基板上のインク流路が形成さ
れるべき位置に、フォトリソグラフィーなどによって、
除去可能な部材からなる層を設け、この層を覆うように
して前記基板上に樹脂層を設け、そののち前記除去可能
な部材からなる層を除去する方法が考え出された。イン
ク流路が前記除去可能な部材からなる層を除去すること
によって形成されるので、この方法を用いることによ
り、少ない工程数で、位置合わせの困難さやインク流路
の流れ抵抗のばらつきといった問題点を解決することが
可能となる。Therefore, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-154947, a substrate on which ejection energy generating elements are formed in advance is used, and an ink flow path on the substrate is to be formed at a position where By photolithography etc.
A method has been devised in which a layer made of a removable member is provided, a resin layer is provided on the substrate so as to cover the layer, and then the layer made of the removable member is removed. Since the ink flow path is formed by removing the layer made of the removable member, by using this method, there are problems such as difficulty in alignment and variation in flow resistance of the ink flow path with a small number of steps. Can be solved.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】液体噴射記録ヘッドの
特性を大きく左右する因子として、エネルギー発生素子
と吐出口との位置関係、吐出口およびインク流路の内部
構造などがある。これは、吐出するインク液滴の体積、
速度および吐出方向が、前記位置関係、インク流路の流
れ抵抗やインクの重量などによって決定されるためであ
る。このうち流れ抵抗に関する因子としては、吐出口お
よびインク流路の内部構造が最も重要である。この吐出
口およびインク流路の内部構造について検討したとこ
ろ、インク流路の一部に段差を設けることにより、イン
クの吐出速度や吐出方向を制御でき、インクを安定して
吐出できることがわかっている。The factors that greatly affect the characteristics of the liquid jet recording head are the positional relationship between the energy generating element and the ejection port, the internal structure of the ejection port and the ink flow path, and the like. This is the volume of the ejected ink droplet,
This is because the velocity and the ejection direction are determined by the positional relationship, the flow resistance of the ink flow path, the weight of the ink, and the like. Of these, the internal structure of the ejection port and the ink flow path is the most important factor for the flow resistance. Examination of the internal structure of the ejection port and the ink flow path has revealed that the ink ejection speed and the ejection direction can be controlled by providing a step in a part of the ink flow path, and the ink can be ejected stably. ..
【0006】しかしながら、切削やエッチングによって
インク流路が形成される上述の液体噴射記録ヘッドで
は、インク流路内の内部構造を制御することは困難であ
り、特に段差構造を設けることは不可能である。また、
前述した特開昭62-253457号に記載されたような液体噴
射記録ヘッドにおいても、通常、除去可能な部材からな
る層の厚さは一定であるから、インク流路内の内部構造
とりわけ段差構造を設けることは困難である。However, in the above-mentioned liquid jet recording head in which the ink flow path is formed by cutting or etching, it is difficult to control the internal structure in the ink flow path, and it is impossible to provide a step structure in particular. is there. Also,
Even in the liquid jet recording head described in JP-A-62-253457 mentioned above, since the thickness of the layer made of removable members is usually constant, the internal structure in the ink flow path, especially the step structure, is formed. Is difficult to provide.
【0007】本発明の目的は、インクを安定して吐出さ
せるために、段差構造を有するインク流路を自由な形状
でかつ容易に作成できる液体噴射記録ヘッドの製造方法
と、この製造方法によって製造される液体噴射記録ヘッ
ドを提供することにある。An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid jet recording head which can easily form an ink flow path having a step structure in a free shape and to stably eject ink, and a method for manufacturing the same. A liquid jet recording head is provided.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の液体噴射記録ヘ
ッドの製造方法は、エネルギー発生素子が設けられた基
板上に、インク流路が形成される位置に対応させて除去
可能層を積層する工程と、前記除去可能層の表面の一部
にマスク層を設ける工程と、前記マスク層を介して前記
マスク層で覆われていない部位の前記除去可能層を選択
的に一部分除去し、前記マスク層の形状に応じた段差を
前記除去可能層の表面に設ける選択的除去工程と、前記
除去可能層および前記マスク層を覆うように前記基板の
表面に被覆層を設ける工程と、残存している前記除去可
能層を除去する除去工程とを有する。According to a method of manufacturing a liquid jet recording head of the present invention, a removable layer is laminated on a substrate provided with an energy generating element so as to correspond to a position where an ink flow path is formed. A step of providing a mask layer on a part of the surface of the removable layer, and selectively removing a part of the removable layer at a portion not covered with the mask layer through the mask layer, A selective removal step of providing a step on the surface of the removable layer according to the shape of the layer, and a step of providing a coating layer on the surface of the substrate so as to cover the removable layer and the mask layer, and A removing step of removing the removable layer.
【0009】また本発明の液体噴射記録ヘッドは、上記
の本発明の液体噴射記録ヘッドの製造方法によって製造
される。The liquid jet recording head of the present invention is manufactured by the above-described method of manufacturing a liquid jet recording head of the present invention.
【0010】[0010]
【作用】インク流路に対応する除去可能層を積層し、こ
の除去可能層の表面の一部にマスク層を設け、マスク層
を介してこのマスク層で覆われていない部分の前記除去
可能層を選択的に一部分除去するので、マスク層の形状
に応じた段差が除去可能層の表面に設けられることにな
る。そののち除去可能層およびマスク層を覆うように基
板の表面に被覆層を設け、残存している除去可能層を除
去すれば、除去可能層の表面の段差構造が被覆層に転写
され、この段差構造を有するインク流路が形成されるこ
とになる。この場合、マスク層のパターン(2次元的形
状)を制御することにより、段差構造の2次元的な形状
を制御することができ、選択的除去工程での除去条件、
例えば除去時間などを制御することにより、段差構造の
高さを制御することができる。The removable layer corresponding to the ink flow path is laminated, a mask layer is provided on a part of the surface of the removable layer, and the removable layer in a portion not covered with the mask layer via the mask layer. Is selectively removed, so that a step corresponding to the shape of the mask layer is provided on the surface of the removable layer. After that, if a coating layer is provided on the surface of the substrate so as to cover the removable layer and the mask layer and the remaining removable layer is removed, the step structure on the surface of the removable layer is transferred to the coating layer. An ink flow path having a structure will be formed. In this case, the two-dimensional shape of the step structure can be controlled by controlling the pattern (two-dimensional shape) of the mask layer.
For example, the height of the step structure can be controlled by controlling the removal time or the like.
【0011】選択的除去工程において形成される段差の
形状をより厳密に規制するため、除去可能層を複数の層
が積層されたものとし、選択的除去工程で用いられる除
去条件下でのこれら複数の層の除去速度が相互に異なる
ようにするとよい。このようにすれば、前記複数の層の
相互間の界面で除去速度が変わることにより、多少の除
去条件の変動や場所によるばらつきなどがあっても、こ
の界面で選択的除去工程における除去を正確に終らせる
ことができ、段差構造の形状の高さを正確に制御するこ
とができる。また、除去工程においてマスク層も除去す
るようにしてもよい。In order to more strictly regulate the shape of the step formed in the selective removal step, the removable layer is assumed to be a stack of a plurality of layers, and the plurality of layers are removed under the removal conditions used in the selective removal step. The removal rates of the layers may be different from each other. By doing so, even if there are some fluctuations in the removal conditions or variations due to location due to changes in the removal rate at the interface between the plurality of layers, the removal in the selective removal process can be accurately performed at this interface. The height of the stepped structure can be accurately controlled. Also, the mask layer may be removed in the removing step.
【0012】[0012]
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。図1はインク流路に段差構造を有する液
体噴射記録ヘッドの、吐出口およびインク流路の形状を
示す要部斜視図、図2(A)〜(E)は、それぞれ本発明の一
実施例の液体噴射記録ヘッドの製造方法の原理を説明す
る図、図3〜5はそれぞれ実施例1〜3における液体噴
射記録ヘッドの製造方法を説明する図である。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an essential part showing the shape of an ejection port and an ink flow path of a liquid jet recording head having a step structure in an ink flow path, and FIGS. 2 (A) to 2 (E) are each an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram for explaining the principle of the method of manufacturing the liquid jet recording head of FIG. 3, and FIGS. 3 to 5 are diagrams for explaining the method of manufacturing the liquid jet recording head in Examples 1 to 3, respectively.
【0013】図1に示すように、この液体噴射記録ヘッ
ドでは、基板1の表面の所定の位置に、エネルギー発生
素子2が所望の個数配置されている。基板1は、後述す
るように、インク流路10の底壁を構成するとともに、
インク流路10や吐出口11が一体形成された構成部材
である被覆樹脂層4の支持体としても機能し得るもので
ある。基板1の材料は特に限定されるものではなく、ガ
ラス、金属、セラミックスなどが適宜使用される。エネ
ルギー発生素子2は、吐出口11から吐出するためのエ
ネルギーをインクに与えるものであって、例えば電気熱
変換体、圧電素子などからなる。ちなみに、エネルギー
発生素子2として電気熱変換体を使用した場合、この素
子が近傍のインクを加熱することにより吐出エネルギー
がインクに与えられ、インクが発泡してインク液滴が吐
出する。圧電素子を使用した場合には、この素子の機械
的振動によって吐出エネルギーがインクに与えられる。
エネルギー発生素子2には、これら素子を動作させるた
めの駆動信号が入力する電極(不図示)が接続されてい
る。また、エネルギー発生素子2の耐久性を向上させる
ために、保護層などの各種の機能層が設けられるが、本
発明においてもこのような機能層を設けることは一向に
差し支えない。As shown in FIG. 1, in this liquid jet recording head, a desired number of energy generating elements 2 are arranged at predetermined positions on the surface of the substrate 1. The substrate 1 constitutes the bottom wall of the ink flow path 10 as described later, and
It can also function as a support for the coating resin layer 4, which is a component in which the ink flow path 10 and the ejection port 11 are integrally formed. The material of the substrate 1 is not particularly limited, and glass, metal, ceramics, etc. are appropriately used. The energy generating element 2 applies energy for ejecting from the ejection port 11 to the ink, and is composed of, for example, an electrothermal converter, a piezoelectric element, or the like. By the way, when an electrothermal converter is used as the energy generating element 2, this element heats the ink in the vicinity so that ejection energy is given to the ink, and the ink foams to eject ink droplets. When a piezoelectric element is used, mechanical energy of this element gives ejection energy to the ink.
Electrodes (not shown) to which drive signals for operating these elements are input are connected to the energy generating element 2. Further, in order to improve the durability of the energy generating element 2, various functional layers such as a protective layer are provided, but in the present invention, provision of such a functional layer is also acceptable.
【0014】エネルギー発生素子2に対応してインク流
路10が設けられ、インク流路10の底部にエネルギー
発生素子2が配置されるようになっている。インク流路
10の一端は外部に開口しており、これが吐出口11と
なる。吐出口11に近接する部分において、インク流路
10の上壁の一部が下方に突出して段差部3となってお
り、このため吐出口11の断面は凹字型となっている。
一方、液体噴射記録ヘッドの内部側、例えばエネルギー
発生素子2の設けられたあたりにおいて、インク流路1
0の断面は長方形である。インク流路10の他端は、イ
ンクを一時的に貯える液室(不図示)に連通しており、
この液室には、外部からインクを液室に供給するための
インク供給口(不図示)が設けられている。An ink channel 10 is provided corresponding to the energy generating element 2, and the energy generating element 2 is arranged at the bottom of the ink channel 10. One end of the ink flow path 10 is open to the outside, and this serves as the ejection port 11. In the portion close to the ejection port 11, a part of the upper wall of the ink flow path 10 projects downward to form the step portion 3, and therefore the ejection port 11 has a concave cross section.
On the other hand, on the inner side of the liquid jet recording head, for example, around the location where the energy generating element 2 is provided,
The 0 cross section is rectangular. The other end of the ink flow path 10 communicates with a liquid chamber (not shown) that temporarily stores ink,
This liquid chamber is provided with an ink supply port (not shown) for supplying ink to the liquid chamber from the outside.
【0015】吐出口11およびこれに連通するインク流
路10は、1個の液体噴射記録ヘッドにつき所望の個数
設けることができ、例えば16個/mmといった高密度
で128個もしくは256個さらにそれ以上の個数形成
することができ、さらに被記録媒体の記録領域の全幅に
わたるだけの数を形成してフルラインタイプとすること
もできる。A desired number of ejection ports 11 and ink channels 10 communicating therewith can be provided for one liquid jet recording head. For example, 128 or 256 or more with a high density of 16 / mm. It is also possible to form a full line type by forming only the number that covers the entire width of the recording area of the recording medium.
【0016】次に、このインクジェット記録ヘッドの動
作について説明する。記録用の液体であるインクは、図
示しない液体貯蔵室からインク供給口(不図示)を通っ
て液室(不図示)に供給される。液室内に供給されたイ
ンクは、毛管現象により、インク流路10内に供給さ
れ、インク流路10の先端にある吐出口11でメニスカ
スを形成することにより安定に保持される。ここでエネ
ルギー発生素子2を図示しない駆動手段で駆動すること
により、吐出エネルギーがインクに印加され、その吐出
エネルギーの作用によりインクが吐出口11から吐出
し、記録が行なわれる。Next, the operation of this ink jet recording head will be described. Ink, which is a recording liquid, is supplied from a liquid storage chamber (not shown) to a liquid chamber (not shown) through an ink supply port (not shown). The ink supplied into the liquid chamber is supplied into the ink flow path 10 due to the capillary phenomenon, and is stably held by forming a meniscus at the ejection port 11 at the tip of the ink flow path 10. By driving the energy generating element 2 by a driving unit (not shown), ejection energy is applied to the ink, and the action of the ejection energy causes the ink to be ejected from the ejection port 11 to perform recording.
【0017】次に、本発明によってこの液体噴射記録ヘ
ッドの製造する実施例について、図2(A)〜(E)を用いて
説明する。Next, an embodiment of manufacturing the liquid jet recording head according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 (A) to 2 (E).
【0018】まず、図2(A)に示すように、予めエネル
ギー発生素子2の形成された基板1を用い、この基板1
上のインク流路10と吐出口11とになるべき位置に、
溶解可能な樹脂からなる除去可能層5を積層する。除去
可能層5はインク流路10の形状にしたがってパターニ
ングされていることになる。この除去可能層5の材質
は、後述する選択的除去工程および除去工程で除去でき
るものであれば特に限定されるものではなく、樹脂の
他、無機質膜や、樹脂と無機質との混合膜なども使用す
ることができる。First, as shown in FIG. 2 (A), a substrate 1 on which an energy generating element 2 is formed in advance is used.
At the position that should become the upper ink flow path 10 and the ejection port 11,
A removable layer 5 made of a soluble resin is laminated. The removable layer 5 is patterned according to the shape of the ink flow path 10. The material of the removable layer 5 is not particularly limited as long as it can be removed in the selective removal step and the removal step described later, and in addition to the resin, an inorganic film, a mixed film of the resin and the inorganic material, or the like. Can be used.
【0019】続いて、図2(B)に示すように、この除去
可能層5の上面の一部にマスク層8を積層する。マスク
層8は、インク流路10の上壁の段差部3となるべき位
置には設けず、段差部3以外となるべき位置には設けら
れるようにする。すなわち、マスク層8は、段差部3の
2次元的配置にしたがってパターニングされることにな
る。なお、後述する選択的除去工程での除去方法が、除
去可能層5を横方向にも腐食除去するようなものである
とき(例えば等方性エッチングの場合)には、除去可能
層5の側面にもマスク層8を設け、除去可能層5の側面
がエッチングなどされないように保護する必要がある。Subsequently, as shown in FIG. 2B, a mask layer 8 is laminated on a part of the upper surface of the removable layer 5. The mask layer 8 is not provided on the upper wall of the ink flow path 10 at a position that should be the stepped portion 3, but is provided at a position other than the stepped portion 3. That is, the mask layer 8 is patterned according to the two-dimensional arrangement of the step portion 3. In addition, when the removal method in the selective removal step described later is such that the removable layer 5 is also removed by corrosion in the lateral direction (for example, in the case of isotropic etching), the side surface of the removable layer 5 is removed. Also, it is necessary to provide the mask layer 8 to protect the side surface of the removable layer 5 from being etched.
【0020】次に、図2(C)に示すように、マスク層8
を介して除去可能層5を選択的に一部分除去する(選択
的除去工程)。このとき用いられる除去方法としては、
例えば、プラズマエッチング、イオンエッチング、リア
クティブイオンエッチング、湿式エッチングあるいは除
去可能層5のみを溶解する溶液に浸漬する方法などがあ
る。インク流路10に形成されるべき段差部3の形状を
厳密に制御し、図1に示すように段差部3が直方体形状
となるようにするためには、リアクティブイオンエッチ
ングなどの異方性エッチングを用いることが望ましい。Next, as shown in FIG. 2C, the mask layer 8
The removable layer 5 is selectively partially removed via (selective removal step). As the removal method used at this time,
For example, plasma etching, ion etching, reactive ion etching, wet etching, or a method of immersing only the removable layer 5 in a solution is available. In order to strictly control the shape of the step portion 3 to be formed in the ink flow path 10 so that the step portion 3 has a rectangular parallelepiped shape as shown in FIG. 1, anisotropy such as reactive ion etching is used. It is desirable to use etching.
【0021】そして、図2(D)に示すように、硬化性の
樹脂からなる被覆樹脂層4を基板1上に塗布して除去可
能層5とマスク層8とを被覆し、インク供給口(不図
示)が設けられガラス板7を被覆樹脂層4に貼り合わ
せ、被覆樹脂層4を硬化させる。このとき、インク流路
10に連通する液室(不図示)が同時に形成されるよう
にする。液室を形成する方法としては、液室となる部位
には被覆樹脂層4を塗布しない、あるいは液室となる部
分にも被覆樹脂層4を塗布するがこの部分のみを選択的
に未硬化の状態のままにしてこの未硬化の被覆樹脂層4
を除去するなどの方法がある。もちろん、ガラス板7に
設けられたインク供給口は液室に連通するようになって
いる。被覆樹脂層4は、硬化後においてこの液体噴射記
録ヘッドの構成部材となるから、高い機械的強度、耐熱
性、基板1に対する密着性およびインクに対する耐性や
インクを変質させないなどの特性が要求される。また、
被覆樹脂層4を設ける工程で除去可能層5やマスク層8
が変形してはならないから、被覆樹脂層4と除去可能層
5やマスク層8とは相溶でないことが好ましい。すなわ
ち、除去可能層5やマスク層8が極性溶媒に可溶性のも
のであるときは、被覆樹脂層4としては極性が極力小さ
いものを用いることが望ましく、逆に除去可能層5やマ
スク層8が非極性溶媒に可溶性のものであるときは、被
覆樹脂層4としては極性を有するものを用いることが望
ましい。Then, as shown in FIG. 2D, a coating resin layer 4 made of a curable resin is applied on the substrate 1 to cover the removable layer 5 and the mask layer 8, and the ink supply port ( (Not shown) is provided, the glass plate 7 is bonded to the coating resin layer 4, and the coating resin layer 4 is cured. At this time, a liquid chamber (not shown) communicating with the ink flow path 10 is simultaneously formed. As a method of forming the liquid chamber, the coating resin layer 4 is not applied to the portion which becomes the liquid chamber, or the coating resin layer 4 is also applied to the portion which becomes the liquid chamber, but only this portion is uncured selectively. The uncured coating resin layer 4 which is left in the state
There is a method such as removing. Of course, the ink supply port provided on the glass plate 7 communicates with the liquid chamber. Since the coating resin layer 4 becomes a constituent member of this liquid jet recording head after curing, it is required to have characteristics such as high mechanical strength, heat resistance, adhesion to the substrate 1, resistance to ink, and no deterioration of ink. .. Also,
Removable layer 5 and mask layer 8 in the step of providing the coating resin layer 4
Since it should not be deformed, it is preferable that the coating resin layer 4 and the removable layer 5 or the mask layer 8 are not compatible with each other. That is, when the removable layer 5 or the mask layer 8 is soluble in a polar solvent, it is desirable to use the coating resin layer 4 having a polarity as small as possible, and conversely, the removable layer 5 or the mask layer 8 may be used. When it is soluble in a non-polar solvent, it is desirable to use a polar resin as the coating resin layer 4.
【0022】被覆樹脂層4が硬化したのち、図2(E)に
示すように、除去可能層5とマスク層8とを除去する
(除去工程)。除去の方法としては、例えば、除去可能
層5とマスク層8とを溶解または膨潤あるいは剥離する
液体中に浸漬して除去する方法などが好ましいものとし
て挙げられる。この際、必要に応じて、超音波処理、ス
プレー、加熱、攪拌、振とう、加圧循環やその他の除去
促進手段を用いることも可能である。また、除去可能層
5とマスク層8を同時に除去するのではなく、一方を除
去したのちに他方を除去することも可能である。さら
に、マスク層8がインク流路10に残存していても吐出
特性や耐久性に問題が生じない場合には、除去可能層5
のみを除去してマスク層8を除去しないことも可能であ
る。After the coating resin layer 4 is hardened, as shown in FIG. 2 (E), the removable layer 5 and the mask layer 8 are removed (removing step). As a removal method, for example, a method of removing the removable layer 5 and the mask layer 8 by immersing the removable layer 5 and the mask layer 8 in a liquid that dissolves, swells or peels, and the like can be cited. At this time, if necessary, ultrasonic treatment, spraying, heating, stirring, shaking, pressure circulation or other removal promoting means can be used. Further, instead of removing the removable layer 5 and the mask layer 8 at the same time, it is possible to remove one and then the other. In addition, if there is no problem in the ejection characteristics or durability even if the mask layer 8 remains in the ink flow path 10, the removable layer 5
It is also possible to remove only the mask layer 8 and not the mask layer 8.
【0023】以上のようにして、インク流路10に段差
部3が形成されている液体噴射記録ヘッドが製造され
る。もちろん、段差部3の位置は、ここではインク流路
10の先端部すなわち吐出口11に近接したものあった
が、必ずしもインク流路10で先端部でなくてもよい。
また、段差部3の形状も直方体である必要はない。さら
に、除去可能層5を複数の層を積層させた構造とするこ
ともできる。複数の層を積層させた構造とした場合、選
択的除去工程での除去条件下での除去速度を比較したと
きに、一番上の層が他の層よりも格段に除去速度が大き
くなるように各層を構成する材料を選択するとよい。こ
のように各層を選択すれば、一番上の層と二番目の層と
の界面で、選択的除去工程における除去可能層5の選択
的除去が実質的に停止し、除去条件の変動や場所による
ばらつきによらず、形成される段差部3の高さを正確に
規制することができるようになる。As described above, the liquid jet recording head in which the step portion 3 is formed in the ink flow path 10 is manufactured. Of course, the position of the step portion 3 is close to the tip portion of the ink flow path 10, that is, the ejection port 11 here, but the position of the step portion 3 is not necessarily the tip portion of the ink flow path 10.
Further, the shape of the step portion 3 need not be a rectangular parallelepiped. Furthermore, the removable layer 5 may have a structure in which a plurality of layers are laminated. When using a structure in which multiple layers are stacked, when comparing the removal rates under the removal conditions in the selective removal process, the removal rate of the top layer is significantly higher than that of other layers. It is advisable to select the material forming each layer. If each layer is selected in this way, the selective removal of the removable layer 5 in the selective removal step is substantially stopped at the interface between the uppermost layer and the second layer, and fluctuations in removal conditions and locations Therefore, the height of the stepped portion 3 to be formed can be accurately regulated regardless of the variation due to.
【0024】次に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの製
造方法によって実際に液体噴射記録ヘッドを作成した例
について説明する。 [実施例1]マスク層8として金属膜を使用し、除去可
能層5を第1の層(下層)5aと第2の層(上層)5b
からなる2層構造とした例である。予めエネルギー発生
素子が形成されているシリコンウェハーを基板1として
用いた。Next, an example in which a liquid jet recording head is actually manufactured by the liquid jet recording head manufacturing method of this embodiment will be described. [Example 1] A metal film is used as the mask layer 8, and the removable layer 5 is a first layer (lower layer) 5a and a second layer (upper layer) 5b.
It is an example of a two-layer structure consisting of. A silicon wafer on which an energy generating element was previously formed was used as the substrate 1.
【0025】まず、除去可能層5の第1の層5aとして
は厚さ15μmのヘキスト社製ポジ型フォトレジストA
Z4903を用い、第2の層5bとしては厚さ5μmの
東京応化社製ポジ型フォトレジストOFPR83を用
い、これら各ポジ型フォトレジストを基板1の全面にス
ピンコータを用いて順次塗布して積層し、90℃10分
間のプリベークを行ない、そののち露光、現像すること
により、除去可能層5を基板1の吐出口とインク流路1
0となるべき位置に形成した(図3(A))。First, as the first layer 5a of the removable layer 5, a positive photoresist A having a thickness of 15 μm manufactured by Hoechst Co., Ltd.
Z4903 is used, and as the second layer 5b, a positive type photoresist OFPR83 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. having a thickness of 5 μm is used. Pre-baking is performed at 90 ° C. for 10 minutes, and then exposure and development are performed to form the removable layer 5 on the ejection port of the substrate 1 and the ink flow path 1.
It was formed at a position that should be 0 (FIG. 3 (A)).
【0026】次に、この除去可能層5の形成された基板
1の表面に、スパッタリングによって厚さ50nmのア
ルミニウム膜6を堆積させた(図3(B))。スパッタリ
ングではなく、蒸着法などによって堆積させてもよい。
堆積されたアルミニウム膜6の表面に、厚さ0.5μm
のポジ型フォトレジスト膜(東京応化社製OFPR8
3)を塗布して形成し、露光、現像して、インク流路1
0の段差部3に対応する位置のポジ型フォトレジスト膜
を除去し、インク流路10であって段差部3でない部分
に対応するポジ型フォトレジスト膜が残るようにした。
なお、インク流路10が存在しない部分、すなわち基板
1にアルミニウム膜6が直接積層されている部分につい
てはポジ型フォトレジスト膜が残らないようにした。そ
して、このポジ型フォトレジスト膜を介してアルミニウ
ム膜6をエッチングした。エッチングには、リン酸、硝
酸、酢酸の混酸溶液を用いた。その結果、除去可能層5
のうち、インク流路10の段差部3に相当する部位には
アルミニウム膜6が残存せず、インク流路10のその他
の部分に相当する部位にはアルミニウム膜6が残ったま
まとなり、すなわちアルミニウム膜6がパターニングさ
れてこのアルミニウム膜6からなるマスク層8が形成さ
れたことになる(図3(C))。なお、アルミニウム膜6
のうち基板1に直接積層されていた部分は、除去されて
いる。Next, an aluminum film 6 having a thickness of 50 nm was deposited on the surface of the substrate 1 on which the removable layer 5 was formed by sputtering (FIG. 3 (B)). Instead of sputtering, it may be deposited by a vapor deposition method or the like.
On the surface of the deposited aluminum film 6, a thickness of 0.5 μm
Positive photoresist film (OFPR8 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.)
3) is applied to form, exposed, and developed to form the ink flow path 1
The positive photoresist film at the position corresponding to the stepped portion 3 of 0 was removed, and the positive photoresist film corresponding to the portion of the ink flow path 10 that was not the stepped portion 3 remained.
It should be noted that the positive photoresist film is not left in the portion where the ink flow path 10 does not exist, that is, in the portion where the aluminum film 6 is directly laminated on the substrate 1. Then, the aluminum film 6 was etched through the positive photoresist film. A mixed acid solution of phosphoric acid, nitric acid and acetic acid was used for etching. As a result, the removable layer 5
Among them, the aluminum film 6 does not remain in the part corresponding to the step portion 3 of the ink flow path 10, and the aluminum film 6 remains in the part corresponding to the other part of the ink flow path 10, that is, aluminum. The film 6 is patterned to form the mask layer 8 made of the aluminum film 6 (FIG. 3 (C)). The aluminum film 6
A portion of the above that was directly laminated on the substrate 1 is removed.
【0027】もちろん、マスク層8をアルミニウム以外
の金属、例えば金、銅、ニッケルクロム、タングステン
などによって形成しても差し支えない。ここでは、図3
(C)に示すように、除去可能層5の側面にもマスク層8
が形成されているが、選択的除去工程での除去方法が異
方性エッチングである場合には、除去可能層5の側面に
はマスク層8を形成しておく必要はない。Of course, the mask layer 8 may be formed of a metal other than aluminum, such as gold, copper, nickel chrome, or tungsten. Here, FIG.
As shown in (C), the mask layer 8 is also formed on the side surface of the removable layer 5.
However, when the removal method in the selective removal step is anisotropic etching, it is not necessary to form the mask layer 8 on the side surface of the removable layer 5.
【0028】次に選択的除去工程を行なった。この選択
的除去工程は、マスク層8まで形成されたこの基板1を
リアクティブイオンエッチング装置に装着し、酸素ガス
を導入しながら、マスク層8を介して、除去可能層5の
第2の層5bのみを選択的にリアクティブエッチングに
よって除去するものである(図3(D))。リアクティブ
エッチングは異方性エッチングであり、酸素を導入した
リアクティブエッチングにおいてはアルミニウム膜から
なるマスク層8は侵されないから、マスク層8の設けら
れていない部分のみが垂直にエッチング除去され、除去
可能層5の断面が凹の字形となる。除去可能層5の第1
の層5aと第2の層5bの界面で、選択的除去工程の進
行が正確に打ち切られるようにするため、リアクティブ
エッチングでの除去速度に関して、第2の層5bの除去
速度≫第1の層5aの除去速度なる関係が成立するよ
う、第1および第2の層5a、5bの材質を選択する必
要がある。上述した各ポジ型フォトレジストはこの関係
を満たしている。Next, a selective removal step was performed. In this selective removal step, the substrate 1 on which the mask layer 8 has been formed is mounted in a reactive ion etching apparatus, and the second layer of the removable layer 5 is introduced through the mask layer 8 while introducing oxygen gas. Only 5b is selectively removed by reactive etching (FIG. 3 (D)). The reactive etching is anisotropic etching. Since the mask layer 8 made of an aluminum film is not corroded in the reactive etching in which oxygen is introduced, only the portion where the mask layer 8 is not provided is vertically etched and removed. The feasible layer 5 has a concave cross-section. First removable layer 5
In order to accurately stop the progress of the selective removal process at the interface between the second layer 5a and the second layer 5a, the removal rate of the second layer 5b with respect to the removal rate in the reactive etching >> the first It is necessary to select the materials of the first and second layers 5a and 5b so that the relationship of the removal rate of the layer 5a is established. The above-mentioned positive photoresists satisfy this relationship.
【0029】続いて、選択的除去工程を行なった後の基
板1の表面に、液状の硬化性樹脂をスピンナーによって
100μmの厚さに塗布し、インク供給口を設けたガラ
ス板7と貼り合わせ、130℃で10分間熱硬化させて
被覆樹脂層4を形成した(図3(E))。硬化性樹脂とし
ては、エポキシ樹脂を主剤とし感光剤を添加した樹脂を
用いた。感光剤は液室をフォトリソグラフィで形成する
ために添加されたものであり、この液室は、ガラス板7
を貼り合わせた後、この硬化性樹脂を露光、現像するこ
とによって形成される。Subsequently, a liquid curable resin is applied by a spinner to a thickness of 100 μm on the surface of the substrate 1 after the selective removal step, and the glass plate 7 provided with an ink supply port is attached to the surface. The coating resin layer 4 was formed by heat curing at 130 ° C. for 10 minutes (FIG. 3 (E)). As the curable resin, a resin containing an epoxy resin as a main component and a photosensitizer added was used. The photosensitizer is added to form a liquid chamber by photolithography.
After being bonded together, the curable resin is exposed and developed to be formed.
【0030】最後に、除去可能層5を構成する2種類の
フォトレジストをエタノール中で10分間の超音波洗浄
を行なうことにより除去し、さらに、アルミニウムをエ
ッチングする溶液を用いて、アルミニウム膜からなるマ
スク層8をエッチング、除去した。その結果、吐出口に
近接して段差部3が設けられているインク流路10が開
通し、液体噴射記録ヘッドが完成したことになる(図3
(F))。 [実施例2]マスク層8として樹脂層を使用し、除去可
能層5を実施例1と同様に2層構造とした例である。Finally, the two types of photoresist constituting the removable layer 5 are removed by ultrasonic cleaning in ethanol for 10 minutes, and further, a solution for etching aluminum is used to form an aluminum film. The mask layer 8 was etched and removed. As a result, the ink flow path 10 in which the step portion 3 is provided close to the ejection port is opened, and the liquid jet recording head is completed (FIG. 3).
(F)). Example 2 This is an example in which a resin layer is used as the mask layer 8 and the removable layer 5 has a two-layer structure as in Example 1.
【0031】予めエネルギー発生素子が形成されている
シリコンウェハーを基板1として用い、実施例1と同様
にして、厚さ15μmのヘキスト社製ポジ型フォトレジ
ストAZ4903からなる第1の層5aと厚さ5μmの
東京応化社製ポジ型フォトレジストOFPR83からな
る第2の層5bとの2層構造である除去可能層5を基板
1の吐出口とインク流路10となるべき位置に形成した
(図4(A))。そしてこの除去可能層5の表面に、スク
リーン印刷によって樹脂からなるマスク層8を形成し
た。もちろん段差部3に対応する部分にはマスク層8が
設けられないようにしておく(図4(B))。ここでは印
刷性などを考慮して、マスク層8として厚さ10μmの
Amicom社製のc990なる銀ペーストを使用し
た。マスク層8を構成する樹脂としては、これに限られ
るものではない。Using a silicon wafer on which energy generating elements are formed in advance as the substrate 1, and in the same manner as in Example 1, the first layer 5a made of the positive photoresist AZ4903 manufactured by Hoechst Co. having a thickness of 15 μm and the thickness thereof are formed. A removable layer 5 having a two-layer structure with a second layer 5b made of a positive photoresist OFPR83 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. having a thickness of 5 μm was formed at a position which should be an ejection port of the substrate 1 and an ink flow path 10 (FIG. 4). (A)). Then, a mask layer 8 made of resin was formed on the surface of the removable layer 5 by screen printing. Of course, the mask layer 8 is not provided in the portion corresponding to the step portion 3 (FIG. 4 (B)). Here, in consideration of printability and the like, a silver paste of c990 manufactured by Amicom having a thickness of 10 μm was used as the mask layer 8. The resin forming the mask layer 8 is not limited to this.
【0032】次に、実施例1と同様に、リアクティブイ
オンエッチングによって選択的除去工程を行ない、マス
ク層8を介して、第2の層5bのみを選択的に除去した
(図4(C))。このとき、マスク層8がリアクティブイ
オンエッチングで侵食されないようにするため、このと
きの除去条件において、第2の層5bの除去速度≫第1
の層5aの除去速度≫マスク層8の除去速度なる関係が
成立するよう、第1および第2の層5a、5bとマスク
層8を構成する各樹脂の材質を選択する必要がある。上
述した各ポジ型フォトレジストと銀ペーストをそれぞれ
用いた第1および第2の層5a、5bとマスク層8は、
この関係を満たしている。この選択的除去工程の結果、
マスク層8の設けられていない部分の第2の層5bのみ
が垂直方向にエッチングされ、除去可能層5の断面が凹
の字形となる。Next, as in Example 1, a selective removal step was performed by reactive ion etching to selectively remove only the second layer 5b through the mask layer 8 (FIG. 4C). ). At this time, in order to prevent the mask layer 8 from being eroded by the reactive ion etching, the removal rate of the second layer 5b under the removal conditions at this time >> the first
Removal rate of the layer 5a >> removal rate of the mask layer 8 must be selected so that the materials of the respective resins forming the first and second layers 5a and 5b and the mask layer 8 are selected. The first and second layers 5a and 5b and the mask layer 8 respectively using the positive photoresist and the silver paste described above are
This relationship is met. As a result of this selective removal process,
Only the portion of the second layer 5b where the mask layer 8 is not provided is vertically etched, and the cross section of the removable layer 5 has a concave shape.
【0033】続いて、選択的除去工程を行なった後の基
板1の表面に、実施例1と同様にして、液状の硬化性樹
脂を塗布し、インク供給口を設けたガラス板7と貼り合
わせ、液室が設けられた被覆樹脂層4を形成した(図4
(D))。最後に、2種類のレジストからなる除去可能層
5と樹脂からなるマスク層8とをアセトン中で10分間
の超音波洗浄を行なうことにより除去した。その結果、
吐出口に近接して段差部3が設けられているインク流路
10が開通し、液体噴射記録ヘッドが完成したことにな
る(図4(E))。この実施例2では、マスク層8を印刷
によって形成するため、より容易にインク流路10に段
差部3を設けることができる。 [実施例3]樹脂からなる第1の層(下層)5aと第2
の層(上層)5b、および無機物質からなり第1の層5
aと第2の層5bとにはさまれた無機質層5cとからな
る3層構造の除去可能層5を使用した例である。マスク
層8としては、金属膜を用いた。Then, a liquid curable resin is applied to the surface of the substrate 1 after the selective removal step in the same manner as in Example 1, and the glass plate 7 provided with an ink supply port is attached. , The coating resin layer 4 provided with the liquid chamber was formed (FIG.
(D)). Finally, the removable layer 5 made of two types of resist and the mask layer 8 made of resin were removed by ultrasonic cleaning in acetone for 10 minutes. as a result,
The ink flow path 10 provided with the step portion 3 near the ejection port is opened, and the liquid jet recording head is completed (FIG. 4 (E)). In the second embodiment, since the mask layer 8 is formed by printing, the step portion 3 can be provided in the ink flow path 10 more easily. [Example 3] First layer (lower layer) 5a and second layer made of resin
Layer 5b (upper layer) and the first layer 5 made of an inorganic substance
This is an example in which the removable layer 5 having a three-layer structure composed of an inorganic layer 5c sandwiched between a and a second layer 5b is used. A metal film was used as the mask layer 8.
【0034】予めエネルギー発生素子が形成されている
シリコンウェハーを基板1として用い、この基板1の上
にスピンコータを用いて厚さ15μmのヘキスト社製ポ
ジ型フォトレジストAZ4903を塗布し、90℃10
分間のプリベークの後、露光、現像して、インク流路1
0および吐出口となるべき位置にパターン形成して、除
去可能層5の第1の層5aを形成した。そして第1の層
5aを形成した基板1の全面に、スパッタリングによっ
て厚さ500nmの第1のアルミニウム膜9aを形成し
た(図5(A))。続いて、この第1のアルミニウム膜9
aの表面にスピンコータを用いて厚さ5μmの東京応化
社製ポジ型フォトレジストOFPR83を塗布し、90
℃10分間のプリベークの後、露光、現像して第1の層
5bと一致するようにパターン形成し、第2の層5bを
形成した(図3(B))。さらに、第2の層5bまでが形
成された基板1の全面に、スパッタリングによって厚さ
500nmの第2のアルミニウム膜9bを形成した(図
5(C))。A silicon wafer on which energy generating elements are formed is used as a substrate 1, a positive photoresist AZ4903 manufactured by Hoechst Co., Ltd. having a thickness of 15 μm is coated on the substrate 1 by using a spin coater, and 90 ° C. 10
After pre-baking for 1 minute, exposing and developing, ink channel 1
The first layer 5a of the removable layer 5 was formed by patterning at positions to be 0 and discharge ports. Then, a 500-nm-thick first aluminum film 9a was formed over the entire surface of the substrate 1 on which the first layer 5a was formed (FIG. 5A). Subsequently, this first aluminum film 9
A positive type photoresist OFPR83 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. having a thickness of 5 μm is applied to the surface of a using a spin coater.
After prebaking at 10 ° C. for 10 minutes, exposure and development were performed to form a pattern so as to match the first layer 5b to form a second layer 5b (FIG. 3 (B)). Further, a second aluminum film 9b having a thickness of 500 nm was formed by sputtering on the entire surface of the substrate 1 on which the second layer 5b was formed (FIG. 5C).
【0035】次に、堆積された第2のアルミニウム膜9
bの表面に厚さ0.5μmのポジ型フォトレジスト膜
(東京応化社製OFPR83)を塗布して形成し、露
光、現像して、インク流路10の段差部3に対応する位
置のポジ型フォトレジスト膜を除去し、インク流路10
であって段差部3でない部分に対応するポジ型フォトレ
ジスト膜が残るようにした。なお、インク流路10が存
在しない部分、すなわち基板1に第1および第2のアル
ミニウム膜9a,9bが直接積層されている部分につい
てはポジ型フォトレジスト膜が残らないようにした。そ
して、このポジ型フォトレジスト膜を介して各アルミニ
ウム膜9a,9bをエッチングした。エッチングには、
リン酸、硝酸、酢酸の混酸溶液を用いた。その結果、除
去可能層5のうち、インク流路10の段差部3に相当す
る部位には第2のアルミニウム膜9bが残らず、インク
流路10のその他の部分に相当する部位には第2のアル
ミニウム膜9bが残って、すなわち第2のアルミニウム
膜9bがパターニングされてこの第2のアルミニウム膜
9bからなるマスク層8が形成されたことになる(図4
(D))。また、第1の層5aと第2の層5bにはさまれ
た部分の第1のアルミニウム膜9aは残り、除去可能層
5の無機質膜5cとなる。基板1に直接積層していた部
分の各アルミニウム膜5a,5bは除去されている。な
お、ここでは除去可能層5の側面にはアルミニウム膜が
残らないようにしているが、この側面にもアルミニウム
膜を残しておいてもよい。Next, the deposited second aluminum film 9
A positive photoresist film (OFPR83 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 0.5 μm is applied on the surface of b, exposed, and developed to form a positive photoresist at a position corresponding to the step 3 of the ink flow path 10. The photoresist film is removed, and the ink flow path 10
Therefore, the positive photoresist film corresponding to the portion other than the step portion 3 is left. It should be noted that the positive photoresist film is not left in a portion where the ink flow path 10 does not exist, that is, in a portion where the first and second aluminum films 9a and 9b are directly laminated on the substrate 1. Then, the aluminum films 9a and 9b were etched through the positive photoresist film. For etching,
A mixed acid solution of phosphoric acid, nitric acid, and acetic acid was used. As a result, in the removable layer 5, the second aluminum film 9b does not remain in the portion corresponding to the step portion 3 of the ink flow channel 10, and the second aluminum film 9b remains in the portion corresponding to the other portion of the ink flow channel 10. Of the aluminum film 9b is left, that is, the second aluminum film 9b is patterned to form the mask layer 8 made of the second aluminum film 9b (FIG. 4).
(D)). Further, the first aluminum film 9a in the portion sandwiched between the first layer 5a and the second layer 5b remains and becomes the inorganic film 5c of the removable layer 5. The aluminum films 5a and 5b in the portion directly laminated on the substrate 1 are removed. Although the aluminum film is not left on the side surface of the removable layer 5 here, the aluminum film may be left on this side surface.
【0036】次に、実施例1と同様にして、リアクティ
ブイオンエッチングによる選択的除去工程を行ない、マ
スク層8を介して、除去可能層5の第2の層5bのみを
選択的に除去した(図5(E))。このとき、除去可能層
5の第1の層5aと第2の層5bとの間にはアルミニウ
ムからなる無機質層5cが設けられており、この無機質
層5cはリアクティブイオンエッチングではエッチング
されないので、リアクティブイオンエッチングでは第2
の層5bのみが除去されることになる。したがって、第
2の層5bのマスク層8の設けられていない部分のみが
垂直にエッチング除去され、除去可能層5の断面が凹の
字形となる。Next, in the same manner as in Example 1, a selective removal step by reactive ion etching was performed to selectively remove only the second layer 5b of the removable layer 5 through the mask layer 8. (Fig. 5 (E)). At this time, the inorganic layer 5c made of aluminum is provided between the first layer 5a and the second layer 5b of the removable layer 5, and since the inorganic layer 5c is not etched by the reactive ion etching, Second in reactive ion etching
Will be removed only in layer 5b. Therefore, only the portion of the second layer 5b where the mask layer 8 is not provided is vertically removed by etching, and the cross section of the removable layer 5 has a concave shape.
【0037】続いて、選択的除去工程を行なった後の基
板1の表面に、実施例1と同様にして、液状の硬化性樹
脂を塗布し、インク供給口を設けたガラス板7と貼り合
わせ、液室が設けられた被覆樹脂層4を形成した(図5
(F))。最後に、フォトレジストからなる第1の層5a
と第2の層5bとをエタノール中で10分間の超音波洗
浄を行なうことにより除去し、さらに、アルミニウムを
エッチングする溶液を用いて、アルミニウムからなる無
機質層5cとマスク層8とをエッチング、除去した。こ
れにより、除去可能層5とマスク層8とが除去され、吐
出口に近接して段差部3が設けられているインク流路1
0が開通し、液体噴射記録ヘッドが完成したことになる
(図5(G))。この実施例3では、選択的除去工程では
除去されない層すなわち無機質層5cを除去可能層5中
に積層していることになるので、この除去されない層で
選択的除去工程における除去の進行を完全に制御するこ
とができ、段差部3の形状をより精密に制御することが
可能となる。Then, a liquid curable resin is applied to the surface of the substrate 1 after the selective removal step in the same manner as in Example 1, and the glass plate 7 provided with an ink supply port is attached. The coating resin layer 4 provided with the liquid chamber was formed (FIG. 5).
(F)). Finally, the first layer 5a of photoresist
And second layer 5b are removed by performing ultrasonic cleaning in ethanol for 10 minutes, and further, inorganic layer 5c made of aluminum and mask layer 8 are removed by etching using a solution for etching aluminum. did. As a result, the removable layer 5 and the mask layer 8 are removed, and the ink flow path 1 in which the step portion 3 is provided close to the ejection port
0 is opened, and the liquid jet recording head is completed (FIG. 5 (G)). In Example 3, since the layer that is not removed in the selective removal step, that is, the inorganic layer 5c is laminated in the removable layer 5, the progress of the removal in the selective removal step is completely completed in the layer that is not removed. Therefore, the shape of the step portion 3 can be controlled more precisely.
【0038】図6は本発明により得られた記録ヘッドを
インクジェットヘッドカートリッジ(IJC)として装
着したインクジェット記録装置(IJRA)の一例を示
す外観斜視図である。FIG. 6 is an external perspective view showing an example of an ink jet recording apparatus (IJRA) in which the recording head obtained by the present invention is mounted as an ink jet head cartridge (IJC).
【0039】図6において、20はプラテン24上に送
紙されてきた記録紙の記録面に対向してインク吐出を行
うノズル群を具えたインクジェットヘッドカートリッジ
(IJC)である。16はIJC20を保持するキャリ
ッジHCであり、駆動モータ17の駆動力を伝達する駆
動ベルト18の一部と連結し、互いに平行に配設された
2本のガイドシャフト19Aおよび19Bと摺動可能と
することにより、IJC20の記録紙の全幅にわたる往
復移動が可能となる。In FIG. 6, reference numeral 20 denotes an ink jet head cartridge (IJC) provided with a group of nozzles for ejecting ink so as to face the recording surface of the recording paper fed onto the platen 24. Reference numeral 16 is a carriage HC that holds the IJC 20, and is connected to a part of a drive belt 18 that transmits the driving force of the drive motor 17, and is slidable with two guide shafts 19A and 19B arranged in parallel with each other. By doing so, reciprocating movement over the entire width of the recording paper of the IJC 20 is possible.
【0040】26はヘッド回復装置であり、IJC20
の移動経路の一端、例えばホームポジションと対向する
位置に配設される。伝動機構23を介したモータ22の
駆動力によって、ヘッド回復装置26を動作せしめ、I
JC20のキャッピングを行う。このヘッド回復装置2
6のキャップ部26AによるIJC20へのキャッピン
グに関連させて、ヘッド回復装置26内に設けた適宜の
吸引手段によるインク吸引もしくはIJC20へのイン
ク供給経路に設けた適宜の加圧手段によるインク圧送を
行い、インクを吐出口より強制的に排出させることによ
りノズル内の増粘インクを除去する等の吐出回復処理を
行う。また、記録終了時等にキャッピングを施すことに
よりIJCが保護される。Reference numeral 26 denotes a head recovery device, which is an IJC20.
Is arranged at one end of the movement path of, for example, at a position facing the home position. The drive force of the motor 22 via the transmission mechanism 23 causes the head recovery device 26 to operate, and
Cap the JC20. This head recovery device 2
In association with capping of the IJC 20 by the cap portion 26A of No. 6, ink is sucked by an appropriate suction means provided in the head recovery device 26 or ink is pressure-fed by an appropriate pressure means provided in an ink supply path to the IJC 20. The ejection recovery process such as removing the thickened ink in the nozzle by forcibly ejecting the ink from the ejection port is performed. Further, the IJC is protected by capping at the end of recording or the like.
【0041】30はヘッド回復装置26の側面に配設さ
れ、シリコンゴムで形成されるワイピング部材としての
ブレードである。ブレード30はブレード保持部材30
Aにカンチレバー形態で保持され、ヘッド回復装置26
と同様、モータ22および伝動機構23によって動作
し、IJC20の吐出面との係合が可能となる。これに
より、IJC20の記録動作における適切なタイミング
で、あるいはヘッド回復装置26を用いた吐出回復処理
後に、ブレード30をIJC20の移動経路中に突出さ
せ、IJC20の移動動作に伴ってIJC20の吐出面
における結露、濡れあるいは塵埃等をふきとるものであ
る。A blade 30 is provided on the side surface of the head recovery device 26 and is made of silicon rubber as a wiping member. The blade 30 is a blade holding member 30.
The head recovery device 26 is held by A in a cantilever form.
Similarly to the above, the motor 22 and the transmission mechanism 23 operate to enable engagement with the ejection surface of the IJC 20. As a result, the blade 30 is projected into the movement path of the IJC 20 at an appropriate timing in the recording operation of the IJC 20 or after the ejection recovery process using the head recovery device 26, and the ejection surface of the IJC 20 is moved along with the movement operation of the IJC 20. It wipes off condensation, wetness, dust, etc.
【0042】本発明は、特にインクジェット記録方式の
中でも、熱エネルギーを利用して飛翔液滴を形成し、記
録を行うインクジェット記録方式の記録ヘッド、記録装
置において、優れた効果をもたらすものである。The present invention brings excellent effects particularly in an ink jet recording type recording head and recording apparatus for recording by forming flying droplets by utilizing thermal energy among the ink jet recording systems.
【0043】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第4723129号明細書、同第4740
796号明細書に開示されており、本発明はこれらの基
本的な原理を用いて行うものが好ましい。この記録方式
はいわゆるオンデマンド型、コンティニュアス型のいず
れにも適用可能である。With regard to its typical structure and principle, see, for example, US Pat. Nos. 4,723,129 and 4740.
No. 796, the present invention is preferably carried out using these basic principles. This recording method can be applied to both so-called on-demand type and continuous type.
【0044】この記録方式を簡単に説明すると、液体
(インク)が保持されているシートや液路に対応して配
置されている電気熱変換体に、記録情報に対応して液体
(インク)に核沸騰現象を越え、膜沸騰現象を生じるよ
うな急速な温度上昇を与えるための少なくとも一つの駆
動信号を印加することによって、熱エネルギーを発生せ
しめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさせる。こ
のように液体(インク)から電気熱変換体に付与する駆
動信号に一対一対応した気泡を形成できるため、特にオ
ンデマンド型の記録法には有効である。この気泡の成
長、収縮により吐出孔を介して液体(インク)を吐出さ
せて、少なくとも一つの滴を形成する。この駆動信号を
パルス形状とすると、即時適切に気泡の成長収縮が行わ
れるので、特に応答性に優れた液体(インク)の吐出が
達成でき、より好ましい。このパルス形状の駆動信号と
しては、米国特許第4463359号明細書、同第43
45262号明細書に記載されているようなものが適し
ている。なお、上記熱作用面の温度上昇率に関する発明
の米国特許第4313124号明細書に記載されている
条件を採用すると、さらに優れた記録を行うことができ
る。This recording method will be briefly described. A sheet (liquid) holding a liquid (ink) or an electrothermal converter arranged corresponding to a liquid path is converted into a liquid (ink) corresponding to recording information. Heat energy is generated by applying at least one driving signal for giving a rapid temperature rise that causes the film boiling phenomenon beyond the nucleate boiling phenomenon, and causes the film boiling on the heat acting surface of the recording head. .. In this way, it is possible to form bubbles that correspond one-to-one to the drive signal applied from the liquid (ink) to the electrothermal converter, which is particularly effective for the on-demand recording method. The liquid (ink) is ejected through the ejection holes by the growth and contraction of the bubbles to form at least one droplet. It is more preferable to make this drive signal into a pulse shape, because the bubble growth and contraction are immediately and appropriately performed, so that the ejection of the liquid (ink) with excellent responsiveness can be achieved. As the pulse-shaped drive signal, U.S. Pat. Nos. 4,463,359 and 43,
Those as described in 45262 are suitable. If the conditions described in US Pat. No. 4,313,124 of the invention relating to the rate of temperature rise on the heat acting surface are adopted, more excellent recording can be performed.
【0045】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出孔、液流路、電気熱変換
体を組み合わせた構成(直線状液流路または直角液流
路)の他に、米国特許第4558333号明細書、米国
特許第4459600号明細書に開示されているよう
に、熱作用部が屈曲する領域に配置された構成を持つも
のも本発明に含まれる。The structure of the recording head is a combination of a discharge hole, a liquid flow path, and an electrothermal converter as disclosed in the above-mentioned specifications (straight liquid flow path or right-angled liquid flow path). In addition, as disclosed in U.S. Pat. No. 4,558,333 and U.S. Pat. No. 4,459,600, the present invention includes those having a configuration in which a heat acting portion is arranged in a bending region.
【0046】加えて、複数の電気熱変換体に対して、共
通するスリットを電気熱変換体の吐出孔とする構成を開
示する特開昭59年第123670号公報や熱エネルギ
ーの圧力波を吸収する開孔を吐出部に対応させる構成を
開示する特開昭59年第138461号公報に基づいた
構成においても本発明は有効である。In addition, JP-A-59-123670 discloses a structure in which a common slit is used as a discharge hole of the electrothermal converter for a plurality of electrothermal converters, and a pressure wave of thermal energy is absorbed. The present invention is also effective in a configuration based on Japanese Patent Laid-Open No. 138461 of 1984, which discloses a configuration in which the corresponding opening corresponds to the ejection portion.
【0047】さらに、本発明が有効に利用される記録ヘ
ッドとしては、記録装置が記録できる記録媒体の最大幅
に対応した長さのフルラインタイプの記録ヘッドがあ
る。このフルラインヘッドは、上述した明細書に開示さ
れているような記録ヘッドを複数組み合わせることによ
ってフルライン構成にしたものや、一体的に形成された
一個のフルライン記録ヘッドであっても良い。Further, as a recording head in which the present invention is effectively used, there is a full line type recording head having a length corresponding to the maximum width of the recording medium which can be recorded by the recording apparatus. The full line head may be a full line configuration formed by combining a plurality of print heads as disclosed in the above-mentioned specification, or may be a single full line print head integrally formed.
【0048】加えて、装置本体に装着されることで、装
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的に設けられたカートリッ
ジタイプの記録ヘッドを用いた場合にも本発明は有効で
ある。In addition, by being attached to the apparatus main body, it can be electrically connected to the apparatus main body and can be supplied with ink from the apparatus main body by a replaceable chip type recording head or the recording head itself. The present invention is also effective when a cartridge-type recording head that is specially provided is used.
【0049】また、本発明の記録装置に、記録ヘッドに
対する回復手段や、予備的な補助手段等を付加すること
は、本発明の記録装置を一層安定にすることができるの
で好ましいものである。これらを具体的に挙げれば、記
録ヘッドに対しての、キャッピング手段、クリーニング
手段、加圧あるいは吸引手段、電気熱変換体あるいはこ
れとは別の加熱素子、あるいはこれらの組み合わせによ
る予備加熱手段、記録とは別の吐出を行う予備吐出モー
ドを行う手段を付加することも安定した記録を行うため
に有効である。Further, it is preferable to add recovery means for the recording head, preliminary auxiliary means, etc. to the recording apparatus of the present invention because the recording apparatus of the present invention can be made more stable. Specific examples thereof include capping means, cleaning means, pressure or suction means, an electrothermal converter or a heating element other than this, preheating means for the recording head, recording means for the recording head, and recording means. It is also effective to perform stable recording by adding a means for performing a preliminary ejection mode for performing ejection different from the above.
【0050】さらに、記録装置の記録モードとしては黒
色等の主流色のみを記録するモードだけではなく、記録
ヘッドを一体的に構成したものか、複数個を組み合わせ
て構成したものかのいずれでも良いが、異なる色の複色
カラーまたは、混色によるフルカラーの少なくとも一つ
を備えた装置にも本発明は極めて有効である。Further, the recording mode of the recording apparatus is not limited to the mode in which only the mainstream color such as black is recorded, and either the recording head may be integrally formed or a plurality of recording heads may be combined. However, the present invention is also extremely effective for an apparatus provided with at least one of a multicolor of different colors or a full color by color mixing.
【0051】以上説明した本発明実施例においては、液
体インクを用いて説明しているが、本発明では室温で固
体状であるインクであっても、室温で軟化状態となるイ
ンクであっても用いることができる。上述のインクジェ
ット装置ではインク自体を30℃以上70℃以下の範囲
内で温度調整を行ってインクの粘性を安定吐出範囲にあ
るように温度制御するものが一般的であるから、使用記
録信号付与時にインクが液状をなすものであれば良い。In the embodiments of the present invention described above, the liquid ink is used for explanation. However, in the present invention, either an ink which is solid at room temperature or an ink which is in a softened state at room temperature is used. Can be used. In the above-mentioned inkjet device, the temperature of the ink itself is generally adjusted within the range of 30 ° C. or higher and 70 ° C. or lower to control the temperature of the ink so that the viscosity of the ink is within the stable ejection range. Any liquid may be used as long as the ink is liquid.
【0052】加えて、熱エネルギーによるヘッドやイン
クの過剰な昇温をインクの固形状態から液体状態への状
態変化のエネルギーとして使用せしめることで積極的に
防止するかまたは、インクの蒸発防止を目的として放置
状態で固化するインクを用いることもできる。いずれに
しても熱エネルギーの記録信号に応じた付与によってイ
ンクが液化してインク液状として吐出するものや記録媒
体に到達する時点ではすでに固化し始めるもの等のよう
な、熱エネルギーの付与によって初めて液化する性質を
持つインクの使用も本発明には適用可能である。In addition, the excessive temperature rise of the head or ink due to thermal energy is positively prevented by using it as the energy for the state change of the ink from the solid state to the liquid state, or the evaporation of the ink is prevented. It is also possible to use an ink that solidifies when left as it is. In any case, liquefaction occurs only when heat energy is applied, such as when the ink is liquefied by applying heat energy according to the recording signal and ejected as an ink liquid, or when it begins to solidify when it reaches the recording medium. The use of an ink having the property of applying is also applicable to the present invention.
【0053】このようなインクは、特開昭54−568
47号公報あるいは特開昭60−71260号公報に記
載されるような、多孔質シートの凹部または貫通孔に液
状または固形物として保持された状態で、電気熱変換体
に対して対向するような形態としても良い。Such an ink is disclosed in JP-A-54-568.
No. 47 or Japanese Patent Laid-Open No. 60-71260, facing the electrothermal converter in the state of being held as a liquid or solid in the recesses or through holes of the porous sheet. It may be in the form.
【0054】本発明において、上述した各インクに対し
て最も有効なものは、上述した膜沸騰方式を実行するも
のである。In the present invention, the most effective one for each of the above-mentioned inks is to execute the above-mentioned film boiling method.
【0055】[0055]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、インク流
路と吐出口とに対応する除去可能層を積層し、この除去
可能層の表面の一部にマスク層を設け、マスク層を介し
て、このマスク層で覆われていない部分の前記除去可能
層を選択的に一部分除去し、そののち被覆層を設けるこ
とにより、マスク層の形状に対応した段差構造を有する
インク流路を形成することができ、液体噴射記録ヘッド
の製造において、インクを安定して吐出させるための段
差構造を有したインク流路を自由な形状でかつ容易に作
成できるという効果がある。As described above, according to the present invention, a removable layer corresponding to an ink flow path and an ejection port is laminated, a mask layer is provided on a part of the surface of the removable layer, and the mask layer is interposed. Then, a part of the removable layer which is not covered with the mask layer is selectively removed, and then a coating layer is provided to form an ink flow path having a step structure corresponding to the shape of the mask layer. Therefore, in manufacturing the liquid jet recording head, there is an effect that an ink flow path having a step structure for stably ejecting ink can be easily formed in a free shape.
【図1】液体噴射記録ヘッドの吐出口とインク流路の形
状を示す要部斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of essential parts showing the shapes of ejection ports and ink flow paths of a liquid jet recording head.
【図2】(A)〜(E)は、それぞれ本発明の一実施例の液体
噴射記録ヘッドの製造方法の原理を説明する図である。2A to 2E are diagrams illustrating the principle of a method for manufacturing a liquid jet recording head according to an embodiment of the present invention.
【図3】(A)〜(F)は、それぞれ実施例1における液体噴
射記録ヘッドの製造方法を説明する図である。3A to 3F are diagrams illustrating a method of manufacturing the liquid jet recording head according to the first embodiment.
【図4】(A)〜(E)は、それぞれ実施例2における液体噴
射記録ヘッドの製造方法を説明する図である。4A to 4E are diagrams illustrating a method of manufacturing a liquid jet recording head according to a second embodiment.
【図5】(A)〜(G)は、それぞれ実施例3における液体噴
射記録ヘッドの製造方法を説明する図である。5A to 5G are diagrams illustrating a method of manufacturing the liquid jet recording head according to the third embodiment.
【図6】本発明に係る液体噴射記録ヘッドを備えた記録
装置の一例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a recording apparatus including a liquid jet recording head according to the present invention.
1 基板 2 エネルギー発生素子 3 段差部 4 被覆樹脂層 5 除去可能層 5a 第1の層 5b 第2の層 5c 無機質層 6,9a,9b アルミニウム膜 7 ガラス板 8 マスク層 10 インク流路 11 吐出口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Energy generating element 3 Step portion 4 Covering resin layer 5 Removable layer 5a First layer 5b Second layer 5c Inorganic layer 6, 9a, 9b Aluminum film 7 Glass plate 8 Mask layer 10 Ink flow channel 11 Discharge port
Claims (6)
ク流路に対応して配置されインクを前記吐出口から吐出
するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー
発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法にお
いて、 前記エネルギー発生素子が設けられた基板上に、前記イ
ンク流路が形成される位置に対応させて除去可能層を積
層する工程と、 前記除去可能層の表面の一部にマスク層を設ける工程
と、 前記マスク層を介して前記マスク層で覆われていない部
位の前記除去可能層を選択的に一部分除去し、前記マス
ク層の形状に応じた段差を前記除去可能層の表面に設け
る選択的除去工程と、 前記除去可能層および前記マスク層を覆うように前記基
板の表面に被覆層を設ける工程と、 残存している前記除去可能層を除去する除去工程とを有
することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。1. A liquid jet having an ink flow path communicating with an ejection port, and an energy generating element arranged corresponding to the ink flow channel to generate energy used for ejecting ink from the ejection port. In the method for manufacturing a recording head, a step of stacking a removable layer on a substrate provided with the energy generating element so as to correspond to a position where the ink flow path is formed, and a part of the surface of the removable layer. A step of providing a mask layer on the removable layer, and selectively removing a part of the removable layer at a portion not covered with the mask layer through the mask layer, and forming a step corresponding to the shape of the mask layer on the removable layer. A step of selectively removing the surface of the substrate, a step of providing a coating layer on the surface of the substrate so as to cover the removable layer and the mask layer, and a step of removing the remaining removable layer. A method for manufacturing a liquid jet recording head characterized by having a degree.
であり、選択的除去工程で用いられる除去条件下での前
記複数の層の除去速度が相互に異なるものである請求項
1記載の液体噴射記録ヘッドの製造方法。2. The removable layer is a stack of a plurality of layers, and the removal rates of the plurality of layers are different from each other under the removal conditions used in the selective removal step. Manufacturing method of liquid jet recording head.
請求項1または2記載の液体噴射記録ヘッドの製造方
法。3. The method for manufacturing a liquid jet recording head according to claim 1, wherein the mask layer is also removed in the removing step.
体噴射記録ヘッドの製造方法によって製造された液体噴
射記録ヘッド。4. A liquid jet recording head manufactured by the method for manufacturing a liquid jet recording head according to claim 1.
与えることによって、発熱し、インクに状態変化を生ぜ
しめて吐出を行なわせるための電気熱変換体である請求
項4記載の液体噴射記録ヘッド。5. The liquid jet recording head according to claim 4, wherein the energy generating element is an electrothermal converter for generating heat by applying electric energy and causing a change in the state of the ink to cause ejection.
出口が複数設けられているフルラインタイプのものであ
ることを特徴とする請求項4記載の液体噴射記録ヘッ
ド。6. The liquid jet recording head according to claim 4, wherein the liquid jet recording head is a full-line type in which a plurality of ejection ports are provided over the entire width of the recording area of the recording medium.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29174191A JPH05124208A (en) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | Liquid jet recording head and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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JP29174191A JPH05124208A (en) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | Liquid jet recording head and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH05124208A true JPH05124208A (en) | 1993-05-21 |
Family
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JP29174191A Pending JPH05124208A (en) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | Liquid jet recording head and production thereof |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH05124208A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004198420A (en) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Xerox Corp | Integration method for microelectronic element |
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-
1991
- 1991-11-07 JP JP29174191A patent/JPH05124208A/en active Pending
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