JPH0469380A - 塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0469380A JPH0469380A JP17809190A JP17809190A JPH0469380A JP H0469380 A JPH0469380 A JP H0469380A JP 17809190 A JP17809190 A JP 17809190A JP 17809190 A JP17809190 A JP 17809190A JP H0469380 A JPH0469380 A JP H0469380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorinated
- carboxylic acid
- pyrazole carboxylic
- formula
- acid derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- KOPFEFZSAMLEHK-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-5-carboxylic acid Chemical class OC(=O)C=1C=CNN=1 KOPFEFZSAMLEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- -1 5-pyrazole carboxylic acid compound Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 abstract description 7
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000010339 dilation Effects 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000895 acaricidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000642 acaricide Substances 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NFKJSKVAOLQEDS-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,5-dimethyl-1h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=NNC(C)=C1C NFKJSKVAOLQEDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUKJHWLTDJWPHN-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-5-ethyl-2-methylpyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(Cl)C(CC)=NN1C CUKJHWLTDJWPHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEUFDJAHBFUZMI-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-5-methyl-1h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=NNC(C)=C1Cl YEUFDJAHBFUZMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTBWCASXXPYAI-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-ethyl-5-methyl-1h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=NNC(C)=C1CC KJTBWCASXXPYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDRIQRYSIQKISI-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-ethyl-2-methylpyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC(CC)=NN1C LDRIQRYSIQKISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTXQJAHRCGJEG-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-methyl-1h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1C=C(C)NN=1 BOTXQJAHRCGJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KYQGPXFQWUSRMY-UHFFFAOYSA-N methyl 2,5-dimethylpyrazole-3-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(C)=NN1C KYQGPXFQWUSRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940100050 virazole Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
に関するものであり、より詳しくは特定のピラゾールカ
ルボン酸誘導体を塩素化するに際し、出発原料中に含有
される蒸留分離困難な不純物を目的物よりも高極性化合
物とすることにより分離可能とし、高純度の塩素化ピラ
ゾールカルボン酸誘導体を製造する方法に関するもので
ある。
酸誘導体は農薬の重要な合成中間体であり、特に4−ク
ロロ−3−エチル−1−メチル5−ピラゾールカルボン
酸エチルは有用な殺ダニ剤の重要な合成中間体である(
特開昭64−25763号公報)。
、塩化スルフリルあるいはハイポクロリド等の塩素化剤
により容易に進行することが知られている(Compr
ehensive Heterocyclic C
hemistry 5239−240)。
5−ピラゾールカルボン酸化合物とともに不純物として
存在する4−置換−5−ピラゾールカルボン酸化合物は
塩素化されず、そのまま目的物である塩素化ピラゾール
カルボン酸誘導体とともに存在するため、これらの分離
が困難であった。すなわち、高純度の塩素化ピラゾール
カルボン酸誘導体を得ることができなかった。
結果、塩素化剤として塩化スルフリルを用い、かつ不純
物として存在する4−置換−5ピラゾ一ルカルボン酸化
合物も塩素化し、高極性化合物とすることにより目的物
との分離が可能となることを見出し本発明に到達した。
ピラゾールカルボン酸誘導体を製造する方法を提供する
ものである。
1、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低
級アルキル基を表わす。)で表わされる5−ピラゾール
カルボン酸化合物を塩素化して下記−散大(2) (上記式中、R’ 、R2およびR3は前記と同義を示
す。) で表わされる塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体を製造
する方法において、塩素化剤として過剰量の塩化スルフ
リルを用いること、がっ、上記−散大(1)で表わされ
る5−ピラゾールカルボン酸化合物に不純物として含ま
れる下記−散大(3)(上記式中、R’ 、R2および
R3は前記と同義を示し、R′は低級アルキル基を示す
。)で表わされる4−置換−5−ピラゾールカルボン酸
化合物の塩素化物を加水分解、酸析処理により分離除去
することを特徴とする塩素化ピラゾールカルボン酸誘導
体の製造方法により容易に達成される。
−散大(1) %式% 上記式中、R1、R2およびR3は同一または相異って
いてもよいメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、5ec−ブチル基等の低級アルキル基を表わし、具
体的には3−エチル−1−メチル−5−ピラゾールカル
ボン酸エチル、1−エチル−3−メチル−5−ピラゾー
ルカルボン酸エチル、1,3−ジメチル−5−ピラゾー
ルカルボン酸メチル等が挙げられる。
酸化合物は下記−散大(3) %式% 上記式中、R1、R2、RffおよびR4は前記RI、
R2およびR3と同義を示す。具体的には、1.3.4
−)ジメチル−5−ピラゾールカルボン酸エチル等が挙
げられる。
対し不純物である4−置換−5−ピラゾールカルボン酸
化合物を1〜20重量%、好ましくは5〜10重量%を
含有する5−ビラソールカルボン酸化合物混合物を塩素
化するものである。
その使用量は上記の混合物中のビラソールカルボン酸化
合物(すなわち、5−ピラゾールカルボン酸化合物と不
純物である4−置換−5ピラゾ一ルカルボン酸化合物の
合計量)に対して通常1〜5倍モル、好ましくは1〜1
.5倍モルの範囲の量を用いる。
性な溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的
にはジクロロメタン、ジクロロエタンあるいはクロロホ
ルム等のハロゲン溶媒あるいはトルエン、キシレン等の
非極性溶媒等の溶媒が挙げられる。特に好ましくは非極
性溶媒のトルエンを用いるのがよい。
、好ましくは2〜10倍(重量)量とすればよい。
範囲、好ましくは50”Cないし100 ”Cの範囲で
行われる。0°C以下の温度では反応温度が遅く効率の
点で工業的には好ましくない。また、200℃以上の温
度では塩素化剤の分解等の副反応が増大するので好まし
くない。
酸化合物の塩素化物、すなわち、下記の一般式(2)で
表される塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体が得られる
。
具体的に4−クロロ−3−エチル−1メチル−5−ピラ
ゾールカルボン酸エチル、4クロロ−1−エチル−3−
メチル−5−ピラゾールカルボン酸エチル、4−クロロ
−1,3−ジメチル−5−ピラゾールカルボン酸メチル
等が挙げられる。
もに4−置換−5−ビラソールカルボン酸化合物の塩素
化物、例えば1−クロロメチル3.4−ジメチル−5−
ビラソールカルボン酸エチル、3〜クロロメチル−1,
4−ジメチル−5−ビラソールカルボン酸エチル、4−
クロロメチル−1,3−ジメチル−5−ピラゾールカル
ボン酸エチル等が生成し、かかる4−置換−5−ピラゾ
ールカルボン酸化合物の塩素化物はいずれも塩素化ピラ
ゾールカルボン酸誘導体と比較して極性が高く、目的物
である塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体と分離が可能
となる。
処理により4−置換−5−ピラゾールカルボン酸化合物
の塩素化物を分離する。
は通常の方法に従い、約10%水酸化ナトリウム水溶液
で80″Cで所定時間、例えば0.5〜3時間程度加水
分解したのち、濃塩酸にて酸析処理する。
酸誘導体は極めて高純度のものである。
本発明の要旨を越えない限り本発明は下記の実施例に限
定されるものではない。
−ピラゾールカルボン酸エチル32g(0,18モル)
を含む下記式(5)で表わされる3−メチル5−ピラゾ
ールカルボン酸エチル637g (純度90%、3.5
モル)をジクロロエタン1.0 kgに溶解させ60°
Cに加熱した。ここへ塩素化スルフリル472g(1,
0倍当量)を滴下後、■時間加熱夕流させた。その後、
加熱還流下、塩素化スルフリル47.2g(0,1倍当
量)をさらに追滴下した。追滴下後、さらに1時間加熱
還流し、反応を完結させた。反応後、反応液を濃縮し粗
生成物720g(4−クロロ−3−メチル−5−ピラゾ
ールカルボン酸エチルの純度94%)を得た。この粗生
成物に25%水酸化ナトリウム水溶液555g、水1.
56kgを加え、80″Cで1時間加熱撹拌した。その
後、冷却し希塩酸で酸析し得られた結晶をろ過・乾燥し
、純度99゜8%の下記式(6)で表わされる4−クロ
ロ−3−メチル−5−ピラゾールカルボン酸エチルを5
95g得た(収率78%)。
ン酸化合物から高収率・高純度で塩化ピラゾールカルボ
ン酸誘導体を得ることができる。
Claims (1)
- (1)下記一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (上記式中、R^1、R^2およびR^3は同一または
異なっていてもよい低級アルキル基を表わす。)で表わ
される5−ピラゾールカルボン酸化合物を塩素化して下
記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2) (上記式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同義
を示す。) で表わされる塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体を製造
する方法において、塩素化剤として塩化スルフリルを使
用し、かつ、上記一般式(1)の5−ピラゾールカルボ
ン酸化合物に不純物として含まれる下記一般式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(3) (上記式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同義
を示し、R^4は低級アルキル基を示す。)で表わされ
る4−置換−5−ピラゾールカルボン酸化合物の塩素化
物を加水分解、酸析処理により分離除去することを特徴
とする塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2178091A JP2976493B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2178091A JP2976493B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0469380A true JPH0469380A (ja) | 1992-03-04 |
JP2976493B2 JP2976493B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=16042480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2178091A Expired - Lifetime JP2976493B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2976493B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI657034B (zh) * | 2015-03-05 | 2019-04-21 | 日商三菱電機大樓技術服務股份有限公司 | 電梯薄型機器搬出搬入裝置及電梯薄型機器搬出搬入方法 |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP2178091A patent/JP2976493B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI657034B (zh) * | 2015-03-05 | 2019-04-21 | 日商三菱電機大樓技術服務股份有限公司 | 電梯薄型機器搬出搬入裝置及電梯薄型機器搬出搬入方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2976493B2 (ja) | 1999-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013040196A (ja) | ピペラジン誘導体の製造方法 | |
MX2015004764A (es) | Compuestos utiles en la sintesis de compuestos de benzamida. | |
NZ207238A (en) | Quinolone carboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions | |
US9695124B2 (en) | Method of producing 2-aminonicotinic acid benzyl ester derivatives | |
WO2019044266A1 (ja) | ピラゾール-4-カルボキサミド誘導体の製造方法 | |
JPH0469380A (ja) | 塩素化ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法 | |
EP0000301B1 (fr) | Procédé de préparation de thiéno(2,3-c) et thiéno(3,2-c) pyridines | |
JPH11130752A (ja) | ヘテロアリールカルボン酸アミド類およびエステル類の製造方法 | |
JP4675234B2 (ja) | 光学活性なキノロンカルボン酸誘導体の製造中間体およびその製造法 | |
WO1998041514A1 (fr) | Procede de production de derives de quinazoline | |
AU604255B2 (en) | Improved process for making N-cyanomethylarylcarboxamides | |
JPS62267267A (ja) | ピラゾ−ル誘導体およびその製造法 | |
US6992231B2 (en) | Method for the preparation of α,α, α′,α′-tetrachloro-p-xylene | |
JPS6051180A (ja) | 1,2,4−トリアゾリン−5−オン類の製造方法 | |
JP3538889B2 (ja) | アルキルチオアセタミドの製造方法 | |
JP3097193B2 (ja) | ピラゾール誘導体の製造方法 | |
JPH0543554A (ja) | 3,5−ジクロロピラゾール−4−カルボン酸エステル類の製造法 | |
JPS6354707B2 (ja) | ||
JPH05140121A (ja) | 1,2,3−トリアゾールの製法 | |
JPS6137271B2 (ja) | ||
JPH0543553A (ja) | 3,5−ジクロロピラゾール−4−カルボン酸エステル類の製造方法 | |
JPH0665180A (ja) | ベンゾイルアセトニトリル誘導体及びその製造方法 | |
JPH05194336A (ja) | アミノアクリル酸誘導体 | |
CZ66299A3 (cs) | Syntéza beta-ketoesteru hydrazonu reakcí s diazoesterem | |
JP2004075616A (ja) | 4−ハロゲノ−2−(4−フルオロフェニルアミノ)−5,6−ジメチルピリミジンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080910 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080910 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090910 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090910 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100910 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |