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JPH04363362A - Polymeric material composition improved in light resistance - Google Patents

Polymeric material composition improved in light resistance

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Publication number
JPH04363362A
JPH04363362A JP13873391A JP13873391A JPH04363362A JP H04363362 A JPH04363362 A JP H04363362A JP 13873391 A JP13873391 A JP 13873391A JP 13873391 A JP13873391 A JP 13873391A JP H04363362 A JPH04363362 A JP H04363362A
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JP
Japan
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tert
polymeric material
butyl
compound
hydroxy
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JP13873391A
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Japanese (ja)
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JP2989933B2 (en
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Yutaka Nakahara
豊 中原
Kazuo Sugibuchi
杉淵 和男
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Adeka Corp
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Asahi Denka Kogyo KK
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a stable polymeric material composition having light resistance for a long period even under severe processing conditions without yellowing by blending a polymeric material with a specific benzotriazole compound as a light stabilizer. CONSTITUTION:A polymeric material composition is obtained by blending (A) 100 pts.wt. polymeric material (e.g. propylene-based polymer, ABS resin or polyurethane) with (B) 0.001-5 pts.wt., preferably 0.01-3 pts.wt. benzotriazole compound, prepared by esterifying a 2-hydroxyphenylbenzotriazole compound with a carboxylic acid such as hydroxybenzoic acid or a hydroxyphenylalkanoic acid in a solvent such as toluene or xylene under refluxing conditions of the solvent and expressed by the formula [R<1> and R2 are H or 1-8C alkyl; R3 is H or 1-12C alkyl or arylakyl; R4 is H or halogen; (m) is 0-2] and preferably further a hindered amine-based compound, a phenolic antioxidant, a sulfur-based antioxidant, a phosphite-based antioxidant, etc.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、耐光性の改善された高
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定の2−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾールのエステル化物を添加す
ることによって、長期間に渡って耐光性の改善された高
分子材料組成物に関する。
[Field of Industrial Application] The present invention relates to a polymeric material composition with improved light resistance, and more specifically, by adding a specific esterified product of 2-hydroxyphenylbenzotriazole, the composition has improved light resistance for a long period of time. The present invention relates to a polymeric material composition with improved properties.

【0002】0002

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリエ
チレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル等の高分子材料は、光の作用により劣化し、変色あ
るいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に
耐えないことが知られている。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Polymer materials such as polyethylene, polypropylene, styrene resin, and polyvinyl chloride deteriorate due to the action of light, causing discoloration and a decrease in mechanical strength, resulting in long-term problems. It is known that it cannot withstand the use of

【0003】そこで、高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられており、特に、2−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤はその
安定化効果が大きく、広く用いられている。
[0003] Various light stabilizers have heretofore been used to prevent the deterioration of polymeric materials. These light stabilizers include hindered amine light stabilizers,
Benzophenone-based or benzotriazole-based ultraviolet absorbers are mainly used, and in particular, 2-hydroxyphenylbenzotriazole-based ultraviolet absorbers have a great stabilizing effect and are widely used.

【0004】しかしながら、従来用いられていたベンゾ
トリアゾール系の化合物はそれ自身、オルソ位に水酸基
が存在しているため、耐熱性に劣り、不安定で、保存中
に黄変するという欠点があった。
However, the conventionally used benzotriazole compounds themselves have a hydroxyl group at the ortho position, so they have poor heat resistance, are unstable, and have the disadvantage of yellowing during storage. .

【0005】このため、不安定なオルソ位の水酸基を、
芳香族酸でエステル化することにより、紫外線吸収剤自
身の黄変を改良しようとする試みがなされている。(特
開昭51−63845、特開昭51−63846、特公
昭58−37314)  しかし、その光安定性はまだ
まだ不充分なものであった。
[0005] For this reason, the unstable ortho-position hydroxyl group,
Attempts have been made to improve the yellowing of ultraviolet absorbers themselves by esterifying them with aromatic acids. (JP 51-63845, JP 51-63846, JP 58-37314) However, their photostability was still insufficient.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑み、新規なタイプの高分子材料用の光安定剤を得
るために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(I)で表
される化合物が安定で、黄変がなく、苛酷な加工条件下
においても、合成樹脂等の高分子材料に長期の耐光性を
付与しえることを知見した。
[Means for Solving the Problems] In view of the above-mentioned current situation, the present inventors have made extensive studies to obtain a new type of light stabilizer for polymeric materials, and have found that the following general formula (I) It has been discovered that the compound represented by is stable, does not yellow, and can impart long-term light resistance to polymeric materials such as synthetic resins even under severe processing conditions.

【0007】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、高分子材料100重量部に対して、下記化2(化
1と同じ)で示される一般式(I)で表されるベンゾト
リアゾール化合物0.001〜5重量部を添加してなる
、耐光性の改善された高分子材料組成物を提供するもの
である。
The present invention has been made based on the above findings, and is based on the benzotriazole represented by the general formula (I) shown in the following chemical formula 2 (same as chemical formula 1), based on 100 parts by weight of the polymeric material. The present invention provides a polymeric material composition with improved light resistance, which contains 0.001 to 5 parts by weight of a compound.

【0008】[0008]

【化2】 (R1 およびR2 は水素原子または炭素数1〜8の
アルキル基を示し、R3 は水素原子または炭素数1〜
12のアルキル基またはアリールアルキル基を示し、R
4 は水素原子またはハロゲン原子を示し、mは0〜2
を示す。)
[Chemical formula 2] (R1 and R2 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
12 alkyl group or arylalkyl group, R
4 represents a hydrogen atom or a halogen atom, m is 0 to 2
shows. )

【0009】以下、上記要旨をもってなる本発明につい
て詳述する。
[0009] Hereinafter, the present invention having the above-mentioned summary will be explained in detail.

【0010】上記式中、R1 及びR2 で表されるア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イ
ソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチ
ル等が挙げられる。R3 で表されるアルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミ
ル、第三アミル、オクチル、第三オクチル、デシル、ド
デシル等が挙げられ、アリールアルキル基としては、ベ
ンジル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジ
ル等が挙げられる。R4 のハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子がある。
In the above formula, examples of the alkyl group represented by R1 and R2 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, tertiary-amyl, octyl, Examples include tri-octyl. Examples of the alkyl group represented by R3 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, tertiary amyl, octyl, tertiary octyl, decyl, dodecyl, etc. Examples of the arylalkyl group include benzyl, α-methylbenzyl, α,α-dimethylbenzyl, and the like. Examples of the halogen atom for R4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

【0011】上記一般式(I)で表される化合物は、2
−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール化合物を、ヒ
ドロキシ安息香酸またはヒドロキシフェニルアルカン酸
等のカルボン酸でエステル化することにより、容易に合
成することができる。
The compound represented by the above general formula (I) has 2
It can be easily synthesized by esterifying a -hydroxyphenylbenzotriazole compound with a carboxylic acid such as hydroxybenzoic acid or hydroxyphenylalkanoic acid.

【0012】上記一般式(I)で表される化合物を製造
するために用いられる2−ヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾール化合物としては、例えば、2−(2−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−5−α,α−ジメチルベンジル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−第二ブ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロ
キシ−5−第三ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等が挙げら
れる。
Examples of the 2-hydroxyphenylbenzotriazole compound used to produce the compound represented by the above general formula (I) include 2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole, 2-
(2-hydroxy-5-α,α-dimethylbenzyl)benzotriazole, 2-(2-hydroxy-5-sec-butylphenyl)benzotriazole, 2-(2-hydroxy-5-tert-butylphenyl)benzotriazole ,
Examples include 2-(2-hydroxy-5-tertiary octylphenyl)benzotriazole, 2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, and the like.

【0013】また、上記一般式(I)で表される化合物
を製造するために用いられるカルボン酸としては、2−
ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−3−メチル安息
香酸、2−ヒドロキシ−5−第三ブチル安息香酸、2−
ヒドロキシ−5−第三オクチル安息香酸、4−ヒドロキ
シ−3,5−第三ジブチル安息香酸、4−ヒドロキシ−
3−第三ブチル−5−メチル安息香酸、4−ヒドロキシ
−3,5−ジ第三アミル安息香酸、(4−ヒドロキシ−
3,5−ジ第三ブチルフェニル)酢酸、β−(4−ヒド
ロキシ−3,5−第三ジブチルフェニル)プロピオン酸
、β−(4−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−メチル
フェニル)プロピオン酸等が挙げられる。
Further, as the carboxylic acid used for producing the compound represented by the above general formula (I), 2-
Hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-3-methylbenzoic acid, 2-hydroxy-5-tert-butylbenzoic acid, 2-
Hydroxy-5-tert-octylbenzoic acid, 4-hydroxy-3,5-tert-dibutylbenzoic acid, 4-hydroxy-
3-tert-butyl-5-methylbenzoic acid, 4-hydroxy-3,5-di-tertiary amylbenzoic acid, (4-hydroxy-
3,5-di-tert-butylphenyl)acetic acid, β-(4-hydroxy-3,5-tert-dibutylphenyl)propionic acid, β-(4-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)propion Examples include acids.

【0014】尚、上記エステル化反応は、トルエン、キ
シレン等の溶媒還流下で行なわれる。
The above esterification reaction is carried out under reflux of a solvent such as toluene or xylene.

【0015】次に、本発明で用いられる前記一般式(I
)で表される化合物の具体的な合成例を挙げるが、本発
明は下記の合成例によって制限を受けるものではない。
Next, the general formula (I) used in the present invention
), but the present invention is not limited by the following synthesis examples.

【0016】合成例1 〔2−(4−ヒドロキシ−3,5−第三ジブチルベンゾ
イルオキシ)−4−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル(化3で表される化合物)の合成
Synthesis Example 1 Synthesis of [2-(4-hydroxy-3,5-tert-dibutylbenzoyloxy)-4-methylphenyl]benzotriazole (compound represented by formula 3)

【0017】[0017]

【化3】[Chemical formula 3]

【0018】2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール7.51g、4−ヒドロキシ−
3,5−ジ第三ブチル安息香酸6.76g、オキシ塩化
リン4.6g、ジメチルホルムアミド0.66gをトル
エン40ml中に溶かし、この混合物をトルエン還流下
、10時間反応させた。反応終了後、トルエン40ml
を加え、水洗後脱水し、減圧下でトルエンを留去した。 その後、ノルマルヘキサン/トルエン混合溶媒で再結晶
して、融点137℃の白色固体を得た。
7.51 g of 2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole, 4-hydroxy-
6.76 g of 3,5-di-tert-butylbenzoic acid, 4.6 g of phosphorous oxychloride, and 0.66 g of dimethylformamide were dissolved in 40 ml of toluene, and the mixture was reacted for 10 hours under refluxing toluene. After the reaction is complete, add 40ml of toluene.
was added, washed with water, dehydrated, and toluene was distilled off under reduced pressure. Thereafter, it was recrystallized from a normal hexane/toluene mixed solvent to obtain a white solid with a melting point of 137°C.

【0019】上記白色固体の赤外分光分析の結果、35
60及び、1710cm−1に吸収が有り、またUVス
ペクトル吸収分析の結果、Max:278nm、ε:2
4,400であり、目的物であることを確認した。
As a result of infrared spectroscopic analysis of the above white solid, 35
There is absorption at 60 and 1710 cm-1, and as a result of UV spectrum absorption analysis, Max: 278 nm, ε: 2
4,400, confirming that it was the target object.

【0020】上記合成例1と同様の操作により、下記化
4〜化8の化合物(No.2〜No.6)を合成した。
By the same operation as in Synthesis Example 1 above, the following compounds (No. 2 to No. 6) were synthesized.

【0021】[0021]

【化4】[C4]

【0022】[0022]

【化5】[C5]

【0023】[0023]

【化6】[C6]

【0024】[0024]

【化7】[C7]

【0025】[0025]

【化8】[Chemical formula 8]

【0026】本発明は、上記の特定のベンゾトリアゾー
ル化合物を高分子材料用の光安定剤として用いるもので
あり、その添加量は、特に制限を受けないが、高分子材
料100重量部に対して通常0.001〜5重量部、好
ましくは0.01〜3重量部である。
The present invention uses the above-mentioned specific benzotriazole compound as a light stabilizer for polymeric materials, and the amount added is not particularly limited, but is limited to 100 parts by weight of the polymeric material. It is usually 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight.

【0027】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
1、ポリ−3−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び/又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体(例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等)との共重合体(例えば、AS樹脂
、ABS樹脂、MBS樹脂、耐熱ABS樹脂等)、ポリ
メチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレン
テレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレート
等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド等
のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネー
ト、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこ
れらのブレンド物、あるいはフェノール樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂等の熱硬化性樹脂を挙げることができる。更に、イ
ソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム
等のエラストマーであっても良い。
Examples of polymeric materials whose stability is to be improved in the present invention include high-density, low-density, or linear low-density polyethylene, polypropylene, and polybutene.
1. α-olefin polymers such as poly-3-methylpentene or polyolefins such as ethylene-vinyl acetate copolymers and ethylene-propylene copolymers, and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated Polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, rubber chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate ternary copolymer Polymers, halogen-containing resins such as vinyl chloride-acrylic ester copolymers, vinyl chloride-maleic ester copolymers, vinyl chloride-cyclohexylmaleimide copolymers, vinyl chloride-cyclohexylmaleimide copolymers, petroleum resins, coumarons resins, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resins, styrene and/or α-methylstyrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, phenylmaleimide, methyl methacrylate, butadiene,
acrylonitrile, etc.) (e.g., AS resin, ABS resin, MBS resin, heat-resistant ABS resin, etc.), linear chains of polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyethylene terephthalate, polytetramethylene terephthalate, etc. Polyamides such as polyester, polyphenylene oxide, polycaprolactam and polyhexamethylene adipamide, thermoplastic synthetic resins such as polycarbonate, branched polycarbonate, polyacetal, polyphenylene sulfide, polyurethane, cellulose resins, and blends thereof, or phenolic resins, Examples include thermosetting resins such as urea resin, melamine resin, epoxy resin, and unsaturated polyester resin. Furthermore, elastomers such as isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and styrene-butadiene copolymer rubber may also be used.

【0028】本発明の組成物には、前記一般式(I)で
表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等
の添加剤を併用することができる。
In the composition of the present invention, other general-purpose additives such as antioxidants and stabilizers can be used together with the compound represented by the general formula (I).

【0029】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられ、特
に、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン化合物に
代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は、本発明の
化合物と相乗効果を奏するので好ましい。
Particularly preferable examples of these additives include phenol-based, sulfur-based, phosphite-based antioxidants, and hindered amine-based light stabilizers, particularly 2,2,6,6-tetra Hindered amine light stabilizers, typified by methylpiperidine compounds, are preferred because they have a synergistic effect with the compound of the present invention.

【0030】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾール、2,6−
ジフェニル−4−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
)−プロピオネート、ジステアリル(3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘ
キサメチレンビス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサメ
チレンビス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸アミド〕、4,4’−チオビス
(6−第三ブチル−m−クレゾール) 、2,2’−メ
チレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)
、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−第三ブチ
ルフェノール)、ビス〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ
−3−第三ブチルフェニル)ブチリックアシッド〕グリ
コールエステル、4,4’−ブチリデンビス(6−第三
ブチル−m−クレゾール)、2,2’−エチリデンビス
(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2’−エチ
リデンビス(4−第二ブチル−6−第三ブチルフェノー
ル) 、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、ビス〔2−第
三ブチル−4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第
三ブチル−5−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレ
ート、1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒ
ドロキシ−4−第三ブチルベンジル)イソシアヌレート
、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドルキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,3,5−ト
リス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、2−
第三ブチル−4−メチル−6−(2−アクリロイルオキ
シ−3−第三ブチル−5−メチルベンジル) フェノー
ル、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−{(3−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオニルオキシ}エチル〕−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ〔5. 5〕ウンデカン、トリエチレング
リコールビス〔(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオネート〕等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned phenolic antioxidant include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol,
Diphenyl-4-octadecyloxyphenol, stearyl (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, distearyl (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) phosphonate, thiodiethylene glycol bis [(3,5-di-tert-butyl-4
-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexamethylenebis[(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexamethylenebis[(3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxyphenyl)propionic acid amide], 4,4'-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol)
, 2,2'-methylenebis(4-ethyl-6-tert-butylphenol), bis[3,3-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyric acid] glycol ester, 4,4'- Butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol), 2,2'-ethylidenebis(4,6-di-tert-butylphenol), 2,2'-ethylidenebis(4-sec-butyl-6-tert-butylphenol) ), 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, bis[2-tert-butyl-4-methyl-6-(2-hydroxy-3-tert butyl-5-methylbenzyl)phenyl]terephthalate, 1,3,5-tris(2,6-dimethyl-3-hydroxy-4-tert-butylbenzyl)isocyanurate, 1,3,5-tris(3,5 -ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1,3,5-tris(3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)-2,4,6-trimethylbenzene, 1, 3,5-tris[(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]isocyanurate, tetrakis[methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4)
-Hydroxyphenyl)propionate]methane, 2-
Tert-butyl-4-methyl-6-(2-acryloyloxy-3-tert-butyl-5-methylbenzyl) Phenol, 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-{(3-tert-butyl) -4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy}ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5. 5] Undecane, triethylene glycol bis[(3-tert-butyl-4-hydroxy-5
-methylphenyl)propionate] and the like.

【0031】また、上記硫黄系抗酸化剤としては例えば
、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジス
テアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペ
ンタエリスリトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプ
ロピオネート)等のポリオールのβ−アルキルメルカプ
トプロピオン酸エステル類が挙げられる。
Examples of the sulfur-based antioxidants include dialkylthiodipropionates such as dilauryl thiodipropionate, dimyristyl, and distearyl thiodipropionate, and polyols such as pentaerythritol tetra (β-dodecylmercaptopropionate). Examples include β-alkylmercaptopropionic acid esters.

【0032】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト、ト
リス〔2−第三ブチル−4−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニルチオ)−5−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ(デシル)モノフェニル
ホスファイト、ジ(トリデシル)ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス(2,4−ジ第三ブチルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(
2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ
第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト、テトラ(トリデシル)イソプロピリデンジフェノ
ールジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’
−n−ブチリデンビス(2−第三ブチル−5−メチルフ
ェノール) ジホスファイト、ヘキサ(トリデシル)−
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−第三ブチルフェニル)ブタントリホスファイト、テト
ラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ビフェニレン
ジホスホナイト、9,10−ジハイドロ−9−オキサ−
10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド等が
挙げられる。
[0032] The above-mentioned phosphite-based antioxidants include, for example, trisnonylphenyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris[2-tert-butyl-4-(3 -tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenylthio)-5-methylphenyl] phosphite, tridecyl phosphite, octyldiphenyl phosphite, di(decyl)monophenyl phosphite, di(tridecyl)pentaerythritol di Phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(
2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2,4,6-tri-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, tetra(tridecyl)isopropylidene diphenol diphosphite phyto, tetra(tridecyl)-4,4'
-n-butylidenebis(2-tert-butyl-5-methylphenol) diphosphite, hexa(tridecyl)-
1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5
-tert-butylphenyl)butane triphosphite, tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)biphenylene diphosphonite, 9,10-dihydro-9-oxa-
Examples include 10-phosphaphenanthrene-10-oxide.

【0033】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルベンゾエート、N−(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ドデシルコハク酸イミド、
1−〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシエチル〕−2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル−(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ビス(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ
ート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロ
ネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、テトラ
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブ
タンテトラカルボキシレート、テトラ(1,2,2,6
,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ブタンテトラカ
ルボキシレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)・ジ(トリデシル)ブタンテトラカ
ルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)・ジ(トリデシル)ブタンテト
ラカルボキシレート、3,9−ビス〔1,1−ジメチル
−2−{トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニル
オキシ}エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ〔5.5〕ウンデカン、3,9−ビス〔1,1−ジ
メチル−2−{トリス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチル
カルボニルオキシ}エチル〕−2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,5,8,1
2−テトラキス〔4,6−ビス{N−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミノ}−1
,3,5−トリアジン−2−イル〕−1,5,8,12
−テトラアザドデカン、1−(2−ヒドロキシエチル)
−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール
/コハク酸ジメチル縮合物、2−第三オクチルアミノ−
4,6−ジクロロ−s−トリアジン/N,N’−ビス(
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキ
サメチレンジアミン縮合物、N,N’−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレ
ンジアミン/ジブロモエタン縮合物等が挙げられる。
[0033] Further, as the above-mentioned hindered amine light stabilizer, for example, 2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidyl benzoate, N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)dodecylsuccinimide,
1-[(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-(3,5-di-tert-butyl-4- hydroxyphenyl)propionate, bis(2
, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-
piperidyl) sebacate, bis(1,2,2,6,6-
Pentamethyl-4-piperidyl)-2-butyl-2-(
3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate, N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine, tetra(2,2,6, 6-tetramethyl-4-piperidyl)butanetetracarboxylate, tetra(1,2,2,6
, 6-pentamethyl-4-piperidyl)butanetetracarboxylate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)di(tridecyl)butanetetracarboxylate, bis(1,2,2,6 , 6-pentamethyl-4-piperidyl) di(tridecyl)butanetetracarboxylate, 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-{tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidyloxycarbonyloxy)butylcarbonyloxy}ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-{tris(1,2 ,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyloxycarbonyloxy)butylcarbonyloxy}ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, 1,5,8,1
2-Tetrakis [4,6-bis{N-(2,2,6,6
-tetramethyl-4-piperidyl)butylamino}-1
,3,5-triazin-2-yl]-1,5,8,12
-tetraazadodecane, 1-(2-hydroxyethyl)
-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol/dimethyl succinate condensate, 2-tertiary octylamino-
4,6-dichloro-s-triazine/N,N'-bis(
2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine condensate, N,N'-bis(2,2,
Examples include 6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylene diamine/dibromoethane condensate.

【0034】その他必要に応じて、本発明の組成物には
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物
、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃
剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
[0034] In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain a heavy metal deactivator, a nucleating agent, a metal soap, an organic tin compound, a plasticizer, an epoxy compound, a blowing agent, an antistatic agent, a flame retardant, and a lubricant. , processing aids, and the like.

【0035】本発明によって安定化された高分子材料は
、例えば、農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光性
が要求される分野に特に有用であり、例えば、フィルム
、繊維、テープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッカ
ー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材等
に用いることができる。
The polymeric material stabilized according to the present invention is particularly useful in fields that require a high degree of light resistance, such as agricultural materials and automotive paints, and is particularly useful in applications such as films, fibers, tapes, and sheets. It can be used for various molding materials, paints, binders for lacquers, adhesives, putty, and base materials for photographic materials.

【0036】[0036]

【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
[Examples] Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

【0037】実施例1 下記の配合により、250℃で押し出し加工してペレッ
トを作成した。次いで、250℃で射出成型して、厚さ
2mmの試験片を作成し、黄色度を測定した。この試験
片について、サンシャインウエザオメーターを用いて、
ブラックパネル温度83℃、120分中18分間の降雨
サイクルで、耐光性試験を行った。評価方法はクラック
の発生時間の比較で行なった。
Example 1 Pellets were prepared by extrusion processing at 250° C. using the following formulation. Next, injection molding was performed at 250° C. to prepare a test piece with a thickness of 2 mm, and the degree of yellowness was measured. Regarding this test piece, using a sunshine weather meter,
A light fastness test was conducted with a black panel temperature of 83° C. and a rain cycle of 18 minutes out of 120 minutes. The evaluation method was a comparison of crack generation time.

【0038】その結果を次の表−1に示す。The results are shown in Table 1 below.

【0039】 〔配合〕 エチレン−プロピレン共重合体           
           100重量部ステアリル(3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフ    0.1 
 ェニル)プロピオネート トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト
    0.05ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル    0.3)セバケート ステアリン酸カルシウム              
                  0.05試料化
合物(表−1参照)
[Blend] Ethylene-propylene copolymer
100 parts by weight stearyl (3,
5-Ditert-butyl-4-hydroxyph 0.1
phenyl) propionate tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite 0.05 bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl 0.3) sebacate calcium stearate
0.05 sample compound (see Table-1)

【0040】[0040]

【0041】[0041]

【化9】[Chemical formula 9]

【0042】[0042]

【化10】[Chemical formula 10]

【0043】[0043]

【化11】[Chemical formula 11]

【0044】実施例2 下記の配合により、260℃で押し出し加工してペレッ
トを作成し、次いで、260℃で射出成型して、厚さ1
mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、83℃
のサンシャインウェザオメーター(雨なし)による耐候
性試験を行い、400時間照射後の色差を測定した。
Example 2 Pellets were made by extrusion at 260°C using the following formulation, and then injection molded at 260°C to a thickness of 1.
A test piece of mm was prepared. Using this test piece, 83℃
A weather resistance test was conducted using a Sunshine Weatherometer (no rain), and the color difference after 400 hours of irradiation was measured.

【0045】その結果を次の表−2に示した。The results are shown in Table 2 below.

【0046】 〔配合〕 耐熱ABS樹脂(α−メチルスチレン共重合体)   
   100重量部マグネシウムステアレート    
                         
 0.4トリエチレングリコールビス(3−第三ブチル
−4−ヒ    0.2ドロキシ−5−メチルフェニル
)プロピオネートビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル
)ペンタエリスリ    0.2トールジホスファイト 二酸化チタン                   
                       0.
5ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル    0.3)−1,2,3,4−テトラカルボキ
シレート試料化合物(表−2参照)
[Blend] Heat-resistant ABS resin (α-methylstyrene copolymer)
100 parts by weight magnesium stearate

0.4 triethylene glycol bis(3-tert-butyl-4-hyperoxy-5-methylphenyl) propionate bis(2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythri 0.2 tol diphosphite titanium dioxide
0.
5-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl 0.3)-1,2,3,4-tetracarboxylate sample compound (see Table 2)

【0047】[0047]

【0048】実施例3 下記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、120
℃で5分間プレスして厚さ0.5mmの試験片を作成し
た。この試験片を用いて、フェードメーターで50時間
及び100時間照射後の伸び残率を測定した。
Example 3 The following formulation was kneaded on a roll at 70°C for 5 minutes,
A test piece with a thickness of 0.5 mm was prepared by pressing at ℃ for 5 minutes. Using this test piece, the residual elongation rate after irradiation for 50 hours and 100 hours was measured using a fade meter.

【0049】その結果を表−3に示す。The results are shown in Table 3.

【0050】 〔配合〕 ポリウレタン樹脂(旭電化製U−100)      
      100重量部バリウムステアレート   
                         
      0.7亜鉛ステアレート        
                         
     0.32,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル                  0.1アデカ
スタブLA−62*                
               0.3試料化合物(表
−3参照)       *旭電化工業製ヒンダードアミン系光安定
[Formulation] Polyurethane resin (Asahi Denka U-100)
100 parts by weight barium stearate

0.7 zinc stearate

0.32,6-di-tert-butyl-p-cresol 0.1 Adekastab LA-62*
0.3 Sample compound (see Table 3) *Hindered amine light stabilizer manufactured by Asahi Denka Kogyo

【0051】[0051]

【0052】実施例4 下記の配合物を用い、混練ロールにより混練し、厚さ0
.1mmのフィルムを作成した。このフィルムから試験
片を切取り、ウェザロメーターによる耐候性試験を行っ
た。
Example 4 The following formulation was kneaded with a kneading roll to give a thickness of 0.
.. A 1 mm film was prepared. A test piece was cut from this film and subjected to a weather resistance test using a weatherometer.

【0053】その結果を表−4に示す。The results are shown in Table 4.

【0054】 〔配合〕 塩化ビニル樹脂(重合度1,000)        
              100重量部ジオクチル
フタレート                    
            47      トリキシレ
ニルホスフェート                 
           3      亜鉛ステアレー
ト                        
              0.8  ホスホン酸ノ
ニルフェニルエステルバリウム塩          
  0.8  テトラ(トリデシル)ビスフェノールA
ジホスファイト    0.8ビスフェノールAジグリ
シジルエーテル                  
3メチレンビス(ステアリン酸アミド)       
             0.5ソルビタンモノパル
ミテート                     
       2ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル    0.5)−1,2,3,4−
テトラカルボキシレート試料化合物(表−4参照)
[Blend] Vinyl chloride resin (degree of polymerization 1,000)
100 parts by weight dioctyl phthalate
47 Trixylenyl phosphate
3 Zinc stearate
0.8 Phosphonic acid nonylphenyl ester barium salt
0.8 Tetra(tridecyl)bisphenol A
Diphosphite 0.8 Bisphenol A diglycidyl ether
3 methylene bis (stearamide)
0.5 sorbitan monopalmitate
2bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl 0.5)-1,2,3,4-
Tetracarboxylate sample compound (see Table 4)

【0055】[0055]

【0056】上記各実施例の結果から、本発明で光安定
剤として用いられる特定のヒドロキシフェニル基含有カ
ルボン酸でエステル化されたベンゾトリアゾール化合物
を用いた場合は、従来知られていたベンゾトリアゾール
化合物および/または安息香酸エステル化合物を用いた
場合と比較して安定化効果が著しく大きいばかりでなく
、樹脂に着色を与える欠点もないことが明らかである。
From the results of the above examples, it is clear that when a benzotriazole compound esterified with a specific hydroxyphenyl group-containing carboxylic acid used as a light stabilizer in the present invention is used, it can be compared with a conventionally known benzotriazole compound. It is clear that not only is the stabilizing effect significantly greater than when a benzoic acid ester compound is used, but also there is no drawback of coloring the resin.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の高分子材料組成物は、安定で、
黄変がなく、過酷な加工条件下においても長期の耐光性
を有するものである。
[Effect of the invention] The polymeric material composition of the present invention is stable,
It does not yellow and has long-term light resistance even under harsh processing conditions.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  高分子材料100重量部に、下記化1
で示される一般式(I)で表されるベンゾトリアゾール
化合物0.001〜5重量部を添加してなる、耐光性の
改善された高分子材料組成物。 【化1】 (R1 およびR2 は水素原子または炭素数1〜8の
アルキル基を示し、R3 は水素原子または炭素数1〜
12のアルキル基またはアリールアルキル基を示し、R
4 は水素原子またはハロゲン原子を示し、mは0〜2
を示す。)
Claim 1: The following formula 1 is added to 100 parts by weight of a polymeric material.
A polymeric material composition with improved light resistance, which contains 0.001 to 5 parts by weight of a benzotriazole compound represented by the general formula (I). [Formula 1] (R1 and R2 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
12 alkyl group or arylalkyl group, R
4 represents a hydrogen atom or a halogen atom, m is 0 to 2
shows. )
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