JPH04330650A - Production of substrate for optical disk - Google Patents
Production of substrate for optical diskInfo
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は光学的透明性を有する基
板上に、2P(Photo Polymerizati
on)法により、光硬化性樹脂(Photo Pol
ymer、以下、2P樹脂という。)から成る案内溝及
び/又はあるいは信号ピット等の凹凸パターンを有する
層(以下、2P層という。)を形成する光ディスク用基
板の製造方法に関し、更に詳しくは基板と2P層との間
の接着性に優れた光ディスク用基板の製造方法に関する
ものである。[Industrial Application Field] The present invention provides 2P (Photo Polymerization) on an optically transparent substrate.
On) method, photo-curable resin (Photo Pol
ymer, hereinafter referred to as 2P resin. ) and/or a layer having a concavo-convex pattern such as signal pits (hereinafter referred to as 2P layer). The present invention relates to a method for manufacturing an optical disc substrate with excellent performance.
【0002】0002
【従来の技術】光ディスクには、大きくわけて、再生専
用型、追記型、書換え可能型の3種類が知られており、
再生専用型及び追記型光ディスクは、既に様々な分野で
利用されている。書換え可能型光ディスクの開発も急速
に進展しており、とりわけ光磁気ディスクは本格的な実
用化時期を迎えようとしている。これらの光ディスク用
の基板材料には、ポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネートの如き熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂の如き熱硬
化性樹脂、あるいはガラスが一般に用いられている。ま
た、特に光磁気ディスク用基板材料として、低複屈折、
低吸水率といった特徴を有する新規なポリオレフィン系
の樹脂についても、盛んに研究が行われている。[Prior Art] Three types of optical discs are known: read-only type, write-once type, and rewritable type.
Read-only and write-once optical discs are already used in various fields. The development of rewritable optical disks is also progressing rapidly, and magneto-optical disks in particular are about to enter the period of full-scale practical use. As substrate materials for these optical disks, thermoplastic resins such as polymethyl methacrylate and polycarbonate, thermosetting resins such as epoxy resins, or glass are generally used. In addition, it is particularly useful as a substrate material for magneto-optical disks due to its low birefringence and
Active research is also being conducted on new polyolefin resins that have the characteristic of low water absorption.
【0003】多種多様かつ莫大な情報の伝達、加工、蓄
積が必要な昨今、記録媒体である光ディスクに求められ
る性能は、大容量化、データ転送の高速化、高信頼性で
あり、現在の光ディスクの研究の中心は、これらの点に
集中して行われている。これらの高度な性能を実現する
ためには、基板材料の果たす役割は非常に重要であり、
その意味でガラス基板に大きな期待が寄せられている。Nowadays, when it is necessary to transmit, process, and store a wide variety of enormous amounts of information, the performances required of optical disks as recording media are large capacity, high speed data transfer, and high reliability. The main focus of research is on these points. In order to achieve these advanced performances, the role played by the substrate material is extremely important.
In this sense, great expectations are placed on glass substrates.
【0004】例えば、大容量化は、基板の口径を大きく
することによって実現できるが、現在最も多く用いられ
ているポリカーボネート基板では口径 300mm程度
になると、ディスク回転時に面振れ等の機械特性が悪化
してしまい高速回転(3,600rpm以上)に対応す
るのは難しい。
また射出成形条件の制御が難しく、周方向の複屈折分布
が大きくなってしまう等の欠点がある。この点ガラスは
、最も機械特性に優れた基板材料であり、複屈折性もな
いため大口径化に有利である。[0004] For example, increasing capacity can be achieved by increasing the diameter of the substrate, but when the diameter of the polycarbonate substrate, which is currently most commonly used, is around 300 mm, mechanical properties such as surface runout deteriorate when the disk rotates. Therefore, it is difficult to support high-speed rotation (3,600 rpm or more). In addition, it is difficult to control injection molding conditions, and there are drawbacks such as increased birefringence distribution in the circumferential direction. In this respect, glass is a substrate material with the best mechanical properties and has no birefringence, so it is advantageous for increasing the diameter.
【0005】また、データ転送の高速化をはかる目的で
、ディスク回転速度を大きくする研究が行われており、
最近では5,000rpm以上の高速記録の実験も行わ
れている。この点においても、他のプラスチック製基板
と比較してガラス基板は動的機械特性が格段に優れてお
り、高回転速度記録にもガラス基板が最適と言える。[0005] Furthermore, in order to speed up data transfer, research is being conducted to increase the disk rotation speed.
Recently, experiments have been conducted on high-speed recording of 5,000 rpm or more. In this respect as well, glass substrates have much better dynamic mechanical properties than other plastic substrates, and glass substrates can be said to be optimal for high rotational speed recording.
【0006】さらに、高温高湿度下における安定性に優
れており、ガラス基板は最も信頼性の高い基板材料でも
ある。Furthermore, glass substrates are excellent in stability under high temperature and high humidity conditions, and are the most reliable substrate material.
【0007】光ディスク用基板には、一般にレーザービ
ームのガイド用の案内溝あるいはプリフォーマット信号
ピット等の凹凸パターンが、あらかじめ形成されている
が、ガラス基板の場合、2P樹脂を用いて凹凸パターン
を形成する2P法が知られている。[0007] Generally, an uneven pattern such as a guide groove for guiding a laser beam or a preformat signal pit is formed in advance on an optical disk substrate, but in the case of a glass substrate, an uneven pattern is formed using 2P resin. The 2P method is known.
【0008】しかしながら、無機材料であるガラス上に
有機材料である2P樹脂を直接形成しても、両者の間に
は大きな接着力が得られないため、以下のような不都合
が生じる。即ち2P成形時において、ガラス基板をスタ
ンパー(電鋳法により原盤から転写されてできた成形用
金型)から剥離する際、硬化した2P樹脂の一部もしく
は全部がスタンパー側に残ってしまったり、あるいはガ
ラス基板上に形成された2P層の一部にウキ(ガラス基
板と2P層の間に生じる空気層)が頻発する。また、2
P成形時は良好であっても高温高湿中において経時的に
クラック、シワ、ウキが発生してしまう。However, even if the 2P resin, which is an organic material, is directly formed on the glass, which is an inorganic material, a large adhesion force cannot be obtained between the two, resulting in the following disadvantages. That is, during 2P molding, when the glass substrate is peeled off from the stamper (a molding die created by transferring from the master disk by electroforming), some or all of the cured 2P resin may remain on the stamper side. Alternatively, floats (an air layer formed between the glass substrate and the 2P layer) frequently occur in a part of the 2P layer formed on the glass substrate. Also, 2
Even if P is well formed during molding, cracks, wrinkles, and flakes will occur over time under high temperature and high humidity conditions.
【0009】上記の欠点を改善する目的で、これまでガ
ラスと2P樹脂との間の接着力を向上させるための検討
が種々行われてきている。それらの検討の中で最も広く
知られている方法は、ガラス基板上に各種シランカップ
リング剤を有機溶剤で希釈したプライマーの塗膜を形成
する方法であり、以下のような例が過去に報告されてい
る。In order to improve the above-mentioned drawbacks, various studies have been made to improve the adhesive strength between glass and 2P resin. The most widely known method among these studies is to form a coating film of a primer made by diluting various silane coupling agents with an organic solvent on a glass substrate, and the following examples have been reported in the past. has been done.
【0010】例えば、特開昭62−139150号公報
には、ガラス基板とエポキシ系樹脂層との間に、トルエ
ンで希釈したアミノシラン系プライマー層を設けること
により、両者間の接着強度が増大することが示されてい
る。For example, JP-A-62-139150 discloses that by providing an aminosilane primer layer diluted with toluene between a glass substrate and an epoxy resin layer, the adhesive strength between the two is increased. It is shown.
【0011】また、特開昭59−65953号公報には
、シランカップリング剤として、沸点が200℃以上で
、アクリル基又はメタクリル基を有するものを用い、沸
点が120〜200℃の芳香族炭化水素、エーテル系、
ケトン系、エステル系、多価アルコールエステル系溶剤
のうちの少なくとも一種類以上の溶剤で希釈し、さらに
有機酸を加えたプライマーが有効であることが示されて
いる。[0011] Furthermore, JP-A No. 59-65953 discloses that a silane coupling agent having a boiling point of 200°C or higher and having an acrylic group or a methacrylic group is used, and an aromatic carbonization agent having a boiling point of 120 to 200°C is used. Hydrogen, ether type,
It has been shown that a primer diluted with at least one of ketone, ester, and polyhydric alcohol ester solvents and further added with an organic acid is effective.
【0012】更に、特開平1−248335号公報には
、エテン系不飽和シランをメチルアルコールで希釈した
プライマーが有効であることが示されている。Furthermore, JP-A-1-248335 discloses that a primer prepared by diluting ethene-based unsaturated silane with methyl alcohol is effective.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の方法は
いずれも、ガラス基板と2P樹脂との間の接着性向上に
ある程度の効果が認められる。しかしながら、成形性に
優れた、即ち流動性が良好(700cps以下)で、硬
化後スタンパーからの剥離性の良い2P樹脂を用いて連
続2P成形を行なった場合、部分的にウキが発生するも
のや、「セロテープ」(ニチバン社製のセロファン粘着
テープ)を使用した碁盤目剥離試験(JIS、K540
0、8.52、種規格)において、残膜率({全正方形
面積−はがれの面積}÷全正方形面積)が90%以下の
不良品が発生してしまうことがある。これらは、ガラス
基板と2P樹脂との間の初期接着性が、不十分なことか
ら発生する問題である。また、この初期接着強度の弱さ
故に、スタンパーからの剥離の際、2P層に微小な起伏
が生じるために、軸方向加速度が規格外(20m/秒2
)となる不良品が発生する場合もある。[Problems to be Solved by the Invention] All of the conventional methods described above are effective to some extent in improving the adhesiveness between the glass substrate and the 2P resin. However, when continuous 2P molding is performed using a 2P resin that has excellent moldability, that is, good flowability (700 cps or less) and good peelability from the stamper after curing, floating may occur in some areas. , a checkerboard peel test using "Cellotape" (cellophane adhesive tape manufactured by Nichiban Co., Ltd.) (JIS, K540)
0, 8.52, species standard), defective products with a residual film rate ({total square area - peeling area} ÷ total square area) of 90% or less may be produced. These problems arise from insufficient initial adhesion between the glass substrate and the 2P resin. In addition, due to this weak initial adhesive strength, minute undulations occur in the 2P layer when it is peeled off from the stamper, so the axial acceleration exceeds the standard (20 m/s 2
) In some cases, defective products may occur.
【0014】さらに、初期の接着強度が良好であっても
、高温高湿中(例えば80℃、85%RH)において経
時的にクラック、シワ、ウキが発生してしまう場合もあ
る。Furthermore, even if the initial adhesive strength is good, cracks, wrinkles, and flakes may occur over time under high temperature and high humidity conditions (for example, 80° C. and 85% RH).
【0015】以上のように、前記した従来のガラス基板
上にプライマー処理を施す方法では、ガラス基板と2P
樹脂との間の接着強度は不十分で、連続成形を行なう際
の不良品発生率が高くなってしまうという問題点があっ
た。As described above, in the conventional method of performing primer treatment on the glass substrate, the glass substrate and the 2P
There was a problem in that the adhesive strength between the resin and the resin was insufficient, resulting in a high incidence of defective products during continuous molding.
【0016】本発明が解決しようとする課題は、光学的
に透明性を有する基板上に2P樹脂から成る案内溝及び
/又はプリフォーマット信号ピット等の凹凸パターンを
有する層を設けた光ディスク用基板の、基板と2P樹脂
との間の接着強度を増大し、2P法の連続成形時におけ
る不良品発生率を低減するとともに、高温高湿中におい
ても、ガラス基板と2P樹脂との間の接着強度が低下す
ることのない、信頼性の高い光ディスク用基板の製造方
法を提供することにある。The problem to be solved by the present invention is to provide an optical disk substrate in which a layer having a concavo-convex pattern such as guide grooves and/or preformat signal pits made of 2P resin is provided on an optically transparent substrate. This increases the adhesive strength between the substrate and the 2P resin, reduces the incidence of defective products during continuous molding using the 2P method, and increases the adhesive strength between the glass substrate and the 2P resin even under high temperature and high humidity. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a highly reliable optical disk substrate that does not deteriorate.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、光学的に透明性を有する基板上にプライマ
ー層を形成し、このプライマー層上に光硬化性樹脂(2
P樹脂)から成る案内溝及び/又は信号ピットの凹凸パ
ターンを有する層(2P層)を形成する光ディスク用基
板の製造方法において、上記プライマー層が、メタクリ
ル基を有するアルコキシシラン、アクリル酸エステル及
び光重合開始剤を含有する紫外線硬化型プライマー塗料
を基板上に2回以上スピンコートし、紫外線を照射した
後、焼付けを行なうことによって形成されることを特徴
とする光ディスク用基板の製造方法を提供する。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention forms a primer layer on an optically transparent substrate, and coats a photocurable resin (2
In the method for manufacturing an optical disk substrate, the primer layer forms a layer (2P layer) having a concavo-convex pattern of guide grooves and/or signal pits made of P resin), wherein the primer layer is made of alkoxysilane having a methacrylic group, an acrylic ester, and a light Provided is a method for producing a substrate for an optical disk, which is formed by spin-coating an ultraviolet curable primer coating containing a polymerization initiator on the substrate two or more times, irradiating it with ultraviolet rays, and then baking it. .
【0018】第1図は、本発明による光ディスク用基板
の断面図である。この図において、1はディスク状のガ
ラス基板、2はメタクリル基を有するアルコキシシラン
、アクリル酸エステル及び光重合開始剤を含有する紫外
線硬化型プライマー塗料から成るプライマー層、3は2
P法により2P樹脂から成る案内溝及び/又は信号ピッ
ト等の凹凸パターンを形成した層(2P層)を示してい
る。FIG. 1 is a sectional view of an optical disk substrate according to the present invention. In this figure, 1 is a disk-shaped glass substrate, 2 is a primer layer consisting of an ultraviolet curable primer coating containing an alkoxysilane having a methacrylic group, an acrylic acid ester, and a photopolymerization initiator, and 3 is a 2
It shows a layer (2P layer) in which a concavo-convex pattern such as guide grooves and/or signal pits made of 2P resin is formed by the P method.
【0019】ガラス基板1には、化学強化したソーダラ
イムガラスあるいはソーダアルミノ珪酸ガラスの如きガ
ラスが適しており、ディスク状に加工したものが用いら
れる。Glass such as chemically strengthened soda lime glass or soda aluminosilicate glass is suitable for the glass substrate 1, and a disk-shaped glass is used.
【0020】ガラス基板は、表面に付着した有機物ある
いは埃等を除去する目的で、プライマー層2を形成する
直前に、洗浄を行なう。洗浄方法としては、4〜8漕連
続式の自動洗浄装置を用いた、純水及び洗剤中でのスク
ラブ洗浄、超純水洗浄等が有効である。この洗浄を施す
ことにより、ガラス基板表面上の有機物及び埃等は除去
される。[0020] The glass substrate is cleaned immediately before forming the primer layer 2 in order to remove organic matter or dust adhering to the surface. Effective cleaning methods include scrub cleaning in pure water and detergent, ultrapure water cleaning, etc. using a 4 to 8 continuous automatic cleaning device. By performing this cleaning, organic substances, dust, etc. on the surface of the glass substrate are removed.
【0021】プライマー層2は、メタクリル基を有する
アルコキシシランとアクリル酸エステルと光重合開始剤
を含有する紫外線硬化型プライマー塗料を2回以上スピ
ンコートし、紫外線を照射した後、100〜200℃の
温度範囲内で焼付けを行なうことによって形成される。Primer layer 2 is formed by spin-coating an ultraviolet curable primer paint containing an alkoxysilane having a methacrylic group, an acrylic acid ester, and a photopolymerization initiator two or more times, irradiating it with ultraviolet light, and then applying it at a temperature of 100 to 200°C. Formed by baking within a temperature range.
【0022】本発明で使用するアクリル酸エステルとし
ては、例えば、アジピン酸プロピレンオキシドアクリル
酸、トリメット酸ジエチレングリコールアクリル酸の如
きポリエステルアクリレート;ビスフェノールAエピク
ロルヒドリンアクリル酸、フェノールノボラックエピク
ロルヒドリンアクリル酸の如きエポキシアクリレート;
エチレングリコールアジピン酸トリレンジイソシアネー
ト2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレング
リコールトリレンジイソシアネート2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートの如きウレタンアクリレート;2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレ
ート、ノニルフェノキシエチルアクリレートの如き単官
能アクリレートモノマー;ジエチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、3
−メチルペンタンジオールジアクリレートの如き2官能
アクリレートモノマー;トリメチロールプロパントリア
クリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの如き3官能以上の多官能アクリレートモノマー
等が挙げられる。Examples of the acrylic ester used in the present invention include polyester acrylates such as propylene oxide adipic acrylic acid and diethylene glycol acrylic trimetate; epoxy acrylates such as bisphenol A epichlorohydrin acrylic acid and phenol novolak epichlorohydrin acrylic acid;
Urethane acrylates such as ethylene glycol adipate tolylene diisocyanate 2-hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol tolylene diisocyanate 2-hydroxyethyl acrylate; monofunctional acrylate monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate; diethylene glycol Diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 3
- Bifunctional acrylate monomers such as methylpentanediol diacrylate; trifunctional or higher functional acrylate monomers such as trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol propionate tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
【0023】これらのアクリル酸エステルは、単独ある
いは二種以上を混合して用いることができる。These acrylic esters can be used alone or in combination of two or more.
【0024】紫外線硬化型プライマー塗料中のアルコキ
シシランの配合割合は、1〜10重量%の範囲が好まし
く、アクリル酸エステルの配合割合は、80〜98重量
%の範囲が好ましく、光重合開始剤の配合割合は、1〜
10重量%の範囲が好ましい。The blending ratio of alkoxysilane in the UV-curable primer paint is preferably in the range of 1 to 10% by weight, the blending ratio of acrylic ester is preferably in the range of 80 to 98% by weight, and the blending ratio of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 80 to 98% by weight. The blending ratio is 1~
A range of 10% by weight is preferred.
【0025】また、プライマー構成材料の流動性を向上
させる目的で、有機溶媒を加えることもできる。[0025] Furthermore, an organic solvent may be added for the purpose of improving the fluidity of the primer constituent material.
【0026】プライマー層構成材料に添加することので
きる有機溶媒としては、前記したアクリル酸エステルと
混合した場合に均一な溶液となり、流動性が向上するこ
とが必要であり、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼ
ンの如き芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケ
トンの如きケトン類;酢酸エチル、酢酸n−ブチルの如
きエステル類;エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ールの如きアルコール類等が挙げられる。これらの有機
溶媒は、単独あるいは二種以上を混合して用いることが
できる。The organic solvent that can be added to the material constituting the primer layer must be capable of forming a uniform solution and improving fluidity when mixed with the above-mentioned acrylic ester, such as toluene, xylene, Examples include aromatic hydrocarbons such as benzene; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; alcohols such as ethyl alcohol and isopropyl alcohol. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
【0027】プライマー層の塗布は、スピンコート法、
ディッピング法、スプレー法の如き公知の塗布法を用い
ることができるが、量産性が高く、均一な塗膜の形成が
容易な点でスピンコート法が最適である。またスピンコ
ート法で塗膜を形成する場合には、そのままガラス基板
を回転させておくことにより、塗布液を乾燥することが
できる。このスピンコートを2回以上連続して行なうこ
とにより、ガラス基板表面に均一なプライマー層が形成
され、ガラスに対する2P樹脂層3の接着力のむらが無
くなる。これにより、スピンコート1回のみの場合と比
べると、2P法の連続成形時における不良品発生率が非
常に低減される。[0027] The primer layer can be applied by spin coating,
Although known coating methods such as dipping and spraying methods can be used, spin coating is most suitable since it is highly mass-producible and can easily form a uniform coating film. Further, when forming a coating film by a spin coating method, the coating liquid can be dried by keeping the glass substrate rotating. By performing this spin coating two or more times in succession, a uniform primer layer is formed on the surface of the glass substrate, and unevenness in the adhesive force of the 2P resin layer 3 to the glass is eliminated. As a result, the incidence of defective products during continuous molding using the 2P method is greatly reduced compared to when spin coating is performed only once.
【0028】プライマー構成材料を塗布し、常温、常湿
において乾燥(スピン乾燥)し、紫外線を照射してアク
リル酸エステルを硬化させた後、焼付けを行なう。焼付
けは、空気中で100〜200℃で10〜60分程度行
なうのが好ましい。常温、常湿においてある程度乾燥す
る前に、この焼付けを行なうと、塗布溶液の急激な温度
上昇及び蒸発が起こるために、形成されるプライマー層
が不均一なものになってしまう。The primer constituent material is applied, dried (spin dried) at room temperature and humidity, irradiated with ultraviolet rays to harden the acrylic ester, and then baked. The baking is preferably carried out in air at 100 to 200°C for about 10 to 60 minutes. If this baking is performed before the coating has dried to some extent at room temperature and humidity, the coating solution will rapidly rise in temperature and evaporate, resulting in a non-uniform primer layer.
【0029】2P樹脂から成る2P層3は、2P法によ
り、以下のプロセスで形成される。即ち、レーザービー
ムをガイドする為の案内溝あるいはプリフォーマット信
号ピット等の凹凸パターンが形成されたスタンパー(電
鋳法により原盤から転写されてできた成形用金型)上に
、液状の2P樹脂を塗布し、シランカップリング剤から
成るプライマー層2を形成した面が、スタンパー側にな
るようにガラス基板1を配置し、加圧して未硬化の2P
樹脂を押し広げ、ガラス基板側から紫外光を照射して2
P樹脂を硬化させた後、スタンパーから剥離することに
より、所望の凹凸パターンを有する2P層3を形成する
。The 2P layer 3 made of 2P resin is formed by the following process using the 2P method. That is, liquid 2P resin is placed on a stamper (a molding die made by transferring from a master disk by electroforming) on which a concavo-convex pattern such as a guide groove for guiding a laser beam or a preformat signal pit is formed. The glass substrate 1 is placed so that the surface on which the primer layer 2 made of a silane coupling agent is formed faces the stamper side, and the uncured 2P is applied with pressure.
2. Spread the resin and irradiate it with ultraviolet light from the glass substrate side.
After the P resin is cured, it is peeled off from the stamper to form a 2P layer 3 having a desired uneven pattern.
【0030】本発明の2P層を形成する際に使用する2
P樹脂としては、例えば、光ラジカル重合可能なプレポ
リマー、モノマー及び光ラジカル重合開始剤を主成分と
する光ラジカル重合組成物;光カチオン重合可能なプレ
ポリマー、モノマー、及び光カチオン重合開始剤を主成
分とする光カチオン重合組成物;光ラジカル重合組成物
及び光カチオン重合組成物を混合した組成物、等の紫外
光により硬化する組成物であって、硬化後のスタンパー
からの剥離性、凹凸パターンの転写性及び耐湿熱性が良
好なものであれば、特に制限なく使用することができる
。2 used when forming the 2P layer of the present invention
Examples of the P resin include, for example, a photo-radical polymerization composition containing a photo-radical polymerizable prepolymer, a monomer, and a photo-radical polymerization initiator as main components; A composition that is cured by ultraviolet light, such as a photo-cationic polymerization composition as a main component; a composition that is a mixture of a photo-radical polymerization composition and a photo-cationic polymerization composition; As long as it has good pattern transferability and moist heat resistance, it can be used without any particular restrictions.
【0031】[0031]
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて、本発明を
更に詳細に説明する。EXAMPLES The present invention will be explained in more detail below using Examples and Comparative Examples.
【0032】(実施例1)まず、外径130mm、内径
15mm、厚さ1.1mmの、ソーダアルミノ珪酸ガラ
ス基板を、5漕式の自動洗浄装置を用いて、純水及び洗
剤中でスクラブ洗浄、超純水中での超音波洗浄を施すこ
とにより、ガラス基板表面上の有機物及び埃を除去した
。(Example 1) First, a soda aluminosilicate glass substrate with an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 15 mm, and a thickness of 1.1 mm was scrub-cleaned in pure water and detergent using a five-coat automatic cleaning device. Organic substances and dust on the surface of the glass substrate were removed by ultrasonic cleaning in ultrapure water.
【0033】洗浄後30分以内に、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン3.0重量%、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート40重量%、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルアクリレート30重量%
、キシレン25.0重量%、ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン2.0重量%から成るプライマー塗料を
、ガラス基板上にスピンコート法により以下の(1)、
(2)のように回転速度を2段階に変えて塗布した。Within 30 minutes after washing, 3.0% by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 40% by weight of 1,6-hexanediol diacrylate, and 30% by weight of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate.
A primer paint consisting of 25.0% by weight of xylene and 2.0% by weight of hydroxycyclohexylphenyl ketone was applied onto a glass substrate by a spin coating method to prepare the following (1):
Coating was carried out by changing the rotational speed in two stages as in (2).
【0034】(スピンコート条件)
(1) 低速回転 : 60rpm、14秒(プ
ライマー塗出 : 10秒)
(2) 高速回転 : 2,800rpm、30
秒(Spin coating conditions) (1) Low speed rotation: 60 rpm, 14 seconds (primer application: 10 seconds) (2) High speed rotation: 2,800 rpm, 30 seconds
seconds
【0035】上記(1)、(2)を2回繰り返して、
プライマー塗料の塗布及び乾燥を行なった後、紫外線を
30mW/cm2で20秒間照射して、プライマー層を
硬化させた。続いて、クリンオ−ブン内で、100℃、
1時間の焼付け処理をした。[0035] Repeating the above (1) and (2) twice,
After the primer coating was applied and dried, the primer layer was cured by irradiating ultraviolet light at 30 mW/cm2 for 20 seconds. Then, in a clean oven at 100℃,
I baked it for 1 hour.
【0036】上記方法によりプライマー層を形成した2
00枚のガラス基板のプライマー層形成面上に、2P成
形機(大日本インキ化学工業(株)製)を用いて連続成
形を行い、2P樹脂層を形成した。この場合、2P樹脂
として、「STM−401」(大日本インキ化学工業(
株)製)を用いた。[0036] Primer layer formed by the above method 2
A 2P resin layer was formed on the primer layer forming surface of 00 glass substrates by continuous molding using a 2P molding machine (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.). In this case, "STM-401" (Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.) is used as the 2P resin.
Co., Ltd.) was used.
【0037】50枚総てのガラス基板において、成形状
態は良好で、2P成形時において、ガラス基板をスタン
パーから剥離する際、硬化した2P樹脂の一部もしくは
全部がスタンパー側に残ることもなく、またガラス基板
上に形成された2P層の一部にウキ(ガラス基板と2P
層の間に生じる空気層)が生じることも無かった。All 50 glass substrates were in good molding condition, and during 2P molding, when the glass substrates were peeled off from the stamper, no part or all of the cured 2P resin remained on the stamper side. Also, a part of the 2P layer formed on the glass substrate is floating (glass substrate and 2P layer).
There was no formation of air spaces between the layers.
【0038】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、「セロテープ」を用いた碁盤目剥離試験
(JIS、D−202、8.121種規格)を行なった
結果、50枚総てのガラス基板で、残膜率は100%で
あった。In order to evaluate the initial adhesion between the 2P resin layer and the glass substrate, a cross-cut peeling test (JIS, D-202, 8.121 type standard) using "cellotape" was conducted, and a total of 50 sheets were tested. The remaining film rate was 100% for all glass substrates.
【0039】また、80℃、85%RH、2,000時
間の耐湿熱試験後においても、50枚総てのガラス基板
で、残膜率は100%で、2P樹脂層には、クラック、
シワ、ウキの発生は見られなかった。Furthermore, even after a heat and humidity test at 80° C., 85% RH, for 2,000 hours, the remaining film rate was 100% on all 50 glass substrates, and there were no cracks or cracks in the 2P resin layer.
No wrinkles or flakes were observed.
【0040】(実施例2)実施例1において、ソーダア
ルミノ珪酸ガラスに代えて、ソーダライムガラスを用い
た以外は、実施例1と同様にしてガラス基板上にプライ
マー層及び2P樹脂層を形成した結果、50枚総てのガ
ラス基板において、成形状態が良好であった。(Example 2) A primer layer and a 2P resin layer were formed on a glass substrate in the same manner as in Example 1, except that soda lime glass was used instead of soda aluminosilicate glass in Example 1. As a result, all 50 glass substrates were in good molding condition.
【0041】実施例1と同様にして、碁盤目剥離試験を
行なった結果、50枚総てのガラス基板で、残膜率は1
00%であった。また、80℃、85%RH、2,00
0時間の耐湿熱試験後における碁盤目剥離試験の結果は
、48枚が残膜率100%、2枚が残膜率90%以上1
00未満であり、2P樹脂層には、総ての基板において
、クラック、シワ、ウキの発生は見られなかった。As a result of carrying out a checkerboard peeling test in the same manner as in Example 1, the remaining film rate was 1 for all 50 glass substrates.
It was 00%. Also, 80℃, 85%RH, 2,000℃
The results of the cross-cut peeling test after the 0-hour heat and humidity test were as follows: 48 sheets had a residual film rate of 100%, and 2 sheets had a residual film rate of 90% or more1.
00, and no cracks, wrinkles, or flakes were observed in the 2P resin layer on any of the substrates.
【0042】(比較例1)実施例1において、プライマ
ー塗料の塗装回数を1回にした以外は、実施例1と同様
にしてガラス基板上にプライマー層及び2P樹脂層を形
成した結果、50枚総てのガラス基板において、成形状
態が良好で、2P成形時において、ガラス基板をスタン
パーから剥離する際、硬化した2P樹脂の一部もしくは
全部がスタンパー側に残ることもなく、またガラス基板
上に形成された2P層の一部にウキ(ガラス基板と2P
層の間に生じる空気層)が生じることも無かった。(Comparative Example 1) A primer layer and a 2P resin layer were formed on a glass substrate in the same manner as in Example 1 except that the number of times the primer paint was applied was changed to one time. As a result, 50 sheets All of the glass substrates were molded in good condition, and during 2P molding, when the glass substrate was peeled off from the stamper, part or all of the cured 2P resin did not remain on the stamper side, and there was no residue on the glass substrate. Floating on a part of the formed 2P layer (glass substrate and 2P layer)
There was no formation of air spaces between the layers.
【0043】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、22枚が残膜率100%、21枚が残膜
率90%以上100%未満、7枚が残膜率80%以上9
0%未満であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a checkerboard peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, 22 sheets had a residual film rate of 100%, and 21 sheets had a residual film rate of 100%. 90% or more and less than 100%, 7 sheets have a residual film rate of 80% or more 9
It was less than 0%.
【0044】また、80℃、85%RH、2,000時
間の耐湿熱試験後における碁盤目剥離試験の結果は、3
8枚が残膜率90%以上100%未満、11枚が残膜率
80%以上90%未満で、1枚が残膜率60%以上70
%未満であった。また、18枚の基板で、2P樹脂層に
ウキの発生が認めらられた。[0044] Also, the results of the cross-cut peeling test after the heat and humidity test at 80°C, 85% RH for 2,000 hours were 3.
8 sheets have a residual film rate of 90% or more and less than 100%, 11 sheets have a residual film rate of 80% or more and less than 90%, and 1 sheet has a residual film rate of 60% or more and 70%.
%. Furthermore, on 18 substrates, the occurrence of flaking was observed in the 2P resin layer.
【0045】(比較例2)比較例1において、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン3.0重量%、
トルエン97.0重量%から成るプライマー塗料を使用
し、20枚のガラス基板を使用した以外は、比較例1と
同様にしてガラス基板上にプライマー層及び2P樹脂層
を形成した結果、20枚のガラス基板中、成形状態が良
好であったのは11枚で、9枚のガラス基板は、2P成
形時にスタンパーから剥離する際、硬化した2P樹脂の
一部がスタンパー側に残ってしまった。(Comparative Example 2) In Comparative Example 1, 3.0% by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane,
A primer layer and a 2P resin layer were formed on a glass substrate in the same manner as in Comparative Example 1, except that a primer paint consisting of 97.0% by weight of toluene was used and 20 glass substrates were used. Among the glass substrates, 11 were in good molding condition, and in 9 glass substrates, when they were peeled off from the stamper during 2P molding, a part of the hardened 2P resin remained on the stamper side.
【0046】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、20枚総てのガラス基板で、残膜率は2
0%以下であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a grid peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the remaining film rate was 2 for all 20 glass substrates.
It was 0% or less.
【0047】(比較例3)比較例1において、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン2.0重量%、
酢酸−n−ブチル98.0重量%から成るプライマー塗
料を使用し、20枚のガラス基板を使用した以外は比較
例1と同様にしてガラス基板上にプライマー層及び2P
樹脂層を形成した結果、20枚のガラス基板中、成形状
態が良好であったのは13枚で、7枚のガラス基板は、
2P成形時にスタンパーから剥離する際、硬化した2P
樹脂の一部がスタンパー側に残ってしまった。(Comparative Example 3) In Comparative Example 1, 2.0% by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane,
A primer layer and 2P were formed on a glass substrate in the same manner as in Comparative Example 1, except that a primer paint consisting of 98.0% by weight of n-butyl acetate was used and 20 glass substrates were used.
As a result of forming the resin layer, 13 of the 20 glass substrates had good molding conditions, and 7 glass substrates had good molding conditions.
When peeling off from the stamper during 2P molding, the hardened 2P
Some of the resin remained on the stamper side.
【0048】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、20枚総てのガラス基板で、残膜率は2
0%以下であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a grid peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the residual film rate was 2 for all 20 glass substrates.
It was 0% or less.
【0049】(比較例4)比較例1において、N−β(
アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
2.0重量%、エチルアルコール98.0重量%から成
るプライマー塗料を使用した以外は、比較例1と同様に
してガラス基板上にプライマー層及び2P樹脂層を形成
した結果、50枚のガラス基板中、成形状態が良好であ
ったのは42枚で、8枚のガラス基板は、2P成形時に
スタンパーから剥離する際、硬化した2P樹脂の一部が
スタンパー側に残ってしまった。(Comparative Example 4) In Comparative Example 1, N-β(
A primer layer and a 2P resin layer were formed on a glass substrate in the same manner as in Comparative Example 1, except that a primer paint consisting of 2.0% by weight of γ-aminopropyltrimethoxysilane and 98.0% by weight of ethyl alcohol was used. As a result, out of 50 glass substrates, 42 were in good molding condition, and 8 glass substrates had some of the hardened 2P resin on the stamper when peeled off from the stamper during 2P molding. I remained on the side.
【0050】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、8枚が残膜率80%以上90%未満、1
0枚が残膜率70%以上80%未満、32枚が残膜率7
0%未満であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a grid peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, 8 sheets had a residual film rate of 80% or more and less than 90%, 1
0 sheets have a residual film rate of 70% or more and less than 80%, 32 sheets have a residual film rate of 7
It was less than 0%.
【0051】また、80℃、85%RH、2,000時
間の耐湿熱試験後の碁盤目剥離試験の結果は、50枚総
てのガラス基板で、残膜率は50%以下であった。また
32枚の基板で、2P樹脂層にウキの発生が認められた
。[0051] Furthermore, as a result of the cross-cut peel test after the heat and humidity test at 80°C, 85% RH, for 2,000 hours, the residual film rate was 50% or less for all 50 glass substrates. Furthermore, in 32 substrates, the occurrence of flaking was observed in the 2P resin layer.
【0052】(比較例5)実施例1において、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン2.0重量%、エチルア
ルコール98.0重量%の混合溶液から成るプライマー
塗料を使用した以外は実施例1と同様にしてガラス基板
上にプライマー層及び2P樹脂層を形成した結果、50
枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは40枚
で、10枚のガラス基板は、2P成形時にスタンパーか
ら剥離する際、硬化した2P樹脂の一部がスタンパー側
に残ってしまった。(Comparative Example 5) Same as Example 1 except that a primer paint consisting of a mixed solution of 2.0% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane and 98.0% by weight of ethyl alcohol was used. As a result of forming a primer layer and a 2P resin layer on a glass substrate,
Among the glass substrates, 40 were in good molding condition, and on 10 glass substrates, when they were peeled off from the stamper during 2P molding, some of the hardened 2P resin remained on the stamper side. .
【0053】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、6枚が残膜率80%以上90%未満、1
0枚が残膜率70%以上80%未満、34枚が残膜率7
0%未満であった。In order to evaluate the initial adhesion between the 2P resin layer and the glass substrate, a checkerboard peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, 6 sheets had a residual film rate of 80% or more and less than 90%, 1
0 sheets have a residual film rate of 70% or more and less than 80%, 34 sheets have a residual film rate of 7
It was less than 0%.
【0054】また、80℃、85%RH、2,000時
間の耐湿熱試験後の碁盤目剥離試験の結果は、50枚総
てのガラス基板で、残膜率は50%以下であった。また
38枚の基板で、2P樹脂層にウキの発生が認められた
。[0054] Furthermore, the results of the cross-cut peel test after the heat and humidity test at 80°C, 85% RH for 2,000 hours showed that the remaining film rate was 50% or less for all 50 glass substrates. Furthermore, on 38 substrates, the occurrence of flaking was observed in the 2P resin layer.
【0055】(比較例6)比較例1において、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン2.0重量%、エ
チルアルコール98.0重量%から成るプライマー塗料
を使用し、20枚のガラス基板を使用した以外は、比較
例1と同様にしてガラス基板上にプライマー層及び2P
樹脂層を形成した結果、20枚のガラス基板中、成形状
態が良好であったのは6枚で、14枚のガラス基板は、
2P成形時にスタンパーから剥離する際、硬化した2P
樹脂の一部がスタンパー側に残ってしまった。(Comparative Example 6) In Comparative Example 1, a primer paint consisting of 2.0% by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 98.0% by weight of ethyl alcohol was used, and 20 glass substrates were used. A primer layer and 2P were formed on a glass substrate in the same manner as in Comparative Example 1, except that
As a result of forming the resin layer, 6 out of 20 glass substrates had a good molding condition, and 14 glass substrates had a good molding condition.
When peeling off from the stamper during 2P molding, the hardened 2P
Some of the resin remained on the stamper side.
【0056】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、20枚総てのガラス基板で、残膜率は2
0%以下であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a grid peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the remaining film rate was 2 for all 20 glass substrates.
It was 0% or less.
【0057】(比較例7)比較例1において、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン2.0重量%、メチ
ルアルコール98.0重量%から成るプライマー塗料を
使用し、20枚のガラス基板を使用した以外は、比較例
1と同様にしてガラス基板上にプライマー層及び2P樹
脂層を形成した結果、20枚のガラス基板中、成形状態
が良好であったのは6枚で、14枚のガラス基板は、2
P成形時にスタンパーから剥離する際、硬化した2P樹
脂の一部がスタンパー側に残ってしまった。(Comparative Example 7) Comparative Example 1 except that a primer paint consisting of 2.0% by weight of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and 98.0% by weight of methyl alcohol was used, and 20 glass substrates were used. As a result of forming a primer layer and a 2P resin layer on a glass substrate in the same manner as in Comparative Example 1, 6 out of 20 glass substrates had a good molding condition, and 14 glass substrates had a good molding condition. ,2
When peeling off from the stamper during P molding, a portion of the cured 2P resin remained on the stamper side.
【0058】2P樹脂層とガラス基板との初期接着力を
評価するため、実施例1と同様にして碁盤目剥離試験を
行なった結果、50枚総てのガラス基板で、残膜率は2
0%以下であった。In order to evaluate the initial adhesive strength between the 2P resin layer and the glass substrate, a grid peel test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the remaining film rate was 2 for all 50 glass substrates.
It was 0% or less.
【0059】(比較例8)外径130mm、内径15m
m、厚さ1.1mmの、ソーダアルミノ珪酸ガラス基板
を、5漕式の自動洗浄装置を用いて、純水及び洗剤中で
スクラブ洗浄、超純水中での超音波洗浄を施すことによ
り、ガラス基板表面上の有機物及び埃を除去した。(Comparative Example 8) Outer diameter 130 mm, inner diameter 15 m
A soda aluminosilicate glass substrate with a thickness of 1.1 mm was subjected to scrub cleaning in pure water and detergent and ultrasonic cleaning in ultrapure water using a 5-row automatic cleaning device. Organic substances and dust on the surface of the glass substrate were removed.
【0060】洗浄後30分以内に、2P樹脂として、「
STM−401」(大日本インキ化学工業(株)製)を
用いて、2P成形機(大日本インキ化学工業(株)製)
により10枚の連続成形を行なった結果、総てのガラス
基板において、スタンパーから剥離する際、硬化した2
P樹脂の大部分がスタンパー側に残ってしまった。Within 30 minutes after washing, as a 2P resin,
STM-401'' (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd.) using a 2P molding machine (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals)
As a result of continuous molding of 10 sheets using
Most of the P resin remained on the stamper side.
【0061】[0061]
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ガラス基板
と2P樹脂との間の接着強度が増大し、2P法の連続成
形時における不良品発生率を低減するとともに、高温高
湿中においても、ガラス基板と2P樹脂との間の接着強
度が低下することのない、信頼性の高い光ディスク用基
板を提供することができる。[Effects of the Invention] According to the manufacturing method of the present invention, the adhesive strength between the glass substrate and the 2P resin is increased, and the incidence of defective products during continuous molding of the 2P method is reduced. Also, it is possible to provide a highly reliable optical disc substrate in which the adhesive strength between the glass substrate and the 2P resin does not decrease.
【図1】第1図は、本発明にかかわる光ディスク用基板
の基本構成を示した断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of an optical disk substrate according to the present invention.
【符号の説明】 1 ガラス基板 2 プライマー層 3 2P層[Explanation of symbols] 1 Glass substrate 2 Primer layer 3 2P layer
Claims (2)
イマー層を形成し、このプライマー層上に光硬化性樹脂
から成る案内溝及び/又は信号ピットの凹凸パターンを
有する層を形成する光ディスク用基板の製造方法におい
て、上記プライマー層が、メタクリル基を有するアルコ
キシシラン、アクリル酸エステル及び光重合開始剤を含
有する紫外線硬化型プライマー塗料を基板上に2回以上
スピンコートし、紫外線を照射した後、焼付けを行なう
ことによって形成されることを特徴とする光ディスク用
基板の製造方法。Claim 1: An optical disc for use in which a primer layer is formed on an optically transparent substrate, and a layer having an uneven pattern of guide grooves and/or signal pits made of a photocurable resin is formed on the primer layer. In the method for manufacturing a substrate, the primer layer is formed by spin-coating an ultraviolet curable primer paint containing an alkoxysilane having a methacrylic group, an acrylic acid ester, and a photopolymerization initiator on the substrate two or more times and irradiating it with ultraviolet rays. A method of manufacturing an optical disc substrate, characterized in that the substrate is formed by performing baking.
クリル基を有するアルコキシシランの含有量が1〜10
重量%の範囲にあり、アクリル酸エステルの含有量が8
0〜98重量%の範囲にあり、光重合開始剤の含有量が
1〜10重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1
記載の光ディスク用基板の製造方法。[Claim 2] The content of alkoxysilane having a methacrylic group in the UV-curable primer paint is 1 to 10.
% by weight, and the content of acrylic ester is 8
Claim 1 characterized in that the content of the photopolymerization initiator is in the range of 0 to 98% by weight, and the content of the photopolymerization initiator is in the range of 1 to 10% by weight.
The method for manufacturing the optical disc substrate described above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10005091A JPH04330650A (en) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | Production of substrate for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10005091A JPH04330650A (en) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | Production of substrate for optical disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04330650A true JPH04330650A (en) | 1992-11-18 |
Family
ID=14263674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10005091A Pending JPH04330650A (en) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | Production of substrate for optical disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04330650A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2136933A1 (en) * | 2007-04-12 | 2009-12-30 | Molecular Imprints, Inc. | Method for imprint lithography utilizing an adhesion primer layer |
WO2011066450A3 (en) * | 2009-11-24 | 2011-11-03 | Molecular Imprints, Inc. | Adhesion layers in nanoimprint lithography |
US8361546B2 (en) | 2008-10-30 | 2013-01-29 | Molecular Imprints, Inc. | Facilitating adhesion between substrate and patterned layer |
US8846195B2 (en) | 2005-07-22 | 2014-09-30 | Canon Nanotechnologies, Inc. | Ultra-thin polymeric adhesion layer |
-
1991
- 1991-05-01 JP JP10005091A patent/JPH04330650A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8846195B2 (en) | 2005-07-22 | 2014-09-30 | Canon Nanotechnologies, Inc. | Ultra-thin polymeric adhesion layer |
EP2136933A1 (en) * | 2007-04-12 | 2009-12-30 | Molecular Imprints, Inc. | Method for imprint lithography utilizing an adhesion primer layer |
EP2136933A4 (en) * | 2007-04-12 | 2011-01-26 | Molecular Imprints Inc | Method for imprint lithography utilizing an adhesion primer layer |
US8361546B2 (en) | 2008-10-30 | 2013-01-29 | Molecular Imprints, Inc. | Facilitating adhesion between substrate and patterned layer |
WO2011066450A3 (en) * | 2009-11-24 | 2011-11-03 | Molecular Imprints, Inc. | Adhesion layers in nanoimprint lithography |
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