JPH04270050A - 連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法 - Google Patents
連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法Info
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- JPH04270050A JPH04270050A JP3085891A JP3085891A JPH04270050A JP H04270050 A JPH04270050 A JP H04270050A JP 3085891 A JP3085891 A JP 3085891A JP 3085891 A JP3085891 A JP 3085891A JP H04270050 A JPH04270050 A JP H04270050A
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- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、連続鋳造プロセスにお
ける鋳型内湯面レベル制御方法に関するものである。
ける鋳型内湯面レベル制御方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】連続鋳造プロセスでは、鋳型内で急激で
大きい湯面変動が起こった場合、パウダーの巻き込みや
溶鋼流れの乱れを引き起こし、鋳片の表面疵や割れの発
生原因あるいはブレークアウトの発生原因となることが
知られ、これらの発生を防止するため、タンディッシュ
に設けたスライディングノズルやストッパにより注湯量
を制御し鋳型内の湯面レベルを一定に保つ湯面レベル制
御が従来より行われている。
大きい湯面変動が起こった場合、パウダーの巻き込みや
溶鋼流れの乱れを引き起こし、鋳片の表面疵や割れの発
生原因あるいはブレークアウトの発生原因となることが
知られ、これらの発生を防止するため、タンディッシュ
に設けたスライディングノズルやストッパにより注湯量
を制御し鋳型内の湯面レベルを一定に保つ湯面レベル制
御が従来より行われている。
【0003】従来の鋳型内湯面レベル制御は、例えばス
ライディングノズルを使用する場合は図6に装置の概念
図を示すように、鋳型16内に湯面レベルセンサ17を
設ける一方、タンディッシュ18底にスライディングノ
ズル19を介して浸漬ノズル20を設け、前記湯面レベ
ルセンサ17の検出信号を演算器21に入力しPI制御
またはPID制御を行うとともに、その演算結果をスラ
イディングノズル19の油圧シリンダ22に出力しスラ
イディングノズル19のノズル開度即ちタンディッシュ
18からの注湯量を調節して行っていた。
ライディングノズルを使用する場合は図6に装置の概念
図を示すように、鋳型16内に湯面レベルセンサ17を
設ける一方、タンディッシュ18底にスライディングノ
ズル19を介して浸漬ノズル20を設け、前記湯面レベ
ルセンサ17の検出信号を演算器21に入力しPI制御
またはPID制御を行うとともに、その演算結果をスラ
イディングノズル19の油圧シリンダ22に出力しスラ
イディングノズル19のノズル開度即ちタンディッシュ
18からの注湯量を調節して行っていた。
【0004】しかし、上記の鋳型内湯面レベル制御方法
では、上ノズル23、浸漬ノズル20等でのノズル詰ま
りや溶鋼の質(特に粘性)が原因となってPI制御また
はPID制御だけでは、鋳型内の湯面レベルを安定して
一定に保つことができない場合があることから、これを
改善してPIゲインパラメータの調整や、鋳込速度のフ
ィードフォワード制御が提案されている。そしてこれら
両者の鋳型内湯面レベル制御方法は、従来方法よりも湯
面変動がかなり抑制されそれなりの改善効果が認められ
るようである。〔CAMP−ISIJ Vol.2(
1989)−263 :連鋳モールド湯面の適応制御お
よびCAMP−ISIJ Vol.2(1988)−
160 :連鋳モールド湯面制御技術参照〕
では、上ノズル23、浸漬ノズル20等でのノズル詰ま
りや溶鋼の質(特に粘性)が原因となってPI制御また
はPID制御だけでは、鋳型内の湯面レベルを安定して
一定に保つことができない場合があることから、これを
改善してPIゲインパラメータの調整や、鋳込速度のフ
ィードフォワード制御が提案されている。そしてこれら
両者の鋳型内湯面レベル制御方法は、従来方法よりも湯
面変動がかなり抑制されそれなりの改善効果が認められ
るようである。〔CAMP−ISIJ Vol.2(
1989)−263 :連鋳モールド湯面の適応制御お
よびCAMP−ISIJ Vol.2(1988)−
160 :連鋳モールド湯面制御技術参照〕
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者等
も、これまで、鋳型内の湯面レベルを安定して一定に保
つべく開発を進めてきた。そして本発明者等は、開発に
際し、鋳片の引抜き速度による鋳型内湯面レベル制御方
法に着目した。この方法は、上述した所謂鋳型への注湯
量を制御して湯面レベルを制御する方法とは異なり、ス
ライディングノズルの機構的なガタや、ノズル内に介在
物等が付着した時になどに起こる流量係数(溶鋼の流れ
易さ)の変化等による湯面レベル制御の不安定さがなく
、安定した湯面が得られることが知られている。しかし
、連続鋳造される鋼種には、それぞれ最適な鋳片引抜き
速度が設定されており、この設定範囲を外れて引抜くこ
とは、十分な凝固時間が得られないために品質が劣ると
ともにブレークアウトの危険があり、従って鋳片の引抜
き速度による鋳型内湯面レベル制御方法では、大きい湯
面変動を抑えることができない。
も、これまで、鋳型内の湯面レベルを安定して一定に保
つべく開発を進めてきた。そして本発明者等は、開発に
際し、鋳片の引抜き速度による鋳型内湯面レベル制御方
法に着目した。この方法は、上述した所謂鋳型への注湯
量を制御して湯面レベルを制御する方法とは異なり、ス
ライディングノズルの機構的なガタや、ノズル内に介在
物等が付着した時になどに起こる流量係数(溶鋼の流れ
易さ)の変化等による湯面レベル制御の不安定さがなく
、安定した湯面が得られることが知られている。しかし
、連続鋳造される鋼種には、それぞれ最適な鋳片引抜き
速度が設定されており、この設定範囲を外れて引抜くこ
とは、十分な凝固時間が得られないために品質が劣ると
ともにブレークアウトの危険があり、従って鋳片の引抜
き速度による鋳型内湯面レベル制御方法では、大きい湯
面変動を抑えることができない。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した事情
に基づいてなされたものであって、鋳片の引抜き速度に
よる鋳型内湯面レベル制御方法の良い特性を使いつつ、
急激で大きい湯面変動にも対応できる鋳型内湯面レベル
制御方法を提供することを目的とするもので、その要旨
は、鋳型内の湯面レベル制御を、タンディッシュから鋳
型への注湯量を制御して行う注湯量制御システムと、凝
固した鋳片を鋳型から引抜く引抜き速度を制御して行う
引抜き速度制御システムとを併用して行うに際し、鋳型
内湯面レベルの目標値からの偏差を基準として、偏差が
大きい時は主として注湯量制御システムを使用し、偏差
が小さい時は主として引抜き速度制御システムを使用す
る連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法
である。
に基づいてなされたものであって、鋳片の引抜き速度に
よる鋳型内湯面レベル制御方法の良い特性を使いつつ、
急激で大きい湯面変動にも対応できる鋳型内湯面レベル
制御方法を提供することを目的とするもので、その要旨
は、鋳型内の湯面レベル制御を、タンディッシュから鋳
型への注湯量を制御して行う注湯量制御システムと、凝
固した鋳片を鋳型から引抜く引抜き速度を制御して行う
引抜き速度制御システムとを併用して行うに際し、鋳型
内湯面レベルの目標値からの偏差を基準として、偏差が
大きい時は主として注湯量制御システムを使用し、偏差
が小さい時は主として引抜き速度制御システムを使用す
る連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法
である。
【0007】
【作用】本発明方法では、鋳型内湯面レベル制御システ
ムとして注湯量制御システムと引抜き速度制御システム
とを備え、偏差の大小により両制御システムを使い分け
るので、大きい湯面変動が発生し難くなるとともに、発
生しても速やかに制御することができ、注湯量を制御し
て湯面レベルを制御する方法よりもより鋳型内の湯面レ
ベルを安定して一定に保つことができる。
ムとして注湯量制御システムと引抜き速度制御システム
とを備え、偏差の大小により両制御システムを使い分け
るので、大きい湯面変動が発生し難くなるとともに、発
生しても速やかに制御することができ、注湯量を制御し
て湯面レベルを制御する方法よりもより鋳型内の湯面レ
ベルを安定して一定に保つことができる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は、本発明方法を適用した連続鋳造プロセス
の概要図である。図において、1はタンディッシュ、2
はストッパ、3は鋳型、4は鋳片引抜きロール、5は湯
面レベル制御装置を示す。
する。図1は、本発明方法を適用した連続鋳造プロセス
の概要図である。図において、1はタンディッシュ、2
はストッパ、3は鋳型、4は鋳片引抜きロール、5は湯
面レベル制御装置を示す。
【0009】タンディッシュ1は、図外の取鍋等から溶
鋼6を受湯するとともに、その溶鋼6を浸漬ノズル7を
介して鋳型3へ注湯する。その際鋳型3への注湯量は、
ストッパ2を昇降駆動する油圧シリンダ8によりその開
度を調節して行われる。
鋼6を受湯するとともに、その溶鋼6を浸漬ノズル7を
介して鋳型3へ注湯する。その際鋳型3への注湯量は、
ストッパ2を昇降駆動する油圧シリンダ8によりその開
度を調節して行われる。
【0010】鋳型3内の湯面の上方近傍には、湯面レベ
ルセンサ9が設けられ、鋳造中の湯面の変動を検出する
。
ルセンサ9が設けられ、鋳造中の湯面の変動を検出する
。
【0011】鋳片引抜きロール4は、鋳型3内で凝固殻
が形成された鋳片を鋳型3の下方へ引抜くためのロール
であって、鋳型3の下方に鋳片ガイドロール(図示せず
)の後方に設けられている。
が形成された鋳片を鋳型3の下方へ引抜くためのロール
であって、鋳型3の下方に鋳片ガイドロール(図示せず
)の後方に設けられている。
【0012】湯面レベル制御装置5は、注湯量制御装置
10とエキスパートシステム11とで基本的に構成され
ている。
10とエキスパートシステム11とで基本的に構成され
ている。
【0013】注湯量制御装置10には湯面レベルセンサ
9からの湯面変動検出信号およびエキスパートシステム
11からの演算処理信号が入力され、その演算処理結果
に基づく注湯量の指示信号が油圧シリンダ8へ出力され
る。 この注湯量制御システムとしては、従来より用いられて
いるPI制御、PID制御、あるいはこれらのゲインを
上げた制御等が適宜使用される。
9からの湯面変動検出信号およびエキスパートシステム
11からの演算処理信号が入力され、その演算処理結果
に基づく注湯量の指示信号が油圧シリンダ8へ出力され
る。 この注湯量制御システムとしては、従来より用いられて
いるPI制御、PID制御、あるいはこれらのゲインを
上げた制御等が適宜使用される。
【0014】一方、エキスパートシステム11には湯面
レベルセンサ9からの湯面変動検出信号および鋳片引抜
きロール4からの引抜き速度信号が入力され、その演算
処理結果に基づく引抜き速度信号が鋳片引抜きロール4
へ、また演算処理信号が注湯量制御装置10へ出力され
る。このエキスパートシステム11では、上記湯面変動
検出信号および引抜き速度信号に加えて鋼種による引抜
き条件等が加味され、その演算処理結果に基づき引抜き
速度制御と注湯量制御の切り換えが行われる。
レベルセンサ9からの湯面変動検出信号および鋳片引抜
きロール4からの引抜き速度信号が入力され、その演算
処理結果に基づく引抜き速度信号が鋳片引抜きロール4
へ、また演算処理信号が注湯量制御装置10へ出力され
る。このエキスパートシステム11では、上記湯面変動
検出信号および引抜き速度信号に加えて鋼種による引抜
き条件等が加味され、その演算処理結果に基づき引抜き
速度制御と注湯量制御の切り換えが行われる。
【0015】上記引抜き速度制御と注湯量制御の切り換
えは、湯面レベルセンサ9により検出された湯面変動と
目標湯面レベルとの偏差の大きさにより行う。図2は偏
差の大きさを元にした切り換え基準を示す説明図で、偏
差が大きく±Cゾーンにある時は注湯量制御のみを行い
、偏差が小さく±Aゾーンにある時は引抜き速度制御の
みを行い、偏差がそれらの過渡状態の±Bゾーンにある
時は注湯量制御と引抜き速度制御を併用して行うように
切り換え制御する。
えは、湯面レベルセンサ9により検出された湯面変動と
目標湯面レベルとの偏差の大きさにより行う。図2は偏
差の大きさを元にした切り換え基準を示す説明図で、偏
差が大きく±Cゾーンにある時は注湯量制御のみを行い
、偏差が小さく±Aゾーンにある時は引抜き速度制御の
みを行い、偏差がそれらの過渡状態の±Bゾーンにある
時は注湯量制御と引抜き速度制御を併用して行うように
切り換え制御する。
【0016】そしてさらに、偏差が過渡状態の±Bゾー
ンにある時には、制御の切り換えを滑らかにし湯面に外
乱を与えないようにするため、両制御のゲイン調整が行
われる。即ち偏差が前回計測時にCゾーンにあった場合
、注湯量制御のゲインをそのまま保持または少し弱めに
し、引抜き速度制御のゲインを弱めにする。また前回計
測時にBゾーンにあった場合は、引抜き速度制御のゲイ
ンを相対的に高めに設定する。さらに前回計測時にAゾ
ーンにあった場合、上記Cゾーンにあった場合とは逆に
、引抜き速度制御のゲインをそのまま保持または少し弱
めにし、注湯量制御のゲインを弱めにする。
ンにある時には、制御の切り換えを滑らかにし湯面に外
乱を与えないようにするため、両制御のゲイン調整が行
われる。即ち偏差が前回計測時にCゾーンにあった場合
、注湯量制御のゲインをそのまま保持または少し弱めに
し、引抜き速度制御のゲインを弱めにする。また前回計
測時にBゾーンにあった場合は、引抜き速度制御のゲイ
ンを相対的に高めに設定する。さらに前回計測時にAゾ
ーンにあった場合、上記Cゾーンにあった場合とは逆に
、引抜き速度制御のゲインをそのまま保持または少し弱
めにし、注湯量制御のゲインを弱めにする。
【0017】上記湯面レベル制御方法を用いて連続鋳造
した結果、従来のPI制御のみを用いた場合と比較して
図3に示すように、従来では鋳型内湯面が±6mm前後
と大きく変動したのに対し、本発明では±2mm以内と
安定して保持することができた。尚、この実施に際して
は、偏差が±3mm以内にある時は主として引抜き速度
制御を使用し、±3mm〜±5mmの範囲にある時は引
抜き速度制御と注湯量制御とを併用し、±5mmの範囲
にある時は主として注湯量制御を使用するようにした。
した結果、従来のPI制御のみを用いた場合と比較して
図3に示すように、従来では鋳型内湯面が±6mm前後
と大きく変動したのに対し、本発明では±2mm以内と
安定して保持することができた。尚、この実施に際して
は、偏差が±3mm以内にある時は主として引抜き速度
制御を使用し、±3mm〜±5mmの範囲にある時は引
抜き速度制御と注湯量制御とを併用し、±5mmの範囲
にある時は主として注湯量制御を使用するようにした。
【0018】尚、上記実施例では、注湯量制御としてP
I制御を用いた例を説明したが、PI制御に変えてPI
制御のゲインを上げる制御を採用してもよい。しかし、
この場合には偏差がCゾーンにある場合、ゲインを上げ
るとノイズを増幅させることとなり危険を伴う。そこで
、偏差の大きさに応じて操作量を加えるファジィルール
を採用してもよい。例えば、図4に示すように、Cゾー
ンをさらにC1,C2,C3 に分け、偏差が+C3
ゾーンにある時は操作量PBを、偏差が+C2 ゾーン
にある時は操作量PMを、偏差が−C3 ゾーンにある
時は操作量NBを、偏差が−C2 ゾーンにある時は操
作量NMを、また偏差が±C1 ゾーンにある時は操作
量Zを加えるようなファジィルールが適用される。但し
、ルールの結論部には図5に示すようなファジィメンバ
ーシップ関数が対応し、5〜10秒程度のデータから得
られた結果を合成し、重心を採って出力とする。
I制御を用いた例を説明したが、PI制御に変えてPI
制御のゲインを上げる制御を採用してもよい。しかし、
この場合には偏差がCゾーンにある場合、ゲインを上げ
るとノイズを増幅させることとなり危険を伴う。そこで
、偏差の大きさに応じて操作量を加えるファジィルール
を採用してもよい。例えば、図4に示すように、Cゾー
ンをさらにC1,C2,C3 に分け、偏差が+C3
ゾーンにある時は操作量PBを、偏差が+C2 ゾーン
にある時は操作量PMを、偏差が−C3 ゾーンにある
時は操作量NBを、偏差が−C2 ゾーンにある時は操
作量NMを、また偏差が±C1 ゾーンにある時は操作
量Zを加えるようなファジィルールが適用される。但し
、ルールの結論部には図5に示すようなファジィメンバ
ーシップ関数が対応し、5〜10秒程度のデータから得
られた結果を合成し、重心を採って出力とする。
【0019】
【発明の効果】上述したように、本発明に係わる連続鋳
造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法によれば
、急激で大きい湯面変動に対応できると同時に、鋳型内
の湯面レベルを安定して一定に保つことができ、延いて
は、鋳片の表面疵や割れの発生が防止され鋳片の品質を
向上することができる。
造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法によれば
、急激で大きい湯面変動に対応できると同時に、鋳型内
の湯面レベルを安定して一定に保つことができ、延いて
は、鋳片の表面疵や割れの発生が防止され鋳片の品質を
向上することができる。
【図1】本発明方法を適用した連続鋳造プロセスの概要
図である。
図である。
【図2】制御の切り換え方法の説明図である。
【図3】本発明方法を適用した場合と従来方法を適用し
た場合の鋳型内湯面変動の比較図である。
た場合の鋳型内湯面変動の比較図である。
【図4】別の実施態様を示す制御の切り換え方法の説明
図である。
図である。
【図5】図4に示す制御の切り換え方法の際に採用する
ファジィメンバーシップ関数の対応図である。
ファジィメンバーシップ関数の対応図である。
【図6】本発明方法を適用した連続鋳造プロセスの概要
図である。
図である。
1:タンディッシュ 2:ストッパ
3:鋳型 4:鋳片引抜きロール 5:湯面レベル制御装置
6:溶鋼 7:浸漬ノ
ズル 8:油圧シリンダ 9:湯面レベルセンサ 10:注湯量制御装置1
1:エキスパートシステム
3:鋳型 4:鋳片引抜きロール 5:湯面レベル制御装置
6:溶鋼 7:浸漬ノ
ズル 8:油圧シリンダ 9:湯面レベルセンサ 10:注湯量制御装置1
1:エキスパートシステム
Claims (1)
- 【請求項1】 鋳型内の湯面レベル制御を、タンディ
ッシュから鋳型への注湯量を制御して行う注湯量制御シ
ステムと、凝固した鋳片を鋳型から引抜く引抜き速度を
制御して行う引抜き速度制御システムとを併用して行う
に際し、鋳型内湯面レベルの目標値からの偏差を基準と
して、偏差が大きい時は主として注湯量制御システムを
使用し、偏差が小さい時は主として引抜き速度制御シス
テムを使用することを特徴とする連続鋳造プロセスにお
ける鋳型内湯面レベル制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3085891A JPH04270050A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3085891A JPH04270050A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04270050A true JPH04270050A (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12315421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3085891A Pending JPH04270050A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 連続鋳造プロセスにおける鋳型内湯面レベル制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04270050A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5877761A (ja) * | 1981-10-31 | 1983-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | モ−ルド内溶鋼レベル制御装置 |
-
1991
- 1991-02-26 JP JP3085891A patent/JPH04270050A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5877761A (ja) * | 1981-10-31 | 1983-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | モ−ルド内溶鋼レベル制御装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19950905 |