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JP7526020B2 - Optical laminate - Google Patents

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Description

本発明は、ミニ/マイクロLED等の自発光型表示装置の発光素子の封止に適する光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate suitable for sealing light-emitting elements in self-luminous display devices such as mini/micro LEDs.

近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小なLED発光素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、該LEDチップは封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 In recent years, self-emitting display devices, such as mini/micro LED display devices (Mini/Micro Light Emitting Diode Displays), have been devised as next-generation display devices. In basic configuration, mini/micro LED display devices use a substrate on which numerous tiny LED light-emitting elements (LED chips) are densely arranged as a display panel, the LED chips are sealed with a sealant, and a cover member such as a resin film or glass plate is laminated on the outermost layer.

ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置には、白色バックライト方式、白色発光カラーフィルター方式、RGB方式などいくつかの方式があるが、白色発光カラーフィルター方式、RGB方式では、表示パネルの基板上に配置された金属配線やITOなどの金属酸化物などの反射防止のために黒色の封止材が用いられることがある(例えば、特許文献1~3参照)。中でも、LEDチップが配列されたRGB方式のミニ/マイクロLED表示装置では、上記黒色封止材はRGBの混色防止やコントラスト向上にも貢献し得る。 There are several types of self-luminous display devices such as mini/micro LED display devices, including a white backlight type, a white light-emitting color filter type, and an RGB type. In the white light-emitting color filter type and RGB type, a black encapsulant may be used to prevent reflection of metal wiring arranged on the display panel substrate and metal oxides such as ITO (see, for example, Patent Documents 1 to 3). In particular, in RGB type mini/micro LED display devices in which LED chips are arranged, the black encapsulant can also contribute to preventing RGB color mixing and improving contrast.

特開2019-204905号公報JP 2019-204905 A 特開2017-203810号公報JP 2017-203810 A 特表2018-523854号公報Special table 2018-523854 publication

前記黒色封止材を使用した場合、LEDチップ等の発光素子の上部(画像表示側)が可視光に対する透過率が低下した黒色封止材で覆われるため、発光効率が低下して画像が暗くなるという問題がある。これに対処するために、LEDチップの出力を上げて発光輝度を高めた場合、消費電力が上昇するという問題もあった。 When the black encapsulant is used, the top of the light-emitting element such as an LED chip (the image display side) is covered with a black encapsulant with reduced transmittance for visible light, resulting in a problem of reduced light-emitting efficiency and darker images. To address this issue, the output of the LED chip is increased to increase the luminance, but this also results in an increased power consumption problem.

発光効率を上げるため、黒色封止材の可視光に対する透過率を上げた場合、上述の金属配線などの反射防止機能、RGBの混色防止やコントラストが低下するというトレードオフの関係にあり、これらを両立させることは解決困難な課題であった。 If the visible light transmittance of the black encapsulant is increased in order to improve the light emission efficiency, there is a trade-off between the anti-reflection function of the metal wiring mentioned above, the prevention of RGB color mixing, and contrast, which decreases. Achieving both of these goals has been a difficult problem to solve.

一方、前記黒色封止材としては、黒色着色剤(染料や顔料)を含む液状硬化性樹脂や粘着剤が用いられている。黒色着色剤を含む液状硬化性樹脂を用いる場合、厚みムラにより黒色度にムラが生じるという問題がある。また、染料に比べて顔料は耐熱性・耐候性ともに優れているために選定されることが多いが、顔料を分散させた液状硬化性樹脂を用いる場合、上記厚みムラに加えて、液状硬化性樹脂充填時の充填ムラ、流動時に顔料の分散ムラが生じるなどの問題も生じる。また、封止後に硬化した液状硬化性樹脂の表面には密着力がないため、さらに、接着剤などを使用してカバー部材を積層する必要があり、さらなる工数や部材が必要になるという問題もあった。 On the other hand, liquid curable resins and adhesives containing black colorants (dyes and pigments) are used as the black sealing material. When liquid curable resins containing black colorants are used, there is a problem that unevenness in the blackness occurs due to uneven thickness. In addition, pigments are often selected because they have superior heat resistance and weather resistance compared to dyes, but when liquid curable resins with dispersed pigments are used, in addition to the uneven thickness, problems such as uneven filling when filling the liquid curable resin and uneven dispersion of the pigment during flow occur. In addition, since the surface of the cured liquid curable resin after sealing does not have adhesion, it is necessary to further laminate the cover member using an adhesive or the like, which also creates the problem of requiring additional labor and materials.

本発明は、以上のような事情のもとで考え出されたものであって、本発明の目的は、発光効率を高めつつ、金属配線などの反射防止機能、コントラストが向上したミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置を製造することに適した光学積層体を提供することである。
また、本発明の他の目的は、上述の自発光型表示装置の製造工程において、工程数や必要部材を削減することである。
The present invention has been devised under the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an optical laminate suitable for manufacturing a self-luminous display device such as a mini/micro LED display device having improved contrast and anti-reflection function such as metal wiring while increasing luminous efficiency.
Another object of the present invention is to reduce the number of steps and necessary materials in the manufacturing process of the above-mentioned self-luminous display device.

本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、透過率が異なる2つの粘着剤層を積層させ、さらに基材と積層させた光学積層体を自発光型表示装置の製造に使用することにより、発光効率の向上と、金属配線などの反射防止機能、コントラストの向上とを兼ね備えた自発光型表示装置を製造できることを見出した。また、当該光学積層体を使用することにより、工程数や必要部材を削減することが可能になり、発光効率、金属配線などの反射防止機能、コントラストが向上した自発光型表示装置を効率的に製造できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive research into achieving the above-mentioned object, the inventors have found that by using an optical laminate in which two pressure-sensitive adhesive layers with different transmittances are laminated and then laminated with a substrate, in the manufacture of a self-luminous display device, it is possible to manufacture a self-luminous display device that combines improved luminous efficiency, anti-reflection function for metal wiring, etc., and improved contrast. Furthermore, it has been found that by using this optical laminate, it is possible to reduce the number of steps and necessary materials, and to efficiently manufacture a self-luminous display device with improved luminous efficiency, anti-reflection function for metal wiring, etc., and improved contrast. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明の第1の側面は、第1粘着剤層と、第2粘着剤層と、基材とが、この順で積層された積層構造を有し、前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、および前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、T1<T2を充たす、光学積層体を提供する。 That is, a first aspect of the present invention provides an optical laminate having a laminated structure in which a first pressure-sensitive adhesive layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a base material are laminated in this order, and the visible light transmittance T1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and the visible light transmittance T2 of the second pressure-sensitive adhesive layer satisfy T1 < T2 .

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、および前記第2粘着剤層の可視光透過率T2が、T1<T2を充たすこと、すなわち、前記第1粘着剤層の可視光透過率が、前記第2粘着剤層の可視光透過率よりも低いという構成は、本発明の第1の側面の光学積層体を自発光型表示装置の製造に用いることにより、前記第1粘着剤層は、表示パネル上の金属配線などによる反射を防止し、配列された発光素子同士の混色を防止してコントラストを向上させる上で好ましい。また、当該構成は、前記第1粘着剤層よりも高い可視光透過率を示す前記第2粘着剤層が、前記発光素子の上部(画像表示側)に位置する構成となり、発光効率が向上して画像を明るくすることができ、発光輝度を高めるための出力上昇による消費電力を低減できるという点で、好適である。
すなわち、本発明の第1の側面の光学積層体は、当該構成を備えることにより、発光効率を向上させつつ、なおかつ、これとトレードオフの関係にある金属配線などの反射防止機能、RGBの混色防止、コントラストの向上という課題も解決するものである。
In the optical laminate of the first aspect of the present invention, the visible light transmittance T1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and the visible light transmittance T2 of the second pressure-sensitive adhesive layer satisfy T1 < T2 , i.e., the visible light transmittance of the first pressure-sensitive adhesive layer is lower than that of the second pressure-sensitive adhesive layer, and this is preferable in that, by using the optical laminate of the first aspect of the present invention in the manufacture of a self-luminous display device, the first pressure-sensitive adhesive layer prevents reflection due to metal wiring on a display panel, prevents color mixing between the arranged light-emitting elements, and improves contrast. In addition, this configuration is preferable in that the second pressure-sensitive adhesive layer, which exhibits a visible light transmittance higher than that of the first pressure-sensitive adhesive layer, is located on the upper part (image display side) of the light-emitting element, and the light-emitting efficiency is improved to brighten the image, and power consumption due to an increase in output to increase the light-emitting brightness can be reduced.
In other words, the optical laminate of the first aspect of the present invention, by having this configuration, improves the luminous efficiency while also resolving the problems of anti-reflection function of metal wiring and the like, prevention of RGB color mixing, and improvement of contrast, which are in a trade-off relationship with the luminous efficiency.

また、本発明の第1の側面の光学積層体を自発光型表示装置の製造に用いることにより、前記第1粘着剤層及び前記第2粘着剤層の積層構造は、表示パネル上に配列された発光素子を封止する封止材となり、基材は最表層のカバー部材となるため、封止後に別途カバー部材を積層させる必要がなく、工程数や必要部材を削減することができ、製造効率が向上する。 In addition, by using the optical laminate of the first aspect of the present invention in the manufacture of a self-luminous display device, the laminated structure of the first adhesive layer and the second adhesive layer becomes a sealant that seals the light-emitting elements arranged on the display panel, and the base material becomes the outermost cover member, so there is no need to laminate a separate cover member after sealing, and the number of steps and necessary materials can be reduced, improving manufacturing efficiency.

さらに、発光素子を封止する封止材が前記第1粘着剤層及び前記第2粘着剤層の積層構造より構成される粘着剤層であるという構成は、自発光型表示装置の製造において発光素子を前記粘着剤層で封止する際に、前述の厚みムラ、充填ムラ、顔料の分散ムラなどによる黒色度のムラが生じにくく、さらに、金属配線などの反射防止、RGBの混色防止やコントラストを向上できるため、好適である。 Furthermore, the configuration in which the sealing material for sealing the light-emitting element is an adhesive layer composed of a laminated structure of the first adhesive layer and the second adhesive layer is preferable because when sealing the light-emitting element with the adhesive layer in the manufacture of a self-luminous display device, unevenness in blackness due to the aforementioned uneven thickness, uneven filling, uneven pigment dispersion, etc. is unlikely to occur, and further, reflection of metal wiring, etc., color mixing of RGB can be prevented, and contrast can be improved.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、及び前記基材の可視光透過率T3は、T1<T3を充たすことが好ましい。この構成は、上述の発光効率を向上できる点で、好ましい。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, the visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and the visible light transmittance T 3 of the base material preferably satisfy T 1 <T 3. This configuration is preferable in that the above-mentioned luminous efficiency can be improved.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記第1粘着剤層の可視光透過率T1は、80%以下であることが好ましい。この構成は、上述の金属配線などの反射防止機能、RGBの混色防止、コントラストをさらに向上させる点で、好適である。また、前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、85~100%であることが好ましい。この構成は、上述の発光効率をさらに向上させる点で、好適である。すなわち、前記第1粘着剤層の可視光透過率T1は、80%以下であり、前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、85~100%であることは、発光効率を向上させつつ、これとトレードオフの関係にある金属配線などの反射防止機能、RGBの混色防止、コントラストの向上を両立させることを可能にする上で、極めて好適である。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, the visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer is preferably 80% or less. This configuration is suitable in terms of further improving the anti-reflection function of the metal wiring, etc., the prevention of RGB color mixing, and the contrast. The visible light transmittance T 2 of the second pressure-sensitive adhesive layer is preferably 85 to 100%. This configuration is suitable in terms of further improving the luminous efficiency. That is, the visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer is 80% or less, and the visible light transmittance T 2 of the second pressure-sensitive adhesive layer is 85 to 100%, which is extremely suitable in terms of improving the luminous efficiency while simultaneously achieving the anti-reflection function of the metal wiring, etc., the prevention of RGB color mixing, and the improvement of the contrast, which are in a trade-off relationship with the improved luminous efficiency.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記第1粘着剤層及び前記第2粘着剤層が、光硬化性粘着剤組成物及び溶媒型粘着剤組成物から選ばれる組成の粘着剤組成物から形成される粘着剤層であることが好ましい。前記第1粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、着色剤を含有することが好ましい。これらの構成は、前記T1、および前記T2が、T1<T2を充たす構成とし、上述の発光効率、金属配線などの反射防止機能、RGBの混色防止、コントラストをさらに向上させる点で、好適である。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, the first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer are preferably pressure-sensitive adhesive layers formed from a pressure-sensitive adhesive composition selected from a photocurable pressure-sensitive adhesive composition and a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition. The pressure-sensitive adhesive composition forming the first pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a colorant. These configurations are preferable in that T1 and T2 satisfy T1 < T2 , and further improve the above-mentioned luminous efficiency, anti-reflection function of metal wiring, prevention of RGB color mixing, and contrast.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記粘着剤組成物はアクリル系ポリマーを含有することが好ましい。前記アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有することが好ましい。前記第1粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有する溶媒型粘着剤組成物であることが好ましい。これらの構成は、本発明の第1の側面の光学積層体を自発光型表示装置の製造に用いる際に、前記第1粘着剤層及び前記第2粘着剤層(特に、第1粘着剤層)が、表示パネル上に配列された発光素子の段差に隙間なく充填され、段差吸収性に優れるともに、加工性にも優れる点で好ましい。 In the optical laminate of the first aspect of the present invention, the adhesive composition preferably contains an acrylic polymer. The acrylic polymer preferably contains a (meth)acrylic block copolymer. The adhesive composition forming the first adhesive layer is preferably a solvent-based adhesive composition containing a (meth)acrylic block copolymer. These configurations are preferable in that, when the optical laminate of the first aspect of the present invention is used in the manufacture of a self-luminous display device, the first adhesive layer and the second adhesive layer (particularly the first adhesive layer) fill the steps of the light-emitting elements arranged on the display panel without any gaps, and have excellent step absorption properties and excellent processability.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記第1粘着剤層の厚みは、10~300μmであることが好ましく、15~200μmであることがより好ましい。前記第2粘着剤層の厚みは、1~500μmであることが好ましく、10~300μmであることがより好ましく、15~200μmであることがさらに好ましい。前記第1粘着剤層の厚みに対する前記第2粘着剤層の厚みの割合(第2粘着剤層の厚み/第1粘着剤層の厚み)は、1.0~5.0であることが好ましく、1.2~4.0であることがより好ましく、1.3~3.0であることがさらに好ましい。これらの構成は、第1粘着剤層が、自発光型表示装置の表示パネル上に配列された発光素子間を十分に封止することにより、金属配線などの反射防止、RGBの混色を防止してコントラストを向上させるとともに、発光素子の上部(画像表示側)を透過性が高い前記第2粘着剤層が覆うことにより、発光効率を向上できる点で好ましい。 In the optical laminate of the first aspect of the present invention, the thickness of the first adhesive layer is preferably 10 to 300 μm, more preferably 15 to 200 μm. The thickness of the second adhesive layer is preferably 1 to 500 μm, more preferably 10 to 300 μm, and even more preferably 15 to 200 μm. The ratio of the thickness of the second adhesive layer to the thickness of the first adhesive layer (thickness of the second adhesive layer/thickness of the first adhesive layer) is preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and even more preferably 1.3 to 3.0. These configurations are preferable in that the first adhesive layer sufficiently seals the spaces between the light-emitting elements arranged on the display panel of the self-luminous display device, thereby preventing reflection of metal wiring and preventing color mixing of RGB to improve contrast, and the second adhesive layer, which has high transparency, covers the upper part (image display side) of the light-emitting element, thereby improving light-emitting efficiency.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記基材の前記第2粘着剤層が積層されていない面は、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていることが好ましい。前記反射防止処理及び/又はアンチグレア処理は、前記基材の片面に設けられたアンチグレア層であることが好ましい。前記アンチグレア層は、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、前記アンチグレア層が、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層の表面に凸状部を形成する凝集部を有することが好ましい。前記アンチグレア層表面の凸状部において、平均傾斜角θa(°)は0.1~5.0の範囲であることが好ましい。これらの構成は、本発明の第1の側面の光学積層体の表面に反射防止機能及び/又はアンチグレア機能を付与し、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止する、光沢度などの見栄えを調整するといった観点で好ましい。 In the optical laminate of the first aspect of the present invention, the surface of the substrate on which the second adhesive layer is not laminated is preferably anti-reflection treated and/or anti-glare treated. The anti-reflection and/or anti-glare treatment is preferably an anti-glare layer provided on one side of the substrate. The anti-glare layer is formed using an anti-glare layer forming material containing a resin, particles, and a thixotropy-imparting agent, and the anti-glare layer preferably has an aggregate portion in which the particles and the thixotropy-imparting agent aggregate to form a convex portion on the surface of the anti-glare layer. In the convex portion on the surface of the anti-glare layer, the average inclination angle θa (°) is preferably in the range of 0.1 to 5.0. These configurations are preferable from the viewpoint of imparting an anti-reflection function and/or anti-glare function to the surface of the optical laminate of the first aspect of the present invention, preventing a decrease in visibility due to reflection of external light or reflection of images, and adjusting the appearance such as glossiness.

本発明の第1の側面の光学積層体は、さらに、前記基材の前記第2粘着剤層が積層されていない面に、表面保護フィルムが積層されていてもよい。かかる構成は、前記光学積層体やこれを含む光学製品の製造、搬送、出荷時に、傷や汚れの付着を防止する上で好適である。 The optical laminate of the first aspect of the present invention may further include a surface protection film laminated on the surface of the substrate on which the second adhesive layer is not laminated. Such a configuration is suitable for preventing scratches and dirt from adhering during the manufacture, transportation, and shipping of the optical laminate or an optical product containing the same.

また、本発明の第2の側面は、基板の片面に複数の発光素子が配列した表示パネルと、本発明の第1の側面の光学積層体とを含む自発光型表示装置であって、前記表示パネルの発光素子が配列した面と、前記光学積層体の第1粘着剤層が積層した、自発光型表示装置を提供する。本発明の第2の側面の自発光型表示装置において、前記表示パネルは、基板の片面に複数のLEDチップが配列したLEDパネルであってもよい。かかる構成は、本発明の第2の側面の自発光型表示装置が、発光効率を向上させつつ、基板上の金属配線などの反射防止、RGBの混色防止やコントラストの向上できるという点で好ましい。 The second aspect of the present invention provides a self-luminous display device including a display panel having a plurality of light-emitting elements arranged on one side of a substrate and the optical laminate of the first aspect of the present invention, in which the surface of the display panel on which the light-emitting elements are arranged is laminated with a first adhesive layer of the optical laminate. In the self-luminous display device of the second aspect of the present invention, the display panel may be an LED panel having a plurality of LED chips arranged on one side of a substrate. Such a configuration is preferable in that the self-luminous display device of the second aspect of the present invention can improve the light-emitting efficiency while preventing reflection of metal wiring on the substrate, preventing RGB color mixing, and improving contrast.

本発明の光学積層体を自発光型表示装置の製造に使用することにより、発光効率、金属配線などの反射防止機能、コントラストが向上した自発光型表示装置を効率的に製造することができる。 By using the optical laminate of the present invention in the manufacture of a self-luminous display device, it is possible to efficiently manufacture a self-luminous display device with improved luminous efficiency, anti-reflection function for metal wiring, etc., and contrast.

図1は、本発明の光学積層体の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 1 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing one embodiment of the optical laminate of the present invention. 図2は、本発明の光学積層体の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 2 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the optical laminate of the present invention. 図3は、本発明の光学積層体の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 3 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the optical laminate of the present invention. 図4は、本発明の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 4 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing one embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) of the present invention. 図5は、本発明の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 5 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of the present invention. 図6は、本発明の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 6 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of the present invention.

本発明の第1の側面は、光学積層体を提供する。本発明の第1の側面の光学積層体は、第1粘着剤層と、第2粘着剤層と、基材とが、この順で積層された積層構造を有する。前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、および前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、T1<T2を充たすものである。 A first aspect of the present invention provides an optical laminate. The optical laminate of the first aspect of the present invention has a laminate structure in which a first pressure-sensitive adhesive layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a substrate are laminated in this order. The visible light transmittance T1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and the visible light transmittance T2 of the second pressure-sensitive adhesive layer satisfy T1 < T2 .

本発明の第1の側面の光学積層体における「光学」とは、光学用途に用いられることを意味し、より具体的には、光学部材が用いられた製品(光学製品)の製造などに用いられることを意味する。光学製品としては、例えば、画像表示装置、タッチパネルなどの入力装置などが挙げられるが、ミニ/マイクロLED表示装置、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置などの自発光型表示装置が好ましく、特に、ミニ/マイクロLED表示装置の製造に好適に使用することができる。 The term "optical" in the optical laminate of the first aspect of the present invention means that it is used for optical applications, and more specifically, means that it is used in the manufacture of products (optical products) in which optical members are used. Examples of optical products include image display devices and input devices such as touch panels, but self-luminous display devices such as mini/micro LED display devices and organic EL (electroluminescence) display devices are preferred, and it can be particularly suitably used in the manufacture of mini/micro LED display devices.

以下、本発明の実施形態を図に関連して説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。
図1~3は、本発明の第1の側面の光学積層体の一実施態様を示す模式図(断面図)である。図4~6は、本発明の第2の側面の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の一実施態様を示す模式図(断面図)である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto and is merely an example.
1 to 3 are schematic diagrams (cross-sectional views) showing an embodiment of an optical laminate according to a first aspect of the present invention. Figures 4 to 6 are schematic diagrams (cross-sectional views) showing an embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) according to a second aspect of the present invention.

図1において、光学積層体10は、第1粘着剤層1と、第2粘着剤層2と、基材3とが、この順で積層された積層構造を有する。図2において、光学積層体11は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4が施されている。図3において、光学積層体12は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理としてアンチグレア層4aが形成されている。
本実施形態において、第1粘着剤層1の可視光透過率T1、及び第2粘着剤層2の可視光透過率T2は、T1<T2を充たす。すなわち、第1粘着剤層1の可視光透過率は、第2粘着剤層2の可視光透過率よりも低い。
In Fig. 1, an optical laminate 10 has a laminated structure in which a first pressure-sensitive adhesive layer 1, a second pressure-sensitive adhesive layer 2, and a substrate 3 are laminated in this order. In Fig. 2, an optical laminate 11 has a surface 3a of the substrate 3 on which the second pressure-sensitive adhesive layer 2 is not laminated, which has been subjected to an anti-reflection treatment and/or an anti-glare treatment 4. In Fig. 3, an optical laminate 12 has an anti-glare layer 4a formed as an anti-reflection treatment and/or an anti-glare treatment on a surface 3a of the substrate 3 on which the second pressure-sensitive adhesive layer 2 is not laminated.
In this embodiment, the visible light transmittance T1 of the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the visible light transmittance T2 of the second pressure-sensitive adhesive layer 2 satisfy T1 < T2 . That is, the visible light transmittance of the first pressure-sensitive adhesive layer 1 is lower than the visible light transmittance of the second pressure-sensitive adhesive layer 2.

図4において、自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)20は、基板5の片面に複数のLED7が配列した表示パネルと、本発明の第1の側面に係る光学積層体10を含む。前記表示パネル上のLEDチップ7が配列した面と、光学積層体10の第1粘着剤層1が積層している。図5において、自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)21は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4が施されている。図6において、自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)22は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理としてアンチグレア層4aが形成されている。 In FIG. 4, the self-luminous display device (mini/micro LED display device) 20 includes a display panel in which a plurality of LEDs 7 are arranged on one side of a substrate 5, and an optical laminate 10 according to the first aspect of the present invention. The surface on which the LED chips 7 are arranged on the display panel and the first adhesive layer 1 of the optical laminate 10 are laminated. In FIG. 5, the self-luminous display device (mini/micro LED display device) 21 has an anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 4 on the surface 3a of the substrate 3 on which the second adhesive layer 2 is not laminated. In FIG. 6, the self-luminous display device (mini/micro LED display device) 22 has an anti-glare layer 4a formed as an anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment on the surface 3a of the substrate 3 on which the second adhesive layer 2 is not laminated.

本実施形態において、表示パネルの基板5上には、各LEDチップ7に発光制御信号を送るための金属配線層6が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LEDチップ7は、表示パネルの基板5上に金属配線層6を介して交互に配列されている。金属配線層6は、銅などの金属によって形成されており、各LEDチップ7の発光を反射して、画像の視認性を低下させる。また、RGBの各色の各LEDチップ7が発する光が混色し、コントラストが低下する。 In this embodiment, a metal wiring layer 6 for sending light emission control signals to each LED chip 7 is laminated on the substrate 5 of the display panel. Each LED chip 7 emitting light of each color, red (R), green (G), and blue (B), is arranged alternately on the substrate 5 of the display panel via the metal wiring layer 6. The metal wiring layer 6 is formed of a metal such as copper, and reflects the light emitted by each LED chip 7, reducing the visibility of the image. In addition, the light emitted by each LED chip 7 of each color of RGB is mixed, reducing the contrast.

本実施形態において、表示パネル上に配列された各LEDチップ7は、第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2により隙間なく封止されている。すなわち、第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2の積層構造は、各LEDチップ7の封止材となり得る。 In this embodiment, each LED chip 7 arranged on the display panel is sealed without any gaps by the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2. In other words, the laminated structure of the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 can serve as a sealant for each LED chip 7.

本実施形態において、第1粘着剤層1は、表示パネル上に配列された各LEDチップ7の間及び金属配線層6を封止する。第1粘着剤層1の可視光透過率は、第2粘着剤層2の可視光透過率よりも低いことにより、可視光領域で十分な遮光性を有する。より遮光性が高い第1粘着剤層1は各LEDチップ7の間を隙間なく封止しているため、各LEDチップ7同士の混色を防止し、コントラストを向上させることができる。また、より遮光性が高い第1粘着剤層1は、金属配線層6の表面も封止しているため、金属配線層6による反射を防止することができる。 In this embodiment, the first adhesive layer 1 seals the spaces between the LED chips 7 arranged on the display panel and the metal wiring layer 6. The visible light transmittance of the first adhesive layer 1 is lower than that of the second adhesive layer 2, and therefore has sufficient light blocking properties in the visible light range. The first adhesive layer 1, which has higher light blocking properties, seals the spaces between the LED chips 7 without any gaps, preventing color mixing between the LED chips 7 and improving contrast. In addition, the first adhesive layer 1, which has higher light blocking properties, also seals the surface of the metal wiring layer 6, and therefore can prevent reflection from the metal wiring layer 6.

本実施形態において、第2粘着剤層2は、表示パネル上に配列された各LEDチップ7の上部(表示画像側)を封止する。第2粘着剤層2の可視光透過率は、第1粘着剤層1の可視光透過率よりも高いことにより、可視光領域で十分な透過性を有する。より透過性が高い第2粘着剤層2は各LEDチップ7の上部(表示画像側)を封止しているため、各LEDチップ7から発せられた可視光の吸収が低く抑えられ、発光効率を高くすることができるので、画像をより明るくすることができる。また、出力を上げて発光輝度を高める必要もないため、消費電力を低く抑えることができる。 In this embodiment, the second adhesive layer 2 seals the upper part (display image side) of each LED chip 7 arranged on the display panel. The visible light transmittance of the second adhesive layer 2 is higher than that of the first adhesive layer 1, and therefore has sufficient transparency in the visible light region. Since the second adhesive layer 2, which has higher transparency, seals the upper part (display image side) of each LED chip 7, the absorption of visible light emitted from each LED chip 7 is kept low, and the light emission efficiency can be increased, making the image brighter. In addition, there is no need to increase the output to increase the light emission brightness, so power consumption can be kept low.

本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置は、基板の片面に複数のLEDチップが配列した表示パネルと、本実施形態の光学積層体の第1粘着剤層を貼り合わせることにより製造することができる。その際、基材3は、自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の最表層を形成するカバー部材となり得る。従って、本実施形態によれば、カバー部材を別途取り付ける工程を省略でき、必要部材や工程数が低減され、生産効率を向上することができる。 The mini/micro LED display device of this embodiment can be manufactured by bonding a display panel having multiple LED chips arranged on one side of a substrate to the first adhesive layer of the optical laminate of this embodiment. In this case, the base material 3 can be a cover member that forms the outermost layer of the self-luminous display device (mini/micro LED display device). Therefore, according to this embodiment, the process of separately attaching a cover member can be omitted, the number of necessary materials and processes can be reduced, and production efficiency can be improved.

また、本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置21において、基材3の面3aには反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4が施されており、ミニ/マイクロLED表示装置22において、基材3の面3aには反射防止処理としてアンチグレア層4aが形成されている。反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4、特にアンチグレア層4aは、カバー部材としての基材3の表面3aにおける外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下が防止され、及び/又は光沢度などの見栄えを調整している。
以下、各構成について、詳細に説明する。
In the mini/micro LED display device 21 of this embodiment, the surface 3a of the substrate 3 is subjected to an anti-reflection treatment and/or an anti-glare treatment 4, and in the mini/micro LED display device 22, an anti-glare layer 4a is formed as an anti-reflection treatment on the surface 3a of the substrate 3. The anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 4, particularly the anti-glare layer 4a, prevents a decrease in visibility due to reflection of external light or glare of an image on the surface 3a of the substrate 3 as a cover member, and/or adjusts the appearance such as glossiness.
Each component will be described in detail below.

<基材>
本実施形態において、基材3は、特に制限されないが、例えば、ガラスや透明プラスチックフィルム基材等があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ、透明性に優れるもの(好ましくはヘイズ値5%以下のもの)が好ましく、例えば、特開2008-90263号公報に記載の透明プラスチックフィルム基材があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。本実施形態において基材3は、例えば、自発光型表示装置のカバー部材として使用することもでき、この場合には、前記透明プラスチックフィルム基材としては、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン等から形成されたフィルムが好ましい。また、本実施形態において基材3は、前記カバー部材自体であってもよい。このような構成であると、自発光型表示装置の製造においてカバー部材を別途に積層する工程を削減できるので、工程数や必要部材を減少させ、生産効率の向上が図れる。また、このような構成であれば、前記カバー部材を、より薄層化することができる。なお、基材3がカバー部材である場合には、面3aが、自発光型表示装置の最表面となる。
<Substrate>
In this embodiment, the substrate 3 is not particularly limited, but examples thereof include glass and transparent plastic film substrates. The transparent plastic film substrate is not particularly limited, but is preferably one having excellent light transmittance of visible light and excellent transparency (preferably one having a haze value of 5% or less), and examples thereof include the transparent plastic film substrate described in JP-A-2008-90263. As the transparent plastic film substrate, one having optically low birefringence is preferably used. In this embodiment, the substrate 3 can be used, for example, as a cover member of a self-luminous display device, and in this case, the transparent plastic film substrate is preferably a film formed from triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate, an acrylic polymer, a polyolefin having a cyclic or norbornene structure, or the like. In addition, in this embodiment, the substrate 3 may be the cover member itself. With such a configuration, the process of laminating a cover member separately in the manufacture of a self-luminous display device can be reduced, and the number of processes and necessary members can be reduced, thereby improving production efficiency. In addition, with such a configuration, the cover member can be made thinner. When the base material 3 is a cover member, the surface 3a becomes the outermost surface of the self-luminous display device.

本実施態様の光学積層体において、第1粘着剤層1の可視光透過率T1、及び基材3の可視光透過率T3は、T1<T3を充たすことが好ましい。この構成は、第1粘着剤層1よりも高い可視光透過率を示す基材3が、前記発光素子の上部(画像表示側)に位置する構成となり、発光効率が向上して画像を明るくすることができ、発光輝度を高めるための出力上昇による消費電力を低減できるという点で、好適である。基材3の可視光透過率T3は、特に限定されないが、例えば85~100%であり、88%以上、90%以上、または92%以上であってもよい。 In the optical laminate of this embodiment, the visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the visible light transmittance T 3 of the substrate 3 preferably satisfy T 1 <T 3. This configuration is preferable in that the substrate 3, which exhibits a higher visible light transmittance than the first pressure-sensitive adhesive layer 1, is located on the upper part (image display side) of the light-emitting element, improving the luminous efficiency to brighten the image, and reducing power consumption due to increased output to increase the luminous brightness. The visible light transmittance T 3 of the substrate 3 is not particularly limited, but may be, for example, 85 to 100%, 88% or more, 90% or more, or 92% or more.

本実施形態において、基材3の厚みは、特に制限されないが、例えば、強度、取り扱い性などの作業性および薄層性などの点を考慮すると、10~500μmの範囲が好ましく、より好ましくは20~300μmの範囲であり、最適には、30~200μmの範囲である。前記基材3の屈折率は、特に制限されないが、例えば、1.30~1.80の範囲であり、好ましくは、1.40~1.70の範囲である。 In this embodiment, the thickness of the substrate 3 is not particularly limited, but considering, for example, strength, ease of handling, and thin layer properties, the thickness is preferably in the range of 10 to 500 μm, more preferably in the range of 20 to 300 μm, and most preferably in the range of 30 to 200 μm. The refractive index of the substrate 3 is not particularly limited, but is, for example, in the range of 1.30 to 1.80, and preferably in the range of 1.40 to 1.70.

本実施形態において、基材3の面3aは、反射表面処理及び/又はアンチグレア処理4が施されていることが好ましい。基材3の面3aに反射表面処理及び/又はアンチグレア処理4が施されている場合、当該面3aが自発光型表示装置の最表面となり、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止する、又は光沢度などの見栄えを調整することができる。製造が容易で、コストが低いアンチグレア処理が好ましい。 In this embodiment, it is preferable that the surface 3a of the substrate 3 is subjected to a reflective surface treatment and/or an anti-glare treatment 4. When the surface 3a of the substrate 3 is subjected to a reflective surface treatment and/or an anti-glare treatment 4, the surface 3a becomes the outermost surface of the self-luminous display device, and it is possible to prevent a decrease in visibility due to reflection of external light or glare of images, or to adjust the appearance such as glossiness. An anti-glare treatment is preferable because it is easy to manufacture and low cost.

前記反射防止処理としては、公知の反射防止処理を特に限定なく使用することができ、例えば、アンチリフレクション(AR)処理が挙げられる。 The anti-reflection treatment may be any known anti-reflection treatment without any particular limitations, such as anti-reflection (AR) treatment.

前記アンチリフレクション(AR)処理としては、公知のAR処理を特に制限なく適用することができ、具体的には、基材3の面3a上に厚みおよび屈折率を厳密に制御した光学薄膜若しくは前記光学薄膜を二層以上積層した反射防止層(AR層)を形成することにより実施することができる。前記AR層は、光の干渉効果を利用して入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現する。反射防止機能を発現させる可視光線の波長領域は、例えば、380~780nmであり、特に視感度が高い波長領域は450~650nmの範囲であり、その中心波長である550nmの反射率を最小にするようにAR層を設計することが好ましい。 The anti-reflection (AR) treatment can be any known AR treatment without any particular restrictions. Specifically, it can be performed by forming an optical thin film with strictly controlled thickness and refractive index on the surface 3a of the substrate 3, or an anti-reflection layer (AR layer) consisting of two or more layers of the optical thin film. The AR layer exhibits an anti-reflection function by canceling out the inverted phases of incident light and reflected light using the optical interference effect. The wavelength region of visible light that exhibits the anti-reflection function is, for example, 380 to 780 nm, and the wavelength region with particularly high visibility is 450 to 650 nm. It is preferable to design the AR layer so as to minimize the reflectance at the center wavelength of 550 nm.

前記AR層としては、一般的に、二ないし五層の光学薄層(厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜)を積層した構造の多層反射防止層が挙げられ、屈折率の異なる成分を所定の厚さだけ複数層形成することで、AR層の光学設計の自由度が上がり、より反射防止効果を向上させることができ、分光反射特性も可視光領域で均一(フラット)にすることが可能になる。前記光学薄膜において、高い厚み精度が要求されるため、一般的に、各層の形成は、ドライ方式である真空蒸着、スパッタリング、CVD等で実施される。 The AR layer is generally a multi-layer anti-reflection layer having a structure in which two to five optical thin layers (thin films with strictly controlled thickness and refractive index) are laminated. By forming multiple layers of components with different refractive indexes to a specified thickness, the degree of freedom in the optical design of the AR layer is increased, the anti-reflection effect can be improved, and the spectral reflection characteristics can be made uniform (flat) in the visible light range. Since high thickness accuracy is required for the optical thin films, the formation of each layer is generally performed by dry methods such as vacuum deposition, sputtering, and CVD.

前記アンチグレア(AG)処理としては、公知のAG処理を特に制限なく適用することができ、例えば、基材3の面3a上にアンチグレア層4aを形成することにより実施することができる。前記アンチグレア層4aとしては、公知のものを制限なく採用することができ、一般的に、樹脂中にアンチグレア剤として無機又は有機の粒子を分散した層として形成される。 The anti-glare (AG) treatment can be any known AG treatment without any particular restrictions, and can be performed, for example, by forming an anti-glare layer 4a on the surface 3a of the substrate 3. Any known anti-glare layer can be used without any restrictions as the anti-glare layer 4a, and is generally formed as a layer in which inorganic or organic particles are dispersed as an anti-glare agent in a resin.

本実施形態において、アンチグレア層4aは、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層4aの表面に凸状部が形成される。当該構成により、アンチグレア層4aは、アンチグレア性と、白ボケの防止とを両立した優れた表示特性を有するとともに、粒子の凝集を利用してアンチグレア層を形成しているにもかかわらず、外観欠点となるアンチグレア層表面の突起状物の発生を防止して製品の歩留まりを向上させることができる。 In this embodiment, the anti-glare layer 4a is formed using an anti-glare layer forming material containing a resin, particles, and a thixotropy-imparting agent, and the particles and the thixotropy-imparting agent aggregate to form convex portions on the surface of the anti-glare layer 4a. With this configuration, the anti-glare layer 4a has excellent display characteristics that combine anti-glare properties with prevention of white blur, and even though the anti-glare layer is formed using particle aggregation, it is possible to prevent the occurrence of protrusions on the surface of the anti-glare layer, which can be a visual defect, and improve product yield.

前記樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線や光で硬化する電離放射線硬化性樹脂があげられる。前記樹脂として、市販の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂等を用いることも可能である。 The resin may be, for example, a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin that is cured by ultraviolet light or light. Commercially available thermosetting resins and ultraviolet curable resins may also be used as the resin.

前記熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂としては、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化するアクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物が使用でき、例えば、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のアクリレートやメタクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等があげられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 As the thermosetting resin or ultraviolet curing resin, for example, a curable compound having at least one of an acrylate group and a methacrylate group that is cured by heat, light (ultraviolet light, etc.), or an electron beam, etc., can be used. Examples of such a curable compound include silicone resin, polyester resin, polyether resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiolpolyene resin, oligomers or prepolymers of acrylates or methacrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, etc. These may be used alone or in combination of two or more types.

前記樹脂には、例えば、アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する反応性希釈剤を用いることもできる。前記反応性希釈剤は、例えば、特開2008-88309号公報に記載の反応性希釈剤を用いることができ、例えば、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート、多官能メタクリレート等を含む。前記反応性希釈剤としては、3官能以上のアクリレート、3官能以上のメタクリレートが好ましい。これは、アンチグレア層4aの硬度を、優れたものにできるからである。前記反応性希釈剤としては、例えば、ブタンジオールグリセリンエーテルジアクリレート、イソシアヌル酸のアクリレート、イソシアヌル酸のメタクリレート等もあげられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 The resin may be, for example, a reactive diluent having at least one of an acrylate group and a methacrylate group. The reactive diluent may be, for example, a reactive diluent described in JP-A-2008-88309, and may include, for example, monofunctional acrylates, monofunctional methacrylates, polyfunctional acrylates, polyfunctional methacrylates, etc. As the reactive diluent, trifunctional or higher acrylates and trifunctional or higher methacrylates are preferred. This is because the hardness of the anti-glare layer 4a can be improved. As the reactive diluent, for example, butanediol glycerin ether diacrylate, acrylate of isocyanuric acid, methacrylate of isocyanuric acid, etc. may also be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more types.

アンチグレア層4aを形成するための粒子は、形成されるアンチグレア層4aの表面を凹凸形状にしてアンチグレア性を付与し、また、アンチグレア層4aのヘイズ値を制御することを主な機能とする。アンチグレア層4aのヘイズ値は、前記粒子と前記樹脂との屈折率差を制御することで、設計することができる。前記粒子としては、例えば、無機粒子と有機粒子とがある。前記無機粒子は、特に制限されず、例えば、酸化ケイ素粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク粒子、カオリン粒子、硫酸カルシウム粒子等があげられる。また、前記有機粒子は、特に制限されず、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末(PMMA微粒子)、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等があげられる。これらの無機粒子および有機粒子は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。 The main function of the particles for forming the anti-glare layer 4a is to make the surface of the anti-glare layer 4a uneven to impart anti-glare properties, and to control the haze value of the anti-glare layer 4a. The haze value of the anti-glare layer 4a can be designed by controlling the refractive index difference between the particles and the resin. The particles include, for example, inorganic particles and organic particles. The inorganic particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide particles, titanium oxide particles, aluminum oxide particles, zinc oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc particles, kaolin particles, calcium sulfate particles, etc. The organic particles are not particularly limited, and examples thereof include polymethyl methacrylate resin powder (PMMA fine particles), silicone resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyethylene fluoride resin powder, etc. These inorganic particles and organic particles may be used alone or in combination of two or more types.

前記粒子の重量平均粒径(D)は、2.5~10μmの範囲内にあることが好ましい。前記粒子の重量平均粒径を、前記範囲とすることで、例えば、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。前記粒子の重量平均粒径は、より好ましくは、3~7μmの範囲内である。なお、前記粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。例えば、細孔電気抵抗法を利用した粒度分布測定装置(商品名:コールターマルチサイザー、ベックマン・コールター社製)を用い、粒子が前記細孔を通過する際の粒子の体積に相当する電解液の電気抵抗を測定することにより、前記粒子の数と体積を測定し、重量平均粒径を算出する。 The weight average particle diameter (D) of the particles is preferably in the range of 2.5 to 10 μm. By setting the weight average particle diameter of the particles in this range, for example, anti-glare properties are improved and white blur can be prevented. The weight average particle diameter of the particles is more preferably in the range of 3 to 7 μm. The weight average particle diameter of the particles can be measured, for example, by the Coulter counting method. For example, a particle size distribution measuring device using a pore electrical resistance method (product name: Coulter Multisizer, manufactured by Beckman Coulter, Inc.) is used to measure the number and volume of the particles by measuring the electrical resistance of the electrolyte equivalent to the volume of the particles when the particles pass through the pores, and the weight average particle diameter is calculated.

前記粒子の形状は、特に制限されず、例えば、ビーズ状の略球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよいが、略球形のものが好ましく、より好ましくは、アスペクト比が1.5以下の略球形の粒子であり、最も好ましくは球形の粒子である。 The shape of the particles is not particularly limited, and may be, for example, roughly spherical like beads, or irregularly shaped like powder, but roughly spherical particles are preferred, more preferably roughly spherical particles with an aspect ratio of 1.5 or less, and most preferably spherical particles.

アンチグレア層4aにおける前記粒子の割合は、前記樹脂100重量部に対し、0.2~12重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、0.5~12重量部の範囲であり、さらに好ましくは1~7重量部の範囲である。前記範囲とすることで、例えば、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。 The ratio of the particles in the anti-glare layer 4a is preferably in the range of 0.2 to 12 parts by weight, more preferably in the range of 0.5 to 12 parts by weight, and even more preferably in the range of 1 to 7 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin. By setting the ratio in this range, for example, it is possible to obtain better anti-glare properties and prevent white blur.

アンチグレア層4aを形成するためのチキソトロピー付与剤としては、例えば、有機粘土、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等があげられる。 Examples of thixotropic agents used to form the anti-glare layer 4a include organic clay, oxidized polyolefin, and modified urea.

前記有機粘土は、前記樹脂との親和性を改善するために、有機化処理した粘土であることが好ましい。有機粘土としては、例えば、層状有機粘土をあげることができる。前記有機粘土は、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、ルーセンタイトSAN、ルーセンタイトSTN、ルーセンタイトSEN、ルーセンタイトSPN、ソマシフME-100、ソマシフMAE、ソマシフMTE、ソマシフMEE、ソマシフMPE(商品名、いずれもコープケミカル(株)製);エスベン、エスベンC、エスベンE、エスベンW、エスベンP、エスベンWX、エスベンN-400、エスベンNX、エスベンNX80、エスベンNO12S、エスベンNEZ、エスベンNO12、エスベンNE、エスベンNZ、エスベンNZ70、オルガナイト、オルガナイトD、オルガナイトT(商品名、いずれも(株)ホージュン製);クニピアF、クニピアG、クニピアG4(商品名、いずれもクニミネ工業(株)製);チクソゲルVZ、クレイトンHT、クレイトン40(商品名、いずれもロックウッド アディティブズ社製)等があげられる。 The organoclay is preferably a clay that has been subjected to an organo-treatment to improve its affinity with the resin. An example of the organoclay is layered organoclay. The organoclay may be prepared at home or may be a commercially available product. Examples of the commercially available products include Lucentite SAN, Lucentite STN, Lucentite SEN, Lucentite SPN, Somasif ME-100, Somasif MAE, Somasif MTE, Somasif MEE, and Somasif MPE (trade names, all manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd.); Esben, Esben C, Esben E, Esben W, Esben P, Esben WX, Esben N-400, Esben NX, Esben NX80, Esben NO12S, Esben NEZ, Esben NO12, Esben NE, Esben NZ, Esben NZ70, Organite, Organite D, and Organite T (trade names, all manufactured by Hojun Co., Ltd.); Kunipia F, Kunipia G, and Kunipia G4 (trade names, all manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.); Thixogel VZ, Clayton HT, and Clayton 40 (trade names, all manufactured by Rockwood Chemical Co., Ltd.) (manufactured by Additives, Inc.)

前記酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、ディスパロン4200-20(商品名、楠本化成(株)製)、フローノンSA300(商品名、共栄社化学(株)製)等があげられる。 The oxidized polyolefin may be prepared in-house or may be a commercially available product. Examples of commercially available products include Disparlon 4200-20 (product name, manufactured by Kusumoto Chemicals Co., Ltd.) and Flownon SA300 (product name, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

前記変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前記変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、BYK410(ビッグケミー社製)等があげられる。 The modified urea is a reaction product of an isocyanate monomer or its adduct with an organic amine. The modified urea may be prepared in-house or a commercially available product may be used. Examples of the commercially available product include BYK410 (manufactured by BYK-Chemie).

前記チキソトロピー付与剤は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。 The thixotropy-imparting agents may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態において、前記凸状部の前記アンチグレア層4aの粗さ平均線からの高さが、アンチグレア層4aの厚みの0.4倍未満であることが好ましい。より好ましくは、0.01倍以上0.4倍未満の範囲であり、さらに好ましくは、0.01倍以上0.3倍未満の範囲である。この範囲であれば、前記凸状部に外観欠点となる突起物が形成されることを好適に防止できる。本実施形態のアンチグレア層4aは、このような高さの凸状部を有することで、外観欠点を生じにくくすることができる。ここで、前記平均線からの高さは、例えば、特開2017-138620号公報に記載の方法により測定することができる。 In this embodiment, the height of the convex portion from the roughness mean line of the anti-glare layer 4a is preferably less than 0.4 times the thickness of the anti-glare layer 4a. More preferably, it is in the range of 0.01 times or more and less than 0.4 times, and even more preferably, it is in the range of 0.01 times or more and less than 0.3 times. Within this range, it is possible to suitably prevent the formation of protrusions that cause appearance defects on the convex portion. By having convex portions of such height, the anti-glare layer 4a of this embodiment can make appearance defects less likely to occur. Here, the height from the mean line can be measured, for example, by the method described in JP 2017-138620 A.

アンチグレア層4aにおける前記チキソトロピー付与剤の割合は、前記樹脂100重量部に対し、0.1~5重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、0.2~4重量部の範囲である。 The ratio of the thixotropy-imparting agent in the anti-glare layer 4a is preferably in the range of 0.1 to 5 parts by weight, and more preferably in the range of 0.2 to 4 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin.

アンチグレア層4aの厚み(d)は、特に制限されないが、3~12μmの範囲内にあることが好ましい。アンチグレア層4aの厚み(d)を、前記範囲とすることで、例えば、光学積層体12のカールの発生を防ぐことができ、搬送性不良等の生産性の低下の問題を回避できる。また、前記厚み(d)が前記範囲にある場合、前記粒子の重量平均粒径(D)は、前述のように、2.5~10μmの範囲内にあることが好ましい。アンチグレア層4aの厚み(d)と、前記粒子の重量平均粒径(D)とが、前述の組み合わせであることで、さらにアンチグレア性に優れるものとすることができる。アンチグレア層4aの厚み(d)は、より好ましくは、3~8μmの範囲内である。 The thickness (d) of the anti-glare layer 4a is not particularly limited, but is preferably within the range of 3 to 12 μm. By setting the thickness (d) of the anti-glare layer 4a within the above range, for example, curling of the optical laminate 12 can be prevented, and problems such as poor transportability and reduced productivity can be avoided. In addition, when the thickness (d) is within the above range, the weight average particle size (D) of the particles is preferably within the range of 2.5 to 10 μm, as described above. By combining the thickness (d) of the anti-glare layer 4a and the weight average particle size (D) of the particles as described above, the anti-glare layer can have even better anti-glare properties. The thickness (d) of the anti-glare layer 4a is more preferably within the range of 3 to 8 μm.

アンチグレア層4aの厚み(d)と前記粒子の重量平均粒径(D)との関係は、0.3≦D/d≦0.9の範囲内にあることが好ましい。このような関係にあることにより、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止でき、さらに、外観欠点のないアンチグレア層とすることができる。 The relationship between the thickness (d) of the anti-glare layer 4a and the weight average particle size (D) of the particles is preferably within the range of 0.3≦D/d≦0.9. This relationship makes it possible to provide an anti-glare layer with better anti-glare properties, prevention of white blur, and no defects in appearance.

本実施形態の光学積層体12では、前述のように、アンチグレア層4aは、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、アンチグレア層4aの表面に凸状部を形成する。前記凸状部を形成する凝集部においては、前記粒子が、アンチグレア層4aの面方向に、複数集まった状態で存在する。これにより、前記凸状部が、なだらかな形状となっている。本実施形態のアンチグレア層4aは、このような形状の凸状部を有することで、アンチグレア性を維持しつつ、かつ、白ボケを防止することができ、さらに、外観欠点を生じにくくすることができる。 In the optical laminate 12 of this embodiment, as described above, the anti-glare layer 4a forms convex portions on the surface of the anti-glare layer 4a by agglomeration of the particles and the thixotropy-imparting agent. In the aggregated portions that form the convex portions, the particles are present in a state of being gathered in a plurality of particles in the surface direction of the anti-glare layer 4a. This gives the convex portions a gentle shape. By having convex portions of this shape, the anti-glare layer 4a of this embodiment can maintain anti-glare properties while preventing white blurring, and can also reduce the occurrence of appearance defects.

アンチグレア層4aの表面形状は、アンチグレア層形成材料に含まれる粒子の凝集状態を制御することで、任意に設計することができる。前記粒子の凝集状態は、例えば、前記粒子の材質(例えば、粒子表面の化学的修飾状態、溶媒や樹脂に対する親和性等)、樹脂(バインダー)または溶媒の種類、組合せ等により制御できる。ここで、本実施形態では、前記アンチグレア層形成材料に含まれるチキソトロピー付与剤により、前記粒子の凝集状態をコントロールすることができる。この結果、本実施形態では、前記粒子の凝集状態を前述のようにすることができ、前記凸状部を、なだらかな形状とすることができる。 The surface shape of the anti-glare layer 4a can be designed as desired by controlling the aggregation state of the particles contained in the anti-glare layer-forming material. The aggregation state of the particles can be controlled, for example, by the material of the particles (e.g., the chemical modification state of the particle surface, affinity to the solvent or resin, etc.), the type and combination of resin (binder) or solvent, etc. Here, in this embodiment, the aggregation state of the particles can be controlled by the thixotropy-imparting agent contained in the anti-glare layer-forming material. As a result, in this embodiment, the aggregation state of the particles can be made as described above, and the convex portion can be made to have a gentle shape.

本実施形態の光学積層体12において、基材3が樹脂等から形成されている場合、基材3とアンチグレア層4aとの界面において、浸透層を有していることが好ましい。前記浸透層は、アンチグレア層4aの形成材料に含まれる樹脂成分が、基材3に浸透して形成される。浸透層が形成されると、基材3とアンチグレア層4aとの密着性を向上させることができ、好ましい。前記浸透層は、厚みが0.2~3μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5~2μmの範囲である。例えば、基材3がトリアセチルセルロースであり、アンチグレア層4aに含まれる樹脂がアクリル樹脂である場合には、前記浸透層を形成させることができる。前記浸透層は、例えば、光学積層体12の断面を、透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することで、確認することができ、厚みを測定することができる。 In the optical laminate 12 of this embodiment, when the substrate 3 is made of a resin or the like, it is preferable that the substrate 3 and the anti-glare layer 4a have a permeation layer at the interface between them. The permeation layer is formed by the resin component contained in the material forming the anti-glare layer 4a permeating into the substrate 3. When the permeation layer is formed, the adhesion between the substrate 3 and the anti-glare layer 4a can be improved, which is preferable. The permeation layer preferably has a thickness in the range of 0.2 to 3 μm, more preferably in the range of 0.5 to 2 μm. For example, when the substrate 3 is triacetyl cellulose and the resin contained in the anti-glare layer 4a is an acrylic resin, the permeation layer can be formed. The permeation layer can be confirmed, for example, by observing the cross section of the optical laminate 12 with a transmission electron microscope (TEM), and the thickness can be measured.

本実施形態では、このような浸透層を有する光学積層体12に適用した場合であっても、アンチグレア性と、白ボケの防止とを両立した所望するなだらかな表面凹凸形状を容易に形成することができる。前記浸透層は、アンチグレア層4aとの密着性が乏しい基材3であるほど、密着性の向上のため、厚く形成することが好ましい。 In this embodiment, even when applied to an optical laminate 12 having such a permeation layer, it is possible to easily form the desired gentle surface unevenness that combines anti-glare properties with prevention of white blur. The permeation layer is preferably formed thicker for a substrate 3 that has poor adhesion to the anti-glare layer 4a in order to improve adhesion.

本実施形態では、アンチグレア層4aにおいて、最大径が200μm以上の外観欠点がアンチグレア層4aの1m2あたり1個以下であることが好ましい。より好ましくは、前記外観欠点が無いことである。 In this embodiment, it is preferable that the number of appearance defects having a maximum diameter of 200 μm or more in the anti-glare layer 4a is 1 or less per m 2 of the anti-glare layer 4a. More preferably, there is no appearance defect.

本実施形態において、アンチグレア層4aが形成された基材3は、へイズ値が0~10%の範囲内であることが好ましい。前記ヘイズ値とは、JIS K 7136(2000年版)に準じたヘイズ値(曇度)である。前記ヘイズ値は、0~5%の範囲がより好ましく、さらに好ましくは、0~3%の範囲である。ヘイズ値を上記範囲とするためには、前記粒子と前記樹脂との屈折率差が0.001~0.02の範囲となるように、前記粒子と前記樹脂とを選択することが好ましい。ヘイズ値が前記範囲であることにより、鮮明な画像が得られ、また、暗所でのコントラストを向上させることができる。 In this embodiment, the substrate 3 on which the anti-glare layer 4a is formed preferably has a haze value in the range of 0 to 10%. The haze value is a haze value (cloudiness) according to JIS K 7136 (2000 edition). The haze value is more preferably in the range of 0 to 5%, and even more preferably in the range of 0 to 3%. In order to achieve a haze value in the above range, it is preferable to select the particles and the resin so that the refractive index difference between the particles and the resin is in the range of 0.001 to 0.02. A haze value in the above range allows for a clear image to be obtained, and also improves contrast in dark places.

本実施形態は、アンチグレア層4a表面の凹凸形状において、平均傾斜角θa(°)が.1~5.0の範囲であることが好ましく、0.3~4.5の範囲であることがより好ましく、1.0~4.0の範囲であることがさらに好ましく、1.6~4.0であることが特に好ましい。ここで、前記平均傾斜角θaは、下記数式(1)で定義される値である。前記平均傾斜角θaは、例えば、特開2017-138620に記載の方法により測定される値である。
平均傾斜角θa=tan-1Δa (1)
In this embodiment, in the uneven shape of the surface of the anti-glare layer 4a, the average tilt angle θa (°) is preferably in the range of 0.1 to 5.0, more preferably in the range of 0.3 to 4.5, even more preferably in the range of 1.0 to 4.0, and particularly preferably in the range of 1.6 to 4.0. Here, the average tilt angle θa is a value defined by the following mathematical formula (1). The average tilt angle θa is a value measured, for example, by the method described in JP 2017-138620 A.
Average inclination angle θa=tan-1Δa (1)

前記数式(1)において、Δaは、下記数式(2)に示すように、JIS B 0601(1994年度版)に規定される粗さ曲線の基準長さLにおいて、隣り合う山の頂点と谷の最下点との差(高さh)の合計(h1+h2+h3・・・+hn)を前記基準長さLで割った値である。前記粗さ曲線は、断面曲線から、所定の波長より長い表面うねり成分を位相差補償形高域フィルタで除去した曲線である。また、前記断面曲線とは、対象面に直角な平面で対象面を切断したときに、その切り口に現れる輪郭である。
Δa=(h1+h2+h3・・・+hn)/L (2)
In the above formula (1), Δa is a value obtained by dividing the sum (h1+h2+h3...+hn) of the differences (heights h) between the apexes of adjacent peaks and the lowest points of adjacent valleys in the reference length L of a roughness curve defined in JIS B 0601 (1994 edition) as shown in the following formula (2). The roughness curve is a curve obtained by removing surface waviness components longer than a predetermined wavelength from a cross-sectional curve using a phase difference compensation high-pass filter. The cross-sectional curve is the outline that appears at the cut surface when the target surface is cut by a plane perpendicular to the target surface.
Δa=(h1+h2+h3...+hn)/L (2)

θaが、上記範囲にあると、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。 When θa is within the above range, the anti-glare properties are superior and white blur can be prevented.

アンチグレア層4aを形成するにあたり、調製したアンチグレア層形成材料(塗工液)がチキソ性を示していることが好ましく、下記で規定されるTi値が、1.3~3.5の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.3~2.8の範囲である。
Ti値=β1/β2
ここで、β1はHAAKE社製レオストレス6000を用いてずり速度20(1/s)の条件で測定される粘度、β2はHAAKE社製レオストレス6000を用いてずり速度200(1/s)の条件で測定される粘度である。
When forming the anti-glare layer 4a, it is preferable that the prepared anti-glare layer-forming material (coating liquid) exhibits thixotropy, and the Ti value defined below is preferably in the range of 1.3 to 3.5, more preferably in the range of 1.3 to 2.8.
Ti value = β1/β2
Here, β1 is the viscosity measured using a RheoStress 6000 manufactured by HAAKE at a shear rate of 20 (1/s), and β2 is the viscosity measured using a RheoStress 6000 manufactured by HAAKE at a shear rate of 200 (1/s).

Ti値が、1.3未満であると、外観欠点が生じやすくなり、アンチグレア性、白ボケについての特性が悪化する。また、Ti値が、3.5を超えると、前記粒子が凝集しにくく分散状態となりやすくなる。 If the Ti value is less than 1.3, defects in appearance are more likely to occur, and anti-glare and white blur properties are deteriorated. If the Ti value exceeds 3.5, the particles are less likely to aggregate and are more likely to be dispersed.

本実施形態のアンチグレア層4aの製造方法は、特に制限されず、いかなる方法で製造されてもよいが、例えば、前記樹脂、前記粒子、前記チキソトロピー付与剤および溶媒を含むアンチグレア層形成材料(塗工液)を準備し、前記アンチグレア層形成材料(塗工液)を前記基材3の面3aに塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させてアンチグレア層4aを形成することにより、製造できる。本実施形態においては、金型による転写方式や、サンドブラスト、エンボスロールなどの適宜な方式で凹凸形状を付与する方法などを、併せて用いることもできる。 The manufacturing method of the anti-glare layer 4a of this embodiment is not particularly limited and may be any method, but for example, the anti-glare layer can be manufactured by preparing an anti-glare layer forming material (coating liquid) containing the resin, the particles, the thixotropy-imparting agent, and a solvent, applying the anti-glare layer forming material (coating liquid) to the surface 3a of the substrate 3 to form a coating film, and curing the coating film to form the anti-glare layer 4a. In this embodiment, a transfer method using a mold, or a method of imparting a concave-convex shape using an appropriate method such as sandblasting or an embossing roll can also be used in combination.

前記溶媒は、特に制限されず、種々の溶媒を使用可能であり、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。前記樹脂の組成、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤の種類、含有量等に応じて最適な溶媒種類や溶媒比率が存在する。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、2-メトキシエタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等があげられる。 The solvent is not particularly limited, and various solvents can be used. One type may be used alone, or two or more types may be used in combination. The optimal solvent type and solvent ratio exist depending on the composition of the resin, the type and content of the particles and the thixotropy-imparting agent, etc. The solvent is not particularly limited, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and 2-methoxyethanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; ethers such as diisopropyl ether and propylene glycol monomethyl ether; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; cellosolves such as ethyl cellosolve and butyl cellosolve; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene.

基材3として、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)を採用して浸透層を形成する場合は、TACに対する良溶媒が好適に使用できる。その溶媒としては、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、シクロペンタノンなどをあげることができる。 When triacetyl cellulose (TAC) is used as the substrate 3 to form the permeation layer, a good solvent for TAC can be preferably used. Examples of such a solvent include ethyl acetate, methyl ethyl ketone, and cyclopentanone.

また、溶媒を適宜選択することによって、チキソトロピー付与剤によるアンチグレア層形成材料(塗工液)へのチキソ性を良好に発現させることができる。例えば、有機粘土を用いる場合には、トルエンおよびキシレンを好適に、単独使用または併用することができ、例えば、酸化ポリオレフィンを用いる場合には、メチルエチルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルを好適に、単独使用または併用することができ、例えば、変性ウレアを用いる場合には、酢酸ブチルおよびメチルイソブチルケトンを好適に、単独使用または併用することができる。 In addition, by appropriately selecting the solvent, the thixotropy of the anti-glare layer forming material (coating liquid) can be satisfactorily expressed by the thixotropy-imparting agent. For example, when an organic clay is used, toluene and xylene can be preferably used alone or in combination. For example, when an oxidized polyolefin is used, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether can be preferably used alone or in combination. For example, when a modified urea is used, butyl acetate and methyl isobutyl ketone can be preferably used alone or in combination.

前記アンチグレア層形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。前記レベリング剤としては、塗工ムラ防止(塗工面の均一化)を目的に、例えば、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を用いることができる。本実施形態では、アンチグレア層4aの表面に防汚性が求められる場合、または、反射防止層(低屈折率層)や層間充填剤を含む層がアンチグレア層4a上に形成される場合などに応じて、適宜レベリング剤を選定することができる。本実施形態では、例えば、前記チキソトロピー付与剤を含ませることで塗工液にチキソ性を発現させることができるため、塗工ムラが発生しにくい。このため、本実施形態は、例えば、前記レベリング剤の選択肢を広げられるという優位点を有している。 Various leveling agents can be added to the anti-glare layer forming material. As the leveling agent, for example, a fluorine-based or silicone-based leveling agent can be used for the purpose of preventing coating unevenness (uniformity of the coating surface). In this embodiment, a leveling agent can be appropriately selected depending on the case where antifouling properties are required on the surface of the anti-glare layer 4a, or the case where an anti-reflection layer (low refractive index layer) or a layer containing an interlayer filler is formed on the anti-glare layer 4a. In this embodiment, for example, the thixotropy-imparting agent can be added to the coating liquid to cause thixotropy, so that coating unevenness is unlikely to occur. Therefore, this embodiment has an advantage that, for example, the selection of the leveling agent can be expanded.

前記レベリング剤の配合量は、前記樹脂100重量部に対して、例えば、5重量部以下、好ましくは0.01~5重量部の範囲である。 The amount of the leveling agent is, for example, 5 parts by weight or less, preferably in the range of 0.01 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin.

前記アンチグレア層形成材料には、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、防汚剤、酸化防止剤等が添加されてもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。 The anti-glare layer forming material may contain pigments, fillers, dispersants, plasticizers, UV absorbers, surfactants, antifouling agents, antioxidants, etc., as necessary, to the extent that performance is not impaired. These additives may be used alone or in combination of two or more.

前記アンチグレア層形成材料には、例えば、特開2008-88309号公報に記載されるような、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。 The anti-glare layer forming material can be a conventionally known photopolymerization initiator, such as that described in JP-A-2008-88309.

前記アンチグレア層形成材料を基材3の面3a上に塗工する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。 The anti-glare layer forming material can be applied to the surface 3a of the substrate 3 by a coating method such as fountain coating, die coating, spin coating, spray coating, gravure coating, roll coating, or bar coating.

前記アンチグレア層形成材料を塗工して基材3の上に塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させる。前記硬化に先立ち、前記塗膜を乾燥させることが好ましい。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。 The anti-glare layer forming material is applied to form a coating film on the substrate 3, and the coating film is cured. It is preferable to dry the coating film prior to the curing. The drying may be, for example, natural drying, air drying by blowing air, heat drying, or a combination of these methods.

前記アンチグレア層形成材料の塗膜の硬化手段は、特に制限されないが、紫外線硬化が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50~500mJ/cm2が好ましい。照射量が、50mJ/cm2以上であれば、硬化がより十分となり、形成されるアンチグレア層の硬度もより十分なものとなる。また、500mJ/cm2以下であれば、形成されるアンチグレア層の着色を防止することができる。 The means for curing the coating film of the anti-glare layer-forming material is not particularly limited, but ultraviolet curing is preferred. The radiation dose of the energy ray source is preferably 50 to 500 mJ/ cm2 as the cumulative exposure dose at an ultraviolet wavelength of 365 nm. If the radiation dose is 50 mJ/ cm2 or more, curing is more sufficient, and the hardness of the formed anti-glare layer is also more sufficient. If the radiation dose is 500 mJ/ cm2 or less, coloring of the formed anti-glare layer can be prevented.

以上のようにして、基材3の面3aに、アンチグレア層4aを形成することができる。なお、前述の方法以外の製造方法でアンチグレア層4aを形成してもよい。本実施形態のアンチグレア層4aの硬度は、鉛筆硬度において、層の厚みにも影響されるが、2H以上の硬度を有することが好ましい。 In this manner, the anti-glare layer 4a can be formed on the surface 3a of the substrate 3. The anti-glare layer 4a may be formed by a manufacturing method other than the above-mentioned method. The hardness of the anti-glare layer 4a in this embodiment is preferably a pencil hardness of 2H or more, although it is also affected by the thickness of the layer.

本実施形態は、アンチグレア層アンチグレア層4aは、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。 In this embodiment, the anti-glare layer 4a may have a multi-layer structure in which two or more layers are stacked.

本実施形態において、アンチグレア層4aの上に、上述のAR層(低屈折率層)を配置してもよい。例えば、自発光型表示装置に本実施形態に係る光学積層体12を装着した場合、画像の視認性を低下させる要因のひとつに空気とアンチグレア層界面での光の反射があげられる。AR層は、その表面反射を低減させるものである。なお、アンチグレア層3aおよび反射防止層は、それぞれ、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。 In this embodiment, the above-mentioned AR layer (low refractive index layer) may be disposed on the anti-glare layer 4a. For example, when the optical laminate 12 according to this embodiment is mounted on a self-luminous display device, one of the factors that reduces the visibility of an image is the reflection of light at the interface between the air and the anti-glare layer. The AR layer reduces this surface reflection. Note that the anti-glare layer 3a and the anti-reflection layer may each have a multi-layer structure in which two or more layers are stacked.

また、汚染物の付着防止および付着した汚染物の除去容易性の向上のために、フッ素基含有のシラン系化合物若しくはフッ素基含有の有機化合物等から形成される汚染防止層をアンチグレア層4a上に積層することが好ましい。 In addition, in order to prevent adhesion of contaminants and to improve the ease of removing adhered contaminants, it is preferable to laminate a contamination prevention layer formed from a fluorine-containing silane compound or a fluorine-containing organic compound on the anti-glare layer 4a.

本実施形態において、基材3およびアンチグレア層4aの少なくとも一方に対し表面処理を行うことが好ましい。基材3の表面を表面処理すれば、アンチグレア層4aとの密着性がさらに向上する。また、アンチグレア層4aの表面を表面処理すれば、前記AR層との密着性がさらに向上する。 In this embodiment, it is preferable to perform a surface treatment on at least one of the substrate 3 and the anti-glare layer 4a. If the surface of the substrate 3 is surface-treated, the adhesion with the anti-glare layer 4a is further improved. In addition, if the surface of the anti-glare layer 4a is surface-treated, the adhesion with the AR layer is further improved.

基材3のカール発生を防止するために、アンチグレア層4aの他方の面に対し溶剤処理を行ってもよい。また、カール発生を防止するために、アンチグレア層4aの他方の面に透明樹脂層を形成してもよい。 To prevent curling of the substrate 3, the other surface of the anti-glare layer 4a may be subjected to a solvent treatment. Also, to prevent curling, a transparent resin layer may be formed on the other surface of the anti-glare layer 4a.

<粘着剤層>
本実施形態において、第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2は、光硬化性粘着剤組成物及び溶媒型粘着剤組成物から選ばれる粘着剤組成物から形成される粘着剤層である。
<Adhesive Layer>
In this embodiment, the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the second pressure-sensitive adhesive layer 2 are pressure-sensitive adhesive layers formed from a pressure-sensitive adhesive composition selected from a photocurable pressure-sensitive adhesive composition and a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition.

本実施形態において、第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2は、両方が光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であってもよく、両方が溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層であってもよく、一方が光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であり、他方が溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層であってもよい。 In this embodiment, the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 may both be adhesive layers formed from a photocurable adhesive composition, or both may be adhesive layers formed from a solvent-based adhesive composition, or one may be an adhesive layer formed from a photocurable adhesive composition and the other may be an adhesive layer formed from a solvent-based adhesive composition.

本実施形態において、第1粘着剤層1は、段差吸収性に優れるともに、加工性にも優れる点で、溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層であることが好ましい。一方、第2粘着剤層2は、光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であっても、溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層であってもよい。 In this embodiment, the first adhesive layer 1 is preferably an adhesive layer formed from a solvent-based adhesive composition, since it has excellent step absorption properties and excellent processability. On the other hand, the second adhesive layer 2 may be an adhesive layer formed from a photocurable adhesive composition, or an adhesive layer formed from a solvent-based adhesive composition.

第1粘着剤層1を形成する粘着剤組成物は、着色剤を含有することが好ましい。第1粘着剤層1を形成する粘着剤組成物が、着色剤を含有すると、第1粘着剤層1の可視光に対する透過性が低下し、前記T1、および前記T2がT1<T2を充たす構成とする上で好ましい。可視光に対する透過性が低下し、遮光性が付与された第1粘着剤層1が、本実施形態の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の金属配線層6とLEDチップ間を封止することにより、金属配線などによる反射が防止され、LEDチップ同士の混色が防止され、画像のコントラストが向上する。 The adhesive composition forming the first adhesive layer 1 preferably contains a colorant. When the adhesive composition forming the first adhesive layer 1 contains a colorant, the visible light permeability of the first adhesive layer 1 is reduced, which is preferable in terms of making the T 1 and T 2 satisfy T 1 <T 2. The first adhesive layer 1, which has reduced visible light permeability and is provided with light-shielding properties, seals between the metal wiring layer 6 and the LED chip of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of this embodiment, thereby preventing reflection by metal wiring, etc., preventing color mixing between the LED chips, and improving the contrast of the image.

第2粘着剤層2を形成する粘着剤組成物は、着色剤を含有していてもよいが、前記T1、および前記T2がT1<T2を充たす構成とする点から、着色剤を含有していないことが好ましい。 The adhesive composition forming the second adhesive layer 2 may contain a colorant, but it is preferable that it does not contain a colorant in order to ensure that T1 and T2 satisfy the relationship T1 < T2 .

<光硬化性粘着剤組成物>
前記光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む。すなわち、本実施形態の第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。
<Photocurable pressure-sensitive adhesive composition>
The photocurable pressure-sensitive adhesive composition includes a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. That is, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition used to form the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the second pressure-sensitive adhesive layer 2 of the present embodiment includes a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.

光硬化性粘着剤組成物を用いて形成される粘着剤層は、光硬化を行うタイプのもの(第一形態)と、光硬化を行わず、後述の表示パネルと貼り合わせ後に光硬化を行うタイプのもの(第二形態)に大別される。第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2は、両方が第一形態の粘着剤層であってもよく、両方が第二形態の粘着剤層であってもよく、また、一方が第一形態の粘着剤層、他方が第二形態の粘着剤層であってもよい。 Adhesive layers formed using a photocurable adhesive composition are broadly divided into a type that undergoes photocuring (first form) and a type that does not undergo photocuring, but undergoes photocuring after bonding to a display panel (described below) (second form). The first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 may both be adhesive layers of the first form, both may be adhesive layers of the second form, or one may be an adhesive layer of the first form and the other an adhesive layer of the second form.

[第一形態]
第一形態の粘着剤層は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する光硬化性粘着剤組成物を、剥離フィルム上に塗布し、光硬化を行うことにより、形成することができる。
[First Form]
The pressure-sensitive adhesive layer of the first embodiment can be formed by applying a photocurable pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator onto a release film, and then photocuring the composition.

<光硬化性粘着剤組成物>
(ポリマー)
前記光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系等のポリマーが挙げられる。特に、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れることから、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。
<Photocurable pressure-sensitive adhesive composition>
(polymer)
Examples of the polymer contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate/vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy polymers, fluorine polymers, and rubber-based polymers such as natural rubber and synthetic rubber. In particular, acrylic polymers are preferably used because they exhibit appropriate adhesive properties such as wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and are also excellent in weather resistance and heat resistance.

前記アクリル系ポリマーは、主たる構成モノマー成分として(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含有する。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、50重量%以上が好ましく、55重量%以上がより好ましく、60重量%以上がさらに好ましい。 The acrylic polymer contains an alkyl (meth)acrylate ester as the main monomer component. In this specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic. The amount of the alkyl (meth)acrylate ester relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 55% by weight or more, and even more preferably 60% by weight or more.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が1~20である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好適に用いられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、アルキル基が分枝を有していてもよく、環状アルキル基を有していてもよい。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms is preferably used. The (meth)acrylic acid alkyl ester may have a branched alkyl group or a cyclic alkyl group.

鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸イソトリドデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸イソテトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸イソオクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル等が挙げられる。第一形態に用いられる好ましい鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ドデシルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、例えば、40~90重量%程度であり、45~80重量%または50~70重量%であってもよい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a chain alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, neopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, and isooctyl (meth)acrylate. Examples of the (meth)acrylate alkyl ester having a chain alkyl group that is preferred for use in the first embodiment include butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, and dodecyl (meth)acrylate. The amount of the (meth)acrylic acid alkyl ester having a chain alkyl group relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 40 to 90% by weight, and may also be 45 to 80% by weight or 50 to 70% by weight.

脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘプチル、(メタ)アクリル酸シクロオクチル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル;(メタ)アクリル酸イソボルニル等の二環式の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステル;ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等の三環以上の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。第一形態に用いられる好ましい脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group include (meth)acrylic acid cycloalkyl esters such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, cycloheptyl (meth)acrylate, and cyclooctyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid esters having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring such as isobornyl (meth)acrylate; and (meth)acrylic acid esters having a tricyclic or higher aliphatic hydrocarbon ring such as dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, tricyclopentanyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, and 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate. Preferred (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group used in the first embodiment include cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate. The amount of the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alicyclic alkyl group relative to the total amount of the monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

アクリル系ポリマーは、構成モノマー成分として、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、窒素含有モノマー等の極性基含有モノマーを含んでいてもよい。アクリル系ポリマーが、構成モノマー成分として、極性基含有モノマーを含むことにより、粘着剤の凝集力が高められ、接着力が向上する傾向がある。第一形態に用いられる好ましい極性基含有モノマーは、水酸基含有モノマー、窒素含有モノマーである。 アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する極性基含有モノマーの量(ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、および窒素含有モノマーの合計)は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 The acrylic polymer may contain polar group-containing monomers such as hydroxyl group-containing monomers, carboxyl group-containing monomers, and nitrogen-containing monomers as constituent monomer components. When the acrylic polymer contains a polar group-containing monomer as a constituent monomer component, the cohesive strength of the adhesive tends to be increased and the adhesive strength tends to be improved. Preferred polar group-containing monomers used in the first embodiment are hydroxyl group-containing monomers and nitrogen-containing monomers. The amount of polar group-containing monomers (the total of hydroxyl group-containing monomers, carboxyl group-containing monomers, and nitrogen-containing monomers) relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

水酸基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6‐ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8‐ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10‐ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12‐ヒドロキシラウリルや(4‐ヒドロキシメチルシクロヘキシル)‐メチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。イソシアネート架橋剤によりポリマーに架橋構造が導入される場合は、水酸基がイソシアネート基との反応点(架橋点)となり得る。第一形態に用いられる好ましい水酸基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する水酸基含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of hydroxyl group-containing monomers include (meth)acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methyl (meth)acrylate. When a crosslinking structure is introduced into the polymer by an isocyanate crosslinking agent, the hydroxyl group can be a reaction point (crosslinking point) with the isocyanate group. Preferred hydroxyl group-containing monomers used in the first embodiment are 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. The amount of the hydroxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

カルボキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸カルボキシエチル、(メタ)アクリル酸カルボキシペンチル等のアクリル系モノマーや、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸等が挙げられる。エポキシ系架橋剤によりポリマーに架橋構造が導入される場合は、カルボキシ基がエポキシ基との反応点(架橋点)となり得る。第一形態に用いられる好ましいカルボキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸である。 アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対するカルボキシ基含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of the carboxyl group-containing monomer include acrylic monomers such as (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, and carboxypentyl (meth)acrylate, as well as itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. When a crosslinking structure is introduced into the polymer by an epoxy crosslinking agent, the carboxyl group can become a reaction point (crosslinking point) with the epoxy group. A preferred carboxyl group-containing monomer used in the first embodiment is (meth)acrylic acid. The amount of the carboxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

窒素含有モノマーとしては、N-ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、(メタ)アクリロイルモルホリン、N-ビニルカルボン酸アミド類、N-ビニルカプロラクタム、アクリルアミド等のビニル系モノマーや、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマーが挙げられる。第一形態に用いられる好ましい窒素含有モノマーとしては、N-ビニルピロリドンである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する窒素含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of the nitrogen-containing monomer include vinyl monomers such as N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, (meth)acryloylmorpholine, N-vinyl carboxylic acid amides, N-vinylcaprolactam, and acrylamide, and cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. A preferred nitrogen-containing monomer used in the first embodiment is N-vinylpyrrolidone. The amount of the nitrogen-containing monomer relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

アクリル系ポリマーは、上記以外のモノマー成分(「その他のモノマー」と称する場合がある)として、酸無水物基含有モノマー、(メタ)アクリル酸のカプロラクトン付加物、スルホン酸基含有モノマー、燐酸基含有モノマー、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α-メチルスチレン、等のビニル系モノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートや(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル等のアクリル酸エステル系モノマー等を含んでいてもよい。 The acrylic polymer may contain, as monomer components other than those mentioned above (sometimes referred to as "other monomers"), vinyl monomers such as acid anhydride group-containing monomers, caprolactone adducts of (meth)acrylic acid, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, vinyl acetate, vinyl propionate, styrene, and α-methylstyrene; epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate; glycol-based acrylic ester monomers such as polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxyethylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate; acrylic ester monomers such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, fluorine (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, and 2-methoxyethyl (meth)acrylate.

光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーのガラス転移温度(Tg)は、0℃以下が好ましい。ポリマーのガラス転移温度は、-5℃以下、-10℃以下または-15℃以下であってもよい。ポリマーのガラス転移温度は、動的粘弾性測定による損失正接(tanδ)のピークトップ温度である。ポリマーに架橋構造が導入されている場合は、ポリマーの組成から、理論Tgに基づいてガラス転移温度を算出すればよい。理論Tgは、後述のFoxの式により算出されるものである。 The glass transition temperature (Tg) of the polymer contained in the photocurable adhesive composition is preferably 0°C or lower. The glass transition temperature of the polymer may be -5°C or lower, -10°C or lower, or -15°C or lower. The glass transition temperature of the polymer is the peak top temperature of the loss tangent (tan δ) measured by dynamic viscoelasticity measurement. When a crosslinked structure is introduced into the polymer, the glass transition temperature can be calculated based on the theoretical Tg from the polymer composition. The theoretical Tg is calculated using the Fox formula described below.

上記モノマー成分を、各種公知の方法により重合することにより、ポリマーが得られる。重合方法は特に限定されないが、光重合によりポリマーを調製することが好ましい。光重合では溶媒を用いずにポリマーを調製できるため、粘着剤層の形成時に溶媒の乾燥除去を必要とせず、厚みの大きい粘着剤層を均一に形成できる。 The above monomer components are polymerized by various known methods to obtain a polymer. Although the polymerization method is not particularly limited, it is preferable to prepare the polymer by photopolymerization. Since photopolymerization allows the preparation of a polymer without using a solvent, it is not necessary to dry and remove the solvent when forming the adhesive layer, and a thick adhesive layer can be formed uniformly.

第一形態の粘着剤層の作製においては、モノマー成分の一部が未反応で残存している低重合度のポリマー(プレポリマー)として調製することが好ましい。プレポリマーの調製に用いる組成物(プレポリマー形成用組成物)は、モノマーに加えて光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤は、モノマーの種類に応じて適宜選択すればよい。例えば、アクリル系ポリマーの重合には、光ラジカル重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α-ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等が挙げられる。 In the preparation of the first type of adhesive layer, it is preferable to prepare a polymer (prepolymer) with a low degree of polymerization in which a portion of the monomer component remains unreacted. The composition (prepolymer forming composition) used to prepare the prepolymer preferably contains a photopolymerization initiator in addition to the monomer. The photopolymerization initiator may be appropriately selected depending on the type of monomer. For example, a photoradical polymerization initiator is used for the polymerization of an acrylic polymer. Examples of photopolymerization initiators include benzoin ether-based photopolymerization initiators, acetophenone-based photopolymerization initiators, α-ketol-based photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride-based photopolymerization initiators, photoactive oxime-based photopolymerization initiators, benzoin-based photopolymerization initiators, benzyl-based photopolymerization initiators, benzophenone-based photopolymerization initiators, ketal-based photopolymerization initiators, thioxanthone-based photopolymerization initiators, and acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators.

重合に際しては、分子量調整等を目的として、連鎖移動剤や重合禁止剤(重合遅延剤)等を用いてもよい。連鎖移動剤としては、α-チオグリセロール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール等のチオール類や、α-メチルスチレン二量体等が挙げられる。 In the polymerization, a chain transfer agent or a polymerization inhibitor (polymerization retarder) may be used for the purpose of adjusting the molecular weight, etc. Examples of chain transfer agents include thiols such as α-thioglycerol, lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol, and α-methylstyrene dimer.

プレポリマーの重合率は特に限定されないが、基材上への塗布に適した粘度とする観点から、3~50重量%が好ましく、5~40重量%がより好ましい。プレポリマーの重合率は、光重合開始剤の種類や使用量、UV光等の活性光線の照射強度・照射時間等を調整することによって、所望の範囲に調整できる。プレポリマーの重合率は、130℃で3時間加熱した際の不揮発分であり、下記式により算出される。粘着剤層の重合率(不揮発分)も同様の方法により測定される。
重合率(%)=加熱後の重量/加熱前の重量×100
The polymerization rate of the prepolymer is not particularly limited, but is preferably 3 to 50% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, from the viewpoint of obtaining a viscosity suitable for application onto a substrate. The polymerization rate of the prepolymer can be adjusted to a desired range by adjusting the type and amount of photopolymerization initiator, the irradiation intensity and irradiation time of active light such as UV light, etc. The polymerization rate of the prepolymer is the non-volatile content when heated at 130°C for 3 hours, and is calculated by the following formula. The polymerization rate (non-volatile content) of the pressure-sensitive adhesive layer is also measured by the same method.
Polymerization rate (%) = weight after heating / weight before heating × 100

前述のように、粘着剤層の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。例えば、プレポリマーに、光重合性化合物、および光重合開始剤を添加することにより、光硬化性粘着剤組成物が得られる。プレポリマーを用いる代わりに、低分子量のポリマー(オリゴマー)を用い、低分子量のポリマーに、光重合性化合物、光重合開始剤および着色剤を混合して、光硬化性粘着剤組成物を調製してもよい。 As described above, the photocurable adhesive composition used to form the adhesive layer contains a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. For example, a photocurable adhesive composition can be obtained by adding a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator to a prepolymer. Instead of using a prepolymer, a low molecular weight polymer (oligomer) can be used, and the low molecular weight polymer can be mixed with a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant to prepare a photocurable adhesive composition.

(光重合性化合物)
前記光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合性化合物は、1分子中に1または複数の光重合性官能基を有する。光重合性官能基は、ラジカル重合性、カチオン重合性およびアニオン重合性のいずれでもよいが、反応性に優れることから、不飽和二重結合(エチレン性不飽和基)を有するラジカル重合性官能基が好ましい。
(Photopolymerizable Compound)
The photopolymerizable compound contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition has one or more photopolymerizable functional groups in one molecule. The photopolymerizable functional group may be any of radical polymerizable, cationic polymerizable, and anionic polymerizable, but a radical polymerizable functional group having an unsaturated double bond (ethylenically unsaturated group) is preferred because of its excellent reactivity.

プレポリマーには、ポリマーと未反応のモノマーが含まれており、未反応のモノマーは光重合性を保持している。そのため、光硬化性粘着剤組成物の調製においては、必ずしも光重合性化合物を添加する必要はない。プレポリマーに光重合性化合物を添加する場合、添加する光重合性化合物は、プレポリマーの調製に用いたモノマーと同一でもよく、異なっていてもよい。 A prepolymer contains a polymer and unreacted monomers, and the unreacted monomers retain photopolymerizability. Therefore, it is not necessary to add a photopolymerizable compound when preparing a photocurable adhesive composition. When a photopolymerizable compound is added to a prepolymer, the photopolymerizable compound added may be the same as or different from the monomer used in preparing the prepolymer.

ポリマーがアクリル系ポリマーである場合、光重合性化合物として添加する化合物は、ポリマーとの相溶性が高いことから、光重合性官能基として(メタ)アクリロイル基を有するモノマーまたはオリゴマーが好ましい。光重合性化合物は、1分子中に2以上の光重合性官能基を有する多官能化合物でもよい。光重合性の多官能化合物としては、多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能(メタ)アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、アルカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ウレタンジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリル酸エステル;ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、およびエトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリル酸エステル;ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート等の4官能(メタ)アクリル酸エステル;ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート等およびジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート等の5官能以上の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。 When the polymer is an acrylic polymer, the compound added as the photopolymerizable compound is preferably a monomer or oligomer having a (meth)acryloyl group as a photopolymerizable functional group, since it has high compatibility with the polymer. The photopolymerizable compound may be a polyfunctional compound having two or more photopolymerizable functional groups in one molecule. Examples of photopolymerizable polyfunctional compounds include polyfunctional (meth)acrylates. Examples of polyfunctional (meth)acrylates include bifunctional poly ... functional (meth)acrylic acid esters; trifunctional (meth)acrylic acid esters such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and ethoxylated isocyanuric acid tri(meth)acrylate; tetrafunctional (meth)acrylic acid esters such as ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and pentaerythritol tetra(meth)acrylate; and pentafunctional or higher (meth)acrylic acid esters such as dipentaerythritol penta(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

光重合性化合物として多官能化合物を用いる場合、多官能化合物の使用量は、ポリマー(プレポリマーを含む)100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、より好ましくは0.001~1重量部であり、さらに好ましくは0.005~0.5重量部である。多官能モノマーの使用量が過度に大きい場合は、光硬化後の粘着剤層の粘性が低く、接着力に劣る場合がある。多官能化合物の使用量は、10重量部以下、5重量部以下、3重量部以下または1重量部以下であってもよい。多官能モノマーの使用量は0であってもよく、0.001重量部以上、0.01重量部以上または0.1重量部以上であってもよい。 When a polyfunctional compound is used as the photopolymerizable compound, the amount of the polyfunctional compound used is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.001 to 1 part by weight, and even more preferably 0.005 to 0.5 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the polymer (including prepolymer). If the amount of the polyfunctional monomer used is excessively large, the adhesive layer after photocuring may have low viscosity and poor adhesive strength. The amount of the polyfunctional compound used may be 10 parts by weight or less, 5 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, or 1 part by weight or less. The amount of the polyfunctional monomer used may be 0, 0.001 parts by weight or more, 0.01 parts by weight or more, or 0.1 parts by weight or more.

光重合性化合物として、プレポリマーを形成するモノマーを用いる場合、水酸基含有モノマーが好ましく、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチルがより好ましい。光重合性化合物として水酸基含有モノマーを用いる場合、水酸基含有モノマーの使用量は、ポリマー(プレポリマーを含む)100重量部に対して、40重量部以下が好ましく、より好ましくは1~30重量部であり、さらに好ましくは5~20重量部である。水酸基含有モノマーの使用量は、40重量部以下、30重量部以下、20重量部以下であってもよい。水酸基含有モノマーの使用量は0であってもよく、1重量部以上、5重量部以上または10重量部以上であってもよい。 When a monomer that forms a prepolymer is used as the photopolymerizable compound, a hydroxyl group-containing monomer is preferred, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate are more preferred. When a hydroxyl group-containing monomer is used as the photopolymerizable compound, the amount of the hydroxyl group-containing monomer used is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 1 to 30 parts by weight, and even more preferably 5 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymer (including the prepolymer). The amount of the hydroxyl group-containing monomer used may be 40 parts by weight or less, 30 parts by weight or less, or 20 parts by weight or less. The amount of the hydroxyl group-containing monomer used may be 0, 1 part by weight or more, 5 parts by weight or more, or 10 parts by weight or more.

(光重合開始剤)
光硬化性粘着剤組成物は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、紫外線等の活性光線の照射により、ラジカル、酸、塩基等を発生するものであり、光重合性化合物の種類等に応じて適宜に選択できる。光重合性化合物が(メタ)アクリロイル基を有する化合物(例えば、単官能または多官能の(メタ)アクリレート)である場合は、光重合開始剤として、光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
(Photopolymerization initiator)
The photocurable adhesive composition contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator generates radicals, acids, bases, etc. by irradiation with active light such as ultraviolet rays, and can be appropriately selected according to the type of photopolymerizable compound. When the photopolymerizable compound is a compound having a (meth)acryloyl group (e.g., monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate), it is preferable to use a photoradical polymerization initiator as the photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator may be used alone or in a mixture of two or more kinds.

前記ポリマー(プレポリマーを含む)の調製(重合)の際に用いた光重合開始剤が失活せずに残存している場合は、光重合開始剤の添加を省略してもよい。ポリマーに光重合開始剤を添加する場合、添加する光重合開始剤は、ポリマーの調製に用いた光重合開始剤と同一でもよく、異なっていてもよい。 If the photopolymerization initiator used in the preparation (polymerization) of the polymer (including the prepolymer) remains without being deactivated, the addition of the photopolymerization initiator may be omitted. When a photopolymerization initiator is added to the polymer, the photopolymerization initiator added may be the same as or different from the photopolymerization initiator used in the preparation of the polymer.

光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤は、後述の着色剤による光吸収が小さい波長領域に吸収極大を有するものが好ましい。具体的には、光重合開始剤は、波長330~400nmの領域に吸収極大を有するものが好ましい。着色剤による光吸収が小さい領域に光重合開始剤が吸収極大を有することにより、着色剤による硬化阻害が抑制されるため、光硬化により重合率を十分に高めることができる。波長330~400nmの領域に吸収極大を有する光ラジカル重合開始剤としては、ヒドロキシケトン類、ベンジルジメチルケタール類、アミノケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ベンゾフェノン類、トリクロロメチル基含有トリアジン誘導体等が挙げられる。 The photopolymerization initiator contained in the photocurable adhesive composition preferably has an absorption maximum in a wavelength region where the light absorption by the colorant described below is small. Specifically, the photopolymerization initiator preferably has an absorption maximum in a wavelength region of 330 to 400 nm. By having the photopolymerization initiator have an absorption maximum in a region where the light absorption by the colorant is small, the inhibition of curing by the colorant is suppressed, and the polymerization rate can be sufficiently increased by photocuring. Examples of photoradical polymerization initiators having an absorption maximum in a wavelength region of 330 to 400 nm include hydroxyketones, benzyl dimethyl ketals, aminoketones, acylphosphine oxides, benzophenones, trichloromethyl group-containing triazine derivatives, etc.

光硬化性粘着剤組成物における光重合開始剤の含有量は、モノマー全量(ポリマーの調製に用いるモノマーと、ポリマーに添加する光重合性化合物)100重量部に対して、0.01~10重量部程度であり、0.05~5重量部程度が好ましい。 The content of the photopolymerization initiator in the photocurable adhesive composition is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably about 0.05 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of monomers (monomers used to prepare the polymer and photopolymerizable compounds added to the polymer).

(着色剤)
第一形態に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、着色剤を含有していてもよい。特に、第1粘着剤層1を形成する光硬化性粘着剤組成物が、さらに着色剤を含有することが好ましい。第1粘着剤層1を形成する光硬化性粘着剤組成物が、着色剤を含有すると、第1粘着剤層1の可視光に対する透過性が低下し、前記T1、および前記T2がT1<T2を充たす構成とする上で好ましい。可視光に対する透過性が低下し、遮光性が付与された第1粘着剤層1が、本実施形態の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の金属配線層6とLEDチップ間を封止することにより、金属配線などによる反射が防止され、LEDチップ同士の混色が防止され、画像のコントラストが向上する。
(Coloring Agent)
The photocurable adhesive composition used in the first embodiment may contain a colorant. In particular, it is preferable that the photocurable adhesive composition forming the first adhesive layer 1 further contains a colorant. When the photocurable adhesive composition forming the first adhesive layer 1 contains a colorant, the visible light transmittance of the first adhesive layer 1 is reduced, and it is preferable that the T 1 and the T 2 satisfy T 1 <T 2. The first adhesive layer 1, which has reduced visible light transmittance and light-shielding properties, seals between the metal wiring layer 6 and the LED chip of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of this embodiment, thereby preventing reflection by metal wiring, preventing color mixing between the LED chips, and improving the contrast of the image.

前記着色剤は、光硬化性粘着剤組成物に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。また、染料を使用する場合は、後述の酸化防止剤などと併用することが好ましい。 The colorant may be either a dye or a pigment, so long as it is soluble or dispersible in the photocurable adhesive composition. Dyes are preferred because even a small amount of dye can achieve low haze, and they are not prone to settling like pigments and can be distributed uniformly. Pigments are also preferred because they have high color expression even when added in small amounts. When using a pigment as a colorant, it is preferable for it to have low or no electrical conductivity. When using a dye, it is preferable to use it in combination with an antioxidant, which will be described later.

着色剤としては、特に限定されないが、可視光を吸収し、かつ紫外線透過性を有するものが好ましい。すなわち、着色剤は、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きいものが好ましい。着色剤の透過率は、波長400nmにおける透過率が50~60%程度となるように、テトラヒドロフラン(THF)等の適宜の溶媒または分散媒(波長330~700nmの範囲の吸収が小さい有機溶媒)により希釈した溶液または分散液を用いて測定する。 Although there are no particular limitations on the colorant, it is preferable that the colorant absorbs visible light and is UV-transmitting. In other words, it is preferable that the colorant has an average transmittance at wavelengths of 330 to 400 nm that is greater than the average transmittance at wavelengths of 400 to 700 nm. The transmittance of the colorant is measured using a solution or dispersion diluted with an appropriate solvent or dispersion medium (an organic solvent with low absorption in the wavelength range of 330 to 700 nm) such as tetrahydrofuran (THF) so that the transmittance at a wavelength of 400 nm is approximately 50 to 60%.

可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さい紫外線透過性の黒色顔料としては、トクシキ製の「9050BLACK」、「UVBK-0001」等が挙げられる。紫外線透過性の黒色染料としては、オリヱント化学工業製の「SOC-L-0123」等が挙げられる。 Examples of UV-transmitting black pigments that absorb less UV light than they absorb visible light include Tokushiki's "9050BLACK" and "UVBK-0001." Examples of UV-transmitting black dyes include Orient Chemical Industry's "SOC-L-0123."

黒色着色剤として一般に用いられているカーボンブラックやチタンブラックは、可視光の吸収よりも紫外線の吸収が大きい(可視光透過率よりも紫外線透過率が小さい)。そのため、紫外線に感度を有する光硬化性粘着剤組成物にカーボンブラック等の着色剤を添加すると、光硬化のために照射した紫外線の多くが着色剤により吸収され、光重合開始剤が吸収する光量が小さく、光硬化に時間を要する(積算照射光量が多くなる)。また、粘着剤層の厚みが大きい場合は、光照射面の反対側の面に到達する紫外線が少ないため、長時間の光照射を行っても、光硬化が不十分となる傾向がある。これに対して、可視光に比べて紫外線の透過率が大きい着色剤を用いることにより、着色剤に起因する硬化阻害を抑制できる。 Carbon black and titanium black, which are commonly used as black colorants, absorb more ultraviolet light than visible light (their ultraviolet transmittance is smaller than their visible light transmittance). Therefore, when a colorant such as carbon black is added to a photocurable adhesive composition that is sensitive to ultraviolet light, most of the ultraviolet light irradiated for photocuring is absorbed by the colorant, the amount of light absorbed by the photopolymerization initiator is small, and photocuring takes time (the cumulative amount of light irradiation becomes large). In addition, when the thickness of the adhesive layer is large, there is little ultraviolet light that reaches the surface opposite the light irradiated surface, so that photocuring tends to be insufficient even with long-term light irradiation. In contrast, by using a colorant that has a higher ultraviolet transmittance than visible light, it is possible to suppress the inhibition of curing caused by the colorant.

第1粘着剤層を形成する光硬化性粘着剤組成物における着色剤の含有量は、例えば、モノマー全量100重量部に対して、0.01~20重量部程度であり、着色剤の種類や、粘着剤層の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content of the colorant in the photocurable adhesive composition forming the first adhesive layer is, for example, about 0.01 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of monomers, and may be set appropriately depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the adhesive layer, etc. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion in which it is dissolved or dispersed in an appropriate solvent.

第2粘着剤層を形成する光硬化性粘着剤組成物には、着色剤は含まれていないことが好ましい。第2粘着剤層を形成する光硬化性粘着剤組成物が着色剤を含まないことにより、可視光に対する透過性が高くなり、自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の発光効率が向上する。第2粘着剤層を形成する光硬化性粘着剤組成物が着色剤を含む場合、その含有量は、例えば、モノマー全量100重量部に対して、0.1重量部以下程度である。第2粘着剤層を形成する光硬化性粘着剤組成物に着色剤が配合されない場合でも、第1粘着剤層に配合される着色剤が第2粘着剤層に移行する場合があり得る。 It is preferable that the photocurable adhesive composition forming the second adhesive layer does not contain a colorant. By not including a colorant in the photocurable adhesive composition forming the second adhesive layer, the transparency to visible light is increased, and the light-emitting efficiency of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) is improved. When the photocurable adhesive composition forming the second adhesive layer contains a colorant, the content is, for example, about 0.1 parts by weight or less per 100 parts by weight of the total amount of monomers. Even if a colorant is not blended into the photocurable adhesive composition forming the second adhesive layer, the colorant blended into the first adhesive layer may migrate to the second adhesive layer.

(シランカップリング剤)
光硬化性粘着剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、シランカップリング剤が含まれていてもよい。光硬化性粘着剤組成物にシランカップリング剤が含まれていると、ガラスに対する接着信頼性(特に、高温高湿環境下でのガラスに対する接着信頼性)が向上し、好ましい。
(Silane coupling agent)
The photocurable adhesive composition may contain a silane coupling agent within a range that does not impair the effects of the present invention. When the photocurable adhesive composition contains a silane coupling agent, the adhesive reliability to glass (particularly, the adhesive reliability to glass under a high temperature and high humidity environment) is improved, which is preferable.

前記シランカップリング剤としては、特に限定されないが、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが好ましく挙げられる。中でも、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、市販品として、例えば、商品名「KBM-403」(信越化学工業株式会社製)が挙げられる。なお、シランカップリング剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いられてもよい。 The silane coupling agent is not particularly limited, but preferred examples include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Of these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is preferred. In addition, a commercially available product such as "KBM-403" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) may be used alone or in combination of two or more kinds.

光硬化性粘着剤組成物におけるシランカップリング剤の含有量は、特に限定されないが、ポリマー100重量部に対して、0.01~1重量部が好ましく、より好ましくは0.03~0.5重量部である。 The amount of the silane coupling agent contained in the photocurable adhesive composition is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 1 part by weight, and more preferably 0.03 to 0.5 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymer.

(その他の成分)
第一形態において、光硬化性粘着剤組成物は、ポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤および着色剤以外の成分を含んでいてもよい。例えば、光硬化速度の調製等を目的として連鎖移動剤が含まれていてもよい。また、前記光硬化性粘着剤組成物の粘度調整や粘着剤層の接着力の調整等を目的として、オリゴマーや粘着付与剤が含まれていてもよい。オリゴマーとしては、例えば重量平均分子量が1000~30000程度のものが用いられる。オリゴマーとしては、アクリル系ポリマーとの相溶性に優れることから、アクリル系オリゴマーが好ましい。前記光硬化性粘着剤組成物は、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
In the first embodiment, the photocurable adhesive composition may contain components other than the polymer, the photopolymerizable compound, the photopolymerization initiator, and the colorant. For example, a chain transfer agent may be contained for the purpose of adjusting the photocuring speed. In addition, an oligomer or a tackifier may be contained for the purpose of adjusting the viscosity of the photocurable adhesive composition or the adhesive strength of the adhesive layer. As the oligomer, for example, one having a weight average molecular weight of about 1000 to 30000 is used. As the oligomer, an acrylic oligomer is preferable because it has excellent compatibility with acrylic polymers. The photocurable adhesive composition may contain additives such as a plasticizer, a softener, an antidegradant, a filler, an antioxidant, a surfactant, and an antistatic agent.

[第二形態]
第二形態の粘着剤層は、光硬化を行わないタイプの粘着剤層であり、光硬化性粘着剤組成物がシート状に形成されたものである。第二形態の粘着剤層は、光重合性化合物が未反応の状態で含まれているため、粘着剤層が光硬化性を有している。
[Second Form]
The pressure-sensitive adhesive layer of the second form is a pressure-sensitive adhesive layer of a type that does not undergo photocuring, and is a photocurable pressure-sensitive adhesive composition formed into a sheet shape. The pressure-sensitive adhesive layer of the second form contains a photopolymerizable compound in an unreacted state, so that the pressure-sensitive adhesive layer has photocurability.

第二形態の粘着剤層の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。 The photocurable adhesive composition used to form the second type of adhesive layer contains a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.

(ポリマー)
粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、第一形態と同様、各種のポリマーが適用可能であり、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、第一形態と同様である。
(polymer)
As the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive composition, various polymers can be used as in the first embodiment, and an acrylic polymer is preferably used. The monomer components constituting the acrylic polymer are the same as in the first embodiment.

後述の架橋剤により架橋構造を導入するために、ポリマーを構成するモノマー成分には、ヒドロキシ基含有モノマーおよび/またはカルボキシ基含有モノマーが含まれていることが好ましい。例えば、イソシアネート系架橋剤を用いる場合は、モノマー成分として、ヒドロキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。エポキシ系架橋剤を用いる場合は、モノマーとして、カルボキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。 In order to introduce a crosslinked structure using a crosslinking agent described below, it is preferable that the monomer components constituting the polymer contain a hydroxyl group-containing monomer and/or a carboxyl group-containing monomer. For example, when an isocyanate-based crosslinking agent is used, it is preferable that the monomer component contains a hydroxyl group-containing monomer. When an epoxy-based crosslinking agent is used, it is preferable that the monomer component contains a carboxyl group-containing monomer.

第二形態では基材上では光硬化を行わないため、固体状(定型)の粘着剤層を形成するために、光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーとして、比較的分子量が大きいものが用いられる。ポリマーの重量平均分子量は、例えば10万~200万程度である。 In the second form, photocuring is not performed on the substrate, so that a solid (standard) adhesive layer is formed, and a polymer with a relatively large molecular weight is used as the polymer contained in the photocurable adhesive composition. The weight-average molecular weight of the polymer is, for example, about 100,000 to 2,000,000.

高分子量のポリマーは固体であるため、粘着剤組成物はポリマーが有機溶媒に溶解している溶液であることが好ましい。例えば、モノマー成分を溶液重合することにより、ポリマー溶液が得られる。固体のポリマーを有機溶媒に溶解してポリマー溶液を調製してもよい。 Since the high molecular weight polymer is a solid, the adhesive composition is preferably a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent. For example, a polymer solution can be obtained by solution polymerization of the monomer components. A polymer solution can also be prepared by dissolving a solid polymer in an organic solvent.

溶液重合の溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常20~80重量%程度である。重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤(例えば、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ)等の熱重合開始剤が好ましく用いられる。重合開始剤の使用量は特に制限はされないが、例えば、ポリマーを形成するモノマー成分全量100重量部に対して、0.005~5重量部程度が好ましく、0.02~3重量部程度がより好ましい。 Ethyl acetate, toluene, etc. are generally used as the solvent for solution polymerization. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight. As the polymerization initiator, azo initiators, peroxide initiators, redox initiators combining peroxides and reducing agents (for example, a combination of persulfate and sodium hydrogen sulfite, or a combination of peroxide and sodium ascorbate), and other thermal polymerization initiators are preferably used. There are no particular restrictions on the amount of polymerization initiator used, but for example, it is preferably about 0.005 to 5 parts by weight, and more preferably about 0.02 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the monomer components that form the polymer.

(光重合性化合物)
第二形態において粘着剤組成物に含まれる光重合性化合物は、第一形態について前述したものと同様であり、1または2以上の光重合性官能基を有する化合物が用いられる。
(Photopolymerizable Compound)
In the second embodiment, the photopolymerizable compound contained in the pressure-sensitive adhesive composition is the same as that described above for the first embodiment, and a compound having one or more photopolymerizable functional groups is used.

(光重合開始剤)
第二形態において粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤は、第一形態について前述したものと同様であり、波長330~400nmの領域に吸収極大を有するものが好ましい。光重合開始剤の量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~10重量部程度であり、0.05~5重量部程度が好ましい。
(Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator contained in the pressure-sensitive adhesive composition in the second embodiment is the same as that described above for the first embodiment, and preferably has an absorption maximum in the wavelength region of 330 to 400 nm. The amount of the photopolymerization initiator is about 0.01 to 10 parts by weight, and preferably about 0.05 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer.

(着色剤)
第二形態に用いられる粘着剤組成物、着色剤を含有していてもよい。特に、第1粘着剤層1を形成する光硬化性粘着剤組成物が、さらに着色剤を含有することが好ましい。第1粘着剤層1を形成する光硬化性粘着剤組成物が、着色剤を含有すると、第1粘着剤層1の可視光に対する透過性が低下し、前記T1、および前記T2がT1<T2を充たす構成とする上で好ましい。可視光に対する透過性が低下し、遮光性が付与された第1粘着剤層1が、本実施形態の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の金属配線層6とLEDチップ間を封止することにより、金属配線などによる反射が防止され、LEDチップ同士の混色が防止され、画像のコントラストが向上する。
(Coloring Agent)
The adhesive composition used in the second embodiment may contain a colorant. In particular, it is preferable that the photocurable adhesive composition forming the first adhesive layer 1 further contains a colorant. When the photocurable adhesive composition forming the first adhesive layer 1 contains a colorant, the visible light transmittance of the first adhesive layer 1 is reduced, and it is preferable that the T 1 and T 2 satisfy T 1 <T 2. The first adhesive layer 1, which has reduced visible light transmittance and light-shielding properties, seals between the metal wiring layer 6 and the LED chip of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of this embodiment, thereby preventing reflection by metal wiring, preventing color mixing between the LED chips, and improving the contrast of the image.

第二形態に用いられる粘着剤組成物に含まれる着色剤は、第一形態について前述したものと同様であり、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きいものが好ましい。 The colorant contained in the adhesive composition used in the second embodiment is the same as that described above for the first embodiment, and it is preferable that the average transmittance at wavelengths of 330 to 400 nm is greater than the average transmittance at wavelengths of 400 to 700 nm.

(架橋剤)
第二形態の粘着剤組成物は、上記のポリマーと架橋可能な架橋剤を含むことが好ましい。ポリマーに架橋構造を導入するための架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。中でも、ポリマーの水酸基やカルボキシ基との反応性が高く、架橋構造の導入が容易であることから、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。これらの架橋剤は、ポリマー中に導入された水酸基やカルボキシ基等の官能基と反応して架橋構造を形成する。
(Crosslinking Agent)
The second type of pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a crosslinking agent capable of crosslinking with the polymer. Specific examples of the crosslinking agent for introducing a crosslinked structure into the polymer include isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, aziridine-based crosslinking agents, carbodiimide-based crosslinking agents, and metal chelate-based crosslinking agents. Among them, isocyanate-based crosslinking agents and epoxy-based crosslinking agents are preferred because they have high reactivity with the hydroxyl group or carboxyl group of the polymer and are easy to introduce a crosslinked structure. These crosslinking agents react with functional groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the polymer to form a crosslinked structure.

イソシアネート系架橋剤としては、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートが用いられる。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー製「コロネートL」)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー製「コロネートHL」)、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学製「タケネートD110N」、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(例えば、東ソー製「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物等が挙げられる。 As the isocyanate-based crosslinking agent, a polyisocyanate having two or more isocyanate groups in one molecule is used. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; trimethylolpropane/ Examples of isocyanate adducts include tolylene diisocyanate trimer adducts (e.g., Tosoh's "Coronate L"), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adducts (e.g., Tosoh's "Coronate HL"), xylylene diisocyanate trimethylolpropane adducts (e.g., Mitsui Chemicals' "Takenate D110N"), and hexamethylene diisocyanate isocyanurate (e.g., Tosoh's "Coronate HX"), etc.

エポキシ系架橋剤としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が用いられる。エポキシ系架橋剤のエポキシ基はグリシジル基であってもよい。エポキシ系架橋剤としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール-S-ジグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系架橋剤として、ナガセケムテックス製の「デナコール」、三菱ガス化学製の「テトラッドX」「テトラッドC」等の市販品を用いてもよい。 As the epoxy-based crosslinking agent, a multifunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule is used. The epoxy group of the epoxy-based crosslinking agent may be a glycidyl group. Examples of epoxy crosslinking agents include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylene diamine, diglycidyl aniline, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl-tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, resorcinol diglycidyl ether, and bisphenol-S-diglycidyl ether. As epoxy-based crosslinking agents, commercially available products such as "Denacol" manufactured by Nagase ChemteX and "Tetrad X" and "Tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical may be used.

架橋剤の量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~5重量部程度であり、0.05重量部以上、0.1重量部以上または0.2重量部以上であってもよく、3重量部以下、2重量部以下または1重量部以下であってもよい。 The amount of crosslinking agent is about 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of polymer, and may be 0.05 parts by weight or more, 0.1 parts by weight or more, or 0.2 parts by weight or more, or may be 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, or 1 part by weight or less.

(その他の成分)
第二形態の粘着剤組成物は、上記の成分以外に、オリゴマー、粘着付与剤、シランカップリング剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
The pressure-sensitive adhesive composition of the second embodiment may contain, in addition to the above-mentioned components, an oligomer, a tackifier, a silane coupling agent, a chain transfer agent, a plasticizer, a softener, an antidegradant, a filler, an antioxidant, a surfactant, an antistatic agent, etc.

<溶媒型粘着剤組成物>
本実施形態において、第1粘着剤層1及び第2粘着剤層2は、溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層(第三形態)であってもよい。前記溶媒型粘着剤組成物は、ポリマーと、溶媒とを少なくとも含み、架橋剤を含んでいてもよい。すなわち、第三形態の粘着剤層の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、ポリマーと、溶媒とを含有し、必要に応じて架橋剤を含んでいてもよい。
<Solvent-based Pressure-sensitive Adhesive Composition>
In this embodiment, the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the second pressure-sensitive adhesive layer 2 may be pressure-sensitive adhesive layers (third form) formed from a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition. The solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains at least a polymer and a solvent, and may contain a crosslinking agent. That is, the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition used to form the pressure-sensitive adhesive layer of the third form contains a polymer and a solvent, and may contain a crosslinking agent as necessary.

[第三形態]
第三形態の粘着剤層は、ポリマーと、溶媒とを含有し、必要に応じて架橋剤を含む溶媒型粘着剤組成物を、剥離フィルム上に塗布し、溶媒を乾燥除去することにより、形成することができる。
[Third Form]
The pressure-sensitive adhesive layer of the third embodiment can be formed by applying a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer and a solvent, and optionally a crosslinking agent, onto a release film, and then drying and removing the solvent.

第三形態の粘着剤層の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、ポリマーと、溶媒とを含有し、必要に応じて架橋剤を含む。 The solvent-based adhesive composition used to form the third type of adhesive layer contains a polymer and a solvent, and optionally a crosslinking agent.

(ポリマー)
溶媒型粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、第一形態と同様、各種のポリマーが適用可能であり、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、第一形態と同様である。
(polymer)
As the polymer contained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition, various polymers can be used as in the first embodiment, and an acrylic polymer is preferably used. The monomer components constituting the acrylic polymer are the same as in the first embodiment.

第三形態では基材上で固体状(定型)の粘着剤層を形成するために、溶媒型粘着剤組成物に含まれるポリマーとして、比較的分子量が大きいものが用いられる。ポリマーの重量平均分子量は、例えば10万~200万程度である。 In the third form, a polymer with a relatively large molecular weight is used as the polymer contained in the solvent-based adhesive composition in order to form a solid (standard) adhesive layer on the substrate. The weight-average molecular weight of the polymer is, for example, about 100,000 to 2,000,000.

第三形態の溶媒型粘着剤組成物に含まれる前記アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーであってもよい。第1粘着剤層1及び/又は第2粘着剤層2が、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有する溶媒型粘着剤組成物ら形成される場合、段差吸収性に優れるとともに、加工性にも優れるので、表示パネルの基板上に配列された複数のLEDチップの段差に気泡を残すことなく隙間なく封止することができると共に、加工性にも優れるため、保管時に端部から粘着剤層がはみ出す不具合が生じにくい。 The acrylic polymer contained in the solvent-based adhesive composition of the third embodiment may be a (meth)acrylic block copolymer. When the first adhesive layer 1 and/or the second adhesive layer 2 are formed from a solvent-based adhesive composition containing a (meth)acrylic block copolymer, the adhesive composition has excellent step absorption properties and excellent processability, so that the steps of the multiple LED chips arranged on the substrate of the display panel can be sealed without leaving any air bubbles, and the adhesive layer is unlikely to protrude from the edge during storage due to the excellent processability.

本実施形態において、前記第1粘着剤層1を形成する粘着剤組成物は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有する溶媒型粘着剤組成物であることが好ましい。この構成により、前記第1粘着剤層1は、段差吸収性に優れるとともに、加工性にも優れるものとなり、表示パネルの基板上に配列された複数のLEDチップや金属配線などに段差に気泡を残すことなく隙間なく封止することができるので、LEDチップ同士の混色が防止され、画像のコントラストが向上すると共に、金属配線などによる反射を効率的に防止することができる。 In this embodiment, the adhesive composition forming the first adhesive layer 1 is preferably a solvent-based adhesive composition containing a (meth)acrylic block copolymer. With this configuration, the first adhesive layer 1 has excellent step absorption properties and excellent processability, and can seal multiple LED chips and metal wiring arranged on a display panel substrate without leaving any air bubbles at the steps, thereby preventing color mixing between LED chips, improving image contrast, and efficiently preventing reflections from metal wiring, etc.

本実施形態において、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーは、0℃以上100℃以下のガラス転移温度を有する高Tgセグメントと、-100℃以上0℃未満のガラス転移温度を有する低Tgセグメントとを有し、0℃以上の領域と0℃未満の領域にそれぞれtanδのピークを有することが好ましい。 In this embodiment, the (meth)acrylic block copolymer preferably has a high Tg segment having a glass transition temperature of 0°C or more and 100°C or less, and a low Tg segment having a glass transition temperature of -100°C or more and less than 0°C, and has tan δ peaks in the range of 0°C or more and less than 0°C, respectively.

本明細書において、「0℃以上100℃以下のガラス転移温度を有する高Tgセグメント」を単に「高Tgセグメント」、「-100℃以上0℃未満のガラス転移温度を有する低Tgセグメント」を単に「低Tgセグメント」、0℃以上の領域のtanδのピークを単に「高温領域tanδピーク」、0℃未満の領域のtanδのピークを単に「低温領域tanδピーク」、前記高Tgセグメントと前記低Tgセグメントと前記高温領域tanδピークと低温領域tanδピークとを有する(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを「(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA」、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含有する溶媒型粘着剤組成物を「溶媒型粘着剤組成物A」と称する場合がある。 In this specification, a "high Tg segment having a glass transition temperature of 0°C or more and 100°C or less" may be referred to simply as a "high Tg segment", a "low Tg segment having a glass transition temperature of -100°C or more and less than 0°C" may be referred to simply as a "low Tg segment", a tan δ peak in the region of 0°C or more may be referred to simply as a "high temperature region tan δ peak", a tan δ peak in the region of less than 0°C may be referred to simply as a "low temperature region tan δ peak", a (meth)acrylic block copolymer having the high Tg segment, the low Tg segment, the high temperature region tan δ peak, and the low temperature region tan δ peak may be referred to simply as a "(meth)acrylic block copolymer A", and a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition containing the (meth)acrylic block copolymer A may be referred to simply as a "solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A".

高Tgセグメント及び低Tgセグメントにおける「セグメント」とは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの各ブロック単位を構成する部分構造をいう。 The "segment" in the high Tg segment and low Tg segment refers to the partial structure that constitutes each block unit of the (meth)acrylic block copolymer A.

前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの構造は、線状ブロックコポリマー、分岐状(星状)ブロックコポリマー、またはこれらの混合物であってもよい。このようなブロックコポリマーの構造は、求められるブロックコポリマーの物性に応じて適宜選択すればよいが、コスト面、製造容易性の観点から、線状ブロックコポリマーであることが好ましい。また、線状ブロックコポリマーは、いずれの構造(配列)であっても良いが、線状ブロックコポリマーの物性、または溶媒型粘着剤組成物Aの物性の観点から、(A-B)n型、(A-B)n-A型(nは1以上の整数、例えば1~3の整数)からなる群より選択される少なくとも1種の構造を持つブロックコポリマーであることが好ましい。これらの構造においてA及びBは、異なるモノマー組成から構成されるセグメントを意味する。本明細書において、前記線状ブロックコポリマーを構成するAで表されるセグメントを「Aセグメント」、Bで表されるセグメントを「Bセグメント」と称する場合がある。 The structure of the (meth)acrylic block copolymer A may be a linear block copolymer, a branched (star-shaped) block copolymer, or a mixture thereof. The structure of such a block copolymer may be appropriately selected depending on the desired physical properties of the block copolymer, but from the viewpoints of cost and ease of production, a linear block copolymer is preferable. The linear block copolymer may have any structure (arrangement), but from the viewpoints of the physical properties of the linear block copolymer or the physical properties of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A, it is preferable that the linear block copolymer is a block copolymer having at least one structure selected from the group consisting of (A-B) n type and (A-B) n -A type (n is an integer of 1 or more, for example, an integer of 1 to 3). In these structures, A and B mean segments composed of different monomer compositions. In this specification, the segment represented by A constituting the linear block copolymer may be referred to as the "A segment", and the segment represented by B may be referred to as the "B segment".

これらの中でも、製造容易性、溶媒型粘着剤組成物Aの物性等の観点から、A-Bで表されるAB型ジブロックコポリマー、A-B-Aで表されるABA型トリブロックコポリマーが好ましく、より好ましくはABA型トリブロックコポリマーである。ABA型トリブロックコポリマーは、両端のAセグメント同士の擬似架橋によりブロックコポリマー同士の架橋構造がより高度なものとなり、ブロックコポリマーの凝集力が向上し、より高い密着性(付着力)が発現することができるものと考えられる。なお、ABA型トリブロックコポリマーにおいて、両端に位置する2つのAセグメントは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 Among these, from the viewpoints of ease of production and physical properties of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A, AB-type diblock copolymers represented by A-B and ABA-type triblock copolymers represented by A-B-A are preferred, and ABA-type triblock copolymers are more preferred. In ABA-type triblock copolymers, the crosslinking structure between the block copolymers becomes more advanced due to the pseudo-crosslinking between the A segments at both ends, which is thought to improve the cohesive force of the block copolymer and enable the development of higher adhesion (adhesive force). In an ABA-type triblock copolymer, the two A segments located at both ends may be the same or different from each other.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合、2つのAセグメント及び1つのBセグメント(合計3つ)において、少なくとも1つが高Tgセグメントであり、少なくとも他の1つが低Tgセグメントであれば良い。製造の容易性、溶媒型粘着剤組成物Aの物性等の観点から、Aセグメントが前記高Tgセグメントであり、Bセグメントが前記低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーが好ましい。その場合において、2つのAセグメントのうち少なくとも1つが高Tgセグメントであり、Bセグメントが低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーが好ましく、2つのAセグメントの両方が高Tgセグメントであり、Bセグメントが低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーがより好ましい。 When the (meth)acrylic block copolymer A is an ABA triblock copolymer, at least one of the two A segments and one B segment (total of three) may be a high Tg segment and at least the other may be a low Tg segment. From the viewpoint of ease of production and physical properties of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A, an ABA triblock copolymer in which the A segment is the high Tg segment and the B segment is the low Tg segment is preferred. In that case, an ABA triblock copolymer in which at least one of the two A segments is a high Tg segment and the B segment is a low Tg segment is preferred, and an ABA triblock copolymer in which both of the two A segments are high Tg segments and the B segment is a low Tg segment is more preferred.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメントのガラス転移温度(Tg)は、上記の通り、0℃以上100℃以下である。高TgセグメントのTgがこの範囲にあることにより、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における加工性を向上できるという観点から、高TgセグメントのTgは、4℃以上が好ましく、6℃以上がより好ましく、8℃以上がさらに好ましく、10℃以上がさらにより好ましく、12℃以上が特に好ましい。一方、50℃を超える領域において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率(G’)が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高TgセグメントのTgは、90℃以下が好ましく、85℃以下がより好ましく、60℃以下がさらに好ましく、50℃以下がさらにより好ましく、35℃以下が特に好ましい。 The glass transition temperature (Tg) of the high Tg segment constituting the (meth)acrylic block copolymer A is, as described above, 0°C or more and 100°C or less. When the Tg of the high Tg segment is in this range, it becomes easier to control the storage modulus of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C) to a high value, and the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A is hard and has excellent processability, and the storage modulus is significantly reduced in the range exceeding 50°C, resulting in a highly fluid pressure-sensitive adhesive composition. From the viewpoint of improving the processability of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C), the Tg of the high Tg segment is preferably 4°C or more, more preferably 6°C or more, even more preferably 8°C or more, even more preferably 10°C or more, and particularly preferably 12°C or more. On the other hand, from the viewpoint that the storage modulus (G') of the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A significantly decreases and tends to become highly fluid in the range above 50°C, the Tg of the high Tg segment is preferably 90°C or less, more preferably 85°C or less, even more preferably 60°C or less, even more preferably 50°C or less, and particularly preferably 35°C or less.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する低TgセグメントのTgは、上記の通り、-100℃以上0℃未満である。低TgセグメントのガラスTgがこの範囲にあることにより、室温(25℃)において当該低Tgセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を溶媒型粘着剤組成物Aに付与できる傾向がある。室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から低TgセグメントのTgは、-95℃以上が好ましく、-90℃以上がより好ましく、-80℃以上がさらに好ましい。一方、室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低TgセグメントのTgは、-5℃以下が好ましく、-10℃以下がより好ましく、-20℃以下がさらに好ましく、-30℃以下がさらにより好ましく、-40℃以下が特に好ましい。 As described above, the Tg of the low Tg segment constituting the (meth)acrylic block copolymer A is -100°C or more and less than 0°C. When the glass Tg of the low Tg segment is in this range, only the low Tg segment becomes fluid at room temperature (25°C), and there is a tendency that the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A can be given a moderate adhesive strength while ensuring processability. From the viewpoint that the storage modulus of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A is not likely to decrease at room temperature (25°C) and the processability can be improved, the Tg of the low Tg segment is preferably -95°C or more, more preferably -90°C or more, and even more preferably -80°C or more. On the other hand, from the viewpoint that the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A can be given a moderate adhesive strength and improved processability at room temperature (25°C), the Tg of the low Tg segment is preferably -5°C or less, more preferably -10°C or less, even more preferably -20°C or less, even more preferably -30°C or less, and particularly preferably -40°C or less.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメントと低TgセグメントのTgの差(高TgセグメントのTg-低TgセグメントのTg)は、特に限定されないが、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となるという観点から、好ましくは30℃以上、より好ましくは35℃以上、より好ましくは40℃以上、より好ましくは45℃以上、さらに好ましくは50℃以上、特に好ましくは55℃以上であり、好ましくは120℃以下、より好ましくは115℃以下、より好ましくは110℃以下、より好ましくは105℃以下、さらに好ましくは100℃以下、特に好ましくは95℃以下である。 The difference in Tg between the high Tg segment and the low Tg segment constituting the (meth)acrylic block copolymer A (Tg of the high Tg segment - Tg of the low Tg segment) is not particularly limited, but from the viewpoint that the storage modulus of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C) can be easily controlled to a high level, the composition is hard and has excellent processability, and the storage modulus significantly decreases in the range above 50°C to form a highly fluid pressure-sensitive adhesive composition, the difference is preferably 30°C or higher, more preferably 35°C or higher, more preferably 40°C or higher, more preferably 45°C or higher, even more preferably 50°C or higher, particularly preferably 55°C or higher, and is preferably 120°C or lower, more preferably 115°C or lower, more preferably 110°C or lower, more preferably 105°C or lower, even more preferably 100°C or lower, particularly preferably 95°C or lower.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメント及び低Tgセグメントのガラス転移温度(Tg)は、以下のFoxの式から算出される計算ガラス転移温度である。この計算ガラス転移温度は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメント又は低Tgセグメントを構成する各モノマー成分の種類及び量に基づいて算出されるものであり、したがって、各セグメントのモノマー成分の種類及び量等を選択することにより調整することができる。 The glass transition temperature (Tg) of the high Tg segment and the low Tg segment constituting the (meth)acrylic block copolymer A is a calculated glass transition temperature calculated from the following Fox formula. This calculated glass transition temperature is calculated based on the type and amount of each monomer component constituting the high Tg segment or the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A, and therefore can be adjusted by selecting the type and amount of the monomer component of each segment.

計算ガラス転移温度(計算Tg)は、以下のFoxの式〔1〕から算出することができる。
1/計算Tg=W1/Tg(1)+W2/Tg(2)+・・・+Wn/Tg(n) 〔1〕
ここで、W1、W2、・・・Wnは共重合体を構成するモノマー成分(1)、モノマー成分(2)、・・・モノマー成分(n)の全モノマー成分に対する各重量分率(重量%)を意味し、Tg(1)、Tg(2)、・・・Tg(n)は、モノマー成分(1)、モノマー成分(2)、・・・モノマー成分(n)のホモポリマーのガラス転移温度(単位は絶対温度:K)を表す。
なお、ホモポリマーのガラス転移温度は、各種文献、カタログなどから公知であり、例えば、J. Brandup, E. H. Immergut,E. A. Grulke: Polymer Handbook:JOHNWILEY & SONS, INCに記載されている。各種文献に数値が無いモノマーについては、一般的な熱分析、例えば示差熱分析や動的粘弾性測定法等により測定した値を採用することができる。
The calculated glass transition temperature (calculated Tg) can be calculated from the following Fox formula [1].
1/Calculation Tg=W1/Tg(1)+W2/Tg(2)+...+Wn/Tg(n) [1]
Here, W1, W2, ... Wn represent the weight fractions (% by weight) of monomer component (1), monomer component (2), ... monomer component (n) constituting the copolymer with respect to the total monomer components, and Tg(1), Tg(2), ... Tg(n) represent the glass transition temperatures (units: absolute temperature: K) of homopolymers of monomer component (1), monomer component (2), ... monomer component (n).
The glass transition temperature of homopolymers is known from various documents and catalogs, and is described, for example, in J. Brandup, EH Immergut, EA Grulke: Polymer Handbook: JOHN WILEY & SONS, INC. For monomers for which no numerical value is given in the various documents, a value measured by a general thermal analysis, for example, differential thermal analysis or dynamic viscoelasticity measurement method, can be used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAが有する高温領域tanδピークが現れる温度領域は、前述の通り0℃以上(例えば、0℃以上100℃以下)である。高温領域tanδピークがこの温度範囲にあることにより、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における加工性を向上できるという観点から、高温領域tanδピークが現れる温度は、3℃以上が好ましく、6℃以上がより好ましく、9℃以上がさらに好ましく、12℃以上がさらにより好ましく、15℃以上が特に好ましい。一方、50℃を超える領域において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率(G’)が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高温領域tanδピークが現れる温度は、90℃以下が好ましく、80℃以下がより好ましく、70℃以下がさらに好ましく、65℃以下がさらに好ましく、60℃以下が特に好ましい。 The temperature range in which the high-temperature region tan δ peak of the (meth)acrylic block copolymer A appears is 0°C or higher (for example, 0°C or higher and 100°C or lower) as described above. The high-temperature region tan δ peak in this temperature range makes it easier to control the storage modulus of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C) to a high level, and the composition is hard and has excellent processability, and the storage modulus in the range above 50°C tends to decrease significantly, resulting in a highly fluid pressure-sensitive adhesive composition. From the viewpoint of improving the processability of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C), the temperature at which the high-temperature region tan δ peak appears is preferably 3°C or higher, more preferably 6°C or higher, even more preferably 9°C or higher, even more preferably 12°C or higher, and particularly preferably 15°C or higher. On the other hand, from the viewpoint that the storage modulus (G') of the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A significantly decreases and tends to become highly fluid in the range above 50°C, the temperature at which the high-temperature region tan δ peak appears is preferably 90°C or lower, more preferably 80°C or lower, even more preferably 70°C or lower, even more preferably 65°C or lower, and particularly preferably 60°C or lower.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAが有する低温領域tanδピークが現れる温度領域は、前述の通り0℃未満(例えば、-100℃以上0℃未満)である。低温領域tanδピークがこの温度範囲にあることにより、室温(25℃)において当該低Tgセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を溶媒型粘着剤組成物Aに付与できる傾向がある。室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から、低温領域tanδピークが現れる温度は、-95℃以上が好ましく、-90℃以上がより好ましく、-80℃以上がさらに好ましく、-70℃以上がさらに好ましい。一方、室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低温領域tanδピークが現れる温度は、-5℃以下が好ましく、-10℃以下がより好ましく、-20℃以下がさらに好ましく、-30℃以下がさらにより好ましく、-40℃以下が特に好ましい。 As described above, the temperature range in which the low-temperature region tan δ peak of the (meth)acrylic block copolymer A appears is less than 0°C (for example, -100°C or more and less than 0°C). Since the low-temperature region tan δ peak is in this temperature range, only the low Tg segment tends to flow at room temperature (25°C), ensuring processability while imparting moderate adhesive strength to the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A. From the viewpoint that the storage modulus of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition A is less likely to decrease at room temperature (25°C) and processability can be improved, the temperature in which the low-temperature region tan δ peak appears is preferably -95°C or more, more preferably -90°C or more, even more preferably -80°C or more, and even more preferably -70°C or more. On the other hand, from the viewpoint of being able to improve the appropriate adhesive strength and processability of the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A at room temperature (25°C), the temperature at which the low-temperature region tan δ peak appears is preferably -5°C or lower, more preferably -10°C or lower, even more preferably -20°C or lower, even more preferably -30°C or lower, and particularly preferably -40°C or lower.

前記高温領域tanδピークの極大値は、特に限定されないが、0.5~3.0であることが好ましい。高温領域tanδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの優れる加工性と形状安定性を実現できる点で好ましい。前記高温領域tanδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、0.6以上が好ましく、より好ましくは0.7以上である。また、前記高温領域tanδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、2.5以下が好ましく、より好ましくは2.2以下である。 The maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 3.0. Having the maximum value of the tan δ peak in this range is preferable in that excellent processability and shape stability of the (meth)acrylic block copolymer A can be realized. The maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is preferably 0.6 or more, more preferably 0.7 or more, in that excellent processability can be realized. In addition, the maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is preferably 2.5 or less, more preferably 2.2 or less, in that dents are less likely to occur.

前記低温領域tanδピークの極大値は、特に限定されないが、0.1~2.0であることが好ましい。低温領域tanδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの優れる加工性と形状安定性を実現できる点で好ましい。前記高温領域tanδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、0.2以上が好ましく、より好ましくは0.3以上である。また、前記低温領域tanδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、1.5以下が好ましく、より好ましくは1以下である。 The maximum value of the low-temperature region tan δ peak is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 2.0. The maximum value of the low-temperature region tan δ peak in this range is preferable in that excellent processability and shape stability of the (meth)acrylic block copolymer A can be realized. The maximum value of the high-temperature region tan δ peak is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more, in that excellent processability can be realized. In addition, the maximum value of the low-temperature region tan δ peak is preferably 1.5 or less, more preferably 1 or less, in that dents are less likely to occur.

なお、前記の高温領域tanδピークと低温領域tanδピーク、並びにそれらが現れる温度及び極大値は、動的粘弾性測定により測定されるものである。 The high-temperature region tan δ peak and low-temperature region tan δ peak, as well as the temperatures and maximum values at which they appear, are measured by dynamic viscoelasticity measurement.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAは、モノマー成分を重合して得られる複数のセグメント(高Tgセグメント及び低Tgセグメントを含む)により構成され、当該モノマー成分が、分子中に(メタ)アクリロイル基を有するモノマー(アクリル系モノマー)を含むものである。
(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA又はその各セグメントは、アクリル系モノマーをモノマー成分全量(100重量%)に対して70重量%以上含むことが好ましく、80重量%以上含むことがより好ましく、90重量%以上含むことが特に好ましい。
The (meth)acrylic block copolymer A is composed of a plurality of segments (including a high Tg segment and a low Tg segment) obtained by polymerizing monomer components, and the monomer components include a monomer having a (meth)acryloyl group in the molecule (acrylic monomer).
The (meth)acrylic block copolymer A or each segment thereof preferably contains 70% by weight or more of an acrylic monomer relative to the total amount (100% by weight) of the monomer components, more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA又はその各セグメント(高Tgセグメント及び低Tgセグメントを含む)を構成するアクリル系モノマーとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステル、および/または、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステルに由来するモノマー成分を重量割合で最も多い主たるモノマーユニットとして含む。 The acrylic monomers constituting the (meth)acrylic block copolymer A or each of its segments (including the high Tg segment and the low Tg segment) contain, as the main monomer unit with the largest weight ratio, a monomer component derived from an acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group and/or a methacrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントをなすための、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、上記の鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例が挙げられる。前記セグメントのための当該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、一種類の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよいし、二種類以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよい。前記セグメントのための当該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとして、好ましくは、アクリル酸メチル、アクリル酸n-ブチル、およびアクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸イソノニルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group for forming a segment of the (meth)acrylic block copolymer A include the above-mentioned alkyl (meth)acrylic acid esters having a linear alkyl group. As the alkyl (meth)acrylic acid ester for the segment, one type of alkyl (meth)acrylic acid ester may be used, or two or more types of alkyl (meth)acrylic acid esters may be used. As the alkyl (meth)acrylic acid ester for the segment, preferably, at least one selected from the group consisting of methyl acrylate, n-butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, and isononyl acrylate is used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、脂環式モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。前記セグメントのモノマーユニットをなすための脂環式モノマーとしては、上記の脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例が挙げられる。前記脂環式アルキル基は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子(例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基(例、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等)等が挙げられる。前記置換基の数は、特に限定されず、1~6個から適宜選択できる。当該置換基が2個以上ある場合は、2個以上の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。前記セグメントのための脂環式モノマーとしては、一種類の脂環式モノマーを用いてもよいし、二種類以上の脂環式モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための脂環式モノマーとして、好ましくは、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有する(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルであり、より好ましくは、アクリル酸シクロヘキシル、及び(メタ)アクリル酸3,3,5-トリメチルシクロヘキシルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may contain a monomer unit derived from an alicyclic monomer. Specific examples of the alicyclic monomer for forming the monomer unit of the segment include the above-mentioned (meth)acrylic acid alkyl ester having an alicyclic alkyl group. The alicyclic alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, etc.). The number of the substituents is not particularly limited and can be appropriately selected from 1 to 6. When there are two or more substituents, the two or more substituents may be the same or different. As the alicyclic monomer for the segment, one type of alicyclic monomer may be used, or two or more types of alicyclic monomers may be used. The alicyclic monomer for the segment is preferably a (meth)acrylic acid cycloalkyl ester having a cycloalkyl group having 4 to 10 carbon atoms that may have a substituent (e.g., a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and more preferably at least one selected from the group consisting of cyclohexyl acrylate and 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、水酸基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。水酸基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの水酸基を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA内のセグメントが水酸基含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすい。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may contain a monomer unit derived from a hydroxyl group-containing monomer. The hydroxyl group-containing monomer is a monomer that has at least one hydroxyl group in the monomer unit. When the segment in the (meth)acrylic block copolymer A contains a hydroxyl group-containing monomer unit, it is easy to obtain adhesiveness and appropriate cohesive strength in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A.

前記セグメントのモノマーユニットをなすための水酸基含有モノマーとしては、上記の水酸基含有モノマーの具体例が挙げられる。前記セグメントのための水酸基含有モノマーとしては、一種類の水酸基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の水酸基含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための水酸基含有モノマーとして、好ましくは、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルであり、より好ましくはアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタクリル酸2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸4-ヒドロキシブチル、およびメタクリル酸4-ヒドロキシブチルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 Specific examples of the hydroxyl-containing monomers for forming the monomer units of the segments include the above-mentioned hydroxyl-containing monomers. As the hydroxyl-containing monomer for the segments, one type of hydroxyl-containing monomer may be used, or two or more types of hydroxyl-containing monomers may be used. As the hydroxyl-containing monomer for the segments, a hydroxyl-containing (meth)acrylic acid ester is preferable, and more preferably at least one selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate is used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、窒素原子含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。窒素原子含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの窒素原子を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントが窒素原子含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて硬さや良好な接着信頼性を得られやすい。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may contain a monomer unit derived from a nitrogen atom-containing monomer. The nitrogen atom-containing monomer is a monomer that has at least one nitrogen atom in the monomer unit. When the segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains a nitrogen atom-containing monomer unit, hardness and good adhesive reliability are easily obtained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A.

前記セグメントをなすための窒素原子含有モノマーとしては、上記の窒素原子含有モノマーの具体例が挙げられる。アクリル系ポリマーのための窒素原子含有モノマーとしては、一種類の窒素原子含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の窒素原子含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための窒素原子含有モノマーとして、好ましくはN-ビニル-2-ピロリドンが用いられる。 Specific examples of the nitrogen atom-containing monomer for forming the segment include the nitrogen atom-containing monomers listed above. As the nitrogen atom-containing monomer for the acrylic polymer, one type of nitrogen atom-containing monomer may be used, or two or more types of nitrogen atom-containing monomers may be used. As the nitrogen atom-containing monomer for the segment, N-vinyl-2-pyrrolidone is preferably used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、カルボキシ基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。カルボキシ基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つのカルボキシ基を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントがカルボキシ基含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて良好な接着信頼性が得られることがある。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may contain a monomer unit derived from a carboxy group-containing monomer. The carboxy group-containing monomer is a monomer that has at least one carboxy group in the monomer unit. When the segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains a carboxy group-containing monomer unit, good adhesion reliability may be obtained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A.

前記セグメントのモノマーユニットをなすためのカルボキシ基含有モノマーとしては、上記のカルボキシ基含有モノマーの具体例が挙げられる。前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとしては、一種類のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとして、好ましくはアクリル酸が用いられる。 Specific examples of the carboxyl group-containing monomer for forming the monomer unit of the segment include the above-mentioned carboxyl group-containing monomers. As the carboxyl group-containing monomer for the segment, one type of carboxyl group-containing monomer may be used, or two or more types of carboxyl group-containing monomers may be used. As the carboxyl group-containing monomer for the segment, acrylic acid is preferably used.

さらに、前記セグメントをなすためのモノマーユニットとしては、上記のその他のモノマーが挙げられる。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントを構成するモノマーユニットにおけるその他のモノマーの含有量は、モノマー成分全量(100重量%)に対して30重量%以下である限り、特に限定されず、本発明の効果を損なわない範囲で適宜選択される。 Furthermore, examples of the monomer units for forming the segments include the other monomers described above. The content of the other monomers in the monomer units constituting the segments of the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited as long as it is 30% by weight or less based on the total amount of the monomer components (100% by weight), and is appropriately selected within a range that does not impair the effects of the present invention.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメントを構成するモノマー成分としては、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が1~3である直鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル」と称する場合がある)、炭素数が3又は4である分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステル」と称する場合がある)及び脂環式モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。これらモノマーのホモポリマーは比較的高いTgを有するため、これらから選ばれるモノマーを高Tgセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、高TgセグメントのTgを本発明所定の範囲に制御しやすい。 From the viewpoint of easily controlling the Tg of the high Tg segment within a predetermined range and imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, the monomer component constituting the high Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A preferably contains at least one selected from the group consisting of (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear alkyl group with 1 to 3 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C1-3 linear alkyl esters"), (meth)acrylic acid alkyl esters having a branched alkyl group with 3 or 4 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C3-4 branched alkyl esters"), and alicyclic monomers. Homopolymers of these monomers have relatively high Tgs, so by containing a monomer selected from these as a monomer component constituting the high Tg segment, it is easy to control the Tg of the high Tg segment within the predetermined range of the present invention.

前記脂環式モノマーとしては、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有する(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルが好ましく、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有するアクリル酸シクロアルキルエステルがより好ましく、アクリル酸シクロヘキシル(ホモポリマーのTg:15℃)、(メタ)アクリル酸3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(ホモポリマーのTg:52℃)が特に好ましい。 As the alicyclic monomer, a cycloalkyl (meth)acrylate ester having a cycloalkyl group with 4 to 10 carbon atoms which may have a substituent (e.g., a linear or branched alkyl group with 1 to 6 carbon atoms) is preferred, a cycloalkyl acrylate ester having a cycloalkyl group with 4 to 10 carbon atoms which may have a substituent (e.g., a linear or branched alkyl group with 1 to 6 carbon atoms) is more preferred, and cyclohexyl acrylate (Tg of homopolymer: 15°C) and 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate (Tg of homopolymer: 52°C) are particularly preferred.

高Tgセグメントが構成するモノマー成分として脂環式モノマーを含有する場合、脂環式モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When an alicyclic monomer is contained as a monomer component constituting the high Tg segment, the content of the alicyclic monomer relative to the total amount of monomer components (100 wt%) is preferably 10 wt% or more (e.g., 10 to 100 wt%), more preferably 20 wt% or more, more preferably 30 wt% or more, more preferably 30 wt% or more, more preferably 40 wt% or more, more preferably 50 wt% or more, more preferably 60 wt% or more, more preferably 70 wt% or more, more preferably 80 wt% or more, more preferably 80 wt% or more, even more preferably 90 wt% or more, and particularly preferably 95 wt% or more, from the viewpoint of easily controlling the Tg of the high Tg segment within a predetermined range and imparting the desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A.

前記(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸メチル(ホモポリマーのTg:8℃)が特に好ましい。
前記(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸t-ブチル(ホモポリマーのTg:35℃)が特に好ましい。
As the (meth)acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester, acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester is preferable, and methyl acrylate (Tg of homopolymer: 8° C.) is particularly preferable.
As the (meth)acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester, acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester is preferred, and t-butyl acrylate (Tg of homopolymer: 35° C.) is particularly preferred.

高Tgセグメントが構成するモノマー成分として(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル及び/又は(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルを含有する場合、(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル及び/又は(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When the high Tg segment contains a C1-3 linear alkyl (meth)ester and/or a C3-4 branched alkyl (meth)ester as a monomer component constituting the high Tg segment, the content of the C1-3 linear alkyl (meth)ester and/or the C3-4 branched alkyl (meth)ester based on the total amount of monomer components (100 wt%) is, from the viewpoint of easily controlling the Tg of the high Tg segment within a predetermined range and imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, preferably 10 wt% or more (for example, 10 to 100 wt%), more preferably 20 wt% or more, more preferably 30 wt% or more, more preferably 30 wt% or more, more preferably 40 wt% or more, more preferably 50 wt% or more, more preferably 60 wt% or more, more preferably 70 wt% or more, more preferably 80 wt% or more, more preferably 80 wt% or more, even more preferably 90 wt% or more, and particularly preferably 95 wt% or more.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分としては、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が4~18である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステル」と称する場合がある)及び水酸基含有モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。すなわち、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルのホモポリマーは比較的低いTgを有するため、これを低Tgセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、低TgセグメントのTgを本発明所定の範囲に制御しやすい。一方、水酸基含有モノマーも比較的低いTgを有し、さらに(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすくなる。従って、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有することがさらに好ましい。 From the viewpoint of easily controlling the Tg of the low Tg segment within a predetermined range and imparting the desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, it is preferable that the monomer component constituting the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains at least one selected from the group consisting of (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group having 4 to 18 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C4-18 alkyl esters") and hydroxyl group-containing monomers. That is, since a homopolymer of a (meth)acrylic acid C4-18 alkyl ester has a relatively low Tg, by containing this as a monomer component constituting the low Tg segment, it is easy to control the Tg of the low Tg segment within the predetermined range of the present invention. On the other hand, the hydroxyl group-containing monomer also has a relatively low Tg, and furthermore, it becomes easier to obtain adhesiveness and appropriate cohesive force in the (meth)acrylic block copolymer A. Therefore, it is more preferable that the monomer components constituting the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A contain both a C 4-18 alkyl (meth)acrylate and a hydroxyl group-containing monomer.

前記(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルとしては、アクリル酸C4-18アルキルエステルが好ましく、アクリル酸ブチル(ホモポリマーのTg:-55℃)、アクリル酸2-エチルヘキシル(ホモポリマーのTg:-70℃)、アクリル酸n-ヘキシル(ホモポリマーのTg:-57℃)、アクリル酸n-オクチル(ホモポリマーのTg:-65℃)、アクリル酸イソノニル(ホモポリマーのTg:-58℃)が特に好ましい。 The (meth)acrylic acid C4-18 alkyl ester is preferably an acrylic acid C4-18 alkyl ester, and particularly preferably butyl acrylate (homopolymer Tg: -55°C), 2-ethylhexyl acrylate (homopolymer Tg: -70°C), n-hexyl acrylate (homopolymer Tg: -57°C), n-octyl acrylate (homopolymer Tg: -65°C), or isononyl acrylate (homopolymer Tg: -58°C).

低Tgセグメントが構成するモノマー成分として(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルを含有する場合、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When a C4-18 alkyl (meth)ester of (meth)acrylic acid is contained as a monomer component constituting the low Tg segment, the content of the C4-18 alkyl (meth)ester of (meth)acrylic acid relative to the total amount of monomer components (100% by weight), from the viewpoint of easily controlling the Tg of the low Tg segment within a predetermined range and imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, is preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight), more preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, even more preferably 90% by weight or more, and particularly preferably 95% by weight or more.

前記水酸基含有モノマーとしては、水酸基含有(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、アクリル酸4-ヒドロキシブチル(ホモポリマーのTg:-65℃)、アクリル酸2-ヒドロキシエチル(ホモポリマーのTg:-15℃)が特に好ましい。 The hydroxyl group-containing monomer is preferably a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid alkyl ester, and particularly preferably 4-hydroxybutyl acrylate (Tg of homopolymer: -65°C) or 2-hydroxyethyl acrylate (Tg of homopolymer: -15°C).

低Tgセグメントが構成するモノマー成分として水酸基含有モノマーを含有する場合、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは1重量%以上、より好ましくは1.5重量%以上、より好ましくは2重量%以上、さらに好ましくは2.5重量%以上、特に好ましくは3重量%以上である。一方、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、より好ましくは30重量%以下、より好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下、特に好ましくは5重量%以下である。 When the low Tg segment contains a hydroxyl group-containing monomer as a monomer component, the content of the hydroxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components (100% by weight) is preferably 1% by weight or more, more preferably 1.5% by weight or more, more preferably 2% by weight or more, even more preferably 2.5% by weight or more, and particularly preferably 3% by weight or more, from the viewpoint of easily controlling the Tg of the low Tg segment within a predetermined range and imparting the desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A. On the other hand, the content of the hydroxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components (100% by weight) is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, even more preferably 10% by weight or less, and particularly preferably 5% by weight or less.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有する場合、水酸基含有モノマーと(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルの比率(水酸基含有モノマー/(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステル)は特に限定されないが、下限値は、好ましくは1/99、より好ましくは1.5/98.5、より好ましくは2/98、さらに好ましくは2.5/97.5、特に好ましくは3/97であり、一方、上限値は50/50、より好ましくは40/60、より好ましくは30/70、さらに好ましくは20/80である。 When both a C4-18 alkyl (meth)acrylate and a hydroxyl group-containing monomer are contained as monomer components constituting the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A, the ratio of the hydroxyl group-containing monomer to the C4-18 alkyl (meth)acrylate (hydroxyl group-containing monomer/ C4-18 alkyl (meth)acrylate) is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1/99, more preferably 1.5/98.5, more preferably 2/98, even more preferably 2.5/97.5, and particularly preferably 3/97, while the upper limit is 50/50, more preferably 40/60, more preferably 30/70, and even more preferably 20/80.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAは、上述のモノマー成分のリビングラジカル重合法によって製造することができる。リビングラジカル重合法は、従来のラジカル重合法の簡便性と汎用性を保ちながら、停止反応や、連鎖移動が起こりにくく、成長末端が失活することなく成長するため、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーの製造が容易である点で好ましい。 The (meth)acrylic block copolymer A can be produced by a living radical polymerization method of the above-mentioned monomer components. The living radical polymerization method is preferable in that it maintains the simplicity and versatility of conventional radical polymerization methods, while being less susceptible to termination reactions and chain transfer, and the growing end grows without being deactivated, making it easy to precisely control the molecular weight distribution and produce a polymer with a uniform composition.

リビングラジカル重合法においては、高Tgセグメントを先に製造し、高Tgセグメントに低Tgセグメントのモノマーを重合してもよく;低Tgセグメントを先に製造し、低Tgセグメントに高Tgセグメントのモノマーを重合してもよい。 In the living radical polymerization method, the high Tg segment may be produced first, and then a monomer of the low Tg segment may be polymerized onto the high Tg segment; the low Tg segment may be produced first, and then a monomer of the high Tg segment may be polymerized onto the low Tg segment.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合は、製造容易性に観点から、Aセグメントを先に製造し、AセグメントにBセグメントのモノマーを重合することが好ましい。 When the (meth)acrylic block copolymer A is an ABA triblock copolymer, from the viewpoint of ease of production, it is preferable to produce the A segment first and then polymerize the B segment monomer into the A segment.

前記リビングラジカル重合法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、重合成長末端を安定化させる手法の違いにより、遷移金属触媒を用いる方法(ATRP法);硫黄系の可逆的付加開裂連鎖移動剤(RAFT剤)を用いる方法(RAFT法);有機テルル化合物を用いる方法(TERP法)等の方法がある。これらの方法のなかでも、使用できるモノマーの多様性、分子量制御のしやすさ、金属が溶媒型粘着剤組成物に残留しないなどの観点から、RAFT法を用いることが好ましい。 The living radical polymerization method can be any known method without any particular limitation, and depending on the method for stabilizing the polymer growth terminal, there are methods such as a method using a transition metal catalyst (ATRP method); a method using a sulfur-based reversible addition-fragmentation chain transfer agent (RAFT agent) (RAFT method); and a method using an organic tellurium compound (TERP method). Among these methods, it is preferable to use the RAFT method from the viewpoints of the variety of monomers that can be used, ease of molecular weight control, and the fact that metals do not remain in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition.

前記RAFT法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、例えば、例えば、RAFT剤を用いて、モノマー成分を重合して第1のセグメントを調製する工程1(第1のRAFT重合)と、工程1で得られた第1のセグメントに、工程1でのモノマー組成とは異なるモノマー成分をさらに添加・重合して、第2のセグメントを第1のセグメントに付加する工程2(第2のRAFT重合)とを有する。第2のRAFT重合の後に、さらに第3、4・・・のRAFT重合を第2のRAFT重合と同様に行い、第3、4・・・のセグメントをさらに付加してもよい。 The RAFT method can be any known method without any particular limitations, and may, for example, include step 1 (first RAFT polymerization) of polymerizing a monomer component using a RAFT agent to prepare a first segment, and step 2 (second RAFT polymerization) of adding a second segment to the first segment by further adding and polymerizing a monomer component having a different monomer composition from that in step 1 to the first segment obtained in step 1. After the second RAFT polymerization, third, fourth, etc. RAFT polymerizations may be further performed in the same manner as the second RAFT polymerization to further add third, fourth, etc. segments.

前記工程1、工程2は、公知慣用の方法により行うことができ、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、熱や活性エネルギー線照射による重合方法(熱重合方法、活性エネルギー線重合方法)などが挙げられる。中でも、透明性、耐水性、コストなどの点で、溶液重合方法が好ましい。なお、重合は、酸素による重合阻害を抑制する点より、酸素との接触を避けて行われることが好ましい。例えば窒素雰囲気下で重合を行うことが好ましい。 The steps 1 and 2 can be carried out by known and commonly used methods, such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and polymerization using heat or active energy ray irradiation (thermal polymerization, active energy ray polymerization). Among these, the solution polymerization method is preferred in terms of transparency, water resistance, cost, etc. It is preferable to carry out the polymerization while avoiding contact with oxygen in order to suppress polymerization inhibition caused by oxygen. For example, it is preferable to carry out the polymerization under a nitrogen atmosphere.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合は、前記工程1でAセグメントを調製し、得られたAセグメントに前記工程2でBセグメントを付加して調製することが好ましい。この場合、Aセグメントとしては高Tgセグメント、Bセグメントとしては低Tgセグメントであることが好ましい。 When the (meth)acrylic block copolymer A is an ABA triblock copolymer, it is preferable to prepare the A segment in the step 1, and then add the B segment to the obtained A segment in the step 2. In this case, it is preferable that the A segment is a high Tg segment and the B segment is a low Tg segment.

前記RAFT剤としては、公知のものを特に限定なく使用することができ、例えば、下記式(1)、式(2)、又は式(3)で表される化合物(トリチオカーボネート、ジチオエステル、ジチオカーボネート)が好ましい。

Figure 0007526020000001
Figure 0007526020000002
Figure 0007526020000003
As the RAFT agent, any known agent can be used without any particular limitation. For example, a compound represented by the following formula (1), formula (2), or formula (3) (trithiocarbonate, dithioester, dithiocarbonate) is preferable.
Figure 0007526020000001
Figure 0007526020000002
Figure 0007526020000003

式(1)、式(2)、又は式(3)[式(1)~(3)]中、R1a及びR1bは、同一又は異なって、水素原子、炭化水素基、又はシアノ基を示す。R1cは、シアノ基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記R1a、R1b、及びR1cとしての炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基(直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等)が挙げられ、中でも、炭素数1~12の炭化水素基が好ましい。上記炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数1~12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基;フェニル基等の炭素数6~12のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数7~10のアリールアルキル基等が挙げられる。上記R1cとしてのシアノ基を有する炭化水素基としては、例えば、上述の炭化水素基が有する水素原子の1~3個がシアノ基で置換された基等が挙げられる。 In formula (1), formula (2), or formula (3) [formulas (1) to (3)], R 1a and R 1b are the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a cyano group. R 1c represents a hydrocarbon group which may have a cyano group. Examples of the hydrocarbon group represented by R 1a , R 1b , and R 1c include hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms (such as linear, branched, or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon groups), and among these, hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms are preferred. Specific examples of the hydrocarbon group include linear, branched, or cyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, cyclohexyl, dodecyl, and octadecyl groups, aryl groups having 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl groups, and arylalkyl groups having a total of 7 to 10 carbon atoms, such as benzyl and phenethyl groups. Examples of the hydrocarbon group having a cyano group as R 1c include the above-mentioned hydrocarbon groups in which 1 to 3 hydrogen atoms have been substituted with cyano groups.

式(1)~(3)中、R2は、炭化水素基、又は、その炭化水素基が有する水素原子の一部がカルボキシル基で置換された基(例えば、カルボキシアルキル基)を示す。上記炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基(直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等)が挙げられ、中でも、炭素数1~12の炭化水素基が好ましい。炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数1~12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数7~10のアリールアルキル基等が挙げられる。 In formulas (1) to (3), R 2 represents a hydrocarbon group or a group in which some of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group have been substituted with a carboxyl group (e.g., a carboxyalkyl group). Examples of the hydrocarbon group include hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms (such as linear, branched, or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon groups), and among these, hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms are preferred. Specific examples of the hydrocarbon group include linear, branched, or cyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a cyclohexyl group, a dodecyl group, or an octadecyl group; and arylalkyl groups having a total of 7 to 10 carbon atoms, such as a benzyl group or a phenethyl group.

RAFT法では、式(1)~(3)に示すRAFT剤中の硫黄原子と当該硫黄原子に隣接するメチレン基との間に、原料モノマーが挿入するように反応して、重合が進行する。 In the RAFT method, the raw material monomer reacts by being inserted between the sulfur atom in the RAFT agent shown in formulas (1) to (3) and the methylene group adjacent to the sulfur atom, and polymerization proceeds.

前記RAFT剤の多くは、商業的に入手可能である。商業的に入手できないものは、公知乃至慣用の方法により容易に合成することができる。なお、本発明においてRAFT剤は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 Many of the RAFT agents are commercially available. Those that are not commercially available can be easily synthesized by known or conventional methods. In the present invention, the RAFT agents can be used alone or in combination of two or more.

RAFT剤としては、ジベンジルトリチオカーボネート、S-シアノメチル-S-ドデシルトリチオカーボネート等のトリチオカーボネート類;ジチオプロピオン酸シアノエチル、ジチオプロピオン酸ベンジル、ジチオ安息香酸ベンジル、ジチオ安息香酸アセトキシエチル等のジチオエステル類;O-エチル-S-(1-フェニルエチル)ジチオカーボネート、O-エチル-S-(2-プロポキシエチル)ジチオカーボネート、O-エチル-S-(1-シアノ-1-メチルエチル)ジチオカーボネート等のジチオカーボネート類等が挙げられ、このうち、トリチオカーボネート類が好ましく、式(1)において左右対称構造を有するトリチオカーボネート類がより好ましく、特にジベンジルトリチオカーボネート、ビス{4-[エチル-(2-アセチロキシエチル)カルバモイル]ベンジル}トリチオカーボネートが好ましい。 Examples of RAFT agents include trithiocarbonates such as dibenzyl trithiocarbonate and S-cyanomethyl-S-dodecyl trithiocarbonate; dithioesters such as cyanoethyl dithiopropionate, benzyl dithiopropionate, benzyl dithiobenzoate, and acetoxyethyl dithiobenzoate; and dithiocarbonates such as O-ethyl-S-(1-phenylethyl)dithiocarbonate, O-ethyl-S-(2-propoxyethyl)dithiocarbonate, and O-ethyl-S-(1-cyano-1-methylethyl)dithiocarbonate. Of these, trithiocarbonates are preferred, and trithiocarbonates having a symmetrical structure in formula (1) are more preferred, with dibenzyl trithiocarbonate and bis{4-[ethyl-(2-acetyloxyethyl)carbamoyl]benzyl}trithiocarbonate being particularly preferred.

前記工程1は、RAFT剤の存在下、モノマー成分を重合することにより行うことができる。工程1においてRAFT剤の使用量は、モノマー成分の総量100重量部に対して、通常は0.05~20重量部、好ましくは0.05~10重量部である。このような使用量であれば、反応制御が容易であり、また得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。
前記工程2は、前記工程1で得られた重合反応混合物に、モノマー成分を添加してさらに重合することにより行うことができる。
The step 1 can be carried out by polymerizing the monomer components in the presence of a RAFT agent. The amount of the RAFT agent used in step 1 is usually 0.05 to 20 parts by weight, and preferably 0.05 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. With such an amount used, the reaction can be easily controlled, and the weight average molecular weight of the resulting segment can be easily controlled.
The step 2 can be carried out by adding a monomer component to the polymerization reaction mixture obtained in the step 1 and further polymerizing the monomer component.

RAFT法は、重合開始剤の存在下に行うことが好ましい。重合開始剤としては、例えば、通常の有機系重合開始剤が挙げられ、具体的には、過酸化物、アゾ化合物が挙げられ、これらの中でも、アゾ化合物が好ましい。重合開始剤は1種単独で又は2種以上を用いることができる。 The RAFT method is preferably carried out in the presence of a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include ordinary organic polymerization initiators, specifically peroxides and azo compounds, and among these, azo compounds are preferred. The polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more kinds.

過酸化物系重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイルおよびtert-ブチルペルマレエートが挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-シクロプロピルプロピオニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2-フェニルアゾ-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロリド、2,2’-アゾビス(N,N’-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2’-アゾビス(イソブチルアミド)ジヒドレート、4,4’-アゾビス(4-シアノペンタン酸)、2,2’-アゾビス(2-シアノプロパノール)、ジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-(2-ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]が挙げられる。
Examples of peroxide polymerization initiators include benzoyl peroxide and tert-butyl permaleate.
Examples of the azo compound include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2-cyclopropylpropionitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), 2-(carbamoylazo)isobutyronitrile, 2-phenylazo-4-methoxy-2,4- Dimethylvaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis(N,N'-dimethyleneisobutylamidine), 2,2'-azobis(isobutylamide) dihydrate, 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid), 2,2'-azobis(2-cyanopropanol), dimethyl-2,2'-azobis(2-methylpropionate), and 2,2'-azobis[2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)propionamide].

重合開始剤の使用量は、モノマー成分の総量100重量部に対して、通常は0.001~2重量部、好ましくは0.002~1重量部である。このような使用量であれば、得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。 The amount of polymerization initiator used is usually 0.001 to 2 parts by weight, and preferably 0.002 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of the total amount of monomer components. If used in this amount, it is easy to control the weight average molecular weight of the resulting segment.

RAFT法は、重合溶媒を使用しない塊状重合であってもよいが、重合溶媒を使用することが好ましい。重合溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素;クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドン等のアミド;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシドが挙げられる。重合溶媒は1種単独で又は2種以上を用いることができる。 The RAFT process may be a bulk polymerization without using a polymerization solvent, but it is preferable to use a polymerization solvent. Examples of polymerization solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, and n-octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane; halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, and chlorobenzene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole, phenylethyl ether, and diphenyl ether; esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane. The polymerization solvents can be used alone or in combination of two or more.

重合溶媒の使用量としては、特に限定されず、例えば、モノマー成分1gに対して、0.01mL以上が好ましく、より好ましくは0.05mL以上、さらに好ましくは0.1mL以上であり、50mL以下が好ましく、より好ましくは10mL以下、さらに好ましくは1mL以下である。 The amount of polymerization solvent used is not particularly limited, and is, for example, preferably 0.01 mL or more, more preferably 0.05 mL or more, and even more preferably 0.1 mL or more per 1 g of monomer component, and is preferably 50 mL or less, more preferably 10 mL or less, and even more preferably 1 mL or less.

RAFT法での反応温度は、通常は60~120℃、好ましくは70~110℃であり、通常は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。この反応は常圧、加圧および減圧のいずれの条件でも行うことができ、通常は常圧で行われる。また、反応時間は通常は1~20時間、好ましくは2~14時間である。 The reaction temperature in the RAFT method is usually 60 to 120°C, preferably 70 to 110°C, and is usually carried out under an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. This reaction can be carried out under normal pressure, elevated pressure, or reduced pressure, and is usually carried out at normal pressure. The reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 2 to 14 hours.

上述のRAFT法の重合反応条件は、それぞれ工程1および工程2に適用されうる。 The polymerization reaction conditions for the RAFT method described above can be applied to steps 1 and 2, respectively.

重合反応の終了後、得られた反応混合物から、通常の分離精製手段により使用溶媒、残存モノマーの除去等を行い、目的とする(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを分離することができる。 After the polymerization reaction is completed, the solvent used and residual monomers can be removed from the resulting reaction mixture by conventional separation and purification means, and the desired (meth)acrylic block copolymer A can be isolated.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメント又は低Tgセグメントを前記工程1で調製する場合、当該高Tgセグメント又は低Tgセグメントの重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、好ましくは10,000~1,000,000であり、より好ましくは50,000~500,000、さらに好ましくは100,000~300,000である。高Tgセグメント又は低TgセグメントのMwがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。
前記のMwは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに高Tgセグメント又は低Tgセグメントが二つ以上存在する場合、その和のMwである。
When the high Tg segment or low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A is prepared in the above step 1, the weight average molecular weight (Mw) of the high Tg segment or low Tg segment is not particularly limited, but is preferably 10,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000, and even more preferably 100,000 to 300,000. The Mw of the high Tg segment or low Tg segment being within this range is suitable for achieving the above-mentioned effects of the present invention.
When the (meth)acrylic block copolymer A has two or more high Tg segments or two or more low Tg segments, the above Mw is the sum of the Mw of the high Tg segments or the low Tg segments.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、好ましくは20万(200,000)以上であり、より好ましくは300,000~5,000,000、さらに好ましくは400,000~2,500,000である。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのMwがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。 The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited, but is preferably 200,000 or more, more preferably 300,000 to 5,000,000, and even more preferably 400,000 to 2,500,000. Having the Mw of the (meth)acrylic block copolymer A within this range is suitable for achieving the effects of the present invention described above.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの分子量分布(Mw/Mn)は、特に限定されないが、好ましくは1より大きく、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは2以上であり、特に好ましくは2.5以上であり、好ましくは5以下、より好ましくは4.5以下、さらに好ましくは4以下、特に好ましくは3.5以下である。 The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited, but is preferably greater than 1, more preferably 1.5 or more, even more preferably 2 or more, particularly preferably 2.5 or more, and is preferably 5 or less, more preferably 4.5 or less, even more preferably 4 or less, particularly preferably 3.5 or less.

なお、上記重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)は、GPC法により測定されるものである。 The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) are measured by GPC.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA中の高Tgセグメントの含有率は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA全体100重量%中において10重量%以上が好ましく、より好ましくは20重量%以上、さらに好ましくは25重量%以上であり、特に好ましくは30重量%以上であり、95重量%以下が好ましく、より好ましくは90重量%以下、さらに好ましくは85重量%以下である。 The content of the high Tg segment in (meth)acrylic block copolymer A is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, even more preferably 25% by weight or more, and particularly preferably 30% by weight or more, and is preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, and even more preferably 85% by weight or less, based on 100% by weight of the total (meth)acrylic block copolymer A.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA中の低Tgセグメントの含有率は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA全体100重量%中において5重量%以上が好ましく、より好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは15重量%以上であり、60重量%以下が好ましく、より好ましくは50重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下、特に好ましくは30重量%以下である。 The content of the low Tg segment in (meth)acrylic block copolymer A is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, even more preferably 15% by weight or more, and is preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, even more preferably 40% by weight or less, and particularly preferably 30% by weight or less, based on 100% by weight of the total (meth)acrylic block copolymer A.

前記各セグメントの含有率及びそれらの比率は、前記RAFT法の各工程で得られる各セグメント又は(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの重量平均分子量(Mw)から算出でき、各セグメントを形成する際のモノマーの仕込み比および各モノマーの重合率等で制御することができる。 The content and ratio of each of the segments can be calculated from the weight average molecular weight (Mw) of each segment or (meth)acrylic block copolymer A obtained in each step of the RAFT method, and can be controlled by the monomer charge ratio when forming each segment and the polymerization rate of each monomer, etc.

溶媒型粘着剤組成物Aにおける(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの含有量は、特に限定されないが、室温(25℃)での優れた加工性と50℃を超える領域での優れた段差吸収性を得る観点から、溶媒型粘着剤組成物A全量(全重量、100重量%)に対して、50重量%以上(例えば、50~100重量%)であることが好ましく、より好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。 The content of (meth)acrylic block copolymer A in solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining excellent processability at room temperature (25°C) and excellent step absorption in the range exceeding 50°C, it is preferably 50% by weight or more (e.g., 50 to 100% by weight) relative to the total amount of solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A (total weight, 100% by weight), more preferably 60% by weight or more, even more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.

(溶媒)
第三形態におけるポリマーは固体であるため、溶媒型粘着剤組成物はポリマーが有機溶媒に溶解している溶液である。例えば、モノマー成分を溶液重合することにより、ポリマー溶液が得られる。固体のポリマーを有機溶媒に溶解してポリマー溶液を調製してもよい。
(solvent)
Since the polymer in the third form is solid, the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition is a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent. For example, the polymer solution can be obtained by solution polymerization of the monomer components. The polymer solution can also be prepared by dissolving the solid polymer in an organic solvent.

溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常20~80重量%程度である。 Ethyl acetate, toluene, etc. are generally used as the solvent. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight.

モノマー成分を溶液重合する場合の重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤(例えば、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ)等の熱重合開始剤が好ましく用いられる。重合開始剤の使用量は特に制限はされないが、例えば、ポリマーを形成するモノマー成分全量100重量部に対して、0.005~5重量部程度が好ましく、0.02~3重量部程度がより好ましい。 When the monomer components are solution polymerized, the polymerization initiator preferably used is a thermal polymerization initiator such as an azo initiator, a peroxide initiator, or a redox initiator that combines a peroxide and a reducing agent (for example, a combination of a persulfate and sodium hydrogen sulfite, or a combination of a peroxide and sodium ascorbate). There are no particular restrictions on the amount of polymerization initiator used, but for example, it is preferably about 0.005 to 5 parts by weight, and more preferably about 0.02 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the monomer components that form the polymer.

(着色剤)
第三形態の粘着剤層の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、着色剤を含んでいてもよい。特に、第1粘着剤層1を形成する溶媒粘着剤組成物が、さらに着色剤を含有することが好ましい。第1粘着剤層1を形成する溶媒型粘着剤組成物が、着色剤を含有すると、第1粘着剤層1の可視光に対する透過性が低下し、前記T1、および前記T2がT1<T2を充たす構成とする上で好ましい。可視光に対する透過性が低下し、遮光性が付与された第1粘着剤層1が、本実施形態の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の金属配線層6とLEDチップ間を封止することにより、金属配線などによる反射が防止され、LEDチップ同士の混色が防止され、画像のコントラストが向上する。
(Coloring Agent)
The solvent-based adhesive composition used to form the adhesive layer of the third embodiment may contain a colorant. In particular, it is preferable that the solvent-based adhesive composition forming the first adhesive layer 1 further contains a colorant. When the solvent-based adhesive composition forming the first adhesive layer 1 contains a colorant, the visible light transmittance of the first adhesive layer 1 is reduced, and it is preferable to configure the T 1 and T 2 to satisfy T 1 <T 2. The first adhesive layer 1, which has reduced visible light transmittance and is provided with light-shielding properties, seals between the metal wiring layer 6 and the LED chip of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of this embodiment, thereby preventing reflection by metal wiring, etc., preventing color mixing between the LED chips, and improving the contrast of the image.

着色剤は、溶媒型粘着剤組成物に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。また、染料を使用する場合は、酸化防止剤などと併用することが好ましい。 The colorant may be either a dye or a pigment, so long as it is soluble or dispersible in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition. Dyes are preferred because even a small amount of dye can achieve low haze, and unlike pigments, they are not prone to settling and can be distributed uniformly. Pigments are also preferred because they have high color expression even when added in small amounts. When using a pigment as the colorant, it is preferable for it to have low or no electrical conductivity. When using a dye, it is preferable to use it in combination with an antioxidant, etc.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物に含まれる着色剤としては、第一形態について前述した紫外線透過性着色剤に加えて、紫外線吸収性着色剤も含まれる。 In the third embodiment, the colorants contained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition include ultraviolet-absorbing colorants in addition to the ultraviolet-transmitting colorants described above for the first embodiment.

紫外線透過性の黒色顔料としては、トクシキ製の「9050BLACK」、「UVBK-0001」等が挙げられる。紫外線吸収性の黒色染料としては、オリヱント化学工業製の「VALIFAST BLACK 3810」、「NUBIAN Black PA-2802」等が挙げられる。紫外線吸収性の黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。 Examples of UV-transmitting black pigments include "9050BLACK" and "UVBK-0001" manufactured by Tokushiki. Examples of UV-absorbing black dyes include "VALIFAST BLACK 3810" and "NUBIAN Black PA-2802" manufactured by Orient Chemical Industries. Examples of UV-absorbing black pigments include carbon black and titanium black.

溶媒型粘着剤組成物における着色剤の含有量は、例えば、モノマー全量100重量部に対して、0.01~20重量部程度であり、着色剤の種類や、粘着剤層の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content of the colorant in the solvent-based adhesive composition is, for example, about 0.01 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of monomers, and may be set appropriately depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the adhesive layer, etc. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion in which it is dissolved or dispersed in an appropriate solvent.

(架橋剤)
第三形態の溶媒型粘着剤組成物は、上記のポリマーと架橋可能な架橋剤を含んでいてもよい。なお、溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含む場合、第三形態の粘着剤層は、十分な形状安定性を有するため、架橋剤を含まなくてもよい。
(Crosslinking Agent)
The solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third embodiment may contain a crosslinking agent capable of crosslinking with the above-mentioned polymer. When the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains a (meth)acrylic block copolymer, the pressure-sensitive adhesive layer of the third embodiment has sufficient shape stability and therefore does not need to contain a crosslinking agent.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物が架橋剤を含む場合、架橋剤としては、第二形態について前述したものと同様であり、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。 In the third embodiment, when the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, the crosslinking agent is the same as that described above for the second embodiment, and isocyanate-based crosslinking agents and epoxy-based crosslinking agents are preferred.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物が架橋剤を含む場合、その含有量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~5重量部程度であり、0.05重量部以上、0.1重量部以上または0.2重量部以上であってもよく、3重量部以下、2重量部以下または1重量部以下であってもよい。 In the third embodiment, when the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, the content is about 0.01 to 5 parts by weight, and may be 0.05 parts by weight or more, 0.1 parts by weight or more, or 0.2 parts by weight or more, or may be 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, or 1 part by weight or less, relative to 100 parts by weight of the polymer.

(その他の成分)
第三形態の溶媒型粘着剤組成物は、上記の成分以外に、オリゴマー、粘着付与剤、シランカップリング剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
The solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third embodiment may contain, in addition to the above-mentioned components, an oligomer, a tackifier, a silane coupling agent, a chain transfer agent, a plasticizer, a softener, an antidegradant, a filler, an antioxidant, a surfactant, an antistatic agent, etc.

<光学積層体>
本実施形態において、光学積層体10~12は、基材3の面3b上に、第2粘着剤層2を積層し、さらに第1粘着剤層1を積層させることより調製することができる。
<Optical laminate>
In this embodiment, the optical laminates 10 to 12 can be prepared by laminating the second pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface 3 b of the substrate 3 , and further laminating the first pressure-sensitive adhesive layer 1 thereon.

[第一形態]
基材3の面3b上に第一形態の第2粘着剤層2を積層させる方法は、特に限定されず、例えば、剥離フィルム上に前記光硬化性粘着剤組成物を塗布してシート上に成形し、光硬化を行ってシート状の第2粘着剤層2を作製した後に基材3の面3b上に貼り合わせることにより行うことができる。
[First Form]
The method for laminating the second pressure-sensitive adhesive layer 2 of the first form on the surface 3 b of the substrate 3 is not particularly limited, and can be performed, for example, by applying the photocurable pressure-sensitive adhesive composition onto a release film, forming it into a sheet, photocuring it to produce a sheet-like second pressure-sensitive adhesive layer 2, and then laminating it onto the surface 3 b of the substrate 3.

基材3に積層された第2粘着剤層2に、さらに第1粘着剤層1を積層させる方法は、特に限定されず、例えば、剥離フィルム上に前記光硬化性粘着剤組成物を塗布してシート上に成形し、光硬化を行ってシート状の第1粘着剤層1を作製した後に、基材3の面3b上に積層された第2粘着剤層に貼り合わせることにより行うことができる。 The method of laminating the first adhesive layer 1 on the second adhesive layer 2 laminated on the substrate 3 is not particularly limited, and can be performed, for example, by applying the photocurable adhesive composition onto a release film, forming it into a sheet, photocuring it to produce a sheet-like first adhesive layer 1, and then bonding it to the second adhesive layer laminated on the surface 3b of the substrate 3.

光硬化性粘着剤組成物を剥離フィルム上にシート状(層状)に塗布し、剥離フィルム上の粘着剤組成物の塗膜に紫外線を照射して、光硬化を行うことにより、第一形態の第1粘着剤層又は第2粘着剤層が得られる。光硬化を行う際は、塗膜の表面にさらに剥離フィルムを付設して、光硬化性粘着剤組成物を2枚の剥離フィルム間に挟持した状態で紫外線を照射して、酸素による重合阻害を防止することが好ましい。光硬化の前に、着色剤の溶媒または分散媒の除去等を目的として、シート状の塗膜を加熱してもよい。加熱による溶媒等の除去を行う場合は、剥離フィルムを付設する前に実施することが好ましい。 The photocurable adhesive composition is applied in a sheet (layer) on a release film, and the coating of the adhesive composition on the release film is irradiated with ultraviolet light to perform photocuring, thereby obtaining the first adhesive layer or the second adhesive layer of the first form. When performing photocuring, it is preferable to further attach a release film to the surface of the coating film and irradiate ultraviolet light while the photocurable adhesive composition is sandwiched between two release films, thereby preventing polymerization inhibition due to oxygen. Before photocuring, the sheet-like coating film may be heated for the purpose of removing the solvent or dispersion medium of the colorant, etc. When removing the solvent, etc. by heating, it is preferable to perform this before attaching the release film.

剥離フィルムのフィルム基材としては、各種の樹脂材料からなるフィルムが用いられる。樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂が特に好ましい。フィルム基材の厚みは、10~200μmが好ましく、25~150μmがより好ましい。離型層の材料としては、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤、脂肪酸アミド系離型剤等が挙げられる。離型層の厚みは、一般には、10~2000nm程度である。 Films made of various resin materials are used as the film substrate of the release film. Examples of the resin materials include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth)acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Among these, polyester resins such as polyethylene terephthalate are particularly preferred. The thickness of the film substrate is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 25 to 150 μm. Examples of materials for the release layer include silicone-based release agents, fluorine-based release agents, long-chain alkyl-based release agents, and fatty acid amide-based release agents. The thickness of the release layer is generally about 10 to 2000 nm.

剥離フィルム上への粘着剤組成物の塗布方法としては、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等の各種方法が用いられる。 Methods for applying the adhesive composition onto the release film include roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coating.

第1粘着剤層1の厚みは特に限定されず、後述の表示パネル上に配列された発光素子を十分に封止しつつ、発光素子の上部(画像表示側)が第2粘着剤層2で覆われるように、適宜設定すればよい。例えば、第1粘着剤層の厚みは、該発光素子の高さの0.1~2.0倍、好ましくは0.2~1.5倍、より好ましくは0.3~1.2倍になるように調整される。具体的には、第1粘着剤層の厚みは、例えば、10~300μm程度であり、15~200μmであることが好ましい。具体的には、第1粘着剤層の厚みは、10μm以上、15μm以上、20μm以上、30μm以上、40μm以上または50μm以上であってもよい。また、第1粘着剤層が紫外線透過性の着色剤を含む場合、第1粘着剤層の厚みが大きい場合でも、光硬化性粘着剤組成物を、厚み方向に均一に光硬化することが可能である。第1粘着剤層の厚みは、300μm以下、250μm以下または200μm以下であってもよい。 The thickness of the first adhesive layer 1 is not particularly limited, and may be appropriately set so that the upper part (image display side) of the light-emitting element arranged on the display panel described later is covered with the second adhesive layer 2 while sufficiently sealing the light-emitting element. For example, the thickness of the first adhesive layer is adjusted to be 0.1 to 2.0 times, preferably 0.2 to 1.5 times, more preferably 0.3 to 1.2 times the height of the light-emitting element. Specifically, the thickness of the first adhesive layer is, for example, about 10 to 300 μm, and preferably 15 to 200 μm. Specifically, the thickness of the first adhesive layer may be 10 μm or more, 15 μm or more, 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, or 50 μm or more. In addition, when the first adhesive layer contains an ultraviolet-transmitting colorant, even if the thickness of the first adhesive layer is large, it is possible to photo-cure the photocurable adhesive composition uniformly in the thickness direction. The thickness of the first adhesive layer may be 300 μm or less, 250 μm or less, or 200 μm or less.

第2粘着剤層2の厚みは特に限定されず、後述の表示パネル上に配列された発光素子を十分に封止しつつ、発光素子の上部(画像表示側)において光を十分に透過させるように適宜設定すればよい。具体的には、第2粘着剤層の厚みは、例えば、1~500μm程度であり、10~300μmであることがより好ましく、15~200μmであることがさらに好ましい。具体的には、第2粘着剤層の厚みは、1μm以上、10μm以上、15μm以上、20μm以上、30μm以上、40μm以上または50μm以上であってもよい。また、第2粘着剤層の厚みは、400μm以下、300μm以下、250μm以下または200μm以下であってもよい。 The thickness of the second adhesive layer 2 is not particularly limited, and may be appropriately set so as to adequately seal the light-emitting elements arranged on the display panel described below while allowing sufficient light to pass through the upper part (image display side) of the light-emitting elements. Specifically, the thickness of the second adhesive layer is, for example, about 1 to 500 μm, more preferably 10 to 300 μm, and even more preferably 15 to 200 μm. Specifically, the thickness of the second adhesive layer may be 1 μm or more, 10 μm or more, 15 μm or more, 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, or 50 μm or more. The thickness of the second adhesive layer may also be 400 μm or less, 300 μm or less, 250 μm or less, or 200 μm or less.

第1粘着剤層1と第2粘着剤層2の合計厚みは特に限定されず、後述の表示パネル上に配列された発光素子を十分に封止できるように、該発光素子の高さ以上になるように適宜設定すればよい。例えば、粘着剤層の厚みは、該発光素子の高さの1.0~4.0倍、好ましくは1.1~3.0倍、より好ましくは1.2~2.5倍、さらに好ましくは1.3~2.0倍になるように調整される。具体的には、第1粘着剤層1と第2粘着剤層2の合計厚みは、例えば、11~800μm程度であり、20μm以上、30μm以上、40μm以上または50μm以上であってもよい。また、第1粘着剤層1と第2粘着剤層2の合計厚みは、例えば、700μm以下、600μm以下、500μm以下、または400μm以下であってもよい。 The total thickness of the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 is not particularly limited, and may be appropriately set to be equal to or greater than the height of the light-emitting element arranged on the display panel described below so that the light-emitting element can be sufficiently sealed. For example, the thickness of the adhesive layer is adjusted to be 1.0 to 4.0 times, preferably 1.1 to 3.0 times, more preferably 1.2 to 2.5 times, and even more preferably 1.3 to 2.0 times the height of the light-emitting element. Specifically, the total thickness of the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 is, for example, about 11 to 800 μm, and may be 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, or 50 μm or more. The total thickness of the first adhesive layer 1 and the second adhesive layer 2 may be, for example, 700 μm or less, 600 μm or less, 500 μm or less, or 400 μm or less.

前記第1粘着剤層の厚みに対する前記第2粘着剤層の厚みの割合(第2粘着剤層の厚み/第1粘着剤層の厚み)は、特に限定されず、後述の表示パネル上に配列された発光素子を十分に封止しつつ、発光素子の上部(画像表示側)が第2粘着剤層で覆われるように適宜設定すればよい。具体的には、(第2粘着剤層の厚み/第1粘着剤層の厚み)は、例えば、1.0~5.0程度であり、好ましくは1.2~4.0、より好ましくは1.3~3.0であってもよい。 The ratio of the thickness of the second adhesive layer to the thickness of the first adhesive layer (thickness of the second adhesive layer/thickness of the first adhesive layer) is not particularly limited, and may be appropriately set so that the upper part (image display side) of the light-emitting element arranged on the display panel described below is covered with the second adhesive layer while sufficiently sealing the light-emitting element. Specifically, (thickness of the second adhesive layer/thickness of the first adhesive layer) may be, for example, about 1.0 to 5.0, preferably 1.2 to 4.0, and more preferably 1.3 to 3.0.

剥離フィルム上に層状に塗布した光硬化性粘着剤組成物に紫外線を照射することにより、光重合開始剤から活性種が生成し、光重合性化合物が重合し、重合率の上昇(未反応のモノマーの減少)に伴って、液状の光硬化性粘着剤組成物は、固体状(定型)の粘着剤層となる。紫外線照射のための光源としては、光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤が感度を有する波長範囲の光を照射できるものであれば特に限定されず、LED光源、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が用いられる。 By irradiating the photocurable adhesive composition coated in a layer on a release film with ultraviolet light, active species are generated from the photopolymerization initiator, the photopolymerizable compound is polymerized, and as the polymerization rate increases (the amount of unreacted monomer decreases), the liquid photocurable adhesive composition becomes a solid (standard) adhesive layer. The light source for ultraviolet light irradiation is not particularly limited as long as it can irradiate light in the wavelength range to which the photopolymerization initiator contained in the photocurable adhesive composition is sensitive, and examples of the light source that can be used include an LED light source, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a xenon lamp.

照射光の積算光量は、例えば、100~5000mJ/cm2程度である。光硬化性粘着剤組成物の光硬化物からなる粘着剤層の重合率(不揮発分)は、80%以上が好ましく、85%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。重合率は、93%以上または95%以上であってもよい。不揮発分を減少させるために、粘着剤層を加熱して、残存モノマー、未反応の重合開始剤、溶媒等の揮発分を除去してもよい。 The integrated light amount of the irradiated light is, for example, about 100 to 5000 mJ/ cm2 . The polymerization rate (non-volatile content) of the pressure-sensitive adhesive layer made of the photocured product of the photocurable pressure-sensitive adhesive composition is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. The polymerization rate may be 93% or more or 95% or more. In order to reduce the non-volatile content, the pressure-sensitive adhesive layer may be heated to remove volatile content such as residual monomers, unreacted polymerization initiator, and solvent.

粘着剤層の両面に剥離フィルムが設けられる場合、一方の剥離フィルムの厚みと他方の剥離フィルムの厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。粘着剤層から一方の面に仮着された剥離フィルムを剥離する際の剥離力と、粘着剤層から他方の面に仮着された剥離フィルムを剥離する際の剥離力は、同一でも異なっていてもよい。両者の剥離力が異なる場合は、相対的に剥離力の小さい剥離フィルム(軽剥離フィルム)を第2粘着剤層2から先に剥離して基材3の面3bに貼り合わせを行い、その後に第2粘着剤層2から相対的に剥離力の大きい剥離フィルム(重剥離フィルム)を剥がし、第2粘着剤層を露出させる。その後、軽剥離フィルムを第1粘着剤層1から剥離して、前記の露出した第2粘着剤層に貼り付けることにより、第一形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層を有する光学積層体を作製することができる。 When a release film is provided on both sides of the adhesive layer, the thickness of one release film and the thickness of the other release film may be the same or different. The peeling force when peeling off the release film temporarily attached to one side from the adhesive layer and the peeling force when peeling off the release film temporarily attached to the other side from the adhesive layer may be the same or different. When the peeling forces of the two are different, the release film with a relatively small peeling force (light release film) is first peeled off from the second adhesive layer 2 and attached to the surface 3b of the substrate 3, and then the release film with a relatively large peeling force (heavy release film) is peeled off from the second adhesive layer 2 to expose the second adhesive layer. Then, the light release film is peeled off from the first adhesive layer 1 and attached to the exposed second adhesive layer, thereby producing an optical laminate having the first adhesive layer and the second adhesive layer of the first form.

また、基材3の面3bに前記光硬化性粘着剤組成物を塗布し、シート上に成形した後に、塗膜の表面に剥離フィルムを付設して、紫外線を照射することにより、基材3に第2接着剤層を積層する以外は上記と同様にして、第一形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層を有する光学積層体を作製することもできる。 In addition, an optical laminate having the first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer of the first form can be produced in the same manner as above, except that the second adhesive layer is laminated on the substrate 3 by applying the photocurable pressure-sensitive adhesive composition to the surface 3b of the substrate 3, forming it into a sheet, attaching a release film to the surface of the coating, and irradiating it with ultraviolet light.

第1粘着剤層及び/または第2粘着剤層に着色剤が含まれている場合は、可視光に光吸収を有する。第一形態の光学積層体の可視光透過率は、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下または5%以下であってもよい。 When the first adhesive layer and/or the second adhesive layer contains a colorant, it has optical absorption in visible light. The visible light transmittance of the first form of optical laminate is, for example, 80% or less, and may be 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, or 5% or less.

第一形態において、第1粘着剤層の可視光透過率T1は、特に限定されないが、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下または10%以下であってもよい。第1粘着剤層の可視光透過率T1が、80%以下であることにより、第2粘着剤層の可視光透過率T2よりも透過性を低くしやすくなり、前述のように、自発光型表示装置の金属配線及び発光素子の間を封止することにより、金属配線などの反射防止、発光素子同士の混色を防止し、コントラストを向上させることができる。また、前述のように、第1粘着剤層に可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さい着色剤が用いられる場合、第1粘着剤層は、波長330~400nmの平均透過率TUVが波長400~700nmの平均透過率TVISよりも大きくなる。第1粘着剤層の波長400~700nmの平均透過率TVISは、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下または10%以下であってもよい。第1粘着剤層の波長330~400nmの平均透過率TUVは、5%以上が好ましく、10%以上、15%以上、20%以上または25%以上であってもよい。TUVとTVISとの差TUV-TVISは、3%以上、5%以上、8%以上または10%以上であってもよい。 In the first embodiment, the visible light transmittance T 1 of the first adhesive layer is not particularly limited, and may be, for example, 80% or less, 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, or 10% or less. When the visible light transmittance T 1 of the first adhesive layer is 80% or less, the transmittance is easily lowered than the visible light transmittance T 2 of the second adhesive layer, and as described above, by sealing between the metal wiring and the light-emitting element of the self-luminous display device, reflection of the metal wiring and the like can be prevented, color mixing between the light-emitting elements can be prevented, and contrast can be improved. In addition, as described above, when a colorant that absorbs ultraviolet light less than visible light is used in the first adhesive layer, the first adhesive layer has an average transmittance T UV of wavelengths of 330 to 400 nm that is greater than an average transmittance T VIS of wavelengths of 400 to 700 nm. The average transmittance T VIS of the first pressure-sensitive adhesive layer at wavelengths of 400 to 700 nm is, for example, 80% or less, and may be 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, or 10% or less. The average transmittance T UV of the first pressure-sensitive adhesive layer at wavelengths of 330 to 400 nm is preferably 5% or more, and may be 10% or more, 15% or more, 20% or more, or 25% or more. The difference between T UV and T VIS , T UV -T VIS , may be 3% or more, 5% or more, 8% or more, or 10% or more.

第一形態において、第2粘着剤層の可視光透過率T2は、特に限定されないが、例えば85~100%であり、88%以上、90%以上、または92%以上であってもよい。前述のように、自発光型表示装置の発光素子の上部(画像表示側)を透過性が高い第2粘着剤層が覆うことにより、発光効率が向上する。 In the first embodiment, the visible light transmittance T2 of the second adhesive layer is not particularly limited, and may be, for example, 85 to 100%, and may be 88% or more, 90% or more, or 92% or more. As described above, the luminous efficiency is improved by covering the upper part (image display side) of the light-emitting element of the self-luminous display device with the highly transparent second adhesive layer.

第一形態において、第1粘着剤層及び第2粘着剤層の温度25℃におけるせん断貯蔵弾性率G’25℃は、例えば10~1000kPa程度であり、30kPa以上、50kPa以上、70kPa以上または100kPa以上であってもよく、700kPa以下、500kPa以下、300kPa以下または200kPa以下であってもよい。粘着剤層の温度85℃におけるせん断貯蔵弾性率G’85℃は、例えば、3~300kPa程度であり、5kPa以上、7kPa以上、または10kPa以上であってもよく、200kPa以下、150kPa以下、または100kPa以下であってもよい。粘着剤層のせん断貯蔵弾性率が上記範囲であれば、適度の柔軟性と接着性とを両立できる。せん断貯蔵弾性率は、周波数1Hzの動的粘弾性測定による測定値である。 In the first embodiment, the shear storage modulus G'25°C of the first adhesive layer and the second adhesive layer at a temperature of 25°C is, for example, about 10 to 1000 kPa, and may be 30 kPa or more, 50 kPa or more, 70 kPa or more, or 100 kPa or more, and may be 700 kPa or less, 500 kPa or less, 300 kPa or less, or 200 kPa or less. The shear storage modulus G'85°C of the adhesive layer at a temperature of 85°C is, for example, about 3 to 300 kPa, and may be 5 kPa or more, 7 kPa or more, or 10 kPa or more, and may be 200 kPa or less, 150 kPa or less, or 100 kPa or less. If the shear storage modulus of the adhesive layer is within the above range, it is possible to achieve both appropriate flexibility and adhesiveness. The shear storage modulus is a value measured by dynamic viscoelasticity measurement at a frequency of 1 Hz.

[第二形態]
第二形態の粘着剤層を有する光学積層体は、剥離フィルムに上に前記第二形態の光硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第2粘着剤層を形成し、基材3の面3bに貼り付ける。次いで、剥離フィルムに上に前記第二形態の光硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第1粘着剤層を形成した後に、基材3の面3b上に積層された前記第2粘着剤層に貼り付けることにより調製することができる。
[Second Form]
An optical laminate having a pressure-sensitive adhesive layer of the second form can be prepared by coating the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the second form onto a release film, drying and removing the solvent as necessary to form a second pressure-sensitive adhesive layer, and attaching it to the surface 3b of the substrate 3. Next, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the second form is coated onto a release film, drying and removing the solvent as necessary to form a first pressure-sensitive adhesive layer, and then attaching it to the second pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface 3b of the substrate 3.

また、第二形態の粘着剤層を有する光学積層体は、基材3の面3b上に前記第二形態の光硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去することにより、第2粘着剤層を形成する。次いで、剥離フィルムに上に前記第二形態の光硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第1粘着剤層を形成した後に、基材3の面3b上に積層された前記第2粘着剤層に貼り付けることによっても調製することができる。 The optical laminate having the second type of adhesive layer can also be prepared by applying the second type of photocurable adhesive composition onto the surface 3b of the substrate 3, and drying and removing the solvent as necessary to form a second adhesive layer. Next, the second type of photocurable adhesive composition is applied onto a release film, and the solvent is dried and removed as necessary to form a first adhesive layer, and then pasting the first adhesive layer onto the second adhesive layer laminated on the surface 3b of the substrate 3.

光硬化性粘着剤組成物が溶媒を含む場合は、粘着剤組成物の塗布後に、溶剤の乾燥を行うことが好ましい。乾燥方法としては、目的に応じて、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは40℃~200℃であり、さらに好ましくは、50℃~180℃であり、特に好ましくは70℃~170℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、さらに好ましくは5秒~15分、特に好ましくは10秒~10分である。 When the photocurable adhesive composition contains a solvent, it is preferable to dry the solvent after applying the adhesive composition. As the drying method, an appropriate method can be adopted depending on the purpose. The heating and drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, and particularly preferably 70°C to 170°C. As the drying time, an appropriate time can be adopted. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, and particularly preferably 10 seconds to 10 minutes.

光硬化性粘着剤組成物を塗布後、必要に応じて加熱を行うことにより、ポリマーに架橋構造が導入される。加熱温度や加熱時間は、使用する架橋剤の種類によって適宜設定すればよく、通常、20℃~160℃の範囲で、1分から7日程度である。溶媒を乾燥させるための加熱が、架橋のための加熱を兼ねていてもよい。架橋構造の導入は、必ずしも加熱を伴う必要はない。 After application of the photocurable adhesive composition, heating is performed as necessary to introduce a crosslinked structure into the polymer. The heating temperature and heating time can be set appropriately depending on the type of crosslinking agent used, and are usually in the range of 20°C to 160°C and about 1 minute to 7 days. The heating for drying the solvent may also serve as the heating for crosslinking. The introduction of a crosslinked structure does not necessarily have to be accompanied by heating.

第二形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層は、第一形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層と、それぞれ同様の厚み(第1粘着剤層及び第2粘着剤層の各厚み、合計厚み、厚みの割合)、光透過率、せん断貯蔵弾性率を有していることが好ましい。第二形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層は、光硬化を行わないため、光重合性化合物が未反応の状態で含まれている。すなわち、第二形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、必要に応じて着色剤とを含有する光硬化性の粘着剤層である。 The first and second adhesive layers of the second form preferably have the same thickness (each thickness of the first and second adhesive layers, total thickness, thickness ratio), light transmittance, and shear storage modulus as the first and second adhesive layers of the first form. The first and second adhesive layers of the second form are not photocured, and therefore contain a photopolymerizable compound in an unreacted state. That is, the first and second adhesive layers of the second form are photocurable adhesive layers that contain a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a colorant.

第二形態の光硬化性の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を有する光学積層体は、後述の表示パネルと貼り合わせた後に、紫外線を照射することにより、光硬化を行うことができる。光硬化により光学積層体と表示パネルとの接着力を変化させることができる。例えば、光硬化前の粘着剤層は柔軟性が高いため、表示パネル上に配列された発光素子により形成される凹凸形状や段差を埋めることが可能であり、光硬化後は表示パネルに対する接着力や接着信頼性を向上できる。 The optical laminate having the photocurable first adhesive layer and/or second adhesive layer of the second form can be photocured by irradiating it with ultraviolet light after bonding it to a display panel described below. Photocuring can change the adhesive strength between the optical laminate and the display panel. For example, since the adhesive layer before photocuring is highly flexible, it is possible to fill in uneven shapes and steps formed by the light-emitting elements arranged on the display panel, and after photocuring, the adhesive strength and adhesive reliability to the display panel can be improved.

粘着剤層を光硬化するための活性線としては紫外線が用いられる。第一形態の粘着剤層と同様、紫外線透過性の着色剤が使用される場合、可視光に比べて紫外線の透過率が大きいため、粘着剤層の厚みが大きい場合でも、光硬化の際の硬化阻害を抑制できる。 Ultraviolet rays are used as the actinic radiation for photocuring the adhesive layer. As with the adhesive layer of the first embodiment, when an ultraviolet-transmitting colorant is used, the transmittance of ultraviolet light is greater than that of visible light, so that inhibition of curing during photocuring can be suppressed even when the adhesive layer is thick.

上記紫外線透過性着色剤が含まれている第一形態、第二形態の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を有する光学積層体は、可視光に光吸収を有する。第一形態、第二形態の光学積層体は、350nm~450nmで透過率の極大値を有することが望ましい。 The optical laminate having the first adhesive layer and/or the second adhesive layer of the first and second forms containing the ultraviolet-transmitting colorant has optical absorption in visible light. It is desirable that the optical laminate of the first and second forms has a maximum transmittance value at 350 nm to 450 nm.

第一形態、第二形態の光学積層体の可視光透過率は、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下または5%以下であってもよい。 The visible light transmittance of the optical laminate of the first and second forms is, for example, 80% or less, and may be 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, or 5% or less.

[第三形態]
第三形態の粘着剤層を有する光学積層体は、剥離フィルムに上に前記第三形態の溶媒型粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第2粘着剤層を形成し、基材3の面3b貼り付ける。次いで、剥離フィルムに上に前記第三形態の溶媒型粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第1粘着剤層を形成した後に、基材3の面3b上に積層された前記第2粘着剤層に貼り付けることにより調製することができる。
[Third Form]
An optical laminate having a pressure-sensitive adhesive layer of the third form can be prepared by applying the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third form onto a release film, drying and removing the solvent as necessary to form a second pressure-sensitive adhesive layer, and attaching it to the surface 3b of the substrate 3. Next, applying the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third form onto a release film, drying and removing the solvent as necessary to form a first pressure-sensitive adhesive layer, and then attaching it to the second pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface 3b of the substrate 3.

また、第三形態の粘着剤層を有する光学積層体は、基材3の面3b上に前記第三形態の溶媒型粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去することにより、第2粘着剤層を形成する。次いで、剥離フィルムに上に前記第三形態の溶媒型粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去して第1粘着剤層を形成した後に、基材3の面3b上に積層された前記第2粘着剤層に貼り付けることによっても調製することができる。 In addition, an optical laminate having a pressure-sensitive adhesive layer of the third form can also be prepared by applying the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third form onto the surface 3b of the substrate 3, and drying and removing the solvent as necessary to form a second pressure-sensitive adhesive layer. Next, the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third form is applied onto a release film, and the solvent is dried and removed as necessary to form a first pressure-sensitive adhesive layer, and then attaching the first pressure-sensitive adhesive layer to the second pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface 3b of the substrate 3.

溶媒型粘着剤組成物の塗布後に、溶剤の乾燥を行う。乾燥方法としては、目的に応じて、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは40℃~200℃であり、さらに好ましくは、50℃~180℃であり、特に好ましくは70℃~170℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、さらに好ましくは5秒~15分、特に好ましくは10秒~10分である。 After application of the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition, the solvent is dried. As the drying method, an appropriate method can be adopted depending on the purpose. The heating and drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, and particularly preferably 70°C to 170°C. As the drying time, an appropriate time can be adopted. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, and particularly preferably 10 seconds to 10 minutes.

溶媒型粘着剤組成物を塗布後、必要に応じて加熱を行ってもよい。加熱温度や加熱時間は、使用する架橋剤の種類によって適宜設定すればよく、通常、20℃~160℃の範囲で、1分から7日程度である。 After the solvent-based adhesive composition is applied, it may be heated as necessary. The heating temperature and heating time may be set appropriately depending on the type of crosslinking agent used, and are usually in the range of 20°C to 160°C and about 1 minute to 7 days.

第三形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層は、第一形態の第1粘着剤層及び第2粘着剤層とそれぞれ同様の厚み(第1粘着剤層及び第2粘着剤層の各厚み、合計厚み、厚みの割合)、光透過率、せん断貯蔵弾性率を有していることが好ましい。 It is preferable that the first and second adhesive layers of the third embodiment have the same thickness (individual thickness, total thickness, and thickness ratio of the first and second adhesive layers), light transmittance, and shear storage modulus as the first and second adhesive layers of the first embodiment.

また、溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層(特に、第1粘着剤層)の25℃における貯蔵弾性率(G’25)は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させる観点から、1MPa以上が好ましく、より好ましくは1.5MPa以上、より好ましくは2MPa以上、より好ましくは2.5MPa以上、より好ましくは3MPa以上であり、室温における粘着信頼性を向上させる観点から、50MPa以下が好ましく、より好ましくは45MPa以下、より好ましくは40MPa以下、より好ましくは35MPa以下、より好ましくは30MPa以下である。 In addition, when the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains the (meth)acrylic block copolymer A, the storage modulus (G'25) at 25°C of the first pressure-sensitive adhesive layer and/or the second pressure-sensitive adhesive layer (particularly the first pressure-sensitive adhesive layer) is not particularly limited, but from the viewpoint of improving processability at room temperature, it is preferably 1 MPa or more, more preferably 1.5 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, more preferably 2.5 MPa or more, more preferably 3 MPa or more, and from the viewpoint of improving adhesive reliability at room temperature, it is preferably 50 MPa or less, more preferably 45 MPa or less, more preferably 40 MPa or less, more preferably 35 MPa or less, more preferably 30 MPa or less.

溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層(特に、第1粘着剤層)の50℃における貯蔵弾性率(G’50)は、特に限定されないが、50℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、0.5MPa以下が好ましく、より好ましくは0.45MPa以下、より好ましくは0.4MPa以下、より好ましくは0.35MPa以上、より好ましくは0.3MPa以下であり、50℃を超える領域の取り扱い性を向上させる観点から、0.0001MPa以上が好ましく、より好ましくは0.0005MPa以上、より好ましくは0.001MPa以上、より好ましくは0.005MPa以上、より好ましくは0.01MPa以上である。 When the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains the (meth)acrylic block copolymer A, the storage modulus (G'50) at 50°C of the first pressure-sensitive adhesive layer and/or the second pressure-sensitive adhesive layer (particularly the first pressure-sensitive adhesive layer) is not particularly limited, but from the viewpoint of improving step absorbency in the region exceeding 50°C, it is preferably 0.5 MPa or less, more preferably 0.45 MPa or less, more preferably 0.4 MPa or less, more preferably 0.35 MPa or more, more preferably 0.3 MPa or less, and from the viewpoint of improving handleability in the region exceeding 50°C, it is preferably 0.0001 MPa or more, more preferably 0.0005 MPa or more, more preferably 0.001 MPa or more, more preferably 0.005 MPa or more, more preferably 0.01 MPa or more.

溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層(特に、第1粘着剤層)の25℃における貯蔵弾性率と50℃における貯蔵弾性率の比(G’25/G’50)は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させ、且つ50℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、3以上が好ましく、より好ましくは5以上、より好ましくは10以上、さらに好ましくは15以上、特に好ましくは20以上であり、接着信頼性、取り扱い性等の観点から、100以下が好ましく、より好ましくは95以下、より好ましくは90以下、さらに好ましくは85以下、特に好ましくは80以下である。 When the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition contains the (meth)acrylic block copolymer A, the ratio of the storage modulus at 25°C to the storage modulus at 50°C (G'25/G'50) of the first pressure-sensitive adhesive layer and/or the second pressure-sensitive adhesive layer (particularly the first pressure-sensitive adhesive layer) is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the processability at room temperature and improving the step absorbency in the range above 50°C, it is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, more preferably 10 or more, even more preferably 15 or more, and particularly preferably 20 or more, and from the viewpoint of adhesion reliability, handling, etc., it is preferably 100 or less, more preferably 95 or less, more preferably 90 or less, even more preferably 85 or less, and particularly preferably 80 or less.

なお、前記の25℃における貯蔵弾性率(G’25)と50℃における貯蔵弾性率(G’25)、及びそれらの比(G’25/G’50)は、動的粘弾性測定により測定されるものである。 The storage modulus at 25°C (G'25) and the storage modulus at 50°C (G'25), as well as their ratio (G'25/G'50), are measured by dynamic viscoelasticity measurement.

着色剤が含まれている第三形態の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を有する光学積層体は、可視光に光吸収を有する。 An optical laminate having a third type of first adhesive layer and/or a second adhesive layer containing a colorant has optical absorption in visible light.

第三形態の光学積層体の可視光透過率は、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下または5%以下であってもよい。 The visible light transmittance of the optical laminate of the third embodiment is, for example, 80% or less, and may be 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, or 5% or less.

本実施形態(第一形態~第三形態)の光学積層体は、使用時までは第1粘着剤層に剥離フィルムが設けられていてもよい。また、本実施形態(第一形態~第三形態)の光学積層体は、基材3の面3aに表面保護フィルムが積層されていてもよい。表面保護フィルムは、前記光学積層体やこれを含む光学製品の製造、搬送、出荷時に、傷や汚れの付着を防止する上で好適である。 The optical laminate of this embodiment (first to third embodiments) may have a release film provided on the first adhesive layer until use. In addition, the optical laminate of this embodiment (first to third embodiments) may have a surface protective film laminated on the surface 3a of the substrate 3. The surface protective film is suitable for preventing scratches and adhesion of dirt during the manufacture, transportation, and shipment of the optical laminate and optical products containing the optical laminate.

本実施形態(第一形態~第三形態)の光学積層体は、第1粘着剤層1、第2粘着剤層2、基材3、剥離フィルム、表面保護フィルム以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層、例えば、基材3以外の基材、第1粘着剤層1、第2粘着剤層2以外の粘着剤層、中間層、下塗り層などを、表面又は任意の層間に有していてもよい。 The optical laminate of this embodiment (first to third forms) may have other layers, such as a substrate other than the substrate 3, a pressure-sensitive adhesive layer other than the first pressure-sensitive adhesive layer 1 and the second pressure-sensitive adhesive layer 2, an intermediate layer, an undercoat layer, etc., on the surface or between any layers, in addition to the first pressure-sensitive adhesive layer 1, the second pressure-sensitive adhesive layer 2, the substrate 3, the release film, and the surface protection film, as long as the effects of the present invention are not impaired.

<自発光型表示装置>
本発明の第2の側面に係る自発光型表示装置は、微少且つ多数の発光素子を配線基板上に配列し、各発光素子をこれに接続された発光制御手段により選択的に発光させることにより、文字・画像・動画等の視覚情報を、各発光素子の点滅により直接的に表示画面上に表示することができる表示装置である。自発光型表示装置としては、ミニ/マイクロLED表示装置、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置が挙げられる。本発明の第1の側面に係る光学積層体は、特にミニ/マイクロLED表示装置の製造に好適に使用される。
<Self-luminous display device>
The self-luminous display device according to the second aspect of the present invention comprises a wiring board on which a large number of minute light-emitting elements are arranged, and each light-emitting element is selectively caused to emit light by a light-emission control means connected thereto. A self-luminous display device is a display device that can directly display visual information such as text, images, and videos on a display screen by blinking each light-emitting element. Examples of self-luminous display devices include mini/micro LED display devices, Examples of such display devices include organic EL (electroluminescence) display devices. The optical laminate according to the first aspect of the present invention is particularly suitable for use in the manufacture of mini/micro LED display devices.

図4~6は、本発明の第2の側面に係る自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の一実施形態を示す模式図(断面図)である。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置20は、基板5の片面に複数のLED7が配列した表示パネルと、光学積層体10を含む。前記表示パネル上のLEDチップ7が配列した面と、光学積層体10の第1粘着剤層1が積層している。ミニ/マイクロLED表示装置21は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4が施されている。ミニ/マイクロLED表示装置22は、基材3の第2粘着剤層2が積層されていない面3aは、アンチグレア処理としてアンチグレア層4aが形成されている。 Figures 4 to 6 are schematic diagrams (cross-sectional views) showing one embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) according to the second aspect of the present invention. The mini/micro LED display device 20 according to this embodiment includes a display panel in which a plurality of LEDs 7 are arranged on one side of a substrate 5, and an optical laminate 10. The surface on which the LED chips 7 are arranged on the display panel and the first adhesive layer 1 of the optical laminate 10 are laminated. In the mini/micro LED display device 21, the surface 3a of the substrate 3 on which the second adhesive layer 2 is not laminated is subjected to an anti-reflection treatment and/or an anti-glare treatment 4. In the mini/micro LED display device 22, the surface 3a of the substrate 3 on which the second adhesive layer 2 is not laminated is formed with an anti-glare layer 4a as an anti-glare treatment.

本実施形態において、表示パネルの基板5上には、各LEDチップ7に発光制御信号を送るための金属配線層6が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LEDチップ7は、表示パネルの基板5上に金属配線層6を介して交互に配列されている。金属配線層6は、銅などの金属によって形成されており、各LEDチップ6の発光を反射して、画像の視認性を低下させる。また、RGBの各色の各LEDチップ7が発する光が混色し、コントラストが低下する。 In this embodiment, a metal wiring layer 6 for sending light emission control signals to each LED chip 7 is laminated on the substrate 5 of the display panel. Each LED chip 7 emitting light of each color of red (R), green (G), and blue (B) is arranged alternately on the substrate 5 of the display panel via the metal wiring layer 6. The metal wiring layer 6 is formed of a metal such as copper, and reflects the light emitted by each LED chip 6, reducing the visibility of the image. In addition, the light emitted by each LED chip 7 of each color of RGB is mixed, reducing the contrast.

本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置において、第1粘着剤層1は、表示パネル上に配列された各LEDチップ7の間及び金属配線層6を封止する。第1粘着剤層1の可視光透過率は、第2粘着剤層2の可視光透過率よりも低いことにより、可視光領域で十分な遮光性を有する。より遮光性が高い(透過性が低い)第1粘着剤層1は各LEDチップ7の間を隙間なく封止しているため、各LEDチップ7同士の混色を防止し、コントラストを向上させることができる。また、より遮光性が高い(透過性が低い)第1粘着剤層1は、金属配線層6の表面も封止しているため、金属配線層6による反射を防止することができる。 In the mini/micro LED display device of this embodiment, the first adhesive layer 1 seals the spaces between the LED chips 7 arranged on the display panel and the metal wiring layer 6. The visible light transmittance of the first adhesive layer 1 is lower than that of the second adhesive layer 2, and therefore has sufficient light blocking properties in the visible light range. The first adhesive layer 1, which has higher light blocking properties (low transparency), seals the spaces between the LED chips 7 without any gaps, preventing color mixing between the LED chips 7 and improving contrast. In addition, the first adhesive layer 1, which has higher light blocking properties (low transparency), also seals the surface of the metal wiring layer 6, and therefore can prevent reflection from the metal wiring layer 6.

本実施形態において、第2粘着剤層2は、表示パネル上に配列された各LEDチップ7の上部(表示画像側)を封止する。第2粘着剤層2の可視光透過率は、第1粘着剤層1の可視光透過率よりも高いことにより、可視光領域で十分な透過性を有する。より透過性が高い第2粘着剤層2は各LEDチップ7の上部(表示画像側)を封止しているため、各LEDチップ7から発せられた可視光の吸収が低く抑えられ、発光効率を高くすることができるので、画像をより明るくすることができる。また、出力を上げて発光輝度を高める必要もないため、消費電力を低く抑えることができる。 In this embodiment, the second adhesive layer 2 seals the upper part (display image side) of each LED chip 7 arranged on the display panel. The visible light transmittance of the second adhesive layer 2 is higher than that of the first adhesive layer 1, and therefore has sufficient transparency in the visible light region. Since the second adhesive layer 2, which has higher transparency, seals the upper part (display image side) of each LED chip 7, the absorption of visible light emitted from each LED chip 7 is kept low, and the light emission efficiency can be increased, making the image brighter. In addition, there is no need to increase the output to increase the light emission brightness, so power consumption can be kept low.

上述のように、本実施形態に係る光学積層体は、より遮光性が高い(透過性が低い)第1粘着剤層を含むため、第1粘着剤層に金属被着体を積層させた場合であっても、金属表面の反射や光沢を防止することができる。本実施形態の光学積層体の第1粘着剤層に金属被着体を積層させたときの基材表面3aの5°正反射の可視光領域の反射率は、50%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、15%以下であることがさらに好ましく、10%以下であることが特に好ましい。本実施形態の光学積層体の第1粘着剤層に金属被着体を積層させたときの基材表面3aの光沢度(JIS Z 8741-1997に基づく)は、100%以下であることが好ましく、80%以下であることがより好ましく、60%以下であることがさらに好ましく、50%以下があることが特に好ましい。
なお、上記金属被着体としては、銅、アルミニウム、ステンレスなどを用いることができる。
As described above, the optical laminate according to this embodiment includes a first pressure-sensitive adhesive layer having a higher light-shielding property (lower transmittance), and therefore, even when a metal adherend is laminated on the first pressure-sensitive adhesive layer, reflection and gloss of the metal surface can be prevented. When a metal adherend is laminated on the first pressure-sensitive adhesive layer of the optical laminate according to this embodiment, the reflectance of the visible light region of 5° regular reflection of the substrate surface 3a is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, even more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. When a metal adherend is laminated on the first pressure-sensitive adhesive layer of the optical laminate according to this embodiment, the glossiness of the substrate surface 3a (based on JIS Z 8741-1997) is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, even more preferably 60% or less, and particularly preferably 50% or less.
The metal adherend may be made of copper, aluminum, stainless steel, or the like.

また、本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置において、基材3の面3aに反射防止処理及び/又はアンチグレア処理4が施されている場合、基材表面3aにおける外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下が防止され、又は光沢度などの見栄えが調整されている。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置22は、基材3の面3aにアンチグレア層4aが形成されている。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置22のアンチグレア層4aの平均傾斜角θa(°)は、上記と同様である。 In addition, in the mini/micro LED display device of this embodiment, when the surface 3a of the substrate 3 is subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 4, the decrease in visibility due to reflection of external light or glare of images on the substrate surface 3a is prevented, or the appearance such as glossiness is adjusted. In the mini/micro LED display device 22 of this embodiment, an anti-glare layer 4a is formed on the surface 3a of the substrate 3. The average inclination angle θa (°) of the anti-glare layer 4a of the mini/micro LED display device 22 of this embodiment is the same as above.

本実施形態の自発光型表示装置は、表示パネル及び光学積層体以外の光学部材を備えていてもよい。上記光学部材としては、特に限定されないが、偏光板、位相差板、反射防止フィルム、視野角調整フィルム、光学補償フィルムなどが挙げられる。なお、光学部材には、表示装置や入力装置の視認性を保ちながら加飾や保護の役割を担う部材(意匠フィルム、装飾フィルムや表面保護板等)も含むものとする。 The self-luminous display device of this embodiment may include optical components other than the display panel and the optical laminate. Examples of the optical components include, but are not limited to, a polarizing plate, a retardation plate, an anti-reflection film, a viewing angle adjustment film, and an optical compensation film. Note that the optical components also include components that play a role in decoration and protection while maintaining the visibility of the display device and input device (design films, decorative films, surface protection plates, etc.).

本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置は、基板の片面に複数のLEDチップが配列した表示パネルと、本発明の第1の側面に係る光学積層体の第1粘着剤層を貼り合わせることのより製造するにより製造することができる。 The mini/micro LED display device of this embodiment can be manufactured by bonding a display panel having multiple LED chips arranged on one side of a substrate to a first adhesive layer of the optical laminate according to the first aspect of the present invention.

具体的には、表示パネルと第一形態の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を有する光学積層体の貼り付けは、加熱及び/又は加圧下で積層させるにより実施することができる。表示パネルと第二形態の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を有する光学積層体の貼り付ける場合は、加熱及び/又は加圧下で積層させた後に光硬化を行うことにより実施することができる。光硬化は、上記の第一形態の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層を形成する光硬化と同様に行うことができる。 Specifically, the display panel and the optical laminate having the first adhesive layer and/or the second adhesive layer of the first form can be attached by laminating them under heat and/or pressure. When the display panel and the optical laminate having the first adhesive layer and/or the second adhesive layer of the second form are attached, they can be attached by laminating them under heat and/or pressure and then photocuring them. The photocuring can be performed in the same manner as the photocuring to form the first adhesive layer and/or the second adhesive layer of the first form described above.

第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層が、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む溶媒型粘着剤組成物から形成される場合は、上記貼り合わせは、50℃以上で加熱加圧することが好ましい。50℃以上で加熱加圧することにより、粘着剤層が高流動性になって、基板上に配列されたLEDチップの段差に十分に追従して、隙間なく密着できる。加熱は、50℃以上で行い、好ましくは60℃以上、より好ましくは70℃以上で行う。加圧は、特に限定されないが、例えば1.5atm以上、好ましくは2atm以上、より好ましくは3atm以上で行う。加熱加圧は、例えば、オートクレーブなどを用いて行うことができる。これにより製造されたミニ/マイクロLED表示装置は、室温(25℃)に戻した後に、粘着剤層の貯蔵弾性率が高くなり、加工性、接着信頼性が向上する。 When the first adhesive layer and/or the second adhesive layer is formed from a solvent-based adhesive composition containing a (meth)acrylic block copolymer A, the above lamination is preferably performed by heating and pressing at 50°C or higher. By heating and pressing at 50°C or higher, the adhesive layer becomes highly fluid and can sufficiently follow the steps of the LED chips arranged on the substrate and adhere without gaps. Heating is performed at 50°C or higher, preferably 60°C or higher, and more preferably 70°C or higher. Pressurization is not particularly limited, but is performed at, for example, 1.5 atm or higher, preferably 2 atm or higher, and more preferably 3 atm or higher. Heating and pressing can be performed, for example, using an autoclave. The mini/micro LED display device manufactured in this way has a high storage modulus of the adhesive layer after being returned to room temperature (25°C), and has improved processability and adhesion reliability.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、下記製造例における各種特性は、下記の方法により評価または測定を行った。なお、実施例4~6を参考例1~3と読み替えるものとする。 The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples. Various properties in the following production examples were evaluated or measured by the following methods. Examples 4 to 6 should be read as Reference Examples 1 to 3.

(表面形状測定)
アンチグレア性フィルムのアンチグレア層が形成されていない面に、松浪ガラス工業(株)製のガラス板(厚み1.3mm)を粘着剤で貼り合わせ、高精度微細形状測定器(商品名;サーフコーダET4000、(株)小坂研究所製)を用いて、カットオフ値0.8mmの条件で前記アンチグレア層の表面形状を測定し、平均傾斜角θaを求めた。なお、前記高精度微細形状測定器は、前記平均傾斜角θaを自動算出する。前記平均傾斜角θaは、JIS B 0601(1994年版)に基づくものである。
(Surface shape measurement)
A glass plate (thickness 1.3 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. was attached to the surface of the anti-glare film on which the anti-glare layer was not formed with an adhesive, and the surface shape of the anti-glare layer was measured under the condition of a cutoff value of 0.8 mm using a high-precision fine shape measuring instrument (product name: Surfcorder ET4000, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.) to obtain an average inclination angle θa. The high-precision fine shape measuring instrument automatically calculates the average inclination angle θa. The average inclination angle θa is based on JIS B 0601 (1994 edition).

(ヘイズ)
JIS 7136で定める方法により、ヘイズメーター(村上色彩科学研究所社製、商品名「HN-150」)へ、アンチグレア性フィルムのアンチグレア層面から光が入射するように設置し、ヘイズ値を測定した。
(Hayes)
According to the method defined in JIS 7136, the anti-glare film was placed in a haze meter (manufactured by Murakami Color Science Laboratory, product name "HN-150") so that light was incident on the anti-glare layer surface, and the haze value was measured.

(粘着シートの可視光透過率)
粘着シートから一方の面の剥離フィルムを剥離し、露出面に無アルカリガラスを貼り合わせた。その後、粘着シートから他方の面の剥離フィルムを剥離して、無アルカリガラス板上に粘着シートが貼り合わせられた試料を得た。この試料を用いて、可視紫外分光光度計(日立ハイテクノロジーズ製、商品名「U-4100」)により、評価用サンプルの透過スペクトルを測定した。無アルカリガラス(単体)をベースラインとして、無アルカリガラスの透過率(透過光量)に対する評価用サンプルの透過率(透過光量)の比を、粘着シートの透過率とした。粘着シートの透過スペクトルから、波長550nmの透過率TVISを算出した。
(Visible light transmittance of adhesive sheet)
The release film on one side was peeled off from the adhesive sheet, and alkali-free glass was attached to the exposed surface. Thereafter, the release film on the other side was peeled off from the adhesive sheet to obtain a sample in which the adhesive sheet was attached to the alkali-free glass plate. Using this sample, the transmission spectrum of the evaluation sample was measured using a visible ultraviolet spectrophotometer (manufactured by Hitachi High-Technologies, product name "U-4100"). The transmittance of the adhesive sheet was determined as the ratio of the transmittance (amount of transmitted light) of the evaluation sample to the transmittance (amount of transmitted light) of the alkali-free glass, with the alkali-free glass (single) as the baseline. The transmittance T VIS at a wavelength of 550 nm was calculated from the transmission spectrum of the adhesive sheet.

(アンチグレア性フィルムの可視光透過率)
分光光度計U4100(日立ハイテクノロジー社製)に、アンチグレア性フィルムを、アンチグレア層側から光が入射するように設置し、可視光領域の透過率(%)を測定した。この透過率は、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。
(Visible light transmittance of anti-glare film)
The anti-glare film was placed in a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) so that light was incident from the anti-glare layer side, and the transmittance (%) in the visible light region was measured. This transmittance is the Y value measured using a 2-degree visual field (C light source) according to JIS Z8701 and corrected for visibility.

製造例1
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層に含まれる樹脂として、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(DIC(株)製、商品名「ユニディック17-806」、固形分80%)100重量部を準備した。前記樹脂の樹脂固形分100重量部あたり、光拡散性微粒子としてスチレン架橋粒子(綜研化学(株)製、商品名「MX-350H」、重量平均粒径:3.5μm、屈折率1.59)を14重量部、チキソトロピー付与剤として有機粘土である合成スメクタイト(クニミネ工業(株)製、商品名「スメクトンSAN」)を2.5重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「OMNIRAD907」)を5重量部、レベリング剤(DIC(株)製、商品名「メガファックF-556」、固形分100%)を0.5重量部混合した。この混合物を固形分濃度が30重量%となるように、トルエン/酢酸エチル混合溶媒(重量比90/10)で希釈して、光拡散素子形成材料(塗工液)を調製した。
保護層として機能し得るトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士フイルム社製、製品名「TG60UL」、厚み:60μm)の片面に、バーコータを用いてアンチグレア層形成材料(塗工液)を塗布し、塗膜を形成した。そして、この塗膜が形成された透明TACフィルム基材を、乾燥工程へと搬送した。乾燥工程において、110℃で1分間加熱することにより前記塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射し、前記塗膜を硬化処理して厚み5.0μmの光拡散素子をTACフィルムの片面に形成してアンチグレア性フィルム1を得た。アンチグレア性フィルム1のヘイズ値は、42%であった。アンチグレア性フィルム1のアンチグレア層のθa(°)は、1.22であった。アンチグレア性フィルム1の可視光透過率は、90%であった。
Production Example 1
(Preparation of Anti-Glare Film)
As the resin contained in the anti-glare layer, 100 parts by weight of an ultraviolet-curable urethane acrylate resin (manufactured by DIC Corporation, product name "UNIDIC 17-806", solid content 80%) was prepared. Per 100 parts by weight of the resin solid content of the resin, 14 parts by weight of styrene crosslinked particles (manufactured by Soken Chemical & Chemical Industry Co., Ltd., product name "MX-350H", weight average particle size: 3.5 μm, refractive index 1.59) as light diffusing fine particles, 2.5 parts by weight of synthetic smectite (manufactured by Kunimine Industries Co., Ltd., product name "Sumecton SAN") which is an organic clay as a thixotropy imparting agent, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product name "OMNIRAD907"), and 0.5 parts by weight of a leveling agent (manufactured by DIC Corporation, product name "Megafac F-556", solid content 100%) were mixed. This mixture was diluted with a mixed solvent of toluene and ethyl acetate (weight ratio 90/10) so that the solid content concentration was 30% by weight, to prepare a light diffusing element forming material (coating liquid).
An anti-glare layer forming material (coating liquid) was applied to one side of a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fujifilm Corporation, product name "TG60UL", thickness: 60 μm) capable of functioning as a protective layer using a bar coater to form a coating film. Then, the transparent TAC film substrate on which the coating film was formed was transported to a drying process. In the drying process, the coating film was dried by heating at 110° C. for 1 minute. Thereafter, ultraviolet rays with an integrated light amount of 300 mJ/cm 2 were irradiated from a high-pressure mercury lamp to cure the coating film, thereby forming a light diffusion element with a thickness of 5.0 μm on one side of the TAC film to obtain an anti-glare film 1. The haze value of the anti-glare film 1 was 42%. The θa (°) of the anti-glare layer of the anti-glare film 1 was 1.22. The visible light transmittance of the anti-glare film 1 was 90%.

製造例2
(アンチグレア性フィルムの調製)
光拡散性微粒子として不定形シリカ(富士シリシア化学(株)製、商品名「サイロホービック100」、重量平均粒径:2.6μm)を14重量部添加し、硬化処理後の厚みを7.0μmとした以外は、製造例1と同様の方法でTACフィルムの片面に光拡散素子を形成してアンチグレア性フィルム2を得た。アンチグレア性フィルム2のヘイズ値は、11%であった。アンチグレア性フィルム2のアンチグレア層のθa(°)は、1.43であった。アンチグレア性フィルム2の可視光透過率は、91%であった。
Production Example 2
(Preparation of Anti-Glare Film)
A light diffusion element was formed on one side of the TAC film in the same manner as in Production Example 1, to obtain anti-glare film 2, except that 14 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., product name "Sylophobic 100", weight average particle size: 2.6 μm) was added as light diffusing fine particles and the thickness after curing treatment was set to 7.0 μm. The haze value of anti-glare film 2 was 11%. The θa (°) of the anti-glare layer of anti-glare film 2 was 1.43. The visible light transmittance of anti-glare film 2 was 91%.

製造例3
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層形成材料に含まれる樹脂として、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(DIC(株)製、商品名「ユニディック17-806」、固形分80%)100重量部を準備した。前記樹脂の樹脂固形分100重量部あたり、アンチグレア層形成粒子として、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック702」)を7重量部、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック100」)を6.5重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「OMNIRAD184」)を5重量部、レベリング剤(DIC(株)製、商品名「メガファックF-556」)を0.5重量部混合した。この混合物を固形分濃度が30%となるように、トルエンで希釈して、アンチグレア層形成材料(塗工液)を調製した。
透光性基材として、透明プラスチックフィルム基材(TACフィルム、富士フィルム(株)製、商品名「TD80UL」、厚さ:80μm)を準備した。前記透明プラスチックフィルム基材の片面に、前記アンチグレア層形成材料(塗工液)を、バーコータを用いて塗膜を形成した。そして、この塗膜が形成された透明プラスチックフィルム基材を、乾燥工程へと搬送した。乾燥工程において、110℃で1分間加熱することにより前記塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射し、前記塗膜を硬化処理して厚み5.0μmのアンチグレア層を形成し、アンチグレア性フィルム3を得た。アンチグレア性フィルム3のアンチグレア層のθa(°)は、3.5であった。アンチグレア性フィルム3の可視光透過率は、91%であった。
Production Example 3
(Preparation of Anti-Glare Film)
As a resin contained in the anti-glare layer-forming material, 100 parts by weight of an ultraviolet-curable urethane acrylate resin (manufactured by DIC Corporation, product name "UNIDIC 17-806", solid content 80%) was prepared. As anti-glare layer-forming particles, 7 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Corporation, product name "Sylo Hobic 702"), 6.5 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Corporation, product name "Sylo Hobic 100"), 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product name "OMNIRAD184"), and 0.5 parts by weight of a leveling agent (manufactured by DIC Corporation, product name "Megafac F-556") were mixed per 100 parts by weight of the resin solid content of the resin. This mixture was diluted with toluene to a solid content concentration of 30%, to prepare an anti-glare layer-forming material (coating liquid).
A transparent plastic film substrate (TAC film, manufactured by Fujifilm Corporation, product name "TD80UL", thickness: 80 μm) was prepared as a light-transmitting substrate. The anti-glare layer forming material (coating liquid) was used to form a coating film on one side of the transparent plastic film substrate using a bar coater. Then, the transparent plastic film substrate on which the coating film was formed was transported to a drying process. In the drying process, the coating film was dried by heating at 110° C. for 1 minute. Thereafter, ultraviolet rays with an integrated light amount of 300 mJ/cm 2 were irradiated from a high-pressure mercury lamp to cure the coating film to form an anti-glare layer with a thickness of 5.0 μm, and an anti-glare film 3 was obtained. The θa (°) of the anti-glare layer of the anti-glare film 3 was 3.5. The visible light transmittance of the anti-glare film 3 was 91%.

製造例4
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層形成粒子として、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック702」)を6.5重量部、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック200」)を6.5重量部を添加し、増粘剤(コープケミカル製、商品名「ルーセンタイトSAN」)を2.5重量部添加し、硬化処理後の厚みを8.0μmとした以外は、製造例3と同様の方法でアンチグレア性フィルム4を得た。アンチグレア性フィルム4のアンチグレア層のθa(°)は、2.3であった。アンチグレア性フィルム4の可視光透過率は、91%であった。
Production Example 4
(Preparation of Anti-Glare Film)
Anti-glare film 4 was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that 6.5 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., product name "Sylo Hobic 702") and 6.5 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., product name "Sylo Hobic 200") were added as anti-glare layer forming particles, and 2.5 parts by weight of a thickener (manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., product name "Lucentite SAN") were added, and the thickness after curing treatment was 8.0 μm. The θa (°) of the anti-glare layer of anti-glare film 4 was 2.3. The visible light transmittance of anti-glare film 4 was 91%.

製造例5
(プレポリマーの調製)
温度計、攪拌機、還流冷却管および窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、ブチルアクリレート(BA)67重量部、シクロヘキシルアクリレート(CHA、大阪有機化学工業製、商品名「ビスコート#155」)14重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)19重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)0.09重量部、及び光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.09重量部を投入した後、窒素ガスを流し、攪拌しながら約1時間窒素置換を行った。その後、5mW/cm2でUVAを照射し重合を行い、反応率が5~15%になるように調整して、アクリル系プレポリマー溶液を得た。
Production Example 5
(Preparation of Prepolymer)
In a separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen gas inlet tube, 67 parts by weight of butyl acrylate (BA), 14 parts by weight of cyclohexyl acrylate (CHA, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry, trade name "Viscoat #155"), 19 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA), 0.09 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 184"), and 0.09 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 651") were added, and then nitrogen gas was passed through and nitrogen substitution was performed for about 1 hour while stirring. Thereafter, polymerization was performed by irradiating UVA at 5 mW/cm 2 , and the reaction rate was adjusted to 5 to 15%, to obtain an acrylic prepolymer solution.

製造例6
(高分子RAFT溶液A1の調製)
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてシクロヘキシルアクリレート(CHA)50重量部、3,3,5-トリメチルシクロヘキシルアクリレート(TMCHA)50質量部、RAFT剤としてジベンジルトリチオカーボネート(DBTC)0.5重量部、重合溶媒として酢酸エチル100重量部を仕込み、熱重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.2重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Mwが18万の高分子RAFT溶液A1を得た。
(アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液B1の調製)
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分として2-エチルヘキシルアクリレート(2EHA)97重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4HBA)3重量部、上記で得られた高分子RAFT溶液A1 100重量部、重合溶媒として酢酸エチル100重量部を仕込み、熱重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.2重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Mwが40万、Mw/Mnが4.3のABA型アクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液B1を得た。
FOXの式による計算ガラス転移温度(Tg)において、ABA型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントAのTgは32℃、セグメントBのTgは-70℃である。
上記の生成物の重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)の測定は、以下の測定条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GCP法)による標準ポリスチレン換算として測定した。
・測定装置:HLC-8320GPC(東ソー社製)
・カラム:TSKgelGMH-H(S)、(東ソー社製)
・移動相溶媒:テトラヒドロフラン
・流量:1.0cm3/min
・カラム温度:40℃
Production Example 6
(Preparation of polymer RAFT solution A1)
A reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a stirrer was charged with 50 parts by weight of cyclohexyl acrylate (CHA) and 50 parts by mass of 3,3,5-trimethylcyclohexyl acrylate (TMCHA) as monomer components, 0.5 parts by weight of dibenzyl trithiocarbonate (DBTC) as a RAFT agent, and 100 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent, and 0.2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added as a thermal polymerization initiator, and solution polymerization was carried out under a nitrogen atmosphere to obtain a polymer RAFT solution A1 having a Mw of 180,000.
(Preparation of Acrylic Triblock Copolymer-Containing Pressure-Sensitive Adhesive Solution B1)
A reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer was charged with 97 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 3 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) as monomer components, 100 parts by weight of the polymer RAFT solution A1 obtained above, and 100 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent, and 0.2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added as a thermal polymerization initiator to carry out solution polymerization under a nitrogen atmosphere, thereby obtaining a pressure-sensitive adhesive solution B1 containing an ABA-type acrylic triblock copolymer having a Mw of 400,000 and a Mw/Mn of 4.3.
In terms of the calculated glass transition temperature (Tg) according to the FOX formula, the Tg of segment A of the ABA type acrylic triblock copolymer is 32°C, and the Tg of segment B is -70°C.
The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the above product were measured in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography (GCP method) under the following measurement conditions.
Measurement device: HLC-8320GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel GMH-H(S), (Tosoh Corporation)
Mobile phase solvent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 cm 3 /min
Column temperature: 40°C

製造例7
(黒色粘着剤組成物の調製)
製造例7で得られたアクリル系プレポリマー溶液(プレポリマー全量を100重量部とする)に、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)9重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)8重量部、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村工業化学製、商品名「KAYARAD DPHA」)0.02重量部、シランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.35重量部、および光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.3量部を加えて、光重合性粘着剤組成物溶液を調製した。
上記で得られた光重合性粘着剤組成物溶液100重量部に、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.2量部と黒色顔料分散液(株式会社トクシキ製、商品名「トクシキ9050 Black」)4重量部を加えて、光重合性の黒色粘着剤組成物溶液を調製した。
Production Example 7
(Preparation of black adhesive composition)
To the acrylic prepolymer solution obtained in Production Example 7 (total amount of prepolymer is taken as 100 parts by weight), 9 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 8 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA), 0.02 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Kagaku, product name "KAYARAD DPHA") as a polyfunctional monomer, 0.35 parts by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, and 0.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product name "Irgacure 651") were added to prepare a photopolymerizable pressure-sensitive adhesive composition solution.
To 100 parts by weight of the photopolymerizable pressure-sensitive adhesive composition solution obtained above, 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product name "Irgacure 651") and 4 parts by weight of a black pigment dispersion (manufactured by Tokushiki Corporation, product name "Tokushiki 9050 Black") were added to prepare a photopolymerizable black pressure-sensitive adhesive composition solution.

製造例8
(黒色粘着剤組成物の調製)
製造例6で得られたアクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液B1に、製造例6で使用したモノマー全量100重量部に対して2重量部の黒色染料(オリヱント化学工業製「VALIFAST BLACK 3810」)を加えて、黒色溶媒型粘着剤組成物溶液を調製した。
Production Example 8
(Preparation of black adhesive composition)
To the adhesive solution B1 containing the acrylic triblock copolymer obtained in Preparation Example 6, 2 parts by weight of a black dye ("VALIFAST BLACK 3810" manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.) was added relative to 100 parts by weight of the total amount of the monomers used in Preparation Example 6 to prepare a black solvent-type adhesive composition solution.

製造例9
(粘着剤組成物の調製)
製造例5で得られたアクリル系プレポリマー溶液(プレポリマー全量を100重量部とする)に、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)9重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)8重量部、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村工業化学製、商品名「KAYARAD DPHA」)0.12重量部、及びシランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.35重量部を加えて、光重合性の粘着剤組成物溶液を調製した。
Production Example 9
(Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition)
To the acrylic prepolymer solution obtained in Production Example 5 (total amount of prepolymer is taken as 100 parts by weight), 9 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 8 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA), 0.12 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Kagaku, product name "KAYARAD DPHA") as a polyfunctional monomer, and 0.35 parts by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent were added to prepare a photopolymerizable pressure-sensitive adhesive composition solution.

製造例10
(粘着シートの調製)
ポリエステルフィルムの片面が剥離面となっている厚さ38μmの剥離フィルムR1(三菱樹脂社製、商品名「MRF#38」)の剥離面に製造例7で調製した黒色粘着剤組成物溶液を硬化後の厚さが50μmになるように塗布し、ポリエステルフィルムの片面が剥離面となっている剥離フィルムR2(三菱樹脂社製、MRE#38)を被せて空気を遮断した。この積層体の片側から、ブラックライト(東芝社製、商品名「FL15BL」)を用いて照度5mW/cm2、積算光量1300mJ/cm2の条件で紫外線を照射した。これにより、上記黒色粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が上記剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ50μmの粘着シート1を、基材レス粘着シートの形態で得た。
なお、上記ブラックライトの照度の値は、ピーク感度波長約350nmの工業用UVチェッカー(トプコン社製、商品名:UVR-T1、受光部型式UD-T36)による測定値である。
粘着シート1の可視光透過率は、40%であった。
Production Example 10
(Preparation of Adhesive Sheet)
The black adhesive composition solution prepared in Production Example 7 was applied to the release surface of a 38 μm-thick release film R1 (manufactured by Mitsubishi Plastics, product name "MRF # 38"), one side of which is a polyester film, so that the thickness after curing was 50 μm, and a release film R2 (manufactured by Mitsubishi Plastics, MRE # 38), one side of which is a polyester film, was placed on top to block air. One side of this laminate was irradiated with ultraviolet light using a black light (manufactured by Toshiba, product name "FL15BL") at an illuminance of 5 mW / cm 2 and an accumulated light amount of 1300 mJ / cm 2. As a result, a 50 μm-thick adhesive sheet 1 in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the black adhesive composition, was sandwiched between the release films R1 and R2 was obtained in the form of a substrateless adhesive sheet.
The illuminance value of the black light is a value measured using an industrial UV checker (manufactured by Topcon Corporation, product name: UVR-T1, light receiving unit type UD-T36) with a peak sensitivity wavelength of about 350 nm.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 was 40%.

製造例11
(粘着シートの調製)
硬化後の厚さが100μmになるように塗布したこと以外は、製造例10と同様にして、黒色粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ100μmの粘着シート2を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート2の可視光透過率は、16%であった。
Production Example 11
(Preparation of Adhesive Sheet)
In the same manner as in Production Example 10, except that the coating was performed so that the thickness after curing would be 100 μm, a 100 μm-thick adhesive sheet 2 in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the black adhesive composition, is sandwiched between release films R1 and R2 was obtained in the form of a substrateless adhesive sheet.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 2 was 16%.

製造例12
(粘着シートの調製)
硬化後の厚さが150μmになるように塗布したこと以外は、製造例10と同様にして、黒色粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ150μmの粘着シート3を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート3の可視光透過率は、3%であった。
Production Example 12
(Preparation of Adhesive Sheet)
In the same manner as in Production Example 10, except that the coating was performed so that the thickness after curing would be 150 μm, a 150 μm-thick adhesive sheet 3 in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the black adhesive composition, is sandwiched between release films R1 and R2 was obtained in the form of a substrateless adhesive sheet.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 3 was 3%.

製造例13
(粘着シートの調製)
表面にシリコーン系離型層が設けられた厚み75μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱ケミカル製「ダイアホイルMRF75」)を基材として、基材上に製造例8で調製した黒色溶媒型粘着剤組成物溶液を塗布し、130℃で3分間乾燥させて、厚さ50μmの粘着剤層を形成した。この粘着剤層上に、片面がシリコーン剥離処理された厚み75μmのPETフィルム(三菱ケミカル製「ダイアホイルMRE75」)を貼り合わせ、両面に剥離フィルムが付設された粘着シート4を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート4の可視光透過率は、1%未満であった。
Production Example 13
(Preparation of Adhesive Sheet)
A 75 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film ("Diafoil MRF75" manufactured by Mitsubishi Chemical) having a silicone-based release layer on its surface was used as a substrate, and the black solvent-based adhesive composition solution prepared in Production Example 8 was applied onto the substrate and dried for 3 minutes at 130° C. to form an adhesive layer having a thickness of 50 μm. A 75 μm thick PET film ("Diafoil MRE75" manufactured by Mitsubishi Chemical) having one side treated with silicone release was bonded onto this adhesive layer, to obtain an adhesive sheet 4 having release films on both sides in the form of a substrate-less adhesive sheet.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 4 was less than 1%.

製造例14
(粘着シートの調製)
製造例8で調製した黒色溶媒型粘着剤組成物溶液を乾燥後の厚さが75μmになるように塗布したこと以外は、製造例13と同様にして、黒色溶媒型粘着剤組成物の粘着剤層が剥離フィルムに挟まれた厚さ75μmの粘着シート5を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート5の可視光透過率は、1%未満であった。
Production Example 14
(Preparation of Adhesive Sheet)
Except for applying the black solvent-type adhesive composition solution prepared in Preparation Example 8 so that the thickness after drying was 75 μm, a 75 μm-thick adhesive sheet 5 in the form of a substrateless adhesive sheet was obtained in the same manner as in Preparation Example 13, in which an adhesive layer of the black solvent-type adhesive composition was sandwiched between release films.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 5 was less than 1%.

製造例15
(粘着シートの調製)
製造例8で調製した黒色溶媒型粘着剤組成物溶液を乾燥後の厚さが100μmになるように塗布したこと以外は、製造例13と同様にして、黒色溶媒型粘着剤組成物の粘着剤層が剥離フィルムに挟まれた厚さ100μmの粘着シート6を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート6の可視光透過率は、1%未満であった。
Production Example 15
(Preparation of Adhesive Sheet)
Except for applying the black solvent-type pressure-sensitive adhesive composition solution prepared in Preparation Example 8 so that the thickness after drying was 100 μm, a 100 μm-thick pressure-sensitive adhesive sheet 6 in the form of a substrateless pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Preparation Example 13, in which a pressure-sensitive adhesive layer of the black solvent-type pressure-sensitive adhesive composition was sandwiched between release films.
The visible light transmittance of the pressure-sensitive adhesive sheet 6 was less than 1%.

製造例16
(粘着シートの調製)
製造例9で調製した粘着剤組成物溶液を硬化後の厚さが100μmになるように塗布したこと以外は、製造例10と同様にして、粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ100μmの粘着シート7を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート7の可視光透過率は、90%であった。
Production Example 16
(Preparation of Adhesive Sheet)
Except for applying the adhesive composition solution prepared in Production Example 9 so that the thickness after curing was 100 μm, a 100 μm-thick adhesive sheet 7 in the form of a substrateless adhesive sheet was obtained in the same manner as in Production Example 10, in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the adhesive composition, is sandwiched between release films R1 and R2.
The visible light transmittance of the adhesive sheet 7 was 90%.

製造例17
(粘着シートの調製)
製造例9で調製した粘着剤組成物溶液を硬化後の厚さが200μmになるように塗布したこと以外は、製造例10と同様にして、粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ200μmの粘着シート8を、基材レス粘着シートの形態で得た。
粘着シート8の可視光透過率は、90%であった。
Production Example 17
(Preparation of Adhesive Sheet)
Except for applying the adhesive composition solution prepared in Production Example 9 so that the thickness after curing was 200 μm, a 200 μm-thick adhesive sheet 8 in the form of a substrateless adhesive sheet was obtained in the same manner as in Production Example 10, in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the adhesive composition, is sandwiched between release films R1 and R2.
The visible light transmittance of the adhesive sheet 8 was 90%.

実施例1
(光学積層体の調製)
20mm×20mmにカットした製造例17で得られた粘着シート8から一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を、45mm×50mmのガラス板(可視光透過率:93%)の中央部貼り付けた後に、他方の剥離フィルムを剥離し、粘着面を露出させた。20mm×20mmにカットした製造例10で得られた粘着シート1から一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を、前記粘着シート8の粘着面に貼り合わせることにより、ガラス板/粘着シート8/粘着シート1/剥離フィルムからなる光学積層体1を得た。
Example 1
(Preparation of optical laminate)
One release film was peeled off from the adhesive sheet 8 obtained in Production Example 17 cut to 20 mm x 20 mm, and the exposed adhesive surface was attached to the center of a 45 mm x 50 mm glass plate (visible light transmittance: 93%), and then the other release film was peeled off to expose the adhesive surface. One release film was peeled off from the adhesive sheet 1 obtained in Production Example 10 cut to 20 mm x 20 mm, and the exposed adhesive surface was attached to the adhesive surface of the adhesive sheet 8, to obtain an optical laminate 1 consisting of glass plate/adhesive sheet 8/adhesive sheet 1/release film.

実施例2~6
(光学積層体の調製)
粘着シート1に代えて、粘着シート2~6を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、それぞれガラス板/粘着シート8/粘着シート2~6/剥離フィルムからなる光学積層体2~6を得た。
Examples 2 to 6
(Preparation of optical laminate)
Except for using adhesive sheets 2 to 6 instead of adhesive sheet 1, the same procedure as in Example 1 was repeated to obtain optical laminates 2 to 6 each consisting of a glass plate/adhesive sheet 8/adhesive sheets 2 to 6/release film.

比較例1
(光学積層体の調製)
粘着シート1に代えて、粘着シート7を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、それぞれガラス板/粘着シート8/粘着シート7/剥離フィルムからなる光学積層体7を得た。
Comparative Example 1
(Preparation of optical laminate)
Except for using adhesive sheet 7 instead of adhesive sheet 1, the same procedure as in Example 1 was repeated to obtain optical laminate 7 each consisting of glass plate/adhesive sheet 8/adhesive sheet 7/release film.

(評価)
上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体を用いて、以下の評価を行った。評価方法を以下に示す。
(evaluation)
The optical laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples were subjected to the following evaluations. The evaluation methods are shown below.

(1)段差追従性の評価
(凹凸被着体の作製)
TACフィルム(厚み60μm)と粘着剤(厚み20μm)の積層体を45mm×50mmのガラス板に貼り合せた後、CO2レーザー(波長10.6μm・レーザー径〇μm)を用いて中央の10mm×10mmの範囲内を縦方向150μmピッチ・横方向225μmピッチで直線エッチング加工を行うことでTACフィルムと粘着剤層が格子状の凹凸形状に加工された被着体Aを得た。
本被着体Aは、基板上に複数のLEDフィルムが配列されたLEDパネルを模したものである。
(真空貼り合わせ)
実施例1~6及び比較例1で調製した光学積層体1~7の剥離フィルムを剥離して露出した粘着面と、被着体Aの加工面を、真空貼り合わせ装置(CRIMB Products社製、SE340aaH)を用いて、被着体Aの加工範囲内を粘着シートが完全に被覆できる精度で貼り合わせ、それぞれガラス板/粘着シート8/粘着シート1~7/被着体Aからなる評価用サンプル1~7を得た。
(段差追従性の評価)
評価用サンプル1~7において、粘着シートが凹凸形状のパターン部分に追従できている場合、被着体Aの加工部が透明に視認され、追従できていない部分は白色に視認される性質を利用して、定点カメラ撮影により白色部の面積を演算して段差追従性を評価した。

段差追従性(%)=100―{[評価時の白色部の面積]/[貼合前の白色部の面積=1cm2]×100}

段差追従性は、貼り合わせ直後、及びオートクレーブ(50℃・0.5MPa条件下で15分・30分・60分)後段階で測定を実施した。結果を表1に示す。
(1) Evaluation of conformability to uneven surfaces (preparation of uneven substrate)
A laminate of TAC film (thickness 60 μm) and adhesive (thickness 20 μm) was bonded to a 45 mm × 50 mm glass plate, and then a CO2 laser (wavelength 10.6 μm, laser diameter 0 μm) was used to perform linear etching within a central 10 mm × 10 mm area at a vertical pitch of 150 μm and a horizontal pitch of 225 μm to obtain adherend A in which the TAC film and adhesive layer were processed into a lattice-like uneven shape.
This adherend A imitates an LED panel in which a plurality of LED films are arranged on a substrate.
(Vacuum bonding)
The release films of the optical laminates 1 to 7 prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 were peeled off to expose the adhesive surfaces, which were then bonded to the processed surface of the adherend A using a vacuum lamination device (SE340aaH, manufactured by CRIMB Products) with a precision such that the adhesive sheet could completely cover the processed area of the adherend A, to obtain evaluation samples 1 to 7 each consisting of glass plate/adhesive sheet 8/adhesive sheets 1 to 7/adherend A.
(Evaluation of step-following ability)
In evaluation samples 1 to 7, when the adhesive sheet is able to conform to the uneven pattern portion, the processed portion of the adherend A appears transparent, and the portion that cannot be conformed appears white. Taking advantage of this property, the area of the white portion was calculated by photographing with a fixed camera to evaluate the step conformability.

Level difference conformability (%)=100−{[area of white part during evaluation]/[area of white part before lamination=1 cm 2 ]×100}

The step conformability was measured immediately after lamination and after autoclaving (under conditions of 50° C. and 0.5 MPa for 15 minutes, 30 minutes, and 60 minutes). The results are shown in Table 1.

Figure 0007526020000004
Figure 0007526020000004

(2)可視光透過率
上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体を、分光光度計U4100(日立ハイテクノロジー社製)に、ガラス板側から光が入射するように設置し、可視光領域の透過率(%)を測定した。この透過率は、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。結果を表2に示す。
(2) Visible light transmittance The optical laminates obtained in the above examples and comparative examples were placed in a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) so that light was incident from the glass plate side, and the transmittance (%) of the visible light region was measured. This transmittance is the Y value measured using a 2-degree visual field (C light source) according to JIS Z8701 and corrected for visibility. The results are shown in Table 2.

(3)反射率
黒色のアクリル板にアルミニウム箔を貼り付けて積層したプレートを作製した。上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を上記プレートのアルミニウム箔側に積層し、サンプルとした。得られたサンプルを、分光光度計U4100(日立ハイテクノロジー社製)へアンチグレア性フィルム/TACフィルムを光源側に設置し、5°正反射の可視光領域の反射率(%)を測定した。
(3) Reflectance A plate was prepared by laminating an aluminum foil on a black acrylic plate. The release film of the optical laminate obtained in the above examples and comparative examples was peeled off, and the exposed adhesive surface was laminated on the aluminum foil side of the plate to prepare a sample. The obtained sample was placed on a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) with the anti-glare film/TAC film on the light source side, and the reflectance (%) of the visible light region at 5° regular reflection was measured.

Figure 0007526020000005
Figure 0007526020000005

実施例7
(光学積層体の調製)
20mm×20mmにカットした製造例17で得られた粘着シート8から一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を、45mm×50mmにカットした製造例1で得られたアンチグレア性フィルム1のアンチグレア層が形成されていない面の中央部貼り付けた後に、他方の剥離フィルムを剥離し、粘着面を露出させる。20mm×20mmにカットした製造例10で得られた粘着シート1から一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を、前記粘着シート8の粘着面に貼り合わせることにより、アンチグレア性フィルム1/粘着シート8/粘着シート1/剥離フィルムからなる光学積層体8を得る。
Example 7
(Preparation of optical laminate)
One release film is peeled off from the adhesive sheet 8 obtained in Production Example 17 cut to 20 mm x 20 mm, and the exposed adhesive surface is attached to the center of the surface of the anti-glare film 1 obtained in Production Example 1 cut to 45 mm x 50 mm where the anti-glare layer is not formed, and then the other release film is peeled off to expose the adhesive surface. The adhesive sheet 1 obtained in Production Example 10 cut to 20 mm x 20 mm and the exposed adhesive surface is peeled off from one release film and attached to the adhesive surface of the adhesive sheet 8, thereby obtaining an optical laminate 8 consisting of the anti-glare film 1/adhesive sheet 8/adhesive sheet 1/release film.

実施例8~10
(光学積層体の調製)
アンチグレア性フィルム1の代わりに、製造例2~4で得られたアンチグレア性フィルム2~4を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、それぞれアンチグレア性フィルム2~4/粘着シート8/粘着シート1/剥離フィルムからなる光学積層体9~11を得る。
Examples 8 to 10
(Preparation of optical laminate)
Except for using the antiglare films 2 to 4 obtained in Production Examples 2 to 4 instead of the antiglare film 1, the same procedure as in Example 7 was repeated to obtain optical laminates 9 to 11 each consisting of antiglare films 2 to 4/adhesive sheet 8/adhesive sheet 1/release film.

10、11、12 光学積層体
1 第1粘着剤層
2 第2粘着剤層
3 基材
4 反射防止処理及び/又はアンチグレア処理
4a アンチグレア層
20、21、22 自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)
5 基板
6 金属配線層
7 発光素子(LEDチップ)
10, 11, 12 Optical laminate 1 First adhesive layer 2 Second adhesive layer 3 Substrate 4 Anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 4a Anti-glare layer 20, 21, 22 Self-luminous display device (mini/micro LED display device)
5 Substrate 6 Metal wiring layer 7 Light emitting element (LED chip)

Claims (18)

第1粘着剤層と、第2粘着剤層と、基材とが、この順で積層された積層構造を有し、
前記第1粘着剤層の厚みは均一であり、
前記第1粘着剤層は、光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であり、
前記光硬化性粘着剤組成物は、光重合により調製されたポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含み、
前記基材の前記第2粘着剤層が積層されていない面は、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されており、
前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、及び前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、T1<T2を充たす、光学積層体。
a laminated structure in which a first pressure-sensitive adhesive layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a base material are laminated in this order;
The first pressure-sensitive adhesive layer has a uniform thickness,
the first pressure-sensitive adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer formed from a photocurable pressure-sensitive adhesive composition,
The photocurable pressure-sensitive adhesive composition includes a polymer prepared by photopolymerization, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator;
a surface of the base material on which the second pressure-sensitive adhesive layer is not laminated is subjected to an anti-reflection treatment and/or an anti-glare treatment;
An optical laminate, wherein a visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and a visible light transmittance T 2 of the second pressure-sensitive adhesive layer satisfy T 1 <T 2 .
前記第1粘着剤層の可視光透過率T1、及び前記基材の可視光透過率T3は、T1<T3を充たす、請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 , wherein a visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer and a visible light transmittance T 3 of the base material satisfy T 1 <T 3 . 前記第1粘着剤層の可視光透過率T1は、80%以下である、請求項1又は2に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 or 2, wherein the visible light transmittance T 1 of the first pressure-sensitive adhesive layer is 80% or less. 前記第2粘着剤層の可視光透過率T2は、85~100%である、請求項1~3のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the visible light transmittance T2 of the second pressure-sensitive adhesive layer is 85 to 100%. 記第2粘着剤層は、光硬化性粘着剤組成物及び溶媒型粘着剤組成物から選ばれる粘着剤組成物から形成される粘着剤層である、請求項1~4のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the second pressure-sensitive adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition selected from a photocurable pressure-sensitive adhesive composition and a solvent-based pressure-sensitive adhesive composition. 前記第1粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、着色剤を含有する、請求項5に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 5, wherein the adhesive composition forming the first adhesive layer contains a colorant. 前記粘着剤組成物は、アクリル系ポリマーを含有する、請求項5又は6に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 5 or 6, wherein the pressure-sensitive adhesive composition contains an acrylic polymer. 前記アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有する、請求項7に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 7, wherein the acrylic polymer contains a (meth)acrylic block copolymer. 前記第1粘着剤層の厚みは、10~300μmである、請求項1~のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 8 , wherein the first pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 10 to 300 µm. 前記第2粘着剤層の厚みは、1~500μmである、請求項1~のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 9 , wherein the second pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 1 to 500 µm. 前記第1粘着剤層の厚みに対する前記第2粘着剤層の厚みの割合(第2粘着剤層の厚み/第1粘着剤層の厚み)は、1.0~5.0である、請求項1~10のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 10 , wherein a ratio of a thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer to a thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer (thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer/thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer) is 1.0 to 5.0. 前記着色剤は、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きい着色剤である、請求項6に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 6, wherein the colorant has an average transmittance at wavelengths of 330 to 400 nm that is greater than the average transmittance at wavelengths of 400 to 700 nm. 前記アンチグレア防止処理が、前記基材の片面に設けられたアンチグレア層である、請求項1~12のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 12 , wherein the anti-glare treatment is an anti-glare layer provided on one surface of the substrate. 前記アンチグレア層が、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、
前記アンチグレア層が、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層の表面に凸状部を形成する凝集部を有する、請求項13に記載の光学積層体。
the anti-glare layer is formed using an anti-glare layer-forming material including a resin, particles, and a thixotropy-imparting agent;
The optical laminate according to claim 13 , wherein the antiglare layer has aggregated portions in which the particles and the thixotropy-imparting agent aggregate to form convex portions on a surface of the antiglare layer.
前記アンチグレア層表面の凸状部において、平均傾斜角θa(°)が0.1~1.5の範囲である、請求項14に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 14 , wherein the average inclination angle θa (°) of the convex portions on the surface of the antiglare layer is in the range of 0.1 to 1.5. さらに、前記基材の前記第2粘着剤層が積層されていない面に、表面保護フィルムが積層された、請求項1~15のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 15 , further comprising a surface protection film laminated on the surface of the base material on which the second pressure-sensitive adhesive layer is not laminated. 基板の片面に複数の発光素子が配列した表示パネルと、
請求項1~16のいずれか1項に記載の光学積層体と、を含む自発光型表示装置であって、
前記表示パネルの発光素子が配列した面と、前記光学積層体の前記第1粘着剤層が積層した、自発光型表示装置。
A display panel having a plurality of light-emitting elements arranged on one surface of a substrate;
A self-luminous display device comprising the optical laminate according to any one of claims 1 to 16 ,
A self-luminous display device, in which the surface of the display panel on which light-emitting elements are arranged and the first adhesive layer of the optical laminate are laminated.
前記表示パネルが、基板の片面に複数のLEDチップが配列したLEDパネルである、請求項17に記載の自発光型表示装置。 18. The self-luminous display device according to claim 17 , wherein the display panel is an LED panel having a plurality of LED chips arranged on one surface of a substrate.
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