JP7561827B2 - 液晶層の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] 支持体の上に配向膜を形成する配向膜形成工程、
配向膜上に重合性液晶化合物を含む第1の液晶組成物を積層し、配向させる液晶配向層配向工程、
配向した第1の液晶組成物を重合させ、液晶配向層を形成する液晶配向層形成工程、
液晶配向層の、配向膜とは反対側の面に、重合性液晶化合物を含む第2の液晶組成物を積層し、配向させる液晶層配向工程、
配向した第2の液晶組成物を重合させ、液晶層を形成する液晶層形成工程、および、
形成した液晶層を、液晶配向層から分離する液晶層分離工程、
を有し、液晶層配向工程から液晶層分離工程を繰り返して、液晶層を繰り返し作製する液晶層の製造方法。
[2] 液晶層配向工程において、液晶配向層によって、液晶層中の液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している配向状態とする[1]に記載の液晶層の製造方法。
[3] 配向膜形成工程で形成する配向膜は、アゾベンゼン系化合物を含む光配向性組成物から形成されている[1]または[2]に記載の液晶層の製造方法。
[4] 配向膜形成工程において、配向膜はレーザー干渉露光される[1]~[3]のいずれかに記載の液晶層の製造方法。
[5] 第1の液晶組成物が多官能重合性化合物を含む[1]~[4]のいずれかに記載の液晶層の製造方法。
[6] 第1の液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物が多官能重合性液晶化合物である[5]に記載の液晶層の製造方法。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
本明細書において、「同じ」「同一」は、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。
本発明の液晶層の製造方法は、
支持体の上に配向膜を形成する配向膜形成工程、
配向膜上に重合性液晶化合物を含む第1の液晶組成物を積層し、配向させる液晶配向層配向工程、
配向した第1の液晶組成物を重合させ、液晶配向層を形成する液晶配向層形成工程、
液晶配向層の、配向膜とは反対側の面に、重合性液晶化合物を含む第2の液晶組成物を積層し、配向させる液晶層配向工程、
配向した第2の液晶組成物を重合させ、液晶層を形成する液晶層形成工程、および、
形成した液晶層を、液晶配向層から分離する液晶層分離工程、
を有し、液晶層配向工程から液晶層分離工程を繰り返して、液晶層を繰り返し作製する液晶層の製造方法である。
図1に示すように、配向膜形成工程は、支持体30の上に配向膜32を形成する工程である。
配向膜の形成方法は、配向膜の形成材料に応じて、液晶層の形成に用いられる従来公知の配向膜の形成方法が利用可能である。
例えば、ポリマーなどの有機化合物からなるラビング処理膜、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、ならびに、ω-トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチルなどの有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるLB(Langmuir-Blodgett:ラングミュア・ブロジェット)膜を累積させた膜、等が例示される。
ラビング処理による配向膜32に使用する材料としては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平9-152509号公報に記載された重合性基を有するポリマー、特開2005-97377号公報、特開2005-99228号公報、および、特開2005-128503号公報記載の配向膜32等の形成に用いられる材料が好ましい。
偏光の照射は、光配向膜に対して、垂直方向または斜め方向から行うことができ、非偏光の照射は、光配向膜に対して、斜め方向から行うことができる。
中でも、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド、光架橋性ポリエステル、シンナメート化合物、および、カルコン化合物は、好適に利用される。
アゾベンゼン系化合物とは、光反応性基であるアゾベンゼン基を有する化合物である。
アゾベンゼン系化合物としては特に制限されないが、一般式(I)で表される化合物が好ましい。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
配向膜32の厚さは、0.01~5μmが好ましく、0.05~2μmがより好ましい。
図2に示す露光装置60は、レーザ62を備えた光源64と、レーザ62が出射したレーザ光Mの偏光方向を変えるλ/2板65と、レーザ62が出射したレーザ光Mを光線MAおよびMBの2つに分離する偏光ビームスプリッター68と、分離された2つの光線MAおよびMBの光路上にそれぞれ配置されたミラー70Aおよび70Bと、λ/4板72Aおよび72Bと、を備える。
なお、光源64は直線偏光P0を出射する。λ/4板72Aは、直線偏光P0(光線MA)を右円偏光PRに、λ/4板72Bは直線偏光P0(光線MB)を左円偏光PLに、それぞれ変換する。
この際の干渉により、配向膜32に照射される光の偏光状態が干渉縞状に周期的に変化するものとなる。これにより、配向状態が周期的に変化する配向パターンを有する配向膜(以下、パターン配向膜ともいう)が得られる。
また、λ/4板72Aおよび72Bの光学軸を、それぞれ、90°回転することにより、光学軸40Aの回転方向を逆にすることができる。
例えば、支持体30をラビング処理する方法、支持体30をレーザ光などで加工する方法等によって、支持体30に配向パターンを形成することにより、液晶層が、液晶化合物40に由来する光学軸40Aの向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する構成とすることも、可能である。すなわち、本発明においては、支持体30を配向膜として作用させてもよい。
支持体30は、配向膜32、および、液晶層34を支持するものである。
支持体30は、配向膜32、液晶層34を支持できるものであれば、各種のシート状物(フィルム、板状物)が利用可能である。
なお、支持体30は、対応する光に対する透過率が50%以上であるのが好ましく、70%以上であるのがより好ましく、85%以上であるのがさらに好ましい。
支持体30の厚さは、1~2000μmが好ましく、3~500μmがより好ましく、5~250μmがさらに好ましい。
単層である場合の支持体30としては、ガラス、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、アクリル、および、ポリオレフィン等からなる支持体30が例示される。多層である場合の支持体30の例としては、前述の単層の支持体のいずれかなどを基板として含み、この基板の表面に他の層を設けたもの等が例示される。
液晶配向層配向工程は、配向膜上に重合性液晶化合物を含む第1の液晶組成物を積層し、配向させる工程である。液晶配向層配向工程では、配向膜32の上に第1の液晶組成物を塗布して、液晶化合物を所望の液晶相の状態に配向する。
液晶配向層形成工程は、配向した第1の液晶組成物を重合させ、液晶配向層を形成する工程である。
液晶配向層配向工程および液晶配向層形成工程により、図3に示すように、液晶配向層33が形成される。
第1の液晶組成物は、重合性液晶化合物を含み、さらに、界面活性剤、キラル剤、重合開始剤、架橋剤、その他の添加剤、および、溶媒を含んでいてもよい。また、第1の液晶組成物は、多官能重合性化合物を含むことが好ましい。重合性液晶化合物が多官能重合性液晶化合物であることが好ましい。
重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよい。
棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
重合性液晶化合物の例は、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、米国特許第5622648号明細書、米国特許第5770107号明細書、国際公開第95/22586号、国際公開第95/24455号、国際公開第97/00600号、国際公開第98/23580号、国際公開第98/52905号、特開平1-272551号公報、特開平6-16616号公報、特開平7-110469号公報、特開平11-80081号公報、および、特開2001-328973号公報等に記載の化合物が含まれる。2種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。2種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
多官能重合性液晶化合物は、重合性基を複数有する液晶化合物である。重合性基の種類は、上述した通りである。
多官能重合性液晶化合物中における重合性基の数は、2以上であり、2~6が好ましい。
多官能重合性液晶化合物は、重合性基を複数有していれば、円盤状液晶化合物であってもよいし、棒状液晶化合物であってもよい。
第1の液晶組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤は、安定的に、または迅速に、液晶相の配向に寄与する配向制御剤として機能できる化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコ-ン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましく例示される。
なお、界面活性剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
フッ素系界面活性剤として、特開2014-119605号公報の段落[0082]~[0090]に記載の化合物が好ましい。
キラル剤(カイラル剤)はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって誘起する螺旋の捩れ方向または螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4-3項、TN(twisted nematic)、STN(Super Twisted Nematic)用キラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)、イソソルビド、および、イソマンニド誘導体等を用いることができる。
キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であるのが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であるのが好ましく、不飽和重合性基であるのがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であるのがさらに好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
第1の液晶組成物が重合性化合物を含む場合は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤の例には、α-カルボニル化合物(米国特許第2367661号、米国特許第2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書記載)、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、米国特許第2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60-105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)、ならびに、オキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)等が挙げられる。
第1の液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して0.1~20質量%であるのが好ましく、0.5~12質量%であるのがさらに好ましい。
第1の液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、および、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2-ビスヒドロキシメチルブタノール-トリス[3-(1-アジリジニル)プロピオネート]および4,4-ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ならびに、ビニルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
架橋剤の含有量は、第1の液晶組成物の固形分質量に対して、3~20質量%が好ましく、5~15質量%がより好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲内であれば、架橋密度向上の効果が得られやすく、液晶相の安定性がより向上する。
第1の液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物微粒子等を、光学的性能等を低下させない範囲で添加することができる。
第1の液晶組成物は、液晶層を形成する際には、液体として用いられるのが好ましい。
第1の液晶組成物は溶媒を含んでいてもよい。溶媒には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が好ましい。
液晶層配向工程は、液晶配向層の、配向膜とは反対側の面に、重合性液晶化合物を含む第2の液晶組成物を積層し、配向させる工程である。液晶層配向工程では、液晶配向層33の上に第2の液晶組成物を塗布して、液晶化合物を所望の液晶相の状態に配向する。
液晶層形成工程は、配向した第2の液晶組成物を重合させ、液晶層を形成する工程である。
液晶層配向工程および液晶層形成工程により、図4に示すように、液晶層34が形成される。
液晶層分離工程は、図5に示すように、形成した液晶層34を、液晶配向層33から分離する工程である。液晶配向層33から液晶層34を分離する方法には、制限はなく、公知の方法が、各種、利用可能である。
液晶配向層33と液晶層34との接着力は、例えば、液晶配向層33と液晶層34との界面で共有結合が出来ない、または出来にくい系(材料)の選択、処理を行うことで、低下させることができる。例えば、液晶配向層33と液晶層34の重合システムを変えることが挙げられる。具体的には、一方の材料としてアクリレート系の材料を用い、他方の材料として、エポキシ系の材料を用いることが挙げられる。また、例えば、重合システムが同じ(例えば、アクリレート系)であっても、液晶配向層33の表面に、ハロゲン化処理などのアクリレートが残存しない処理をしてもよい。
液晶層の一例について図6~図8を用いて説明する。
図6は、コレステリック液晶層34の概念図である。図7は、図6に示すコレステリック液晶層34の主面の面内における液晶化合物の配向状態を示す模式図である。
以下の説明では、コレステリック液晶層34の主面をX-Y面とし、このX-Y面に対して垂直な断面をX-Z面として説明する。つまり、図6は、コレステリック液晶層34のX-Z面の模式図に相当し、図7は、コレステリック液晶層34のX-Y面の模式図に相当する。
以下の説明では、コレステリック液晶層を、単に液晶層ともいう。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類および/または添加されるキラル剤の種類によって調節できる。
従って、液晶層が反射(回折)する光の波長は、例えば液晶層の螺旋のピッチPを調整して、液晶層の選択的な反射波長域を適宜設定すればよい。
反射波長域の半値幅は、液晶層の用途に応じて調節され、例えば10~500nmであればよく、好ましくは20~300nmであり、より好ましくは30~100nmである。
なお、「液晶化合物40の光学軸40Aの向きが配列軸Dに沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している」とは、液晶化合物40の光学軸40Aと配列軸Dとのなす角度が、配列軸D方向の位置により異なっており、配列軸Dに沿って光学軸40Aと配列軸Dとのなす角度がθからθ+180°あるいはθ-180°まで徐々に変化していることを意味する。つまり、配列軸Dに沿って配列する複数の液晶化合物40は、図7に示すように、光学軸40Aが配列軸Dに沿って一定の角度ずつ回転しながら変化する。
なお、配列軸D方向に互いに隣接する液晶化合物40の光学軸40Aの角度の差は、45°以下であるのが好ましく、15°以下であるのがより好ましく、より小さい角度であるのがさらに好ましい。
また、本明細書において、液晶化合物40が棒状液晶化合物である場合、液晶化合物40の光学軸40Aは、棒状液晶化合物の分子長軸を意図する。一方、液晶化合物40が円盤状液晶化合物である場合、液晶化合物40の光学軸40Aは、円盤状液晶化合物の円盤面に対する法線方向に平行な軸を意図する。
すなわち、配列軸D方向に対する角度が等しい2つの液晶化合物40の、配列軸D方向の中心間の距離を、1周期の長さΛとする。具体的には、図7に示すように、配列軸D方向と光学軸40Aの方向とが一致する2つの液晶化合物40の、配列軸D方向の中心間の距離を、1周期の長さΛとする。以下の説明では、この1周期の長さΛを『1周期Λ』とも言う。
液晶層34の液晶配向パターンは、この1周期Λを、配列軸D方向すなわち光学軸40Aの向きが連続的に回転して変化する一方向に繰り返す。液晶回折素子においては、この1周期Λが、回折構造の周期となる。
言い換えれば、液晶層34を形成する液晶化合物40は、Y方向では、液晶化合物40の光学軸40Aと配列軸D方向とが成す角度が等しい。
従来のコレステリック液晶層において、コレステリック液晶相由来の螺旋軸は、主面(X-Y面)に対して垂直であり、その反射面は主面(X-Y面)と平行な面である。また、液晶化合物の光学軸は、主面(X-Y面)に対して傾斜していない。言い換えると、光学軸は主面(X-Y面)に対して平行である。したがって、従来のコレステリック液晶層のX-Z面をSEMにて観察すると、明部と暗部とが交互に配列された配列方向は主面(X-Y面)と垂直となる。
コレステリック液晶相は鏡面反射性であるため、例えば、コレステリック液晶層に法線方向から光が入射される場合、法線方向に光が反射される。
液晶層34に形成された液晶配向パターンは、配列軸D方向に周期的なパターンである。そのため、液晶層34に入射した赤色光の右円偏光RRは、図9に概念的に示すように、液晶配向パターンの周期に応じた方向に反射(回折)され、反射された赤色光の右円偏光RRは、XY面(コレステリック液晶層の主面)に対して配列軸D方向に傾いた方向に反射(回折)される。
例えば、図6および図7においては、配列軸D方向に向かう光学軸40Aの回転方向は時計回りで、ある円偏光が配列軸D方向に傾けて反射されるが、これを反時計回りとすることで、ある円偏光が配列軸D方向とは逆方向に傾けて反射される。
例えば、螺旋の旋回方向が右捩じれの場合、右円偏光を選択的に反射するものであり、配列軸D方向に沿って光学軸40Aが時計回りに回転する液晶配向パターンを有することにより、右円偏光を配列軸D方向に傾けて反射する。
また、例えば、螺旋の旋回方向が左捩じれの場合、左円偏光を選択的に反射するものであり、配列軸D方向に沿って光学軸40Aが時計回りに回転する液晶配向パターンを有する液晶層は、左円偏光を配列軸D方向と逆方向に傾けて反射する。
本発明において、回折素子の1周期Λの長さには、制限はなく、所望の回折角度等に応じて、適宜、設定すればよい。
1周期Λの長さは、0.1~10μmが好ましく、0.15~2μmがより好ましく、0.2~1μmがさらに好ましい。
また、この液晶配向パターンを有する液晶層では、光の反射角度(回折角)は、反射する光の波長によって、角度が異なる。具体的には、長波長の光ほど、入射光に対する反射光の角度が大きくなる。
しかしながら、本発明は、これに制限はされない。例えば、図10に概念的に示すように、液晶層34のX-Z面において、液晶化合物40が、主面(X-Y面)に対して、その光学軸40Aが傾斜して配向している構成であってもよい。
例えば、図11に示す例は、液晶層の、配向膜32側の界面において液晶化合物40の光学軸40Aが主面に平行であり(プレチルト角が0であり)、配向膜32側の界面から厚さ方向に離間するにしたがって、液晶化合物40のチルト角が大きくなって、その後、他方の界面(空気界面)側まで一定のチルト角で液晶化合物が配向されている構成である。
このように液晶化合物がチルト角を有して(傾斜して)いることにより、光が回折する際に実効的な液晶化合物の複屈折率が高くなり、回折効率を高めることができる。
なお、上記チルト角は、コレステリック液晶層断面の偏光顕微鏡観察において、液晶化合物40の光学軸40Aと主面とのなす角度を任意の5か所以上で測定して、それらを算術平均した値である。
液晶化合物をチルトさせた場合、チルトさせない場合と比較して、光が回折する方位に対してより高い複屈折率が生じる方位が存在する。この方向では実効的な異常光屈折率が大きくなるため、異常光屈折率と常光屈折率の差である複屈折率が高くなる。
狙った回折する方位に合わせて、チルト角の方位を設定することによって、その方位での本来の回折条件とのずれを抑制することができ、結果としてチルト角を持たせた液晶化合物を用いた場合の方が、より高い回折効率を得ることができると考えられる。
支持体側の界面においては、光配向膜にプレチルト処理をおこなうことにより液晶化合物のチルト角を制御することが出来る。例えば、光配向膜の形成の際に光配向膜に紫外線を正面から露光した後に斜めから露光することにより、光配向膜上に形成する液晶層中の液晶化合物にプレチルト角を生じさせることが出来る。この場合には、2回目の照射方向に対して液晶化合物の単軸側が見える方向にプレチルトする。ただし、2回目の照射方向に対して垂直方向の方位の液晶化合物はプレチルトしないため、面内でプレチルトする領域とプレチルトしない領域が存在する。このことは、狙った方位に光を回折させるときにその方向に最も複屈折を高めることに寄与するので回折効率を高めるのに適している。
さらに、液晶層中または光配向膜中にプレチルト角を助長する添加剤を加えることも出来る。この場合、回折効率を更に高める因子として添加剤を利用できる。
この添加剤は空気側の界面のプレチルト角の制御にも利用できる。
液晶層がこのような構成を有することにより、液晶化合物が主面に平行である液晶層に比して、高い回折効率で円偏光を回折できる。
光学軸傾斜角の絶対値を15°以上とすることにより、より好適に、液晶化合物の方向を明部および暗部に一致させ、回折効率を向上できる点で好ましい。
図13に示すように、液晶層36は、コレステリック液晶層34と同様、液晶化合物40の光学軸40Aが、配列軸D方向に沿って連続的に回転する液晶配向パターンを有する。なお、図13も、上述した図7と同様、配向膜32の表面の液晶化合物のみを示している。
図12に示すように、液晶層36を形成する液晶化合物40が厚さ方向に螺旋状に捩じれ回転しておらず、光学軸40Aは、面方向の同じ場所に位置する。このような液晶層は、上述したコレステリック液晶層の形成において、液晶組成物にキラル剤を添加しないことで形成できる。なお、このような液晶層は、液晶化合物がコレステリック液晶相とはならない程度に厚さ方向に捩じれ回転した構成を有していてもよい。
一方、液晶層36を形成する液晶化合物40は、配列軸D方向と直交するY方向、すなわち光学軸40Aが連続的に回転する一方向と直交するY方向では、光学軸40Aの向きが等しい液晶化合物40が等間隔で配列されている。
言い換えれば、液晶層36を形成する液晶化合物40において、Y方向に配列される液晶化合物40同士では、光学軸40Aの向きと配列軸D方向とが成す角度が等しい。
この場合に、それぞれの領域Rにおける面内レタデーション(Re)の値は、半波長すなわちλ/2であるのが好ましい。これらの面内レタデーションは、領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差Δnと光学異方性層の厚さとの積により算出される。ここで、光学異方性層における領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差とは、領域Rの面内における遅相軸の方向の屈折率と、遅相軸の方向に直交する方向の屈折率との差により定義される屈折率差である。すなわち、領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差Δnは、光学軸40Aの方向の液晶化合物40の屈折率と、領域Rの面内において光学軸40Aに垂直な方向の液晶化合物40の屈折率との差に等しい。つまり、屈折率差Δnは、液晶化合物40の屈折率差に等しい。
この作用を、図14および図15に概念的に示す。なお、液晶層36は、液晶化合物の屈折率差と光学異方性層の厚さとの積の値がλ/2であるとする。
図14に示すように、液晶層36の液晶化合物の屈折率差と光学異方性層の厚さとの積の値がλ/2の場合に、液晶層36に左円偏光である入射光L1が入射すると、入射光L1は、液晶層36を通過することにより180°の位相差が与えられて、透過光L2は、右円偏光に変換される。
また、液晶層36に形成された液晶配向パターンは、配列軸D方向に周期的なパターンであるため、透過光L2は、入射光L1の進行方向とは異なる方向に進行する。このように、左円偏光の入射光L1は、入射方向に対して配列軸D方向に一定の角度だけ傾いた、右円偏光の透過光L2に変換される。
また、液晶層36に形成された液晶配向パターンは、配列軸D方向に周期的なパターンであるため、透過光L5は、入射光L4の進行方向とは異なる方向に進行する。このとき、透過光L5は透過光L2と異なる方向、つまり、入射方向に対して矢印X方向とは逆の方向に進行する。このように、入射光L4は、入射方向に対して配列軸D方向とは逆の方向に一定の角度だけ傾いた左円偏光の透過光L5に変換される。
また、配列軸D方向に沿って回転する、液晶化合物40の光学軸40Aの回転方向を逆方向にすることにより、透過光の屈折の方向を、逆方向にできる。すなわち、図12~図13に示す例では、配列軸D方向に向かう光学軸40Aの回転方向は時計回りであるが、この回転方向を反時計回りにすることで、透過光の屈折の方向を、逆方向にできる。
例えば、図16に示す液晶層36bのように、前述の液晶層36において、液晶化合物の光学軸が液晶層の主面に傾斜していてもよい。なお、液晶層36bは、液晶化合物に由来する光学軸の向きが、面内の一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する点は前述の液晶層36と同様である。すなわち、液晶層36bの平面図は、図13と同様である。
(光配向膜の形成)
支持体(第1支持体)としてガラス基板を用意した。支持体上に、下記の光配向膜形成用塗布液をスピンコータを用いて、2500rpmにて30秒間塗布した。この光配向膜形成用塗布液の塗膜が形成された支持体を60℃のホットプレート上で60秒間乾燥し、光配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記光配向用素材 1.00質量部
水 16.00質量部
ブトキシエタノール 42.00質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 42.00質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
温度25℃、相対湿度10%の環境下で、図2に示す露光装置を用いて光配向膜を露光して、配向パターンを有する光配向膜P-1を形成した。
露光装置において、レーザとして波長(325nm)のレーザ光を出射するものを用いた。干渉光による露光量を3000mJ/cm2とした。なお、2つのレーザ光の交差角(交差角α)は、9.3°とした。
液晶配向層を形成する液晶組成物として、下記の液晶組成物LCMA-1を調製した。この液晶組成物LCMA-1の固形分濃度は10wt%である。
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶化合物L-1 100.00質量部
下記重合開始剤I-1 3.00質量部
サイクロマーM100(株式会社ダイセル製) 10.00質量部
メチルエチルケトン 1000.00質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
以下のようにして液晶配向層を形成した。
コレステリック液晶層を形成する液晶組成物として、下記の液晶組成物LC-1を調製した。この液晶組成物LC-1の固形分濃度は35wt%である。
―――――――――――――――――――――――――――――――
上記液晶化合物L-1 100.00質量部
上記重合開始剤I-1 3.00質量部
下記キラル剤Ch-1 6.20質量部
メチルエチルケトン 202.99質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――
実施例1と同様に、光配向膜P-1をレーザー光の交差角(交差角α)9.3°で干渉露光した。この露光後の光配向膜P-1上に、実施例1と同様に液晶組成物LCMA-1を塗布し、実施例1と同様の方法で、加熱、紫外線照射し、液晶組成物LCMA-1を硬化した。
その後、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長365nmの紫外線を500mJ/cm2の照射量で塗膜に照射することにより、剥離層を固定化した。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
32 配向膜
33 液晶配向層
34、36、36b 液晶層
40 液晶化合物
40A 光学軸
42 明部
44 暗部
60 露光装置
62 レーザ
64 光源
65 λ/2板
68 偏光ビームスプリッター
70A,70B ミラー
72A,72B λ/4板
RR 赤色の右円偏光
M レーザ光
MA,MB 光線
PO 直線偏光
PR 右円偏光
PL 左円偏光
L1,L4 入射光
L2,L5 透過光
D 配列軸
Λ 1周期
P ピッチ
Claims (7)
- 支持体の上に配向膜を形成する配向膜形成工程、
前記配向膜上に重合性液晶化合物を含む第1の液晶組成物を積層し、配向させる液晶配向層配向工程、
配向した前記第1の液晶組成物を重合させ、液晶配向層を形成する液晶配向層形成工程、
前記液晶配向層の、前記配向膜とは反対側の面に、重合性液晶化合物を含む第2の液晶組成物を積層し、配向させる液晶層配向工程、
配向した前記第2の液晶組成物を重合させ、液晶層を形成する液晶層形成工程、および、
形成した前記液晶層を、前記液晶配向層から分離する液晶層分離工程、
を有し、前記液晶層配向工程から前記液晶層分離工程を繰り返して、前記液晶層を繰り返し作製し、
前記液晶層形成工程で形成される前記液晶層と、前記液晶配向層との間に剥離層を有さず、
前記液晶層配向工程において、前記液晶配向層によって、前記液晶層中の液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している配向状態とし、
前記液晶配向層及び前記液晶層の一方の材料がアクリレート系の材料であり、且つ前記液晶配向層及び前記液晶層の他方の材料がエポキシ系の材料である液晶層の製造方法。 - 前記配向膜形成工程で形成する配向膜は、アゾベンゼン系化合物を含む光配向性組成物から形成されている請求項1に記載の液晶層の製造方法。
- 前記配向膜形成工程において、前記配向膜はレーザー干渉露光される請求項1または2に記載の液晶層の製造方法。
- 前記第1の液晶組成物が多官能重合性化合物を含む請求項1~3のいずれか一項に記載の液晶層の製造方法。
- 前記第1の液晶組成物に含まれる前記重合性液晶化合物が多官能重合性液晶化合物である請求項4に記載の液晶層の製造方法。
- 前記液晶配向層と前記液晶層とにおける重合システムは互いに異なる請求項1~5のいずれか一項に記載の液晶層の製造方法。
- 前記液晶配向層形成工程と前記液晶層配向工程との間に、前記液晶配向層の表面に、ハロゲン化処理を行う工程を有する請求項1~6のいずれか一項に記載の液晶層の製造方法。
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