JP7559042B2 - 投射型表示装置 - Google Patents

Description

本開示は、投射型表示装置に関する。

近年、スクリーン等に画像を投影する投射型表示装置（いわゆる、液晶プロジェクタ）が広く利用されている。投射型表示装置は、液晶パネルで変調した画像光をスクリーンに投影することで、画像の表示を行うことができる。

このような投射型表示装置では、画像光のさらなる高輝度化のために、液晶パネルの画素の開口率を向上させることが提案されている（例えば、特許文献１）。

国際公開第２０１８／１４２８２２号

一方で、投射型表示装置では、画素での光漏れを抑制し、コントラストをより高めることで、表示する画像の画質を向上させることが望まれている。したがって、高輝度化、及び画質の向上を両立させた投射型表示装置が望まれている。

よって、画素の開口率を高めつつ、画像のコントラストを向上させることが可能な投射型表示装置を提供することが望ましい。

本開示の一実施形態に係る投射型表示装置は、液晶層を挟んで対向配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の面内方向に二次元配列された複数の画素ごとに設けられ、前記第１基板及び前記第２基板に挟持されたスペーサと、前記スペーサに対応して前記画素の開口部に設けられた遮光パターンとを含む液晶パネルを備える。

本開示の一実施形態に係る投射型表示装置によれば、液晶層を挟んで対向配置された第１基板及び第２基板、第１基板及び第２基板に挟持され、複数の画素ごとに設けられたスペーサ、並びにスペーサに対応して画素の開口部に設けられた遮光パターンを含む液晶パネルが設けられる。これによれば、投射型表示装置では、例えば、液晶パネルにおけるスペーサの数が低減されると共に、スペーサに対応した画素に遮光パターンが設けられる。

本開示の一実施形態に係る投射型表示装置の構成の一例を示す模式図である。 本開示の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明する模式的な縦断面図である。 同実施形態に係る液晶パネルの面内方向におけるスペーサ及び遮光パターンの配置の一例を模式的に示す平面図である。 複数の画素に対してスペーサが設けられる頻度のバリエーションの例を示す平面図である。 複数の画素に対してスペーサが設けられる頻度のバリエーションの例を示す平面図である。 スペーサに対して設けられる遮光パターンの配置の他の例を模式的に示す平面図である。 遮光パターンの面積割合に対する主観評価の評価ランクの変化を示すグラフ図である。 比較例に係る液晶パネルの面内方向におけるスペーサ及び遮光パターンの配置の一例を模式的に示す平面図である。 比較例に係る液晶パネルの面内方向におけるスペーサ及び遮光パターンの配置の一例を模式的に示す平面図である。 画素の開口部に対するスペーサの構成のバリエーションを示す平面図である。 画素の開口部に対するスペーサの構成のバリエーションを示す平面図である。 画素の開口部に対するスペーサの構成のバリエーションを示す平面図である。 画素の開口部に対するスペーサの構成のバリエーションを示す平面図である。 画素の開口部に対するスペーサの構成のバリエーションを示す平面図である。 スペーサ及び遮光パターンと、ダミー遮光パターンとの位置関係のバリエーションの例を示す平面図である。 スペーサ及び遮光パターンと、ダミー遮光パターンとの位置関係のバリエーションの例を示す平面図である。 スペーサ及び遮光パターンと、ダミー遮光パターンとの位置関係のバリエーションの例を示す平面図である。 スペーサ及び遮光パターンと、ダミー遮光パターンとの位置関係のバリエーションの例を示す平面図である。 液晶パネルを含む光変調部の制御に関する機能を示すブロック図である。 スペーサに隣接する画素と、それ以外の画素とのＶ－Ｔカーブの差の一例を示すグラフ図である。

以下、本開示における実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下で説明する実施形態は本開示の一具体例であって、本開示にかかる技術が以下の態様に限定されるわけではない。また、本開示の各構成要素の配置、寸法、及び寸法比等についても、各図に示す様態に限定されるわけではない。

なお、説明は以下の順序で行う。
１．投射型表示装置の構成
２．液晶パネルの構成
３．スペーサの構成
４．作用効果
５．変形例
６．付記

＜１．投射型表示装置の構成＞
まず、図１を参照して、本開示の一実施形態に係る投射型表示装置について説明する。図１は、本実施形態に係る投射型表示装置１００の構成の一例を示す模式図である。

図１に示すように、投射型表示装置１００は、例えば、発光部１１０と、光路分岐部１２０と、光変調部１３０と、合成部１４０と、投射部１５０とを備える。投射型表示装置１００は、いわゆる３板式の透過型プロジェクタであってもよい。

発光部１１０は、光変調部１３０に照射される光束を供給する。発光部１１０は、例えば、ランプなどの白色光源と、該白色光源からの光を反射する反射鏡とを含んで構成されてもよい。

発光部１１０から発せられる光１１１の光路上（すなわち、白色光源の光軸ＡＸ上）には、光学素子がさらに設けられてもよい。例えば、白色光源の光軸ＡＸ上には、白色光源側から、白色光源からの光１１１のうち可視光帯域以外の帯域の光を減光するフィルタ、及び光変調部１３０の被照射面上の照度分布を均一にするオプティカルインテグレータが順に設けられてもよい。

光路分岐部１２０は、発光部１１０から発せられた光１１１を波長帯域が互いに異なる複数の光に色分離し、色分離された光の各々を光変調部１３０の被照射面に導く。光路分岐部１２０は、例えば、１個のクロスミラー１２１と、２個のミラー１２２と、２個のミラー１２３とを含んで構成されてもよい。

具体的には、クロスミラー１２１は、互いに異なる波長選択性を持つ２個のミラーを互いに交差するように連結させることで構成される。クロスミラー１２１は、例えば、緑色光１１１Ｇを透過させ、赤色光１１１Ｒをミラー１２２側に反射し、青色光１１１Ｂをミラー１２３側に反射するように構成される。

クロスミラー１２１によって光軸ＡＸと交差する一方向に光路分岐された赤色光１１１Ｒは、２個のミラー１２２にて２回反射されることで、光変調部１３０Ｒの被照射面に導かれる。また、クロスミラー１２１によって光軸ＡＸと交差する他方向に光路分岐された青色光１１１Ｂは、２個のミラー１２３にて２回反射されることで、光変調部１３０Ｂの被照射面に導かれる。さらに、クロスミラー１２１を透過して光軸ＡＸ上を通過する緑色光１１１Ｇは、光軸ＡＸ上に配置された光変調部１３０Ｇの被照射面に入射する。

光変調部１３０は、赤色光１１１Ｒを変調する光変調部１３０Ｒと、緑色光１１１Ｇを変調する光変調部１３０Ｇと、青色光１１１Ｂを変調する光変調部１３０Ｂとを含む。光変調部１３０Ｒ、光変調部１３０Ｇ、及び光変調部１３０Ｂは、入力された画像信号に応じて各色光をそれぞれ変調し、各色光の変調光を生成する。ここで、光変調部１３０Ｒ、光変調部１３０Ｇ、及び光変調部１３０Ｂの各々は、後述する本実施形態に係る液晶パネルを用いて構成される。本実施形態に係る液晶パネルを用いることにより、投射型表示装置１００は、投影する画像の輝度を高めることができると共に、画像のコントラストを向上させることができる。

光変調部１３０Ｒは、合成部１４０の第１面と対向するように設けられる。光変調部１３０Ｒは、被照射面に入射した赤色光１１１Ｒを画像信号に基づいて変調することで、赤変調光１１２Ｒを生成することができる。生成された赤変調光１１２Ｒは、光変調部１３０Ｒを透過して合成部１４０の第１面に入射する。

光変調部１３０Ｂは、合成部１４０の第１面と反対側の第２面と対向するように設けられる。光変調部１３０Ｂは、被照射面に入射した青色光１１１Ｂを画像信号に基づいて変調することで、青変調光１１２Ｂを生成することができる。生成された青変調光１１２Ｂは、光変調部１３０Ｂを透過して合成部１４０の第２面に入射する。

光変調部１３０Ｇは、合成部１４０の第１面に垂直な第３面と対向するように設けられる。光変調部１３０Ｇは、被照射面に入射した緑色光１１１Ｇを画像信号に基づいて変調することで、緑変調光１１２Ｇを生成することができる。生成された緑変調光１１２Ｇは、光変調部１３０Ｇを透過して合成部１４０の第３面に入射する。

合成部１４０は、複数の変調光（すなわち、赤変調光１１２Ｒ、緑変調光１１２Ｇ、及び青変調光１１２Ｂ）を合成することで、スクリーン２００に投影される画像光１１３を生成する。具体的には、合成部１４０は、４つのプリズムを接合することで構成されたクロスプリズムであり、光軸ＡＸ上に設けられる。

合成部１４０のプリズムの接合面には、多層干渉膜等が設けられることで、互いに異なる波長選択性を有する２個の選択反射面が形成される。これにより、光変調部１３０Ｒから出射された赤変調光１１２Ｒは、第１の選択反射面にて光軸ＡＸと平行な方向に反射され、投射部１５０に導かれる。光変調部１３０Ｂから出射された青変調光１１２Ｂは、第２の選択反射面にて光軸ＡＸと平行な方向に反射され、投射部１５０に導かれる。光変調部１３０Ｇから出射された緑変調光１１２Ｇは、第１の選択反射面及び第２の選択反射面を光軸ＡＸに沿って透過し、投射部１５０に導かれる。

すなわち、合成部１４０は、入射した赤変調光１１２Ｒ、緑変調光１１２Ｇ、及び青変調光１１２Ｂを合波することで画像光１１３を生成することができる。合成部１４０にて合波された画像光１１３は、投射部１５０に出射される。

投射部１５０は、合成部１４０から出射された画像光１１３をスクリーン２００の上に投影することで、画像信号に対応する画像を表示させる。投射部１５０は、例えば、投影レンズなどにて構成され、光軸ＡＸ上に設けられる。

本開示に係る技術は、光変調部１３０Ｒ、光変調部１３０Ｇ、及び光変調部１３０Ｂの各々に用いられる液晶パネルにおいて、光漏れを抑制しつつ、液晶パネルの画素の開口率を向上させる技術である。これにより、本実施形態に係る投射型表示装置１００は、投影する画像の輝度を高めることができると共に、画像のコントラストを向上させることができる。以下では、本開示に係る技術が適用される液晶パネルの構成について具体的に説明する。

＜２．液晶パネルの構成＞
次に、図２を参照して、本実施形態に係る液晶パネルの構成について説明する。図２は、本実施形態に係る液晶パネル１の構成を説明する模式的な縦断面図である。

図２に示すように、液晶パネル１は、駆動基板１１及び第１電極１２を含む第１基板１０と、対向基板２１及び第２電極２２を含む第２基板２０と、液晶分子３１を含む液晶層３０と、配向膜３２と、スペーサ３５と、遮光パターン４５とを備える。なお、第１基板１０及び第２基板２０の液晶層３０と対向する面とは反対側の面には、それぞれ図示しない偏光板がクロスニコル配置にて設けられる。

第１基板１０は、液晶層３０を間に挟んで第２基板２０と対向するように設けられる。第１基板１０は、駆動基板１１と、第１電極１２との積層構造にて構成される。

駆動基板１１は、液晶パネル１の各画素の駆動を制御する駆動回路が設けられる基板である。具体的には、駆動基板１１には、互いに直交する第１方向及び第２方向にそれぞれ延在し、互いに交差する複数の走査線及び複数の信号線と、各画素の駆動を制御する複数の画素トランジスタとが設けられる。例えば、駆動基板１１は、石英基板の上に、トランジスタが設けられたＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層と、各種配線が設けられた多層配線層とを積層することで構成されてもよい。

第１電極１２は、透明導電材料にて構成され、駆動基板１１の液晶層３０と対向する面側に画素ごとに互いに離隔して設けられる。透明導電材料は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、又はＩＧＺＯ（インジウム、ガリウム、及び亜鉛含有酸化物）などであってもよい。

第２基板２０は、液晶層３０を挟んで第１基板１０と対向するように設けられる。第２基板２０は、対向基板２１と、第２電極２２との積層構造にて構成される。

対向基板２１は、例えば、石英基板であってもよい。また、対向基板２１には、図示しないカラーフィルタ及びブラックマトリクス層がさらに設けられてもよい。

第２電極２２は、第１電極１２と同様に透明導電材料にて構成され、各画素に共通の電極として対向基板２１の液晶層３０と対向する面側に設けられる。透明導電材料は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、又はＩＧＺＯ（インジウム、ガリウム、及び亜鉛含有酸化物）などであってもよい。

液晶層３０は、液晶分子３１を含み、第１電極１２及び第２電極２２を介して供給される電圧に応じて、液晶層３０を透過する光の偏光を制御する。具体的には、液晶層３０は、液晶分子３１の配向をＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等にて制御することで、液晶層３０を透過する光の偏光を制御してもよい。液晶分子３１は、公知の液晶材料であればいずれを使用することも可能である。

配向膜３２は、液晶層３０に含まれる液晶分子３１を所望の方向に配向させるために、第１電極１２、第２電極２２、及び後述するスペーサ３５を覆うように設けられる。

例えば、配向膜３２は、所望の方向に異方性を有する酸化シリコンなどで形成された無機配向膜であってもよい。このような無機配向膜は、例えば、酸化シリコンなどを斜方蒸着にて成膜することで形成することができる。これによれば、無機配向膜は、斜方成長した柱状構造を有することになるため、柱状構造の成長方向に異方性を有することができる。

または、配向膜３２は、所望の方向に異方性を有するポリイミドなどの有機配向膜であってもよい。このような有機配向膜は、例えば、ナイロンなどの布を巻いたローラを用いて、成膜されたポリイミドの表面を一方向に擦る（ラビングする）ことで形成することができる。これによれば、有機配向膜は、ローラにて擦った（ラビングした）方向に異方性を有することができる。

スペーサ３５は、第１基板１０及び第２基板２０に挟持された柱状又は球状の構造体であり、複数の画素ごとに設けられる。例えば、スペーサ３５は、複数の画素ごとに、第１電極１２の間（すなわち、画素間）に設けられてもよい。

スペーサ３５は、第１基板１０及び第２基板２０の間の距離を面内方向にて高精度で規定するために設けられる。スペーサ３５を設けることによって、液晶パネル１は、第１基板１０及び第２基板２０の間に注入される液晶層３０の厚みを面内方向で均一化することができる。これによれば、液晶パネル１は、液晶層３０の光透過率、及び印加電圧に対する偏光制御感度の制御因子の１つである液晶層３０の厚みを面内方向で均一化することができるため、画質にむらが発生することを抑制することができる。スペーサ３５は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ_x）、窒化シリコン（ＳｉＮ）、若しくは酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの無機絶縁材料、又はレジストなどの有機絶縁材料にて構成されてもよい。

なお、スペーサ３５は、第１基板１０及び第２基板２０の間の距離を規定することができれば、いかなる太さで設けられてもよい。ただし、スペーサ３５は、後述するように光漏れの要因となり得るため、製造プロセスの観点で可能な限り、より細く設けられることが好ましい。

遮光パターン４５は、スペーサ３５に起因する光漏れを抑制するために、遮光性を有する材料にてスペーサ３５の周辺に設けられる。具体的には、スペーサ３５の周辺では、スペーサ３５の存在によって配向膜３２の異方性が乱れ、液晶層３０の液晶分子３１の配向が乱れることがあり得る。これにより、スペーサ３５の周辺では、液晶層３０による偏光の制御が十分に働かず光漏れが発生する可能性が高い。遮光パターン４５は、このようなスペーサ３５に起因する光漏れを抑制するために設けられる。

例えば、配向膜３２が無機配向膜である場合、第１基板１０から突出するスペーサ３５によって、配向膜３２を形成する際の斜方蒸着が遮られてしまう。そのため、スペーサ３５に対して蒸着源側（すなわち、蒸着材料の原子が入射する側）では、配向膜３２がより密に形成されることで、所望のプレチルト角からずれた角度で液晶分子３１が配向してしまうことがあり得る。このような場合、スペーサ３５に対して蒸着源側の液晶分子３１は、他の液晶分子３１と異なる挙動を示すようになるため、全黒表示時（すなわち、液晶パネル１の光の透過率を０％に制御した際）に、光の透過を十分に抑制できず、光漏れを生じさせてしまうことがあり得る。また、スペーサ３５に対して蒸着源側と反対側では、配向膜３２がより疎に形成されることで、配向膜３２の液晶分子３１を配向させる力が弱くなってしまう。このような場合、スペーサ３５に対して蒸着源側と反対側の液晶分子３１は、ランダムな配向となるため、全黒表示時に、光の透過を十分に抑制できず、光漏れを生じさせてしまうことがあり得る。

一方、例えば、配向膜３２が有機配向膜である場合、第１基板１０から突出するスペーサ３５によって、ローラに巻かれたナイロンなどの布が押し込まれるため、押し込まれた布が元の状態に戻るまでの間、配向膜３２へのラビングが正常に行われない領域が生じてしまう。そのため、スペーサ３５に対してラビングが行われた方向側（すなわち、ローラに巻かれた布がスペーサ３５に当たった後に通過する側）では、配向膜３２の異方性が低くなり、配向膜３２の液晶分子３１を配向させる力が弱くなってしまうことがあり得る。このような場合、スペーサ３５に対してラビングを行った方向側の液晶分子３１は、ランダムな配向となるため、全黒表示時に光の透過を十分に抑制できず、光漏れを生じさせてしまうことがあり得る。

遮光パターン４５は、スペーサ３５に起因する上記の光漏れを遮光し、液晶パネル１の画像のコントラストを向上させるために、スペーサ３５ごとにスペーサ３５に対応した配置にて設けられる。遮光パターン４５は、例えば、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、又は銅（Ｃｕ）等にて、液晶パネル１の任意の層に設けられる。例えば、遮光パターン４５は、駆動基板１１のＴＦＴ層又は多層配線層のいずれかの層に設けられてもよく、第２基板２０の対向基板２１に設けられてもよい。遮光パターン４５と、スペーサ３５との平面的な位置関係については、以下で具体的に説明する。

＜３．スペーサの構成＞
続いて、図３～図５を参照して、本実施形態に係る液晶パネル１におけるスペーサ３５及び遮光パターン４５についてより具体的に説明する。図３は、本実施形態に係る液晶パネル１の面内方向におけるスペーサ３５及び遮光パターン４５の配置の一例を模式的に示す平面図である。図４Ａ及び図４Ｂは、複数の画素に対してスペーサ３５が設けられる頻度のバリエーションの例を示す平面図である。図５は、スペーサ３５に対して設けられる遮光パターン４５の配置の他の例を模式的に示す平面図である。

図３に示すように、駆動基板１１のＴＦＴ層又は多層配線層に設けられる液晶パネル１の駆動回路の配線は、第１方向に平行に延在する複数の第１画素配線４１と、第１方向と直交する第２方向に平行に延在する複数の第２画素配線４２とを含む。第１画素配線４１及び第２画素配線４２は、例えば、データ信号線及びアドレス信号線などであり、液晶パネル１の画素間にそれぞれ設けられる。すなわち、第１画素配線４１及び第２画素配線４２にて四角形状に囲まれた領域が１個の画素の開口部５０に対応する。画素の開口部５０には、図２にて示したように第１電極１２が形成される。

ここで、スペーサ３５は、第１画素配線４１又は第２画素配線４２に重畳して設けられる。例えば、スペーサ３５は、第１画素配線４１及び第２画素配線４２の交点に重畳して設けられてもよい。スペーサ３５が第１画素配線４１及び第２画素配線４２の交点に設けられる場合、液晶パネル１は、画素の開口率をより向上させることができる。

また、スペーサ３５は、複数の画素ごとに周期的に設けられる。これによれば、スペーサ３５は、画素ごとに設けられた場合と比較して、液晶パネル１におけるスペーサ３５の総数を減少させることができる。したがって、液晶パネル１は、スペーサ３５による光漏れの総量を低減し、画像のコントラストを向上させることができる。

具体的には、スペーサ３５は、図３に示すように、４個の画素ごとに周期的に設けられてもよい。または、スペーサ３５は、図４Ａに示すように２個の画素ごとに周期的に設けられてもよく、図４Ｂに示すように２５個の画素ごとに周期的に設けられてもよい。なお、スペーサ３５は、粗密が生じないように周期的に設けられてもよい。このような場合、スペーサ３５は、液晶パネル１の面内方向の均一性をより高めることができるため、画質に面内方向でむらが生じることを抑制することができる。

一方、遮光パターン４５は、スペーサ３５に起因する光漏れを遮光するために、スペーサ３５に対応してスペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素の開口部５０に設けられる。具体的には、遮光パターン４５は、すべての画素の開口部５０に均一に設けられるのではなく、スペーサ３５の存在によって配向膜３２の異方性が失われる、又は乱される画素の開口部５０に設けられる。これによれば、液晶パネル１は、光漏れが生じ得る画素の開口部５０に遮光パターン４５を設けることによって、遮光パターン４５による開口率の低下をより抑制することができる。

すなわち、本実施形態に係る液晶パネル１では、画素数に対してスペーサ３５の数が減少すると共に、スペーサ３５に起因して光漏れが生じ得る画素にのみ遮光パターン４５が設けられる。これによれば、本実施形態に係る液晶パネル１は、開口率を高めつつ、画像のコントラストを向上させることが可能となる。

例えば、配向膜３２が無機配向膜である場合、遮光パターン４５は、スペーサ３５に対して無機配向膜の異方性方向側に存在する画素の開口部５０に設けられてもよい。

具体的には、図３では、図に正対して右上から左下に向かう方向の斜方蒸着によって無機配向膜である配向膜３２が形成されているとする。したがって、配向膜３２は、左下から右上に向かって斜方成長した柱状構造を有する無機配向膜となり、左下から右上に向かう異方性を有することとなる。このような場合、スペーサ３５は、斜方蒸着時に蒸着源が存在する右上側の配向膜３２をより密に形成させてしまうため、右上側の画素の開口部５０にて光漏れを発生させやすい。したがって、遮光パターン４５は、スペーサ３５に対して右上側の画素の開口部５０に設けられてもよい。

また、スペーサ３５は、斜方蒸着時に蒸着源が存在する右上側と反対側の左下側の配向膜３２をより疎に形成させてしまうため、左下側の画素の開口部５０にて光漏れを発生させやすい。したがって、図５に示すように、遮光パターン４５は、スペーサ３５に対して右上側の画素の開口部５０に加えて、スペーサ３５に対して左下側の画素の開口部５０にもさらに設けられてもよい。すなわち、遮光パターン４５は、無機配向膜である配向膜３２の異方性方向において、スペーサ３５を挟んで対向する画素の開口部５０にそれぞれ設けられてもよい。

このとき、スペーサ３５の右上側の画素のほうが左下側の画素よりも光漏れが生じる可能性が高い。したがって、図５に示すように、スペーサ３５の右上側の画素の開口部５０に設けられた遮光パターン４５Ａは、スペーサ３５の左下側の画素の開口部５０に設けられた遮光パターン４５Ｂよりも面積が大きくなるように設けられてもよい。

一方、例えば、配向膜３２が有機配向膜である場合、遮光パターン４５は、スペーサ３５に対して有機配向膜の異方性方向側に存在する画素の開口部５０に設けられてもよい。

具体的には、図３では、図に正対して左下から右上に向かう方向のラビングによって有機配向膜である配向膜３２が形成されており、配向膜３２は、左下から右上に向かう異方性を有しているとする。このような場合、スペーサ３５は、ラビング時にスペーサ３５よりも後にラビングが行われる右上側の画素にてラビング不良を生じさせるため、右上側の画素の開口部５０にて光漏れを発生させやすい。したがって、遮光パターン４５は、スペーサ３５に対して右上側の画素の開口部５０に設けられてもよい。

遮光パターン４５は、画素の開口部５０に対して任意の大きさで設けられてもよいが、画素の開口部５０の全体面積に対して８％未満の面積で設けられることが好ましい。このような場合、遮光パターン４５は、遮光パターン４５が設けられた画素と、遮光パターン４５が設けられない画素との輝度差をより小さくすることができる。なお、１個のスペーサ３５に対応して複数の遮光パターン４５Ａ、４５Ｂが設けられる場合、遮光パターン４５の面積とは、複数の遮光パターン４５Ａ、４５Ｂの面積の合計を表す。

ここで、図６を参照して、画素の開口部５０に対する遮光パターン４５の面積割合の好適な範囲について説明する。図６は、遮光パターン４５の面積割合に対する主観評価の評価ランクの変化を示すグラフ図である。

図６では、ＩＴＵ－Ｒ（国際電気通信連合 無線通信部門）の勧告ＢＴ．５００に規定される５段階評価ランクを用いて、全白表示時に遮光パターン４５が設けられた画素が滅点として認識されるか否かを主観評価した。具体的には、以下の主観評価にて評価ランクを判断した。なお、下記の評価ランクにおいて、４．５が検知限界に対応し、３．５が許容限界に対応し、２．５が我慢限界に対応し、１．５が受信限界に対応する。
５．０： 妨害（滅点）がわからない。
４．０： 妨害（滅点）がわかるが気にならない。
３．０： 妨害（滅点）が気になるが邪魔にならない。
２．０： 妨害（滅点）がひどくて邪魔になる。
１．０： 妨害（滅点）のため情報が伝わらない。

また、図６において、「１／２」は、図４Ａで示したようにスペーサ３５を２個の画素ごとに設けた液晶パネル１の評価ランクの結果であり、「１／４」は、図３で示したようにスペーサ３５を４個の画素ごとに設けた液晶パネル１の評価ランクの結果であり、「１／２５」のプロットは、図４Ｂで示したようにスペーサ３５を２５個の画素ごとに設けた液晶パネル１の評価ランクの結果である。

図６に示す結果から、遮光パターン４５の面積割合が画素の開口部５０の全体面積に対して８％以上となる場合、遮光パターン４５が設けられた画素が全白表示時に滅点として認識されやすくなり、評価ランクが低下することがわかる。したがって、遮光パターン４５は、画素の開口部５０の全体面積に対して８％未満の面積にて設けられることが好ましいことがわかる。

また、図６に示す結果では、スペーサ３５を２５個の画素ごとに設けた「１／２５」のほうが、スペーサ３５を２個又は４個の画素ごとに設けた「１／２」又は「１／４」よりも評価ランクの低下が大きくなっている。これは、空間周波数が変化する（欠陥同士の距離が変化する）ことで、人間の視覚における欠陥に対する感度が高くなり、欠陥が人間の目により認識されやすくなったためである。

ここで、スペーサ３５の密度を「１／２５」からさらに低下させた場合、人間の視覚における欠陥に対する感度が低下するため、評価ランクの低下を抑制することができる。しかしながら、このような場合、第１基板１０及び第２基板２０の間の距離の制御が困難になってしまう可能性がある。スペーサ３５は、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた数がより少なければ少ないほど光漏れの総量を減少させることができるものの、一概に少なければよいというわけでもなく、上記の問題も鑑みて適切な数又は密度で設けられることが好ましい。

＜４．作用効果＞
次に、図７Ａ及び図７Ｂを参照して、比較例に係る液晶パネル１の構成を例示しながら、本実施形態に係る液晶パネル１の作用効果について説明する。図７Ａ及び図７Ｂは、比較例に係る液晶パネル１の面内方向におけるスペーサ３５及び遮光パターン４５の配置の一例を模式的に示す平面図である。

図７Ａに示すように、第１の比較例に係る液晶パネル１では、画素ごとにスペーサ３５が設けられ、すべての画素の開口部５０に遮光パターン４５が設けられている。また、図７Ｂに示すように、第２の比較例に係る液晶パネル１では、２個の画素ごとにスペーサ３５が設けられ、すべての画素の開口部５０に遮光パターン４５が設けられている。

第１及び第２の比較例に係る液晶パネル１では、すべての画素で開口率が均一になるように遮光パターン４５が設けられている。これは、画素の開口率は、液晶パネル１の画質への影響が大きく、画素ごとに変化させることは、画質の均一性の観点からリスクが高いためである。また、投射型表示装置１００に用いられる液晶パネル１は、単色パネルであるため、すべての画素で同一の構成となることが一般的であるためである。

第１及び第２の比較例に係る液晶パネル１では、すべての画素で開口率が同一となるため、全白表示時の滅点、又は全黒表示時の輝点が発生しにくく、液晶パネル１の面内方向での画質のむらは発生しにくい。しかしながら、すべての画素の開口部５０に遮光パターン４５が設けられるため、液晶パネル１の全体での輝度の低下が大きくなってしまう。

近年、投射型表示装置１００では、画質の向上のためにさらなる高輝度化を進めることが望まれている。投射型表示装置１００の輝度は、発光部１１０の出力を上昇させることでも可能であるが、このような場合、液晶パネル１の開口率が低くなるほど、照射される光から液晶パネル１が受ける熱量が増加してしまう。したがって、液晶パネル１の温度がより高くなってしまうため、液晶パネル１の寿命低下、及び温度分布による画質むらが生じてしまう。

したがって、投射型表示装置１００を高輝度化させるために、液晶パネル１の画素の開口率を高めることが望まれている。

本実施形態に係る液晶パネル１では、光漏れの要因となるスペーサ３５の数を減らすと共に、スペーサ３５の周囲の光漏れが発生しやすい画素にのみ遮光パターン４５が設けられる。これにより、本実施形態に係る液晶パネル１は、スペーサ３５による光漏れを抑制し、画像のコントラストを向上させつつ、遮光パターン４５による輝度低下を抑制することができる。

また、本実施形態に係る液晶パネル１は、遮光パターン４５の面積割合を画素の開口部５０の面積の８％未満にすることで、遮光パターン４５が設けられた画素が滅点として認識される可能性を低減することができる。これによれば、本実施形態に係る液晶パネル１は、複数の画素ごとに設けられたスペーサ３５に対応して、特定の画素に遮光パターン４５を設けた場合でも画像の面内均一性を維持することができる。

＜５．変形例＞
（第１の変形例）
続いて、図８Ａ～図８Ｅを参照して、本実施形態に係る液晶パネル１の第１の変形例について説明する。第１の変形例は、スペーサ３５の構成のバリエーションを示す変形例である。図８Ａ～図８Ｅは、画素の開口部５０に対するスペーサ３５の構成のバリエーションを示す平面図である。

例えば、図８Ａ～図８Ｃに示すように、スペーサ３５は、第１方向に平行に延在する複数の第１画素配線４１と、第１方向と直交する第２方向に平行に延在する複数の第２画素配線４２との交点に設けられた配線交差部４３に重畳して設けられてもよい。配線交差部４３は、第１画素配線４１及び第２画素配線４２と同様の導電性材料にて、第１画素配線４１と、第２画素配線４２との交点に矩形形状で設けられる。

例えば、図８Ａに示すように、スペーサ３５は、配線交差部４３の略中央に設けられてもよい。または、図８Ｂ及び図８Ｃに示すように、スペーサ３５は、配線交差部４３の一方の端部に寄せられて設けられてもよい。

具体的には、スペーサ３５は、無機配向膜である配向膜３２を斜方蒸着する際に蒸着源が存在する側と反対側の端部に寄せられて設けられてもよい。このような場合、配線交差部４３は、スペーサ３５に対して蒸着源側で生じる液晶分子３１の配向異常に起因する光漏れを遮蔽することができるため、液晶パネル１は、スペーサ３５による蒸着源側の光漏れを低減することができる。また、スペーサ３５は、無機配向膜である配向膜３２を斜方蒸着する際に蒸着源が存在する側の端部に寄せられて設けられてもよい。このような場合、配線交差部４３は、スペーサ３５に対して蒸着源側と反対側で生じる液晶分子３１のランダム配向に起因する光漏れを遮蔽することができるため、液晶パネル１は、スペーサ３５による蒸着源側と反対側の光漏れを低減することができる。

または、図８Ｄに示すように、スペーサ３５は、第１方向に平行に延在する複数の第１画素配線４１、又は第１方向と直交する第２方向に平行に延在する複数の第２画素配線４２のいずれかと重畳して設けられてもよい。または、図８Ｅに示すように、スペーサ３５は、画素の開口部５０に重畳して設けられてもよい。

なお、液晶パネル１が第１基板１０と第２基板２０との貼り合わせによって形成される場合、スペーサ３５は、第２基板２０と貼り合わせられる前の第１基板１０に設けられてもよく、第１基板１０と貼り合わせられる前の第２基板２０に設けられてもよい。

（第２の変形例）
次に、図９～図１２を参照して、本実施形態に係る液晶パネル１の第２の変形例について説明する。第２の変形例は、遮光パターン４５が設けられた画素の周囲の画素にさらにダミー遮光パターンを設けることで、隣接する画素間における開口率の変化を抑制する変形例である。図９～図１２は、スペーサ３５及び遮光パターン４５と、ダミー遮光パターン４７との位置関係のバリエーションの例を示す平面図である。

図９～図１０に示すように、第２の変形例に係る液晶パネル１は、遮光パターン４５に加えて、ダミー遮光パターン４７が設けられてもよい。具体的には、スペーサ３５は、第１方向に平行に延在する複数の第１画素配線４１と、第１方向と直交する第２方向に平行に延在する複数の第２画素配線４２との交点に設けられ、遮光パターン４５は、スペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素の開口部５０に設けられる。また、ダミー遮光パターン４７は、遮光パターン４５が設けられた画素の周囲の画素の開口部５１にそれぞれ設けられてもよい。

例えば、図９に示すように、ダミー遮光パターン４７は、開口部５０に遮光パターン４５が設けられた画素を取り囲む８個の画素の開口部５１にそれぞれ設けられてもよい。また、図１０に示すように、ダミー遮光パターン４７は、開口部５０に遮光パターン４５が設けられた画素に隣接する４個の画素の開口部５１にそれぞれ設けられてもよい。

このとき、ダミー遮光パターン４７は、遮光パターン４５よりも面積が小さくなるように設けられてもよい。これによれば、遮光パターン４５が設けられた画素は、ダミー遮光パターン４７が設けられた画素を間に挟んで、遮光パターン４５等が設けられていない画素から段階的に開口率を低下させることができる。したがって、遮光パターン４５が設けられた画素は、隣接する画素間での開口率の急激な変化を抑制することができるため、滅点として認識される可能性をより低減することができる。よって、第２の変形例によれば、液晶パネル１は、画質の均一性を向上させることができる。

また、図１１～図１２に示すように、第２の変形例に係る液晶パネル１は、遮光パターン４５に加えて、第１ダミー遮光パターン４８及び第２ダミー遮光パターン４９が設けられてもよい。具体的には、第１ダミー遮光パターン４８は、遮光パターン４５が設けられた画素の周囲の画素の開口部５１にそれぞれ設けられ、第２ダミー遮光パターン４９は、第１ダミー遮光パターン４８が設けられた画素のさらに周囲の画素の開口部５２にそれぞれ設けられてもよい。

例えば、図１１に示すように、第１ダミー遮光パターン４８は、開口部５０に遮光パターン４５が設けられた画素を取り囲む８個の画素の開口部５１にそれぞれ設けられてもよく、第２ダミー遮光パターン４９は、第１ダミー遮光パターン４８が設けられた画素をさらに取り囲む１６個の画素の開口部５２にそれぞれ設けられてもよい。また、図１２に示すように、第１ダミー遮光パターン４８は、開口部５０に遮光パターン４５が設けられた画素に隣接する４個の画素の開口部５１にそれぞれ設けられてもよく、第２ダミー遮光パターン４９は、第１ダミー遮光パターン４８が設けられた画素に隣接する８個の画素の開口部５２にそれぞれ設けられてもよい。

このとき、第１ダミー遮光パターン４８は、遮光パターン４５よりも面積が小さくなるように設けられてもよく、第２ダミー遮光パターン４９は、第１ダミー遮光パターン４８よりも面積が小さくなるように設けられてもよい。すなわち、第１ダミー遮光パターン４８及び第２ダミー遮光パターン４９は、遮光パターン４５が設けられた画素から距離が離れるほど面積が小さくなるように設けられてもよい。これによれば、遮光パターン４５が設けられた画素は、第１ダミー遮光パターン４８及び第２ダミー遮光パターン４９が設けられた画素を間に挟んで、遮光パターン４５等が設けられていない画素から段階的に開口率を低下させることができる。したがって、遮光パターン４５が設けられた画素は、隣接する画素間での開口率の急激な変化を抑制することができるため、滅点として認識される可能性をより低減することができる。よって、第２の変形例によれば、液晶パネル１は、画質の均一性を向上させることができる。

（第３の変形例）
続いて、図１３及び図１４を参照して、本実施形態に係る液晶パネル１の第３の変形例について説明する。第３の変形例は、液晶パネル１に表示される画像の階調を制御することで、スペーサ３５に起因する光漏れが輝点として視認される可能性を低減する変形例である。図１３は、液晶パネル１を含む光変調部１３０Ｒ、１３０Ｇ、１３０Ｂの制御に関する機能を示すブロック図である。図１４は、スペーサ３５に隣接する画素、及びそれ以外の画素における階調変化の一例を示すグラフ図である。

図１３に示すように、光変調部１３０Ｒ、１３０Ｇ、１３０Ｂは、例えば、液晶パネル１と、液晶パネル１の各画素を駆動させる回路部７０とを備える。また、回路部７０は、輝度補正部７１と、画像制御部７２と、データドライバ７３と、ゲートドライバ７４とを含む。

液晶パネル１は、複数の画素Ｐがマトリクス状に配置された画素領域１Ａと、画素領域１Ａの周辺に設けられた周辺領域１Ｂとを含む。液晶パネル１は、画素Ｐの各々をデータドライバ７３及びゲートドライバ７４によってアクティブ駆動させることにより、画像信号Ｄｉｎに基づく画像を表示することができる。

輝度補正部７１は、供給される画像信号Ｄｉｎに対して、スペーサ３５又は遮光パターン４５が設けられることによって生じ得る画素Ｐの間の輝度差を補正する。輝度補正部７１による輝度差の補正については後述する。

画像制御部７２は、輝度が補正された画像信号Ｄｉｎをフレームメモリに格納し、データドライバ７３及びゲートドライバ７４を連動して制御することで、画像信号Ｄｉｎに基づく画像を画素領域１Ａに表示させる。具体的には、画像制御部７２は、走査タイミング制御信号をデータドライバ７３に供給し、フレームメモリに保持される画像信号Ｄｉｎに基づいた１水平ライン分の画像信号と、表示タイミング制御信号とをデータドライバ７３に供給する。

データドライバ７３は、ゲートドライバ７４により選択された１水平ラインの画素Ｐの各々に、画像制御部７２から供給される１水平ライン分の画像信号を信号電圧として供給する。ゲートドライバ７４は、画像制御部７２から供給される走査タイミング制御信号に基づいて、画素領域１Ａにマトリクス状に設けられた画素Ｐのうちの１行を駆動対象として選択する。選択された画素Ｐでは、データドライバ７３から供給される信号電圧に応じて、１水平ライン分の画像が表示される。ゲートドライバ７４は、時分割で１水平ラインずつ順次走査を行うことで、画素領域１Ａの全体の画像を表示することができる。

ここで、本実施形態に係る液晶パネル１では、スペーサ３５に起因する光漏れによって、スペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素の輝度が周囲の画素よりも上昇したり、遮光パターン４５が設けられた画素の輝度が周囲の画素よりも低下したりすることがあり得る。第３の変形例では、輝度補正部７１によって、これらの画素の輝度を周囲の画素の輝度に近づけることで、液晶パネル１の面内の均一性をより向上させることができる。

具体的には、輝度補正部７１は、複数の補正面（同一照度条件）におけるスペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素と、それ以外の画素との駆動電圧の差（例えば、ΔＶ₁及びΔＶ₂）を補正値として算出してもよい。輝度補正部７１は、算出した補正値にてスペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素の輝度を補正してもよい。または、輝度補正部７１は、図１４に示すような駆動電圧に対する照度の変化を測定したＶ－Ｔカーブを、スペーサ３５に隣接する画素、及びそれ以外の画素にて生成し、生成したＶ－Ｔカーブに基づいて算出された駆動電圧の差分を補正値としてもよい。輝度補正部７１は、算出した補正値にてスペーサ３５が設けられた領域に隣接する画素の輝度を補正してもよい。

例えば、遮光パターン４５による輝度の低下を補正する場合、輝度補正部７１による輝度の補正は、遮光パターン４５が設けられた画素について行われてもよい。また、スペーサ３５に起因する光漏れを補正する場合、輝度補正部７１による輝度の補正は、スペーサ３５が設けられた領域に隣接し、光漏れが生じ得る画素の各々について個別に行われてもよい。

また、輝度補正部７１は、画素領域１Ａを分割した複数の領域ごとに上記の補正値を算出し、分割した領域ごとに画素Ｐに対する輝度の補正値を変更してもよい。例えば、輝度補正部７１は、画素領域１Ａを縦３×横３の９個の領域に分割し、分割した領域ごとに画素Ｐに対する輝度の補正値を変更してもよい。このような場合、輝度の補正値が変更されることによって、分割した領域の境界が認識される可能性がある。そのため、輝度補正部７１は、分割した複数の領域の境界付近では、分割した領域間での輝度の補正値の差が小さくなるように、補正値をさらに制御してもよい。

なお、輝度補正部７１は、代表的な液晶パネル１において上記の補正値を算出し、算出した補正値を他の液晶パネル１のすべてに適用してもよく、液晶パネル１の各々にて個別に上記の補正値を算出し、算出した補正値を液晶パネル１の各々に適用してもよい。

第３の変形例によれば、液晶パネル１は、スペーサ３５又は遮光パターン４５による輝点又は滅点が視認されないように画像を補正することができるため、面内方向における画質むらの発生をさらに抑制することができる。

＜６．付記＞
以上、実施形態、及び変形例を挙げて、本開示にかかる技術を説明した。ただし、本開示にかかる技術は、上記実施の形態等に限定されるわけではなく、種々の変形が可能である。

例えば、液晶パネル１の最外周近傍は、スペーサ３５及び遮光パターン４５が設けられなくともよい。これは、液晶パネル１の最外周は、液晶パネル１のベゼル（すなわち、額縁部）との対比にて輝点又は滅点が視認されやすいためである。そのため、液晶パネル１の最外周から所定の範囲の画素では、輝点又は滅点の要因となり得るスペーサ３５及び遮光パターン４５は設けられなくともよい。

また、遮光パターン４５は、液晶パネル１の面内方向で画素の開口部５０に対する面積割合が変更されてもよい。例えば、液晶パネル１では、製造プロセス上の観点から、画素領域１Ａの中央部の画素の輝度がより高く、外周部の画素の輝度がより低くなることがあり得る。そのため、液晶パネル１は、遮光パターン４５の面積割合を中央部の画素と外周部の画素とで変更し、画素における光漏れの量を制御することで、上記の画素領域１Ａの中央部の画素の輝度と、外周部の画素の輝度との差を補正してもよい。

さらに、上記実施形態で説明した構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。たとえば、上記実施形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素は、任意の構成要素として理解されるべきである。

本明細書および添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるとして記載された様態に限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するとして記載された様態に限定されない」と解釈されるべきである。

本明細書で使用した用語には、単に説明の便宜のために用いており、構成及び動作を限定する目的で使用したわけではない用語が含まれる。たとえば、「右」、「左」、「上」、「下」などの用語は、参照している図面上での方向を示しているにすぎない。また、「内側」、「外側」という用語は、それぞれ、注目要素の中心に向かう方向、注目要素の中心から離れる方向を示しているにすぎない。これらに類似する用語や同様の趣旨の用語についても同様である。

なお、本開示にかかる技術は、以下のような構成を取ることも可能である。以下の構成を備える本開示にかかる技術によれば、投射型表示装置に含まれる液晶パネルは、液晶層を挟んで対向配置された第１基板及び第２基板、第１基板及び第２基板に挟持され、複数の画素ごとに設けられたスペーサ、並びにスペーサに対応して画素の開口部に設けられた遮光パターンを備える。これによれば、投射型表示装置では、例えば、液晶パネルにおけるスペーサの数が低減されると共に、スペーサに対応した画素に遮光パターンが設けられる。よって、投射型表示装置は、画素の開口率を高めつつ、画像のコントラストを向上させることができる。本開示にかかる技術が奏する効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されるわけではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
（１）
液晶層を挟んで対向配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の面内方向に二次元配列された複数の画素ごとに設けられ、前記第１基板及び前記第２基板に挟持されたスペーサと、
前記スペーサに対応して前記画素の開口部に設けられた遮光パターンと、
を含む液晶パネル
を備える、投射型表示装置。
（２）
前記スペーサは、前記画素の間に設けられた画素配線に重畳して設けられる、上記（１）に記載の投射型表示装置。
（３）
前記画素配線は、第１方向に延在する第１画素配線、及び前記第１方向と直交する第２方向に延在する第２画素配線を含み、
前記スペーサは、前記第１画素配線及び前記第２画素配線の交点に重畳して設けられる、上記（２）に記載の投射型表示装置。
（４）
前記遮光パターンは、前記交点に隣接する前記画素の前記開口部に設けられる、上記（３）に記載の投射型表示装置。
（５）
前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶層側の主面には異方性を有する配向膜がさらに設けられ、
前記遮光パターンは、前記スペーサに対して前記配向膜の異方性方向に存在する前記画素の前記開口部に設けられる、上記（１）～（４）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
（６）
前記遮光パターンは、前記配向膜の前記異方性方向に前記スペーサを挟んで対向する前記画素の前記開口部にそれぞれ設けられる、上記（５）に記載の投射型表示装置。
（７）
前記配向膜は、斜方に成長した柱状構造を有する無機配向膜であり、
前記遮光パターンは、前記スペーサに対して前記柱状構造の成長方向に存在する前記画素の前記開口部に設けられる、上記（５）又は（６）に記載の投射型表示装置。
（８）
前記遮光パターンの面積の割合は、前記画素の前記開口部の全体面積の８％未満である、上記（１）～（７）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
（９）
前記遮光パターンが設けられた前記画素の周囲の画素には、前記開口部にダミー遮光パターンがさらに設けられる、上記（１）～（８）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
（１０）
前記ダミー遮光パターンの面積は、前記遮光パターンの面積よりも小さい、上記（９）に記載の投射型表示装置。
（１１）
前記ダミー遮光パターンの面積は、前記遮光パターンが設けられた前記画素から離れるほど小さくなる、上記（１０）に記載の投射型表示装置。
（１２）
前記液晶パネルに表示される画像を制御する画像制御部をさらに備え、
前記画像制御部は、前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を補正する輝度補正部を含む、上記（１）～（１１）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
（１３）
前記輝度補正部は、前記液晶パネルの表示領域を複数に分割し、分割された前記表示領域ごとに前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を補正する、上記（１２）に記載の投射型表示装置。
（１４）
前記輝度補正部は、前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を低下させる補正を行う、上記（１２）又は（１３）に記載の投射型表示装置。
（１５）
前記液晶パネルは、単色パネルである、上記（１）～（１４）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
（１６）
発光部と、
前記発光部からの光を前記液晶パネルに導くことで、前記液晶パネルにて変調された画像光を生成する画像生成光学系と、
前記画像光を投射する投射光学系と
をさらに備える、上記（１）～（１５）のいずれか一項に記載の投射型表示装置。

本出願は、日本国特許庁において２０２０年２月２０日に出願された日本特許出願番号第２０２０－０２７０１９号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願のすべての内容を参照によって本出願に援用する。

当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。

Claims (13)

1. 液晶層を挟んで対向配置された第１基板及び第２基板と、
   前記第１基板及び前記第２基板の面内方向に二次元配列された複数の画素ごとに設けられ、前記第１基板及び前記第２基板に挟持されたスペーサと、
   前記スペーサに対応して前記画素の開口部に設けられた遮光パターンと
   を含む液晶パネルを備え、
   前記遮光パターンが設けられた前記画素の周囲の画素には、前記開口部にダミー遮光パターンがさらに設けられ、
   前記ダミー遮光パターンの面積は、前記遮光パターンの面積よりも小さく、
   前記ダミー遮光パターンの面積は、前記遮光パターンが設けられた前記画素から離れるほど小さくなる、
   投射型表示装置。
2. 前記スペーサは、前記画素の間に設けられた画素配線に重畳して設けられる、請求項１に記載の投射型表示装置。
3. 前記画素配線は、第１方向に延在する第１画素配線、及び前記第１方向と直交する第２方向に延在する第２画素配線を含み、
   前記スペーサは、前記第１画素配線及び前記第２画素配線の交点に重畳して設けられる、
   請求項２に記載の投射型表示装置。
4. 前記遮光パターンは、前記交点に隣接する前記画素の前記開口部に設けられる、請求項３に記載の投射型表示装置。
5. 前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶層側の主面には異方性を有する配向膜がさらに設けられ、
   前記遮光パターンは、前記スペーサに対して前記配向膜の異方性方向に存在する前記画素の前記開口部に設けられる、
   請求項１に記載の投射型表示装置。
6. 前記遮光パターンは、前記配向膜の前記異方性方向に前記スペーサを挟んで対向する前記画素の前記開口部にそれぞれ設けられる、
   請求項５に記載の投射型表示装置。
7. 前記配向膜は、斜方に成長した柱状構造を有する無機配向膜であり、
   前記遮光パターンは、前記スペーサに対して前記柱状構造の成長方向に存在する前記画素の前記開口部に設けられる、
   請求項５に記載の投射型表示装置。
8. 前記遮光パターンの面積の割合は、前記画素の前記開口部の全体面積の８％未満である、
   請求項１に記載の投射型表示装置。
9. 前記液晶パネルに表示される画像を制御する画像制御部をさらに備え、
   前記画像制御部は、前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を補正する輝度補正部を含む、
   請求項１に記載の投射型表示装置。
10. 前記輝度補正部は、前記液晶パネルの表示領域を複数に分割し、分割された前記表示領域ごとに前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を補正する、
    請求項９に記載の投射型表示装置。
11. 前記輝度補正部は、前記遮光パターンが設けられた前記画素の輝度を低下させる補正を行う、
    請求項９に記載の投射型表示装置。
12. 前記液晶パネルは、単色パネルである、請求項１に記載の投射型表示装置。
13. 発光部と、
    前記発光部からの光を前記液晶パネルに導くことで、前記液晶パネルにて変調された画像光を生成する画像生成光学系と、
    前記画像光を投射する投射光学系と
    をさらに備える、請求項１に記載の投射型表示装置。

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