JP7417425B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
そこで本発明は、不要光が被走査面に到達することを抑制することができる光走査装置を提供することを目的とする。
また、図2は、本実施形態に係る光走査装置10の一部模式的斜視図を示している。
そして、左側走査系10Lと右側走査系10Rとはそれぞれ、第1及び第2の被走査面1008及び1208と第3及び第4の被走査面1108及び1308とを対向走査している。
従って、以下に示す構成は左側走査系10L及び右側走査系10Rの双方に同様に適用することができるため、以下では説明の簡略化のために、左側走査系10Lのみについて説明を行う。
また、本実施形態に係る光走査装置10は、第1及び第2のシリンドリカルレンズ1003及び1203と、第1及び第2の開口絞り1004及び1204とを備えている。
また、本実施形態に係る光走査装置10は、偏向器11と、第1のfθレンズ1006及び1206(結像光学素子)とを備えている。
また、本実施形態に係る光走査装置10は、偏向器11等の光学素子を保持する筐体1401(保持部材)と、カバー部材1402とを備えている。
第1及び第2のコリメータレンズ1002及び1202は、第1及び第2の光源1001及び1201から出射した光束LA及びLBを平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束も含むものとする。
第1及び第2の開口絞り1004及び1204は、第1及び第2のシリンドリカルレンズ1003及び1203を通過した光束LA及びLBの光束径を制限する。
このようにして、第1及び第2の光源1001及び1201から出射した光束LA及びLBは、偏向器11の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
第1のfθレンズ1006及び第2のfθレンズ1007は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズである。そして、第1のfθレンズ1006及び第2のfθレンズ1007は、偏向器11によって偏向された光束LAを第1の被走査面1008に集光(導光)する。
このとき、偏向器11は図中A方向に回転しているため、偏向走査された光束LA及びLBはそれぞれ、第1及び第2の被走査面1008及び1208を図中B方向に走査する。
そして、第1及び第2の感光ドラム1008及び1208上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、第1及び第2の感光ドラム1008及び1208を副走査方向に回転させることによって達成している。
以下の説明では、議論を簡略化するために展開光路のみを用いて説明を行い、ミラー部材の説明は省略する。
なお、第2の入射光学系75b及び第2の走査光学系85bについてはそれぞれ、第1の入射光学系75a及び第1の走査光学系85aに対してZ座標及び仰角の符号を変えるだけでよいため、表1及び表2、且つそれらに関する以下の説明では省略する。
また、表2において、「E-x」は、「×10-x」を意味している。
上述のように、偏向器に最も近い結像レンズの入射面からの反射光を発散光にするように結像レンズを設けている従来の光走査装置では、一部の反射光は依然として不要光となり被走査面に到達する可能性がある。
そこで本実施形態に係る光走査装置10では、以下の構成を採ることによって、不要光が被走査面に到達することを抑制することができる。
また、図3(b)及び図4(b)はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置10の一部副走査断面図を示している。
同様に、図4(a)及び(b)には、第1の光源1001から出射し、軸上光束LAonが第1のfθレンズ1006の出射面1006b(光学面)によって反射される際の光路も示されている。
なお、ここで離間量D1としては、第1のfθレンズ1006の入射面1006aによって反射された軸上光束LAonのうち、第1の断面上において偏向点G0に最も近い位置P1に到達する光線で評価する。
これにより、第1のfθレンズ1006の入射面1006aによって反射された軸上光束LAonを遮光部1500によって遮光することができ、第1のfθレンズ1006の入射面1006aからの不要光の影響を低減している。
また、遮光部1500は、筐体1401に溝を形成することで設けても構わない。
なお、ここで離間量D2としては、第1のfθレンズ1006の出射面1006bによって反射された軸上光束LAonのうち、第1の断面内において偏向点G0に最も近い位置P2に到達する光線で評価する。
これにより、第1のfθレンズ1006の出射面1006bによって反射された軸上光束LAonを遮光部1500によって遮光することができ、第1のfθレンズ1006の出射面1006bからの不要光の影響を低減している。
そして、偏向器11の動作に伴う気流や組付け誤差等も考慮して、偏向器11の中心から遮光部1500までの副走査方向におけるクリアランス(偏向点G0から遮光部1500の偏向器11側端部までの副走査方向における距離)D0は、少なくとも4mm必要である。
また、遮光部1500に溜まった汚れが偏向器11に付着したり、組付け時に偏向器11と遮光部1500との干渉を引き起こす可能性がある。
また、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bによって反射された軸上光束LAonが第1の断面内において偏向点G0から副走査方向にクリアランスD0の範囲に到達しないように、第1の走査光学系85aを設計している。
これにより、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bからの不要光の遮光を達成しやすくすることができる。
D1≧4mm ・・・(4a)
換言すると、本実施形態に係る光走査装置10では、偏向器11上の偏向点G0において偏向された後、第1のfθレンズ1006の入射面1006aによって反射された軸上光束LAon(反射軸上光束)のうち、第1の断面上において偏向点G0に近い側のマージナル光線(第1のマージナル光線)は、第1の断面上において偏向点G0に対して副走査方向に4mm以上離間した位置に向かって進行する。
D0≧4mm ・・・(4b)
D2≧4mm ・・・(4c)
ここで本実施形態に係る光走査装置10では、D0=5.00mm、D1=7.04mm及びD2=15.43mmであるため、式(4a)乃至(4c)を満たしている。
D1≧D0≧4mm ・・・(5a)
D2≧D0≧4mm ・・・(5b)
これにより、遮光部1500の第1のfθレンズ1006側端部、すなわち遮光面1500aで第1のfθレンズ1006によって反射された軸上光束LAonを遮光することができる。
そのため、偏向器11に対して第1の走査光学系85aの反対側、すなわち第3及び第4の被走査面1108及び1308に光束を導光する走査光学系(第2の結像光学系)を含む右側走査系10Rにおいて不要光を発生させないようにする効果が高くなる。
すなわち、位置P1上における副走査光束幅Wd1は、入射面1006a上における副走査光束幅Wr1より小さくなっているため、遮光部1500の副走査方向におけるサイズを小さくすることができる。
すなわち、位置P2上における副走査光束幅Wd2は、出射面1006b上における副走査光束幅Wr2より大きくなっている。
このような構成は、遮光部1500のサイズを小さくするためには不利ではあるが、本実施形態に係る光走査装置10は、離間量D2が十分大きくなるように設計されているため問題とはならない。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置10では、入射面1006a上によって反射された軸上光束LAonは、第1の断面に対して第1のfθレンズ1006とは反対側で集光する。
しかしながら、これに限らず、軸上光束LAonの集光点は、第2の断面と第1の断面との間にあってもよい。
そして、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bによって反射される軸上光束LAonの主光線の遮光面1500aに対する入射角度(主走査断面に対してなす角度(鋭角))θ1及びθ2はそれぞれ、19.7°及び36.3°となっている。
これにより、遮光部1500が一体に形成される筐体1401の表面が平滑であっても反射率を低減することができ、不要光の遮光効果を高めることができる。
一方、第1のfθレンズ1206によって反射された光束LB(不図示)を遮光するための遮光部1500は、カバー部材1402に一体で形成すればよい。
しかしながらこれに限らず、光束LBを遮光するための遮光部1500は、カバー部材1402とは別体の遮光部材として設けることもできる。
また、光束LBを遮光するための遮光部1500は、カバー部材1402に溝を形成することで設けても構わない。
換言すると、本実施形態に係る光走査装置10では、第2の断面と遮光部1500の遮光面1500aを含む第3の断面との間における軸上光束LAonの光路上には光学素子が設けられていない。
本実施形態に係る光走査装置10をこのように構成することで、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bによる軸上光束LAonの反射に伴う不要光の光路を第1のfθレンズ1006の形状のみでコントロールすることができる。それにより、単純な遮光構成を達成することができる。
本実施形態に係る光走査装置10をこのように構成することで、偏向点G0と第1のfθレンズ1006との間にスペースを設けることができ、容易に組立を行うことができる。
このように構成した場合、組立の難度は上昇するが、偏向器11上のスペースを確保することができ、気流の取り回し等において有利となる。
図5は、偏向器11の偏向点G0において偏向された軸上光束LAonの各光線がレンズ面Sによって反射される様子を示している。
なお、以下で示す角度は、副走査断面内において主走査断面に対してなす角度であり、図5において正の方向は個別に定義する。
Dp=Xtanα+Xtan(α+2β)
=X{tanα+(tanα+tan2β)/(1-tanα・tan2β)}
・・・(6)
そして、レンズ面Sによって反射されたマージナル光線Lnは、第1の断面上の位置Pn2に角度(α-Δα)+2(β+Δβ)で入射する。
ここで、Δβは、レンズ面S上の位置Pp1における面法線がなす角度と位置Pn1における面法線がなす角度との差である。なおΔβは、レンズ面Sが偏向点G0側に凹面の時に正となり、凸面の時に負となる。
また、偏向点G0と位置Pn2との間の第1の断面内における離間量をDnと定義する。
そして、レンズ面Sによって反射されたマージナル光線Lfは、第1の断面上の位置Pf2に角度(α+Δα)+2(β-Δβ)で入射する。
ここで、偏向点G0と位置Pf2との間の第1の断面内における離間量をDfと定義する。
Dp≧4mm ・・・(11a)
Dn≧4mm ・・・(11b)
Df≧4mm ・・・(11c)
なお通常、式(11b)及び(11c)を満たしていれば、式(11a)は満たされることに注意されたい。
そのため、実効的にはβ及びRの設計自由度を利用して、式(11a)乃至(11c)を満たすように本実施形態に係る光走査装置10を設計することになる。
一方、βが負になるようにレンズ面Sの向きを変える、すなわち、レンズ面Sの法線方向を反時計回りに回転させると、離間量Dn及びDfは、小さくなってしまう。
また、Rが負になるようにレンズ面Sを凸にすると、離間量Dfは大きくなる一方で離間量Dnは小さくなるため、式(11b)及び(11c)を同時に満たすことが困難となる。
そのため、式(7)、(10a)及び(10b)から、Dp=6.90mm、Dn=6.89mm及びDf=6.90mmと求めることができる。
換言すると、Dn<Dfであることは、本実施形態に係る光走査装置10では、軸上光束LAonの主光線及びマージナル光線は、入射面1006a上の軸上光束LAonの主光線の反射点を含むYZ断面と偏向点G0を含むYZ断面との間では交差しないことを意味している。
従って、本実施形態に係る光走査装置10における第1のfθレンズ1006の入射面1006aによる反射では、余裕を持って式(11a)乃至(11c)を満たしていることがわかる。
そのため、式(7)、(10a)及び(10b)から、Dp=8.92mm、Dn=9.17mm及びDf=8.66mmと求めることができる。
これは、第1のfθレンズ1006の出射面1006bによって反射された光線は入射面1006aによって屈折されることが上記の導出では考慮されていないためである。
またこの際には、離間量Dnが図4(b)に示されている離間量D2に対応する。
これは、偏向点G0に対する間隔が短いレンズほど反射光線の発散が小さく、強度の大きい反射光が偏向器11に到達しやすくなるためである。
しかしながら、そのように遠距離に設けられた第2のfθレンズ1007による反射では、光線は発散される。そのため偏向器11に到達する不要光の強度が小さくなると共に、偏向器11に最も近い第1のfθレンズ1006との間で上記とは異なる方法で遮光することができる。
そのため、第2のfθレンズ1007に対しては本実施形態に係る遮光構成の要望は低くなる。
そのため、本実施形態の効果を得るために、少なくとも第1のfθレンズ1006の出射面1006bに対して本実施形態のように設計することも有効である。
換言すると、本実施形態に係る光走査装置10では、第1のfθレンズ1006はメニスカス形状を有しており、すなわち入射面1006a及び出射面1006bが互いに異符号のパワーを有していることが好ましい。
本実施形態に係る光走査装置10では、第1のfθレンズ1006をこのように設計することで、入射面1006a及び出射面1006b双方からの不要光を低減することができやすくなっている。
同様に、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bがチルトを有した状態で、曲率の方向が互いに逆である、すなわち互いに同符号のパワーを有していると、その分さらにマージナル光線の光路間の差が大きくなる。そのため、収差が悪化する可能性がある。
従って、結像性能の観点においても、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bは、互いに同方向にチルトすると共に、互いに同方向の曲率を有することが好ましい。
本実施形態に係る光走査装置10では、第1のfθレンズ1006を上記のように設計することで、遮光部1500の遮光面1500aの副走査方向における幅を、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006b上における光束径よりも小さくすることができる。
加えて、本実施形態に係る光走査装置10では、遮光部1500の位置が配置誤差によって第1の断面に垂直なX方向にずれた場合においても、遮光部1500の遮光面1500a上において光束径が大きく変わりにくくなる効果が得られる。
以上のことから、第1のfθレンズ1006によって反射された軸上光束LAonを発散光として遮光部1500に入射させることは好ましくない。
しかしながら、軸外光束の反射光についても考慮することで、本実施形態の効果をさらに得ることができる。
また、図6(b)及び図7(b)はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置10の一部副走査断面図を示している。
同様に、図7(a)及び(b)には、第1の光源1001から出射し、偏向器11によって偏向された最軸外光束LAoutが第1のfθレンズ1006の出射面1006bによって反射される際の光路も示されている。
なお、図6(b)及び図7(b)では、副走査断面内に投影された光路が示されている。
なお、ここで離間量D1outとしては、第1のfθレンズ1006の入射面1006aによって反射された最軸外光束LAoutのうち、第4の断面内において偏向点G0outに最も近い位置P1outに到達する光線で評価する。
なお、ここで離間量D2outとしては、第1のfθレンズ1006の出射面1006bによって反射された最軸外光束LAoutのうち、第4の断面内において偏向点G0outに最も近い位置P2outに到達する光線で評価する。
これにより、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bによって反射された最軸外光束LAoutを遮光部1500によって遮光することができ、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bからの不要光の影響を低減している。
D1out≧4mm ・・・(13a)
D2out≧4mm ・・・(13b)
換言すると、本実施形態に係る光走査装置10では、偏向器11上の偏向点G0outにおいて偏向された後、第1のfθレンズ1006の入射面1006a及び出射面1006bによって反射された最軸外光束LAout(反射最軸外光束)のうち、第4の断面上において偏向点G0outに近い側のマージナル光線(第2のマージナル光線)は、第4の断面上において偏向点G0outに対して副走査方向に4mm以上離間した位置に向かって進行することが好ましい。
そして、レンズ面S上の位置Pp1outにおいて面法線がなす角度をβoutとしたとき、レンズ面Sによって反射された主光線Lpoutは、第4の断面上の位置Pp2outに角度αout+2βoutで入射する。ここで、偏向点G0outと位置Pp2outとの間の離間量をDpoutと定義する。
そして、レンズ面Sによって反射されたマージナル光線Lnoutは、第4の断面上の位置Pn2outに角度(αout-Δαout)+2(βout+Δβout)で入射する。
ここで、Δβoutは、レンズ面S上の位置Pp1outにおける面法線がなす角度と位置Pn1outにおける面法線がなす角度との差である。また、偏向点G0outと位置Pn2outとの間の離間量をDnoutと定義する。
そして、レンズ面Sによって反射されたマージナル光線Lfoutは、第4の断面上の位置Pf2outに角度(αout+Δαout)+2(βout-Δβout)で入射する。
ここで、偏向点G0outと位置Pf2outとの間の離間量をDfoutと定義する。
D1out≧D0≧4mm ・・・(14a)
D2out≧D0≧4mm ・・・(14b)
これにより、遮光部1500の第1のfθレンズ1006側端部、すなわち遮光面1500aによって最軸外光束LAoutを遮光することができる。そのため、偏向器11に対して第1の走査光学系85aの反対側、すなわち右側走査系10Rにおいて不要光を発生させないようにする効果が高くなる。
これにより、偏向器11に対して第1の走査光学系85aの反対側、すなわち右側走査系10Rに対する不要光の影響を大幅に低減した光走査装置10を提供することができる。
すなわち、位置P1out上における副走査光束幅Wd1outは、入射面1006a上における副走査光束幅Wr1outより小さくなっているため、この構成により、遮光部1500の副走査方向におけるサイズを小さくすることができる。
すなわち、位置P2out上における副走査光束幅Wd2outは、出射面1006b上における副走査光束幅Wr2outより大きくなっている。
このような構成は、遮光部1500のサイズを小さくするためには不利ではあるが、本実施形態に係る光走査装置10は、離間量D2outが十分大きくなるように設計されているため問題とはならない。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置10では、角度βoutが角度βに比べて小さくなりやすいため、第1のfθレンズ1006によって反射された軸外光束も十分に遮光することができるように、角度βが大きくなるように設計することが好ましい。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置10では、曲率半径Routが曲率半径Rに比べて大きくなりやすい。そのため、第1のfθレンズ1006によって反射された軸外光束も十分に遮光することができるように、曲率半径Rが小さくなるように設計することが好ましい。
具体的には、レンズ面をチルトさせることによって得られるものと同等の効果は、構造周期が一定である回折面を設けることによっても得ることができる。
ここでいう構造周期が一定である回折面とは、回折面に形成されている回折格子の中心から副走査方向に沿ってk番目の格子部までの距離が、kの一次式で表される回折面を意味する。
ここでいう構造周期が二次関数で変化する回折面とは、回折面に形成されている回折格子の中心から副走査方向に沿ってk番目の格子部までの距離が、kの二次式で表される回折面を意味する。
従って、レンズ面を回折面と曲面とを組み合わせた形状に設計することによっても、本実施形態の効果を得ることができる。
そして、このような構成においては、左側走査系10L及び右側走査系10Rの一方に設けられているレンズ面による反射光が偏向器11を挟んで反対側の他方に不要光として到達しやすいため、問題となる。
そのため、本実施形態に係る光走査装置10を上記に示したように設計することで、そのような不要光の低減を図ることができる。
本実施形態に係る光走査装置10をこのような構成に設計することで、偏向器11によって偏向された光束LAは、3.0°の角度で第1のfθレンズ1006に向かうこととなる。
その結果、本実施形態に係る光走査装置10では、マージナル光線の光路間の差を小さくすることができ、収差の観点から有利となる。
これにより、本実施形態に係る光走査装置10では、そのような不要光の影響を大幅に低減することができる。
図8は、本実施形態に係る光走査装置10が搭載されたカラー画像形成装置90の要部副走査断面図を示している。
画像形成装置90は、本実施形態に係る光走査装置10、像担持体としての感光ドラム(感光体)23、24、25、26及び現像器15、16、17、18を備えている。また、画像形成装置90は、搬送ベルト91、プリンタコントローラ93及び定着器94を備えている。
入力された色信号は、画像形成装置90内のプリンタコントローラ93によって、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)、K(ブラック)の各画像データ(ドットデータ)に変換される。
変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置10の各々に入力される。そして、光走査装置10からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム19、20、21、22が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム23、24、25、26の感光面が露光される。
上で述べたように、光ビーム19、20、21、22は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム19、20、21、22を照射することによって感光ドラム23、24、25、26の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム23、24、25、26に当接するように配設された現像器15、16、17、18によってトナー像として現像される。
外部機器92としては、例えばCCDセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置90とで、カラーデジタル複写機が構成される。
11 偏向器
1006、1206 第1のfθレンズ(結像光学素子)
1006a 第1のfθレンズの入射面(光学面)
1006b 第1のfθレンズの出射面(光学面)
1008、1208 被走査面
G0 偏向点(第1の偏向点)
LA、LB 光束
LAon 軸上光束
Claims (20)
- 光束を偏向して被走査面を走査する偏向器と、
前記偏向器からの光束を前記被走査面に導光する光学面を含む結像光学素子とを備え、
前記結像光学素子は、前記偏向器に隣接して配置されており、
前記偏向器上の第1の偏向点において偏向された後、前記光学面によって反射された軸上光束のうち、前記第1の偏向点を含み前記結像光学素子の光軸に垂直な第1の断面において前記第1の偏向点に近い側の第1のマージナル光線は、前記第1の断面における前記第1の偏向点に対して副走査方向に4mm以上離間した位置に向かって進行し、
前記軸上光束の前記第1の断面における副走査方向の光束幅は、前記軸上光束の前記光学面における副走査方向の光束幅よりも小さいことを特徴とする光走査装置。 - 前記軸上光束の前記第1の断面における副走査方向の光束幅は、前記軸上光束の前記光学面における副走査方向の光束幅の1/2以下であることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
- 前記軸上光束の集光点は、前記光学面上の前記軸上光束の主光線の反射点を含み前記光軸に垂直な第2の断面と前記第1の断面との間にないことを特徴とする請求項1または2に記載の光走査装置。
- 前記軸上光束を遮光する遮光部材を備え、該遮光部材の遮光面に対する前記軸上光束の主光線の入射角は45°以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記遮光部材は、前記偏向器を保持する保持部材に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の光走査装置。
- 前記光学面上の前記軸上光束の主光線の反射点を含み前記光軸に垂直な第2の断面と前記遮光面を含む第3の断面との間における前記軸上光束の光路上には光学素子が設けられていないことを特徴とする請求項4または5に記載の光走査装置。
- 前記遮光面は、主走査断面内において前記第1の偏向点に対して前記結像光学素子とは反対側に配置されることを特徴とする請求項4乃至6の何れか一項に記載の光走査装置。
- 光束を偏向して被走査面を走査する偏向器と、
前記偏向器からの光束を前記被走査面に導光する光学面を含む結像光学素子と、
前記偏向器上の第1の偏向点において偏向された後、前記光学面によって反射された軸上光束を遮光する遮光面を含む遮光部材とを備え、
前記軸上光束のうち、前記第1の偏向点を含み前記結像光学素子の光軸に垂直な第1の断面において前記第1の偏向点に近い側の第1のマージナル光線は、前記第1の断面における前記第1の偏向点に対して副走査方向に4mm以上離間した位置に向かって進行し、
前記軸上光束の前記第1の断面における副走査方向の光束幅は、前記軸上光束の前記光学面における副走査方向の光束幅よりも小さく、
前記遮光面は、主走査断面内において前記第1の偏向点に対して前記結像光学素子とは反対側に配置され、
前記遮光面に対する前記軸上光束の主光線の入射角は45°以下であることを特徴とする光走査装置。 - 前記光学面は、前記結像光学素子の入射面であることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記光学面は、副走査断面において前記偏向器に向かって凹形状を有していることを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記光学面は、前記軸上光束が前記偏向器から離間するように副走査断面内においてチルトしていることを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記結像光学素子の入射面及び出射面は、副走査断面内において互いに同一の方向にチルトしていることを特徴とする請求項1乃至11の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記結像光学素子の入射面及び出射面は、副走査断面において前記偏向器に向かって凹形状を有していることを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記偏向器上の第2の偏向点において偏向された後、前記光学面によって反射された最軸外光束のうち、前記第2の偏向点を含み前記光軸に垂直な第4の断面上において前記第2の偏向点に近い側の第2のマージナル光線は、前記第4の断面における前記第2の偏向点に対して副走査方向に4mm以上離間した位置に向かって進行することを特徴とする請求項1乃至15の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記光学面において、前記偏向器上の第2の偏向点にて偏向された最軸外光束の主光線の反射点上での副走査断面内におけるチルト量は、前記軸上光束の主光線の反射点上での副走査断面内におけるチルト量よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至16の何れか一項に記載の光走査装置。
- 前記光学面において、前記偏向器上の第2の偏向点にて偏向された最軸外光束の主光線の反射点での副走査断面内におけるパワーの絶対値は、前記軸上光束の主光線の反射点上での副走査断面内におけるパワーの絶対値よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至17の何れか一項に記載の光走査装置。
- 請求項1乃至18の何れか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により前記被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器とを備えることを特徴とする画像形成装置。
- 請求項1乃至18の何れか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力された信号を画像データに変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラとを備えることを特徴とする画像形成装置。
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