JP7477911B2 - ハイブリッドエアロゲル及びその製造方法、並びにハイブリッドエアロゲルを用いた断熱材 - Google Patents
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- 239000004964 aerogel Substances 0.000 title claims description 146
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 34
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 title claims description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 171
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 48
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 13
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims description 11
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims description 11
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 claims description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 4
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N tributoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH](OCCCC)OCCCC UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 49
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 44
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 36
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 23
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 17
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 11
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical group C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 4
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 4
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N Sorbitan monooleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical class OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)CCCCC1 ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007350 electrophilic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003703 image analysis method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010406 interfacial reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002502 liposome Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052914 metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 description 1
- 239000002135 nanosheet Substances 0.000 description 1
- 239000002077 nanosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012875 nonionic emulsifier Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 229940068968 polysorbate 80 Drugs 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000009291 secondary effect Effects 0.000 description 1
- 229910002028 silica xerogel Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000001593 sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000011069 sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035049 sorbitan monooleate Drugs 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/157—After-treatment of gels
- C01B33/158—Purification; Drying; Dehydrating
- C01B33/1585—Dehydration into aerogels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
また、本発明は、ハイブリッドエアロゲルを用いた断熱材に関する。
本発明の目的は、断熱特性に優れたエアロゲルを提供することにある。具体的には、大きな空隙率を有するとともに、空隙を介した気体の流動を更に抑制する構造を有するハイブリッド化エアロゲルを提供することにある。
[2]本発明のハイブリッドエアロゲルにおいて、好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.01重量%以上、30重量%以下であって、残部が前記エアロゲルよりなるとよい。
[3]本発明のハイブリッドエアロゲルにおいて、好ましくは、前記ナノ中空粒子の球殻によって遮断した気体流動経路は、前記エアロゲルの空孔が連通した気体流動経路に対して、10%以上、90%以下であるとよい。
[5]本発明のハイブリッドエアロゲルにおいて、好ましくは、マイクロ中空粒子は、0.01重量%以上、30重量%以下であって、残部が前記エアロゲルよりなるとよい。
[7]本発明のハイブリッドエアロゲル[6]において、好ましくは、前記中空粒子は、外径が30nm以上360nm以下のナノ中空粒子と、外径が1μm以上23μm以下のマイクロ中空粒子の少なくとも一方を有するとよい。
[8]本発明のハイブリッドエアロゲル[7]において、好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.01重量%以上、30重量%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、0.01重量%以上、30重量%以下であって、残部が前記エアロゲルよりなるとよい。更に好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.1重量%以上、15重量%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、0.1重量%以上、15重量%以下であるとよい。更に好ましくは、前記ナノ中空粒子は、1重量%以上、10重量%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、1重量%以上、10重量%以下であるとよい。
[9]本発明のハイブリッドエアロゲル[7]において、好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.00003体積%以上、17.6体積%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、0.00003体積%以上、22体積%以下であって、残部が前記エアロゲルよりなるとよい。更に好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.0003体積%以上、8.1体積%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、0.0003体積%以上、10.6体積%以下であるとよい。更に好ましくは、前記ナノ中空粒子は、0.0034体積%以上、5.2体積%以下であり、前記マイクロ中空粒子は、0.0034体積%以上、7.0体積%以下であるとよい。
[10]本発明のハイブリッドエアロゲル[1]~[9]において、好ましくは、前記金属酸化物は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、バナジウム(V)、セリウム(Ce)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、プラセオジウム(Pr)、ホルミウム(Ho)、又はモリブデン(Mo)の少なくとも1種の酸化物であるとよい。
[12]本発明のハイブリッドエアロゲルの製造方法において、好ましくは、前記金属アルコキシドの金属は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、バナジウム(V)、セリウム(Ce)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、プラセオジウム(Pr)、ホルミウム(Ho)、又はモリブデン(Mo)の何れかの少なくとも1種を含むとよい。
[13]本発明のハイブリッドエアロゲルの製造方法は、例えば図9Aに示すように、前駆体としてのケイ素アルコキシド又は水ガラスを調製し(S100)、シリカの中空粒子を準備し(S110)、前記前駆体と前記中空粒子を溶媒に溶かして、コロイド溶液を調製し(S120)、酸触媒を前記コロイド溶液に添加し、前記前駆体に対するゾル-ゲル法の加水分解反応と重縮合反応を促進してゲルを調製し(S130)、前記ゲルを、二酸化炭素を用いた超臨界乾燥法又は常圧乾燥法で乾燥処理することにより、ハイブリッド化されたエアロゲルを作製する(S140)、工程を有するものである。
[14]本発明のハイブリッドエアロゲルの製造方法において、好ましくは、前記ケイ素アルコキシドとして、テトラエトキシシラン、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、トリブトキシシランの少なくとも1つを用いるとよい。
[15]本発明のハイブリッドエアロゲルの製造方法において、好ましくは、さらに、前記中空粒子の球状空洞の内部のガスを大気より熱伝導の低い気体に置換する工程を備えるとよい。
[16]本発明のハイブリッドエアロゲルの製造方法において、好ましくは、中空粒子は、マイクロ中空粒子、ナノ中空粒子、又はマイクロ中空粒子とナノ中空粒子の混合体の何れかであるとよい。
[17]本発明の断熱材は、[1]乃至[10]の何れか1項に記載のハイブリッドエアロゲルを用いたものである。
図1は本発明の一実施例を示すハイブリッド化されたエアロゲルの断面の概念的な構造を示す要部断面図である。図において、シリカ微粒子10、網目構造体(多孔質構造体)のポア20、マイクロ中空粒子(MHSP:Micro hollow silicate particles)30、ナノ中空粒子(NHSP:Nano hollow silicate particles)40を備えている。
エアロゲルは、低密度で空隙率の高い乾燥ゲル体の総称であり、湿潤ゲルを乾燥させて得られる多孔質体である。シリカ微粒子10は、シリカの一次粒子(直径1~2nm程度)が、弱い結合力で形成された二次粒子(直径20~50nm)である。シリカ微粒子10は、シリカの二次粒子が結合してできた網目構造を有し、二次粒子間には空孔20が形成されている。弱い結合力とは、ゲル骨格である網目構造が破壊されない程度の結合力をいう。
「平均のポア径」は、例えば走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、SEM像を得、個々のポア径について画像解析により直径を求め、この平均半径を100個以上のポアについて相加平均値として出した値である(画像解析法)。なおこの際、一個の凝集粒子を形成しているポア群は1個のポアとして計数する。
シリカ化合物を原料とする一般的なシリカエアロゲルの細孔径は、常温・常圧における空気の平均自由行程である67nm以下であり、気体分子同士の衝突(対流による熱伝達)がほとんどないため、気体成分の熱伝導率の影響を無視することができ、シリカエアロゲルの熱伝導率が低くなる。
マイクロ中空粒子30の球殻を形成する膜厚tの範囲は、0.35μmから3μmの範囲が好ましく、ポア(中空部)外径dの範囲は、0.3μmから約22μmの範囲が好ましい。
マイクロ中空粒子30は、常温常圧における空気の平均自由行程の15倍よりも大きな粒径であるため、ハイブリッド化されたエアロゲルにおいて、脆い網目構造体(多孔質構造体)の構造的強度を高める効果がある。
マイクロ中空粒子が0.01重量%未満の場合は、ハイブリッドエアロゲルの製造段階で、マイクロ中空粒子が溶液から漏出して、収率が著しく低下する。マイクロ中空粒子が30重量%を超える場合は、マイクロ中空粒子を均一に分散させることが困難になり、合成が難しくなる。
ナノ中空粒子40の球殻を形成する膜厚tの範囲は、7.5nmから65nmの範囲が好ましく、ポア(中空部)外径dの範囲は、15nmから345nmの範囲が好ましい。
ナノ中空粒子40は、常温常圧における空気の平均自由行程を含む粒径であるため、ハイブリッド化されたエアロゲルにおける断熱効果への寄与が大きい。
ナノ中空粒子が0.01重量%未満の場合は、ハイブリッドエアロゲルの製造段階で、ナノ中空粒子が溶液から漏出して、収率が著しく低下する。ナノ中空粒子が30重量%を超える場合は、ナノ中空粒子を均一に分散させることが困難になり、合成が難しくなる。
中空粒子は、球状の中空部分の周りを、球殻が取り囲んでいる構造を有する。中空粒子は、ナノ中空粒子40とマイクロ中空粒子30の2種類に応じて、表1と表2に示すような、形状であるとよい。例えば、中空粒子の外径Dの範囲は、30nm~360nmと1μm~23μm、球殻厚さtの範囲は7.5nm~65nmと0.35μm~3μm、コア(中空部)径dの範囲は15nm~345nmと0.3μm~約22μmである。シリカ微粒子としてシリカエアロゲルを、また中空粒子としてシリカエアロゲルを使用した場合、中空粒子の直径、ハイブリッド化されたエアロゲル中の中空粒子混入率等を適宜調節することにより、その熱伝導率をシリカエアロゲルの14mW/m・K程度よりもかなり低く、また真空断熱材(vacuum insulated panel)の8.0mW/m・Kに近い値を達成することができる。即ち、中空粒子に空気を充填している場合は10.4mW/m・K、中空粒子に二酸化炭素を充填している場合は9.6mW/m・K(図13)という非常に低い値を達成することができた。
本発明においては、中空粒子として、マイクロ中空粒子30とナノ中空粒子40の2類型に区分している。
図4Bは、本発明の一実施例を示すマイクロ中空粒子の説明図で、(E)は元素組成を表すEDX(energy dispersive X-ray analysis; エネルギー分散型X線分析)、(F)は粒径分布を示すPSD(粒径分布)である。マイクロ中空粒子の元素組成としては、Siが主成分で、Oが含有されていると共に、Cも痕跡程度含有されている。CはSEMとEDXの測定に必要な炭素被膜によるもので、分析中のサンプルの導電率を向上させる。マイクロ中空粒子の粒径は、ピーク値が8μmで、3μm~22μmの範囲に二項分布している。
図6Bは、本発明の一実施例を示すナノ中空粒子の説明図で、(E)は元素組成を表すEDX、(F)は粒径分布を示すPSDである。ナノ中空粒子の元素組成としては、Siが主成分で、Oが含有されていると共に、Cも痕跡程度含有されている。CはSEMとEDXの測定に必要な炭素被膜によるもので、分析中のサンプルの導電率を向上させる。ナノ中空粒子の粒径は、ピーク値が140nmで、100nm~240nmの範囲に二項分布している。
密度については、表3に示すように、マイクロ中空粒子は0.23~2.65g/cm3、ナノ中空粒子は0.32~2.65g/cm3、エアロゲル全体では0.009~0.220g/cm3である。本発明のハイブリッドエアロゲルの密度は、従来例のエアロゲル(AZOマテリアルズ)の0.0011~0.5g/cm3を基準にすると、同程度から半分程度の密度になっている。
図8Aに示すような、従来のエアロゲル母材はもともと液相だった部分を気相に置き換えるという形成過程から、細孔は必ず他の細孔と連通している。そこで細孔の気体の流動性が熱伝導を生じさせるという本質的な課題を抱えている。
これに対して、本発明では、図8B、図8Cに示すように、エアロゲルの連通細孔を中空粒子で塞ぐものである。中空粒子をエアロゲルのシリカ微粒子で構成される網目構造体(多孔質構造体)の空孔について、連通細孔を中空粒子で塞ぐことで、空孔による固体の熱伝導を低減できる。中空粒子の球状空洞領域は小さいために気体の流動性による熱伝導も低く抑えられる。
シリカエアロゲルは、例えばゾル-ゲル法やストーバー法で製造される。
ゾル-ゲル法は、金属アルコキシドの溶液を出発物質とし、この溶液を加水分解および縮重合反応によりコロイド溶液(ゾル)とし、さらに反応を促進させることにより、ゲルを経由してガラスやセラミックスを作製する方法である。ゾル-ゲル法は、液相からの作製法であることから、原料を分子レベルで均質に混合することが可能であり、組成制御の自由度が高いという長所をもつ。
ストーバー法は、エタノールを加えたアルカリ性水溶液中で少量のケイ素アルコキシドを素早く反応させて小さいガラス粒子を製造する方法である。反応時間と水/ケイ素の割合とを変えることにより、粒子の大きさの調整ができる。ストーバー法の条件は、一般的なゾル-ゲル法に比して、[エタノール/水]比と[水/ケイ素]比が著しく大きい。反応が均一に進行するので、粒径のばらつきが小さいことが特長である。
図9Aは、ハイブリッド化されたエアロゲルの製造工程を説明する図である。
まず、前駆体としてのケイ素アルコキシド又は水ガラス(ケイ酸ナトリウム)を調整する(S100)。無機シリカエアロゲルは、伝統的に、シリカ系アルコキシド(例えば、テトラエトキシルシラン)の加水分解及び縮合を通じてか、又はケイ酸又は水ガラスのゲル化を通じて作られる。シリカ系エアロゲル合成物のための他の関連する無機前駆体材料としては、限定されないが、金属ケイ酸塩、例えば、ケイ酸ナトリウム又はケイ酸カリウム、アルコキシシラン、部分的に加水分解したアルコキシシラン、テトラエトキシルシラン(TEOS)、部分的に加水分解したTEOS、TEOSの縮合ポリマー、テトラメトキシルシラン(TMOS)、部分的に加水分解したTMOS、TMOSの縮合ポリマー、テトラ-n-プロポキシシラン、部分的に加水分解したテトラ-n-プロポキシシラン及び/又はテトラ-n-プロポキシシランの縮合ポリマー、ポリエチルシリケート、部分的に加水分解したポリエチルシリケート、モノマーアルキルアルコキシシラン、ビス-トリアルコキシアルキル若しくはアリールシラン、多面体シルセスキオキサン、又はそれらの組み合わせが挙げられる。
ここで、無機エアロゲルは、一般的に、金属酸化物又は金属アルコキシド材料から形成される。金属酸化物又は金属アルコキシド材料は、酸化物又は酸化物を形成することができる任意の金属のアルコキシドに基づくことができる。そのような金属としては、限定されないが、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、イットリウム、バナジウム、セリウムなどが挙げられる。
次に、前駆体と中空粒子を溶媒に溶かして、コロイド溶液(ゾル)を調整する(S120)。溶媒としては、例えばメタノールが用いられる。ゾル-ゲル法に従って、加水分解反応と縮重合反応が進行する。図9Bは、ケイ素アルコキシドに対するゾル-ゲル法の加水分解反応と重縮合反応を説明する図である。加水分解反応を促進するために、例えば酸触媒を使用する。酸触媒を使用した場合の加水分解は求電子反応による。溶液中のH3O+はアルコキシル基(-OR;R=CnH2n+1)の酸素に対して攻撃し、SiORをSiOHとし、結合が切れることにより生成したR+はHO-と結合しアルコールを副生成物として形成する。反応が進むにつれてアルコキシル基とH2Oが減少するため、加水分解反応速度は徐々に低下する。この加水分解反応が始まると同時に縮重合反応も始まるため、生成したSi(OC2H5)3(OH)は周辺のSi(OC2H5)3(OH)と脱水縮重合を起こす。
このゲルを乾燥処理することにより、ハイブリッド化されたエアロゲルを作製する(S140)。この乾燥処理には、例えば二酸化炭素を用いた超臨界乾燥法が用いられる。超臨界流体には二酸化炭素が多く使用されており、二酸化炭素は臨界温度31.1℃、臨界圧力7.38MPaという条件で超臨界状態となり、これは水と比較して比較的温和な条件である。また超臨界二酸化炭素が高い溶解性を持ち、臨界点以下にすると気化して飛散するため、乾燥試料のみを取り出すことが可能である。
なお、超臨界乾燥法に代えて常圧乾燥法(APD, Ambient Pressure Drying)を用いてもよい。常圧乾燥法で製造される場合は、エアロゲルに代えてシリカキセロゲルと呼ばれる場合もある。
図10は、二重エマルジョン法によるマイクロ中空粒子の製造工程を説明する図である。マイクロ中空粒子(MHSP)は、界面反応によって調製される二重エマルジョンである。
二重エマルジョンは、単にエマルション内のエマルションとして定義される。エマルションは、少なくとも2つの非混和性液体からなる分散多相システムである。液滴を形成する液体は分散相と呼ばれ、液滴を取り囲む大部分の液体は連続相と呼ばれる。二重エマルジョンは、2つの液体が最初の2つの液体と混和しない3番目の液体によって分離されているシステムと見なすことができる。水と油の場合、二重エマルジョンの2つの可能なケース、即ち、水中油中水(w/o/w)エマルジョンと油中水中油(o/w/o)エマルジョンである。前者の場合、例えば、分散した水滴のそれぞれが小胞構造を形成し、分離した単一または複数の水性区画が油相の層によって連続水性相を形成する。
図11は、ソフトテンプレート法によるナノ中空粒子の製造工程を説明する図である。
ナノ中空粒子(NHSP)は、ソフトテンプレート法によって調製される。
ソフトテンプレート法(soft-template methods)は、ミセル、エマルジョン、リポソーム、ポリマーブレンド、液晶などのソフトマターをテンプレートとして使用し、ナノポーラス、メソポーラス、マクロポーラス材料などの多孔性材料やナノスフェア、ナノロッド、ナノシートなどのナノ材料を構築するのに用いられる。これに対して、ハードテンプレート法(hard-template methods)は、粒子やゼオライトなどの固体をテンプレートとして使用する。
<マイクロ中空粒子の製造>
ここでは、ケイ酸ナトリウム溶液(29.9gシリコン、144ミリモル)などのパラメーターが固定されている。この溶液の総量は、水相1(W1)として36mLに固定された。W1を、商品名Tween80(1.00g)および商品名span80(0.50g)を含むn-ヘキサン溶液(72mL)からなる油相(O1)に添加し、得られた2相溶液(W1/O1)をホモジナイザー(~8000rpm、1分間)によりW1/O1エマルジョンとし、水相(W2)の沈殿剤である重炭酸アンモニウム水溶液(2mol・L-1;250mL)に、攪拌しながらに直ちに注いだ。
ここで、Tween80は、“Polysorbate 80”または“Polyoxyethylene (20) sorbitan monooleate”とも呼ばれるもので、化学式はC64H124O26である。食品や化粧品によく使用される非イオン性界面活性剤および乳化剤で、粘性のある水溶性の黄色の液体である。span80は、Sorbitan monooleateとも呼ばれるもので、化学式はC24H44O6であり、一連のソルビタンエステルからなる界面活性剤である。1つまたは複数のソルビタンヒドロキシル基と脂肪酸のエステル化によって得られ、本質的に疎水性である。
ここでは、ポリ(メタクリル酸)ナトリウム塩(NaPMA、40重量パーセント(wt%))などの水ベースの高分子電解質が、水溶液中のテンプレート剤として、ベースの触媒ストーバー法と組み合わせて使用された。最初は、0.40gのNaPMA(MW~4,000-6,000)を4.5mLの水酸化アンモニウム(NH4OH、MW~35.05、28%、試薬グレード)に溶解する。次に、90mLのエタノール(EtOH、MW~46.07)を混合物に加える。アリコート(aliquot)として、テトラエチルオルトシリケート(TEOS、MW~208.33、98%、試薬グレード)の5個に等分したものを準備する。これを少しずつ5時間かけて、周囲温度で激しく磁気攪拌しながら1.80mLのTEOSを加えた。
マイクロ中空粒子(MHSP)とナノ中空粒子(NHSP)の両方の製造プロセスで、コロイド懸濁液をろ過して洗浄した後、120℃で24時間乾燥し、400℃で焼成すると、水性ポリマーと過剰な界面活性剤の除去が行われ、粉末状のMHSPとNHSPが焼成して得られた。乾燥および焼成環境が要求されたガスの下にある場合、MHSPおよびNHSPの内部に任意の種類の気体を配置できる。
図9Aに示すように、シリカエアロゲルは、2つの主要なステップで製造される。ゾルゲル化学による湿潤ゲルの形成と、湿潤ゲルの乾燥である。湿潤ゲルは、シリカ前駆体分子の加水分解と縮合から形成された、シリカと液体溶媒のナノ構造の固体ネットワークで構成されている。
ヘキサン/TMCSの体積比は4で一定に保たれた。表面改質ステップでは、アルコゲルをヘキサン/TMCS溶液に60℃で24時間浸漬した。アルコゲルを乾燥する前に、サンプルを純粋なヘキサンに浸して、60℃で6時間過剰なTMCS溶媒を除去した。エアロゲル合成の最終ステップは乾燥で、乾燥条件は表4に示すとおりである。
図12Aは本発明の一実施例を示すナノ中空粒子のゼータ電位を示す図である。ゼータ電位はpH7で最低値-18mVを示す。酸性側のゼータ電位はpH2で最高値-4.5mVを示す。アルカリ側のゼータ電位はpH10で中間最高値-12mVを示す。
図12Bは本発明の一実施例を示すナノ中空粒子の粒径分布(PSD)を示す図である。粒径は60-220nmの範囲で凸状に分布しており、中央最高値は90nmである。
図12Cは本発明の一実施例を示すナノ中空粒子の元素組成を表すEDXである。ナノ中空粒子の元素組成としては、Siが主成分で、Oが含有されていると共に、Cも痕跡程度含有されている。
本実施形態のハイブリッド化されたエアロゲルでは、固体伝導を低減しようとすると空孔体積が増えていき、その空孔が連通細孔だと、気体の流動伝導でこのエアロゲル全体としての熱伝導が上がる、つまり断熱特性が低下する。さらに、この連通細孔の全部または一部を球状空洞に置き換えると、連通細孔だけの構造よりもさらに断熱特性が向上する。その際、もともとのエアロゲル母材の連通細孔のサイズによって、中空粒子の導入による断熱特性向上の効果が異なる。この関係を説明するために、図14を参照する。
20 網目構造体(多孔質構造体)の空孔
30 マイクロ中空粒子
40 ナノ中空粒子
Claims (10)
- 金属酸化物の二次粒子が結合した網目構造を有し、二次粒子間には空孔が形成されているエアロゲルに、ナノ中空粒子とマイクロ中空粒子のうちの少なくとも一方が混入されたハイブリッドエアロゲルであって、
前記ナノ中空粒子は、外径が30nm以上360nm以下の球殻とその内部の空洞を備え、
前記マイクロ中空粒子は、外径が1μm以上23μm以下の球殻とその内部の空洞を備え、
前記ナノ中空粒子及び/または前記マイクロ中空粒子の空洞が、大気よりも熱伝導率の低い気体で充填された、
ハイブリッドエアロゲル。 - 前記ナノ中空粒子を含む場合その組成比率は、0.01重量%以上、30重量%以下であり、
前記マイクロ中空粒子を含む場合その組成比率は、0.01重量%以上、30重量%以下であって、
残部が前記エアロゲルよりなる請求項1に記載のハイブリッドエアロゲル。 - 前記ナノ中空粒子を含む場合その組成比率は、0.00003体積%以上、17.6体積%以下であり、
前記マイクロ中空粒子を含む場合その組成比率は、0.00003体積%以上、22体積%以下であって、
残部が前記エアロゲルよりなる請求項1に記載のハイブリッドエアロゲル。 - 前記金属酸化物は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、バナジウム(V)、セリウム(Ce)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、プラセオジウム(Pr)、ホルミウム(Ho)、又はモリブデン(Mo)の少なくとも1種の酸化物である請求項1乃至3のうちのいずれか1項に記載のハイブリッドエアロゲル。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のハイブリッドエアロゲルを用いた断熱材。
- 前駆体としての金属アルコキシド又は水ガラスを調製し、
金属酸化物の中空粒子を準備し、
前記前駆体と前記中空粒子を溶媒に溶かして、コロイド溶液を調製し、
酸触媒を前記コロイド溶液に添加し、前記前駆体に対するゾル-ゲル法の加水分解反応と重縮合反応を促進してゲルを調製し、
前記ゲルを、二酸化炭素を用いた超臨界乾燥法又は常圧乾燥法で乾燥処理することにより、ハイブリッド化されたエアロゲルを作製する、
ハイブリッドエアロゲルの製造方法であって、
前記中空粒子の球状空洞の内部のガスを大気より熱伝導の低い気体に置換する工程をさらに備える、ハイブリッドエアロゲルの製造方法。 - 前記中空粒子は、マイクロ中空粒子、ナノ中空粒子、又はマイクロ中空粒子とナノ中空粒子の混合体の何れかである請求項6に記載のハイブリッドエアロゲルの製造方法。
- 前記金属アルコキシドの金属は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、バナジウム(V)、セリウム(Ce)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、プラセオジウム(Pr)、ホルミウム(Ho)、又はモリブデン(Mo)の何れかの少なくとも1種を含む請求項6又は7に記載のハイブリッドエアロゲルの製造方法。
- 前記前駆体は、ケイ素アルコキシド又は水ガラスであり、前記中空粒子はシリカである、請求項6又は7に記載のハイブリッドエアロゲルの製造方法。
- 前記ケイ素アルコキシドとして、テトラエトキシシラン、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、トリブトキシシランの少なくとも1つを用いる請求項9に記載のハイブリッドエアロゲルの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020120921 | 2020-07-14 | ||
JP2020120921 | 2020-07-14 | ||
PCT/JP2021/021299 WO2022014194A1 (ja) | 2020-07-14 | 2021-06-04 | ハイブリッドエアロゲル及びその製造方法、並びにハイブリッドエアロゲルを用いた断熱材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022014194A1 JPWO2022014194A1 (ja) | 2022-01-20 |
JP7477911B2 true JP7477911B2 (ja) | 2024-05-02 |
Family
ID=79555175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022536169A Active JP7477911B2 (ja) | 2020-07-14 | 2021-06-04 | ハイブリッドエアロゲル及びその製造方法、並びにハイブリッドエアロゲルを用いた断熱材 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230150825A1 (ja) |
EP (1) | EP4183744A1 (ja) |
JP (1) | JP7477911B2 (ja) |
CN (1) | CN115997083A (ja) |
TW (1) | TWI859454B (ja) |
WO (1) | WO2022014194A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113526912B (zh) * | 2021-07-01 | 2023-02-17 | 中广核研究院有限公司 | 稀土基气凝胶复合材料及其制备方法和应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005525454A (ja) | 2002-05-15 | 2005-08-25 | キャボット コーポレイション | エーロゲルと中空粒子バインダーの組成物、絶縁複合材料、及びそれらの製造方法 |
US20140059971A1 (en) | 2011-03-18 | 2014-03-06 | Bjørn Petter Jelle | Thermal insulation materials |
WO2017038646A1 (ja) | 2015-08-28 | 2017-03-09 | 日立化成株式会社 | エアロゲル複合体及び断熱材 |
US20170160001A1 (en) | 2015-12-08 | 2017-06-08 | Whirlpool Corporation | Insulation structure for an appliance having a uniformly mixed multi-component insulation material, and a method for even distribution of material combinations therein |
CN108689680A (zh) | 2018-05-30 | 2018-10-23 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种高效隔热保温气凝胶毡的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2950447A1 (en) * | 1978-08-28 | 1981-01-15 | Leonard B Torobin | Method and apparatus for producing hollow microspheres |
JP5615514B2 (ja) | 2008-05-15 | 2014-10-29 | ニチアス株式会社 | 断熱材、これを用いた断熱構造及び断熱材の製造方法 |
JP2018130933A (ja) | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 日立化成株式会社 | 積層複合体及び断熱材 |
JP6932572B2 (ja) | 2017-07-13 | 2021-09-08 | 株式会社トクヤマ | 球状シリカエアロゲル、その製造方法、及び、その用途 |
-
2021
- 2021-06-04 EP EP21842566.8A patent/EP4183744A1/en active Pending
- 2021-06-04 WO PCT/JP2021/021299 patent/WO2022014194A1/ja unknown
- 2021-06-04 CN CN202180035634.9A patent/CN115997083A/zh active Pending
- 2021-06-04 US US18/014,737 patent/US20230150825A1/en active Pending
- 2021-06-04 JP JP2022536169A patent/JP7477911B2/ja active Active
- 2021-06-28 TW TW110123474A patent/TWI859454B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005525454A (ja) | 2002-05-15 | 2005-08-25 | キャボット コーポレイション | エーロゲルと中空粒子バインダーの組成物、絶縁複合材料、及びそれらの製造方法 |
US20140059971A1 (en) | 2011-03-18 | 2014-03-06 | Bjørn Petter Jelle | Thermal insulation materials |
WO2017038646A1 (ja) | 2015-08-28 | 2017-03-09 | 日立化成株式会社 | エアロゲル複合体及び断熱材 |
US20170160001A1 (en) | 2015-12-08 | 2017-06-08 | Whirlpool Corporation | Insulation structure for an appliance having a uniformly mixed multi-component insulation material, and a method for even distribution of material combinations therein |
CN108689680A (zh) | 2018-05-30 | 2018-10-23 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种高效隔热保温气凝胶毡的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI859454B (zh) | 2024-10-21 |
EP4183744A1 (en) | 2023-05-24 |
CN115997083A (zh) | 2023-04-21 |
JPWO2022014194A1 (ja) | 2022-01-20 |
TW202227361A (zh) | 2022-07-16 |
US20230150825A1 (en) | 2023-05-18 |
WO2022014194A1 (ja) | 2022-01-20 |
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