Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP7464691B2 - 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7464691B2
JP7464691B2 JP2022503170A JP2022503170A JP7464691B2 JP 7464691 B2 JP7464691 B2 JP 7464691B2 JP 2022503170 A JP2022503170 A JP 2022503170A JP 2022503170 A JP2022503170 A JP 2022503170A JP 7464691 B2 JP7464691 B2 JP 7464691B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
acid
lithographic printing
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022503170A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021171862A1 (ja
Inventor
加奈 栢木
侑也 宮川
駿平 渡邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2021171862A1 publication Critical patent/JPWO2021171862A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7464691B2 publication Critical patent/JP7464691B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキとが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
現在、平版印刷版原版から平版印刷版を作製する製版工程においては、ＣＴＰ（コンピュータ・トゥ・プレート）技術による画像露光が行われている。即ち、画像露光は、リスフィルムを介することなく、レーザーやレーザーダイオードを用いて直接平版印刷版原版に走査露光などにより行われる。
一方、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版の製版に関して、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境問題がクローズアップされ、これに伴い、現像処理の簡易化又は無処理化が指向されている。簡易な現像処理の一つとして、「機上現像」と呼ばれる方法が提案されている。機上現像は、平版印刷版原版を画像露光後、従来の湿式現像処理を行わず、そのまま印刷機に取り付け、画像記録層の非画像部の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
平版印刷版を用いて印刷する場合、通常の枚葉印刷機のように印刷版のサイズよりも小さい紙への印刷においては、印刷版の端部は紙面外の位置にあるので端部が印刷品質に影響することはない。しかし、新聞印刷のような輪転機を用いてロール状の紙に連続して印刷する場合には、印刷版の端部はロール紙面内にあるため、端部に付着したインキが紙に転写して線状の汚れ（エッジ汚れ）が発生し、印刷物の商品価値を著しく損ねることになる。
従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献１～３に記載されたものが挙げられる。
特許文献１には、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、上記画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版が記載されている。
特許文献２には、下記式（１）で表される化合物を含有する発色組成物を含む画像記録層を支持体上に有する平版印刷版原版が記載されている。
式（１）中、Ｒ１は熱又は赤外線露光によりＲ１－Ｏ結合が開裂する基を表す。Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、あるいはＲ２及びＲ３は互いに連結して環を形成してもよい。Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基を表す。Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、アルキル基又は下記式（２）～（４）で表される基を表す。Ｒ６～Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｚａは電荷を中和するための対イオンを表す。但し、式（１）で表される化合物は、Ｒ４若しくはＲ５として又はＲ１、Ａｒ１若しくはＡｒ２中に式（２）～（４）で表される基を少なくとも１つ有する。
式（２）～（４）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表す。Ｗは単結合又は酸素原子を表す。ｎ１は１～４５の整数を表す。Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１４を表す。Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１２のアルキレン基を表す。Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表す。
特許文献３には、支持体、重合性化合物及び光重合開始剤を含む画像記録層、及び、上記画像記録層上にトップ層を有し、上記トップ層の厚さが０．１ｇ／ｍ２から１．７５ｇ／ｍ２までの間であり、上記トップ層が、熱及び／又は赤外線照射により強い電子供与性基に変換される熱解離性基を有する赤外線吸収剤を含み、上記トップ層が、熱及び／又は赤外線照射により画像形成可能である平版印刷版原版が記載されている。
特許文献１：国際公開第２０１９／１５１４４７号
特許文献２：国際公開第２０１７／１４１８８２号
特許文献３：国際公開第２０１９／２１９５６０号
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 支持体上に、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有し、上記支持体の少なくとも対向する２辺の端部に、ダレ量Ｘが２５μｍ～１５０μｍ、かつダレ幅Ｙが７０μｍ～３００μｍであるダレ形状を有する平版印刷版原版。
＜２＞ 上記発色性化合物を含む層が、画像記録層である＜１＞に記載の平版印刷版原版。
＜３＞ 支持体上に、画像記録層を有し、
上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有する＜１＞に記載の平版印刷版原版。
＜４＞ 上記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物が、下記式（１）で表される化合物である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
式（１）中、Ｍ１は熱又は赤外線露光により開裂する基であり、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ２及びＲ３は互いに連結して環を形成してもよく、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基を表し、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ６～Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
＜５＞ 上記式（１）で表される化合物におけるＲ４、Ｒ５、Ｍ１、Ａｒ１及びＡｒ２よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基が、親水性基を有する、＜４＞に記載の平版印刷版原版。
＜６＞ 上記親水性基が、下記式（２）～式（５）のいずれかで表される基である＜５＞に記載の平版印刷版原版。
式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１２のアシル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
＜７＞ 上記式（１）におけるＭ１が、－ＮＲａＲｂ、－ＮＲｃ（ＳＯ２Ｒｄ）又は－ＮＲｅ（ＣＯ２Ｒｆ）である＜４＞～＜６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
ただし、Ｒａ及びＲｂはそれぞれ独立に、アリール基を表し、Ｒｃ、Ｒｅ及びＲｆはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｄは、アルキル基、アリール基、又は、－ＮＲｄ１Ｒｄ２を表し、Ｒｄ１及びＲｄ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
＜８＞ 上記式（１）におけるＭ１が、－Ｏ－Ｒ１である＜４＞～＜６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
ただし、Ｒ１は、熱又は赤外線露光によりＲ１－Ｏ結合が開裂する基を表す。
＜９＞ 上記Ｒ１が、下記式（６）で表される基である＜８＞に記載の平版印刷版原版。
式（６）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｅはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。
＜１０＞ 上記式（６）におけるＥが、下記式（７）で表されるピリジニウム基である＜９＞に記載の平版印刷版原版。
式（７）中、Ｒ１７はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ１７が複数存在する場合、複数のＲ１７は同じでも異なってもよく、あるいは複数のＲ１７が連結して環を形成してもよく、ｎ２は０～４の整数を表すし、Ｒ１８はアルキル基、アリール基又は下記式（２）～式（５）で表される基を表し、Ｚｂは電荷を中和するための対イオンを表す。
式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１２のアシル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
＜１１＞ 上記画像記録層が、重合開始剤及び重合性化合物を有する＜２＞又は＜３＞に記載の平版印刷版原版。
＜１２＞ 上記画像記録層が、ポリマー粒子を有する＜２＞、＜３＞又は＜１１＞に記載の平版印刷版原版。
＜１３＞ 分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物をいずれかの層に含む＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１４＞ 上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から１ｃｍ以内の領域に親水化層を有する＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１５＞ ＜１＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
＜１６＞ ＜１＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
本開示の一実施形態によれば、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
裁断装置により裁断された平版印刷版原版の支持体の端部の断面形状の一例を示す模式図である。 スリッター装置の裁断部の一例を示す概念図である。 アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
以下、本開示を詳細に説明する。
（平版印刷版原版）
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有し、上記支持体の少なくとも対向する２辺の端部に、ダレ量Ｘが２５μｍ～１５０μｍ、かつダレ幅Ｙが７０μｍ～３００μｍであるダレ形状を有する。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であり、また、機上現像型平版印刷版原版として好適に用いることができる。
従来の平版印刷版原版である特許文献１～３に記載の平版印刷版原版では、エッジ汚れ抑制性が十分でないことを見出した。
本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供できることを見出した。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含むことにより、発色に必要な色素量が減少するため、疎水性素材量が少量となり、相対的に親水性が高まり、残膜を抑制してエッジ汚れを抑制すると推定している。更に、支持体の端部に特定形状のダレ形状を有することにより、端部とブランケットとの接触によるインキ転写を抑制し、エッジ汚れ抑制性に優れると推定している。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含むことにより、上記発色性化合物より生じた色素のため、発色性、及び、経時発色性にも優れる。また、発色性に優れることにより、露光した平版印刷版原版の検版性にも優れ、また、経時発色性に優れることにより、経時後の露光した平版印刷版原版の検版性にも優れる。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含み、支持体の端部に特定形状のダレ形状を有することにより、詳細なメカニズムは不明であるが、機上現像性、及び、耐薬品性にも優れる。
本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有する。
上記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層は、支持体上のいずれかの層であれば特に制限はないが、画像記録層及び保護層よりなる群から選ばれる少なくとも１層であることが好ましい。機上現像性及び耐薬品性の観点からは、少なくとも画像記録層であることがより好ましい。また、経時発色性の観点からは、少なくとも保護層であることがより好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、経時発色性の観点から、支持体上に、画像記録層を有し、上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有することが好ましく、支持体上に、画像記録層を有し、保護層として、上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有することがより好ましい。
更に、本開示に係る平版印刷版原版は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物をいずれかの層に含むことが好ましく、保護層を有し、かつ分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物を少なくとも保護層に含むことがより好ましい。
＜ダレ形状＞
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体の少なくとも対向する２辺の端部に、ダレ量Ｘが２５μｍ～１５０μｍ、かつダレ幅Ｙが７０μｍ～３００μｍであるダレ形状を有する。
支持体の端部において、支持体の画像記録層側の面の延長線から支持体の厚み方向に曲がった曲面部分の垂直方向の距離Ｘを「ダレ量」、上記曲面部分の支持体の画像記録層側の面と平行な方向の距離Ｙを「ダレ幅」という。
図１は、裁断装置により裁断された、平版印刷版原版の支持体の端部の断面形状の一例である。図１に示すように、支持体の厚み方向に曲がった曲面部分の垂直方向の距離がダレ量Ｘ、上記曲面部分の支持体の画像記録層側の面と平行な方向の距離がダレ幅Ｙである。
平版印刷版原版におけるエッジ汚れは、非画像部から端部に追いやられた印刷インキ成分が、ブランケットに転写して起こるため、端部とブランケットとの接触を避けるため、端部のダレ量を大きくする必要がある。
ダレ量Ｘは、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、３５μｍ～１５０μｍであることが好ましく、５０μｍ～１５０μｍであることがより好ましく、５０μｍ～１００μｍであることが更に好ましい。
ダレ幅Ｙは、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、９０μｍ～３００μｍの範囲であることが好ましく、１５０μｍ～２５０μｍであることがより好ましい。
なお、上記ダレ量Ｘ及びダレ幅Ｙの好ましい範囲は、支持体の裏面のエッジ形状には関わらない。
ダレ形状の形成方法としては、特に制限はなく、公知の裁断方法を用いることができるが、スリッター装置の上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度の調整により作製する方法が好適に挙げられる。
図２は、スリッター装置の裁断部を示す概念図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃２１０、２２０が左右に配置されている。これらの裁断刃２１０、２２０は円板状の丸刃からなり、上側裁断刃２１０ａ及び２１０ｂは回転軸２１１に、下側裁断刃２２０ａ及び２２０ｂは回転軸２２１に、それぞれ同軸上に支持されている。そして、上側裁断刃２１０ａ及び２１０ｂと下側裁断刃２２０ａ及び２２０ｂとは、相反する方向に回転される。アルミニウムの支持体２３０は、上側裁断刃２１０ａ、２１０ｂと下側裁断刃２２０ａ、２２０ｂとの間を通されて所定の幅に裁断される。更に具体的には、図２のスリッター装置の裁断部の上側裁断刃２１０ａと下側裁断刃２２０ａとの隙間、及び、上側裁断刃２１０ｂと下側裁断刃２２０ｂとの隙間を調整することにより、図１に示すようなダレ形状の端部を形成させることができる。
また、上記裁断は、後述するエッジ親水化層を有する部分において、少なくとも裁断することが好ましい。
＜画像記録層＞
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、機上現像性及び耐薬品性の観点から、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含むことが好ましい。
本開示における画像記録層は、ネガ型画像記録層であり、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることが好ましい。
また、本開示における画像記録層は、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことが好ましく、上記発色性化合物以外の赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、本開示における画像記録層は、機上現像型画像記録層であることが好ましい。
以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。
－熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物－
熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物は、化合物自体が直接熱又は赤外線を吸収して開裂する基を有する化合物であってもよいし、例えば、別途含まれる赤外線吸収剤が赤外線を吸収して発生した熱等により開裂する基を有する化合物であってもよい。
また、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物は、上記基の開裂により発色する化合物である。
本開示において、発色とは、加熱又は露光前よりも、加熱又は露光後に強く着色又は吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになることを示す。
中でも、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、分解性赤外線吸収剤であることが好ましく、下記式（Ａ）で表される化合物であることがより好ましい。
式Ａ中、＋ＹＡ１＝は以下の構造：
の１つにより表示され、
ＹＡ２－は以下の構造：
の１つにより表示され、ｎは０、１、２又は３を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、０、１又は２を表し、ＲＡ１及びＲＡ２はそれぞれ独立に、炭化水素基を表すか、ＲＡ１、ＲＡ２、ＲＡｄ及びＲＡａのうちの２つは一緒になって環式構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡｄの少なくとも１つは赤外線照射又は熱への露出により誘発される化学反応により上記ＲＡｄより強い電子供与体である基に転換される基を表すか、又は、ＲＡａの少なくとも１つは赤外線照射又は熱への露出により誘発される化学反応により上記ＲＡａより強い電子供与体である基に転換される基を表し、他のＲＡｄ及びＲＡａはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－ＲＡｅ、－ＯＲＡｆ、－ＳＲＡｇ及び－ＮＲＡｕＲＡｖよりなる群から選ばれる基を表し、ＲＡｅ、ＲＡｆ、ＲＡｇ、ＲＡｕ及びＲＡｖはそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、上記転換は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの間の光吸収の増加を与える転換である。
また、ＲＡ１及びＲＡ２における炭化水素基、並びに、ＲＡｅ、ＲＡｆ、ＲＡｇ、ＲＡｕ及びＲＡｖにおける脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。
また、化学反応により転換される上記ＲＡｄは、以下に示すいずれかの基であることが好ましい。
上記式中、Ａａ、Ａｂ、Ａｃ及びＡｄはそれぞれ独立に、０又は１を表し、－ＬＡ－は結合基を表し、ＲＡ１７が水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、ＲＡ１７及びＲＡ３、ＲＡ１７及びＲＡ５、又は、ＲＡ１７及びＲＡ１１が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡ４は、－ＯＲＡ１０、－ＮＲＡ１３ＲＡ１４又は－ＣＦ３であり、ＲＡ１０は、場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基又はα－分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を表し、ＲＡ１３及びＲＡ１４はそれぞれ独立に、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、ＲＡ１３及びＲＡ１４が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡ３は、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基であり、あるいは、ＲＡ３がＲＡ１０、ＲＡ１３及びＲＡ１４の少なくとも１つと一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡ６は場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基、－ＯＲＡ１０、－ＮＲＡ１３ＲＡ１４又は－ＣＦ３を表し、ここでＲＡ１０、ＲＡ１３及びＲＡ１４がＲＡ４におけるものと同じ意味を有し、ＲＡ５は、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、ＲＡ５がＲＡ１０、ＲＡ１３及びＲＡ１４の少なくとも１つと一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡ１１、ＲＡ１５及びＲＡ１６はそれぞれ独立に、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、ＲＡ１５及びＲＡ１６が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、ＲＡ１２が場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表し、ＲＡ７及びＲＡ９はそれぞれ独立に、水素原子又は場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を表し、ＲＡ８が－ＣＯＯ－又は－ＣＯＯＲＡ８’を表し、ここでＲＡ８’が水素原子、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン又はモノ－、ジ－、トリ－若しくはテトラアルキルアンモニウムイオンを表し、ＲＡ１８が場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基又はα－分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を表す。
また、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、下記式（１）で表される化合物であることが特に好ましい。
式（１）中、Ｍ１は熱又は赤外線露光により開裂する基であり、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ２及びＲ３は互いに連結して環を形成してもよく、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基を表し、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ６～Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
上記式（１）で表される化合物は、熱又は赤外線の露光により分解し、５００ｎｍ～６００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
また、式（１）で表される化合物の発色機構は、熱又は赤外線の露光により、Ｍ１が開裂することにより発色する。例えば、Ｍ１が後述するＲ１－Ｏ－である場合、下記に示すように、開裂した上記酸素原子がカルボニル基を形成し、発色体であるメロシアニン色素が生成し発色するものと、本発明者等は推定している。
また、メロシアニン色素が生成するには、熱又は赤外線露光により結合が開裂するＲ１とシアニン色素構造とが酸素原子を介して結合していることが重要であると本発明者等は推定している。
式（１）におけるＭ１の好ましい態様については、後述する。
また、Ｒ２～Ｒ９、Ｒ０、Ａｒ１及びＡｒ２は、後述する親水性基等の置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホン酸基、ホスホネート基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。また、上記基が、アニオン性基である場合、塩を形成していてもよく、対カチオンは、シアニン色素構造のカチオンであっても、プロトン、金属カチオン、オニウム等であってもよい。
式（１）におけるＲ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基は、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、２－ノルボルニル基を挙げられる。
これらアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が特に好ましい。
Ｒ０におけるアリール基としては、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。
また、上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ－トリル基、ｐ－クロロフェニル基、ｐ－フルオロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ｐ－ジメチルアミノフェニル基、ｐ－メチルチオフェニル基、ｐ－フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基の中で、フェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ｐ－ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基が好ましい。
Ｒ２及びＲ３は、連結して環を形成していることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３が連結して環を形成する場合、環員数は５又は６員環が好ましく、６員環がより好ましい。
Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基を表し、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基が好ましく、ジアルキルメチレン基がより好ましい。
Ｒ０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。
Ｒ４及びＲ５は、同じ基であることが好ましい。また、Ｒ４及びＲ５がアニオン性基を有する場合、Ｒ４及びＲ５は、アニオン性基を有し、かつ対カチオンを有するか又は有しないか以外は同じ基であることが好ましい。
また、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、直鎖アルキル基又は末端にスルホネート基を有するアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基又は末端にスルホネート基を有するブチル基であることがより好ましい。
また、上記スルホネート基の対カチオンは、式（１）中の第四級アンモニウム基であってもよいし、アルカリ金属カチオンやアルカリ土類金属カチオンであってもよい。
更に、式（１）で表される化合物の水溶性を向上させる観点から、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、アニオン構造を有するアルキル基であることが好ましく、カルボキシレート基又はスルホネート基を有するアルキル基であることがより好ましく、末端にスルホネート基を注するアルキル基であることが更に好ましい。
また、式（１）で表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、芳香環を有するアルキル基であることが好ましく、末端に芳香環を有するアルキル基であることがより好ましく、２－フェニルエチル基、２－ナフタレニルエチル基、又は、２－（９－アントラセニル）エチル基であることが特に好ましい。
Ｒ６～Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子であることが好ましい。
Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。上記ベンゼン環及びナフタレン環上には、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基であることが好ましい。
また、式（１）で表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ナフタレン環、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることが好ましく、ナフタレン環、又は、アルコキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることがより好ましく、ナフタレン環、又は、メトキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることが特に好ましい。
Ｚａは、電荷を中和する対イオンを表し、アニオン種を示す場合は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ヘキサフルオロホスフェートイオンが特に好ましい。カチオン種を示す場合は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンが更に好ましい。
Ｒ１～Ｒ９、Ｒ０、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｙ１及びＹ２は、アニオン構造やカチオン構造を有していてもよく、Ｒ１～Ｒ９、Ｒ０、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｙ１及びＹ２の全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンであるが、例えば、Ｒ１～Ｒ９、Ｒ０、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｙ１及びＹ２に２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
式（１）において、Ａｒ１又はＡｒ２が、下記式（８）で表される基を形成する基であることが好ましい。
式（８）中、Ｒ１９は炭素数１～１２のアルキル基又は後述する式（２）～（４）で表される基を表し、ｎ３は１～４の整数を表し、＊は結合部位を表す。
エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、上記式（１）で表される化合物におけるＲ４、Ｒ５、Ｍ１、Ａｒ１及びＡｒ２よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基が、親水性基を有することが好ましく、Ｒ４、Ｒ５及びＭ１よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基が、親水性基を有することがより好ましく、Ｒ４及びＲ５よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基が、親水性基を有することが更に好ましく、Ｒ４及びＲ５がそれぞれ独立に、親水性基を有することが特に好ましい。
親水性基としては、ポリアルキレンオキシ基、酸基、酸基の塩、アルコキシ基、ヒドロキシ基等が挙げられる。
中でも、上記親水性基は、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、下記式（２）～式（５）のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式（２）又は式（５）のいずれかで表される基であることがより好ましく、下記式（２）で表される基であることが特に好ましい。
式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１２のアシル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
Ｒ１０で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又は、ｎ－ブチレン基が好ましく、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
ｎ１は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。
Ｒ１１で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、又は、ｔｅｒｔ－ブチル基が好ましく、メチル基、又は、エチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｒ１１におけるアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基等が挙げられる。中でも、アセチル基が好ましい。
式（２）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。
式（３）又は式（４）において、Ｒ１２又はＲ１３で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又は、ｎ－ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
式（３）又は式（４）で表される基が、式（１）で表される化合物のＡｒ１又はＡｒ２で表される基中に存在する場合、Ｒ１２又はＲ１３は単結合が好ましい。
式（３）又は式（４）で表される基が、式（１）で表される化合物のＭ１中に存在する場合あるいはＲ４又はＲ５で表される基として存在する場合、Ｒ１２又はＲ１３はアルキレン基が好ましい。
式（４）において、２つ存在するＭは同じでも異なってもよい。
式（３）又は式（４）において、Ｍで表されるオニウム基の具体例としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。
アンモニウム基は、下記式（Ａ１）で表される基を含む。
式（Ａ１）中、Ｒａ～Ｒｄはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数２０以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基若しくはアルキニル基を表す。アリール基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルケニル基、炭素数１～１２のアルキニル基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキルアミノ基、炭素数２～１２のジアルキルアミノ基、炭素数２～１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１～１２のチオアルキル基、炭素数６～１２のチオアリール基、ヒドロキシ基が挙げられる。Ｒａ～Ｒｄとしては、水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６のアリール基が好ましい。
アンモニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。
ヨードニウム基は、下記式（Ｂ１）で表される基を含む。
式（Ｂ１）中、Ｒｅ～Ｒｆはそれぞれ独立に、上記式（Ａ１）におけるＲａ～Ｒｄと同義である。好ましいＲｅ～Ｒｆの例としては、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。
ヨードニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
ホスホニウム基は、下記式（Ｃ１）で表される基を含む。
式（Ｃ１）中、Ｒｇ～Ｒｊはそれぞれ独立に、上記式（Ａ１）におけるＲａ～Ｒｄと同義である。好ましいＲｇ～Ｒｊの例としては、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。
ホスホニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
スルホニウム基は、下記式（Ｄ１）で表される基を含む。
式（Ｄ１）中、Ｒｋ～Ｒｍはそれぞれ独立に、上記式（Ａ１）におけるＲａ～Ｒｄと同義である。好ましい例としては、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。好ましいＲｋ～Ｒｍの例としては、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。
スルホニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
上記オニウム基の中で、アンモニウム基が好ましい。
式（１）で表される化合物中に、オニウム基を含む場合には、Ｍは上記オニウム基であってもよい。
上記オニウム基は、分子内オニウム塩として存在してもよい。
式（３）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。
式（４）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。
式（５）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、＊は結合部位を表す。
式（２）～式（５）のいずれかで表される基は、式（１）で表される化合物中に１つ以上存在すればよい。式（２）～式（５）のいずれかで表される基の数の上限は、５が好ましい。式（２）～式（５）のいずれかで表される基の数は、好ましくは１～５、より好ましくは２～３である。
式（２）～式（５）のいずれかで表される基は、式（１）で表される化合物中Ｒ４又はＲ５で表される基として存在してもよいし、Ｍ１、Ａｒ１又はＡｒ２で表される基中に存在してもよい。
式（２）～式（５）のいずれかで表される基は、Ｒ４及びＲ５であることが特に好ましい。また、式（２）～式（５）のいずれかで表される基は、Ａｒ１及びＡｒ２で表される基中に存在することが好ましい。
上記式（１）におけるＭ１は、エッジ汚れ抑制性、発色性、及び、経時発色性の観点から、－ＮＲａＲｂ、－ＮＲｃ（ＳＯ２Ｒｄ）又は－ＮＲｅ（ＣＯ２Ｒｆ）であることが好ましい。
ただし、Ｒａ及びＲｂはそれぞれ独立に、アリール基を表し、Ｒｃ、Ｒｅ及びＲｆはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｄは、アルキル基、アリール基、又は、－ＮＲｄ１Ｒｄ２を表し、Ｒｄ１及びＲｄ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒｃ～Ｒｆ、Ｒｄ１及びＲｄ２におけるアルキル基は、炭素数１～２０のアルキル基であることが好ましい。
また、Ｒａ～Ｒｆ、Ｒｄ１及びＲｄ２におけるアリール基は、炭素数６～２０のアリール基であることが好ましい。
Ｒａ～Ｒｆ、Ｒｄ１及びＲｄ２におけるアルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホン酸基、ホスホネート基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。また、上記基が、アニオン性基である場合、塩を形成していてもよく、対カチオンは、シアニン色素構造のカチオンであっても、プロトン、金属カチオン、オニウム等であってもよい。
また、上記式（１）におけるＭ１は、エッジ汚れ抑制性、発色性、及び、経時発色性の観点から、－Ｏ－Ｒ１であることが好ましい。
ただし、Ｒ１は、熱又は赤外線露光によりＲ１－Ｏ結合が開裂する基を表す。
発色性の観点から、Ｒ１は、下記式１－１～式１－７のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式１－１～式１－３のいずれかで表される基であることがより好ましい。
式１－１～式１－７中、●は、酸素原子との結合部位を表し、Ｒ２０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、－ＯＲ２４、－ＮＲ２５Ｒ２６又は－ＳＲ２７を表し、Ｒ２１はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２２はアリール基、－ＯＲ２４、－ＮＲ２５Ｒ２６、－ＳＲ２７、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２８、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ２８又はハロゲン原子を表し、Ｒ２３はアリール基、アルケニル基、アルコキシ基又はオニウム基を表し、Ｒ２４～Ｒ２７はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２８はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、－ＯＲ２４、－ＮＲ２５Ｒ２６又は－ＳＲ２７を表し、Ｚ１は電荷を中和する対イオンを表す。
Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２４～Ｒ２８がアルキル基である場合の好ましい態様は、Ｒ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
Ｒ２０及びＲ２３におけるアルケニル基の炭素数は、１～３０であることが好ましく、１～１５であることがより好ましく、１～１０であることが更に好ましい。
Ｒ２０～Ｒ２８がアリール基である場合の好ましい態様は、Ｒ０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。
発色性の観点から、式１－１におけるＲ２０は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、－ＯＲ２４、－ＮＲ２５Ｒ２６又は－ＳＲ２７であることが好ましく、アルキル基、－ＯＲ２４、－ＮＲ２５Ｒ２６又は－ＳＲ２７であることがより好ましく、アルキル基又は－ＯＲ２４であることが更に好ましく、－ＯＲ２４であることが特に好ましい。
また、式１－１におけるＲ２０がアルキル基である場合、上記アルキル基は、α位にアリールチオ基又はアルキルオキシカルボニル基を有するアルキル基であることが好ましい。
式１－１におけるＲ２０が－ＯＲ２４である場合、Ｒ２４は、アルキル基であることが好ましく、炭素数１～８のアルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基又はｔ－ブチル基であることが更に好ましく、ｔ－ブチル基であることが特に好ましい。
発色性の観点から、式１－２におけるＲ２１は、水素原子であることが好ましい。
また、発色性の観点から、式１－２におけるＲ２２は、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ２４又はハロゲン原子であることが好ましく、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２４又は－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ２４であることがより好ましい。式１－２におけるＲ２２が－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２４又は－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ２４である場合、Ｒ２４は、アルキル基であることが好ましい。
発色性の観点から、式１－３におけるＲ２１はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、また、式１－３における少なくとも１つのＲ１１が、アルキル基であることがより好ましい。
また、Ｒ２１におけるアルキル基は、炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０のアルキル基であることがより好ましい。
更に、Ｒ２１におけるアルキル基は、環構造を含む分岐を有するアルキル基であることが好ましく、第二級又は第三級アルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は、ｔ－ブチル基であることが更に好ましい。
また、発色性の観点から、式１－３におけるＲ２３は、アリール基、アルコキシ基又はオニウム基であることが好ましく、ｐ－ジメチルアミノフェニル基又はピリジニウム基であることがより好ましく、ピリジニウム基であることが更に好ましい。
Ｒ２３におけるオニウム基としては、ピリジニウム基、アンモニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。オニウム基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基、アリール基及びこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
中でも、ピリジニウム基が好ましく、Ｎ－アルキル－３－ピリジニウム基、Ｎ－ベンジル－３－ピリジニウム基、Ｎ－（アルコキシポリアルキレンオキシアルキル）－３－ピリジニウム基、Ｎ－アルコキシカルボニルメチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－アルキル－４－ピリジニウム基、Ｎ－ベンジル－４－ピリジニウム基、Ｎ－（アルコキシポリアルキレンオキシアルキル）－４－ピリジニウム基、Ｎ－アルコキシカルボニルメチル－４－ピリジニウム基、又は、Ｎ－アルキル－３，５－ジメチル－４－ピリジニウム基がより好ましく、Ｎ－アルキル－３－ピリジニウム基、又は、Ｎ－アルキル－４－ピリジニウム基が更に好ましく、Ｎ－メチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－オクチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－メチル－４－ピリジニウム基、又は、Ｎ－オクチル－４－ピリジニウム基が特に好ましく、Ｎ－オクチル－３－ピリジニウム基、又は、Ｎ－オクチル－４－ピリジニウム基が最も好ましい。
また、Ｒ２３がピリジニウム基である場合、対アニオンとしては、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ｐ－トルエンスルホネートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。
発色性の観点から、式１－４におけるＲ２０は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、２つのＲ２０のうち、一方がアルキル基、他方がアリール基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式１－５におけるＲ２０は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、ｐ－メチルフェニル基であることが更に好ましい。
発色性の観点から、式１－６におけるＲ２０はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式１－７におけるＺ１は、電荷を中和する対イオンであればよく、化合物全体として、上記Ｚａに含まれてもよい。
Ｚ１は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は、過塩素酸塩イオンであることが好ましく、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンであることがより好ましい。
発色性の観点から、更に好ましくは、Ｒ１は下記式（６）で表される基である。
式（６）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｅはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。
Ｒ１５又はＲ１６で表されるアルキル基は、Ｒ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基と同様であり、好ましい態様もＲ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
Ｒ１５又はＲ１６で表されるアリール基は、Ｒ０におけるアリール基と同様であり、好ましい態様も、Ｒ０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。
Ｅで表されるオニウム基は、Ｒ２３におけるオニウム基と同様であり、好ましい態様もＲ２３におけるオニウム基の好ましい態様と同様である。
上記式（６）におけるＥは、発色性の観点から、下記式（７）で表されるピリジニウム基であることが好ましい。
式（７）中、Ｒ１７はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ１７が複数存在する場合、複数のＲ１７は同じでも異なってもよく、あるいは複数のＲ１７が連結して環を形成してもよく、ｎ２は０～４の整数を表すし、Ｒ１８はアルキル基、アリール基又は下記式（２）～式（５）で表される基を表し、Ｚｂは電荷を中和するための対イオンを表す。
式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
Ｒ１７又はＲ１８で表されるアルキル基又はアリール基は、Ｒ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基又はＲ０におけるアリール基と同様であり、好ましい態様もＲ２～Ｒ９及びＲ０におけるアルキル基又はＲ０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。
Ｒ１７で表されるアルコキシ基は、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基等が挙げられる。
ｎ２は、好ましくは、０である。
Ｚｂで表される電荷を中和するための対イオンは、式（１－７）におけるＺ１と同様であり、好ましい態様も式（１－７）におけるＺ１の好ましい態様と同様である。
また、式（７）のＲ１８における式（２）～式（５）で表される基は、上述した式（２）～式（５）で表される基と同義であり、好ましい態様も同様である。
以下にＲ１の好ましい例を挙げるが、本開示はこれに限定されるものではない。なお、ＴｓＯ－は、トシレートアニオンを表し、●は、酸素原子との結合部位を表す。
上記発色性化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、ＴｓＯ－は、トシレートアニオンを表す。
上記発色性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
上記画像記録層において、上記発色性化合物は、任意な量で含有させることができるが、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、画像記録層の全質量に対し上記発色性化合物の含有量が、０．１質量％～９５質量％であることが好ましく、１質量％～７５質量％であることがより好ましく、１質量％～５０質量％であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層における上記発色性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、１０ｍｇ／ｍ２～８０ｍｇ／ｍ２であることがより好ましく、２０ｍｇ／ｍ２～６０ｍｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
上記発色性化合物の作製方法としては、特に制限はなく、公知の方法により作製することができる。
例えば、上記式（１）で表される化合物は、合成スキームとして下記に示す合成法に準じて得ることができる。
例えば、上記式１－１、式１－５又は式１－６のいずれかで表される基を導入する方法としては、下記式Ｓ１～式Ｓ３で表される合成スキームが好適に挙げられ、上記式１－２～式１－４のいずれかで表される基を導入する方法としては、下記式Ｓ４で表される合成スキームが好適に挙げられる。
なお、ＤＭＡＰは、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ－４－ピリジンを表し、ＡｃＯＮａは、酢酸ナトリウムを表し、ＮＥｔ３は、トリエチルアミンを表し、catecolは、カテコールである。また、Ｒは、式１－１～式１－７における各部分に対応する基を表す。
－分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物－
上記画像記録層は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、支持体吸着性を有し、分子量が１，０００以下であり、分子中にエチレン性不飽和基を有さない化合物（「分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物」、又は、「支持体吸着性化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
ここで、「支持体吸着性」とは、支持体が有する陽極酸化皮膜に対する吸着性を意味する。陽極酸化皮膜に対する吸着性の有無は、以下の方法により、容易に判定することができる。
即ち、試験化合物を易溶性溶媒（例えば、水）に溶解した溶液を調製する。この溶液を乾燥後の塗布量が３０ｍｇ／ｍ２となるように陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に塗布し乾燥させる。次に試験化合物を塗布したアルミニウム支持体を、上記易溶性溶媒を用いて洗浄と乾燥を５回繰り返した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定する。残存量の測定は、残存する試験化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量してもよい。試験化合物の定量は、例えば蛍光Ｘ線測定、反射分光吸光度測定などで実施することができる。
残存量が、１ｍｇ／ｍ２以上であれば、試験化合物は、支持体吸着性を有すると判定される。
支持体吸着性化合物は、アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基を有することが好ましい。アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基としては、陽極酸化皮膜の表面に存在する物質（例えば、金属、金属酸化物）又は官能基（例えば、ヒドロキシ基）と、化学結合（例えば、イオン結合、水素結合、配位結合）を形成することができる官能基が挙げられる。このような官能基の中で、酸基が好ましい。酸基は、酸解離定数（ｐＫａ）が７以下であることが好ましい。酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＳＯ３Ｈ、－ＰＯ３Ｈ２、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－、－ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３などが挙げられる。特に、－ＯＰＯ３Ｈ２及び－ＰＯ３Ｈ２が好ましい。酸基は、塩を形成していてもよい。酸基が形成する塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。
支持体吸着性化合物の分子量は、１，０００以下である。分子量が１，０００以下であることにより、機上現像時に陽極酸化皮膜の表面に移動しやすく、優れたエッジ汚れ防止効果が得られる。分子量は、好ましくは５０～１，０００、より好ましくは５０～８００、更に好ましくは５０～６００である。
支持体吸着性化合物は、分子中にエチレン性不飽和基を有さない。エチレン性不飽和基とは、重合性を有する基であり、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などの基を包含する。支持体吸着性化合物が、分子中にエチレン性不飽和基を有さないことにより、露光で特定低分子化合物が画像記録層とともに硬化することを抑制できる。
支持体吸着性化合物としては、オキソ酸を用いることができる。オキソ酸は、同じ原子にヒドロキシ基（－ＯＨ）とオキソ基（＝Ｏ）が結合しており、且つそのヒドロキシ基が酸性プロトンを与える化合物を指す。
支持体吸着性化合物としては、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ｉ－プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、２－ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、２－ヒドロキシエチルホスホン酸メチルなどのアルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、クエン酸などが挙げられる。
支持体吸着性化合物としては、下記式（Ｂ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｂ）中、ｎＢは、２～１０の整数を表し、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。
式（Ｂ）におけるアルキル基は、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のアルキル基が更に好ましい。
式（Ｂ）におけるアルキレンオキシド基は、炭素数２又は３のアルキレンオキシド単位を１～１０個有するアルキレンオキシド基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレンオキシド単位を１～５個有するアルキレンオキシド基がより好ましく、炭素数２又は３のアルキレンオキシド単位を１～３個有するアルキレンオキシド基が更に好ましい。
支持体吸着性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、リン酸、ポリリン酸、ホスホン酸又はホスフィン酸が特に好ましい。
また、支持体吸着性化合物は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、２つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシ酸化合物（以下、「特定ヒドロキシ酸化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
特定ヒドロキシ酸化合物は、２つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸及びその塩を包含する。塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
２つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸におけるヒドロキシ基の数は、２～１５が好ましく、３～１０がより好ましく、４～７が更に好ましい。
２つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸におけるカルボキシ基の数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。
特定ヒドロキシ酸化合物は高い親水性を有することがエッジ汚れ防止の観点で好ましい。特定ヒドロキシ酸化合物の親水性は、一般に化合物の親水性を表す指標として知られているＣｌｏｇＰ値を用いて表すことができる。特定ヒドロキシ酸化合物はＣｌｏｇＰ値が０．５以下であることが好ましく、－１以下であることがより好ましく、－３以下であることが更に好ましい。また、特定ヒドロキシ酸化合物のＣｌｏｇＰ値は、端部領域における画像形成性の観点からは、－１０以上が好ましく、－７以上がより好ましく、－５以上が更に好ましい。
ここで、特定ヒドロキシ酸化合物のＣｌｏｇＰ値は分子構造式エディタソフト「ＣｈｅｍＤｒａｗ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ ２０１６」により分子構造から算出された数値である。
特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は１，０００以下が好ましい。分子量が１，０００以下であることにより、特定ヒドロキシ酸化合物が機上現像時に陽極酸化皮膜の表面に容易に移動し、エッジ汚れ防止に有効に寄与することができる。特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は８０～１，０００がより好ましく、１００～５００が更に好ましく、１００～３００が特に好ましい。
特定ヒドロキシ酸化合物としては、グリセリン酸、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、パントイン酸、キナ酸、シキミ酸、没食子酸、コーヒー酸、２，３－ジヒドロキシ安息香酸、２，４－ジヒドロキシ安息香酸、２，５－ジヒドロキシ安息香酸、２，６－ジヒドロキシ安息香酸、３，４－ジヒドロキシ安息香酸、３，５－ジヒドロキシ安息香酸、２，３，４－トリヒドロキシ安息香酸、３，４，５－トリヒドロキシ安息香酸、グルコン酸ナトリウム、グルコン酸カリウム、酒石酸ナトリウム、没食子酸ナトリウムなどが挙げられる。
特定ヒドロキシ酸化合物としては、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、キナ酸、グルコン酸Ｎａ、グルコン酸Ｋ、又は、酒石酸Ｎａが好ましく、グルコン酸、グルコン酸Ｎａ、又は、グルコン酸Ｋがより好ましく、グルコン酸が特に好ましい。
支持体吸着性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
画像記録層における支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、１０ｍｇ／ｍ２～１５０ｍｇ／ｍ２が好ましく、３０ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２がより好ましく、５０ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２が特に好ましい。
また、支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、画像記録層の全質量に対して、０．５質量％～２０質量％が好ましく、１質量％～１５質量％がより好ましく、２質量％～１０質量％が更に好ましい。
－重合性化合物－
上記画像記録層は、重合性化合物を含むことが好ましい。
本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表２００６－５０８３８０号公報、特開２００２－２８７３４４号公報、特開２００８－２５６８５０号公報、特開２００１－３４２２２２号公報、特開平９－１７９２９６号公報、特開平９－１７９２９７号公報、特開平９－１７９２９８号公報、特開２００４－２９４９３５号公報、特開２００６－２４３４９３号公報、特開２００２－２７５１２９号公報、特開２００３－６４１３０号公報、特開２００３－２８０１８７号公報、特開平１０－３３３３２１号公報等に記載されている。
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｍ）で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（ＲＭ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＲＭ５）ＯＨ （Ｍ）
式（Ｍ）中、ＲＭ４及びＲＭ５はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
また、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報、特開２００３－３４４９９７号公報、特開２００６－６５２１０号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報、特開２０００－２５０２１１号公報、特開２００７－９４１３８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第７１５３６３２号明細書、特表平８－５０５９５８号公報、特開２００７－２９３２２１号公報、特開２００７－２９３２２３号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。
重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
－重合開始剤－
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤を含むことが好ましく、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
＜＜電子受容型重合開始剤＞＞
上記画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型ラジカル重合開始剤としては、例えば、（ａ）有機ハロゲン化物、（ｂ）カルボニル化合物、（ｃ）アゾ化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）メタロセン化合物、（ｆ）アジド化合物、（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）ジスルホン化合物、（ｊ）オキシムエステル化合物、及び、（ｋ）オニウム塩化合物が挙げられる。
（ａ）有機ハロゲン化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２２～００２３に記載の化合物が好ましい。
（ｂ）カルボニル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２４に記載の化合物が好ましい。
（ｃ）アゾ化合物としては、例えば、特開平８－１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
（ｄ）有機過酸化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２５に記載の化合物が好ましい。
（ｅ）メタロセン化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２６に記載の化合物が好ましい。
（ｆ）アジド化合物としては、例えば、２，６－ビス（４－アジドベンジリデン）－４－メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２７に記載の化合物が好ましい。
（ｉ）ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭６１－１６６５４４号、特開２００２－３２８４６５号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
（ｊ）オキシムエステル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２８～００３０に記載の化合物が好ましい。
上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が４以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）－４－メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝３，５－ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリス（２，４－ジクロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ｐ－トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
上記の中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、それぞれ表す。
電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、感度の向上の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
また、下限としては、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．６０ｅＶ以上であることがより好ましい。
電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
＜＜電子供与型重合開始剤（重合助剤）＞＞
上記画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤（「重合助剤」ともいう。）を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
本開示における電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
上記画像記録層は、平版印刷版における耐刷性向上の観点から、以下に説明する電子供与型重合開始剤を含有することがより好ましく、その例として以下の５種が挙げられる。
（i）アルキル又はアリールアート錯体：酸化的に炭素－ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
（ii）Ｎ－アリールアルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ－Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、Ｎ－フェニルグリシン類（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）、Ｎ－フェニルイミノジ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iii）含硫黄化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iv）含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
（v）スルフィン酸塩類：酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
これらの中でも、上記画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。
以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－９を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。
また、本開示に用いられる電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、感度の向上の観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。
電子供与型重合開始剤は、１種のみを含有しても、２種以上を併用してもよい。
電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～２５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～２０質量％であることが更に好ましい。
本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
－電子供与型重合開始剤と赤外線吸収剤との関係－
本開示における画像記録層は、感度の向上の観点から、上記電子供与型重合開始剤及び後述する赤外線吸収剤を含有し、赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が０．７０ｅＶ以下であることが好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。
－赤外線吸収剤及び電子受容型重合開始剤の好ましい態様－
また、後述する赤外線吸収剤としては、感度の向上の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
本開示における電子受容型重合開始剤としては、感度の向上の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
ここで、本開示におけるハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄ、δｐ及びδｈは、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）の溶解度パラメータにおける分散項δｄ［単位：ＭＰａ０．５］及び極性項δｐ［単位：ＭＰａ０．５］を用いる。ここで、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）の溶解度パラメータは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）によって導入された溶解度パラメータを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものである。
ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）の溶解度パラメータの詳細については、Ｃｈａｒｌｅｓ Ｍ．Ｈａｎｓｅｎ著の文献「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ；Ａ Ｕｓｅｒｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ，２００７）」に記載されている。
本開示において、上記有機アニオンのハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄ、δｐ及びδｈは、コンピュータソフトウェア「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｉｎ Ｐｒａｃｔｉｃｅ（ＨＳＰｉＰ ｖｅｒ．４．１．０７）」を用いることにより、その化学構造から推算した値である。
ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンの具体例としては、上述したＩ－１～Ｉ－１５、Ｉ－１７～Ｉ－２１、及び、Ｉ－２３～Ｉ－２５、並びに、以下に示すものが好適に挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。中でも、ビス（ハロゲン置換ベンゼンスルホニル）イミドアニオンがより好適に挙げられ、上述したＩ－５が特に好適に挙げられる。
－粒子－
上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。
粒子としては、有機粒子であっても、無機粒子であってもよいが、ＵＶ耐刷性の観点から、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子であることが好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９－１２３３８７号公報、同９－１３１８５０号公報、同９－１７１２４９号公報、同９－１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は０．０１μｍ～３．０μｍが好ましい。
熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものが挙げられる。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。
また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性水酸基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。
分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落００３２～００９５に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ペンダントシアノ基の例としては、－［ＣＨ２ＣＨ（Ｃ≡Ｎ）－］又は－［ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ≡Ｎ）－］が好ましく挙げられる。
また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、１０～１００であることが好ましく、２５～７５であることがより好ましく、４０～５０であることが更に好ましい。
疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表２００８－５０３３６５号公報の段落００３９～００６８に記載のものが好ましく挙げられる。
また、上記ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン／プロピレンオキシド構造がより好ましい。
また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、シアノ基を有する構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことが好ましく、下記式（ＡＮ）で表される構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことがより好ましく、下記式Ｚで表される基を含むことが特に好ましい。
＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
式（ＡＮ）中、ＲＡＮは、水素原子又はメチル基を表す。
上記ポリマー粒子に含まれるポリマーは、ＵＶ耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物（モノマー）を用いて、シアノ基を含む構成単位として導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位、すなわち、上記式（ＡＮ）で表される構成単位がより好ましい。
上記ポリマーが、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーを含む場合、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーにおけるシアノ基を有する構成単位、好ましくは上記式（ＡＮ）で表される構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、３０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
上記ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、１－ビニルナフタレン、メチル－１－ビニルナフタレン、β－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メトキシ－１－ビニルナフタレン等が挙げられ、１－ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｚ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
式Ｚ１中、ＲＺ１及びＲＺ２はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａｒは芳香環基を表し、ＲＺ３は置換基を表し、ｎｚは０以上Ａｒの最大置換基数以下の整数を表す。
式Ｚ１中、ＲＺ１及びＲＺ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式Ｚ１中、Ａｒはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式Ｚ１中、ＲＺ３はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式Ｚ１中、ＲＺ３が複数存在する場合、複数のＲＺ３は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式Ｚ１中、ｎｚは０～２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
上記ポリマー粒子は、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
上記ポリマー粒子において、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記ポリマー粒子の全質量に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１５質量％であることがより好ましく、１質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
また、ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性の観点から、架橋構造を有することが好ましく、架橋構造を有する構成単位を含むことがより好ましい。
ポリマー粒子が架橋構造を有することにより、ポリマー粒子自体の硬度が向上するため、画像部強度が向上し、他のインキよりも版を劣化させやすい紫外線硬化型インキを使用した場合であっても、耐刷性（ＵＶ耐刷性）が更に向上すると考えられる。
上記架橋構造としては、特に制限はないが、多官能エチレン性不飽和化合物を重合してなる構成単位、又は１種以上の反応性基同士が粒子内部で共有結合を形成した構成単位であることが好ましい。上記多官能エチレン性不飽和化合物の官能数としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、２～１５であることが好ましく、３～１０であることがより好ましく、４～１０であることが更に好ましく、５～１０であることが特に好ましい。
また、上記を言い換えると、上記架橋構造を有する構成単位は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、２官能性～１５官能性分岐単位であることが好ましい。
なお、ｎ官能性分岐単位とは、ｎ本の分子鎖が出ている分岐単位のことをいい、言い換えると、ｎ官能性分岐点（架橋構造）を有する構成単位のことである。
また、多官能メルカプト化合物により架橋構造を形成することも好ましく挙げられる。
上記多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、芳香族ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。
また、上記多官能エチレン性不飽和化合物は、多官能（メタ）アクリレート化合物、又は多官能（メタ）アクリルアミド化合物、又は、多官能芳香族ビニル化合物であることが好ましい。
多官能（メタ）アクリレート化合物としては、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（β－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリアクリレート等が挙げられる。
多官能（メタ）アクリレート化合物としては、Ｎ，Ｎ’－メチレンビスアクリルアミド、Ｎ－［トリス（３－アクリルアミドプロポキシメチル）メチル］アクリルアミド等が挙げられる。
多官能芳香族ビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
上記分岐単位の炭素数としては、特に制限はないが、８～１００であることが好ましく、８～７０であることがより好ましい。
上記ポリマー粒子は、架橋構造を有する構成単位を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
上記ポリマー粒子において、架橋構造を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、上記ポリマー粒子の全質量に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１５質量％であることがより好ましく、１質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、上記式Ｚで表される基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。
上記式ＺにおけるＱは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ＺにおけるＱは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
上記式ＺのＷにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２ＮＲＷ－が結合した基であることが好ましい。なお、ＲＷは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ＺのＷにおける疎水性構造を有する二価の基は、－ＲＷＡ－、－Ｏ－ＲＷＡ－Ｏ－、－ＲＷＮ－ＲＷＡ－ＮＲＷ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、ＲＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。
上記式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、－ＯＨ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）－が結合した基であることが好ましい。
上記式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、－ＯＲＷＢ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＷＢ、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＷＢであることが好ましい。ＲＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。
上記式Ｚで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
更に、上記ポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。
また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する樹脂を含むことが好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含むことがより好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。
式（Ｉｓｏ）中、ｎは０～１０の整数を表す。
上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、ｎ＝０、４，４－異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する樹脂が形成される。
また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物（活性水素を有する化合物）を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造をウレア結合を有する樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、上述したミクロゲルにおいて記載したものが好ましく挙げられる。
また、上記ウレア結合を有する樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式（ＰＥＴＡ）で表される基を有することがより好ましい。
式（ＰＥＴＡ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。
上記粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
本開示における上記粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を有する球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
上記画像記録層は、粒子、特にポリマー粒子を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
また、上記画像記録層における粒子、特にポリマー粒子の含有量は、現像性、ＵＶ耐刷性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、２０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、上記画像記録層の分子量３，０００以上の成分の全質量に対し、２０質量％～１００質量％が好ましく、３５質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、８０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
－バインダーポリマー－
上記画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよいが、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、含まないことが好ましい。
上記バインダーポリマーは、上記ポリマー粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないバインダーポリマーである。
上記バインダーポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
中でも、上記バインダーポリマーは、平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう。）について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、当該ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、又は、スチリル基が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。
必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。
本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
上記バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え２０質量％以下であることが好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え１０質量％以下であることがより好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え５質量％以下であることが更に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え２質量％以下であることが特に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないことが最も好ましい。
－赤外線吸収剤－
上記画像記録層は、感度の観点から、上記発色性化合物以外の赤外線吸収剤（単に「赤外線吸収剤」ともいう。）を含んでいてもよい。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。
上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。
シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。
赤外線吸収剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。
－酸発色剤－
上記画像記録層は、酸発色剤を含むことが好ましい。また、酸発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
このような酸発色剤の例としては、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド（“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。）、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１，２－ジメチルインドール－３－イル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－５－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（９－エチルカルバゾール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（２－フェニルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１－メチルピロール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、
３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ピロリジノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラブロモフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ジメチルアミノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ピロリジノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－ジエチルアミノフェニル）フタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアミノフェニル）フタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド等のフタリド類、
４，４－ビス－ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ－ハロフェニル－ロイコオーラミン、Ｎ－２，４，５－トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン－Ｂ－アニリノラクタム、ローダミン－（４－ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン－Ｂ－（４－クロロアニリノ）ラクタム、３，７－ビス（ジエチルアミノ）－１０－ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４ーニトロベンゾイルメチレンブルー、
３，６－ジメトキシフルオラン、３－ジメチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６，７－ジメチルフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－７－メチルフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジベンジルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－オクチルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジ－ｎ－ヘキシルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’，３’－ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、
３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－エトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－モルホリノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジメチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ペンチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－プロピルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ヘキシルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－オクチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、
３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－イソブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－テトラヒドロフルフリル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（４’－メチルフェニル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－エチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（３’－メチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２－ビス〔４’－（３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチルフルオラン）－７－イルアミノフェニル〕プロパン、３－〔４’－（４－フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－〔４’－（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ－５，７－ジメチルフルオラン等のフルオラン類、
３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－ｎ－プロポキシカルボニルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチル－４－ジｎ－ヘキシルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４，７－ジアザフタリド、３，３－ビス（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－４－アザフタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ヘキシルオキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ブトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－メチル－スピロ－ジナフトピラン、３－エチル－スピロ－ジナフトピラン、３－フェニル－スピロ－ジナフトピラン、３－ベンジル－スピロ－ジナフトピラン、３－メチル－ナフト－（３－メトキシベンゾ）スピロピラン、３－プロピル－スピロ－ジベンゾピラン－３，６－ビス（ジメチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド、３，６－ビス（ジエチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、
その他、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－イソペンチル）アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン－３－オン、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、３’－Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ－６’－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、２’－（Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル）アミノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オンなどが挙げられる。
中でも、本開示に用いられる酸発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
また、上記酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、上記ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又は、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（Ｌｅ－２）又は式（Ｌｅ－３）におけるＸ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ１及びＹ２は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ１及びＹ２の両方がＣであることがより好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ１は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることが更に好ましい。
式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、水素原子、又は、メチル基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｘ１～Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１及びＹ２がＣであることが好ましい。
更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。
また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。
また、好適に用いられるロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。
酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
これらの酸発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
酸発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。
－連鎖移動剤－
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点（揮発し難さ）の観点で炭素数７以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物（芳香族チオール化合物）が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。
Figure 0007464691000077
連鎖移動剤は、１種のみを含有しても、２種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％が好ましく、０．０５質量％～４０質量％がより好ましく、０．１質量％～３０質量％が更に好ましい。
－感脂化剤－
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
ホスホニウム化合物としては、特開２００６－２９７９０７号公報及び特開２００７－５０６６０号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、１，４－ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート）、１，７－ビス（トリフェニルホスホニオ）ヘプタン＝スルファート、１，９－ビス（トリフェニルホスホニオ）ノナン＝ナフタレン－２，７－ジスルホナート等が挙げられる。
含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム＝ｐ－トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、特開２００８－２８４８５８号公報の段落００２１～００３７、特開２００９－９０６４５号公報の段落００３０～００５７に記載の化合物等が挙げられる。
アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として５モル％～８０モル％含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開２００９－２０８４５８号公報の段落００８９～０１０５に記載のポリマーが挙げられる。
アンモニウム塩含有ポリマーは、特開２００９－２０８４５８号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度（単位：ｍｌ／ｇ）の値が、５～１２０の範囲のものが好ましく、１０～１１０の範囲のものがより好ましく、１５～１００の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量（Ｍｗ）に換算した場合、１０，０００～１５０，００００が好ましく、１７，０００～１４０，０００がより好ましく、２０，０００～１３０，０００が特に好ましい。
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
（１）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比１０／９０、Ｍｗ４．５万）
（２）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（３）２－（エチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比３０／７０、Ｍｗ４．５万）
（４）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／２－エチルヘキシルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（５）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝メチルスルファート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比４０／６０、Ｍｗ７．０万）
（６）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２５／７５、Ｍｗ６．５万）
（７）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルアクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．５万）
（８）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝１３－エチル－５，８，１１－トリオキサ－１－ヘプタデカンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ７．５万）
（９）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート／２－ヒドロキシ－３－メタクリロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体（モル比１５／８０／５、Ｍｗ６．５万）
感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．０１質量％～３０．０質量％が好ましく、０．１質量％～１５．０質量％がより好ましく、１質量％～１０質量％が更に好ましい。
－その他の成分－
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開２００８－２８４８１７号公報の段落０１１４～０１５９の記載を参照することができる。
－画像記録層の形成－
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１～５０質量％程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
＜支持体＞
本開示に係る平版印刷版原版における支持体は、公知の平版印刷版原版用親水性支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、アルミニウム支持体が好ましい。
アルミニウム支持体としては、親水性表面を有するアルミニウム支持体（以下、「親水性アルミニウム支持体」ともいう。）が好ましい。
また、支持体としては、親水性支持体が好ましく挙げられる。
本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、１１０°以下であることが好ましく、９０°以下であることがより好ましく、８０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることがより更に好ましく、３０°以下であることが特に好ましく、２０°以下であることがより特に好ましく、１０°以下であることが最も好ましい。
本開示において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を画像記録層を除去可能な溶媒（例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒）に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計（例えば、協和界面化学（株）製ＤＭ－５０１）によって、２５℃における表面上の水滴の接触角（０．２秒後）として測定される。
本開示におけるアルミニウム支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。
本開示において用いられるアルミニウム支持体の好ましい態様の一例（本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体（１）」ともいう。）を以下に示す。
即ち、支持体（１）は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が、７０～１００である。
図３は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以後、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも称する）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａが、アルミニウム板１８よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
－陽極酸化皮膜－
以下、陽極酸化被膜２０ａの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有する。マイクロポア２２ａは、画像記録層側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。
陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０ｎｍ超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、１５ｎｍ～６０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ～５０ｎｍが更に好ましく、２５ｎｍ～４０ｎｍが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が１０ｎｍを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が１００ｎｍ以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
マイクロポア２２ａの深さは特に制限されないが、１０ｎｍ～３，０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ～２，０００ｎｍがより好ましく、３００ｎｍ～１，６００ｎｍが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ａの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上のマイクロポア２２ａの深さを測定し、平均した値である。
マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図１では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。
アルミニウム支持体１２ａの画像記録層側の表面（陽極酸化皮膜２０ａの画像記録層側の表面）のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は、７０～１００であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、７５～１００が好ましく、７５～９０がより好ましい。
上記明度Ｌ＊の測定は、エックスライト（株）製、色彩色差計Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｅｙｅを用いて測定する。
支持体（１）において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５ｎｍ～１５０ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である態様（以下、上記態様に係る支持体を、「支持体（２）」ともいう。）も好ましく挙げられる。
図４は、アルミニウム支持体１２ａの、図３に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図４において、アルミニウム支持体１２ｂは、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む。
陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１０００ｎｍ（深さＤ：図４参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。
以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、１０ｎｍ超１００ｎｍ以下であり、好適範囲も同じである。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍ（以後、深さＤとも称する）に位置する。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる孔部である。上記深さは、１０ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上の大径孔部２４の深さを測定し、平均した値である。
大径孔部２４の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
小径孔部２６は、図４に示すように、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である。
小径孔部２６の連通位置における平均径は、１３ｎｍ以下が好ましい。中でも、１１ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５ｎｍ以上の場合が多い。
小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０ｂ上部（大径孔部のある領域）を切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０ｂ表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向に２０ｎｍ～２，０００ｎｍのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部２６は、上記大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向（厚み方向）にのびる孔部であり、小径孔部２６の深さは２０ｎｍ～２，０００ｎｍである。なお、上記深さは、５００ｎｍ～２，０００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（５万倍）をとり、２５個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
小径孔部２６の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
－アルミニウム支持体の製造方法－
本開示に用いられるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程：アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程：粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程：陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
〔粗面化処理工程〕
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び／又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭５０－４００４７号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理（以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。）が挙げられる。
アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．０１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、また、３０質量％以下が好ましい。
アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理（以下、「デスマット処理」ともいう。）を施すのが好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、２０℃～８０℃が好ましい。
粗面化処理工程としては、Ａ態様又はＢ態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。
～Ａ態様～
（２）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（４）硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第１電気化学的粗面化処理）
（５）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（７）塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第２電気化学的粗面化処理）
（８）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第３アルカリエッチング処理）
（９）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第３デスマット処理）
～Ｂ態様～
（１０）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第４アルカリエッチング処理）
（１１）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第４デスマット処理）
（１２）塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第３電気化学的粗面化処理）
（１３）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第５アルカリエッチング処理）
（１４）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第５デスマット処理）
上記Ａ態様の（２）の処理前、又は、Ｂ態様の（１０）の処理前に、必要に応じて、（１）機械的粗面化処理を実施してもよい。
第１アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．５ｇ／ｍ２～３０ｇ／ｍ２が好ましく、１．０ｇ／ｍ２～２０ｇ／ｍ２がより好ましい。
Ａ態様における第１電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１～１００ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
Ａ態様における第２電気化学的粗面化処理及びＢ態様における第３電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硫酸を０ｇ／Ｌ～３０ｇ／Ｌ添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。
電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は０．１Ｈｚ～２５０Ｈｚが好ましい。
図５は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図５において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡはアルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓ～１０ｍｓが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１～２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３～２０、アノード反応時間ｔａが５ｍｓ～１，０００ｍｓ、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０Ａ／ｄｍ２～２００Ａ／ｄｍ２が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは、０．３～２０が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、２５Ｃ／ｄｍ２～１，０００Ｃ／ｄｍ２が好ましい。
交流を用いた電気化学的な粗面化には図６に示した装置を用いることができる。
図６は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図６において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａ及び５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。図６中、矢印Ａ１は電解液の給液方向を、矢印Ａ２は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａ及び５３ｂにより電解処理される。電解液５５は、電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａ及び５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは、次いで、補助陽極槽６０で電解処理される。この補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。
第２アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、１．０ｇ／ｍ２以上が好ましく、２．０ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２がより好ましい。
第３アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、０．０１ｇ／ｍ２～０．８ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２～０．３ｇ／ｍ２がより好ましい。
酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１～第５デスマット処理）では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの２以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液の酸の濃度は、０．５質量％～６０質量％が好ましい。
〔陽極酸化処理工程〕
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００ｇ／Ｌ～３００ｇ／Ｌが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは１Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）、及び、皮膜量０．１ｇ／ｍ２～５ｇ／ｍ２（好ましくは０．２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２）が挙げられる。
〔ポアワイド処理〕
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
＜保護層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層上に、保護層（オーバーコート層と呼ばれることもある。）を有していることが好ましい。
上記保護層は、発色性、及び、経時発色性の観点から、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含むことが好ましい。
上記保護層における熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物の好ましい態様は、下記に示す態様以外は、上記画像記録層における熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物の好ましい態様と同様である。
上記保護層における上記発色性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、０．１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、１ｍｇ／ｍ２～５０ｍｇ／ｍ２であることがより好ましく、５ｍｇ／ｍ２～４０ｍｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
また、上記保護層は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物を含むことが好ましい。
上記保護層における分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物の好ましい態様は、下記に示す態様以外は、上記画像記録層における分子量１，０００以下の支持体吸着性化合物の好ましい態様と同様である。
上記保護層における上記支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、０．１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、１ｍｇ／ｍ２～５０ｍｇ／ｍ２であることがより好ましく、５ｍｇ／ｍ２～４０ｍｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
また、保護層は、特に制限はないが、酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する保護層が挙げられる。
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特公昭５５－４９７２９号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）２－５Ｄ４Ｏ１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ３（ＡｌＳｉ３Ｏ１０）Ｆ２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ２．５Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ２．５（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ２Ｌｉ（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）１／８Ｍｇ２／５Ｌｉ１／８（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。
上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å～１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ＋、Ｎａ＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。
雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ～２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは１μｍ～５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ～５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ～２０μｍ程度である。
無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、１質量％～６０質量％が好ましく、３質量％～５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。
保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。
保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～１ｇ／ｍ２が特に好ましい。
＜下塗り層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。
下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、－ＰＯ３Ｈ２、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－、－ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。
〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
また、下塗り層における親水性化合物は、上記支持体吸着性化合物であることが好ましい。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など）が好ましく挙げられる。
親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物（例えば、水溶液等）により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層（例えば、画像記録層又は下塗り層）に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を１１０°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
ヒドロキシカルボン酸とは、１分子中に１個以上のカルボキシ基と１個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる（岩波理化学辞典第５版、（株）岩波書店発行（１９９８）参照）。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式（ＨＣ）で表されるものが好ましい。
ＲＨＣ（ＯＨ）ｍｈｃ（ＣＯＯＭＨＣ）ｎｈｃ 式（ＨＣ）
式（ＨＣ）中、ＲＨＣはｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基を表し、ＭＨＣはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、ｍｈｃ及びｎｈｃはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｍは同じでも異なってもよい。
式（ＨＣ）において、Ｒで表されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基としては、ｍｈｃ＋ｎｈｃ価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び／又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシル基及びカルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２－ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、１－メチル－１－フェニルエチル基、ｐ－メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１－プロペニルメチル基、２－ブテニル基、２－メチルアリル基、２－メチルプロペニルメチル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは１～５０である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの２価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
ＭＨＣで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、ＭＨＣは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
ｍｈｃとｎｈｃとの総数は、３以上が好ましく、３～８がより好ましく、４～６が更に好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が６００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、３００以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、７６以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸（２－ヒドロキシ酪酸、３－ヒドロキシ酪酸、γ－ヒドロキシ酪酸等）、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体（サリチル酸、クレオソート酸（ホモサリチル酸、ヒドロキシ（メチル）安息香酸）、バニリン酸、シリング酸等）、ジヒドロキシ安息香酸誘導体（ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等）、トリヒドロキシ安息香酸誘導体（没食子酸等）、フェニル酢酸誘導体（マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等）、ヒドロケイヒ酸誘導体（メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等）等が挙げられる。
これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を２個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を３個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を５個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を５個～８個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を１個、ヒドロキシ基を２個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を２個以上、ヒドロキシ基を１個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
親水性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．０質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１ｍｇ／ｍ２～３０ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
＜エッジ親水化層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、エッジ汚れ抑制性の観点から、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から１ｃｍ以内の領域に親水化層（「エッジ親水化層」ともいう。）を有することが好ましい。
上記エッジ親水化層は、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の少なくとも１つの辺の端部に有していても、四辺形状の上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の４辺の端部に有していてもよいが、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の対向する２辺の端部から各１ｃｍ以内の領域に有していることが好ましい。
上記エッジ親水化層の幅は、特に制限はないが、１ｍｍ～５０ｍｍであることが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、上記エッジ親水化層が形成された領域で裁断してなる平版印刷版原版であることが好ましい。
上記エッジ親水化層は、画像記録層側の最外層として有していても、各層の間に有していてもよいが、エッジ汚れ抑制性の観点から、画像記録層側の最外層として有していることが好ましい。
上記エッジ親水化層は、親水化剤を含むことが好ましい。
親水化剤としては、リン酸化合物及び／又はホスホン酸化合物を含むことが好ましく、親水化剤としてリン酸化合物及び／又はホスホン酸化合物並びに界面活性剤を含むことがより好ましい。
更に、上記２つの態様において、少なくともリン酸化合物を含むことが好ましい。
－界面活性剤－
親水化剤としては、界面活性剤を使用することが好ましい。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられるが、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、及び、両性界面活性剤よりなる群から選ばれた少なくとも一種の界面活性剤が好ましく、アニオン性界面活性剤及び／又は非イオン性界面活性剤がより好ましい。上記態様によれば、塗布性に優れた親水化塗布液を得ることができる。
なお、フッ素系、シリコーン系等のアニオン性、非イオン性界面活性剤（典型的には、フッ素系又はシリコーン系のアニオン性又は非イオン性界面活性剤）は、アニオン性又は非イオン性界面活性剤としては好ましくない。これらの界面活性剤を使用すると親水化塗布液の塗布性が劣り好ましくない。
アニオン性界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ－メチル－Ｎ－オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ－アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン－無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン－無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩類、及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
具体的には、式（Ｉ－Ａ）又は式（Ｉ－Ｂ）で表されるアニオン界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも一種のアニオン性界面活性剤を挙げることができる。
上記式（Ｉ－Ａ）中、Ｒ１は、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１～２０のアルキル基を表し；ｐは０、１又は２を表し；Ａｒ１は炭素原子数６～１０のアリール基を表し；ｑは、１、２又は３を表し；Ｍ１ ＋は、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋又はＮＨ４ ＋を表す。ｐが２の場合、複数存在するＲ１は互いに同じでも異なっていてもよい。
上記式（Ｉ－Ｂ）中、Ｒ２は、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１～２０のアルキル基を表し；ｍは０、１又は２を表し；Ａｒ２は炭素原子数６～１０のアリール基を表し；Ｙは単結合又は炭素原子数１～１０のアルキレン基を表し；Ｒ３は、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１～５のアルキレン基を表し；ｎは１～１００の整数を表し；Ｍ２ ＋は、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋又はＮＨ４ ＋を表す。ｍが２の場合、複数存在するＲ２は互いに同じでも異なっていてもよく；ｎが２以上の場合には、複数存在するＲ３は互いに同じでも異なっていてもよい。
上記式（Ｉ－Ａ）及び式（Ｉ－Ｂ）中、Ｒ１及びＲ２の好ましい例としては、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ３Ｈ７、又はＣ４Ｈ９が挙げられる。また、Ｒ３の好ましい例としては、それぞれ－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－が挙げられ、より好ましい例としては－ＣＨ２ＣＨ２－が挙げられる。また、ｐ及びｍは０又は１であることが好ましく、ｐは、０であることが特に好ましい。Ｙは単結合であることが好ましい。また、ｎは１～２０の整数であることが好ましい。
式（Ｉ－Ａ）、又は式（Ｉ－Ｂ）で表される化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられる。
上記アニオン性界面活性剤は、高分子化合物（アニオン高分子界面活性剤）であることが好ましい。上記態様によれば、面状に優れる。上記高分子化合物は、親水性基としてアニオン性基の少なくとも１種を含むものであれば特に制限はない。
アニオン性基としては、スルホン酸基、硫酸基、カルボキシ基が挙げられる。中でも、スルホン酸基が好ましい。
これらのアニオン性基は塩を構成していてもよい。上記塩は、無機カチオンとの塩であっても、有機カチオンとの塩であってもよい。
無機カチオンとしては、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、カルシウムカチオン、マグネシウムカチオンなどが挙げられる。リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンが好ましく、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンがより好ましい。
有機カチオンとしては、アンモニウム（ＮＨ４ ＋）、第四級アンモニウム、第四級ピリジニウム、第四級ホスホニウムなどが挙げられる。アンモニウム、第四級アンモニウム、第四級ピリジニウムが好ましく、第四級アンモニウムがより好ましい。
上記高分子化合物としては、分子内にアニオン性基を有する単量体の重合体、分子内にアニオン性基を有する単量体の重合体と他の１種以上の単量体との共重合体、又は、アニオン性基を有さない高分子に後から親水性基を導入した高分子等が挙げられる。
分子内にアニオン性基を有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、α－メチルスチレンスルホン酸などのスルホン酸基を有するスチレン誘導体、無水マレイン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、イソプレンスルホン酸ナトリウム、３－ビニルオキシプロパンスルホン酸などのオレフィンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸基を有するアクリルアミド誘導体、２－スルホエチルメタクリレートナトリウムなどの（メタ）アクリレート誘導体、ブタジエンスルホン酸などのジエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などが挙げられる。上記単量体の中でも、エッジ汚れ防止性能の観点から、スルホン酸基を有するスチレン誘導体、又は、スルホン酸基を有するアクリルアミド誘導体が好ましく、４－スチレンスルホン酸ナトリウム又は２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸ナトリウムがより好ましい。
なお、上記アニオン性基を有する単量体と、後述する分子内にリン酸エステル基を有する単量体との共重合体はアニオン性界面活性剤ではなくリン酸化合物に、後述する分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体との共重合体はアニオン性界面活性剤ではなくホスホン酸化合物に、それぞれ該当するものとする。
上記高分子化合物としては、スチレン－無水マレイン酸共重合体の部分ケン化物類、多核芳香族化合物を含むスルホン化芳香族化合物のホルマリン縮合物（特に、ナフタレンスルホン酸ナトリウム塩ホルマリン縮合物類）、エチレン－無水マレイン酸共重合体の部分ケン化物類、ポリアクリル酸のナトリウム塩、ポリスチレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリ２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸のナトリウム塩、等を挙げることができる。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、２，０００～１，０００，０００が好ましく、３，０００～７００，０００がより好ましく、５，０００～５００，０００が特に好ましい。
また、非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ－ビス－２－ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどが挙げられる。その中でもポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレン－ポリオキシプロピレンブロック共重合体類等が好ましく用いられる。
その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等の非イオン性界面活性剤が好ましく挙げられる。
また、非イオン性界面活性剤は、高分子化合物であることが好ましい。上記高分子化合物の重量平均分子量は、２，０００～１，０００，０００が好ましく、３，０００～７００，０００がより好ましく、５，０００～５００，０００が特に好ましい。
非イオン性界面活性剤としては好ましくは、下記式（ＩＩ－Ａ）で表される界面活性剤、及び式（ＩＩ－Ｂ）で表される界面活性剤が挙げられる。
（上記式（ＩＩ－Ａ）中、Ｒ1は、水素原子又は炭素原子数１～１００のアルキル基を表し、ｎ及びｍはそれぞれ０～１００の整数を表し、ｎ及びｍの双方が０であることはない。
上記式（ＩＩ－Ｂ）中、Ｒ2は、水素原子又は炭素原子数１～１００のアルキル基を表し、ｎ及びｍはそれぞれ０～１００の整数を表し、ｎ及びｍの双方が０であることはない。）
式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。
上記式（ＩＩ－Ａ）及び式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数（ｎ）は、好ましくは３～５０、より好ましくは５～３０である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数（ｍ）は、好ましくは０～１０、より好ましくは０～５である。ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。
上記式（ＩＩ－Ａ）及び式（ＩＩ－Ｂ）で表される非イオン芳香族エーテル系界面活性剤は、単独又は２種類以上を組み合わせて使用される。
下記に式（ＩＩ－Ａ）及び式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物の具体例を示す。なお、下記例示化合物「Ｙ－５」におけるオキシエチレン繰り返し単位及びオキシプロピレン繰り返し単位は、ランダム結合、及び、ブロック連結のいずれの態様をもとりうる。
上記エッジ親水化層は、両性界面活性剤を含むことが好ましい。
両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などが挙げられる。
また、上記両性界面活性剤は高分子化合物（両性界面活性剤高分子）であることが好ましい。両性界面活性剤高分子としては、スルホベタイン系高分子、カルボキシベタイン系高分子、ホスホベタイン系高分子化合物が好ましく、例えば、特開２０１３－５７７４７号公報、特開２０１２－１９４５３５号公報記載の化合物が挙げられる。
上記界面活性剤のうち、機上現像の促進効果が高いアニオン性界面活性剤が特に好ましく使用されるが、これら界面活性剤は２種以上併用することもできる。例えば、互いに異なる２種以上のアニオン界面活性剤の併用やアニオン界面活性剤と非イオン界面活性剤の併用が好ましい。
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、又は、ポリオキシエチレンアリールエーテルを用いることが好ましく、ナフタレンスルホン酸ナトリウム、又は、ｔ－ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムを使用することが更に好ましい。
上記の界面活性剤の含有量は特に限定する必要はないが、エッジ親水化層の全質量に対し、１質量％～９５質量％であることが好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、５０質量％～９０質量％であることが更に好ましい。界面活性剤の含有量が上記範囲内である場合、機上現像性が促進される。
その他、カチオン性界面活性剤の従来公知のものを併用することができる。カチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが挙げられる。
－リン酸化合物－
親水化剤としては、リン酸化合物を使用することが好ましい。リン酸化合物としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムが好適に使用できる。
リン酸化合物の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、１質量％～８０質量％が好ましく、１０質量％～５０質量％がより好ましい。
リン酸化合物としてリン酸モノエステル化合物、リン酸ジエステル化合物が使用できる。
リン酸化合物としては、高分子化合物を用いることが好ましく、リン酸モノエステル基を有する高分子化合物がより好ましい。上記態様によれば、支持体への塗布性に優れた親水化塗布液が得られる。
上記高分子化合物としては、分子内にリン酸エステル基を有する単量体の１種以上からなる重合体又は、リン酸エステル基を含む１種以上の単量体及びリン酸エステル基を含まない１種以上の単量体との共重合体、リン酸エステル基を有さない高分子に後からリン酸エステル基を導入した高分子等が挙げられる。
リン酸エステル基を有する単量体としては、モノ（２－メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、モノ（２－メタクリロイルオキシポリオキシエチレングリコール）アシッドホスフェート、モノ（２－アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、３－クロロ－２－アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールメタクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシ－３－ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシ－３－クロロ－２－ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、アリルアルコールアシッドホスフェート、などが挙げられる。上記単量体の中でも、エッジ汚れ防止性能の観点から、モノ（２－アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェートが好ましく用いられる。代表的な製品としては、ライトエステルＰ－１Ｍ（共栄化学（株）製）、ホスマーＰＥ（ユニケミカル（株）製）が挙げられる。
上記高分子化合物としては、リン酸エステル基を有する単量体の単独重合体、共重合体のどちらも用いられる。共重合体としては、例えば、リン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体や、リン酸エステル基を有する単量体とリン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体との共重合体が使用できる。
上記高分子化合物の好ましい態様は、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合が、１モル％～１００モル％、より好ましくは５モル％～１００モル％、更に好ましくは１０モル％～１００モル％の、共重合体又は単独重合体である。
リン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体としては、親水性基を有する単量体が好ましい。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、が挙げられ、中でも、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミド基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレンオキシド単位を１～２０個有するアルキレンオキシド構造がより好ましく、エチレンオキシド単位を２～１０個有するポリエチレンオキシド構造が更に好ましい。例えば、２－ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ（オキシエチレン）メタクリレート、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、等が挙げられる。
また、リン酸化合物として、上記分子内にリン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体を用いることが好ましい。上記態様によれば、塗布性が高く、エッジ汚れ防止性能が高い親水化塗布液が得られる。
上記分子内にリン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体中、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合は、全モノマー単位に対し、２モル％～９９モル％であることが好ましく、２モル％～８０モル％であることがより好ましく、５モル％～７０モル％であることが更に好ましく、５モル％～５０モル％であることが特に好ましい。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、５，０００～１，０００，０００が好ましく、７，０００～７００，０００がより好ましく、１０，０００～５００，０００が特に好ましい。
－ホスホン酸化合物－
親水化剤としては、ホスホン酸化合物を使用することが好ましい。ホスホン酸化合物としては、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ｉ－プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、２－ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、２－ヒドロキシエチルホスホン酸メチルなどのアルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸が挙げられる。
中でも、ポリビニルホスホン酸を用いることが好ましい。
ホスホン酸化合物の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、１質量％～８０質量％が好ましく、１０質量％～５０質量％がより好ましい。
ホスホン酸化合物としては、高分子化合物が好ましい。上記態様により、支持体への塗布性に優れた親水化塗布液が得られる。
ホスホン酸化合物として好ましい高分子化合物は、ポリビニルホスホン酸の他、分子内にホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を有する１種以上の単量体からなる重合体又は、ホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を有する１種以上の単量体及びホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を含まない１種以上の単量体との共重合体、等が挙げられる。
ホスホン酸基を有する単量体としては、ビニルホスホン酸、エチルホスホン酸モノビニルエステル、アクリロイルアミノメチルホスホン酸、３－メタクリロイルオキシプロピルホスホン酸などが挙げられる。
上記高分子化合物としては、ホスホン酸エステル基を有する単量体の単独重合体、共重合体のどちらも用いられる。共重合体としては、例えば、ホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体や、リン酸エステル基を有する単量体とリン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体との共重合体が使用できる。
ホスホン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体としては、親水性基を有する単量体が好ましい。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、が挙げられ、中でも、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミド基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレンオキシド単位を１～２０個有するアルキレンオキシド構造がより好ましく、エチレンオキシド単位を２～１０個有するポリエチレンオキシド構造が更に好ましい。例えば、２－ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ（オキシエチレン）メタクリレート、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、などが挙げられる。
上記高分子化合物の好ましい態様は、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合が、１モル％～１００モル％、より好ましくは３モル％～１００モル％、更に好ましくは５モル％～１００モル％の、共重合体あるいは単独重合体である。
また、ホスホン酸化合物として、上記分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体を用いることもできる。上記態様によれば、塗布性が高く、エッジ汚れ防止性能が高い親水化塗布液が得られるため好ましい。
上記分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体中、分子内にホスホン酸エステル基を有するモノマー単位の割合は、全モノマー単位に対し、２モル％～９９モル％であることが好ましく、２モル％～８０モル％であることがより好ましく、５モル％～７０モル％であることが更に好ましく、１０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、５，０００～１，０００，０００が好ましく、７，０００～７００，０００がより好ましく、１０，０００～５００，０００が特に好ましい。
－水溶性樹脂－
親水化剤としては、水溶性樹脂を含有することが好ましい。
水溶性樹脂としては、多糖類として分類される水溶性樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体等を挙げることができる。
多糖類としては、澱粉誘導体（例えばデキストリン、酵素分解デキストリン、ヒドロキシプロピル化澱粉、カルボキシメチル化澱粉、リン酸エステル化澱粉、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉、サイクロデキストリン）、セルロース類（例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルプロピルセルロース等）、カラギーナン、アルギン酸、グァーガム、ローカストビーンガム、キサンタンガム、アラビアガム、大豆多糖類などを挙げることができる。
中でもデキストリン、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉といった澱粉誘導体、アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、大豆多糖類などが好ましく用いられる。
これらの水溶性樹脂は２種以上組み合わせても使用できる。
水溶性樹脂の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、好ましくは５質量％～４０質量％、より好ましくは１０質量％～３０質量％の範囲で含有させることができる。この範囲内で、塗布性に優れ、良好な親水化保護膜が得られる。
上記親水化剤は、１種単独で使用してもよいが、２種以上の親水化剤を組み合わせて使用することが好ましく、１種～４種の親水化剤を組み合わせて使用することがより好ましく、１種～３種の親水化剤を組み合わせて使用することが更に好ましく、２種の親水化剤を組み合わせて使用することが特に好ましい
複数の親水化剤を組み合わせて使用する場合、界面活性剤とリン酸化合物又はホスホン酸化合物とを組み合わせて使用することが好ましく、アニオン性界面活性剤とリン酸化合物又はホスホン酸化合物とを組み合わせて使用することがより好ましい。
また、親水化剤を１種単独で使用する場合は、分子内にリン酸エステル基又はホスホン酸エステル基を有する単量体と分子内にアニオン性基を有する単量体との共重合体を使用することが好ましく、分子内にリン酸エステル基を有する単量体と分子内にアニオン性基を有する単量体との共重合体を使用することがより好ましく、分子内にリン酸エステル基を有する単量体と分子内にスルホン酸基を有する単量体との共重合体を使用することが更に好ましい。
－可塑剤－
上記エッジ親水化層には、可塑剤を含有させることができる。
可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ－ｎ－オクチルフタレート、ジ（２－エチルヘキシル）フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル類、例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ（２－エチルヘキシル）セバケート、ジオクチルセバケートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エステル類、例えば安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステル類などの凝固点が１５℃以下の可塑剤が含まれる。
可塑剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。
可塑剤の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、０質量％を超え１０質量％以下が好ましく、０質量％を超え５質量％以下がより好ましい。
－その他の任意成分－
上記エッジ親水化層は、上記成分の他に、硝酸塩、硫酸塩などの無機塩、防腐剤、消泡剤等を含有できる。
また、上記エッジ親水化層は、上述したミクロゲル等の粒子を含むことも好ましい。
無機塩としては、例えば硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケル等が挙げられる。
防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４－イソチアゾリン－３－オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン－３－オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の２－ブロモ－２－ニトロプロパン－１，３－ジオール、１，１－ジブロモ－１－ニトロ－２－エタノール、１，１－ジブロモ－１－ニトロ－２－プロパノール等が挙げられる。
消泡剤としては一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、界面活性剤非イオン系のＨＬＢ値が５以下等の化合物を使用することができる。
（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程（以下、「機上現像工程」ともいう。）と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（印刷工程）と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
また、上記最外層は、機上現像時において、一部は除去され、一部は画像部の表面に残留又は画像部の内部に印刷インキにより浸透しているものと推定している。
＜露光工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ２～３００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
＜機上現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は３００ｎｍ～４５０ｎｍ又は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源としては、半導体レーザーが好適である。
＜現像液現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（「現像液現像工程」ともいう。）と、を含む方法であってもよい。
また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
現像液のｐＨは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、ｐＨ２～１１の現像液が好ましく挙げられる。ｐＨ２～１１の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも１種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像－ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、１液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
＜印刷工程＞
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には、上記よりも強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。
以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。
なお、実施例で使用したＡ－１、Ａ－４、Ａ－７、Ａ－９、Ａ－１３、Ａ－１６、Ａ－２１、Ａ－４６、Ａ－５５、ＡＮ－１及びＡＮ－２は、上述したＡ－１、Ａ－４、Ａ－７、Ａ－９、Ａ－１３、Ａ－１６、Ａ－２１、Ａ－４６、Ａ－５５、ＡＮ－１及びＡＮ－２とそれぞれ同じ化合物である。
（実施例１～３４、及び、比較例１～５）
＜支持体１の作製＞
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記（Ｊ－ａ）～（Ｊ－ｍ）の処理を施し、支持体１を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
（Ｊ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
図７に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図７において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（本実施例においては、束植ブラシ）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。
機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は、３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ｊ－ｂ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
（Ｊ－ｃ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３５℃の次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
（Ｊ－ｄ）硝酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図５に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図６に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ２であった。
（Ｊ－ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２７質量％及びアルミニウムイオン濃度２．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、３．５ｇ／ｍ２であった。
（Ｊ－ｆ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３０℃の硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
（Ｊ－ｇ）塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図５に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図６に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ２であった。
（Ｊ－ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度６０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ２であった。
（Ｊ－ｉ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３５℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌ）の水溶液をアルミニウム板にスプレーにて４秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
（Ｊ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
図８に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量０．３ｇ／ｍ２の陽極酸化皮膜を形成した。
なお、陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図８中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向転換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８により、山型及び逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。
（Ｊ－ｋ）ポアワイド処理
陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に、４０℃で３秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。
（Ｊ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
図８に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度１３Ａ／ｄｍ２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量２．１ｇ／ｍ２の陽極酸化皮膜を形成した。
（Ｊ－ｍ）親水化処理
非画像部の親水性を確保するため、アルミニウム板を、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液に５０℃で７秒間浸漬してシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は８．５ｍｇ／ｍ２であった。マイクロポアの平均径は３０ｎｍであった。
支持体１の陽極酸化皮膜表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は７２．３であった。
＜下塗り層の形成＞
次に、上記支持体１上に、下記組成の下塗り層用塗布液（１）を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
なお、実施例１６又は１７では、下塗り層用塗布液（１）にリン酸又はグルコン酸を乾燥塗布量が表１に記載の量となるように添加し、乾燥塗布量が７０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
また、実施例２５～３０では、下塗り層を形成しなかった。
〔下塗り層用塗布液（１）〕
・下記構造の下塗り層用化合物（１）：０．１８部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．１０部
・メタノール：５５．２４部
・水：６．１５部
＜画像記録層の形成＞
表１に記載の下記画像記録層（１）～（４）の形成のいずれかにより、画像記録層を形成した。
＜＜画像記録層（１）の形成＞＞
下塗り層又は支持体１上に、下記組成の画像記録層塗布液（１）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ２の画像記録層（１）を形成した。
画像記録層塗布液（１）は下記感光液（１）及びミクロゲル液を塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
－感光液（１）－
・表１に記載の発色性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・表１に記載の支持体吸着性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・バインダーポリマー（１）〔下記構造〕：０．２４０部
・重合開始剤（１）〔下記構造〕：０．２４５部
・ボレート化合物（テトラフェニルホウ酸ナトリウム）：０．０１０部
・重合性化合物（トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステル Ａ－９３００、新中村化学工業（株）製）：０．１９２部
・低分子親水性化合物（トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート）：０．０６２部
・低分子親水性化合物（１）〔下記構造〕：０．０５０部
・フッ素系界面活性剤（１）〔下記構造〕：０．００８部
・２－ブタノン：１．０９１部
・１－メトキシ－２－プロパノール：８．６０９部
－ミクロゲル液－
・ミクロゲル（１）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル（１）の調製法を以下に示す。
－多価イソシアネート化合物（１）の調製－
イソホロンジイソシアネート１７．７８ｇ（８０ｍｍｏｌ）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５ｇ（２０ｍｍｏｌ）との酢酸エチル（２５．３１ｇ）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン Ｕ－６００、日東化成（株）製）４３ｍｇを加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。
－ミクロゲル（１）の調製－
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲル（１）の水分散液が得られた。レーザ回折／散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ－９２０、（株）堀場製作所製）を用いて、光散乱法により数平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。
〔油相成分〕
（成分１）酢酸エチル：１２．０ｇ
（成分２）トリメチロールプロパン（６モル）とキシレンジイソシアネート（１８モル）を付加させ、これにメチル辺末端ポリオキシエチレン（１モル、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６ｇ
（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０ｇ
（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４ｇ
（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２ｇ
〔水相成分〕
蒸留水：４６．８７ｇ
＜＜画像記録層（２）の形成＞＞
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液（２）をバー塗布した後、１００℃６０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ２の画像記録層（２）を形成した。
画像記録層塗布液（２）は下記感光液（２）及びミクロゲル液（２）を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。
〔感光液（２）〕
・表１に記載の発色性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・表１に記載の支持体吸着性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・バインダーポリマー（２）〔下記構造、Ｍｗ：５５，０００、ｎ：２（エチレンオキサイド（ＥＯ）単位数）〕：０．２４０部
・ボレート化合物（テトラフェニルホウ酸ナトリウム）：０．０１０部
・重合開始剤（１）〔上記構造〕：０．１６２部
・重合性化合物（トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステルＡ－９３００、新中村化学工業（株）製）：０．１９２部
・低分子親水性化合物（１）〔上記構造〕：０．０５０部
・感脂化剤（ホスホニウム化合物（１）〔下記構造〕）：０．０５５部
・感脂化剤（ベンジル－ジメチル－オクチルアンモニウム・ＰＦ６塩）：０．０１８部
・アンモニウム基含有ポリマー（１）〔下記構造、Ｍｗ：５０，０００、還元比粘度：４５ｍｌ／ｇ〕：０．０４０部
・フッ素系界面活性剤（１）〔下記構造〕：０．００８部
・２－ブタノン：１．０９１部
・１－メトキシ－２－プロパノール：８．６０９部
〔ミクロゲル液（２）〕
・ミクロゲル（２）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記のミクロゲル（２）の合成法は、以下に示す通りである。
－ミクロゲル（２）の合成－
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体（三井化学ポリウレタン（株）製、タケネートＤ－１１０Ｎ）１０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＳＲ４４４）３．１５ｇ、及びアルキルベンゼンスルホン酸塩（竹本油脂（株）製、パイオニンＡ－４１Ｃ）０．１ｇを酢酸エチル１７ｇに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール（（株）クラレ製、ＰＶＡ－２０５）の４質量％水溶液４０ｇを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水２５ｇに添加し、室温で３０分撹拌後、５０℃で３時間撹拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、１５質量％になるように蒸留水を用いて希釈し、これを上記ミクロゲル（２）とした。ミクロゲルの体積平均粒子径を光散乱法により測定したところ、０．２μｍであった。
＜＜画像記録層（３）の形成＞＞
上記のようにして形成された下塗り層又は支持体１上に、下記組成の画像記録層塗布液（３）を厚さ３０μｍにてバー塗布した後、１２０℃１分でオーブン乾燥し、画像記録層（３）を形成した。
〔画像記録層塗布液（３）〕
・表１に記載の発色性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・表１に記載の支持体吸着性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートの２モル当量ヒドロキシエチルメタアクリレート付加物（８２質量％メチルエチルケトン溶液、ＡＺ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）：０．２５０部
・エポキシアクリレートオリゴマー（Ａｒｋｅｍａ社製）：０．２５０部
・ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフェニルボレート：０．０４５部
・ポリビニルブチラール（積水化学工業（株）製Ｓ－ＬＥＣ ＢＸ３５－Ｚ）：０．１５０部
・Ｔｅｇｏ Ｇｌｉｄｅ ４１０（ポリエーテル変性ポリシロキサンコポリマー、Ｅｖｏｎｉｋ Ｔｅｇｏ Ｃｈｅｍｉｅ社製）：０．００１５部
・メタクリロキシ基を有するリン酸エステル化合物（Ｓｉｐｏｍｅｒ ＰＡＭ １００、Ｒｈｏｄｉａ社製）：０．１３０部
・ビニルホスホン酸とアクリル酸との共重合体（２０質量％水性分散液、Ａｌｂｒｉｔｅｃｔ ＣＰ ３０、Ｒｈｏｄｉａ社製）：０．０２４部
・メチルエチルケトン：１－メトキシ－２－プロパノール＝３５：６５（体積比）の混合溶剤：固形分が３５体積％となる量
＜＜画像記録層（４）の形成＞＞
熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤及びポリアクリル酸を含有する画像記録層水系塗布液を調製し、ｐＨを３．６に調整した後、下塗り層又は支持体１上に塗布し、５０℃で１分間乾燥して画像記録層（４）を形成した。各成分の乾燥後の塗布量を以下に示す。
・表１に記載の発色性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・表１に記載の支持体吸着性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・熱可塑性ポリマー粒子：０．７ｇ／ｍ２
・ポリアクリル酸：０．０９ｇ／ｍ２
画像記録層塗布液に用いた熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤ＩＲ－０１、ポリアクリル酸は以下に示す通りである。
熱可塑性ポリマー粒子：スチレン／アクリロニトリル共重合体（モル比５０／５０）、Ｔｇ：９９℃、体積平均粒子径：６０ｎｍ
ポリアクリル酸：Ｍｗ：２５０，０００
＜保護層の形成＞
表１に記載の下記保護層（１）又は（２）の形成により、保護層を形成した。
＜＜保護層（１）の形成＞＞
画像記録層上に、下記組成の保護層塗布液（１）をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が０．１５ｇ／ｍ２の保護層（１）を形成した。
－保護層塗布液（１）－
・表１に記載の発色性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・表１に記載の支持体吸着性化合物：表１に記載の乾燥塗布量となる量
・無機層状化合物分散液（１）〔下記〕：１．５部
・ポリビニルアルコール（ＣＫＳ５０、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：０．５５部
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ－４０５、（株）クラレ製、けん化度８１．５モル％、重合度５００）６質量％水溶液：０．０３部
・界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）１質量％水溶液：０．８６部
・イオン交換水：６．０部
上記保護層塗布液（１）に用いた無機層状化合物分散液（１）の調製法を以下に示す。
－無機層状化合物分散液（１）の調製－
イオン交換水１９３．６ｇに合成雲母（ソマシフＭＥ－１００、コープケミカル（株）製）６．４ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。
＜＜保護層（２）の形成＞＞
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層用塗布液（２）をバー塗布した後、１２０℃、６０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量０．１５ｇ／ｍ２の保護層（２）を形成した。
－保護層用塗布液（２）－
・無機質層状化合物分散液（１）（上記で得たもの）：１．５部
・親水性ポリマー（１）（固形分）〔下記構造、Ｍｗ：３万〕：０．５５部
・ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）製ＣＫＳ５０、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：０．１０部
・ポリビニルアルコール（（株）クラレ製ＰＶＡ－４０５、けん化度８１．５モル％、重合度５００）６質量％水溶液：０．０３部
・界面活性剤（エマレックス７１０、商品名：日本エマルジョン（株）製）１質量％水溶液：０．８６部
・イオン交換水：６．０部
＜エッジ親水化層の形成＞
実施例２２及び２５においては、エッジ親水化層を更に形成した。
塗布装置として、兵神装備（株）製２ＮＬ０４を使用した。
エッジ親水化層を形成する塗布液は、下記に記載した純水以外の成分を純水に加えて撹拌し、親水化成分含有塗布液を調製した。
・下記式Ｐ－２で表される化合物（Ｍｗ：１００，０００）：５．０質量部
・上記ミクロゲル（２）：１．０質量部
・純水：１９４質量部
クリアランス０．３ｍｍで送液量５ｃｃ／分で搬送速度を調整し、上記塗布液を固形分塗布量１．７ｇ／ｍ２になるように塗布した。
塗布は、支持体の対向する２辺の端部からそれぞれ３ｃｍの位置を中心とする幅５ｍｍの領域（２箇所）に行った。
塗布後、１２０℃１分間で乾燥し、エッジ親水化層を画像記録層側の最外層として形成した。
＜平版印刷版原版の裁断＞
上記により得られた平版印刷版原版を、図２に示すようなスリッター装置を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、表１に記載の端部にダレ形状を形成した。
裁断位置は、エッジ親水化層の形成領域の中央の位置（上記支持体の対向する２辺の端部からそれぞれ３ｃｍの位置）を裁断位置とし、支持体の２箇所を裁断した。
ダレ形状におけるダレ量Ｘ及びダレ幅Ｙを表１に記載する。
＜発色性、及び、経時発色性評価＞
平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにより、出力１１．７Ｗ、外面ドラム回転数２５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔｓ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈ＝２５．４ｍｍ）の条件で露光した。露光は２５℃、５０％ＲＨの環境下で行った。
露光直後（発色性）、及び、露光後暗所（２５℃）で２時間保存後（経時発色性）、平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ２６００ｄとオペレーションソフトＣＭ－Ｓ１００Ｗとを用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式で行った。発色性は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値（明度）を用い、露光部のＬ＊値と未露光部のＬ＊値との差ΔＬにより評価した。ΔＬの値が大きい程、発色性が優れる。
＜エッジ汚れ抑制性評価＞
平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｃｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、５０％網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版を、（株）東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック（株）製ソイビーＫＫＳＴ－Ｓ（紅）、湿し水として、東洋インキ（株）製東洋ＡＬＫＹを用いて、新聞用紙に１００，０００枚／時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から１．１倍の水目盛で、１，０００枚目の印刷物をサンプリングし、印刷用原版の端部に起因する線状汚れの程度を下記の基準で評価した。
５：全く汚れていない
４：５と３との中間レベル
３：うっすらと汚れているが許容レベル
２：３と１との中間レベル（許容レベル）
１：はっきりと汚れており非許容レベル
＜機上現像性評価＞
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにより、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャートを含むようにした。
露光された平版印刷版原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＶａｌｕｅｓ－Ｇ（Ｎ）墨インキ（ＤＩＣグラフィックス（株）製）とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給し、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート紙（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）に１００枚印刷を行った。
印刷機上で画像記録層の未露光部の機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を計測し、機上現像性として評価した。枚数が少ない程、機上現像性が良好である。
＜耐薬品性（クリーナー耐刷性）評価＞
上記機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数の増加に伴い徐々に画像記録層が摩耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。また、印刷の途中に１０，０００枚印刷する毎に、クリーナー（富士フイルム（株）製、ＨＮ－Ｃ）で版面を拭いた。印刷物におけるＦＭスクリーン５０％網点の網点面積率をグレタグ濃度計で測定した値が印刷１００枚目の測定値よりも５％低下するまでの印刷枚数を計測した。印刷枚数が１０万枚の場合を１００とする相対耐刷性により評価した。数値が大きい程、耐刷性が良好である。
相対耐刷性＝（対象平版印刷版原版の印刷枚数）／１００，０００×１００
評価結果を表１にまとめて示す。
なお、表１に記載のＢ－１及びＢ－２は、以下の化合物である。
表１に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例１～３４の平版印刷版原版は、比較例の平版印刷版原版と比べ、エッジ汚れ抑制性に優れている。
また、表１に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例１～３４の平版印刷版原版は、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性にも優れる。
Ｘ：ダレ量、Ｙ：ダレ幅、１：アルミニウム板、２，４：ローラ状ブラシ、３：研磨スラリー液、５，６，７，８：支持ローラ、１８：アルミニウム板、ｔａ：アノード反応時間、ｔｃ：カソード反応時間、ｔｐ：電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａ：アノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃ：カソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡ：アルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡ：アルミニウム板のカソード反応の電流、１０：平版印刷版原版、１２ａ，１２ｂ：アルミニウム支持体、１４：下塗り層、１６：画像記録層、２０ａ，２０ｂ：陽極酸化皮膜、２２ａ，２２ｂ：マイクロポア、２４：大径孔部、２６：小径孔部、Ｄ：大径孔部の深さ、５０：主電解槽、５１：交流電源、５２：ラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂ：主極、５４：電解液供給口、５５：電解液、５６：補助陽極、６０：補助陽極槽、Ｗ：アルミニウム板、Ａ１：給液方向、Ａ２：電解液排出方向、２１０：裁断刃、２１０ａ：上側裁断刃、２１０ｂ：上側裁断刃、２１１：回転軸、２２０：裁断刃、２２０ａ：下側裁断刃、２２０ｂ：下側裁断刃、２２１：回転軸、２３０：支持体、６１０：陽極酸化処理装置、６１２：給電槽、６１４：電解処理槽、６１６：アルミニウム板、６１８，２６：電解液、６２０：給電電極、６２２，６２８：ローラ、６２４：ニップローラ、６３０：電解電極、６３２：槽壁、６３４：直流電源
２０２０年２月２８日に出願された日本国特許出願第２０２０－０３４２４１号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (13)

  1. 支持体上に、画像記録層、及び分子量１０００以下の支持体吸着性化合物を含む保護層をこの順に有し、
    前記画像記録層又は前記保護層が、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含み、
    前記支持体の少なくとも対向する２辺の端部に、ダレ量Ｘが２５μｍ～１５０μｍ、かつダレ幅Ｙが７０μｍ～３００μｍであるダレ形状を有する
    平版印刷版原版。
  2. 前記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物が、下記式（１）で表される化合物である請求項１に記載の平版印刷版原版。


    式（１）中、Ｍ１は熱又は赤外線露光により開裂する基であり、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ２及びＲ３は互いに連結して環を形成してもよく、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ０－又はジアルキルメチレン基を表し、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ６～Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
  3. 前記式（１）におけるＭ１が、－ＮＲａＲｂ、－ＮＲｃ（ＳＯ２Ｒｄ）又は－ＮＲｅ（ＣＯ２Ｒｆ）である請求項２に記載の平版印刷版原版。
    ただし、Ｒａ及びＲｂはそれぞれ独立に、アリール基を表し、Ｒｃ、Ｒｅ及びＲｆはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｄは、アルキル基、アリール基、又は、－ＮＲｄ１Ｒｄ２を表し、Ｒｄ１及びＲｄ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
  4. 前記式（１）で表される化合物におけるＲ４、Ｒ５、Ｍ１、Ａｒ１及びＡｒ２よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基が、親水性基を有する、請求項２又は請求項３に記載の平版印刷版原版。
  5. 前記親水性基が、下記式（２）～式（５）のいずれかで表される基である請求項４に記載の平版印刷版原版。


    式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１２のアシル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
  6. 前記式（１）におけるＭ１が、－Ｏ－Ｒ１である請求項２～請求項５のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
    ただし、Ｒ１は、熱又は赤外線露光によりＲ１－Ｏ結合が開裂する基を表す。
  7. 前記Ｒ１が、下記式（６）で表される基である請求項６に記載の平版印刷版原版。


    式（６）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｅはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。
  8. 前記式（６）におけるＥが、下記式（７）で表されるピリジニウム基である請求項７に記載の平版印刷版原版。


    式（７）中、Ｒ１７はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ１７が複数存在する場合、複数のＲ１７は同じでも異なってもよく、あるいは複数のＲ１７が連結して環を形成してもよく、ｎ２は０～４の整数を表し、Ｒ１８はアルキル基、アリール基又は下記式（２）～式（５）のいずれかで表される基を表し、Ｚｂは電荷を中和するための対イオンを表す。


    式（２）～式（５）中、Ｒ１０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗ１は単結合又は酸素原子を表し、ｎ１は１～４５の整数を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１２のアシル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１～１２のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、また、式（１）で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Ｍを有していなくともよく、ｍ１は１、２、３又は４を表し、Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＨ２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
  9. 前記画像記録層が、重合開始剤及び重合性化合物を有する請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  10. 前記画像記録層が、ポリマー粒子を有する請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  11. 前記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から１ｃｍ以内の領域に親水化層を有する請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  12. 請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
    平版印刷版の作製方法。
  13. 請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
    平版印刷方法。
JP2022503170A 2020-02-28 2021-01-25 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Active JP7464691B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020034241 2020-02-28
JP2020034241 2020-02-28
PCT/JP2021/002475 WO2021171862A1 (ja) 2020-02-28 2021-01-25 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021171862A1 JPWO2021171862A1 (ja) 2021-09-02
JP7464691B2 true JP7464691B2 (ja) 2024-04-09

Family

ID=77490872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022503170A Active JP7464691B2 (ja) 2020-02-28 2021-01-25 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7464691B2 (ja)
WO (1) WO2021171862A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022212032A1 (en) * 2021-04-01 2022-10-06 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US20220324220A1 (en) * 2021-04-01 2022-10-13 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090269699A1 (en) 2008-04-29 2009-10-29 Munnelly Heidi M On-press developable elements and methods of use
JP2014104631A (ja) 2012-11-26 2014-06-09 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法
WO2016027886A1 (ja) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤
WO2020026808A1 (ja) 2018-07-30 2020-02-06 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090269699A1 (en) 2008-04-29 2009-10-29 Munnelly Heidi M On-press developable elements and methods of use
JP2014104631A (ja) 2012-11-26 2014-06-09 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法
WO2016027886A1 (ja) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤
WO2020026808A1 (ja) 2018-07-30 2020-02-06 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2021171862A1 (ja) 2021-09-02
WO2021171862A1 (ja) 2021-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6621570B2 (ja) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP7282885B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7372324B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7293356B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262686A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP6832431B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、発色組成物
JP2023179624A (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2023171431A (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7464691B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020045586A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、硬化性組成物
JP7394874B2 (ja) 平版印刷方法
WO2020158139A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020045587A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、硬化性組成物
JP7293377B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7321261B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2023016860A (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3900942B1 (en) Planographic printing plate precursor, method of preparing a planographic printing plate, and planographic printing method
WO2020026808A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2020179567A (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7062064B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7184931B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7321115B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7064595B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2021065418A1 (ja) 平版印刷方法
WO2020262688A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220711

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230718

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20231031

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240130

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20240213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7464691

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150