JP7446068B2 - 露光装置、および、物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態における露光装置の構成を示す概略断面図である。この露光装置は、ステップ・アンド・スキャン方式で原版(マスク)のパターンを基板に露光する走査型露光装置である。ステップ・アンド・スキャン方式では、原版と基板と相対的に駆動(スキャン)させながら1ショットの露光が行われ、1ショットの露光終了後、基板のステップ移動により次のショット領域への移動が行われる。
第2実施形態は、ズームレンズユニット11を用いて、σ値を変更して使用する際の例である。ズームレンズユニット11を駆動させてズームを変えると、第1遮光部18および第2遮光部20でのケラレの影響が変わり、積算有効光源の非対称性が変化する。そのため、1種類の回折光学素子を用いた場合、全てのズームで積算有効光源の非対称性を十分に小さくすることは困難である。よって、本実施形態では第3遮光部8も併用する。
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (9)
- 基板の走査露光を行う露光装置であって、
光源からの光で原版の被照明面を照明する照明光学系を有し、
前記照明光学系は、
前記光源から前記被照明面に至る光路上に配置された回折光学素子と、
前記被照明面の共役面から前記光源側にデフォーカスした位置に配置される第1遮光部と、
前記被照明面の前記共役面から前記被照明面側にデフォーカスした位置に配置される第2遮光部と、を有し、
前記回折光学素子は、前記回折光学素子と光学的にフーリエ変換の関係にあるフーリエ変換面に、前記第1遮光部と前記第2遮光部とに起因する積算有効光源分布の非対称性を低減する光強度分布を形成する、ことを特徴とする露光装置。 - σ値を変更するズームレンズユニットを有し、
前記回折光学素子は、前記ズームレンズユニットにより変更可能なσ値の範囲の中心値において前記非対称性を低減するような回折特性を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記積算有効光源分布を調整可能な第3遮光部を有し、
前記ズームレンズユニットの状態に応じて、前記第3遮光部により前記積算有効光源分布が調整される、ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記第3遮光部は、前記フーリエ変換面の位置から前記光源側にデフォーカスした位置に配置されることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記第1遮光部および前記第2遮光部はそれぞれ、可変スリットを含み、
前記非対称性を低減するように前記可変スリットを調整する、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記第3遮光部は、可変スリットを含み、
前記ズームレンズユニットの状態に応じて、前記可変スリットを調整する、ことを特徴とする請求項3または4に記載の露光装置。 - 前記回折光学素子は、回折パターン面に所望の回折パターンが得られるように計算機で設計された計算機ホログラムを含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記共役面に配置され、前記原版の照明範囲を画定するマスキングユニットを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、を有し、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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