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JP7257985B2 - Method for producing benzonitrile derivative - Google Patents

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JP7257985B2 JP2020055124A JP2020055124A JP7257985B2 JP 7257985 B2 JP7257985 B2 JP 7257985B2 JP 2020055124 A JP2020055124 A JP 2020055124A JP 2020055124 A JP2020055124 A JP 2020055124A JP 7257985 B2 JP7257985 B2 JP 7257985B2
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Description

本開示は、ベンゾニトリル誘導体の製造方法に関する。 The present disclosure relates to methods for producing benzonitrile derivatives.

ベンゾニトリル誘導体、なかでも、2-アミノベンゾニトリル誘導体は、医薬品、試薬等の中間体として有用である。
ベンゾニトリル誘導体は市販されており、ベンゾニトリル誘導体の製造方法についても、各種の検討がなされている。
従来、イサチンオキシムを分解してベンゾニトリル誘導体を得る方法が、工業的にも用いられている。高収率でベンゾニトリル誘導体を得る方法として、イサチンオキシムを、アミド系溶媒中で炭酸塩と反応させてベンゾニトリル誘導体を得る方法が開示されている(特許文献1参照)。特許文献1に記載の方法によれば、ベンゾニトリル誘導体の収率が80%を超えると記載されている。また、非特許文献1には、イサチンオキシムを、ジメチルホルムアミドの存在下、炭酸ナトリウムと反応させて中間体としての2-アミノベンゾニトリル誘導体を得る方法が開示されている。
2-アミノベンゾニトリル誘導体を得る他の方法として、イサチンオキシムの分解を、ノナエチレングリコール中にて、ナトリウムメトキシドを用いて実施する方法が提案されている(特許文献2参照)。
Benzonitrile derivatives, especially 2-aminobenzonitrile derivatives, are useful as intermediates for pharmaceuticals, reagents and the like.
Benzonitrile derivatives are commercially available, and various studies have been made on methods for producing benzonitrile derivatives.
Conventionally, a method of decomposing isatin oxime to obtain a benzonitrile derivative has also been used industrially. As a method for obtaining a benzonitrile derivative in high yield, a method for obtaining a benzonitrile derivative by reacting isatin oxime with a carbonate in an amide solvent is disclosed (see Patent Document 1). According to the method described in Patent Document 1, it is described that the yield of the benzonitrile derivative exceeds 80%. Non-Patent Document 1 discloses a method of obtaining a 2-aminobenzonitrile derivative as an intermediate by reacting isatin oxime with sodium carbonate in the presence of dimethylformamide.
As another method for obtaining a 2-aminobenzonitrile derivative, a method has been proposed in which isatin oxime is decomposed using sodium methoxide in nonaethylene glycol (see Patent Document 2).

特開2003-64039号公報JP-A-2003-64039 特公昭46-15611号公報Japanese Patent Publication No. 46-15611

European Journal of Medicinal Chemistry,Vol.64、pp401-409(2013年)European Journal of Medicinal Chemistry, Vol. 64, pp401-409 (2013)

特許文献1及び非特許文献1に記載の製造方法によれば、80%を超える収率でベンゾニトリル誘導体が得られる。しかし、これらの製造方法においては、反応に炭酸塩を用いるため、生成物は、ベンゾニトリル誘導体と共に、無機塩が副生成物として混在する。このため、反応終了後にベンゾニトリル誘導体を単離する際、蒸留すると、発泡が生じるなどの問題があり、固体を含む蒸留操作となるため、単離後に得られる精製されたベンゾニトリル誘導体の量が少ない、等の問題がある。
特許文献2に記載の方法では、所望の反応は進行し、収率も85%~90%が期待できる。しかし、反応が強塩基性条件下で行われるため、精製などの後処理により、加水分解が進行し、精製されたベンゾニトリル誘導体の収量が低下するという問題がある。
従って、いずれの製造方法においても、所望されない副反応、及び副反応に起因する不純物の生成が生じるという問題がある。
According to the production methods described in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1, a benzonitrile derivative can be obtained with a yield exceeding 80%. However, in these production methods, since a carbonate is used in the reaction, the product contains an inorganic salt as a by-product together with the benzonitrile derivative. For this reason, when isolating the benzonitrile derivative after the completion of the reaction, distillation causes problems such as foaming. There are problems such as less
In the method described in Patent Document 2, the desired reaction proceeds and a yield of 85% to 90% can be expected. However, since the reaction is carried out under strongly basic conditions, there is a problem that post-treatment such as purification promotes hydrolysis, which reduces the yield of the purified benzonitrile derivative.
Therefore, in any production method, there is a problem that undesirable side reactions and generation of impurities resulting from the side reactions occur.

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、副反応及び副反応に起因する不純物の発生が抑制され、目的とするベンゾニトリル誘導体を高純度で得ることができるベンゾニトリル誘導体の製造方法を提供することである。 The problem to be solved by one embodiment of the present invention is to provide a method for producing a benzonitrile derivative that suppresses the generation of side reactions and impurities caused by the side reactions and can obtain the desired benzonitrile derivative with high purity. to provide.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。 Means for solving the above problems include the following aspects.

<1> 下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式IIIで表される化合物及び一般式IVで表される化合物からなる群より選択される三級アミンの少なくとも1種の存在下で反応させ、下記一般式IIで表されるベンゾニトリル誘導体を得る工程を含むベンゾニトリル誘導体の製造方法。 <1> A compound represented by general formula I below is treated in the presence of at least one tertiary amine selected from the group consisting of compounds represented by general formula III and compounds represented by general formula IV below. A method for producing a benzonitrile derivative, comprising the step of reacting to obtain a benzonitrile derivative represented by the following general formula II.

Figure 0007257985000001
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一般式I中、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式II中、R21、R22、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式III中、R31、R32及びR33は、それぞれ独立にアルキル基、又はフェニル基を表す。
一般式IV中、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立にアルキル基を表す。R41とR43、及びR42とR44とは、互いに連結して環状アルキル基を形成してもよい。
In general formula I, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula II, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula III, R 31 , R 32 and R 33 each independently represent an alkyl group or a phenyl group.
In general formula IV, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent an alkyl group. R 41 and R 43 , and R 42 and R 44 may be linked together to form a cyclic alkyl group.

<2> 三級アミンの使用量は、一般式Iで表される化合物1molに対し、0.1mol%~100mol%の範囲である<1>に記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。
<3> ベンゾニトリル誘導体を得る工程は、水及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選択される少なくとも1種の溶媒の存在下で行われる<1>又は<2>に記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。
<4> 一般式Iで表される化合物が、R、R、R及びRが水素原子であるイサチンオキシムである<1>~<3>のいずれか1つ記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。
<2> The method for producing a benzonitrile derivative according to <1>, wherein the amount of the tertiary amine used is in the range of 0.1 mol % to 100 mol % per 1 mol of the compound represented by formula I.
<3> The step of obtaining the benzonitrile derivative is carried out in the presence of at least one solvent selected from the group consisting of water and an aprotic polar solvent. Production method.
<4> The benzonitrile derivative according to any one of <1> to <3>, wherein the compound represented by Formula I is isatin oxime in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms. Production method.

本発明の一実施形態によれば、副反応及び副反応に起因する不純物の発生が抑制され、目的とするベンゾニトリル誘導体を高純度で得ることができるベンゾニトリル誘導体の製造方法を提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for producing a benzonitrile derivative that suppresses the generation of side reactions and impurities resulting from the side reactions and that can obtain the desired benzonitrile derivative with high purity. can.

以下、本開示の内容について説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明は以下の実施態様に限定されない。
本開示において「~」を用いて記載した数値範囲は、「~」の前後の数値を下限値及び上限値として含む数値範囲を表す。
本開示において記載される各成分の量は、当該成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示において段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合がある。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
The contents of the present disclosure will be described below.
The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present disclosure, but the present invention is not limited to the following embodiments.
In the present disclosure, a numerical range described using "to" represents a numerical range including numerical values before and after "to" as lower and upper limits.
The amount of each component described in the present disclosure means the total amount of the multiple substances unless otherwise specified when there are multiple substances corresponding to the component.
In the numerical ranges described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or lower limit value of another numerical range described stepwise. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, upper or lower limits described in a certain numerical range may be replaced with values shown in Examples.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
The chemical structural formulas in this specification may be represented by simplified structural formulas in which hydrogen atoms are omitted.
In the present disclosure, the term "process" includes not only an independent process, but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended purpose of the process is achieved.

<ベンゾニトリル誘導体の製造方法>
本開示のベンゾニトリル誘導体の製造方法(以下、単に本開示の製造方法と称することがある)は、下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式IIIで表される化合物及び一般式IVで表される化合物からなる群より選択される三級アミンの少なくとも1種の三級アミン存在下で反応させ、下記一般式IIで表されるベンゾニトリル誘導体を得る工程(以下、工程Aと称することがある)を含む。
なお、下記一般式IIIで表される化合物及び一般式IVで表される化合物からなる群より選択される三級アミンの少なくとも1種を、以下、特定三級アミンと称することがある。
<Method for producing benzonitrile derivative>
The method for producing a benzonitrile derivative of the present disclosure (hereinafter sometimes simply referred to as the production method of the present disclosure) is a compound represented by the following general formula I, a compound represented by the following general formula III and a compound represented by the following general formula IV A step of reacting in the presence of at least one tertiary amine selected from the group consisting of compounds represented by to obtain a benzonitrile derivative represented by the following general formula II (hereinafter referred to as step A may occur).
At least one tertiary amine selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula III and compounds represented by the general formula IV is hereinafter sometimes referred to as a specific tertiary amine.

Figure 0007257985000002
Figure 0007257985000002

一般式I中、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式II中、R21、R22、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式III中、R31、R32及びR33は、それぞれ独立にアルキル基、又はフェニル基を表す。
一般式IV中、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立にアルキル基を表す。R41とR43、及びR42とR44とは、互いに連結して環状アルキル基を形成してもよい。
In general formula I, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula II, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula III, R 31 , R 32 and R 33 each independently represent an alkyl group or a phenyl group.
In general formula IV, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent an alkyl group. R 41 and R 43 , and R 42 and R 44 may be linked together to form a cyclic alkyl group.

工程Aは、オキシム化されたイサチンを、特定三級アミンの存在下、又は好ましくは特定アミンと溶媒との存在下で反応させ、2-アミノベンゾニトリルを得る以下に示す反応を含むと考えている。 Step A is considered to include the reaction shown below in which the oximated isatin is reacted in the presence of a specified tertiary amine, or preferably in the presence of a specified amine and a solvent, to give a 2-aminobenzonitrile. there is

Figure 0007257985000003
Figure 0007257985000003

上記反応では、特定三級アミンの機能により、水が副成された場合でも、次反応において加水分解が生じ難い。従って、反応における副生成物の生成が抑制され、高純度の目的物が得られると考えられる。
以下に、R、R、R及びRがいずれも水素原子であるイサチンオキシムを出発物質とした反応のスキームを示す。
In the above reaction, even if water is by-produced due to the function of the specific tertiary amine, hydrolysis is unlikely to occur in the next reaction. Therefore, it is considered that the production of by-products in the reaction is suppressed and the target product of high purity can be obtained.
Shown below is a reaction scheme using isatin oxime in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are all hydrogen atoms as a starting material.

Figure 0007257985000004
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上記反応は以下のように進行すると考えられる。 It is believed that the above reaction proceeds as follows.

Figure 0007257985000005
Figure 0007257985000005

(一般式Iで表される化合物)
一般式Iで表される化合物は、オキシム化されたイサチン(イサチンオキシム)であり、六員環が置換基を有していても、有していなくてもよい。
一般式I中、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
、R、R及びRが炭素数1~5のアルキル基を表す場合のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基などが挙げられ、メチル基又はエチル基が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
炭素数1~5のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基などが挙げられ、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。
なかでも、反応性がより良好であるという観点から、R、R、R及びRがいずれも水素原子である化合物が好ましい。
(Compound represented by general formula I)
The compounds represented by general formula I are oximated isatins (isatin oximes), and the six-membered ring may or may not have a substituent.
In general formula I, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
When R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, the alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a propyl group and the like, and a methyl group or an ethyl group. is preferred.
A halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, an iodine atom and the like, and a chlorine atom or a bromine atom is preferable.
The alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms includes methoxy, ethoxy, butoxy, propoxy and the like, with methoxy and ethoxy being preferred.
Among them, compounds in which all of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms are preferred from the viewpoint of better reactivity.

イサチンオキシムは、イサチンを原料として合成により得ることができる。
合成によりイサチンオキシムを得る方法としては、イサチンと塩酸ヒドロキシルアミンとを反応させる方法が挙げられる。
イサチンは、富士フイルム和光純薬(株)、東京化成工業(株)等から市販品として入手可能である。
本開示の製造方法は、後述するように工程Aに加え、イサチンをオキシム化する工程(工程B)をさらに含んでいてもよい。
Isatin oxime can be obtained by synthesis using isatin as a starting material.
A method of obtaining isatin oxime by synthesis includes a method of reacting isatin with hydroxylamine hydrochloride.
Isatin is commercially available from Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., and the like.
The production method of the present disclosure may further include a step of oximating isatin (step B) in addition to step A, as described below.

(特定三級アミン)
工程Aでは、一般式Iで表される化合物の反応は、下記一般式IIIで表される化合物及び一般式IVで表される化合物からなる群より選択される化合物の少なくとも1種(特定三級アミン)の存在下で行われる。
(Specific tertiary amine)
In step A, the compound represented by general formula I is reacted with at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by general formula III and compounds represented by general formula IV (specific tertiary amine).

Figure 0007257985000006
Figure 0007257985000006

一般式III中、R31、R32及びR33は、それぞれ独立にアルキル基、又はフェニル基を表す。
一般式IV中、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立にアルキル基を表す。R41とR43、及びR42とR44とは、互いに連結して環状アルキル基を形成してもよい。
一般式IIIで表される化合物は、一般式IIIにおける、R31、R32及びR33で表されるアルキル基、又はフェニル基の水素原子を一つ除したアルキレン基、又はフェニレン基を介して三級アミン構造が2又は3結合した二量体又は三量体であってもよい。
工程Aでは、反応は、上記特定三級アミンから選ばれる少なくとも1種の存在下で行われる。
特定三級アミンとしては、鎖状アルキル基を有する三級アミン(下記a群)、三級アミンが鎖状アルキル基由来のアルキレン基を介して複数個結合した二量体又は三量体である三級アミン(下記b群)、環状三級アミン(下記c群)などのいずれであってもよい。環状三級アミンは、環構造を複数有する化合物であってもよい。
以下に工程Aにて使用しうる特定三級アミンを例示するが、特定三級アミンは以下の例示に限定されない。なお、以下の構造においてBuはブチル基を表す。
In general formula III, R 31 , R 32 and R 33 each independently represent an alkyl group or a phenyl group.
In general formula IV, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent an alkyl group. R 41 and R 43 , and R 42 and R 44 may be linked together to form a cyclic alkyl group.
The compound represented by the general formula III is an alkyl group represented by R 31 , R 32 and R 33 in the general formula III, or an alkylene group obtained by removing one hydrogen atom from a phenyl group, or a phenylene group. It may be a dimer or trimer in which 2 or 3 tertiary amine structures are bonded.
In step A, the reaction is carried out in the presence of at least one selected from the above specific tertiary amines.
Specific tertiary amines include tertiary amines having chain alkyl groups (group a below), and dimers or trimers in which a plurality of tertiary amines are bonded via alkylene groups derived from chain alkyl groups. It may be either a tertiary amine (group b below), a cyclic tertiary amine (group c below), or the like. A cyclic tertiary amine may be a compound having a plurality of ring structures.
Specific tertiary amines that can be used in step A are exemplified below, but the specific tertiary amines are not limited to the following examples. In the structures below, Bu represents a butyl group.

Figure 0007257985000007
Figure 0007257985000007

Figure 0007257985000008
Figure 0007257985000008

Figure 0007257985000009
Figure 0007257985000009

上記c群において略称で記載された化合物の名称は以下の通りである。
DABCO:1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン
DBN:1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネン
DBU:1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン
The names of the compounds abbreviated in the above group c are as follows.
DABCO: 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane DBN: 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-5-nonene DBU: 1,8-diazabicyclo[5,4,0]-7- Undecene

三級アミンのなかでも、反応性がより良好であり、加水分解の発生抑制効果がより高いという観点からは、a群に包含されるトリn-ブチルアミン、b群に包含されるN,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N,N’,N’-ペンタメチルジエチレントリアミン、c群に包含されるDBU、DBNが好ましく、なかでも、N,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-アミノプロパン、N,N,N’,N’-ペンタメチルジエチレントリアミン、DBU等がより好ましく、N,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-アミノプロパン、DBUがさらに好ましい。 Among tertiary amines, tri-n-butylamine included in group a, N, N, and N',N'-tetramethylethylenediamine, N,N,N',N'-tetraethylethylenediamine, N,N,N',N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane, N,N,N', N′-pentamethyldiethylenetriamine, DBU, DBN included in group c are preferred, and among them, N,N,N′,N′-tetraethylethylenediamine, N,N,N′,N′-tetramethyl-1, More preferred are 3-aminopropane, N,N,N',N'-pentamethyldiethylenetriamine, DBU, etc. N,N,N',N'-tetraethylethylenediamine, N,N,N',N'-tetramethyl -1,3-aminopropane, DBU are more preferred.

工程Aにおいて、特定三級アミンは1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
工程Aにおける特定三級アミンの使用量についても特に制限はなく、特定三級アミンの使用量に拘わらず反応は進行する。なかでも、反応性がより良好であり、より高い収率が望めるという観点からは、一般式Iで表される化合物1molに対し、特定三級アミンを0.1mol%~100mol%の範囲で使用することが好ましく、1mol%~50mol%の範囲で使用することがより好ましく、1.5mol%~20mol%の範囲で使用することがより好ましい。
上記使用量は、2種以上の特定三級アミンを含む場合には、総使用量を意味する。
In step A, only one type of specific tertiary amine may be used, or two or more types may be used in combination.
The amount of the specific tertiary amine used in step A is not particularly limited, and the reaction proceeds regardless of the amount of the specific tertiary amine used. Among them, from the viewpoint that the reactivity is better and a higher yield can be expected, the specific tertiary amine is used in the range of 0.1 mol% to 100 mol% with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula I. It is preferably used in the range of 1 mol % to 50 mol %, more preferably in the range of 1.5 mol % to 20 mol %.
The amount used means the total amount used when two or more kinds of specific tertiary amines are included.

工程Aにおける反応系では、一般式Iで表される化合物及び特定三級アミンに加え、効果を損なわない範囲で、溶媒などの他の成分を用いてもよい。 In the reaction system in step A, in addition to the compound represented by general formula I and the specific tertiary amine, other components such as a solvent may be used within a range that does not impair the effect.

(溶媒)
工程Aでは、反応に溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、水、非プロトン系極性溶媒などが挙げられる。工程Aは、水及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選択される少なくとも1種の溶媒の存在下で行われることが好ましい。
溶媒としては、例えば、水、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、ピリジン系溶媒、エステル系溶媒、カルボン酸系溶媒およびニトリル系溶媒が挙げられる。
(solvent)
In step A, it is preferred to use a solvent for the reaction. Examples of solvents include water and aprotic polar solvents. Step A is preferably carried out in the presence of at least one solvent selected from the group consisting of water and aprotic polar solvents.
Examples of solvents include water, amide solvents, sulfone solvents, sulfoxide solvents, ureide solvents, ether solvents, ketone solvents, hydrocarbon solvents, halogen solvents, alcohol solvents, pyridine solvents, esters solvent, carboxylic acid solvent and nitrile solvent.

溶媒としての水は、不純物が少ないという観点から、イオン交換水、蒸留水、純水、超純水などが好ましい。 Water as a solvent is preferably ion-exchanged water, distilled water, pure water, ultrapure water, or the like, from the viewpoint of containing few impurities.

アミド系溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、及び1-メチル-2-ピロリドンが挙げられる。スルホン系溶媒としては、例えば、スルホランが挙げられる。スルホキシド系溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシドが挙げられる。ウレイド系溶媒としては、例えば、テトラメチルウレアが挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジオキサン、及びシクロペンチルメチルエーテルが挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、及びシクロヘキサノンが挙げられる。炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、及びn-デカンが挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、テトラクロロエタン、及びクロロベンゼンが挙げられる。アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、及びフェノールが挙げられる。ピリジン系溶媒としては、例えば、ピリジン、γ―ピコリン、及び2,6-ルチジンが挙げられる。エステル系溶媒としては、例えば、酢酸エチル、及び酢酸ブチルが挙げられる。カルボン酸系溶媒としては、例えば、酢酸、及びプロピオン酸が挙げられる。ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリルが挙げられる。
反応に溶媒を用いる場合、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。
溶媒としては、反応性がより良好であるという観点から、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒又はニトリル系溶媒が好ましく、アミド系溶媒、又はスルホキシド系溶媒がより好ましい。
Amide solvents include, for example, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and 1-methyl-2-pyrrolidone. Examples of sulfone-based solvents include sulfolane. Examples of sulfoxide solvents include dimethylsulfoxide. Ureido solvents include, for example, tetramethylurea. Ether solvents include, for example, dioxane and cyclopentyl methyl ether. Ketone solvents include, for example, acetone and cyclohexanone. Hydrocarbon solvents include, for example, toluene, xylene, and n-decane. Examples of halogen-based solvents include tetrachloroethane and chlorobenzene. Alcoholic solvents include, for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, cyclohexanol, and phenol. Pyridine-based solvents include, for example, pyridine, γ-picoline, and 2,6-lutidine. Ester solvents include, for example, ethyl acetate and butyl acetate. Carboxylic acid solvents include, for example, acetic acid and propionic acid. Examples of nitrile solvents include acetonitrile.
When using a solvent for the reaction, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.
From the viewpoint of better reactivity, the solvent is preferably an amide solvent, a sulfone solvent, a sulfoxide solvent, a ureide solvent, or a nitrile solvent, and more preferably an amide solvent or a sulfoxide solvent.

工程Aは、具体的には、フラスコなどの反応器内に、溶媒と、三級アミンとを含む混合液を貯留し、内温を100℃~150℃に昇温する。
別途準備した溶媒に溶解した一般式Iで表される化合物の溶液を、容器内に滴下する。滴下は、発泡が生じない速度で行い、内温を100℃~150℃に維持し、1時間~3時間反応させる。
反応終了後、15℃~30℃に冷却する。反応生成物である一般式IIで表される化合物の存在を確認した後、減圧蒸留して一般式IIで表される化合物を得る。
一般式IIで表される化合物の存在は、NMRなどで確認することができる。
Specifically, in step A, a mixed liquid containing a solvent and a tertiary amine is stored in a reactor such as a flask, and the internal temperature is raised to 100°C to 150°C.
A solution of the compound represented by general formula I dissolved in a separately prepared solvent is added dropwise into the container. Dropping is carried out at a rate that does not cause foaming, and the internal temperature is maintained at 100° C. to 150° C., and the reaction is allowed to proceed for 1 to 3 hours.
After completion of the reaction, cool to 15°C to 30°C. After confirming the presence of the reaction product represented by the general formula II, the reaction product is distilled under reduced pressure to obtain the compound represented by the general formula II.
The presence of the compound represented by general formula II can be confirmed by NMR or the like.

混合液の温度は、100℃~150℃が好ましく、110℃~140℃が好ましく、110℃~130℃がより好ましい。
一般式Iで表される化合物の溶液の滴下速度は、既述の如く発泡が生じない速度で行うことが好ましく、一例として、約30mL(ミリリットル)の溶液を、25分~35分程度掛けて滴下する態様を挙げることができる。
The temperature of the mixture is preferably 100°C to 150°C, preferably 110°C to 140°C, more preferably 110°C to 130°C.
The dropping speed of the solution of the compound represented by general formula I is preferably a speed that does not cause foaming as described above. A mode of dripping can be mentioned.

反応温度は、混合液の内温で100℃~150℃が好ましく、110℃~140℃が好ましく、110℃~130℃がより好ましい。
反応時間は、1時間~3時間とすることができ、1.5時間~2.5時間が好ましい。
The reaction temperature is preferably 100°C to 150°C, more preferably 110°C to 140°C, more preferably 110°C to 130°C, as the internal temperature of the mixture.
The reaction time can be 1 hour to 3 hours, preferably 1.5 hours to 2.5 hours.

本開示の製造方法により得られたアミノベンゾニトリル誘導体において副生成物が少なく、純度が高いことは、得られた生成物を、高速液体クロマトグラフィー(High Performance Liquid Chromatography:HPLC)で分析することにより確認することができる。
本開示により得られたベンゾニトリル誘導体の純度は、90%以上が好ましく、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。
HPLCによる分析で用いられる装置としては、例えば、高速液体クロマトグラフィーLC-2010((株)島津製作所)が挙げられる。
The fact that the aminobenzonitrile derivative obtained by the production method of the present disclosure has few by-products and high purity can be confirmed by analyzing the resulting product by High Performance Liquid Chromatography (HPLC). can be confirmed.
The purity of the benzonitrile derivative obtained by the present disclosure is preferably 90% or higher, preferably 95% or higher, and more preferably 99% or higher.
An apparatus used for HPLC analysis includes, for example, high performance liquid chromatography LC-2010 (Shimadzu Corporation).

本開示では、HPLCの分析は、以下の条件で行った値を採用している。
装置;(株)島津製作所製、LC-2010
カラム;東ソー(株)、ODS-80Ts
流速;1ml/分
オーブン温度;40℃
検出波長;254nm
溶離液;アセトニトリル/水(容量比)=60/40、トリエチルアミン、酢酸を各0.1質量%
In the present disclosure, HPLC analysis adopts values obtained under the following conditions.
Apparatus; LC-2010 manufactured by Shimadzu Corporation
Column; Tosoh Corporation, ODS-80Ts
Flow rate; 1 ml/min Oven temperature; 40°C
Detection wavelength; 254 nm
Eluent; acetonitrile/water (volume ratio) = 60/40, triethylamine, 0.1% by mass each of acetic acid

本開示の製造方法は、工程Aに加え、その他の工程を含むことができる。その他の工程としては、一般式Iで表される化合物の合成工程(工程B)、得られた一般式IIで表される化合物を精製する工程(工程C)などが挙げられる。 The production method of the present disclosure can include other steps in addition to step A. Other steps include a step of synthesizing the compound represented by general formula I (step B), a step of purifying the obtained compound represented by general formula II (step C), and the like.

(工程B)
工程Bとしては、例えば、イサチンを原料としてオキシム化し、一般式Iで表される化合物に包含されるイサチンオキシムを得る工程が挙げられる。
工程Bとしては、例えば、置換基を有していてもよいイサチンと、塩酸ヒドロキシルアミンと、水とを含む混合液を混合し、混合液の内温70℃~90℃に昇温し、昇温した温度を維持しながら、1時間程度加熱撹拌する工程が挙げられる。
反応が終了した後、混合液の内温を、15℃~20℃に冷却し、さらに10分~20分間撹拌した後、生成されたイサチンオキシム結晶をろ取する。
得られたイサチンオキシム結晶は、水で洗浄し、50℃で12時間乾燥して、不純物が除かれたイサチンオキシムを得ることができる。
(Step B)
Step B includes, for example, a step of oximating isatin as a raw material to obtain isatin oxime included in the compound represented by general formula I.
In step B, for example, a mixed solution containing isatin which may have a substituent, hydroxylamine hydrochloride, and water is mixed, and the internal temperature of the mixed solution is raised to 70° C. to 90° C. A step of heating and stirring for about 1 hour while maintaining the warmed temperature can be mentioned.
After the reaction is completed, the internal temperature of the mixed solution is cooled to 15° C. to 20° C., stirred for 10 to 20 minutes, and the formed isatin oxime crystals are collected by filtration.
The obtained isatin oxime crystals can be washed with water and dried at 50° C. for 12 hours to obtain purified isatin oxime.

(工程C)
工程Cは、工程Aで得られた一般式IIで表される化合物を精製する工程である。
工程Aにて得られた一般式IIで表される化合物は、溶媒を含んだまま次工程に用いてもよいが、一般に、減圧蒸留して溶媒を除去し、固体成分としての一般式IIで表される化合物を得る。
(Process C)
Step C is a step of purifying the compound represented by general formula II obtained in step A.
The compound represented by general formula II obtained in step A may be used in the next step while containing a solvent, but generally, the solvent is removed by distillation under reduced pressure to obtain general formula II as a solid component. to obtain the indicated compound.

本開示の製造方法によれば、副反応及び副反応に起因する不純物の発生が抑制され、目的とするベンゾニトリル誘導体を高純度で得ることができる。さらに、三級アミンの使用量を調整することで、従来法に対し、より収率高く目的物であるベンゾニトリル誘導体を得ることができる。
本開示の製造方法により得られたベンゾニトリル誘導体は、不純物が少ないために、精製が容易であり、また、医薬品の製造などの各種の用途に好適に使用することができる。
According to the production method of the present disclosure, generation of impurities caused by side reactions and side reactions is suppressed, and the desired benzonitrile derivative can be obtained with high purity. Furthermore, by adjusting the amount of the tertiary amine used, the target benzonitrile derivative can be obtained in a higher yield than the conventional method.
Since the benzonitrile derivative obtained by the production method of the present disclosure has few impurities, it can be easily purified and can be suitably used for various purposes such as production of pharmaceuticals.

以下、実施例により本発明を詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、本実施例において、「部」、「%」とは、特に断りのない限り、「質量部」、「質量%」を意味する。 The present invention will be described in detail below with reference to examples. Materials, usage amounts, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the scope of the invention. Accordingly, the scope of embodiments of the present invention is not limited to the specific examples shown below. In the examples, "parts" and "%" mean "mass parts" and "mass%" unless otherwise specified.

〔実施例1〕
<オキシム化されたイサチンの合成>
イサチン 17.03g、塩酸ヒドロキシルアミン 8.0g、及び水 82.4mLを三口フラスコに入れ、混合液の内温を80℃に昇温した。
混合液の内温を80℃に維持した状態で、1時間加熱撹拌を継続し、反応が終了したことを、上記した条件にてHPLC分析により確認した。
その後、反応が終了した液の内温を15℃~20℃に冷却し、15分撹拌した。反応が終了した液中には、結晶が分散されていた。
液から結晶をろ取した。ろ取した結晶は、水160mLで洗浄後、50℃で12時間乾燥したところ、イサチンオキシムが18.2g得られた。収率は97%であった。(工程B)
[Example 1]
<Synthesis of oximated isatin>
17.03 g of isatin, 8.0 g of hydroxylamine hydrochloride, and 82.4 mL of water were placed in a three-necked flask, and the internal temperature of the mixed liquid was raised to 80°C.
Heating and stirring were continued for 1 hour while the internal temperature of the mixed solution was maintained at 80° C., and completion of the reaction was confirmed by HPLC analysis under the conditions described above.
Thereafter, the internal temperature of the reaction-completed liquid was cooled to 15° C. to 20° C. and stirred for 15 minutes. Crystals were dispersed in the reaction-completed liquid.
Crystals were filtered from the liquid. The filtered crystals were washed with 160 mL of water and dried at 50° C. for 12 hours to obtain 18.2 g of isatin oxime. Yield was 97%. (Step B)

(イサチンオキシムの確認)
得られた結晶を、既述の条件にてHPLCで分析したところ、純度99.3%のイサチンオキシムであることが確認された。
イサチンオキシムの核磁気共鳴装置(NMR)により得たスペクトル:H-NMR(CDCl) 8.06(1H,d),7.32(1H,t),7.06(1H,t),6.88(1H,d)
NMRスペクトルにより、得られた化合物は、イサチンオキシムの構造を有することを確認した。
(Confirmation of isatin oxime)
When the obtained crystals were analyzed by HPLC under the conditions described above, it was confirmed to be isatin oxime with a purity of 99.3%.
Spectra obtained by nuclear magnetic resonance (NMR) of isatin oxime: 1 H-NMR (CDCl 3 ) 8.06 (1H, d), 7.32 (1H, t), 7.06 (1H, t), 6 .88(1H,d)
The NMR spectrum confirmed that the obtained compound had the structure of isatin oxime.

<ベンゾニトリル誘導体の調製>
N,N-ジメチルアセトアミド 28mL及びDBU 0.3g(イサチンオキシム1molに対し1.5mol%)を含む混合液を三口フラスコに貯留し、液温(内温)を115℃~120℃に昇温した。
以下の実施例において、特定三級アミンの使用量は、イサチンオキシム1molに対する使用量を示す。
別途、工程Bで得られたイサチンオキシム 18.2gをN,N-ジメチルアセトアミド28mLに溶解して溶液を準備した。準備したイサチンオキシム溶液を、上記混合液を貯留した三口フラスコへ30分かけて滴下した。発泡に留意しながら滴下を行い、115℃~120℃で2時間反応に付した後、20℃に冷却した。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが12.8g(収率97%)で生成していることが確認された。(工程A)
2-アミノベンゾニトリルを含む液を、減圧蒸留することにより12.0gの2-アミノベンゾニトリルを得た。収率は91%であった。(工程C)
HPLCによる分析によれば、得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は99.5%であった。
<Preparation of benzonitrile derivative>
A mixed liquid containing 28 mL of N,N-dimethylacetamide and 0.3 g of DBU (1.5 mol % with respect to 1 mol of isatin oxime) was stored in a three-necked flask, and the liquid temperature (inner temperature) was raised to 115°C to 120°C.
In the following examples, the amount of specific tertiary amine used indicates the amount used per 1 mol of isatin oxime.
Separately, 18.2 g of isatin oxime obtained in step B was dissolved in 28 mL of N,N-dimethylacetamide to prepare a solution. The prepared isatin oxime solution was added dropwise over 30 minutes to the three-necked flask containing the mixed solution. The mixture was added dropwise while paying attention to foaming, reacted at 115°C to 120°C for 2 hours, and then cooled to 20°C.
Quantification by the internal standard method confirmed that 12.8 g of 2-aminobenzonitrile was produced (yield 97%). (Step A)
A liquid containing 2-aminobenzonitrile was distilled under reduced pressure to obtain 12.0 g of 2-aminobenzonitrile. Yield was 91%. (Process C)
Analysis by HPLC indicated that the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained was 99.5%.

(2-アミノベンゾニトリルの確認)
得られた2-アミノベンゾニトリルのNMRスペクトル:H-NMR(CDCl) 7.32-7.36(2H,m),6.72-6.74(2H,m),4.45(2H,s)
NMRスペクトルにより、得られた化合物は、2-アミノベンゾニトリルの構造を有することを確認した。
(Confirmation of 2-aminobenzonitrile)
NMR spectrum of the obtained 2-aminobenzonitrile: 1 H-NMR (CDCl 3 ) 7.32-7.36 (2H, m), 6.72-6.74 (2H, m), 4.45 ( 2H, s)
The NMR spectrum confirmed that the obtained compound had the structure of 2-aminobenzonitrile.

〔実施例2〕
実施例1の工程Aにおいてイサチンオキシム溶液の調製に用いた溶媒を、N,N-ジメチルアセトアミドからスルホランに変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率96%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は86%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例2で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は99.3%であった。
[Example 2]
2-Aminobenzonitrile was obtained in the same manner as in Example 1, except that the solvent used for preparing the isatin oxime solution in Step A of Example 1 was changed from N,N-dimethylacetamide to sulfolane.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 96%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 86%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 2 was 99.3%.

実施例1と実施例2によれば、単離後の収率も高く、いずれも純度が99%以上の2-アミノベンゾニトリルが得られることが分かる。また、実施例1と実施例2との対比より、溶媒としてアミド系溶媒であるN,N-ジメチルアセトアミドを用いることで、より高い収率が実現できることが分かる。 According to Examples 1 and 2, the yield after isolation is high, and 2-aminobenzonitrile with a purity of 99% or more can be obtained in both cases. Further, from a comparison between Example 1 and Example 2, it can be seen that a higher yield can be achieved by using N,N-dimethylacetamide, which is an amide solvent, as the solvent.

〔実施例3〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUの使用量を1.5mol%から20mol%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率94%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は86%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例3で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は98.2%であった。
[Example 3]
2-Aminobenzonitrile was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount of DBU, which is a tertiary amine used in Step A of Example 1, was changed from 1.5 mol% to 20 mol%.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 94%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 86%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 3 was 98.2%.

〔実施例4〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUの使用量を1.5mol%から50mol%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率72%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は66%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例4で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は96.1%であった。
[Example 4]
2-Aminobenzonitrile was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount of DBU, which is a tertiary amine used in Step A of Example 1, was changed from 1.5 mol% to 50 mol%.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 72%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 66%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 4 was 96.1%.

〔実施例5〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUの使用量を1.5mol%から100mol%(1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率69%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は62%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例5で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は95.7%であった。
[Example 5]
2-Aminobenzonitrile was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of DBU, which is a tertiary amine used in Step A of Example 1, was changed from 1.5 mol% to 100 mol% (1 equivalent). Obtained.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 69%.
Thereafter, vacuum distillation was performed in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 62%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 5 was 95.7%.

実施例1、実施例3~実施例5の結果より、三級アミンであるDBUの使用量が1.5mol%~100mol%の範囲で、高純度の2-アミノベンゾニトリルが得られることが分かる。また、DBUの使用量として、1.5mol%~20mol%の範囲で、2-アミノベンゾニトリルのより高い収率が実現できることが分かる。 From the results of Examples 1 and 3 to 5, it can be seen that high-purity 2-aminobenzonitrile can be obtained when the amount of DBU, which is a tertiary amine, is in the range of 1.5 mol % to 100 mol %. . Also, it can be seen that a higher yield of 2-aminobenzonitrile can be achieved when the amount of DBU used is in the range of 1.5 mol % to 20 mol %.

〔実施例6〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUを、トリn-ブチルアミン110mol%(1.1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率84%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は76%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例6で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は98.6%であった。
[Example 6]
2-Aminobenzonitrile was obtained in the same manner as in Example 1, except that the tertiary amine DBU used in Step A of Example 1 was changed to 110 mol% (1.1 equivalents) of tri-n-butylamine. rice field.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 84%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 76%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 6 was 98.6%.

〔実施例7〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUを、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン110mol%(1.1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率69%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は62%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例7で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は99.0%であった。
[Example 7]
The procedure of Example 1 was repeated except that the tertiary amine DBU used in Step A of Example 1 was changed to 110 mol% (1.1 equivalents) of N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine. to give 2-aminobenzonitrile.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 69%.
Thereafter, vacuum distillation was performed in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 62%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 7 was 99.0%.

〔実施例8〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUを、N,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン110mol%(1.1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率90%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は82%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例8で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は98.4%であった。
[Example 8]
In the same manner as in Example 1, except that the tertiary amine DBU used in Step A of Example 1 was changed to 110 mol% (1.1 equivalents) of N,N,N',N'-tetraethylethylenediamine. , to give 2-aminobenzonitrile.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 90%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 82%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 8 was 98.4%.

〔実施例9〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUを、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン110mol%(1.1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率73%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は65%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例9で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は98.9%であった。
[Example 9]
Except for changing the tertiary amine DBU used in Step A of Example 1 to 110 mol% (1.1 equivalents) of N,N,N',N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane, Analogously to Example 1, 2-aminobenzonitrile was obtained.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 73%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 65%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 9 was 98.9%.

〔実施例10〕
実施例1の工程Aにおいて用いた三級アミンであるDBUを、N,N,N’,N’-ペンタメチルエチレントリアミン110mol%(1.1当量)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率82%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は74%であった。
HPLCによる分析によれば、実施例10で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は98.8%であった。
[Example 10]
Same as Example 1, except that DBU, which is a tertiary amine used in Step A of Example 1, was changed to 110 mol% (1.1 equivalents) of N,N,N',N'-pentamethylethylenetriamine. to give 2-aminobenzonitrile.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced with a yield of 82%.
Thereafter, vacuum distillation was performed in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 74%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Example 10 was 98.8%.

〔比較例1〕
実施例1の工程Aにおいて用いた特定三級アミンであるDBUを用いず、N,N-ジメチルアセトアミドのみを用いた以外は、実施例1と同様にして、2-アミノベンゾニトリルを得た。
内標法で定量すると2-アミノベンゾニトリルが収率25%で生成していることが確認された。
その後、実施例1の工程Cと同様にして減圧蒸留を行い、単離した2-アミノベンゾニトリルの収率は18%であった。
HPLCによる分析によれば、比較例1で得られた2-アミノベンゾニトリルの純度は95.3%であった。
[Comparative Example 1]
2-Aminobenzonitrile was obtained in the same manner as in Example 1 except that DBU, which is the specific tertiary amine used in Step A of Example 1, was not used and only N,N-dimethylacetamide was used.
Quantification by the internal standard method confirmed that 2-aminobenzonitrile was produced in a yield of 25%.
Thereafter, distillation under reduced pressure was carried out in the same manner as in Step C of Example 1, and the yield of isolated 2-aminobenzonitrile was 18%.
According to HPLC analysis, the purity of the 2-aminobenzonitrile obtained in Comparative Example 1 was 95.3%.

各実施例及び比較例1における収率と、得られた2-アミノベンゾニトリルの純度を下記表1に示す。 The yield in each Example and Comparative Example 1 and the purity of the obtained 2-aminobenzonitrile are shown in Table 1 below.

Figure 0007257985000010
Figure 0007257985000010

上記表1に明らかなように、実施例1~実施例10の製造方法によれば、特定三級アミンを用いなかった比較例1の製造方法に対して、より純度の高いアミノベンゾニトリル誘導体が高い収率で得られることが分かる。 As is clear from Table 1 above, according to the production methods of Examples 1 to 10, an aminobenzonitrile derivative with a higher purity than the production method of Comparative Example 1 that did not use a specific tertiary amine was produced. It can be seen that high yields are obtained.

Claims (4)

下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式IIIで表される化合物及び1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセンからなる群より選択される三級アミンの少なくとも1種の存在下で反応させ、下記一般式IIで表されるベンゾニトリル誘導体を得る工程を含むベンゾニトリル誘導体の製造方法。
Figure 0007257985000011


一般式I中、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式II中、R21、R22、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。
一般式III中、R31、R32及びR33は、それぞれ独立にアルキル基をす。
A compound represented by the following general formula I, at least one tertiary amine selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula III and 1,8-diazabicyclo[5,4,0]-7-undecene A method for producing a benzonitrile derivative, comprising the step of reacting in the presence of a species to obtain a benzonitrile derivative represented by general formula II below.
Figure 0007257985000011


In general formula I, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula II, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. .
In general formula III, R 31 , R 32 and R 33 each independently represent an alkyl group .
前記三級アミンの使用量は、前記一般式Iで表される化合物1molに対し、0.1mol%~100mol%の範囲である請求項1に記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。 The method for producing a benzonitrile derivative according to claim 1, wherein the amount of the tertiary amine used is in the range of 0.1 mol% to 100 mol% with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula I. 前記ベンゾニトリル誘導体を得る工程は、水及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選択される少なくとも1種の溶媒の存在下で行われる請求項1または請求項2に記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。 The method for producing a benzonitrile derivative according to claim 1 or 2, wherein the step of obtaining the benzonitrile derivative is performed in the presence of at least one solvent selected from the group consisting of water and an aprotic polar solvent. . 前記一般式Iで表される化合物が、一般式IにおけるR、R、R及びRが水素原子であるイサチンオキシムである請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のベンゾニトリル誘導体の製造方法。 4. The benzo according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound represented by general formula I is isatin oxime in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in general formula I are hydrogen atoms. A method for producing a nitrile derivative.
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