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JP7147121B2 - Protective film, laminate, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Protective film, laminate, polarizing plate, and image display device Download PDF

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JP7147121B2 JP2017067052A JP2017067052A JP7147121B2 JP 7147121 B2 JP7147121 B2 JP 7147121B2 JP 2017067052 A JP2017067052 A JP 2017067052A JP 2017067052 A JP2017067052 A JP 2017067052A JP 7147121 B2 JP7147121 B2 JP 7147121B2
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行光 岩田
英司 大石
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Description

本発明は、保護フィルム、積層体、偏光板、および画像表示装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to protective films, laminates, polarizing plates, and image display devices.

近年、液晶や有機発光ダイオードを利用した薄型ディスプレイの開発が進んでいる。特に、スマートフォンやタブレットと呼ばれるモバイル機器の開発が進んでいる。このようなモバイル機器等の画像表示装置においては、通常、表示素子よりも、観察者側に偏光板が設けられている。 In recent years, thin displays using liquid crystals and organic light-emitting diodes have been developed. In particular, the development of mobile devices called smartphones and tablets is progressing. In such an image display device such as a mobile device, a polarizing plate is usually provided on the observer side rather than the display element.

偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に設けられた保護フィルムとから構成されており、保護フィルムとしては、通常、トリアセチルセルロース基材(TAC基材)が用いられている。偏光子とTAC基材とは、紫外線硬化性接着剤や水系接着剤を介して接着されていることが多い(例えば、特許文献1参照)。 A polarizing plate is composed of a polarizer and protective films provided on both sides of the polarizer, and a triacetylcellulose base material (TAC base material) is usually used as the protective film. A polarizer and a TAC substrate are often adhered via an ultraviolet curable adhesive or a water-based adhesive (see Patent Document 1, for example).

特開2016-66047号公報JP 2016-66047 A

近年の薄型ディスプレイの開発に伴い、偏光板の薄型化が求められている。しかしながら、偏光板に用いられている保護フィルムとしてのTAC基材の厚みは厚く、また通常、TAC基材には所望の機能を発揮する添加剤(例えば、紫外線吸収剤)が含まれているので、単純に、TAC基材を薄くすると、その分、所望の機能(例えば、紫外線吸収機能)が得られ難くなる。 With the development of thin displays in recent years, there is a demand for thin polarizing plates. However, the thickness of the TAC substrate as a protective film used in the polarizing plate is large, and the TAC substrate usually contains an additive (for example, an ultraviolet absorber) that exhibits a desired function. If the TAC base material is simply made thinner, it becomes difficult to obtain the desired function (for example, ultraviolet absorption function) accordingly.

このため、偏光板の保護フィルムとして、TAC基材のような基材を備えないことにより薄型化を図ることが可能であり、かつ添加剤を添加することによって所望の機能を発揮することが可能な光透過性機能層からなる基材レスの保護フィルムを用いることが検討されている。基材レスの保護フィルムは、離型フィルムの一方の面に光透過性機能層を形成し、光透過性機能層から離型フィルムを剥離することによって、形成することが可能である。 Therefore, it is possible to reduce the thickness of the protective film for the polarizing plate by not providing a base material such as a TAC base material, and it is possible to exhibit the desired function by adding an additive. The use of a substrate-less protective film composed of a light-transmitting functional layer is being studied. A substrate-less protective film can be formed by forming a light-transmissive functional layer on one surface of a release film and peeling the release film from the light-transmissive functional layer.

現在、基材レスの保護フィルムにおいては、薄型化の他、透明性の観点から、低ヘイズ値を有することが求められているが、未だこのような保護フィルムが得られていないのが現状である。 At present, substrate-less protective films are required to have a low haze value from the viewpoint of transparency in addition to being thin, but the current situation is that such a protective film has not yet been obtained. be.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、薄く、かつ低ヘイズ値を有する保護フィルム、それを備える積層体、偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a protective film that is thin and has a low haze value, a laminate, a polarizing plate, and an image display device comprising the same.

本発明の一の態様によれば、光透過性機能層からなる基材レスの保護フィルムであって、前記光透過性機能層の表面が前記保護フィルムの表面をなし、前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を0.25mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq0.25およびカットオフ値を2.5mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq2.5がいずれも0.035μm以下である、保護フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a substrate-less protective film comprising a light-transmitting functional layer, wherein the surface of the light-transmitting functional layer forms the surface of the protective film, and the light-transmitting functional layer The root mean square roughness Rq 0.25 measured with a cutoff value of 0.25 mm and the root mean square roughness Rq 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm are both 0.035 μm or less. A protective film is provided.

上記保護フィルムにおいて、前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を0.25mmとして測定した最大高さRy0.25およびカットオフ値を2.5mmとして測定した最大高さRy2.5がいずれも0.05μm以上0.25μm以下であり、かつ前記最大高さRy2.5と前記最大高さRy0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)が、0.100μm以下であってもよい。 In the protective film, the maximum height Ry measured at a cutoff value of 0.25 mm on the surface of the light-transmitting functional layer was 0.25 , and the maximum height Ry 2.5 measured at a cutoff value of 2.5 mm. are both 0.05 μm or more and 0.25 μm or less, and the difference between the maximum height Ry 2.5 and the maximum height Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) is 0.100 μm It may be below.

上記保護フィルムにおいて、前記二乗平均平方根粗さRq2.5と前記二乗平均平方根粗さRq0.25の差(Rq2.5-Rq0.25)が、0.010μm以下であってもよい。 In the protective film, the difference (Rq 2.5 −Rq 0.25 ) between the root mean square roughness Rq 2.5 and the root mean square roughness Rq 0.25 may be 0.010 μm or less. .

上記保護フィルムにおいて、前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を2.5mmとして測定した十点平均粗さRz2.5とカットオフ値を0.25mmとして測定した十点平均粗さRz0.25との差(Rz2.5-Rz0.25)が、0.050μm以下であってもよい。 In the protective film, a ten-point average roughness Rz 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm on the surface of the light-transmitting functional layer and a ten-point average roughness measured with a cutoff value of 0.25 mm The difference from Rz 0.25 (Rz 2.5 −Rz 0.25 ) may be 0.050 μm or less.

上記保護フィルムにおいて、前記保護フィルムの透湿度が、100g/(m・24h)以下であってもよい。 In the protective film, the protective film may have a moisture permeability of 100 g/(m 2 ·24 h) or less.

上記保護フィルムにおいて、前記保護フィルムの膜厚が5μm以上40μm以下であり、かつ前記保護フィルムの引張り破断強度が、8N/10mm以上であってもよい。 In the above protective film, the film thickness of the protective film may be 5 μm or more and 40 μm or less, and the tensile strength at break of the protective film may be 8 N/10 mm or more.

上記保護フィルムにおいて、前記光透過性機能層が、2以上の光透過性機能層が積層された多層構造であってもよい。 In the protective film, the light-transmitting functional layer may have a multilayer structure in which two or more light-transmitting functional layers are laminated.

本発明の他の態様によれば、上記保護フィルムと、前記保護フィルムの前記光透過性機能層の前記表面に直接設けられた剥離可能な離型フィルムとを備える、積層体が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a laminate comprising the above protective film and a peelable release film provided directly on the surface of the light transmissive functional layer of the protective film.

上記積層体において、前記離型フィルム側から前記積層体に波長200nm以上500nm以下の光を積算光量が1000mJ/cmとなるように照射し、前記光透過性機能層から前記離型フィルムを、25℃および相対湿度60%の環境下で、剥離速度300mm/分で180°の方向に剥離したとき、前記離型フィルムの剥離強度が、20mN/25mm以上200mN/25mm以下であってもよい。 In the laminate, the laminate is irradiated with light having a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less from the release film side so that the integrated light amount becomes 1000 mJ/cm 2 , and the release film is removed from the light-transmitting functional layer, The release film may have a peel strength of 20 mN/25 mm or more and 200 mN/25 mm or less when peeled in a direction of 180° at a peel rate of 300 mm/min under an environment of 25° C. and a relative humidity of 60%.

本発明の他の態様によれば、上記保護フィルムまたは上記積層体と、前記保護フィルムまたは上記積層体の前記光透過性機能層における前記表面側とは反対側に設けられた偏光子とを備える、偏光板が提供される。 According to another aspect of the present invention, the protective film or the laminate, and a polarizer provided on the side opposite to the surface side of the light-transmissive functional layer of the protective film or the laminate. , a polarizer is provided.

本発明の他の態様によれば、上記保護フィルムまたは上記偏光板を備える、画像表示装置が提供される。 According to another aspect of the invention, there is provided an image display device comprising the protective film or the polarizing plate.

本発明の一の態様の保護フィルムによれば、薄く、かつ低ヘイズ値を有する保護フィルムを提供することができる。また、本発明の他の態様によれば、このような保護フィルムを備える積層体、偏光板、および画像表示装置を提供することができる。 According to the protective film of one aspect of the present invention, it is possible to provide a thin protective film having a low haze value. Moreover, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a laminate, a polarizing plate, and an image display device each having such a protective film.

実施形態に係る保護フィルムの概略構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic block diagram of the protective film which concerns on embodiment. Rq´を説明する図である。It is a figure explaining Rq'. 実施形態に係る積層体の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the laminated body which concerns on embodiment. 実施形態に係る積層体における剥離フィルムの剥離強度を測定する際の様子を示した図である。It is the figure which showed the mode at the time of measuring the peel strength of the peeling film in the laminated body which concerns on embodiment. 実施形態に係る保護フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the protective film which concerns on embodiment. 実施形態に係る保護フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the protective film which concerns on embodiment. 実施形態に係る偏光板の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a polarizing plate according to an embodiment; FIG. 実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an image display device according to an embodiment; FIG.

以下、本発明の実施形態に係る積層体、偏光板、および画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」は、シートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。また、本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。図1は本実施形態に係る積層体の概略構成図であり、図2はRq´を説明する図であり、図3は本実施形態に係る積層体の概略構成図である。図4は本実施形態に係る積層体における剥離フィルムの剥離強度を測定する際の様子を示した図である。図5および図6は実施形態に係る保護フィルムの製造工程を模式的に示した図である。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A laminate, a polarizing plate, and an image display device according to embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As used herein, the terms "film", "sheet" and the like are not to be distinguished from each other based solely on the difference in designation. Therefore, for example, the term "film" is used to include members that are also called sheets. In addition, the term "light transmissive" as used herein means a property of transmitting light. Including being 90% or more. Transparency does not necessarily have to be transparent, and may be translucent. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laminate according to this embodiment, FIG. 2 is a diagram for explaining Rq′, and FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a laminate according to this embodiment. FIG. 4 is a diagram showing how the peel strength of the release film in the laminate according to this embodiment is measured. 5 and 6 are diagrams schematically showing the manufacturing process of the protective film according to the embodiment.

<<<保護フィルム>>>
図1に示される保護フィルム10は、光透過性機能層11を備える基材レスの保護フィルムである。保護フィルム10の表面10Aは、光透過性機能層11の表面11Aから構成されている。本明細書における「保護フィルム」とは、被保護材(例えば、偏光子)を保護する機能を有し、被保護材の使用時にも剥離されないものである。すなわち、保護フィルムは、被保護材の製造時に使用されるが、被保護材の使用時には剥離される工程フィルムとは異なるものである。本実施形態においては、保護フィルム10は、偏光子を保護する機能を有している。また、本明細書における「基材」とは、光透過性機能層を形成するための支持体となる熱可塑性樹脂またはガラスからなるフィルムまたはシートを意味する。基材としては、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロースアシレート基材、シクロオレフィンポリマー基材、ポリカーボネート基材、アクリル基材、ポリエチレンテレフタレート基材等のポリエステル基材、またはガラス基材が挙げられる。なお、後述する離型フィルムは、最終的には保護フィルム10から剥離されるものであるので、保護フィルム10の一部を構成するものではない。さらに、本明細書における「光透過性機能層」とは、光透過性を有し、かつ保護フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層である。具体的には、光透過性機能層は、例えば、ハードコート層、コア層等が挙げられる。
<<<protective film>>>
The protective film 10 shown in FIG. 1 is a substrate-less protective film provided with a light-transmitting functional layer 11 . A surface 10A of the protective film 10 is composed of a surface 11A of the light transmissive functional layer 11 . The “protective film” used herein has a function of protecting a material to be protected (for example, a polarizer) and does not peel off even when the material to be protected is used. In other words, the protective film is used during the manufacture of the protected material, but is different from the process film that is peeled off when the protected material is used. In this embodiment, the protective film 10 has the function of protecting the polarizer. Further, the term "substrate" as used herein means a film or sheet made of a thermoplastic resin or glass that serves as a support for forming the light-transmissive functional layer. Examples of the substrate include cellulose acylate substrates such as triacetyl cellulose, cycloolefin polymer substrates, polycarbonate substrates, acrylic substrates, polyester substrates such as polyethylene terephthalate substrates, and glass substrates. In addition, since the release film to be described later is to be peeled off from the protective film 10 in the end, it does not constitute a part of the protective film 10 . Furthermore, the "light-transmitting functional layer" in this specification is a layer that has light-transmitting properties and is intended to exhibit some function in the protective film. Specifically, the light-transmissive functional layer includes, for example, a hard coat layer, a core layer, and the like.

保護フィルム10においては、光透過性機能層11の表面11Aにおけるカットオフ値を0.25mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq0.25およびカットオフ値を2.5mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq2.5がいずれも0.035μm以下となっている。表面11AのRq0.25およびRq2.5のいずれもが、0.035μm以下であれば、表面11Aが極めて平坦となるので、低ヘイズ値を有する保護フィルム10を提供できる。 In the protective film 10, the root-mean-square roughness Rq measured with a cutoff value of 0.25 mm on the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 was 0.25 , and the root-mean-square roughness measured with a cutoff value of 2.5 mm. Rq 2.5 is 0.035 μm or less. If both Rq 0.25 and Rq 2.5 of the surface 11A are 0.035 μm or less, the surface 11A becomes extremely flat, and thus the protective film 10 having a low haze value can be provided.

二乗平方根粗さRqとは、評価長さの粗さ曲線の山と谷の各標高の値を二乗して平均し、評価長さで割り平方根し、均等な標高として求めた値である。ここで、Rqは粗さ曲線を二乗しているので、算術平均粗さRaよりも凹凸よる差が敏感に現れる。一方で、Rqは各標高の値を二乗しているため、カットオフ値(評価長さ)や針の送り速さによる影響が大きい。このため、カットオフ値を0.25mmと2.5mmとしてRqをそれぞれ測定している。Rqを0.25mmのカットオフ値で測定した場合には、ミクロの範囲で測定することになるので、光透過性機能層11の表面11Aに存在する凹凸の高周波成分の影響が現れる。一方、Rqを2.5mmのカットオフ値で測定した場合には、ある程度マクロの範囲で測定することになるので、光透過性機能層11の表面11Aに存在する凹凸の大きなうねりのような低周波成分の影響が現れる。 The root-square roughness Rq is a value obtained by squaring and averaging the elevation values of the peaks and troughs of the roughness curve of the evaluation length, dividing by the evaluation length and taking the square root to obtain a uniform elevation. Here, since Rq is the square of the roughness curve, the difference due to unevenness appears more sensitively than the arithmetic mean roughness Ra. On the other hand, since Rq is obtained by squaring the value of each altitude, it is greatly affected by the cutoff value (evaluation length) and needle feed speed. Therefore, Rq is measured with cutoff values of 0.25 mm and 2.5 mm. When Rq is measured with a cut-off value of 0.25 mm, the measurement is performed in a microscopic range, so the influence of the high-frequency component of the unevenness existing on the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 appears. On the other hand, when Rq is measured with a cutoff value of 2.5 mm, it is measured in a macroscopic range to some extent. The influence of frequency components appears.

二乗平均平方根粗さRqは、複数の評価長さにおいて以下の式によって求められるRq´(図2参照)をそれぞれ求め、それらの算術平均値によって求められる。

Figure 0007147121000001
上記式中、f(x)は粗さ曲線を表し、Lは評価長さを表す。 The root-mean-square roughness Rq is obtained by calculating Rq' (see FIG. 2) obtained by the following formula at a plurality of evaluation lengths and calculating their arithmetic mean value.
Figure 0007147121000001
In the above formula, f(x) represents the roughness curve and L represents the evaluation length.

Rq0.25およびRq2.5は、いずれも、表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定することができる。表面粗さ測定器としては、サーフコーダSE-3400、SE-3500、SE-500(いずれも小坂研究所製)を用いることができる。なお、Rqは、JIS B0601:2001で規定されているパラメータであるが、JIS B0601:1994では規定されていない。サーフコーダSE-3400やSE-3500は、JIS B0601:1994に準拠している一方でJIS B0601:2001に準拠していないが、サーフコーダSE-3400やSE-3500においてJIS1994(ISO4287 1984準拠)モードに設定すれば、サーフコーダSE-3400やSE-3500でRqを測定することができる。また、サーフコーダ500は、JIS B0601:2001に準拠しているので、サーフコーダ500においてもRqを測定することができる。 Both Rq 0.25 and Rq 2.5 can be measured using a surface roughness tester under the following measurement conditions. Surfcoders SE-3400, SE-3500 and SE-500 (all manufactured by Kosaka Laboratory) can be used as the surface roughness measuring instrument. Rq is a parameter defined in JIS B0601:2001, but not defined in JIS B0601:1994. Surfcoders SE-3400 and SE-3500 comply with JIS B0601:1994, but do not comply with JIS B0601:2001. , Rq can be measured with the surfcoder SE-3400 or SE-3500. Also, since the surfcoder 500 complies with JIS B0601:2001, the surfcoder 500 can also measure Rq.

サーフコーダSE-3400でRq0.25を測定する場合、Rq0.25の測定は、原則、下記測定条件1で行うものとするが、下記測定条件1の縦倍率が10万倍では、表面の凹凸が大きくなりすぎて、測定不可能となる場合には、下記測定条件3で行うものとする。また、同様に、サーフコーダSE-3400でRq2.5を測定する場合、Rq2.5の測定は、原則、下記測定条件2で行うものとするが、下記測定条件2の縦倍率が10万倍では、表面の凹凸が大きくなりすぎて、測定不可能となる場合には、下記測定条件4で行うものとする。また、JIS B0601:2001に準拠した表面粗さ測定器によっても、Rq0.25およびRq2.5を測定してもよい。
1)表面粗さ検出部の触針(製品名「サーフコーダSE-3400」、小坂研究所製、2μm標準)
・先端曲率半径2μm、頂角90度、材質ダイヤモンド
2-1)測定条件1
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-2)測定条件2
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-3)測定条件3
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-4)測定条件4
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
When measuring Rq 0.25 with the Surfcoder SE-3400, the measurement of Rq 0.25 shall be performed under the following measurement conditions 1 in principle. If the unevenness becomes too large to measure, the following measurement condition 3 shall be used. Similarly, when measuring Rq 2.5 with the Surfcoder SE-3400, the measurement of Rq 2.5 is, in principle, performed under the following measurement conditions 2, but the longitudinal magnification of the following measurement conditions 2 is 10 If the measurement is impossible at 10,000 times because the unevenness of the surface becomes too large, the following measurement condition 4 shall be used. Also, Rq 0.25 and Rq 2.5 may be measured with a surface roughness measuring instrument conforming to JIS B0601:2001.
1) Stylus of surface roughness detector (product name “Surfcorder SE-3400”, manufactured by Kosaka Laboratory, 2 μm standard)
・ Tip curvature radius 2 μm, apex angle 90 degrees, material diamond 2-1) Measurement condition 1
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.25 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・Feeding speed of stylus: 0.1mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 100,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-2) Measurement condition 2
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・Feeding speed of stylus: 0.5mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 100,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-3) Measurement condition 3
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.25 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・Feeding speed of stylus: 0.1mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 10,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-4) Measurement condition 4
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・Feeding speed of stylus: 0.5mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 10,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994

上記Rq0.25および上記Rq2.5の下限は、保護フィルム10をロール状に巻回したときの保護フィルム10同士の貼り付きを抑制する観点から、いずれも0.010μm以上であることが好ましく、0.015μm以上であることがより好ましく、上限はヘイズ値の上昇を抑制する観点から、いずれも0.030μm以下であることが好ましい。 The lower limits of Rq 0.25 and Rq 2.5 are both 0.010 μm or more from the viewpoint of suppressing sticking between the protective films 10 when the protective film 10 is wound in a roll. It is more preferably 0.015 μm or more, and the upper limit is preferably 0.030 μm or less from the viewpoint of suppressing an increase in haze value.

保護フィルム10においては、上記Rq2.5と上記Rq0.25の差(Rq2.5-Rq0.25)が、0.010μm以下であることが好ましい。この差が、0.010μm以下であれば、表面11Aの凹凸により保護フィルム10のヘイズ値が高くなり過ぎず、保護フィルム10の透明性の低下を抑制できる。この差は、0.008μm以下であることがより好ましい。 In the protective film 10, the difference between Rq 2.5 and Rq 0.25 (Rq 2.5 −Rq 0.25 ) is preferably 0.010 μm or less. If this difference is 0.010 μm or less, the haze value of the protective film 10 does not become too high due to the unevenness of the surface 11A, and the deterioration of the transparency of the protective film 10 can be suppressed. More preferably, this difference is 0.008 μm or less.

保護フィルム10においては、光透過性機能層11の表面11Aにおけるカットオフ値を0.25mmとして測定した最大高さRy0.25およびカットオフ値を2.5mmとして測定した最大高さRy2.5がいずれも0.05μm以上0.25μm以下であり、かつ最大高さRy2.5と最大高さRy0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)が、0.100μm以下となっていることが好ましい。表面11AのRy0.25およびRy2.5のいずれもが、0.05μm以上であれば、極端に平滑過ぎないので、保護フィルム10をロール状に巻回したときの保護フィルム10同士の貼り付きを抑制できる。また、表面11AのRy0.25およびRy2.5のいずれもが0.25μm以下であり、かつ上記Ry2.5と上記Ry0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)が、0.100μm以下であれば、表面11Aの凹凸により保護フィルムのヘイズ値が高くなり過ぎず、保護フィルム10の透明性低下を抑制できる。 In the protective film 10, the maximum height Ry measured with a cutoff value of 0.25 mm on the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 was 0.25 , and the maximum height Ry measured with a cutoff value of 2.5 mm was 2.5 mm . 5 is 0.05 μm or more and 0.25 μm or less, and the difference between the maximum height Ry 2.5 and the maximum height Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) is 0.100 μm or less It is preferable that If both Ry 0.25 and Ry 2.5 of the surface 11A are 0.05 μm or more, it is not extremely smooth, so when the protective film 10 is wound in a roll, the protective film 10 can be stuck to each other. can suppress sticking. In addition, both Ry 0.25 and Ry 2.5 of the surface 11A are 0.25 μm or less, and the difference between Ry 2.5 and Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) However, if the thickness is 0.100 μm or less, the haze value of the protective film does not become too high due to the unevenness of the surface 11A, and the deterioration of the transparency of the protective film 10 can be suppressed.

最大高さRyとは、カットオフ値と等しいサンプリング長さのN倍の評価長さの粗さ曲線をN等分し、区間毎に最大高さRy´を求めたときのN個のRy´の算術平均値である。上記Rqにおいては、Rq´自体が平均値であるので、光透過性機能層の表面に極端に大きい凸部がある場合には、均されてしまう。これに対し、上記Ryは、Ry´の算術平均値であるものの、Ry´自体は平均値ではないために、光透過性機能層の表面に極端に大きい凸部がある場合には、その影響が現れる。このため、Rqの他に、Ryを測定している。また、Ryは区間毎の最大高さRy´の算術平均値であるため、カットオフ値(評価長さ)や針の送り速さによる影響が大きい。このため、カットオフ値を0.25mmと2.5mmとしてRyをそれぞれ測定している。さらに、表面11Aの滑らかさを規定するために、上記Ry2.5と上記Ry0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)を算出している。 The maximum height Ry is defined as N Ry′ obtained by dividing the roughness curve of the evaluation length N times the sampling length equal to the cutoff value into N equal parts and obtaining the maximum height Ry′ for each section. is the arithmetic mean of In the above Rq, since Rq' itself is an average value, if there is an extremely large convex portion on the surface of the light-transmitting functional layer, it will be flattened. On the other hand, although Ry is the arithmetic mean value of Ry', Ry' itself is not the mean value. appears. Therefore, Ry is measured in addition to Rq. Also, since Ry is the arithmetic average value of the maximum height Ry' for each section, it is greatly affected by the cutoff value (evaluation length) and needle feeding speed. Therefore, Ry is measured with cutoff values of 0.25 mm and 2.5 mm. Furthermore, in order to define the smoothness of the surface 11A, the difference between Ry 2.5 and Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) is calculated.

上記Ry0.25およびRy2.5は、いずれも、JIS B0601:1994に準拠して、表面粗さ測定器を用いて、上記Rq0.25およびRq2.5の上記測定条件と同様の測定条件により測定することができる。 Both Ry 0.25 and Ry 2.5 are measured using a surface roughness measuring instrument in accordance with JIS B0601: 1994 under the same measurement conditions as those for Rq 0.25 and Rq 2.5 . It can be measured according to the measurement conditions.

上記Ry0.25および上記Ry2.5の下限は、保護フィルム10をロール状に巻回したときの保護フィルム10同士の貼り付きを抑制する観点から、いずれも0.08μm以上であることがより好ましく、上限はヘイズ値の上昇を抑制する観点から、いずれも0.20μm以下であることがより好ましい。また、上記Ry2.5と上記Ry0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)は、表面11Aの凹凸により保護フィルムのヘイズ値が高くなり過ぎず、保護フィルム10の透明性低下を抑制する観点から、0.10μm以下であることがさらに好ましい。 The lower limits of Ry 0.25 and Ry 2.5 are both 0.08 μm or more from the viewpoint of suppressing sticking between protective films 10 when the protective film 10 is wound in a roll. More preferably, the upper limit is 0.20 μm or less for each from the viewpoint of suppressing an increase in haze value. In addition, the difference between Ry 2.5 and Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) is such that the haze value of the protective film does not become too high due to the unevenness of the surface 11A, and the transparency of the protective film 10 is maintained. From the viewpoint of suppressing the decrease, it is more preferably 0.10 μm or less.

保護フィルム10においては、光透過性機能層11の表面11Aにおけるカットオフ値を2.5mmとして測定した十点平均粗さRz2.5とカットオフ値を0.25mmとして測定した十点平均粗さRz0.25の差(Rz2.5-Rz0.25)が、0.050μm以下となっていることが好ましい。この差が、0.050μm以下であれば、表面11Aの凹凸により保護フィルム10のヘイズ値が高くなり過ぎず、保護フィルム10の透明性の低下を抑制できる。この差は、0.030μm以下であることがより好ましい。 In the protective film 10, the ten-point average roughness Rz 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm on the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 and the ten-point average roughness measured with a cutoff value of 0.25 mm It is preferable that the difference (Rz 2.5 −Rz 0.25 ) of height Rz 0.25 is 0.050 μm or less. If this difference is 0.050 μm or less, the haze value of the protective film 10 does not become too high due to the unevenness of the surface 11A, and the deterioration of the transparency of the protective film 10 can be suppressed. This difference is more preferably 0.030 μm or less.

十点平均粗さRzとは、カットオフ値と等しいサンプリング長さのN倍の評価長さの粗さ曲線をN等分し、区間毎に第1位から第5位までの高さの山頂の平均標高と第1位から第5位までの深さの谷底の平均標高の間隔Rz´を求めたときのN個のRz´の算術平均値である。Rzは第1位から第5位までの高さと深さの平均なため、カットオフ値(評価長さ)や針の送り速さによる影響が大きい。このため、カットオフ値を0.25mmと2.5mmにしてRzをそれぞれ測定している。また、表面11Aの滑らかさを規定するために、上記Rz2.5と上記Rz0.25の差(Rz2.5-Rz0.25)を算出している。 The ten-point average roughness Rz is obtained by dividing the roughness curve of the evaluation length N times the sampling length equal to the cutoff value into N equal parts, and the average altitude of valley bottoms of the first to fifth depths. Since Rz is the average of the heights and depths of the first to fifth ranks, it is greatly affected by the cutoff value (evaluation length) and needle feed speed. Therefore, Rz is measured with cutoff values of 0.25 mm and 2.5 mm. In addition, the difference (Rz 2.5 −Rz 0.25 ) between Rz 2.5 and Rz 0.25 is calculated to define the smoothness of the surface 11A.

上記Rz0.25およびRz2.5は、いずれも、JIS B0601:1994に準拠して、表面粗さ測定器を用いて、上記Rq0.25およびRq2.5の上記測定条件と同様の測定条件により測定することができる。 Both Rz 0.25 and Rz 2.5 are measured using a surface roughness measuring instrument in accordance with JIS B0601: 1994 under the same measurement conditions as those for Rq 0.25 and Rq 2.5 . It can be measured according to the measurement conditions.

保護フィルム10においては、光透過性機能層11の表面11Aにおける算術平均粗さRaが0.010μm以上0.020μm以下であることが好ましい。上記Raが0.010μm以上であれば、平滑過ぎないので、保護フィルム10をロール状に巻回したときに保護フィルム10同士が貼り付いてしまうことを抑制でき、また上記Raが0.020μm以下であれば、表面11Aの凹凸により保護フィルム10のヘイズ値が高くなり過ぎず、保護フィルム10の透明性の低下を抑制できる。上記Raの下限は、0.012μm以上であることがより好ましく、上記Raの上限は、0.018μm以下であることがより好ましい。 In the protective film 10, the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 preferably has an arithmetic mean roughness Ra of 0.010 μm or more and 0.020 μm or less. If the Ra is 0.010 μm or more, it is not too smooth, so that the protective film 10 can be prevented from sticking to each other when the protective film 10 is wound into a roll, and the Ra is 0.020 μm or less. If so, the haze value of the protective film 10 does not become too high due to the unevenness of the surface 11A, and the deterioration of the transparency of the protective film 10 can be suppressed. The lower limit of Ra is more preferably 0.012 μm or more, and the upper limit of Ra is more preferably 0.018 μm or less.

算術平均粗さRaとは、評価長さの粗さ曲線の山と谷の各標高の絶対値を積分して評価長さで割り、均等な標高として求めた値である。Raは各標高の絶対値を取っているため、カットオフ値(評価長さ)や針の送り速さによる影響が小さい。このため、Raは、カットオフ値を0.25mmおよび2.5mmとしてRaをそれぞれ測定してよいが、0.25mmおよび2.5mmのいずれかのカットオフを用いてRaを測定してもよい。 The arithmetic average roughness Ra is a value obtained by integrating the absolute values of the elevations of the peaks and valleys of the roughness curve of the evaluation length and dividing them by the evaluation length to obtain a uniform elevation. Since Ra takes the absolute value of each altitude, it is less affected by the cutoff value (evaluation length) and needle feed speed. Therefore, Ra may be measured with cutoff values of 0.25 mm and 2.5 mm, respectively, but Ra may be measured using either cutoff of 0.25 mm and 2.5 mm. .

上記Raは、JIS B0601:1994に準拠して、表面粗さ測定器を用いて、上記Rq0.25およびRq2.5の上記測定条件と同様の測定条件により測定することができる。 The above Ra can be measured using a surface roughness measuring instrument in accordance with JIS B0601:1994 under the same measurement conditions as those for Rq 0.25 and Rq 2.5 .

保護フィルム10の厚みは、保護フィルム10の薄型化の観点から、40μm未満となっていることが好ましい。保護フィルム10の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、保護フィルム10の断面を撮影し、その断面の画像において保護フィルム10の厚みを20箇所測定し、その20箇所の厚みの算術平均値とする。保護フィルム10の厚みは、保護フィルム10の薄型化の観点から、21μm未満となっていることがより好ましく、15μm未満となっていることがさらに好ましく、10μm未満となっていることが最も好ましい。 From the viewpoint of thinning the protective film 10, the thickness of the protective film 10 is preferably less than 40 μm. The thickness of the protective film 10 is obtained by photographing the cross section of the protective film 10 using a scanning electron microscope (SEM), measuring the thickness of the protective film 10 at 20 points in the image of the cross section, and calculating the thickness at the 20 points. Average value. From the viewpoint of thinning the protective film 10, the thickness of the protective film 10 is more preferably less than 21 μm, even more preferably less than 15 μm, and most preferably less than 10 μm.

保護フィルム10は、ヘイズ値(全ヘイズ値)が0.5%未満であることが好ましい。保護フィルム10のヘイズ値を0.5%未満とすることによって、低ヘイズ値を実現でき、また保護フィルム10をモバイル端末に用いた場合、画面の白化の抑制できる。ヘイズ値は、JIS K7136:2000に準拠して、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、村上色彩技術研究所製)を用いて、測定することができる。保護フィルム10のヘイズ値は、後述する離型フィルムを剥離して、保護フィルム10単体の状態で測定したときの値であり、また3回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、保護フィルム10のヘイズ値の測定は、コア層12側から保護フィルム10に光を入射させることによって行うものとする。保護フィルム10のヘイズ値の上限は、0.3%以下であることがより好ましく、0.2%以下であることがさらに好ましい。 The protective film 10 preferably has a haze value (total haze value) of less than 0.5%. By setting the haze value of the protective film 10 to less than 0.5%, a low haze value can be achieved, and whitening of the screen can be suppressed when the protective film 10 is used in a mobile terminal. The haze value can be measured using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Research Laboratory) in accordance with JIS K7136:2000. The haze value of the protective film 10 is a value obtained when the release film described later is peeled off and the protective film 10 alone is measured, and is the arithmetic mean value of three measurements. The haze value of protective film 10 is measured by allowing light to enter protective film 10 from the core layer 12 side. The upper limit of the haze value of the protective film 10 is more preferably 0.3% or less, and even more preferably 0.2% or less.

保護フィルム10は、全光線透過率が90%以上であることが好ましい。保護フィルム10の全光線透過率を90%以上とすることによって、優れた光透過性を有する保護フィルム10を提供できる。全光線透過率は、JIS K7361:1997に準拠して、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、村上色彩技術研究所製)を用いて、測定することができる。保護フィルム10の全光線透過率は、後述する離型フィルムを剥離して、保護フィルム10単体の状態で測定したときの値であり、また3回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、保護フィルム10の全光線透過率の測定は、コア層12側から光を保護フィルム10に光を入射させることによって行うものとする。保護フィルム10の全構成透過率の下限は、91%以上であることがより好ましい。 The protective film 10 preferably has a total light transmittance of 90% or more. By setting the total light transmittance of protective film 10 to 90% or more, protective film 10 having excellent light transmittance can be provided. The total light transmittance can be measured using a haze meter (product name “HM-150”, manufactured by Murakami Color Research Laboratory) in accordance with JIS K7361:1997. The total light transmittance of the protective film 10 is the value when the release film described later is peeled off and the protective film 10 alone is measured. do. The total light transmittance of the protective film 10 is measured by making light enter the protective film 10 from the core layer 12 side. More preferably, the lower limit of the total structural transmittance of the protective film 10 is 91% or more.

保護フィルム10は、波長380nmの光の透過率が7%以下であることが好ましい。保護フィルム10におけるこの波長域の光の透過率を7%以下とすることによって、保護フィルム10をスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に用いた場合、偏光子が紫外線に晒されて劣化することを抑制できる。光透過率は、分光光度計(製品名「UV-2450」、島津製作所製)を用いて、測定することができる。保護フィルム10の波長380nmの光透過率は、後述する離型フィルムを剥離して、保護フィルム10単体の状態で測定したときの値であり、また3回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、保護フィルム10の全波長380nmの光の透過率の測定は、コア層12側から光を保護フィルム10に光を入射させることによって行うものとする。保護フィルム10の波長380nmの光の透過率の上限は5%以下であることがより好ましい。 The protective film 10 preferably has a transmittance of 7% or less for light with a wavelength of 380 nm. By setting the transmittance of light in this wavelength region in the protective film 10 to 7% or less, when the protective film 10 is used in mobile terminals such as smartphones and tablet terminals, the polarizer is exposed to ultraviolet rays and deteriorates. can be suppressed. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (product name “UV-2450” manufactured by Shimadzu Corporation). The light transmittance of the protective film 10 at a wavelength of 380 nm is the value when the release film described later is peeled off and the protective film 10 alone is measured, and the arithmetic mean of the values obtained by three measurements. value. The transmittance of the protective film 10 for light with a full wavelength of 380 nm is measured by making the light enter the protective film 10 from the core layer 12 side. More preferably, the upper limit of the transmittance of light with a wavelength of 380 nm of the protective film 10 is 5% or less.

保護フィルム10の引張り破断強度は、優れた靭性を得るために、8N/10mm以上となっていることが好ましい。保護フィルム10の引張り破断強度の測定は、JIS-K7161-1:2014に準拠して、テンシロン万能試験機を用い、幅25mm、チャック間距離80mmで試験速度100mm/minで保護フィルムを引っ張ることにより行い、保護フィルムが破断した際に保護フィルムに加えられていた応力を引張り破断強度とする。保護フィルム10の引張り破断強度は、後述する離型フィルムを剥離して、保護フィルム10単体の状態で測定したときの値であり、また3回測定して得られた値の算術平均値とする。保護フィルム10の引張り破断強度は、10N/10mm以上となっていることが好ましい。 The tensile breaking strength of the protective film 10 is preferably 8 N/10 mm or more in order to obtain excellent toughness. The tensile breaking strength of the protective film 10 is measured by pulling the protective film at a test speed of 100 mm / min with a width of 25 mm and a distance between chucks of 80 mm using a Tensilon universal tester in accordance with JIS-K7161-1:2014. The stress applied to the protective film when the protective film breaks is taken as the tensile breaking strength. The tensile strength at break of the protective film 10 is the value when the release film described later is peeled off and the protective film 10 alone is measured, and the arithmetic mean value of the values obtained by three measurements. . The tensile breaking strength of the protective film 10 is preferably 10 N/10 mm or more.

保護フィルム10の透湿度は、100g/(m・24h)以下であることが好ましい。保護フィルム10の透湿度が100g/(m・24h)以下であれば、保護フィルム10を湿熱環境下に保護フィルムを置いたときに、水分が保護フィルムを通過し難く、偏光子の劣化を抑制できる。本明細書における「透湿度」とは、JIS Z0208-1976に記載の透湿度試験方法(カップ法)に準拠した手法によって、温度40℃、相対湿度90%の雰囲気下で測定される保護フィルムを24時間に通過する水蒸気の量(g/(m・24h))を意味する。なお、保護フィルム10の透湿度は、後述する離型フィルムを剥離して、保護フィルム10単体の状態で測定したときの値であり、また3回測定して得られた値の算術平均値とする。保護フィルム10の透湿度の上限は80g/(m・24h)以下であることがより好ましい。 The moisture permeability of the protective film 10 is preferably 100 g/(m 2 ·24 h) or less. If the moisture permeability of the protective film 10 is 100 g/(m 2 · 24 h) or less, when the protective film 10 is placed in a moist and hot environment, moisture does not easily pass through the protective film, and deterioration of the polarizer is prevented. can be suppressed. The term “moisture permeability” as used herein refers to a protective film measured under an atmosphere of 40° C. and 90% relative humidity by a method conforming to the moisture permeability test method (cup method) described in JIS Z0208-1976. It means the amount of water vapor passing through in 24 hours (g/(m 2 ·24h)). In addition, the moisture permeability of the protective film 10 is the value when the release film described later is peeled off and the protective film 10 alone is measured, and the arithmetic mean value of the values obtained by three measurements. do. More preferably, the upper limit of the moisture permeability of the protective film 10 is 80 g/(m 2 ·24 h) or less.

保護フィルム10は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。保護フィルム10が所望の大きさにカットされている場合、保護フィルムの大きさは、特に制限されず、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ(PC)、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン等の画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、保護フィルム10の大きさは、例えば、1インチ以上500インチ以下となっていてもよい。 The protective film 10 may be cut into a desired size, or may be in the form of a roll. When the protective film 10 is cut to a desired size, the size of the protective film is not particularly limited. It is appropriately determined according to the size of the display surface of the image display device. Specifically, the size of the protective film 10 may be, for example, 1 inch or more and 500 inches or less.

<<光透過性機能層>>
光透過性機能層は、単層構造となっていてもよいが、光透過性機能層が2層以上積層された多層構造となっていてもよい。図1に示される光透過性機能層11は、光透過性機能層11が2層からなる多層構造となっている。具体的には、コア層12と、コア層12の一方の面に設けられたハードコート層13とから構成されている。図1においては、ハードコート層13の表面が光透過性機能層11の表面11Aとなっている。なお、光透過性機能層が2層以上の多層構造である場合、各光透過性機能層間の界面は必ずしも明確でなくともよい。各層間の界面が明確でない場合には、各層の成分を分析することによって、光透過性機能層が、異なる機能を有する2以上の層から構成されていると判断することができる。光透過性機能層が、2層以上の多層構造の場合、それぞれの層が有する機能は同じであってもよいが、異なっていてもよい。
<<Light transmissive functional layer>>
The light-transmitting functional layer may have a single-layer structure, or may have a multi-layer structure in which two or more light-transmitting functional layers are laminated. The light-transmissive functional layer 11 shown in FIG. 1 has a multi-layer structure in which the light-transmissive functional layer 11 consists of two layers. Specifically, it is composed of a core layer 12 and a hard coat layer 13 provided on one surface of the core layer 12 . In FIG. 1 , the surface of the hard coat layer 13 is the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 . In addition, when the light-transmitting functional layer has a multi-layer structure of two or more layers, the interface between each light-transmitting functional layer may not necessarily be clear. If the interfaces between layers are not clear, it can be determined that the light-transmitting functional layer is composed of two or more layers having different functions by analyzing the components of each layer. When the light-transmitting functional layer has a multi-layered structure of two or more layers, the functions of each layer may be the same or different.

光透過性機能層11の膜厚は5μm以上40μm以下であることが好ましい。光透過性機能層11の膜厚が5μm以上であれば、上記破断強度や透湿度を最適な値とすることができ、また光透過性機能層11の膜厚が40μm以下であれば、薄く、また製造コストの上昇を抑制することができる。光透過性機能層11の膜厚は、保護フィルム10の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。光透過性機能層が、多層構造の場合には、「光透過性機能層の膜厚」とは、各光透過性機能層の膜厚の合計を意味する。光透過性機能層11の膜厚の下限は、8μm以上であることがより好ましく、光透過性機能層11の膜厚の上限は、30μm以下であることがより好ましい。 The film thickness of the light-transmissive functional layer 11 is preferably 5 μm or more and 40 μm or less. If the film thickness of the light-transmitting functional layer 11 is 5 μm or more, the breaking strength and moisture permeability can be optimized. , and an increase in manufacturing cost can be suppressed. The film thickness of the light-transmissive functional layer 11 is measured by the same method as for the film thickness of the protective film 10 . When the light-transmitting functional layer has a multi-layer structure, the "film thickness of the light-transmitting functional layer" means the total thickness of each light-transmitting functional layer. The lower limit of the film thickness of the light-transmitting functional layer 11 is more preferably 8 μm or more, and the upper limit of the film thickness of the light-transmitting functional layer 11 is more preferably 30 μm or less.

<コア層>
コア層12は、保護フィルム10において基材の代わりに靭性を付与する層であり、保護フィルム10の中で最も膜厚が厚い層である。なお、コア層12は、保護フィルム10において所望の範囲の上記透過率性能や透湿度を付与する機能を有している。具体的には、コア層12の膜厚は5μm以上40μm以下であることが好ましい。コア層12の膜厚をこの範囲にすることにより、コア層12の強度の著しい低下を抑制できるとともに、コア層12を形成するためのコア層用組成物のコーティングを容易に行うことができ、さらに、コア層12の厚みが厚すぎることに起因する加工性(特に、耐チッピング性)の悪化が発生することもない。コア層12の膜厚は、保護フィルム10と同様の方法によって測定するものとする。コア層12の膜厚の上限は、30μm以下であることがより好ましく、20μm以下であることがさらに好ましく、10μm以下であることが最も好ましい。
<Core layer>
The core layer 12 is a layer that imparts toughness instead of the substrate in the protective film 10 and is the thickest layer in the protective film 10 . In addition, the core layer 12 has a function of providing the protective film 10 with the above-described transmittance performance and moisture permeability within a desired range. Specifically, the film thickness of the core layer 12 is preferably 5 μm or more and 40 μm or less. By setting the film thickness of the core layer 12 within this range, it is possible to suppress a significant decrease in the strength of the core layer 12, and to easily perform the coating of the core layer composition for forming the core layer 12. Further, deterioration of workability (in particular, chipping resistance) due to the core layer 12 being too thick does not occur. The film thickness of the core layer 12 is measured by the same method as for the protective film 10 . The upper limit of the film thickness of the core layer 12 is more preferably 30 μm or less, even more preferably 20 μm or less, and most preferably 10 μm or less.

コア層12は、電離放射線重合性化合物の重合体からなる樹脂を含むことが好ましい。コア層12を形成する樹脂として、電離放射線重合性化合物の重合体からなる樹脂を用いていることが好ましいとしたのは、この樹脂の代わりに、熱可塑性樹脂のような溶剤乾燥型樹脂を用いてコア層を形成した場合には、コア層が柔らかくなりすぎてしまい、保護フィルムの硬度が低くなってしまうからである。 The core layer 12 preferably contains a resin made of a polymer of an ionizing radiation-polymerizable compound. The reason why it is preferable to use a resin composed of a polymer of an ionizing radiation polymerizable compound as the resin forming the core layer 12 is that a solvent-drying type resin such as a thermoplastic resin is used instead of this resin. This is because, if the core layer is formed by pressing, the core layer becomes too soft and the hardness of the protective film becomes low.

コア層12は、上記樹脂のみからなる層であってもよいが、所望の機能を発揮させるために添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、特に限定されないが、モバイル機器は屋外で使用されることが多く、偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいので、紫外線を吸収して、紫外線による偏光子の劣化を抑制する紫外線吸収剤(UVA)が好ましい。また、コア層12は、添加剤として、寸法安定性や破断強度を高めるために、シリカ粒子等の無機粒子、タルク、または有機系繊維等を含んでいてもよい。有機系繊維としては、セルロースナノファイバーを好適に用いることができる。コア層12が、紫外線吸収剤等の添加剤を含む場合、樹脂はバインダ樹脂として機能する。 The core layer 12 may be a layer composed only of the above resins, but may contain additives to exhibit desired functions. The additive is not particularly limited, but since mobile devices are often used outdoors and the polarizer is easily exposed to ultraviolet rays and deteriorates, the additive absorbs the ultraviolet rays and suppresses the deterioration of the polarizer due to the ultraviolet rays. Ultraviolet absorbers (UVA) are preferred. In addition, the core layer 12 may contain inorganic particles such as silica particles, talc, or organic fibers as additives in order to increase dimensional stability and breaking strength. Cellulose nanofibers can be suitably used as organic fibers. When the core layer 12 contains an additive such as an ultraviolet absorber, the resin functions as a binder resin.

(樹脂)
コア層12に含まれる樹脂は、上記したように、電離放射線重合性化合物の重合体からなる樹脂である。電離放射線重合性化合物は、電離放射線重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本明細書における、「電離放射線重合性官能基」とは、電離放射線照射により重合反応し得る官能基である。電離放射線重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、本明細書における「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、電離放射線重合性化合物を重合する際に照射される電離放射線としては、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。
(resin)
The resin contained in the core layer 12 is, as described above, a resin composed of a polymer of an ionizing radiation-polymerizable compound. The ionizing radiation polymerizable compound has at least one ionizing radiation polymerizable functional group. As used herein, the term "ionizing radiation-polymerizable functional group" refers to a functional group capable of undergoing a polymerization reaction upon exposure to ionizing radiation. Examples of ionizing radiation-polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups. In addition, the "(meth)acryloyl group" in this specification is meant to include both "acryloyl group" and "methacryloyl group". Examples of the ionizing radiation irradiated when polymerizing the ionizing radiation-polymerizable compound include visible light, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays.

優れた靭性および適度な柔軟性を有するコア層を得る場合には、電離放射線重合性化合物として、例えば、電離放射線重合性オリゴマーや電離放射線重合性プレポリマーを用いることが好ましい。電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーが挙げられる。これら電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーは、1種又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。 When obtaining a core layer having excellent toughness and moderate flexibility, it is preferable to use, for example, an ionizing radiation-polymerizable oligomer or an ionizing radiation-polymerizable prepolymer as the ionizing radiation-polymerizable compound. Ionizing radiation polymerizable oligomers or ionizing radiation polymerizable prepolymers include urethane (meth)acrylates, polyester (meth)acrylates, epoxy (meth)acrylates, melamine (meth)acrylates, polyfluoroalkyl (meth)acrylates, silicone (meth)acrylates, and silicone (meth)acrylates. ) oligomers or prepolymers such as acrylates. These ionizing radiation-polymerizable oligomers or ionizing radiation-polymerizable prepolymers may be used singly or in combination of two or more.

電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーの重量平均分子量は、1000以上20000以下であることが好ましい。電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーの重量平均分子量の下限は3000以上がより好ましく、上限は12000以下がより好ましく、10000以下がさらに好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン(THF)等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。 The weight average molecular weight of the ionizing radiation-polymerizable oligomer or ionizing radiation-polymerizable prepolymer is preferably 1,000 or more and 20,000 or less. The lower limit of the weight average molecular weight of the ionizing radiation-polymerizable oligomer or ionizing radiation-polymerizable prepolymer is more preferably 3000 or more, and the upper limit is more preferably 12000 or less, and even more preferably 10000 or less. As used herein, the "weight average molecular weight" is a value obtained by dissolving in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

硬度や組成物の粘度調整等のために、電離放射線重合性オリゴマー又は電離放射線重合性プレポリマーに加えて、更に単官能電離放射線重合性モノマーを含む混合物の硬化物からコア層12の樹脂を形成してもよい。単官能電離放射線重合性モノマーは、分子内に電離放射線重合性官能基を1つ有する化合物である。単官能電離放射線重合性モノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2-アクリロイルオキシエチルサクシネート等が挙げられる。 In order to adjust the hardness and viscosity of the composition, the resin of the core layer 12 is formed from a cured mixture containing an ionizing radiation-polymerizable oligomer or an ionizing radiation-polymerizable prepolymer and a monofunctional ionizing radiation-polymerizable monomer. You may A monofunctional ionizing radiation-polymerizable monomer is a compound having one ionizing radiation-polymerizable functional group in the molecule. Examples of monofunctional ionizing radiation polymerizable monomers include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate and the like.

(紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤は、紫外線を吸収する機能を有している。紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
(Ultraviolet absorber)
The ultraviolet absorber has a function of absorbing ultraviolet rays. Although the ultraviolet absorber is not particularly limited, examples of the ultraviolet absorber include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, and benzotriazole-based ultraviolet absorbers.

上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、2-(2-ヒドロキシ-4-[1-オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル)-4,6-ビス(4-フェニルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-[(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス[2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル]-6-(2,4-ジブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-[(2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、および2-[4-[(2-ヒドロキシ-3-(2’-エチル)ヘキシル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2-(2-hydroxy-4-[1-octyloxycarbonylethoxy]phenyl)-4,6-bis(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazine , 2-[4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2 ,4-bis[2-hydroxy-4-butoxyphenyl]-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-[4-[(2-hydroxy-3-tridecyl oxypropyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, and 2-[4-[(2-hydroxy-3-(2 '-ethyl)hexyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and the like.

また、市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVIN460(BASFジャパン社製)、LA-46(ADEKA社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available triazine-based ultraviolet absorbers include TINUVIN460 (manufactured by BASF Japan) and LA-46 (manufactured by ADEKA).

上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2-ヒドロキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。また、市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、CHMASSORB81/FL(BASF社製)等が挙げられる。 Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorbers include 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′,4,4′-tetrahydroxy Benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, hydroxymethoxybenzophenone sulfonic acid and its trihydrate, sodium hydroxymethoxybenzophenone sulfonate and the like. Examples of commercially available benzophenone-based UV absorbers include CHMASSORB81/FL (manufactured by BASF).

上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2-エチルヘキシル-3-〔3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)フェニル〕プロピオネート、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(直鎖及び側鎖ドデシル)-4-メチルフェノール、2-〔5-クロロ(2H)-ベンゾトリアゾール-2-イル〕-4-メチル-6-(tert-ブチル)フェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ペンチルフェノール、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-(3’’,4’’,5’’,6’’-テトラヒドロフタルイミドメチル)-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2-メチレンビス(4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(2H-ベンゾトリアゾール--イル)フェノール)、及び、2-(2’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorbers include 2-ethylhexyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate, 2 -(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(linear and branched dodecyl)-4-methylphenol, 2-[5-chloro(2H)-benzotriazol-2-yl]-4-methyl- 6-(tert-butyl)phenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-di-tert-pentylphenol, 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′,5′-di-tert-butylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl)benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′,5′-di-tert-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′-(3″,4″,5″, 6''-tetrahydrophthalimidomethyl)-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2,2-methylenebis(4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-(2H-benzotriazol--yl ) phenol), and 2-(2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole.

また、市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、KEMISORB71D、KEMISORB79(いずれも、ケミプロ化成社製)、JF-80、JAST-500(いずれも、城北化学社製)、ULS-1933D(一方社製)、RUVA-93(大塚化学社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available benzotriazole-based ultraviolet absorbers include KEMIISORB71D, KEMIISORB79 (both manufactured by Chemipro Kasei), JF-80, JAST-500 (both manufactured by Johoku Kagaku), and ULS-1933D. (manufactured by Ippo), RUVA-93 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and the like.

上記紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤が好適に用いられ、具体的には、紫外線吸収性、コア層12を構成する上記電離放射線重合性モノマーまたは電離放射線重合性オリゴマーへの溶解性等の観点から、TINUVIN400が特に好適に用いられる。 As the ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber is particularly preferably used. TINUVIN400 is particularly preferably used from the viewpoint of properties and the like.

上記紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、コア層の樹脂固形分100質量部に対して1質量部以上6質量部以下であることが好ましい。コア層における紫外線吸収剤の含有量をこの範囲内にすると、紫外線吸収剤をコア層に充分に含有させることができるとともに、コア層に著しい着色や強度低下が生じることを抑制できる。紫外線吸収剤の含有量のより好ましい下限は2質量部以上であり、より好ましい上限は5質量部以下である。 Although the content of the ultraviolet absorber is not particularly limited, it is preferably 1 part by mass or more and 6 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin solid content of the core layer. When the content of the ultraviolet absorbent in the core layer is within this range, the ultraviolet absorbent can be sufficiently contained in the core layer, and significant coloration and strength reduction of the core layer can be suppressed. A more preferable lower limit for the content of the ultraviolet absorber is 2 parts by mass or more, and a more preferable upper limit is 5 parts by mass or less.

コア層12は、必要に応じて、例えば、滑剤、可塑剤、充填剤、フィラー、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、架橋剤、光安定剤、染料、顔料等の着色剤等のその他の成分が含有されていてもよい。 The core layer 12 may optionally contain other components such as lubricants, plasticizers, fillers, fillers, antistatic agents, anti-blocking agents, cross-linking agents, light stabilizers, colorants such as dyes and pigments. may be contained.

<ハードコート層>
ハードコート層13は、JIS K5600-5-4:1999で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を有する層となっている。鉛筆硬度を「H」以上とすることにより、保護フィルム10の硬さを向上させることができるので、耐久性を向上させることができる。保護フィルム10の鉛筆硬度は、紫外線硬化性接着剤を用いて、保護フィルム10を、例えば、ポリエチレンテレフタレート基材(例えば、東洋紡社製の厚さ100μmのコスモシャインA4300や厚さ100μmのコスモシャインA4100)のような基材に接着した状態で測定された値である。また、鉛筆硬度の測定の際には、鉛筆に750gの荷重をかけながら、鉛筆を速度1mm/秒で移動させる。また、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆1本につき5回鉛筆硬度試験を行い、5回のうち4回以上蛍光灯下で保護フィルムの表面を透過観察した際に保護フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては保護フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。光透過性機能層11の靱性およびカールの防止の観点から、ハードコート層13の表面の鉛筆硬度の上限は4H程度とすることが好ましい。
<Hard coat layer>
The hard coat layer 13 is a layer having a hardness of "H" or higher in a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4:1999. Since the hardness of the protective film 10 can be improved by setting the pencil hardness to "H" or higher, the durability can be improved. The pencil hardness of the protective film 10 is measured by using an ultraviolet curable adhesive and applying the protective film 10 to, for example, a polyethylene terephthalate base material (for example, Cosmoshine A4300 with a thickness of 100 μm or Cosmoshine A4100 with a thickness of 100 μm manufactured by Toyobo Co., Ltd.). ) is a value measured in a state of being adhered to a substrate such as Moreover, when measuring the pencil hardness, the pencil is moved at a speed of 1 mm/sec while a load of 750 g is applied to the pencil. In addition, when measuring the pencil hardness, a plurality of pencils with different hardness are used, but the pencil hardness test is performed 5 times for each pencil, and the surface of the protective film is measured under a fluorescent light at least 4 times out of 5 times. When no scratches were visually observed on the surface of the protective film when observed through transmission, it is judged that the surface of the protective film was not scratched by the pencil with this hardness. From the viewpoint of the toughness of the light transmissive functional layer 11 and the prevention of curling, the upper limit of the pencil hardness of the surface of the hard coat layer 13 is preferably about 4H.

ハードコート層13は、少なくとも電離放射線重合性化合物の硬化物(重合体)からなる樹脂から構成することが可能である。なお、ハードコート層13は、樹脂の他に、無機粒子およびレベリング剤を含んでいてもよい。ハードコート層13が、無機粒子を含む場合、樹脂はバインダ樹脂として機能する。 The hard coat layer 13 can be composed of a resin made of at least a cured product (polymer) of an ionizing radiation polymerizable compound. The hard coat layer 13 may contain inorganic particles and a leveling agent in addition to the resin. When the hard coat layer 13 contains inorganic particles, the resin functions as a binder resin.

(樹脂)
ハードコート層13に含まれる樹脂としては、上記したように電離放射線重合性化合物の硬化物を含むものである。樹脂は、電離放射線重合性化合物の硬化物の他、溶剤乾燥型樹脂を含んでいてもよい。
(resin)
The resin contained in the hard coat layer 13 includes a cured ionizing radiation polymerizable compound as described above. The resin may contain a solvent-drying type resin in addition to the cured product of the ionizing radiation polymerizable compound.

電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマー、電離放射線重合性オリゴマー、または電離放射線重合性プレポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマーと、電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーとの組み合わせが好ましい。 Examples of the ionizing radiation-polymerizable compound include ionizing radiation-polymerizable monomers, ionizing radiation-polymerizable oligomers, and ionizing radiation-polymerizable prepolymers, and these can be appropriately adjusted and used. As the ionizing radiation-polymerizable compound, a combination of an ionizing radiation-polymerizable monomer and an ionizing radiation-polymerizable oligomer or ionizing radiation-polymerizable prepolymer is preferable.

(電離放射線重合性モノマー)
電離放射線重合性モノマーとしては、電離放射線重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。
(Ionizing radiation polymerizable monomer)
As the ionizing radiation-polymerizable monomer, a polyfunctional monomer having two or more ionizing radiation-polymerizable functional groups (that is, bifunctional) is preferable.

電離放射線重合性モノマーとしては、アルキレンオキサイド変性、ウレタン変性、エポキシ変性、またはアルコキシ変性等の変性基を導入した電離放射線重合性モノマーが挙げられる。これらの中でも、離型フィルムからの剥離性が良く、またタック性を有し、かつ機械的強度の高い保護フィルムを得る観点から、アルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートが好ましい。アルキレンオキサイドとしては、メチレンオキサイド、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等が挙げられる。 Examples of ionizing radiation-polymerizable monomers include ionizing radiation-polymerizable monomers into which modifying groups such as alkylene oxide-modified, urethane-modified, epoxy-modified, and alkoxy-modified are introduced. Among these, alkylene oxide-modified (meth)acrylates are preferable from the viewpoint of obtaining a protective film having good releasability from a release film, tackiness, and high mechanical strength. Alkylene oxides include methylene oxide, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide and the like.

これらの中でも良好な剥離性および耐擦傷性を得る観点から、エチレンオキサイド変性(EO変性)アクリレート、プロピレンオキサイド変性(PO変性)アクリレートがより好ましい。さらに、これらの中でも、剥離性と耐擦傷性のバランスが良好であることから、PO変性アクリレートが特に好ましい。 Among these, ethylene oxide-modified (EO-modified) acrylate and propylene oxide-modified (PO-modified) acrylate are more preferable from the viewpoint of obtaining good peelability and scratch resistance. Furthermore, among these, PO-modified acrylates are particularly preferable because they have a good balance between releasability and scratch resistance.

(電離放射線重合性オリゴマー)
電離放射線重合性オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等のオリゴマー等が挙げられる。
(ionizing radiation polymerizable oligomer)
Ionizing radiation polymerizable oligomers include oligomers such as urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, polyfluoroalkyl (meth)acrylate, and silicone (meth)acrylate. mentioned.

(電離放射線重合性プレポリマー)
電離放射線重合性プレポリマーの重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる保護フィルムの外観が悪化するおそれがある。電離放射線重合性プレポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等のプレポリマー等が挙げられる。
(Ionizing radiation polymerizable prepolymer)
The weight average molecular weight of the ionizing radiation polymerizable prepolymer is preferably 10,000 or more and 80,000 or less, more preferably 10,000 or more and 40,000 or less. If the weight-average molecular weight exceeds 80,000, the coating aptitude is lowered due to the high viscosity, and the appearance of the resulting protective film may be deteriorated. Ionizing radiation polymerizable prepolymers include prepolymers such as urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, polyfluoroalkyl (meth)acrylate, and silicone (meth)acrylate. etc.

これらの中でもコア層12との層間密着性を高める観点から、ウレタンアクリレートプレポリマーが好ましい。 Among these, the urethane acrylate prepolymer is preferable from the viewpoint of improving the interlayer adhesion with the core layer 12 .

電離放射線重合性モノマーと電離放射線重合性プレポリマーとの好適な組み合わせは、電離放射線重合性モノマーがEO変性アクリレートであり、かつ電離放射線重合性プレポリマーがウレタンアクリレートプレポリマーである。 A suitable combination of the ionizing radiation-polymerizable monomer and the ionizing radiation-polymerizable prepolymer is that the ionizing radiation-polymerizable monomer is an EO-modified acrylate and the ionizing radiation-polymerizable prepolymer is a urethane acrylate prepolymer.

電離放射線重合性モノマーと電離放射線重合性プレポリマーは、90:10~70:30で含有させることが好ましい。この範囲で電離放射線重合性モノマーと電離放射線重合性プレポリマーを含有させることにより、硬度を低下させずに柔軟性や靭性を向上させることができる。 The ionizing radiation-polymerizable monomer and the ionizing radiation-polymerizable prepolymer are preferably contained at a ratio of 90:10 to 70:30. By containing the ionizing radiation-polymerizable monomer and the ionizing radiation-polymerizable prepolymer in this range, the flexibility and toughness can be improved without lowering the hardness.

<無機粒子>
無機粒子は、光透過性機能層11の機械的強度や鉛筆強度を向上させるための成分であり、無機粒子としては、例えば、シリカ(SiO)粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ(略称:ATO)粒子、酸化亜鉛粒子等の無機酸化物粒子が挙げられる。これらの中でも、硬度をより高める観点からシリカ粒子が好ましく、シリカ粒子の中でも、異形シリカ粒子がより好ましい。球形シリカ粒子を用いる場合、球形シリカ粒子の粒子径が小さいほど、光透過性機能層の硬度が高くなる。これに対し、異形シリカ粒子は、市販されている最も小さい粒子径の球形シリカ粒子ほど小さくなくとも、この球形シリカと同等の硬度を達成することができる。
<Inorganic particles>
Inorganic particles are components for improving the mechanical strength and pencil strength of the light transmissive functional layer 11. Examples of inorganic particles include silica (SiO 2 ) particles, alumina particles, titania particles, tin oxide particles, Inorganic oxide particles such as antimony-doped tin oxide (abbreviation: ATO) particles and zinc oxide particles are included. Among these, silica particles are preferred from the viewpoint of further increasing hardness, and among silica particles, irregularly shaped silica particles are more preferred. When spherical silica particles are used, the smaller the particle size of the spherical silica particles, the higher the hardness of the light-transmitting functional layer. In contrast, irregularly shaped silica particles are not as small as the smallest commercially available spherical silica particles, but can achieve hardness equivalent to this spherical silica.

異形シリカ粒子の平均一次粒子径は、1nm以上100nm以下であることが好ましい。異形シリカ粒子の平均一次粒子径がこの範囲であっても、平均一次粒子径が1nm以上45nm以下の球形シリカと同等の硬度を達成することができる。異形シリカ粒子の平均粒子径は、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で20万倍にて撮像した画面において、無作為に10個の異形シリカ粒子を抽出し、各々の粒子径を算出した後、その算術平均値を平均粒子径とする。各異形シリカ粒子の粒子径は、粒子の断面において、最も長い径と最も短い径との平均値とする。 The average primary particle size of the irregularly shaped silica particles is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. Even if the average primary particle size of the irregularly shaped silica particles is within this range, hardness equivalent to that of spherical silica having an average primary particle size of 1 nm or more and 45 nm or less can be achieved. The average particle size of the irregularly shaped silica particles was obtained by randomly extracting 10 irregularly shaped silica particles from a screen obtained by imaging the cross section of the hard coat layer at a magnification of 200,000 with a transmission electron microscope (TEM). After calculating, the arithmetic mean value is taken as the average particle size. The particle diameter of each irregularly shaped silica particle is the average value of the longest diameter and the shortest diameter in the cross section of the particle.

ハードコート層13中の無機粒子の含有量は、20質量%以上70質量%以下であることが好ましい。無機粒子の含有量が20質量%未満であると、十分な硬度を担保することが難しくなり、また無機粒子の含有量が70質量%を超えると、充填率が上がりすぎてしまい、無機粒子とバインダ樹脂との密着性が悪化し、かえってハードコート層の硬度を低下させてしまう。 The content of the inorganic particles in the hard coat layer 13 is preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less. If the content of the inorganic particles is less than 20% by mass, it becomes difficult to ensure sufficient hardness. Adhesion to the binder resin is deteriorated, and the hardness of the hard coat layer is lowered.

無機粒子としては、表面に電離放射線重合性官能基を有する無機粒子(反応性無機粒子)を用いることが好ましい。このような表面に電離放射線重合性官能基を有する無機粒子は、シランカップリング剤等によって無機粒子を表面処理することによって作成することができる。無機粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、無機粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。 As the inorganic particles, it is preferable to use inorganic particles (reactive inorganic particles) having ionizing radiation-polymerizable functional groups on their surfaces. Such inorganic particles having ionizing radiation-polymerizable functional groups on their surfaces can be produced by surface-treating inorganic particles with a silane coupling agent or the like. Methods for treating the surface of inorganic particles with a silane coupling agent include a dry method in which the silane coupling agent is sprayed onto the inorganic particles, and a wet method in which the inorganic particles are dispersed in a solvent and then the silane coupling agent is added for reaction. etc.

<レベリング剤>
レベリング剤とは、ハードコート層の表面張力が不均一となることによって生じる、ハジキ、凹み、ピンホール、ユズハダ等の欠陥を防止し、表面を滑らかにする添加剤を意味する。レベリング剤は、特に限定されないが、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物等が挙げられる。上記レベリング剤は、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を主鎖の末端(片末端、両末端)に有していてもよく、側鎖に有していてもよく、主鎖の末端及び側鎖に有していてもよい。レベリング剤としては、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物であれば、特に限定されず、例えば、シリコーン系、フッ素系、シリコーン/フッ素混合系、アクリル系、メタクリル系、芳香族系のレベリング剤を挙げることができる。
<Leveling agent>
A leveling agent means an additive that smoothes the surface by preventing defects such as cissing, dents, pinholes, and peeling caused by non-uniform surface tension of the hard coat layer. The leveling agent is not particularly limited, but examples thereof include compounds having a polyether group, polyurethane group, epoxy group, carboxyl group, acrylate group, methacrylate group, carbinol group or hydroxyl group. The leveling agent may have a polyether group, a polyurethane group, an epoxy group, a carboxyl group, an acrylate group, a methacrylate group, a carbinol group, or a hydroxyl group at the end (one end, both ends) of the main chain. It may be present in the chain, or may be present in the end of the main chain or in the side chain. The leveling agent is not particularly limited as long as it is a compound having a polyether group, polyurethane group, epoxy group, carboxyl group, acrylate group, methacrylate group, carbinol group or hydroxyl group. /fluorine mixed leveling agents, acrylic, methacrylic and aromatic leveling agents.

ケイ素原子を含有するレベリング剤は、添加量が多いとリコート性が悪くなり、またハジキなどの塗工欠点が多くなるおそれがあるため、レベリング剤としては、フッ素系レベリング剤が好ましい。市販されているフッ素系レベリング剤としては、例えば、F-568、F-556、F-554、F-553(いずれもDIC社製)等が挙げられる。 If the leveling agent containing silicon atoms is added in a large amount, the recoating property may be deteriorated and coating defects such as repelling may increase. Commercially available fluorine-based leveling agents include, for example, F-568, F-556, F-554 and F-553 (all manufactured by DIC).

レベリング剤の含有量は、ハードコート層13を形成するための硬化性組成物(以下、この組成物を「ハードコート層用組成物」と称する。)中の電離放射線重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部以上5質量部以下であることが好ましい。レベリング剤の含有量をこの範囲内にすることにより、より平坦性に優れたハードコート層13の表面を得ることができる。 The content of the leveling agent is 100 parts by mass of the ionizing radiation polymerizable compound in the curable composition for forming the hard coat layer 13 (hereinafter, this composition is referred to as the "hard coat layer composition"). On the other hand, it is preferably 0.01 parts by mass or more and 5 parts by mass or less. By setting the content of the leveling agent within this range, it is possible to obtain a surface of the hard coat layer 13 with more excellent flatness.

保護フィルム10は、保護フィルム10の表面10Aに剥離可能に直接設けられた離型フィルムを備える積層体中に組み込まれていてもよい。ただし、保護フィルム10の使用時においては、光透過性機能層11の表面11Aから離型フィルムを剥離するものとする。 Protective film 10 may be incorporated in a laminate comprising a release film releasably provided directly on surface 10A of protective film 10 . However, when the protective film 10 is used, the release film is peeled off from the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 .

<<<積層体>>>
図3に示される積層体20は、保護フィルム10と、保護フィルム10の表面10A(光透過性機能層11の表面11A)に剥離可能に直接設けられた離型フィルム30とを備えている。本明細書における「直接設けられている」とは、離型フィルムが、保護フィルムの表面に直接接触していることを意味する。
<<<Laminate>>>
A laminate 20 shown in FIG. 3 includes a protective film 10 and a release film 30 that is detachably provided directly on the surface 10A of the protective film 10 (the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11). As used herein, "directly provided" means that the release film is in direct contact with the surface of the protective film.

積層体20においては、図4(A)に示されるように、離型フィルム30側から積層体20に波長200nm以上500nm以下の光を積算光量が1000mJ/cmとなるように照射した後において、図4(B)に示されるように、光透過性機能層11から離型フィルム30を、25℃および相対湿度60%の環境下で、剥離速度300m/分で180°の方向に剥離したとき、離型フィルム30の剥離強度が、20mN/25mm以上200mN/25mm以下であることが好ましい。上記光を照射した後の離型フィルム30の剥離強度が、20mN/25mm以上であれば、ロール巻き取り時や後工程での剥がれを抑制でき、また200mN/25mm以下であれば、離型フィルム30の剥離の際に、離型フィルム30が裂けてしまう、いわゆる泣き別れ現象や離型フィルム30の破断を抑制できる。離型フィルム30の剥離強度は、3回測定した値の算術平均値とする。離型フィルム30の剥離強度の下限は、ロール巻き取り時や後工程での剥がれを抑制する観点から、30mN/25mm以上であることがより好ましく、上限は、離型フィルム30の泣き別れ現象や破断を抑制する観点から、180mN/25mm以下であることが好ましい。なお、上記において、積算光量が1000mJ/cmとなるように光を照射するとしたのは、積層体20を後述する偏光子41と貼り付けるために用いる光硬化性接着剤を硬化させるのに、この程度の光が必要であるからである。 In the laminate 20, as shown in FIG. 4A, after irradiating the laminate 20 with light having a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less from the release film 30 side so that the integrated light amount becomes 1000 mJ/cm 2 . As shown in FIG. 4B, the release film 30 was peeled off from the light-transmitting functional layer 11 in an environment of 25° C. and 60% relative humidity at a peel speed of 300 m/min in a direction of 180°. In this case, the peel strength of the release film 30 is preferably 20 mN/25 mm or more and 200 mN/25 mm or less. If the peel strength of the release film 30 after irradiation with the light is 20 mN / 25 mm or more, peeling can be suppressed during roll winding or in a subsequent process, and if it is 200 mN / 25 mm or less, the release film When the release film 30 is peeled off, it is possible to suppress the so-called break-up phenomenon in which the release film 30 is torn, and breakage of the release film 30 . The peel strength of the release film 30 is the arithmetic mean value of the values measured three times. The lower limit of the peel strength of the release film 30 is more preferably 30 mN / 25 mm or more from the viewpoint of suppressing peeling during roll winding or in a post-process, and the upper limit is the separation phenomenon or breakage of the release film 30. from the viewpoint of suppressing, it is preferably 180 mN/25 mm or less. In the above description, the reason why the light is irradiated so that the integrated amount of light is 1000 mJ/cm 2 is that the photo-curing adhesive used for attaching the laminate 20 to the polarizer 41 described below is cured. This is because this level of light is necessary.

<<離型フィルム>>
離型フィルム30は、保護フィルム10の形成時には基材として機能するが、保護フィルム10の使用時には、光透過性機能層11の表面11Aから剥離されるものである。
<< release film >>
The release film 30 functions as a base material when the protective film 10 is formed, but is peeled off from the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11 when the protective film 10 is used.

積層体20に上記光を照射し、離型フィルム30を剥離した後の離型フィルム30における光透過性機能層11と接していた面30Aのカットオフ値を0.25mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq0.25、カットオフ値を2.5mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq2.5、上記Rq2.5と上記Rq0.25の差(Rq2.5-Rq0.25)、カットオフ値を0.25mmとして測定した最大高さRy0.25、カットオフ値を2.5mmとして測定した最大高さRy2.5、上記Ry2.5と上記Ry0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)、カットオフ値を2.5mmとして測定した十点平均粗さRz2.5とカットオフ値を0.25mmとして測定した十点平均粗さRz0.25の差(Rz2.5-Rz0.25)、および算術平均粗さRaは、光透過性機能層11の表面11Aの上記Rq0.25、上記Rq2.5、上記Rq2.5と上記Rq0.25の差(Rq2.5-Rq0.25)、上記Ry0.25、上記Ry2.5、上記Ry2.5と上記Ry0.25の差(Ry2.5-Ry0.25)、上記Rz2.5と上記Rz0.25の差(Rz2.5-Rz0.25)、上記Raと同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。なお、離型フィルム30における光透過性機能層11と接していた面30AのRq2.5等は、光透過性機能層11の表面11Aの上記Rq0.25等と同様の方法によって測定するものとする。 Root mean square measured with a cutoff value of 0.25 mm for the surface 30A of the release film 30 that was in contact with the light-transmitting functional layer 11 after the release film 30 was peeled off by irradiating the laminate 20 with the light. Roughness Rq 0.25 , root mean square roughness Rq 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm, difference between Rq 2.5 and Rq 0.25 (Rq 2.5 - Rq 0.25 ), the maximum height Ry 0.25 measured with a cutoff value of 0.25 mm, the maximum height Ry 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm, the above Ry 2.5 and the above Ry 0.25 Difference (Ry 2.5 −Ry 0.25 ), ten point average roughness Rz 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm and ten point average roughness Rz 0 measured with a cutoff value of 0.25 mm The difference (Rz 2.5 -Rz 0.25 ) of .25 and the arithmetic mean roughness Ra of the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 are the above Rq 0.25 , the above Rq 2.5 , the above Rq 2.5 . 5 and the above Rq 0.25 (Rq 2.5 −Rq 0.25 ), the above Ry 0.25 , the above Ry 2.5 , the above Ry 2.5 and the above Ry 0.25 difference (Ry 2.5 ) . 5 −Ry 0.25 ), the difference between the above Rz 2.5 and the above Rz 0.25 (Rz 2.5 −Rz 0.25 ), which is the same as the above Ra, so the description will be omitted here. . The Rq of 2.5 , etc. of the surface 30A of the release film 30 that was in contact with the light-transmitting functional layer 11 is measured by the same method as the Rq of 0.25 , etc. of the surface 11A of the light-transmitting functional layer 11. shall be

離型フィルム30としては、光透過性機能層11から離型フィルム30を剥離した後の光透過性機能層11の表面11Aにおける上記Rq0.25および上記Rq2.5がいずれも0.035μm以下となるようなフィルムであれば、特に限定されないが、例えば、少なくとも片面に未処理面を有する樹脂フィルムが好適に用いられる。この場合、樹脂フィルムの未処理面が面30Aとして用いられる。少なくとも片面に未処理面を有する樹脂フィルムは、光透過性機能層との離型性に優れる他、安価であるため本実施形態の積層体の製造コストを低く抑えることが可能となる。例えば、上記離型フィルムとして、ケイ素原子を含有するSi系の離型剤等が塗布されている離型フィルムを使用すると、該離型フィルムの剥離性は良好である一方で、光透過性機能層の転写時に離型剤の成分が光透過性機能層側に転写されてしまい、光透過性機能層の表面の凹凸が大きくなることがある。これに対し、離型フィルム30として、少なくとも片面に未処理面を有する樹脂フィルムを使用すると、離型フィルム30の剥離時に光透過性機能層11に転写される成分がないため、光透過性機能層の表面の凹凸が小さくなる。本明細書において、「少なくとも片面に未処理面を有する樹脂フィルム」とは、少なくとも片面に表面処理がされていない面を有する樹脂フィルムを意味する。したがって、少なくとも片面に未処理面を有する樹脂フィルムの未処理面には、剥離性を高めるための離型剤は存在していない。 As for the release film 30, both the above Rq 0.25 and the above Rq 2.5 on the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 after peeling the release film 30 from the light transmissive functional layer 11 are 0.035 μm. The film is not particularly limited as long as it satisfies the following conditions. For example, a resin film having an untreated surface on at least one side is preferably used. In this case, the untreated surface of the resin film is used as surface 30A. A resin film having an untreated surface on at least one side has excellent releasability from the light-transmitting functional layer and is inexpensive, so that the manufacturing cost of the laminate of the present embodiment can be kept low. For example, when a release film coated with a silicon-containing Si-based release agent or the like is used as the release film, the release property of the release film is good, while the light-transmitting function When the layer is transferred, the component of the release agent may be transferred to the light-transmitting functional layer side, and the unevenness of the surface of the light-transmitting functional layer may become large. On the other hand, when a resin film having an untreated surface on at least one side is used as the release film 30, there is no component transferred to the light-transmitting functional layer 11 when the release film 30 is peeled off. The unevenness of the surface of the layer is reduced. As used herein, "a resin film having at least one untreated surface" means a resin film having at least one untreated surface. Therefore, the untreated surface of the resin film having an untreated surface on at least one side does not contain a release agent for enhancing the releasability.

離型フィルム30の厚みは、特に限定されないが、25μm以上100μm以下とすることが好ましい。離型フィルム30の厚みが25μm以上であれば、光によって光透過性機能層を硬化した際に光透過性機能層の硬化収縮の影響が現われにくく、離型フィルムに皺が発生しにくくなり、また離型フィルム30の厚みが100μm以下であれば、製造コストを抑制できる。離型フィルム30の厚みは、厚み測定装置(製品名「デジマチックインジケーターIDF-130」、ミツトヨ社製)を用いて、離型フィルム30の厚みを10点測定し、その算術平均値を意味するものとする。離型フィルム30の下限は30μm以上であることがより好ましく、離型フィルム30の上限は80μm以下であることがより好ましい。 Although the thickness of the release film 30 is not particularly limited, it is preferably 25 μm or more and 100 μm or less. If the thickness of the release film 30 is 25 μm or more, the effect of curing shrinkage of the light-transmitting functional layer is less likely to appear when the light-transmitting functional layer is cured with light, and wrinkles are less likely to occur in the release film. Moreover, if the thickness of the release film 30 is 100 μm or less, the manufacturing cost can be suppressed. The thickness of the release film 30 means the arithmetic mean value of the thickness of the release film 30 measured at 10 points using a thickness measuring device (product name “Digimatic Indicator IDF-130” manufactured by Mitutoyo Corporation). shall be More preferably, the lower limit of the release film 30 is 30 μm or more, and the upper limit of the release film 30 is 80 μm or less.

離型フィルム30としては、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロースアシレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム等が挙げられる。 Examples of the release film 30 include cellulose acylate films such as triacetyl cellulose, cycloolefin polymer films, polycarbonate films, acrylic films, and polyester films such as polyethylene terephthalate.

<<保護フィルムおよび積層体の製造方法>>
保護フィルム10および積層体20は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、積層体20を形成する。具体的には、離型フィルム30を用意した後、図5(A)に示されるように、離型フィルム30の面30Aに第1の光透過性機能層用組成物としてのハードコート層用組成物を塗布し、乾燥させて、ハードコート層の塗膜15を形成する。
<<Method for producing protective film and laminate>>
Protective film 10 and laminate 20 can be produced, for example, as follows. First, the laminate 20 is formed. Specifically, after preparing the release film 30, as shown in FIG. The composition is applied and dried to form a coating film 15 of the hard coat layer.

ハードコート層用組成物は、電離放射線重合性化合物を含むが、その他、必要に応じて、上記無機粒子、上記レベリング剤、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、ハードコート層用組成物には、光透過性機能層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、または屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。 The hard coat layer composition contains an ionizing radiation-polymerizable compound, and may optionally contain the inorganic particles, the leveling agent, the solvent, and the polymerization initiator. Further, the hard coat layer composition may contain conventionally known dispersants, surfactants, Silane coupling agents, thickeners, anti-coloring agents, coloring agents (pigments, dyes), antifoaming agents, flame retardants, UV absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, A lubricant or the like may be added.

<溶剤>
溶剤としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、s-ブタノール、t-ブタノール、ベンジルアルコール、PGME、エチレングリコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等)、エーテル類(1,4-ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、またはこれらの混合物が挙げられる。
<Solvent>
Examples of solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone , methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cycloheptanone, diethyl ketone, etc.), ethers (1,4-dioxane, dioxolane, diisopropyl ether dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic Hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, lactic acid ethyl, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), or mixtures thereof.

<重合開始剤>
重合開始剤は、光または熱により分解されて、ラジカルを発生させて電離放射線重合性化合物の重合(架橋)を開始または進行させる成分である。光透過性機能層用組成物に用いられる重合開始剤は、光重合開始剤(例えば、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤)が挙げられる。
<Polymerization initiator>
The polymerization initiator is a component that is decomposed by light or heat to generate radicals to initiate or advance polymerization (crosslinking) of the ionizing radiation-polymerizable compound. Polymerization initiators used in the composition for the light-transmitting functional layer include photopolymerization initiators (for example, photoradical polymerization initiators, photocationic polymerization initiators, and photoanion polymerization initiators).

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等が挙げられる。 Examples of the radical photopolymerization initiator include benzophenone-based compounds, acetophenone-based compounds, acylphosphine oxide-based compounds, titanocene-based compounds, oxime ester-based compounds, benzoin ether-based compounds, and thioxanthone.

上記光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE379、IRGACURE651、IRGACURE819、IRGACURE907、IRGACURE2959、IRGACURE OXE01、ルシリンTPO(いずれもBASFジャパン社製)、NCI-930(ADEKA社製)、SPEEDCURE EMK(日本シーベルヘグナー社製)、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル(いずれも東京化成工業社製)等が挙げられる。 Commercially available photoradical polymerization initiators include, for example, IRGACURE184, IRGACURE369, IRGACURE379, IRGACURE651, IRGACURE819, IRGACURE907, IRGACURE2959, IRGACURE OXE01, Lucirin TPO (all manufactured by BASF Japan), NCI-930 ( ADEKA), SPEEDCURE EMK (manufactured by Nihon SibelHegner), benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether (all manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。上記光カチオン重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、アデカオプトマーSP-150、アデカオプトマーSP-170(いずれもADEKA社製)等が挙げられる。 Examples of the photocationic polymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts and the like. Commercially available photo cationic polymerization initiators include, for example, Adeka Optomer SP-150 and Adeka Optomer SP-170 (both manufactured by ADEKA).

ハードコート層用組成物における重合開始剤の含有量は、電離放射線重合性化合物100質量部に対して、0.5質量部以上10.0質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。 The content of the polymerization initiator in the hard coat layer composition is preferably 0.5 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation-polymerizable compound. By setting the content of the polymerization initiator within this range, the hard coat performance can be sufficiently maintained, and curing inhibition can be suppressed.

ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the hard coat layer composition include known coating methods such as spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating.

次いで、図5(B)に示されるように塗膜15に紫外線等の電離放射線を照射して、電離放射線重合性化合物を重合(架橋)させることにより塗膜15を硬化させて、ハードコート層13を形成する。ここで、硬化の際、窒素パージを行うと、ハードコート層が固まり過ぎてしまうので、窒素パージを行わずにハードコート層を固めることが好ましい。 Next, as shown in FIG. 5B, the coating film 15 is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the ionizing radiation polymerizable compound, thereby curing the coating film 15 to form a hard coat layer. form 13. Here, if nitrogen purge is performed during curing, the hard coat layer hardens excessively, so it is preferable to harden the hard coat layer without performing nitrogen purge.

ハードコート層用組成物を硬化させる際の電離放射線として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、190~380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。 When ultraviolet rays are used as the ionizing radiation for curing the hard coat layer composition, ultraviolet rays emitted from ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, metal halide lamps, etc. can be used. As the wavelength of ultraviolet rays, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as Cockcroftwald type, Vandegraft type, resonance transformer type, insulating core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type.

離型フィルム30上にハードコート層13を形成した後、図6(A)に示されるようにハードコート層13における離型フィルム30側の面とは反対側の面に第2の光透過性機能層用組成物としてのコア層用組成物を塗布し、乾燥させて、コア層用組成物の塗膜16を形成する。コア層用組成物は、上記したように電離放射線重合性化合物を含むが、その他、必要に応じて、上記紫外線吸収剤、上記レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。コア層用組成物に含ませる溶剤や重合開始剤は、ハードコート層用組成物の欄で記載した溶剤や重合開始剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。 After forming the hard coat layer 13 on the release film 30, as shown in FIG. A core layer composition as a functional layer composition is applied and dried to form a coating film 16 of the core layer composition. The core layer composition contains the ionizing radiation-polymerizable compound as described above, and may also contain the UV absorber, the leveling agent, the solvent, and the polymerization initiator, if necessary. The solvent and polymerization initiator to be contained in the core layer composition are the same as the solvent and polymerization initiator described in the section of the hard coat layer composition, and therefore the description thereof is omitted here.

次いで、図6(B)に示されるように、塗膜16に紫外線等の電離放射線を照射して、電離放射線重合性化合物を重合(架橋)させることにより塗膜16を硬化させて、コア層12を形成する。これにより、図3に示される積層体20を得ることができる。 Next, as shown in FIG. 6(B), the coating film 16 is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the ionizing radiation polymerizable compound to cure the coating film 16, thereby forming a core layer. form 12; Thereby, the laminate 20 shown in FIG. 3 can be obtained.

なお、上記では塗膜15を完全硬化(フルキュア)させて、ハードコート層13を形成した後に、塗膜16を完全硬化(フルキュア)させて、コア層12を形成しているが、塗膜15を半硬化(ハーフキュア)させた状態で、塗膜15上に塗膜16を形成し、その後、塗膜15、16を完全硬化(フルキュア)させてもよい。本明細書における「完全硬化」とは、これ以上光を照射しても硬化が実質的に進行しないことを意味し、「半硬化」とは、電離放射線を照射すると硬化が実質的に進行することを意味する。 In the above description, the coating film 15 is completely cured (fully cured) to form the hard coat layer 13, and then the coating film 16 is completely cured (fully cured) to form the core layer 12. is semi-cured (half-cured), the coating film 16 may be formed on the coating film 15, and then the coating films 15 and 16 may be completely cured (fully cured). "Complete curing" as used herein means that curing does not substantially progress even if further light is irradiated, and "semi-curing" means that curing substantially progresses when ionizing radiation is irradiated. means that

積層体20を得た後、図6(C)に示されるように、積層体20から離型フィルム30を剥離する。これにより、図1に示される光透過性機能層11を備える保護フィルム10を得ることができる。 After obtaining the laminate 20, the release film 30 is peeled off from the laminate 20 as shown in FIG. 6(C). Thereby, the protective film 10 having the light transmissive functional layer 11 shown in FIG. 1 can be obtained.

本実施形態においては、光透過性機能層11の表面11Aにおける上記Rq0.25および上記Rq2.5がいずれも0.035μm以下となっているので、光透過性機能層11の表面11Aが均一かつ平坦となっており、低ヘイズ値を有する保護フィルム10を得ることができる。さらに、保護フィルム10は、基材を備えていないので、薄い保護フィルム10を得ることができる。これにより、薄く、かつ低ヘイズ値を有する保護フィルム10を提供できる。 In the present embodiment, both the above Rq 0.25 and the above Rq 2.5 at the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 are 0.035 μm or less, so that the surface 11A of the light transmissive functional layer 11 is A uniform and flat protective film 10 having a low haze value can be obtained. Furthermore, since the protective film 10 does not have a substrate, a thin protective film 10 can be obtained. This makes it possible to provide a protective film 10 that is thin and has a low haze value.

<<<偏光板>>>
保護フィルム10や積層体20は、偏光板に組み込んで使用することができる。図7は本実施形態に係る偏光板の概略構成図である。図7に示されるように偏光板40は、偏光子41と、偏光子41の一方の面に光硬化性接着剤の硬化物からなる接着層42を介して貼り合わせられた積層体20と、偏光子41の他方の面に光硬化性接着剤の硬化物からなる接着層43を介して貼り合わせられたトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)やシクロオレフィンポリマーフィルム等の保護フィルム44とを備えている。偏光子41は、保護フィルム10の光透過性機能層11の表面11Aとは反対側の面である裏面11B側に配置されている。接着層42は、コア層12におけるハードコート層13側の面とは反対側の面に配置されている。図7に示される偏光板40は、離型フィルム30を備えているが、光透過性機能層11から離型フィルム30を剥離した状態の偏光板であってもよい。
<<<polarizing plate>>>
The protective film 10 and the laminate 20 can be incorporated into a polarizing plate and used. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a polarizing plate according to this embodiment. As shown in FIG. 7, the polarizing plate 40 includes a polarizer 41, a laminate 20 bonded to one surface of the polarizer 41 via an adhesive layer 42 made of a cured product of a photocurable adhesive, A protective film 44 such as a triacetylcellulose film (TAC film) or a cycloolefin polymer film is attached to the other surface of the polarizer 41 via an adhesive layer 43 made of a cured photocurable adhesive. there is The polarizer 41 is arranged on the back surface 11B side of the light transmissive functional layer 11 of the protective film 10 opposite to the surface 11A. The adhesive layer 42 is arranged on the surface of the core layer 12 opposite to the surface on the hard coat layer 13 side. Although the polarizing plate 40 shown in FIG. 7 includes the release film 30 , the polarizing plate may be a polarizing plate in which the release film 30 is peeled off from the light-transmissive functional layer 11 .

偏光子41は、ヨウ素または二色性色素により染色し、一軸延伸させたポリビニルアルコール系樹脂フィルムが上げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。 The polarizer 41 may be a polyvinyl alcohol resin film dyed with iodine or a dichroic dye and uniaxially stretched. As the polyvinyl alcohol-based resin, a saponified polyvinyl acetate-based resin can be used. Polyvinyl acetate-based resins include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and copolymers of vinyl acetate with other monomers copolymerizable therewith. Other monomers copolymerizable with vinyl acetate include, for example, unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides having an ammonium group.

ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等を用いることもできる。 The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used.

<<光硬化性接着剤>>
偏光子41と積層体20および偏光子41と保護フィルム44を貼り合わせるための光硬化性接着剤とは、光重合性化合物を含む接着組成物に波長200nm以上500nm以下の光を照射して接着する形態の接着剤を意味する。光硬化性接着剤としては、従来から知られている紫外線硬化性接着剤を用いることが可能である。
<<Photo-curing adhesive>>
The photocurable adhesive for bonding the polarizer 41 and the laminate 20 and the polarizer 41 and the protective film 44 together is an adhesive composition containing a photopolymerizable compound that is irradiated with light having a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less. means an adhesive in the form of A conventionally known UV curable adhesive can be used as the photocurable adhesive.

<<<偏光板の製造方法>>>
偏光板40は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、積層体20のコア層12に光硬化性接着剤が接するように、積層体20と偏光子41の一方の面とを光硬化性接着剤を介して積層する。一方で、偏光子41の他方の面と保護フィルム44とを紫外線硬化性接着剤を介して積層する。
<<<Manufacturing method of polarizing plate>>>
The polarizing plate 40 can be produced, for example, as follows. First, the laminate 20 and one surface of the polarizer 41 are laminated via a photocurable adhesive so that the core layer 12 of the laminate 20 is in contact with the photocurable adhesive. On the other hand, the other surface of the polarizer 41 and the protective film 44 are laminated via an ultraviolet curable adhesive.

次いで、積層体20に波長200nm以上500nm以下の光を積算光量が1000mJ/cmとなるように照射し、光硬化性接着剤が硬化することによって、積層体20と偏光子41および保護フィルム44と偏光子41が接着層42、43によって貼り合わせられる。これにより、図7に示される離型フィルム30付き偏光板40が得られる。 Next, the laminate 20 is irradiated with light having a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less so that the integrated amount of light becomes 1000 mJ/cm 2 , and the photocurable adhesive is cured. and a polarizer 41 are bonded together by adhesive layers 42 and 43 . Thereby, the polarizing plate 40 with the release film 30 shown in FIG. 7 is obtained.

このような偏光板40は、偏光板40から離型フィルム30を剥離した状態の偏光板として、例えば、画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図8は本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。 Such a polarizing plate 40 can be used by incorporating it into an image display device, for example, as a polarizing plate with the release film 30 peeled off from the polarizing plate 40 . FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an image display device according to this embodiment.

<<<画像表示装置>>>
図8に示されるように、画像表示装置50は、主に、画像を表示するための表示パネル60と、表示パネル60の背面側に配置されたバックライト装置70と、表示パネル60よりも観察者側に配置されたタッチパネル80と、表示パネル60とタッチパネル80との間に介在した光透過性の接着層110とを備えている。本実施形態においては、表示パネル60が液晶表示パネルであるので、画像表示装置50がバックライト装置70を備えているが、表示パネル(表示素子)の種類によってはバックライト装置70を備えていなくともよい。
<<<Image display device>>>
As shown in FIG. 8 , the image display device 50 mainly includes a display panel 60 for displaying images, a backlight device 70 arranged on the back side of the display panel 60 , and an image display device 70 for viewing from the display panel 60 . The touch panel 80 is arranged on the user's side, and the optically transparent adhesive layer 110 is interposed between the display panel 60 and the touch panel 80 . In this embodiment, since the display panel 60 is a liquid crystal display panel, the image display device 50 includes the backlight device 70. However, depending on the type of display panel (display element), the backlight device 70 may not be provided. It's good.

<<表示パネル>>
表示パネル60は、図8に示されるように、バックライト装置70側から観察者側に向けて、偏光板61、光透過性の粘着層62、表示素子63、光透過性の粘着層64、偏光板65の順に積層された構造を有している。表示パネル60は、表示素子63および偏光板65を備えていればよく、偏光板61等は備えていなくともよい。
<<Display Panel>>
As shown in FIG. 8, the display panel 60 includes a polarizing plate 61, a light-transmitting adhesive layer 62, a display element 63, a light-transmitting adhesive layer 64, a light-transmitting adhesive layer 64, a light-transmitting adhesive layer 64, It has a structure in which the polarizing plates 65 are laminated in order. The display panel 60 may include the display element 63 and the polarizing plate 65, and may not include the polarizing plate 61 and the like.

偏光板61は、保護フィルム66、偏光子67、保護フィルム68をこの順に備えているものである。保護フィルム66、68は、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)やシクロオレフィンポリマーフィルムから構成されている。偏光子67は、偏光子41と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。 The polarizing plate 61 has a protective film 66, a polarizer 67, and a protective film 68 in this order. The protective films 66, 68 are made of triacetyl cellulose film (TAC film) or cycloolefin polymer film. Since the polarizer 67 is the same as the polarizer 41, description thereof will be omitted here.

偏光板65は、偏光板40から、離型フィルム30を剥離したものであり、それ以外は、偏光板40と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。 The polarizing plate 65 is obtained by peeling the release film 30 from the polarizing plate 40, and other than that, the polarizing plate 65 is the same as the polarizing plate 40, so the description is omitted here.

表示素子63は液晶表示素子である。ただし、表示素子63は液晶表示素子に限られず、例えば、有機発光ダイオード(OLED)、無機発光ダイオード、および/または量子ドット発光ダイオード(QLED)を用いた表示素子であってもよい。液晶表示素子は、2枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。 The display element 63 is a liquid crystal display element. However, the display element 63 is not limited to a liquid crystal display element, and may be, for example, a display element using an organic light emitting diode (OLED), an inorganic light emitting diode, and/or a quantum dot light emitting diode (QLED). A liquid crystal display element has a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode layer, a color filter, and the like arranged between two glass substrates.

<<バックライト装置>>
バックライト装置70は、表示パネル60の背面側から表示パネル60を照明するものである。バックライト装置70としては、公知のバックライト装置を用いることができ、またバックライト装置70はエッジライト型や直下型のバックライト装置のいずれであってもよい。
<<Backlight Device>>
The backlight device 70 illuminates the display panel 60 from the rear side of the display panel 60 . A known backlight device can be used as the backlight device 70, and the backlight device 70 may be either an edge light type backlight device or a direct type backlight device.

<<タッチパネル>>
タッチパネル80は、センサ部90と、センサ部90より観察者側に配置されたカバーガラス100とを備えている。タッチパネル80は、センサ部90を備えていればよく、カバーガラス100を備えていなくともよい。
<<Touch Panel>>
The touch panel 80 includes a sensor section 90 and a cover glass 100 arranged closer to the observer than the sensor section 90 . The touch panel 80 may include the sensor section 90 and may not include the cover glass 100 .

<センサ部>
センサ部90は、タッチパネル80のセンサとして機能する部分である。センサ部90としては、特に限定されないが、例えば、投影型静電容量方式に用いられるセンサが挙げられる。図8に示されるセンサ部90は、パターニングされた導電層92が設けられた基材フィルム91と、パターニングされた導電層93が設けられた基材フィルム91とを光透過性の粘着層94を介して積層した構造となっている。
<Sensor part>
The sensor unit 90 is a portion that functions as a sensor of the touch panel 80 . Although the sensor unit 90 is not particularly limited, for example, a sensor used in a projected capacitive method can be used. The sensor unit 90 shown in FIG. 8 is composed of a base film 91 provided with a patterned conductive layer 92 and a base film 91 provided with a patterned conductive layer 93, and a light-transmitting adhesive layer 94. It has a structure in which it is laminated through

<基材フィルム>
基材フィルム91は、少なくとも光透過性基材を備えている。光透過性基材としては、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、ポリアミド基材、またはガラス基材等が挙げられる。
<Base film>
The base film 91 has at least a light transmissive base. Examples of light-transmitting substrates include polyolefin substrates, polycarbonate substrates, polyacrylate substrates, polyester substrates, aromatic polyetherketone substrates, polyethersulfone substrates, polyamide substrates, or glass substrates. etc.

基材フィルム91は、光透過性基材の一方の面上に設けられたハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層と、光透過性基材の他方の面に設けられたハードコート層とをさらに備えていてもよい。 The base film 91 includes a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer provided on one surface of the light transmissive base, and a hard coat layer provided on the other surface of the light transmissive base. It may further include a coat layer.

<導電層>
導電層92、93の形状は特に限定されないが、例えば、正方形状やストライプ状が挙げられる。導電層92、93は取出パターン(図示せず)を介して端子部(図示せず)に接続されている。導電層92、93は、透明導電材料から構成された例を示しているが、導電層はメッシュ状の導線から構成することが可能である。透明導電材料としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、酸化亜鉛、酸化インジウム(In)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、酸化スズ、酸化亜鉛-酸化スズ系、酸化インジウム-酸化スズ系、酸化亜鉛-酸化インジウム-酸化マグネシウム系などの金属酸化物等が挙げられる。導線の材料としては、銀、銅、アルミニウム、またはこれらの合金等の遮光性のある金属材料が挙げられる。
<Conductive layer>
Although the shape of the conductive layers 92 and 93 is not particularly limited, examples thereof include a square shape and a stripe shape. The conductive layers 92 and 93 are connected to terminal portions (not shown) via extraction patterns (not shown). Although the conductive layers 92 and 93 are made of a transparent conductive material in this example, the conductive layers can be made of mesh-like conductive wires. Examples of transparent conductive materials include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), zinc oxide, indium oxide ( In2O3), aluminum - doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), oxide metal oxides such as tin, zinc oxide-tin oxide system, indium oxide-tin oxide system, and zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide system; Materials for the conductive wire include light-shielding metallic materials such as silver, copper, aluminum, and alloys thereof.

導電層92、93の膜厚は、電気抵抗の仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば10nm以上50nm以下であることが好ましい。 The film thickness of the conductive layers 92 and 93 is appropriately set according to the specification of electric resistance and the like, and is preferably, for example, 10 nm or more and 50 nm or less.

導電層92、93の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法、塗工法、印刷法などを用いることができる。導電層をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。 The method of forming the conductive layers 92 and 93 is not particularly limited, and sputtering, vacuum deposition, ion plating, CVD, coating, printing, and the like can be used. Examples of methods for patterning the conductive layer include photolithography.

導電層がメッシュ状の導線から構成されている場合、導線の幅は1μm以上20μm以下であることが好ましく、2μm以上15μm以下であることがより好ましい。これによって、観察者が視認する画像に対して導線が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。 When the conductive layer is composed of a mesh-like conductor wire, the width of the conductor wire is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, more preferably 2 μm or more and 15 μm or less. As a result, the influence of the conducting wire on the image viewed by the observer can be reduced to a negligible level.

導電層がメッシュ状の導線から構成されている場合、導電層は導線によって形成された例えば矩形状の開口部を有している。導電層の開口率は、表示装置からの放出される映像光の特性などに応じて適宜設定されるが、例えば、80%以上90%以下の範囲内にある。また、開口部の配置ピッチは、求められる開口率や導線の幅の値に応じて、100μm以上1000μm以下の範囲内で適宜設定される。 When the conductive layer is composed of mesh-like conductors, the conductor layer has, for example, rectangular openings formed by the conductors. The aperture ratio of the conductive layer is appropriately set according to the characteristics of image light emitted from the display device, and is, for example, within the range of 80% or more and 90% or less. In addition, the arrangement pitch of the openings is appropriately set within the range of 100 μm or more and 1000 μm or less according to the desired opening ratio and width of the conductor.

<<接着層>>
接着層110は、表示パネル60とタッチパネル80との間に介在し、かつ表示パネル60とタッチパネル80の両方に接着されている。これにより、表示パネル60とタッチパネル80とが固定されている。接着層110は、電離放射線重合性化合物を含む液状の電離放射線硬化性接着剤(例えば、OCR:optically clear resin)の硬化物から構成されている。
<<adhesion layer>>
The adhesive layer 110 is interposed between the display panel 60 and the touch panel 80 and adhered to both the display panel 60 and the touch panel 80 . Thereby, the display panel 60 and the touch panel 80 are fixed. The adhesive layer 110 is composed of a cured liquid ionizing radiation curable adhesive (for example, OCR: optically clear resin) containing an ionizing radiation polymerizable compound.

接着層110の膜厚は、10μm以上50μm以下であることが好ましい。接着層の膜厚が10μm未満であると、薄すぎることにより表示パネルにノイズが発生してしまうことがあり、また接着層の膜厚が50μmを超えると、製造コストがかかりすぎてしまう。接着層の膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、接着層の断面を撮影し、その断面の画像において保護フィルムの厚みを20箇所測定し、その20箇所の厚みの算術平均値とする。 The film thickness of the adhesive layer 110 is preferably 10 μm or more and 50 μm or less. If the thickness of the adhesive layer is less than 10 μm, noise may occur in the display panel because it is too thin. The thickness of the adhesive layer is determined by photographing a cross section of the adhesive layer using a scanning electron microscope (SEM), measuring the thickness of the protective film at 20 locations in the image of the cross section, and calculating the arithmetic mean value of the thickness at 20 locations. and

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分100%換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を100%としたときの値である。 EXAMPLES In order to describe the present invention in detail, examples are given below, but the present invention is not limited to these descriptions. In addition, the following "solid content 100% conversion value" is a value when the solid content in the solvent-diluted product is 100%.

<コア層用組成物>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、コア層用組成物1を得た。
(コア層用組成物1)
・ウレタンアクリレート(製品名「UV-3310B」、日本合成化学社製、重量平均分子量5000、2官能):40質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・紫外線吸収剤(製品名「TINUVIN400」、BASFジャパン社製):3質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):60質量部
<Composition for core layer>
A core layer composition 1 was obtained by blending each component so as to have the composition shown below.
(Core layer composition 1)
・ Urethane acrylate (product name “UV-3310B”, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., weight average molecular weight 5000, bifunctional): 40 parts by mass ・ Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 4 mass Part Leveling agent (product name "F568", manufactured by DIC): 0.1 part by mass (converted to 100% solid content)
· Ultraviolet absorber (product name "TINUVIN400", manufactured by BASF Japan): 3 parts by mass · Methyl isobutyl ketone (MIBK): 60 parts by mass

<ハードコート層用組成物>
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
(ハードコート層用組成物1)
・反応性異形シリカ(無機粒子、製品名「ELCOM V8803」、日揮触媒化成社製):30質量部
・アルコキシ化ペンタエリスリトールアクリレート(製品名「ATM-10P」、新中村化学社製、4官能):56質量部
・ウレタンアクリレートプレポリマー(製品名「UN-350」、根上工業社製、重量平均分子量12500、2官能):14質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):150質量部
<Composition for hard coat layer>
First, each component was blended so as to have the composition shown below to obtain a composition for a hard coat layer.
(Composition 1 for hard coat layer)
・ Reactive modified silica (inorganic particles, product name “ELCOM V8803”, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.): 30 parts by mass ・ Alkoxylated pentaerythritol acrylate (product name “ATM-10P”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., tetrafunctional) : 56 parts by mass Urethane acrylate prepolymer (product name "UN-350", manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., weight average molecular weight 12500, bifunctional): 14 parts by mass Polymerization initiator (product name "Irgacure 184", BASF Japan product): 4 parts by mass Leveling agent (product name “F568”, manufactured by DIC): 0.1 parts by mass (converted to 100% solid content)
・Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass

(ハードコート層用組成物2)
・反応性異形シリカ(無機粒子、製品名「ELCOM V8803」、日揮触媒化成社製):10質量部
・アルコキシ化ペンタエリスリトールアクリレート(製品名「ATM-10P」、新中村化学社製、4官能):76質量部
・ウレタンアクリレートプレポリマー(製品名「UN-350」、根上工業社製、重量平均分子量12500、2官能):14質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):150質量
(Composition 2 for hard coat layer)
・ Reactive modified silica (inorganic particles, product name “ELCOM V8803”, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.): 10 parts by mass ・ Alkoxylated pentaerythritol acrylate (product name “ATM-10P”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., tetrafunctional) : 76 parts by mass ・Urethane acrylate prepolymer (product name “UN-350”, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., weight average molecular weight 12500, bifunctional): 14 parts by mass ・Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, BASF Japan product): 4 parts by mass Leveling agent (product name “F568”, manufactured by DIC): 0.1 parts by mass (converted to 100% solid content)
・Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 mass

<紫外線硬化性接着剤組成物>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、紫外線硬化性接着剤組成物1を得た。
(紫外線硬化性接着剤組成物1)
・ヒドロキシアクリルアミド(製品名「HEAA」、KJケミカルズ社製):40質量部
・トリプロピレングリコールジアクリレート(製品名「M-220」、東亞合成社製):20質量部
・アクリロイルモルホリン(製品名「ACMO」、KJケミカルズ社製):40質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア819」、BASFジャパン社製):1.4質量部
<Ultraviolet curable adhesive composition>
An ultraviolet curable adhesive composition 1 was obtained by blending each component so as to have the composition shown below.
(Ultraviolet curable adhesive composition 1)
・ Hydroxyacrylamide (product name “HEAA”, manufactured by KJ Chemicals): 40 parts by mass ・ Tripropylene glycol diacrylate (product name “M-220”, manufactured by Toagosei Co., Ltd.): 20 parts by mass ・ Acryloylmorpholine (product name “ ACMO", manufactured by KJ Chemicals): 40 parts by mass Polymerization initiator (product name "Irgacure 819", manufactured by BASF Japan): 1.4 parts by mass

<実施例1>
まず、離型フィルムとしての大きさ20cm×30cmおよび厚さ50μmの片面に易接着処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「ルミラー(登録商標)U413」、東レ社製)を準備し、ポリエチレンテレフタレートフィルムの未処理側面に、ハードコート層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、0.5m/sの流速で50℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が200mJ/cmになるように照射して塗膜を硬化させることにより、光透過性機能層としての膜厚が2.5μmのハードコート層を形成した。
<Example 1>
First, a polyethylene terephthalate film (product name: “Lumirror (registered trademark) U413”, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a size of 20 cm × 30 cm and a thickness of 50 μm with one side treated for easy adhesion as a release film was prepared. Hard coat layer composition 1 was applied to the untreated side of the terephthalate film to form a coating film. Next, dry air at 50°C is passed through the formed coating film at a flow rate of 0.5 m/s for 15 seconds, and then dry air at 70°C is passed at a flow rate of 10 m/s for 30 seconds to dry. By evaporating the solvent in the coating film, the coating film is cured by irradiating the coating film with ultraviolet light so that the integrated light amount becomes 200 mJ / cm 2 , so that the film thickness as a light-transmitting functional layer is 2.5 μm. A hard coat layer was formed.

ハードコート層を形成した後、ハードコート層上に、上記コア層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、0.5m/sの流速で50℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が300mJ/cmになるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が12.5μmのコア層を形成した。これにより、膜厚2.5μmのハードコート層および膜厚12.5μmのコア層が積層された保護フィルム、およびこの保護フィルムと、ハードコート層の一方の面に直接設けられたポリエチレンテレフタレートフィルムとを備える積層体を得た。ポリエチレンテレフタレートフィルム、コア層、およびハードコート層の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、保護フィルムの断面を撮影し、その断面の画像において保護フィルムの厚みを20箇所測定し、その20箇所の厚みの算術平均値とした。なお、実施例2および比較例1、2においても、実施例1と同様の手法によってフィルムの厚みや各層の膜厚を測定した。 After forming the hard coat layer, the core layer composition 1 was applied on the hard coat layer to form a coating film. Next, dry air at 50°C is passed through the formed coating film at a flow rate of 0.5 m/s for 15 seconds, and then dry air at 70°C is passed at a flow rate of 10 m/s for 30 seconds to dry. A core layer having a thickness of 12.5 μm was formed by curing the coating film by irradiating the coating film with ultraviolet rays so that the cumulative light amount was 300 mJ/cm 2 . As a result, a protective film in which a hard coat layer having a thickness of 2.5 μm and a core layer having a thickness of 12.5 μm are laminated, and a polyethylene terephthalate film provided directly on one surface of the protective film and the hard coat layer. A laminate was obtained. The thicknesses of the polyethylene terephthalate film, the core layer, and the hard coat layer are determined by photographing a cross-section of the protective film using a scanning electron microscope (SEM), measuring the thickness of the protective film at 20 locations in the cross-sectional image, and measuring the thickness of the protective film. Arithmetic mean value of thickness at 20 points was used. In Example 2 and Comparative Examples 1 and 2, the same method as in Example 1 was used to measure the thickness of the film and the thickness of each layer.

<実施例2>
実施例2においては、ハードコート層用組成物1の代わりにハードコート層用組成物2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、保護フィルムおよび積層体を得た。
<Example 2>
In Example 2, a protective film and a laminate were obtained in the same manner as in Example 1, except that Composition 2 for hard coat layer was used instead of Composition 1 for hard coat layer.

<比較例1>
比較例1においては、ポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「ルミラー(登録商標)U413」、東レ社製)の代わりに、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「東洋紡エステルフィルム E5000」、東洋紡社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、保護フィルムおよび積層体を得た。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, a 38 μm-thick polyethylene terephthalate film (product name “Toyobo Ester Film E5000”, manufactured by Toyobo) was used instead of the polyethylene terephthalate film (product name “Lumirror (registered trademark) U413” manufactured by Toray Industries, Inc.). A protective film and a laminate were obtained in the same manner as in Example 1 except that the was used.

<比較例2>
比較例2においては、ポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「ルミラー(登録商標)U413」、東レ社製)の代わりに、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「ダイアホイル T100-50S」、三菱樹脂社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、保護フィルムおよび積層体を得た。
<Comparative Example 2>
In Comparative Example 2, instead of the polyethylene terephthalate film (product name “Lumirror (registered trademark) U413”, manufactured by Toray Industries, Inc.), a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm (product name “Diafoil T100-50S”, Mitsubishi Plastics Co., Ltd. A protective film and a laminate were obtained in the same manner as in Example 1, except that the product was used.

<Rq、Ry、Rz、およびRa測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムにおいて、ハードコート層の表面におけるカットオフ値を0.25mmとしてRq0.25、Ry0.25、Rz0.25、およびRa0.25を測定するとともに、カットオフ値を2.5mmとしてRq2.5、Ry2.5、Rz2.5、およびRa2.5を測定した。具体的には、まず、実施例および比較例に係る各積層体のコア層におけるハードコート層側の面とは反対側の面を、膜厚50μmの透明粘着層(屈折率:1.55、製品名「PDC-SI」、パナック社製)を介して、大きさ10cm×10cmおよび厚さ2mmのアクリル板(製品名「コモグラス DFA502K」、クラレ社製)に貼り合せた。その後、ハードコート層からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、ハードコート層の表面を露出させた。そして、ハードコート層の表面におけるカットオフ値を0.25mmとしてRq0.25、Ry0.25、Rz0.25、およびRa0.25を測定するとともに、カットオフ値を2.5mmとしてRq2.5、Ry2.5、Rz2.5、およびRa2.5を測定した。Rqの定義は、本明細書に記載した通りであり、またRy、RzおよびRaの定義は、JIS B0601:1994に従うものとする。Rq0.25、Rq2.5、Ry0.25、Ry2.5、Rz0.25、Rz2.5、Ra0.25、およびRa2.25は、表面粗さ測定器(製品名「サーフコーダSE-3400」、小坂研究所製)を用いて、下記の測定条件により測定した。Rq0.25、Ry0.25、Rz0.25、およびRa0.25の測定は、原則、下記測定条件1で行うものとするが、下記測定条件1の縦倍率が10万倍では、表面の凹凸が大きくなりすぎて、測定不可能となる場合には、下記測定条件3で行うものとした。具体的には、実施例1、2に係る保護フィルムにおける測定条件には下記測定条件1を用い、比較例1に係る保護フィルムにおける測定条件には下記測定条件3を用いた。また、同様に、Rq2.5、Ry2.5、Rz2.5、およびRa2.5の測定は、原則、下記測定条件2で行うものとするが、下記測定条件2の縦倍率が10万倍では、表面の凹凸が大きくなりすぎて、測定不可能となる場合には、下記測定条件4で行うものとした。具体的には、実施例1、2に係る保護フィルムにおける測定条件には下記測定条件2を用い、比較例1に係る保護フィルムにおける測定条件には下記測定条件4を用いた。なお、参考例1として、実施例1で用いたポリエチレンテレフタレートフィルムの未処理側面のRq0.25等を下記測定条件1で、またRq2.5等を下記測定条件2で同様に測定し、参考例2として、比較例1で用いたポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート層側面のRq0.25等を下記測定条件1で、またRq2.5等を下記測定条件2で同様に測定し、参考例3として、比較例2で用いたポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート層側面のRq0.25等を下記測定条件3で、またRq2.5等を下記測定条件4で同様に測定した。なお、Rq、Ry、RzおよびRaは、それぞれ、3回測定して得られた値の算術平均値とした。
1)表面粗さ検出部の触針(製品名「サーフコーダSE-3400」、小坂研究所製、2μm標準)
・先端曲率半径2μm、頂角90度、材質ダイヤモンド
2-1)測定条件1
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-2)測定条件2
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-3)測定条件3
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
2-4)測定条件4
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:10000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
<Rq, Ry, Rz, and Ra measurement>
In the protective films according to Examples and Comparative Examples, Rq 0.25 , Ry 0.25 , Rz 0.25 , and Ra 0.25 were measured with a cutoff value of 0.25 mm on the surface of the hard coat layer, Rq 2.5 , Ry 2.5 , Rz 2.5 and Ra 2.5 were measured with a cutoff value of 2.5 mm. Specifically, first, a transparent adhesive layer having a thickness of 50 μm (refractive index: 1.55, It was laminated to an acrylic plate (product name: "Comoglas DFA502K", manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a size of 10 cm x 10 cm and a thickness of 2 mm via a product name "PDC-SI" manufactured by Panac Co., Ltd.). Thereafter, the polyethylene terephthalate film was peeled off from the hard coat layer to expose the surface of the hard coat layer. Then, Rq 0.25 , Ry 0.25 , Rz 0.25 , and Ra 0.25 were measured with a cutoff value of 0.25 mm on the surface of the hard coat layer, and Rq was measured with a cutoff value of 2.5 mm. 2.5 , Ry2.5 , Rz2.5 , and Ra2.5 were measured. The definition of Rq shall be as described in this specification, and the definition of Ry, Rz and Ra shall comply with JIS B0601:1994. Rq 0.25 , Rq 2.5 , Ry 0.25 , Ry 2.5 , Rz 0.25 , Rz 2.5 , Ra 0.25 and Ra 2.25 are surface roughness measuring instruments (product name "Surfcorder SE-3400" (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.) was used for measurement under the following measurement conditions. Measurements of Rq 0.25 , Ry 0.25 , Rz 0.25 and Ra 0.25 are, in principle, carried out under measurement condition 1 below. When the unevenness of the surface became too large to make the measurement, the following measurement condition 3 was used. Specifically, the following measurement conditions 1 were used as the measurement conditions for the protective films according to Examples 1 and 2, and the following measurement conditions 3 were used as the measurement conditions for the protective film according to Comparative Example 1. Similarly, the measurements of Rq 2.5 , Ry 2.5 , Rz 2.5 and Ra 2.5 are in principle carried out under measurement conditions 2 below, but the longitudinal magnification of measurement conditions 2 below is When 100,000-fold magnification made the surface irregularities too large for measurement, the following measurement condition 4 was used. Specifically, the following measurement conditions 2 were used as the measurement conditions for the protective films according to Examples 1 and 2, and the following measurement conditions 4 were used as the measurement conditions for the protective film according to Comparative Example 1. In addition, as Reference Example 1, Rq 0.25 etc. of the untreated side of the polyethylene terephthalate film used in Example 1 was similarly measured under the following measurement conditions 1, and Rq 2.5 etc. was similarly measured under the following measurement conditions 2. As Reference Example 2, Rq 0.25 , etc. of the hard coat layer side surface of the polyethylene terephthalate film used in Comparative Example 1 was similarly measured under the following measurement conditions 1, and Rq 2.5 , etc. was similarly measured under the following measurement conditions 2. As Example 3, Rq 0.25 and the like of the hard coat layer side of the polyethylene terephthalate film used in Comparative Example 2 were measured under measurement conditions 3 below, and Rq 2.5 and the like were similarly measured under measurement conditions 4 below. In addition, Rq, Ry, Rz and Ra were each taken as the arithmetic mean value of the value obtained by measuring 3 times.
1) Stylus of surface roughness detector (product name “Surfcorder SE-3400”, manufactured by Kosaka Laboratory, 2 μm standard)
・ Tip curvature radius 2 μm, apex angle 90 degrees, material diamond 2-1) Measurement condition 1
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.25 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・Feeding speed of stylus: 0.1mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 100,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-2) Measurement condition 2
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・Feeding speed of stylus: 0.5mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 100,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-3) Measurement condition 3
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 0.25 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 1.25 mm
・Feeding speed of stylus: 0.1mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 10,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994
2-4) Measurement condition 4
・Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
・ Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・Feeding speed of stylus: 0.5mm/s
・ Spare length: (cutoff value λc) × 2
・Longitudinal magnification: 10,000 times ・Horizontal magnification: 50 times ・Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
・Cutoff filter type: Gaussian ・JIS mode: JIS1994

<ヘイズ測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムのヘイズ値(全ヘイズ値)を測定した。ヘイズ値は、JIS K7136:2000に準拠して、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、村上色彩技術研究所製)を用い、コア層側から光を保護フィルムに入射させることによって、測定した。ヘイズ値の測定の際には、実施例および比較例に係る各積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、保護フィルム単体とした状態でヘイズ値を測定した。ヘイズ値は、3回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Haze measurement>
The haze values (total haze values) of the protective films of Examples and Comparative Examples were measured. The haze value was measured in accordance with JIS K7136:2000 by using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Research Laboratory) and allowing light to enter the protective film from the core layer side. . When measuring the haze value, the polyethylene terephthalate film was peeled off from each of the laminates according to Examples and Comparative Examples, and the haze value was measured in the state of a single protective film. The haze value was taken as the arithmetic mean value of the values obtained by measuring 3 times.

<全光線透過率測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムの全光線透過率を測定した。全光線透過率は、JIS K-7361:1997に準拠して、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、村上色彩技術研究所製)を用い、コア層側から光を保護フィルムに入射させることによって、測定した。全光線透過率の測定の際には、実施例および比較例に係る各積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、保護フィルム単体とした状態で全光線透過率を測定した。全光線透過率は、3回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Total light transmittance measurement>
The total light transmittance of the protective films of Examples and Comparative Examples was measured. The total light transmittance is measured in accordance with JIS K-7361: 1997, using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Research Laboratory), and allowing light to enter the protective film from the core layer side. was measured by When measuring the total light transmittance, the polyethylene terephthalate film was peeled off from each of the laminates according to Examples and Comparative Examples, and the total light transmittance was measured with the protective film alone. The total light transmittance was the arithmetic mean value of the values obtained by measuring 3 times.

<鉛筆硬度測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムの表面の鉛筆硬度を測定した。具体的には、まず、保護フィルムを得るために形成した積層体において、積層体のコア層におけるハードコート層側の面とは反対側の面に、上記紫外線硬化性接着剤組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜上に、厚さ100μmの片面に易接着処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名「コスモシャインA4100」、東洋紡社製)の易接着処理面を貼り合わせ、上記紫外線を照射し、ハードコート層に接しているポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した。これにより、ポリエチレンテレフタレートフィルムに貼り付けられた保護フィルムを得た。そして、保護フィルムの表面(ハードコート層の表面)の鉛筆硬度を測定した。そして、JIS S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、ハードコート層の表面においてJIS K5600-5-4:1999に規定する鉛筆硬度試験を行い、傷がつかなかった最も高い硬度を鉛筆硬度とした。鉛筆硬度の測定の際には、鉛筆に750gの荷重をかけながら、鉛筆を速度1mm/秒で移動させた。また、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆1本につき5回鉛筆硬度試験を行い、5回のうち4回以上蛍光灯下で保護フィルムの表面を透過観察した際に保護フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては保護フィルムの表面に傷が付かなかったと判断した。
<Pencil hardness measurement>
The pencil hardness of the surface of the protective films according to Examples and Comparative Examples was measured. Specifically, first, in the laminate formed to obtain the protective film, the UV-curable adhesive composition 1 is applied to the surface of the core layer of the laminate opposite to the hard coat layer side. to form a coating film. Next, on the formed coating film, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and one side of which has been subjected to an easy-adhesion treatment (product name “Cosmo Shine A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is laminated for easy-adhesion treatment, and the above-mentioned ultraviolet rays are applied. After irradiation, the polyethylene terephthalate film in contact with the hard coat layer was peeled off. As a result, a protective film attached to the polyethylene terephthalate film was obtained. Then, the pencil hardness of the surface of the protective film (the surface of the hard coat layer) was measured. Then, using a test pencil specified by JIS S6006, a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4: 1999 was performed on the surface of the hard coat layer, and the highest hardness without scratches was taken as the pencil hardness. . When measuring the pencil hardness, the pencil was moved at a speed of 1 mm/sec while a load of 750 g was applied to the pencil. In addition, when measuring the pencil hardness, a plurality of pencils with different hardness are used, but the pencil hardness test is performed 5 times for each pencil, and the surface of the protective film is measured under a fluorescent light at least 4 times out of 5 times. When no scratches were visually observed on the surface of the protective film when observed through transmission, it was judged that the surface of the protective film was not scratched by the pencil with this hardness.

<透湿度測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムの透湿度を測定した。具体的には、JIS Z0208-1976に記載の透湿度試験方法(カップ法)に準拠した手法によって、重量測定装置(製品名「分析天秤HR-202i」、A&D社製)を用いて、保護フィルムを温度40℃、相対湿度90%の雰囲気下に置き、24時間に通過する水蒸気の量を測定した。透湿度の測定の際には、実施例および比較例に係る各積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、保護フィルム単体とした状態で透湿度を測定した。
<Moisture permeability measurement>
The moisture permeability of the protective films according to Examples and Comparative Examples was measured. Specifically, a protective film is measured using a weight measuring device (product name “analytical balance HR-202i”, manufactured by A&D) by a method based on the moisture permeability test method (cup method) described in JIS Z0208-1976. was placed in an atmosphere with a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%, and the amount of water vapor passing through in 24 hours was measured. When measuring the moisture permeability, the polyethylene terephthalate film was peeled off from each laminate according to Examples and Comparative Examples, and the moisture permeability was measured in the state of a single protective film.

<引張り破断強度測定>
実施例および比較例に係る保護フィルムの引張り破断強度を測定した。JIS-K7161-1:2014に準拠して、テンシロン万能試験機(製品名「ORIENTEC STA-1150」、オリエンテック社製)を用い、幅10mm、チャック間距離80mmで試験速度100mm/minで保護フィルムを引っ張り、保護フィルムが破断した際に保護フィルムに加えられていた応力を測定し、この応力を引張り破断強度とした。引張り破断強度の測定の際には、実施例および比較例に係る各積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、保護フィルム単体とした状態で引張り破断強度を測定した。引張り破断強度は、3回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Tensile breaking strength measurement>
The tensile breaking strength of the protective films according to Examples and Comparative Examples was measured. In accordance with JIS-K7161-1:2014, using a Tensilon universal testing machine (product name "ORIENTEC STA-1150", manufactured by Orientec), the width is 10 mm, the distance between chucks is 80 mm, and the test speed is 100 mm / min. was pulled, and the stress applied to the protective film when it broke was measured, and this stress was taken as the tensile strength at break. When measuring the tensile strength at break, the polyethylene terephthalate film was peeled off from each laminate according to Examples and Comparative Examples, and the tensile strength at break was measured in the state of a single protective film. The tensile strength at break was the arithmetic mean value of the values obtained by measuring three times.

<耐擦傷性>
実施例および比較例に係る保護フィルムに対し耐擦傷性試験を行った。具体的には、まず、実施例および比較例に係る各積層体のコア層におけるハードコート層側の面とは反対側の面を、膜厚50μmの透明粘着層(屈折率:1.55、製品名「PDC-SI」、パナック社製)を介して、大きさ10cm×10cmおよび厚さ2mmのアクリル板(製品名「コモグラス DFA502K」、クラレ社製)に貼り合せた。その後、ハードコート層からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、ハードコート層の表面を露出させた。そして、ハードコート層の表面に対し、♯0000番のスチールウール(製品名「ボンスター」、日本スチールウール社製)を用いて500g/cmの荷重を加えながら10往復擦る耐擦傷性試験を行い、目視によりハードコート層の表面に傷が確認されるか否か観察した。評価結果は、以下の通りとした。
○:傷が確認されなかった。
△:傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×:傷が明確に確認された。
<Scratch resistance>
A scratch resistance test was performed on the protective films according to Examples and Comparative Examples. Specifically, first, a transparent adhesive layer having a thickness of 50 μm (refractive index: 1.55, It was laminated to an acrylic plate (product name: "Comoglas DFA502K", manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a size of 10 cm x 10 cm and a thickness of 2 mm via a product name "PDC-SI" manufactured by Panac Co., Ltd.). Thereafter, the polyethylene terephthalate film was peeled off from the hard coat layer to expose the surface of the hard coat layer. Then, the surface of the hard coat layer was subjected to a scratch resistance test in which #0000 steel wool (product name “Bonstar”, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was rubbed back and forth 10 times while applying a load of 500 g/cm 2 . The surface of the hard coat layer was visually observed to see if there were any scratches. The evaluation results were as follows.
◯: No scratches were observed.
Δ: Some scratches were observed, but the level was practically acceptable.
x: Scratches were clearly confirmed.

<剥離強度測定>
実施例および比較例に係る積層体において、積層体に紫外線を照射した後におけるポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離強度を測定した。まず、各積層体において、25mm×150mmの大きさのサンプルを切り出すことによってサンプルを用意した。そして、サンプルに対し、波長200nm以上500nm以下の光を積算光量が1000mJ/cmとなるようにポリエチレンテレフタレートフィルム側から照射した。その後、紫外線を照射したサンプルのコア層側の面を、ガラス板に寺岡製作所製の両面テープ「751B」を用いて貼り付けた。そして、25℃および相対湿度60%の環境下で、テンシロン万能試験機(製品名「ORIENTEC STA-1150」、オリエンテック社製)を用い、剥離速度300m/分で180°の方向にハードコート層からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、そのときの剥離強度を測定した。
<Peel strength measurement>
In the laminates according to Examples and Comparative Examples, the peel strength of the polyethylene terephthalate film was measured after the laminates were irradiated with ultraviolet rays. First, a sample of each laminate was prepared by cutting out a sample having a size of 25 mm×150 mm. Then, the sample was irradiated with light having a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less from the side of the polyethylene terephthalate film so that the integrated light amount was 1000 mJ/cm 2 . After that, the surface of the core layer side of the sample irradiated with ultraviolet rays was attached to a glass plate using double-sided tape "751B" manufactured by Teraoka Seisakusho. Then, in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, using a Tensilon universal tester (product name “ORIENTEC STA-1150” manufactured by Orientec), the hard coat layer was peeled off in the direction of 180 ° at a peel speed of 300 m / min. The polyethylene terephthalate film was peeled off from the tape, and the peel strength at that time was measured.

以下、結果を表1および表2に示す。

Figure 0007147121000002
The results are shown in Tables 1 and 2 below.
Figure 0007147121000002

Figure 0007147121000003
Figure 0007147121000003

比較例1、2に係る保護フィルムにおいては、ハードコート層の表面のRq0.25およびRq2.5のいずれかが、0.035μmを超えていたので、ヘイズ値が高かった。これは、参考例2、3に係るポリエチレンテレフタレートフィルムのRq0.25およびRq2.5の結果から分かるように、離型フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面が荒れていたので、ポリエチレンテレフタレートフィルムに接していたハードコート層の表面も荒れたためであると考えられる。 In the protective films according to Comparative Examples 1 and 2, either Rq 0.25 or Rq 2.5 of the surface of the hard coat layer exceeded 0.035 μm, so the haze value was high. As can be seen from the results of Rq 0.25 and Rq 2.5 for the polyethylene terephthalate films according to Reference Examples 2 and 3, the surface of the polyethylene terephthalate film as the release film was rough. It is believed that this is because the surface of the hard coat layer in contact was also roughened.

これに対し、実施例1および2に係る保護フィルムにおいては、ハードコート層の表面のRq0.25およびRq2.5が、いずれも0.035μm以下であったので、ヘイズ値が低かった。これは、参考例1に係るポリエチレンテレフタレートフィルムのRq0.25およびRq2.5の結果から分かるように、離型フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面が平滑であったので、ポリエチレンテレフタレートフィルムに接していたハードコート層の表面も平滑となったためであると考えられる。 On the other hand, in the protective films of Examples 1 and 2, Rq 0.25 and Rq 2.5 of the surface of the hard coat layer were both 0.035 μm or less, so the haze values were low. As can be seen from the results of Rq 0.25 and Rq 2.5 for the polyethylene terephthalate film according to Reference Example 1, the surface of the polyethylene terephthalate film as the release film was smooth, so that it was in contact with the polyethylene terephthalate film. It is considered that this is because the surface of the hard coat layer, which had been exposed, also became smooth.

10…保護フィルム
10A…表面
11…光透過性機能層
11A…表面
12…コア層
13…ハードコート層
20…積層体
30…離型フィルム
40…偏光板
41…偏光子
50…画像表示装置
60…表示パネル
62…表示素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Protective film 10A... Surface 11... Optically transparent functional layer 11A... Surface 12... Core layer 13... Hard coat layer 20... Laminate 30... Release film 40... Polarizing plate 41... Polarizer 50... Image display device 60... Display panel 62 ... display element

Claims (10)

光透過性機能層からなる基材レスの保護フィルムであって、
前記光透過性機能層の表面が前記保護フィルムの表面をなし、
前記光透過性機能層が、樹脂を含むコア層と、前記コア層の一方の面に設けられ、かつ樹脂を含むハードコート層を含み、
前記ハードコート層の前記樹脂が、電離放射線重合性化合物の重合体を含み、
前記ハードコート層の表面が前記光透過性機能層の表面をなし、
前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を0.25mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq0.25およびカットオフ値を2.5mmとして測定した二乗平均平方根粗さRq2.5がいずれも0.035μm以下であり、
前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を0.25mmとして測定した最大高さRy 0.25 およびカットオフ値を2.5mmとして測定した最大高さRy 2.5 がいずれも0.05μm以上0.25μm以下であり、かつ前記最大高さRy 2.5 と前記最大高さRy 0.25 の差(Ry 2.5 -Ry 0.25 )が、0.100μm以下であり、
前記保護フィルムのヘイズ値が0.2%以下である、保護フィルム。
A substrate-less protective film comprising a light-transmitting functional layer,
The surface of the light-transmitting functional layer forms the surface of the protective film,
The light-transmitting functional layer includes a core layer containing a resin , and a hard coat layer provided on one surface of the core layer and containing a resin,
the resin of the hard coat layer contains a polymer of an ionizing radiation polymerizable compound,
The surface of the hard coat layer forms the surface of the light-transmitting functional layer,
A root mean square roughness Rq of 0.25 measured with a cutoff value of 0.25 mm and a root mean square roughness Rq of 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm on the surface of the light-transmitting functional layer are Both are 0.035 μm or less ,
The maximum height Ry of 0.25 measured with a cutoff value of 0.25 mm and the maximum height Ry 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm on the surface of the light-transmitting functional layer were both 0.25. 05 μm or more and 0.25 μm or less, and the difference between the maximum height Ry 2.5 and the maximum height Ry 0.25 (Ry 2.5 −Ry 0.25 ) is 0.100 μm or less,
A protective film having a haze value of 0.2% or less .
前記二乗平均平方根粗さRq2.5と前記二乗平均平方根粗さRq0.25の差(Rq2.5-Rq0.25)が、0.010μm以下である、請求項1に記載の保護フィルム。 The protection according to claim 1, wherein the difference (Rq 2.5 −Rq 0.25 ) between the root mean square roughness Rq 2.5 and the root mean square roughness Rq 0.25 is 0.010 μm or less. the film. 前記光透過性機能層の前記表面におけるカットオフ値を2.5mmとして測定した十点平均粗さRz2.5とカットオフ値を0.25mmとして測定した十点平均粗さRz0.25との差(Rz2.5-Rz0.25)が、0.050μm以下である、請求項1または2に記載の保護フィルム。 Ten-point average roughness Rz 2.5 measured with a cutoff value of 2.5 mm on the surface of the light-transmitting functional layer and ten-point average roughness Rz 0.25 measured with a cutoff value of 0.25 mm 3. The protective film according to claim 1, wherein the difference (Rz 2.5 −Rz 0.25 ) is 0.050 μm or less. 前記保護フィルムの透湿度が、100g/(m・24h)以下である、請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルム。 The protective film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the protective film has a moisture permeability of 100 g/( m2 ·24h) or less. 前記保護フィルムの膜厚が5μm以上40μm以下であり、かつ前記保護フィルムの引張り破断強度が、8N/10mm以上である、請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルム。 The protective film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the protective film has a thickness of 5 µm or more and 40 µm or less, and a tensile strength at break of 8 N/10 mm or more. 前記光透過性機能層が、2以上の光透過性機能層が積層された多層構造である、請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルム。 The protective film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the light-transmitting functional layer has a multilayer structure in which two or more light-transmitting functional layers are laminated. 請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルムと、
前記保護フィルムの前記光透過性機能層の前記表面に直接設けられた剥離可能な離型フィルムと
を備える、積層体。
A protective film according to any one of claims 1 to 6 ;
and a peelable release film provided directly on the surface of the light-transmitting functional layer of the protective film.
前記離型フィルム側から前記積層体に波長200nm以上500nm以下の光を積算光量が1000mJ/cmとなるように照射して、前記光透過性機能層から前記離型フィルムを、25℃および相対湿度60%の環境下で、剥離速度300mm/分で180°の方向に剥離したとき、前記離型フィルムの剥離強度が、20mN/25mm以上200mN/25mm以下である、請求項に記載の積層体。 Light with a wavelength of 200 nm or more and 500 nm or less was irradiated to the laminate from the release film side so that the integrated light amount was 1000 mJ/cm 2 , and the release film was removed from the light-transmitting functional layer at 25 ° C. and relative. The laminate according to claim 7 , wherein the release film has a peel strength of 20 mN/25 mm or more and 200 mN/25 mm or less when peeled in a direction of 180° at a peel speed of 300 mm/min in an environment with a humidity of 60%. body. 請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルムまたは請求項またはに記載の積層体と、
前記保護フィルムまたは前記積層体の前記光透過性機能層における前記表面側とは反対側に設けられた偏光子と、
を備える、偏光板。
The protective film according to any one of claims 1 to 6 or the laminate according to claim 7 or 8 ,
a polarizer provided on the side opposite to the surface side of the light-transmissive functional layer of the protective film or the laminate;
A polarizing plate.
請求項1ないしのいずれか一項に記載の保護フィルムまたは請求項に記載の偏光板を備える、画像表示装置。 An image display device comprising the protective film according to any one of claims 1 to 6 or the polarizing plate according to claim 9 .
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