JP7038633B2 - Power converter - Google Patents
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Description
本発明は、電力変換装置の構成に係り、特に、電力変換の主回路要素としてSiCパワー半導体モジュールを搭載する電力変換装置に適用して有効な技術に関する。 The present invention relates to a configuration of a power conversion device, and more particularly to a technique applicable to a power conversion device equipped with a SiC power semiconductor module as a main circuit element of power conversion.
電力変換用パワー半導体素子は、モータドライブ用インバータや電力送配電用変換機器などの電力変換装置(以下、「電力変換器」とも言う)の基幹部品として広く使用されている。パワー半導体素子は、1つのチップで、もしくは複数のチップの並列接続の構成で、パワー半導体モジュールに搭載され、電力変換器に組み込まれる。このパワー半導体素子は、その制御信号によってスイッチング動作を行い、電流の流れる方向を制御することで電力変換を行う。 Power semiconductor elements for power conversion are widely used as key components of power conversion devices (hereinafter, also referred to as "power converters") such as inverters for motor drives and conversion devices for power transmission and distribution. The power semiconductor element is mounted on a power semiconductor module and incorporated in a power converter with one chip or a configuration in which a plurality of chips are connected in parallel. This power semiconductor element performs a switching operation by the control signal and performs power conversion by controlling the direction in which a current flows.
電力変換用パワー半導体素子をスイッチング駆動する場合に、チップの各端子には、チップの寄生容量や配線の寄生インダクタなどによって発生する電圧振動や電流振動が発生することがある。これらの振動現象を「不要振動」と呼ぶことにする。特に、チップを複数個並列接続した場合には、チップに印加される電圧や流れる電流の値に依存するが、上記の寄生容量や寄生インダクタによる共振ループと、増幅素子として動作する2つ以上のチップによって不要振動が発生する。 When switching and driving a power semiconductor element for power conversion, voltage vibration or current vibration generated by a parasitic capacitance of the chip or a parasitic inductor of wiring may occur at each terminal of the chip. These vibration phenomena will be referred to as "unnecessary vibration". In particular, when a plurality of chips are connected in parallel, the resonance loop due to the above-mentioned parasitic capacitance and the parasitic inductor and two or more or more that operate as an amplification element depend on the value of the voltage applied to the chip and the flowing current. Unwanted vibration is generated by the chip.
不要振動の電圧振幅や電流振幅が、チップの各端子間の電圧定格値や端子を流通する電流定格を超過すると、チップの長期信頼性の低下や破壊が懸念される。従って、不要振動が生じる場合には、チップに許容されるチップ温度範囲において、その電圧振動振幅と電流振動振幅を各端子の定格値以下に抑える必要がある。 If the voltage amplitude or current amplitude of the unwanted vibration exceeds the voltage rating value between each terminal of the chip or the current rating flowing through the terminals, there is a concern that the long-term reliability of the chip may be deteriorated or destroyed. Therefore, when unnecessary vibration occurs, it is necessary to suppress the voltage vibration amplitude and the current vibration amplitude to the rated values or less of each terminal in the chip temperature range allowed for the chip.
本技術分野の背景技術として、例えば、特許文献1のような技術がある。特許文献1には、複数の半導体素子を複数個並列配置してスイッチング駆動する場合に、素子の入力容量もしくは帰還容量と配線インダクタンスによって共振が発生することが示されており、この共振によって半導体素子に過電流が流れると判定された場合に、半導体素子のゲートを駆動する経路に配置された抵抗器の抵抗値を増加させる回路構成が開示されている。
As a background technology in this technical field, for example, there is a technology such as
また、特許文献2には、不要振動の発生は、素子に印加される電圧や流れる電流の値に加えて、素子自体の温度にも依存することが示されており、ワイドギャップ半導体素子の損失の温度依存性を低減する駆動回路として、パワー半導体スイッチング素子の温度を検出し、その検出値に基づいてゲート駆動電圧またはゲート駆動抵抗を変化させる回路構成が開示されている。
Further,
電力変換装置に組み込まれる複数のパワー半導体素子に生じる不要振動に対して、電圧振動もしくは電流振動の振幅を抑制することで、パワー半導体素子の信頼性劣化や破壊を防止することが課題である。 It is an issue to prevent the reliability deterioration or destruction of the power semiconductor element by suppressing the amplitude of the voltage vibration or the current vibration with respect to the unnecessary vibration generated in the plurality of power semiconductor elements incorporated in the power conversion device.
特に、パワー半導体素子のうち、MOSFET型素子であればゲート端子とソース端子間の電圧定格は、他の端子間の電圧定格と比較して小さいことから不要振動によって破壊される可能性が高いため、ゲート・ソース間電圧(VGS)に発生する不要振動の電圧振幅を小さく抑えることが必要である。また、IGBT型素子であれば、ゲート端子とエミッタ端子間電圧(VGE)に発生する不要振動の電圧振幅を小さく抑えることが必要である。 In particular, among power semiconductor devices, in the case of MOSFET type devices, the voltage rating between the gate terminal and the source terminal is smaller than the voltage rating between other terminals, so there is a high possibility that it will be destroyed by unnecessary vibration. It is necessary to keep the voltage amplitude of unnecessary vibration generated in the gate-source voltage (VGS) small. Further, in the case of an IGBT type element, it is necessary to keep the voltage amplitude of unnecessary vibration generated in the voltage between the gate terminal and the emitter terminal (VGE) small.
≪SiC素子の特徴と問題≫
近年では、電力変換器の性能向上に向けて、電力変換用パワー半導体素子に、低損失性の特長を有するシリコンカーバイド(SiC:Silicon Carbide)素子が用いられている。SiC素子はバンドギャップが広く、絶縁破壊耐圧がシリコン(Si:Silicon)素子の10倍程度高い特長があり、電流経路となるチャネル半導体層の膜厚をSi素子より薄層化ができるため、絶縁破壊電圧を等しく設計した場合に薄いチャネル半導体層となることから非常に小さい導通時のオン抵抗値が得られる。
≪Characteristics and problems of SiC elements≫
In recent years, in order to improve the performance of a power converter, a silicon carbide (SiC: Silicon Carbide) element having a feature of low loss has been used as a power semiconductor element for power conversion. SiC devices have a wide band gap and have a breakdown breakdown resistance that is about 10 times higher than that of silicon (Si: Silicon) devices. Since the thickness of the channel semiconductor layer that serves as the current path can be made thinner than that of Si devices, insulation is achieved. When the breakdown voltage is designed to be equal, a thin channel semiconductor layer is formed, so that a very small on-resistance value at the time of conduction can be obtained.
また、スイッチング時には、従来のSi製IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)素子に比較して、スイッチング損失が小さい利点がある。IGBT素子がスイッチングする場合には、電流遮断時に発生するテイル電流や、Si-IGBT素子と共に用いられるSi製PNダイオードの蓄積電荷によるリカバリ電流が発生し、スイッチング損失を生じる。一方、テイル電流が無く、リカバリ電流を小さく抑えられるSiC-MOSFET型パワー半導体素子では、その電圧波形や電流波形を理想的な波形に近づけることができる。 Further, at the time of switching, there is an advantage that the switching loss is small as compared with the conventional Si IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) element. When the IGBT element switches, a tail current generated when the current is cut off and a recovery current due to the accumulated charge of the Si PN diode used together with the Si-IGBT element are generated, and a switching loss occurs. On the other hand, in a SiC- MOSFET type power semiconductor device that has no tail current and can suppress the recovery current to a small value, the voltage waveform and the current waveform can be brought close to the ideal waveform.
その一方で、パワー半導体素子に寄生的に発生する帰還容量(IGBT型パワー半導体素子であればゲート・コレクタ間容量CGC、SiC-MOSFET型パワー半導体素子であればゲート・ドレイン間容量CGD)は、SiC-MOSFET型パワー半導体素子の帰還容量の方が大幅に大きい特徴がある。パワー半導体素子がスイッチングに要する時間のうち、ドレイン・ソース間電圧VDSもしくはコレクタ・エミッタ間電圧VCEを変化させる時間Tvは、駆動回路から流入出する駆動電流の大きさIgと帰還容量CGDもしくはCGCにより決まる。 On the other hand, the feedback capacitance (gate-collector capacitance CGC for IGBT-type power semiconductor devices, gate-drain capacitance CGD for SiC- MOSFET type power semiconductor devices) that is parasitically generated in power semiconductor devices is determined. The feedback capacitance of the SiC- MOSFET type power semiconductor element is significantly larger. Of the time required for switching by a power semiconductor element, the time Tv for changing the drain-source voltage VDS or the collector-emitter voltage VCE depends on the magnitude Ig of the drive current flowing in and out of the drive circuit and the feedback capacitance CGD or CGC. It will be decided.
駆動電流Igが等しい場合には、SiC-MOSFET型パワー半導体素子のTvは、Si-IGBT型パワー半導体素子に比較して長くなってしまう。パワー半導体素子がスイッチングに要する時間Tswは、電圧が変化する時間Tvと電流が変化する時間Tiに分けることができるが、Tvが支配的な場合にスイッチング損失Eswについて考えると、SiC-MOSFET型パワー半導体素子は、Si-IGBT型パワー半導体素子に比較して、スイッチング時の波形は不要な電流の発生を抑えられて理想的な波形を実現できるものの、帰還容量が大きいために電圧変化時間Tvが長くなる特徴がある。 When the drive current Ig is equal, the Tv of the SiC- MOSFET type power semiconductor element becomes longer than that of the Si-IGBT type power semiconductor element. The time Tsw required for switching by a power semiconductor device can be divided into the time Tv at which the voltage changes and the time Ti at which the current changes. Compared to Si-IGBT type power semiconductor devices, semiconductor devices can realize ideal waveforms by suppressing the generation of unnecessary current during switching, but the voltage change time Tv is large due to the large feedback capacitance. It has the characteristic of becoming longer.
従って、SiC-MOSFET型パワー半導体素子を用いて、スイッチング損失Eswが小さい電力変換器を構成するためには、ゲート駆動電流Igを大きく設定して、Tvを短縮する必要がある。Igを増加する手段には、(1)ゲート駆動電圧を増加させる手段、(2)ゲート駆動抵抗を減少させる手段の2つがある。 Therefore, in order to construct a power converter having a small switching loss Esw by using a SiC- MOSFET type power semiconductor element, it is necessary to set a large gate drive current Ig to shorten Tv. There are two means for increasing Ig: (1) a means for increasing the gate drive voltage and (2) a means for decreasing the gate drive resistance.
(1)のゲート駆動電圧の増加には、SiC-MOSFET型パワー半導体素子のゲート・ソース間定格電圧の制限が発生しやすいため、実効的ではない。そこで、(2)のゲート駆動抵抗を小さい値に設定してSiC-MOSFET型パワー半導体素子を駆動することが、SiC-MOSFET型パワー半導体素子を用いた電力変換装置を低損失で運用するための重要な技術になる。 The increase in the gate drive voltage in (1) is not effective because the rated voltage between the gate and source of the SiC- MOSFET type power semiconductor element is likely to be limited. Therefore, setting the gate drive resistance of (2) to a small value to drive the SiC- MOSFET type power semiconductor element is to operate the power conversion device using the SiC- MOSFET type power semiconductor element with low loss. It will be an important technology.
パワー半導体素子を用いて電力変換装置を構成するためには、上記で述べたスイッチング時の不要振動を抑制し、素子の長期信頼性の確保と破壊の防止が必要である。不要振動は、電力変換装置の回路構成要素に発生する寄生容量と寄生インダクタによる共振ループと、増幅素子として動作する2つ以上のパワー半導体素子によって発生する。不要振動の電圧振幅や電流振幅を低減するためには、この共振ループの共振の鋭さを低減すること、もしくは、増幅素子の増幅度を低減することが必要である。 In order to configure a power conversion device using a power semiconductor device, it is necessary to suppress unnecessary vibration during switching described above, ensure long-term reliability of the device, and prevent destruction. Unwanted vibration is generated by a parasitic capacitance generated in a circuit component of a power conversion device, a resonance loop by a parasitic inductor, and two or more power semiconductor elements operating as amplification elements. In order to reduce the voltage amplitude and the current amplitude of the unwanted vibration, it is necessary to reduce the sharpness of the resonance of this resonance loop or to reduce the amplification degree of the amplification element.
増幅素子の増幅度の低減には、ソース端子もしくはエミッタ端子に直列に、抵抗やインダクタンスを挿入してインピーダンスを高める手法があるが、電力変換器の場合には損失を増加させてしまうために採用できない。そこで、共振ループのうち、電流値の少ないゲート駆動回路に抵抗を挿入すること、すなわち、スイッチング時にゲート駆動抵抗を増大させることで、共振ループの共振の鋭さを低減する方式が効果的である。 To reduce the amplification degree of the amplification element, there is a method of inserting a resistor or inductance in series with the source terminal or emitter terminal to increase the impedance, but in the case of a power converter, it is adopted because it increases the loss. Can not. Therefore, among the resonance loops, it is effective to insert a resistor into the gate drive circuit having a small current value, that is, to increase the gate drive resistance at the time of switching to reduce the sharpness of the resonance of the resonance loop.
しかしながら、SiC-MOSFET型パワー半導体素子を電力変換装置に用いて低スイッチング損失の特性を実現するためには、上記のように、スイッチング時にSi-IGBT型パワー半導体素子に比較してゲート駆動抵抗を低減する必要がある。 However, in order to realize the characteristics of low switching loss by using the SiC- MOSFET type power semiconductor element in the power conversion device, as described above, the gate drive resistance is increased as compared with the Si-IGBT type power semiconductor element at the time of switching. Needs to be reduced.
本発明は、SiC-MOSFET型パワー半導体素子を電力変換装置に用いた場合に、低スイッチング損失の実現とスイッチング素子の長期信頼性の確保と破壊防止との2つの課題を同時に克服するためのものである。 The present invention is for simultaneously overcoming the two problems of realizing low switching loss, ensuring long-term reliability of the switching element, and preventing destruction when the SiC- MOSFET type power semiconductor element is used in the power conversion device. Is.
上記特許文献1に記載の回路構成は、各スイッチング素子のゲートに直列接続した抵抗値が可変な個別抵抗回路を設ける必要があり、スイッチング素子の並列数が多い場合には個別抵抗値を可変させる制御振動の配線が増えて回路規模が大きくなる欠点がある。また、素子の温度情報も参照して前記個別抵抗値を変化させる場合には、前記感温ダイオードとの配線も必要となる。
In the circuit configuration described in
予め決めた電流の閾値によって判定される過電流が発生した場合に個別抵抗回路の抵抗値を変更するイベントトリガ型の回路構成である。不要振動は、その発生によってゲート・ソース間電圧が超過した場合に即時に素子の破壊が発生する可能性があり、不要振動のリスクが高い場合には、その発生を待つこと無く予防する回路構成を採る必要がある。 It is an event trigger type circuit configuration that changes the resistance value of the individual resistance circuit when an overcurrent determined by a predetermined current threshold value occurs. Unnecessary vibration may cause element destruction immediately when the gate-source voltage is exceeded due to its occurrence, and if there is a high risk of unwanted vibration, a circuit configuration that prevents it without waiting for its occurrence. Need to be taken.
≪先行技術の課題≫
上記の特許文献1および特許文献2から、複数のパワー半導体素子をスイッチングさせる場合に、共振回路によってパワー半導体素子のいずれかに過電流が発生した場合に、過電流を抑制するために、(1)過電流の検知手段を備え、各パワー半導体素子のゲートに接続した個別抵抗の値を可変して過電流を低減すること、(2)パワー半導体素子の素子温度を検知する手段を備え、素子温度に応じて前記個別抵抗の値の制御を変化させることが従来から公知であると言える。
<< Issues of prior art >>
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しかしながら、複数のパワー半導体素子をスイッチングさせる場合に、素子の長期信頼性を劣化させて破壊の可能性を高めるのは、そのエミッタ電流、もしくはソース電流の値が過大となる場合だけではない。特に、パワー半導体素子のゲート電圧の最大と最小の定格はおよそ数十V程度(例えば、最大+20V、最小-10V)であるため、過大な電圧印加によって劣化しやすい。スイッチング時にゲート・ソース間電圧(以降、MOSFET型パワー半導体素子の端子名称を用いるが、IGBT型パワー半導体素子の端子名に置き換えることは可能である)に、過大な電圧が印加されるケースは複数ある。 However, when switching a plurality of power semiconductor devices, it is not only when the value of the emitter current or the source current becomes excessive that the long-term reliability of the device is deteriorated and the possibility of destruction is increased. In particular, since the maximum and minimum ratings of the gate voltage of the power semiconductor element are about several tens of volts (for example, maximum + 20V and minimum -10V), they are liable to be deteriorated by applying an excessive voltage. There are multiple cases where an excessive voltage is applied to the gate-source voltage during switching (hereinafter, the terminal name of the MOSFET type power semiconductor element is used, but it can be replaced with the terminal name of the IGBT type power semiconductor element). be.
一例が、スイッチングに発生するコレクタ電位もしくはドレイン電位の大きな電圧変化(例えば数kV)が、パワー半導体素子の帰還容量によって結合したゲート端子に印加されてしまう場合である。次の例は本発明が効果を発揮する不要振動が発生する場合である。スイッチング期間に生じる主電圧(コレクタ電位もしくはドレイン電位)が高く、同時に主電流(エミッタ電流もしくはソース電流)が大きいタイミングでゲート電位に不要振動が発生しやすく、その振動電圧の上限値や下限値が、前記のゲート電圧の定格値を超過して素子が劣化してしまう。 One example is a case where a large voltage change (for example, several kV) of the collector potential or the drain potential generated in switching is applied to the gate terminal coupled by the feedback capacitance of the power semiconductor element. The following example is a case where unnecessary vibration is generated in which the present invention is effective. Unnecessary vibration is likely to occur in the gate potential at the timing when the main voltage (collector potential or drain potential) generated during the switching period is high and the main current (emitter current or source current) is large at the same time, and the upper and lower limits of the vibration voltage are set. , The element deteriorates by exceeding the rated value of the gate voltage.
そこで、複数のパワー半導体素子をスイッチングする場合に発生する不要振動を抑圧し、上記のゲート・ソース間電圧に発生する電圧振動振幅がゲート電圧定格を超過しない手段が必要である。特に、SiC-MOSFET型パワー半導体素子は、低スイッチング損失を実現するためにSi-IGBT型パワー半導体素子よりゲート駆動抵抗の値を小さく設定する必要性があり、前記の共振ループの共振の鋭さが大きいため不要振動が発生し易いと言える。また、不要振動は、その発生によってゲート・ソース間電圧が定格電圧を超過した場合に即時に素子の破壊が発生する可能性があり、不要振動のリスクが高い場合には、その発生を回避する回路構成を採る必要がある。 Therefore, there is a need for a means for suppressing unnecessary vibration generated when switching a plurality of power semiconductor elements so that the voltage vibration amplitude generated in the above-mentioned gate-source voltage does not exceed the gate voltage rating. In particular, in the SiC- MOSFET type power semiconductor device, it is necessary to set the value of the gate drive resistance smaller than that of the Si-IGBT type power semiconductor device in order to realize low switching loss, and the sharpness of the resonance of the resonance loop is sharp. Since it is large, it can be said that unnecessary vibration is likely to occur. In addition, unwanted vibration may cause element destruction immediately when the gate-source voltage exceeds the rated voltage due to its occurrence, and avoid it when the risk of unwanted vibration is high. It is necessary to adopt a circuit configuration.
そこで、本発明の目的は、電力変換の主回路要素としてSiCパワー半導体モジュールを搭載する電力変換装置において、ゲート・ソース間電圧(VGS)の不要振動を抑制可能な信頼性の高い電力変換装置を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a highly reliable power conversion device capable of suppressing unnecessary vibration of the gate-source voltage (VGS) in a power conversion device equipped with a SiC power semiconductor module as a main circuit element of power conversion. To provide.
上記課題を解決するために、本発明は、並列に接続された複数のパワー半導体モジュールと、前記複数のパワー半導体モジュールの各々のドレイン・ソース間電圧Vds、ゲート・ソース間電圧Vgs、ソースまたはドレイン電流Isのそれぞれに基づく第1の物理量、第2の物理量、第3の物理量を前記複数のパワー半導体モジュールから取得する検知回路と、前記第1の物理量、前記第2の物理量、前記第3の物理量に基づいて検知判定信号を生成する判定回路と、前記検知回路および前記判定回路で構成され、前記検知判定信号を出力する検知判定回路と、前記検知判定信号に基づいて前記複数のパワー半導体モジュールの制御信号を生成するゲート駆動回路と、を備え、前記ゲート駆動回路は、抵抗値が可変に制御されるように構成された共通ゲート抵抗を有し、前記複数のパワー半導体モジュールの各々は、抵抗値が可変に制御されるように構成された個別ゲート抵抗を有し、前記検知判定回路は、前記ドレイン・ソース間電圧Vdsと前記ソースまたはドレイン電流Isが共に所定の閾値よりも大きい準短絡期間を抽出すると共に、前記ゲート・ソース間電圧Vgsと前記ソースまたはドレイン電流Isの組み合わせに対応するモジュール素子温度を抽出し、前記準短絡期間内に、前記モジュール素子温度が所定の範囲内である場合、前記共通ゲート抵抗および前記個別ゲート抵抗の少なくともいずれか一方の抵抗値を変化させることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the present invention relates to a plurality of power semiconductor modules connected in parallel, and drain-source voltage Vds, gate-source voltage Vgs, source or drain of each of the plurality of power semiconductor modules. A detection circuit that acquires a first physical quantity, a second physical quantity, and a third physical quantity based on each of the currents Is from the plurality of power semiconductor modules, the first physical quantity, the second physical quantity, and the third physical quantity. A determination circuit that generates a detection determination signal based on a physical quantity, a detection determination circuit that is composed of the detection circuit and the determination circuit and outputs the detection determination signal, and the plurality of power semiconductor modules based on the detection determination signal. The gate drive circuit comprises a gate drive circuit that generates a control signal of the above, and the gate drive circuit has a common gate resistor configured so that the resistance value is variably controlled, and each of the plurality of power semiconductor modules has a common gate resistance. The detection determination circuit has an individual gate resistance configured so that the resistance value is variably controlled, and the detection determination circuit is a quasi-short circuit in which both the drain-source voltage Vds and the source or drain current Is are larger than a predetermined threshold value. Along with extracting the period, the module element temperature corresponding to the combination of the gate-source voltage Vgs and the source or drain current Is is extracted, and the module element temperature is within a predetermined range within the quasi-short circuit period. When is, it is characterized in that the resistance value of at least one of the common gate resistance and the individual gate resistance is changed.
本発明によれば、電力変換の主回路要素としてSiCパワー半導体モジュールを搭載する電力変換装置において、ゲート・ソース間電圧(VGS)の不要振動を抑制可能な信頼性の高い電力変換装置を実現することができる。 According to the present invention, in a power conversion device equipped with a SiC power semiconductor module as a main circuit element of power conversion, a highly reliable power conversion device capable of suppressing unnecessary vibration of a gate-source voltage (VGS) is realized. be able to.
これにより、電力変換装置の誤動作や故障を低減することができる。 This makes it possible to reduce malfunctions and failures of the power conversion device.
上記した以外の課題、構成および効果は、以下の実施形態の説明によって明らかにされる。 Issues, configurations and effects other than those described above will be clarified by the description of the following embodiments.
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。なお、各図面において同一の構成については同一の符号を付し、重複する部分についてはその詳細な説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each drawing, the same components are designated by the same reference numerals, and the detailed description of the overlapping portions will be omitted.
本発明の電力変換装置は、並列に接続された複数のパワー半導体モジュールの各々のゲート・ソース間電圧、ドレイン・ソース間電圧、およびソースまたはドレイン電流のそれぞれに基づく第1の物理量、第2の物理量、および第3の物理量を取得し、複数のパワーモジュールの共通ゲート抵抗と個別ゲート抵抗の値を制御する信号を発生する検知判定回路を備える。前記検知判定回路は、前記ドレイン・ソース間電圧とソース電流とが共に所定の閾値よりも大きい準短絡期間を抽出すると共に、前記ゲート・ソース間電圧と前記ソース電流との組み合わせに対応するモジュール素子温度を抽出し、前記準短絡期間内に、前記モジュール素子温度が所定の温度範囲に存在する場合に前記ゲート抵抗の値を変化させる。前記共通ゲート抵抗の抵抗値を減少させる動作および前記個別ゲート抵抗の抵抗値を増加させる動作の少なくとも一方を実行する。 The power converter of the present invention is a first physical quantity, a second, based on the gate-source voltage, drain-source voltage, and source or drain current of each of a plurality of power semiconductor modules connected in parallel. A detection determination circuit that acquires a physical quantity and a third physical quantity and generates a signal for controlling the values of the common gate resistance and the individual gate resistance of a plurality of power modules is provided. The detection determination circuit extracts a quasi-short circuit period in which both the drain-source voltage and the source current are larger than a predetermined threshold value, and the module element corresponding to the combination of the gate-source voltage and the source current. The temperature is extracted and the value of the gate resistance is changed when the module element temperature is in a predetermined temperature range within the quasi-short circuit period. At least one of the operation of reducing the resistance value of the common gate resistance and the operation of increasing the resistance value of the individual gate resistance is executed.
≪全体回路構成の一例≫
図1から図5Bを参照して、本発明の第1の実施形態に係る電力変換装置について説明する。図1は本実施例の電力変換装置の1相分の回路構成を示している。
≪Example of overall circuit configuration≫
The power conversion device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5B. FIG. 1 shows a circuit configuration for one phase of the power conversion device of this embodiment.
図1に示すように、本実施例に係る電力変換装置は、複数のパワー半導体モジュール8a,8b,9a,9bと、複数のパワー半導体モジュールのゲート端子とソースセンス端子を共通ゲート駆動抵抗51,52によって駆動するゲート駆動回路5a,5bと、パワー半導体モジュールのドレイン・ソースセンス間電圧Vdsとゲート・ソースセンス間電圧Vgsとソース電流値Isを検知して、ゲート駆動回路5a,5bを構成する共通ゲート駆動抵抗51,52と複数のパワー半導体モジュール8a,8b,9a,9bに含まれる個別ゲート抵抗の値を増減する制御を行う検知判定回路10a、10bによって構成される。
As shown in FIG. 1, the power conversion device according to the present embodiment has a plurality of
なお、図1では、電力変換装置の負荷(誘導性負荷6)と電源(主電圧源7)を含めて図示する。 Note that FIG. 1 shows the load of the power conversion device (inductive load 6) and the power supply (main voltage source 7).
検知判定回路10a,10bは、パワー半導体モジュールのドレイン・ソース間電圧Vdsを検知して第1の物理量を生成するVds検知回路1a,1bと、パワー半導体モジュールのゲート・ソース間電圧Vgsを検知して第2の物理量を生成するVgs検知回路2a,2bと、パワー半導体モジュールのソースまたはドレイン電流値Isを反映する電圧もしくは電流を検知して第3の物理量を生成するIs検知回路3a,3bと、第1から第3の物理量を入力とし、ゲート駆動回路5a,5bと複数のパワー半導体モジュール8a,8b,9a,9bの抵抗値を増減する制御信号を生成する判定回路4a,4bによって構成される。
The
なお、複数のパワー半導体モジュール8a,8b,9a,9bの構成は2つの形態があり、何れも本発明の範囲に含まれる。すなわち、図1では、電力変換装置の上アーム用のパワー半導体モジュール8a,9aと下アーム用のパワー半導体モジュール8b,9bをそれぞれ別筐体の1-in-1モジュールで構成する形態を示しているが、上アーム用のパワー半導体モジュール8a,9aと下アーム用のパワー半導体モジュール8b,9bがそれぞれ同一のモジュール筐体に格納される2-in-1モジュールの形態であっても、以下に述べる本発明の効果に変わりはない。
The configuration of the plurality of
上アームのパワー半導体モジュール8a,9aと下アームのパワー半導体モジュール8b,9bとはハーフブリッジ回路を構成し、電力変換装置の1相分の回路である。
The
上アームのパワー半導体モジュール8a,9aのドレイン端子D1は高電位端子である。上アームのパワー半導体モジュール8a,9aのソース端子S1と下アームのパワー半導体モジュール8b,9bのドレイン端子D2とは中間電位端子D2S1に共通に接続され、誘導性負荷6と接続される。下アームのパワー半導体モジュール8b,9bのソース端子S2は低電位端子である。
The drain terminals D1 of the
ゲート駆動回路5(5a,5b)と検知判定回路10(10a,10b)とパワー半導体モジュール8,9(8a,8b,9a,9b)の接続について上アームを例に説明する。例示する2つのパワー半導体モジュール8a,9aのゲート端子は共通に接続され、ゲート駆動回路5(5a)の出力端子nGOa(上アームではaの添字を付記する)に接続される。対となるソースセンス端子もまた共通に接続され、出力端子nSsOaに接続される。
The connection between the gate drive circuit 5 (5a, 5b), the detection / determination circuit 10 (10a, 10b), and the power semiconductor modules 8, 9 (8a, 8b, 9a, 9b) will be described by taking the upper arm as an example. The gate terminals of the two
パワー半導体モジュール8a,9aのソース主端子D2S1はIs検知回路3aの一方の入力端子に接続され、Is検知回路3aの他方の入力端子にはソースセンス端子nSsOaが接続される。Vgs検知回路2aの一方の入力端子はゲート端子nGOaに接続され、他方の入力端子はソースセンス端子nSsOaに接続される。Vds検知回路1aの一方の入力端子は、パワー半導体モジュール8a,9aのドレインセンス主端子nSi1aに接続され、他方の入力端子はソースセンス端子nSsOaに接続される。
The source main terminal D2S1 of the
Vds検知回路1aとVgs検知回路2aとIs検知回路3aのそれぞれの出力はソースセンス端子nSsOaの電位を基準に判定回路4aへと入力される。なお、Vds検知回路1aとVgs検知回路2aとIs検知回路3aには図示しないが、それぞれの2入力端子間の電位差に対する閾値電圧発生回路を備えており、複数の検知回路1a,2a,3aのそれぞれの出力値の決定に用いられる。なお、各検知回路は閾値電圧を互いに独立して設定可能である。
The outputs of the
判定回路4aは3つ電圧出力端子nDo1a~nDo3aを備えており、ゲート駆動回路5aの共通ゲート駆動抵抗51に並列配置されたスイッチ54と、ゲート駆動回路5aの共通ゲート駆動抵抗52に並列配置されたスイッチ56と、パワー半導体モジュール8aの個別ゲート抵抗82に並列配置された個別ゲート抵抗可変スイッチ84と、パワー半導体モジュール9aの個別ゲート抵抗92に並列配置された個別ゲート抵抗可変スイッチ94と、に開放もしくは閉鎖の制御信号を出力する。
The
ゲート駆動回路5aでは、正側電位端子nGDHaに接続された共通ゲート駆動抵抗51に対し、スイッチ54と共通ゲート駆動抵抗53で構成した直列回路を並列に接続することで、ゲート駆動回路5aの正側共通ゲート抵抗の値(Rg1ON)の値を可変にする。検知判定回路10(10a)の出力端子nDo1aから出力された制御信号により、スイッチ54が開放状態では共通ゲート駆動抵抗51の値R51がRg1ONとなり、スイッチ54が閉鎖状態では共通ゲート駆動抵抗51の値R51と共通ゲート駆動抵抗53の値R53との並列合成抵抗値R51’がRg1ONになる。
In the
負側においても同様に、負側電位端子nGDLaに接続される共通ゲート駆動抵抗52に対し、共通ゲート可変スイッチであるスイッチ56と共通ゲート駆動抵抗55で構成した直列回路を並列に接続することで、ゲート駆動回路5aの負側共通ゲート抵抗の値(Rg1OFF)の値を可変にする。検知判定回路10(10a)の出力端子nDo2aから出力された制御信号により、スイッチ56が開放状態では共通ゲート駆動抵抗52の値R52がRg1OFFとなり、スイッチ56が閉鎖状態では共通ゲート駆動抵抗52の値R52と共通ゲート駆動抵抗55の値R55との並列合成抵抗値R52’がRg1OFFになる。
Similarly, on the negative side, a series circuit composed of the
パワー半導体モジュール8aでは、そのゲート端子に接続される個別ゲート抵抗82に対し、個別ゲート抵抗可変スイッチ84と個別ゲート抵抗83で構成した直列回路を並列に接続することで、ゲート個別抵抗の値を可変にする。検知判定回路10aの出力端子nDo3aから出力された制御信号により、個別ゲート抵抗可変スイッチ84が開放状態では個別ゲート抵抗82の値R82がゲート個別抵抗値となり、個別ゲート抵抗可変スイッチ84が閉鎖状態では個別ゲート抵抗82の値R82と個別ゲート抵抗83の値R83との並列合成抵抗値がゲート個別抵抗値になる。パワー半導体モジュール9aにおいても、そのゲート個別抵抗の値は、パワー半導体モジュール8aと同様に制御される。
In the
≪タイミングチャートを用いた動作説明≫
図1に示した本実施例の回路構成の動作を、図2Aから図2Dに示すタイミングチャートで説明する。先ず、ゲートプラトー電圧の温度依存性について予め説明する。
≪Operation explanation using timing chart≫
The operation of the circuit configuration of this embodiment shown in FIG. 1 will be described with reference to the timing charts shown in FIGS. 2A to 2D. First, the temperature dependence of the gate plateau voltage will be described in advance.
誘導性負荷に対してスイッチングを行う場合、パワー半導体モジュールのゲート電位がミラー効果によって平坦な値をとる場合、これをゲートプラトー電圧VGPと定義する。VGPは以下の式で表される。 When switching to an inductive load, when the gate potential of the power semiconductor module takes a flat value due to the Miller effect, this is defined as the gate plateau voltage VGP. VGP is expressed by the following equation.
VGP≒Vth+Is/gm…(式1)
ここで、Vthはパワー半導体モジュールに搭載したスイッチングを行うチップのゲート閾値電圧を、Isはスイッチングの際にソースを流れる電流値であり負荷電流Iloadに等しい。gmはスイッチングを行うチップの相互コンダクタンスを示しており、Vthとgmはそれぞれが温度依存性を有している。現在、パワー半導体モジュールに搭載されるSiC-MOSFETの特性では、式1のうち、温度変化に対してVthの依存性が最も大きく、チップ温度が低温であればVthに対応してVGPの値が高くなり、低温であればVthの値は低下するためVGPの値は低くなる。
VGP ≒ Vth + Is / gm ... (Equation 1)
Here, Vth is the gate threshold voltage of the switching chip mounted on the power semiconductor module, and Is is the current value flowing through the source during switching, which is equal to the load current Iload. gm indicates the mutual conductance of the switching chips, and Vth and gm each have temperature dependence. Currently, in the characteristics of the SiC- MOSFET mounted on the power semiconductor module, Vth is most dependent on the temperature change in
図2Aから図2Dは横軸に時間をとり、パワー半導体モジュール8a,8b,9a,9bの各部波形を模式化したものである。以下の説明では、上アーム(端子名の添字がaとなる)を例にとって説明する。
2A to 2D are schematic representations of the waveforms of each part of the
図2Aは、上アームのゲート駆動回路5aの出力端子nGOaから出力されたゲート駆動信号によってターンオフ動作に続いてターンオン動作が行われる場合の波形を模式的に示している。図2Aは本発明の制御が実施される事例である。一方、図2Bは図2A同様にターンオフ動作に続いてターンオン動作が行われの波形だが、本発明の制御が実施されない事例を示している。なお、図2Aから図2Dの波形は、ゲート駆動信号によって制御される駆動アームを構成する各部の波形を示している。
FIG. 2A schematically shows a waveform when a turn-on operation is performed following a turn-off operation by a gate drive signal output from the output terminal nGOa of the
図2Aに示す動作と対応する波形について説明する。上から1段目に、ゲート駆動回路の制御端子SIGの電圧信号VSIGを示す。図1に示す正側電位端子nGDHaに印加されるゲート駆動制御信号である。OFF状態にゲートを制御する場合にはLow(L)レベル、ON状態にゲートを制御する場合にはHigh(H)レベルとなる。 The waveform corresponding to the operation shown in FIG. 2A will be described. The voltage signal VSIG of the control terminal SIG of the gate drive circuit is shown in the first stage from the top. It is a gate drive control signal applied to the positive potential terminal nGDHa shown in FIG. 1. When the gate is controlled in the OFF state, the level is Low (L), and when the gate is controlled in the ON state, the level is High (H).
2段目に、信号VSIGに対応して変化するパワー半導体モジュールのゲート・ソースセンス端子間電圧VGSの応答波形を示す。その正側の最大電位VGDHから最小電位VGDLへと過渡的に変化するが、その電圧範囲はパワー半導体モジュールに搭載されるSiC-MOSFETのゲート定格電圧範囲を逸脱しないよう制御される必要がある。VGS波形には、ほぼ平坦な電圧となるプラトー電圧(図2A中にVGPと示す)が発生し、その時間期間をプラトー期間と呼ぶことにする。このプラトー期間は、パワー半導体モジュールのドレイン・ソース間電圧VDSが変化する期間である。 The second stage shows the response waveform of the gate-source sense terminal voltage VGS of the power semiconductor module that changes according to the signal VSIG. The voltage range changes transiently from the maximum potential VGDH on the positive side to the minimum potential VGDL, but the voltage range needs to be controlled so as not to deviate from the gate rated voltage range of the SiC- MOSFET mounted on the power semiconductor module. A plateau voltage (indicated as VGP in FIG. 2A), which is a substantially flat voltage, is generated in the VGS waveform, and the time period thereof is referred to as a plateau period. This plateau period is a period during which the drain-source voltage VDS of the power semiconductor module changes.
3段目にVDSの応答波形を示す。プラトー期間ではVDSが主電圧Vccと0Vとの間を遷移する。 The response waveform of VDS is shown in the third stage. During the plateau period, the VDS transitions between the main voltage Vcc and 0V.
4段目にパワー半導体モジュールのソース電流Isの過渡応答波形を示す。パワー半導体モジュール8a,9aのソース電流の値は、パワー半導体モジュールの内部において、もしくは、モジュールのソース端子において具備されたソース電流検知抵抗(シャント抵抗)85,95の両端子間に現れる電位差に変換され、Is検知回路3aの入力端子間の電位差として入力される。図2Aに示すように、ターンオフ時ではVDSの電圧変化の後にIsの電流変化が発生し、ターンオン時ではIsの電流変化の後にVDSの電圧変化が発生する。
The transient response waveform of the source current Is of the power semiconductor module is shown in the fourth stage. The value of the source current of the
5段目から10段目の波形は、検知判定回路10(10a)の内部波形となる。VGSOUTはVGS検知回路2aの出力電位を、VDSOUTはVDS検知回路1aの出力電位を、ISOUTはIs検知回路3aの出力電位をそれぞれ示している。
The waveforms in the 5th to 10th stages are the internal waveforms of the detection determination circuit 10 (10a). VGSOUT indicates the output potential of the VGS detection circuit 2a, VDSOUT indicates the output potential of the
VGSOUTは、VGS波形が閾値VGPth以上であればHigh信号を、閾値VGPth未満であればLow信号を出力する。 The VGSOUT outputs a High signal when the VGS waveform is equal to or higher than the threshold value VGPth, and outputs a Low signal when the VGS waveform is less than the threshold value VGPth.
VDSOUTは、VDS波形が閾値VDSth以上であればHigh信号を、閾値VGPth未満であればLow信号を出力する。 The VDSOUT outputs a High signal if the VDS waveform is equal to or higher than the threshold value VDSth, and outputs a Low signal if the VDS waveform is less than the threshold value VGPth.
IsOUTは、Is波形の値が閾値Isth以上であればHigh信号を、閾値Isth未満であればLow信号を出力する。 IsOUT outputs a High signal when the value of the Is waveform is equal to or more than the threshold value Isth, and outputs a Low signal when the value is less than the threshold value Isth.
内部波形Aは、VDSOUTとIsOUTの論理積を示しており、VDS波形とIs波形がともにそれぞれの判定閾値以上である期間にHigh信号を、判定閾値未満である場合にLow信号を出力する。つまり、内部波形AがHigh信号を出力する期間は、パワー半導体モジュールが準短絡状態にあることを示す。 The internal waveform A indicates the logical product of VDSOUT and IsOUT, and outputs a High signal during a period in which both the VDS waveform and the Is waveform are equal to or greater than the respective determination threshold values, and outputs a Low signal when the VDS waveform and the Is waveform are both equal to or greater than the respective determination threshold values. That is, the period during which the internal waveform A outputs the High signal indicates that the power semiconductor module is in the quasi-short-circuited state.
内部波形Bは、VDSOUTの立ち上がりトリガでVGSOUTをラッチした出力である。VDSOUTの立ち上がりタイミング(図2A中の時間T1)は、波形VGSOUTがプラトー期間の電圧VGS(つまりVGP)を閾値VGPthに対して大小判定した期間に発生する。そのため、内部波形Bは、ターンオフ時のVGPの値の大小を判定した出力信号となる。後述するが、例えばパワー半導体モジュール内部のスイッチング素子の温度が低温であればVGPの値は増加することから、内部波形BがHigh信号であればスイッチング素子の温度は低温であることが判定できる。 The internal waveform B is an output in which VGSOUT is latched by a rising trigger of VDSOUT. The rise timing of VDSOUT (time T1 in FIG. 2A) occurs during the period in which the waveform VGSOUT determines the magnitude of the voltage VGS (that is, VGP) in the plateau period with respect to the threshold value VGPth. Therefore, the internal waveform B is an output signal for determining the magnitude of the VGP value at the time of turn-off. As will be described later, for example, if the temperature of the switching element inside the power semiconductor module is low, the value of VGP increases. Therefore, if the internal waveform B is a High signal, it can be determined that the temperature of the switching element is low.
内部波形Cは、内部波形AとBの論理積である。つまり、ワー半導体モジュールが準短絡状態、かつ、パワー半導体モジュール内部のスイッチング素子の温度が低温であればHigh信号を出力する。すなわち、内部波形CがHigh信号を出力する期間は、複数のパワー半導体モジュールを用いた電力変換器のゲート駆動経路において不要振動が発生する可能性が高い状態である。 The internal waveform C is a logical product of the internal waveforms A and B. That is, if the War semiconductor module is in a quasi-short-circuited state and the temperature of the switching element inside the power semiconductor module is low, a High signal is output. That is, during the period in which the internal waveform C outputs the High signal, there is a high possibility that unnecessary vibration will occur in the gate drive path of the power converter using the plurality of power semiconductor modules.
本発明のゲート駆動抵抗の制御では、内部波形CがHigh信号の場合には、共通ゲート抵抗を変更するスイッチ(共通ゲート可変スイッチ)54,56に閉鎖信号を与える。これにより、ターンオン抵抗がR51から、共通ゲート駆動抵抗51の値R51と共通ゲート駆動抵抗53の値R53との並列合成抵抗値R51’へと低減し、ターンオフ抵抗はR52から、共通ゲート駆動抵抗52の値R52と共通ゲート駆動抵抗55の値R55との並列合成抵抗値R52’へと低減する。
In the control of the gate drive resistance of the present invention, when the internal waveform C is a High signal, a closing signal is given to the switches (common gate variable switch) 54 and 56 that change the common gate resistance. As a result, the turn-on resistance is reduced from R51 to the parallel combined resistance value R51'of the value R51 of the common
但し、ターンオフ時にはゲート駆動ON/OFF切り替えスイッチ58が閉鎖し、ゲート駆動ON/OFF切り替えスイッチ57が開放となるため、スイッチング動作に影響する共通ゲート抵抗はR52とR52’である。また、ターンオン時にはゲート駆動ON/OFF切り替えスイッチ57が閉鎖し、ゲート駆動ON/OFF切り替えスイッチ58が開放となるため、スイッチング動作に影響する共通ゲート抵抗はR51とR51’である。
However, since the gate drive ON /
同時に、内部波形CがHigh信号の場合には、パワー半導体モジュールの個別ゲート抵抗を増大させるように制御する。内部波形Cの論理反転値を、パワー半導体モジュール8a,9aのゲート駆動抵抗の個別ゲート抵抗可変スイッチ84と個別ゲート抵抗可変スイッチ94に与え、スイッチを開放し、個別ゲート抵抗値を、個別ゲート抵抗82の値R82と個別ゲート抵抗83の値R83との並列合成抵抗値R82’から、個別ゲート抵抗82の値R82へと増加させ、同様に個別ゲート抵抗92の値R92と個別ゲート抵抗93の値R93との並列合成抵抗値R92’から、個別ゲート抵抗92の値R92へと増加させる。
At the same time, when the internal waveform C is a High signal, it is controlled so as to increase the individual gate resistance of the power semiconductor module. The logical inversion value of the internal waveform C is given to the individual gate resistance
以上説明したように、本発明のゲート抵抗の制御は、パワー半導体モジュールが準短絡状態、かつ、パワー半導体モジュール内部のスイッチング素子の温度が低温である場合に、共通ゲート抵抗を低減し、モジュール個別抵抗を増加することである。上記の場合において、共通ゲート抵抗の低減、または個別ゲート抵抗の増加、のいずれか一方のみを実施する場合であっても本発明の効果が得られる。 As described above, the control of the gate resistance of the present invention reduces the common gate resistance when the power semiconductor module is in a quasi-short circuit state and the temperature of the switching element inside the power semiconductor module is low, and the individual modules are individually controlled. Is to increase resistance. In the above case, the effect of the present invention can be obtained even when only one of the reduction of the common gate resistance and the increase of the individual gate resistance is carried out.
≪ゲート抵抗値の増減制御の効果≫
ここで、図3を用いて上記のゲート抵抗の増減の効果を説明する。図3は、並列接続される2つのパワー半導体モジュール8a,9aについて、ゲート駆動経路の等価回路を簡略化したものである。ゲート駆動回路の等価回路は、例としてターンオン時の回路を記載している。ゲート駆動経路に生ずる不要振動は、2つのパワー半導体モジュール8a,9aのゲート端子とソースセンス端子で構成する共振ループ間で生じる発振現象である。
≪Effect of increase / decrease control of gate resistance value≫
Here, the effect of increasing / decreasing the gate resistance will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a simplification of the equivalent circuit of the gate drive path for the two
不要振動が発生する条件について述べる。チップ温度が低温である場合は、半導体チップの相互コンダクタンスが大きくなり、ノイズを含めたゲート電圧変化に対するソース電流の変化率が大きくなる。相互コンダクタンスはソース電流の絶対値にも依存し、ソース電流が大きい場合には更にゲート電圧変化に対するドレイン電流とソース電流の変化率が大きくなる。 The conditions under which unnecessary vibration occurs are described. When the chip temperature is low, the mutual conductance of the semiconductor chips becomes large, and the rate of change of the source current with respect to the change of the gate voltage including noise becomes large. The transconductance also depends on the absolute value of the source current, and when the source current is large, the rate of change of the drain current and the source current with respect to the change in the gate voltage becomes larger.
誘導性負荷に対してスイッチングを行う場合には、パワー半導体モジュールのソース電流Isの値は随時変化するため、チップ温度が低温であり、同時にソース電流Isが大きい期間が発生する。この期間において、パワー半導体モジュールのゲート電圧に対するソース電流の変化率が最も高く、ゲート駆動ループにおいて不要振動が発生する可能性が高くなる。 When switching to an inductive load, the value of the source current Is of the power semiconductor module changes at any time, so that a period in which the chip temperature is low and the source current Is is large occurs at the same time. During this period, the rate of change of the source current with respect to the gate voltage of the power semiconductor module is the highest, and the possibility of unnecessary vibration occurring in the gate drive loop is high.
図3では発振時のループ電流Iringの経路を示している。共振周波数で振動する電流Iringは共振ループを一巡するように流れる。発振を抑制するためにはこの発振電流の値を低減することが必要である。その手段は2つあり、(1)ループ経路に共振ダンピング抵抗を挿入し発振電流の値を低減すること、(2)ループ経路に並列に電流迂回路を挿入し発振電流の値を低減することである。ここで、ゲート駆動回路5(5a)で構成する電流迂回経路を流れる電流をIgdとする。 FIG. 3 shows the path of the loop current Iring at the time of oscillation. The current Iring that oscillates at the resonance frequency flows around the resonance loop. In order to suppress oscillation, it is necessary to reduce the value of this oscillation current. There are two ways to do this: (1) insert a resonant damping resistor in the loop path to reduce the value of the oscillation current, and (2) insert a current detour circuit in parallel with the loop path to reduce the value of the oscillation current. Is. Here, the current flowing through the current detour path configured by the gate drive circuit 5 (5a) is defined as Igd.
上記の(1)の実現手段は、パワー半導体モジュールの個別ゲート抵抗を増加させてIringを低減することである。そのために、不要振動が発生する条件において、個別ゲート抵抗可変スイッチ84を開放して個別ゲート抵抗をR82’からR82へと変化させる。同時に、個別ゲート抵抗可変スイッチ94を開放して個別ゲート抵抗をR92’からR92へと変化させる。ここで、R82’<R82、R92’<R92、R82’=R82//R83、R92’=R92//R93、の関係である。
The means for realizing the above (1) is to increase the individual gate resistance of the power semiconductor module to reduce Iring. Therefore, under the condition that unnecessary vibration is generated, the individual gate resistance
この実現手段によって振動電流Iringの振幅を減少させることが可能になり、Iringとパワー半導体モジュールのゲート・ソース間インピーダンスの積で決まる波形VGSの不要振動電圧振幅を小さく抑制することができる。(図5Aおよび図5B参照)
上記の(2)の実現手段は、パワー半導体モジュールの共通ゲート抵抗を減少させることである。不要振動の発生リスクが高い条件において、スイッチ(共通ゲート可変スイッチ)54を閉鎖することにより、共通ゲート抵抗をターンオン時のR51やターンオフ時のR52の値からR51’やR52’へ変化させる。ここで、R51’<R51、R52’<R52、R51’=R51//R53、R52’=R52//R56、の関係である。この実現手段によってゲート駆動経路に引き込む振動電流Igdを増加できるため、パワー半導体モジュールを流れる振動電流Iringの振幅を低減できる。その結果、Iringとパワー半導体モジュールのゲート・ソース間インピーダンスの積で決まる波形VGSの不要振動電圧振幅を小さく抑制することができる。
By this realization means, the amplitude of the vibration current Iring can be reduced, and the unnecessary vibration voltage amplitude of the waveform VGS determined by the product of the Iring and the gate-source impedance of the power semiconductor module can be suppressed to a small value. (See FIGS. 5A and 5B)
The means for realizing the above (2) is to reduce the common gate resistance of the power semiconductor module. By closing the switch (common gate variable switch) 54 under the condition that the risk of unnecessary vibration is high, the common gate resistance is changed from the value of R51 at the time of turn-on and the value of R52 at the time of turn-off to R51'or R52'. Here, the relationship is R51'<R51, R52'<R52, R51'= R51 // R53, R52'= R52 // R56. Since the vibration current Igd drawn into the gate drive path can be increased by this realization means, the amplitude of the vibration current Iring flowing through the power semiconductor module can be reduced. As a result, the unnecessary vibration voltage amplitude of the waveform VGS determined by the product of the impedance between the gate and the source of the power semiconductor module can be suppressed to be small.
すなわち、上記の手段(1)と手段(2)をそれぞれ単独で、もしくは同時に実施することで、不要振動の現象を抑制することができる。 That is, by carrying out the above means (1) and means (2) individually or simultaneously, the phenomenon of unnecessary vibration can be suppressed.
つまり、検知判定回路10(10a,10b)は、パワー半導体モジュール8a,9aの各々のゲート端子と、パワー半導体モジュール8a,9aの各々のソースセンス端子と、ゲート駆動回路5(5a,5b)と、それらの接続配線によって生じる寄生インダクタンスと、パワー半導体モジュール8a,9aの各々に生じる寄生容量と、によって構成されるゲート駆動経路の共振ループ回路を成し、共通ゲート抵抗51,52,53,55の値を低減することで共振ループ回路に生じる振動電流の迂回路を発生させて振動電流を低減し、個別ゲート抵抗82,83,92,93の値を増加することで共振ループ回路に損失を与えて振動電流を低減する。
That is, the detection determination circuit 10 (10a, 10b) includes the gate terminals of the
図2Bのタイミングチャートでは、パワー半導体モジュールのチップ温度が高温の場合を想定し、波形を模式的に示している。2段目に示す波形VGSはゲートプラトー期間の値VGPが閾値VGPth未満となる場合である。そのため、ターンオフ時のVGPと閾値VGPthを参照して出力するVGSOUTはLow信号を保持する。一方、ソース電流Isの最大値は閾値Isth以上となるため、IsOUTは変化し、High信号とLow信号を出力する。 In the timing chart of FIG. 2B, it is assumed that the chip temperature of the power semiconductor module is high, and the waveform is schematically shown. The waveform VGS shown in the second stage is a case where the value VGP of the gate plateau period is less than the threshold value VGPth. Therefore, the VGSOUT output with reference to the VGP at the time of turn-off and the threshold value VGPth holds the Low signal. On the other hand, since the maximum value of the source current Is is equal to or higher than the threshold value Isth, IsOUT changes and a High signal and a Low signal are output.
内部波形Aは、VDSOUTとIsOUTの論理積であるから、High信号である期間が電圧VDSと電流Isがともに大きい準短絡状態であることを示している。一方、VGSOUTがLowレベルを保持しているため、内部波形Bは、Low信号となる。ゲート抵抗値の変化を制御する内部波形Cは、内部波形BがLow信号であることに伴い、Low信号である。 Since the internal waveform A is the logical product of VDSOUT and IsOUT, it indicates that the period of the high signal is a quasi-short circuit state in which both the voltage VDS and the current Is are large. On the other hand, since VGSOUT holds the Low level, the internal waveform B becomes a Low signal. The internal waveform C that controls the change in the gate resistance value is a Low signal because the internal waveform B is a Low signal.
つまり、図2Bの場合には、ゲート抵抗(共通ゲート抵抗と個別ゲート抵抗)を変化させない制御である。 That is, in the case of FIG. 2B, the control does not change the gate resistance (common gate resistance and individual gate resistance).
チップ温度が高温である場合、上記のようにパワー半導体モジュールの相互コンダクタンスが低下して不要振動の発生が抑制されることから、ゲート抵抗を変化させない制御を行う。 When the chip temperature is high, the mutual conductance of the power semiconductor module is lowered and the generation of unnecessary vibration is suppressed as described above, so that the control is performed without changing the gate resistance.
図2Cのタイミングチャートでは、パワー半導体モジュールのチップ温度は図2Aと同様に低温であるが、ソース電流Isの値が閾値Isthより小さい場合を想定した波形を模式的に示している。2段目に示す波形VGSのうち、ゲートプラトー期間の値VGPが閾値VGPth以上となる場合である。ターンオフ時のVGPと閾値VGPthを参照して出力するVGSOUTはVDSOUTをトリガにHigh信号を出力する。一方、ソース電流Isの最大値は閾値Isth未満となるため、IsOUTはLow信号を保持する。 In the timing chart of FIG. 2C, the chip temperature of the power semiconductor module is as low as that of FIG. 2A, but the waveform assuming the case where the value of the source current Is is smaller than the threshold value Is is schematically shown. Among the waveform VGS shown in the second stage, the value VGP during the gate plateau period is equal to or higher than the threshold value VGPth. The VGSOUT that is output with reference to the VGP and the threshold value VGPth at the time of turn-off outputs a High signal triggered by the VDSOUT. On the other hand, since the maximum value of the source current Is is less than the threshold value Isth, IsOUT holds the Low signal.
内部波形Aは、VDSOUTとIsOUTの論理積であるからLow信号となり、電圧VDSと電流Isがともに大きい準短絡状態は発生しないことを示している。一方、VGSOUTがHigh信号を出力するため、内部波形BはHigh信号となる。ゲート抵抗値の変化を制御する内部波形Cは、内部波形AがLow信号であることに伴い、Low信号となる。 Since the internal waveform A is a logical product of VDSOUT and IsOUT, it becomes a Low signal, and it is shown that a quasi-short circuit state in which both the voltage VDS and the current Is are large does not occur. On the other hand, since VGSOUT outputs a High signal, the internal waveform B becomes a High signal. The internal waveform C that controls the change in the gate resistance value becomes a Low signal because the internal waveform A is a Low signal.
つまり、図2Cの場合には、ゲート抵抗(共通ゲート抵抗と個別ゲート抵抗)を変化させない制御である。チップ温度が低温で相互コンダクタンスが増加した場合であっても、ソース電流Isが小さい場合には不要振動の発生が抑制されることから、ゲート抵抗を変化させない制御を行う。 That is, in the case of FIG. 2C, the control does not change the gate resistance (common gate resistance and individual gate resistance). Even when the chip temperature is low and the transconductance increases, when the source current Is is small, the generation of unnecessary vibration is suppressed, so control is performed without changing the gate resistance.
図2Dのタイミングチャートでは、パワー半導体モジュールのチップ温度は図2Bと同様に高温であるが、ソース電流Isの値が閾値Isthより小さい場合を想定した波形を模式的に示している。2段目に示す波形VGSのうち、ゲートプラトー期間の値VGPが閾値VGPth未満となる場合である。ターンオフ時のVGPと閾値VGPthを参照して出力するVGSOUTはVDSOUTをトリガとするがLow信号を保持する。さらに、ソース電流Isの最大値は閾値Isth未満となるため、IsOUTもまたLow信号を保持する。 In the timing chart of FIG. 2D, the chip temperature of the power semiconductor module is as high as that of FIG. 2B, but the waveform assuming the case where the value of the source current Is is smaller than the threshold value Is is schematically shown. Among the waveform VGS shown in the second stage, the value VGP during the gate plateau period is less than the threshold value VGPth. The VGSOUT output with reference to the VGP and the threshold value VGPth at the time of turn-off is triggered by the VDSOUT but holds the Low signal. Further, since the maximum value of the source current Is is less than the threshold value Isth, IsOUT also holds the Low signal.
内部波形Aは、VDSOUTとIsOUTの論理積であるからLow信号となり、電圧VDSと電流Isがともに大きい準短絡状態は発生しないことを示している。一方、VGSOUTもLow信号を出力するため、内部波形BもLowとなる。ゲート抵抗値の変化を制御する内部波形Cは、内部波形Aと内部波形BがともにLow信号であることに伴い、Low信号となる。 Since the internal waveform A is a logical product of VDSOUT and IsOUT, it becomes a Low signal, and it is shown that a quasi-short circuit state in which both the voltage VDS and the current Is are large does not occur. On the other hand, since VGSOUT also outputs a Low signal, the internal waveform B is also Low. The internal waveform C that controls the change in the gate resistance value becomes a Low signal because both the internal waveform A and the internal waveform B are Low signals.
つまり、図2Dの場合には、ゲート抵抗(共通ゲート抵抗と個別ゲート抵抗)を変化させない制御である。チップ温度が高温で相互コンダクタンスが低く、ソース電流Isが小さい場合には不要振動の発生が抑制されることから、ゲート抵抗を変化させない制御を行う。 That is, in the case of FIG. 2D, the control does not change the gate resistance (common gate resistance and individual gate resistance). When the chip temperature is high, the transconductance is low, and the source current Is is small, the generation of unnecessary vibration is suppressed, so control is performed without changing the gate resistance.
以上の図2Aから図2Dのタイミングチャートの説明により、本発明のゲート抵抗値の制御方法を明らかにした。 From the above description of the timing chart of FIGS. 2A to 2D, the method of controlling the gate resistance value of the present invention has been clarified.
≪ゲートプラトー電圧VGPの温度依存性と不要振動抑制領域≫
図4Aから図4Cを参照して、ゲート抵抗値の制御を整理する。検知判定回路10(10a)に入力される電圧波形VDS、電圧波形VGS、ソース電流Isに比例した電圧波形を検知し、パワー半導体モジュール内部のSiC-MOSFETの素子温度と相互コンタクダンスの値を判定し、ゲート駆動経路に発生する不要振動が発生する素子温度が低温で相互コンタクダンスが大という条件(図2Aで例示)では、共通ゲート抵抗の値を低減させ、パワー半導体モジュールの個別ゲート抵抗の値を増加させる制御を行う。
≪Temperature dependence of gate plateau voltage VGP and unnecessary vibration suppression region≫
The control of the gate resistance value is organized with reference to FIGS. 4A to 4C. The voltage waveform VDS, voltage waveform VGS, and voltage waveform proportional to the source current Is are detected in the detection determination circuit 10 (10a), and the element temperature and mutual contactance value of the SiC- MOSFET inside the power semiconductor module are determined. However, under the condition that the element temperature at which unnecessary vibration generated in the gate drive path is generated is low and the mutual contact is large (illustrated in FIG. 2A), the value of the common gate resistance is reduced and the individual gate resistance of the power semiconductor module is reduced. Control to increase the value.
この制御によって、並列接続されたパワー半導体モジュールのゲート・ソース間の過電圧印加を防止できる。図4Aは、横軸に時間をとり、縦軸にターンオフ時のゲート電圧VGSの波形を示している。VGPの検知タイミング(図2Aの時刻T1)では、素子が高温時にはVGPは閾値VGSth未満の小さい値となり、素子が低温時にはVGSth以上の大きな値となる。電圧波形VGSの検知は、図4Bに示すようにターンオン時にも可能である。 This control can prevent the application of an overvoltage between the gate and source of the power semiconductor modules connected in parallel. In FIG. 4A, the horizontal axis shows the time and the vertical axis shows the waveform of the gate voltage VGS at the time of turn-off. At the VGP detection timing (time T1 in FIG. 2A), the VGP has a small value less than the threshold value VGSth when the element is high temperature, and a large value equal to or higher than VGSth when the element is low temperature. The voltage waveform VGS can be detected even at turn-on as shown in FIG. 4B.
図4Cは、図4A,図4Bで示した素子温度に対するVGPの温度依存性を整理したものである。上記の式(1)より、ソース電流Isが大きい場合にはVGPもまた増大する。上記のように不要振動は、素子温度が低温で、gmが増大することからIsが大きい条件で発生する。従って、図4Cに塗りつぶし(網掛け)で示す領域にパワー半導体モジュールの素子があることを検知し、ゲート抵抗の値を制御する。 FIG. 4C summarizes the temperature dependence of VGP with respect to the element temperature shown in FIGS. 4A and 4B. From the above equation (1), VGP also increases when the source current Is is large. As described above, unnecessary vibration occurs under the condition that Is is large because the element temperature is low and gm increases. Therefore, it is detected that the element of the power semiconductor module is located in the area shown by the filled (shaded) in FIG. 4C, and the value of the gate resistance is controlled.
≪ゲート抵抗制御による不要振動抑制効果≫
図5Aおよび図5Bは、本発明の効果を模式的に示したものである。横軸に時間をとり、不要振動が発生する条件において、図5Aは振動抑制対策を実施しない場合(従来の電力変換装置)を示し、図5Bは本発明の振動実施対策を実施する場合を示す。
≪Unnecessary vibration suppression effect by gate resistance control≫
5A and 5B schematically show the effect of the present invention. FIG. 5A shows a case where vibration suppression measures are not implemented (conventional power conversion device) under the condition that unnecessary vibration is generated while taking time on the horizontal axis, and FIG. 5B shows a case where the vibration implementation measures of the present invention are implemented. ..
図5AのVGS波形では、ゲートプラトー期間に不要振動が発生し、その振幅がゲート電圧定格の最大値VGSmaxと最小値VGSminを超過すると素子の劣化や故障の不具合が発生する。一方、図5Bでは図5Aで不要振動が発生した期間に、上記で説明したゲート抵抗の値が変化する制御が行われ、VGS波形では、不要振動を完全に抑制出来ない場合であってもその振幅を低減してゲート電圧定格内でスイッチングさせることが可能である。 In the VGS waveform of FIG. 5A, unnecessary vibration occurs during the gate plateau period, and when the amplitude exceeds the maximum value VGSmax and the minimum value VGSmin of the gate voltage rating, deterioration or failure of the element occurs. On the other hand, in FIG. 5B, control is performed in which the value of the gate resistance described above changes during the period when the unwanted vibration is generated in FIG. 5A, and even if the unwanted vibration cannot be completely suppressed in the VGS waveform, the control is performed. It is possible to reduce the amplitude and switch within the gate voltage rating.
以上説明したように、本実施例によれば、電力変換の主回路要素としてSiCパワー半導体モジュールを搭載する電力変換装置において、ゲート・ソース間電圧(VGS)の不要振動を抑制可能な信頼性の高い電力変換装置を実現することができる。これにより、電力変換装置の誤動作や故障を低減することができる。 As described above, according to the present embodiment, in a power conversion device equipped with a SiC power semiconductor module as a main circuit element of power conversion, reliability that can suppress unnecessary vibration of gate-source voltage (VGS) is achieved. A high power conversion device can be realized. This makes it possible to reduce malfunctions and failures of the power conversion device.
なお、Vds検知回路1aの閾値電圧発生回路で生成される閾値電圧は、主電圧源7の50%の電圧値とし、Is検知回路3aの閾値電圧発生回路で生成される閾値電圧(閾値電流)は、ソース電流Isの定格電流値の50%の電流に相当する電圧値(電流値)とするのが好適である。電圧と電流に対する判定の閾値を、それぞれ定格値の50%に設定することで、不要振動によるパワー半導体素子の信頼性劣化や破壊を確実に抑制することができる。
The threshold voltage generated by the threshold voltage generation circuit of the
≪検知判定回路の判定回路の一例≫
図6を参照して、本発明の第2の実施形態に係る電力変換装置について説明する。図6は本実施形態の部分回路構成を示している。本実施例は実施例1の検知判定回路10(10a,10b)の内部回路構成を具体化した一例であり、実施例1の変形例に相当する。検知判定回路10(10a,10b)の内部回路構成が具体化されている点で実施例1と相違するが、その他の点は実施例1の構成と共通である。
<< An example of the judgment circuit of the detection judgment circuit >>
A power conversion device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows a partial circuit configuration of the present embodiment. This embodiment is an example embodying the internal circuit configuration of the detection determination circuit 10 (10a, 10b) of the first embodiment, and corresponds to a modified example of the first embodiment. It differs from the first embodiment in that the internal circuit configuration of the detection determination circuit 10 (10a, 10b) is embodied, but the other points are the same as the configuration of the first embodiment.
検知判定回路10は、Vds検知回路1、Vgs検知回路2、Is検知回路3からなる検知回路と、判定回路4で構成される。判定回路4は、Dフリップフロップ401、論理積(AND)回路402,403、バッファ回路404、反転バッファ405で構成される。判定回路4の動作は、図2Aで説明した制御を実現するものである。Dフリップフロップ401は、Vds検知回路1出力のVDSOUTをクロックトリガとして動作し、Vgs検知回路2出力のVGSOUTを入力信号として取り込み、内部波形Bとして出力する。
The
論理積(AND)回路402は、Vds検知回路1出力のVDSOUTとIs検知回路3出力のISOUTの論理信号のAND波形を内部波形Aとして出力する。論理積(AND)回路403は、内部波形AおよびBの論理信号のAND波形を生成し、その信号をバッファ回路404を通して出力端子nDo1とnDo2へ出力する。出力端子nDo3は反転バッファ405により論理反転した信号を出力する。
The AND
≪本実施例の効果≫
本実施例により、スイッチング動作に伴う判定回路の電源雑音が発生した場合でも、ノイズマージンが大きな論理回路によってその機能を実現できるため、電源雑音耐性を向上することができる。
<< Effects of this example >>
According to this embodiment, even when the power supply noise of the determination circuit is generated due to the switching operation, the function can be realized by the logic circuit having a large noise margin, so that the power supply noise immunity can be improved.
また、比較的簡易な論理回路によって判定回路動作を実現できるため、動作遅延が少なく、高価なマイコン回路も必要としないことから、具体回路を低コストに実現できる。 Further, since the judgment circuit operation can be realized by a relatively simple logic circuit, the operation delay is small and an expensive microcomputer circuit is not required, so that a concrete circuit can be realized at low cost.
≪検知判定回路の検知回路の一例≫
図7を参照して、本発明の第3の実施形態に係る電力変換装置について説明する。図7は本実施形態の部分回路構成を示している。本実施例は実施例1の検知判定回路10(10a,10b)の内部回路構成を具体化した一例であり、実施例1または実施例2の変形例に相当する。検知判定回路10(10a,10b)の内部回路構成が具体化されている点で実施例1または実施例2と相違するが、その他の点は実施例1の構成と共通である。
<< Example of detection circuit of detection judgment circuit >>
A power conversion device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 shows a partial circuit configuration of the present embodiment. This embodiment is an example embodying the internal circuit configuration of the detection determination circuit 10 (10a, 10b) of the first embodiment, and corresponds to a modified example of the first embodiment or the second embodiment. The internal circuit configuration of the detection determination circuit 10 (10a, 10b) is different from that of the first embodiment or the second embodiment in that the internal circuit configuration is embodied, but the other points are the same as the configuration of the first embodiment.
検知判定回路10は、Vds検知回路1、Vgs検知回路2、Is検知回路3からなる検知回路を備える。図1で示した各検知回路1(1a,1b)、2(2a,2b)、3(3a,3b)に共通して用いる具体回路を図7に示す。
The
検知回路1,2,3は、端子nSUP1と端子nSUP2に印加される直流電圧の差分電圧を電源電圧として動作する。差動入力増幅回路101は、検知回路1,2,3の2入力端子nIn1とnIn2に入力されたアナログ信号の差動電圧を入力とし、所定の利得で信号増幅を行うシュミットトリガ型コンパレータ102は、検知閾値発生回路103が出力する比較電圧を基準に、差動入力増幅回路101の出力電圧の大小を判断し、端子nSUP1の電位と端子nSUP2の電位で決定する2値の高低の電圧信号を端子nOUT発生する。この電圧信号が、図1および図2に示した判定回路4(4a,4b)の入力信号となる。
The
検知閾値発生回路103は、予め決めた検知閾値電圧を保持する回路である。電圧安定化回路104は、端子nSUP1と端子nSUP2に印加される直流電圧の差分電圧に重畳する高周波雑音信号を除去し、差動入力増幅回路101の増幅動作において雑音耐性を向上する。
The detection
シュミットトリガ型コンパレータ102は、その2入力端子の電位差に対して、出力電圧の論理値(上記2値の高低の電圧信号)がヒステリシス特性を有する回路である。このヒステリシス特性によって、入力信号の雑音によってnOUTに発生する出力信号が変動しないようにノイズマージンを設ける機能を有している。
The Schmitt
≪本実施例の効果≫
本実施例により検知回路の簡易な具体構成を示した。アナログ信号となる検知信号に対し、差動入力増幅回路101による増幅を行った後に、閾値に基づく判定を行う構成を採ることで検知信号に重畳するノイズの影響を軽減できる。
<< Effects of this example >>
A simple concrete configuration of the detection circuit is shown by this embodiment. The influence of noise superimposed on the detection signal can be reduced by adopting a configuration in which the detection signal to be an analog signal is amplified by the differential input amplification circuit 101 and then determined based on the threshold value.
また、コンパレータをシュミットトリガ方式とすることで、コンパレータ入力信号とその電源電圧に重畳するノイズの影響を軽減できる。 Further, by adopting the Schmitt trigger method for the comparator, the influence of noise superimposed on the comparator input signal and its power supply voltage can be reduced.
また、簡易なアナログ回路によって検知回路動作を実現できるため、高価なマイコン回路も必要としないことから、具体回路を低コストに実現できる。 Further, since the detection circuit operation can be realized by a simple analog circuit, an expensive microcomputer circuit is not required, so that a concrete circuit can be realized at low cost.
≪ソース電流値Is抽出方法の変形例≫
図8を参照して、本発明の第4の実施形態に係る電力変換装置について説明する。図8は分流トランジスタとシャント抵抗によるソース電流値Is抽出の例を示しており、実施例1(図1)の変形例に相当する。
<< Modification example of source current value Is extraction method >>
A power conversion device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows an example of extracting the source current value Is by a shunt transistor and a shunt resistor, and corresponds to a modified example of the first embodiment (FIG. 1).
本実施例では、実施例1(図1)のパワー半導体素子81,91に替えて電流センス端子付きのパワー半導体素子86,96を設け、さらにソース電流検知抵抗(シャント抵抗)85,95に替えて電流センス端子接続用のソース電流検知抵抗87,97を設ける点において、実施例1(図1)の電力変換装置と異なる。その他の点は実施例1の構成と共通である。
In this embodiment,
図8に示すように、パワー半導体素子86,96のソース電流を検知回路1,2,3と誘導性負荷6へ分流させ、分流したソース電流の一部をシャント抵抗となるソース電流検知抵抗(電流センス端子接続用)87,97に流通させて発生した電位差をソースセンス端子とソース端子の端子間に発生させる。
As shown in FIG. 8, the source current of the
本実施例においても、実施例1と同様に、ゲート・ソース間電圧(VGS)の不要振動を抑制することが可能である。 In this embodiment as well, it is possible to suppress unnecessary vibration of the gate-source voltage (VGS) as in the first embodiment.
なお、以上述べた各実施例では、SiC-MOSFET型パワー半導体モジュールについて本発明の効果を述べた。しかし、Si製やGaN製、もしくはGaO製のFET型半導体素子を搭載した複数のモジュールや複数のトランジスタによって電力変換装置を構成する場合においても、ゲートプラトー電圧VGPや素子の相互コンタクタンスの温度依存性が同様であれば、本発明の効果が得られることは言うまでもない。 In each of the above-described embodiments, the effect of the present invention has been described for the SiC- MOSFET type power semiconductor module. However, even when the power conversion device is composed of a plurality of modules or a plurality of transistors equipped with FET type semiconductor elements made of Si, GaN, or GaO, the gate plateau voltage VGP and the mutual contact between the elements depend on the temperature. Needless to say, if the properties are the same, the effect of the present invention can be obtained.
また、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。 Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes various modifications. For example, the above-described embodiment has been described in detail in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, and is not necessarily limited to the one including all the described configurations. Further, it is possible to replace a part of the configuration of one embodiment with the configuration of another embodiment, and it is also possible to add the configuration of another embodiment to the configuration of one embodiment. Further, it is possible to add / delete / replace a part of the configuration of each embodiment with another configuration.
1,1a,1b,2,2a,2b,3,3a,3b…検知回路
4,4a,4b…判定回路
5,5a,5b…ゲート駆動回路
6…誘導性負荷
7…主電圧源
8,8a,8b,9,9a,9b…パワー半導体モジュール
10,10a,10b…検知判定回路
51,52,53,55…共通ゲート(駆動)抵抗
54,56…スイッチ(共通ゲート可変スイッチ)
57,58…ゲート駆動ON/OFF切り替えスイッチ
60…コンデンサ
81,91…パワー半導体素子
82,83,92,93…個別ゲート抵抗
84,94…個別ゲート抵抗可変スイッチ
85,95…ソース電流検知抵抗(シャント抵抗)
86,96…パワー半導体素子(電流センス端子付き)
87,97…ソース電流検知抵抗(電流センス端子接続用)
101…差動入力増幅回路
102…シュミットトリガ型コンパレータ
103…検知閾値発生回路
104…電圧安定化回路
401…Dフリップフロップ
402,403…論理積(AND)回路
404…バッファ回路
405…反転バッファ
1,1a, 1b, 2,2a, 2b, 3,3a, 3b ...
57, 58 ... Gate drive ON /
86, 96 ... Power semiconductor device (with current sense terminal)
87,97 ... Source current detection resistance (for current sense terminal connection)
101 ... Differential
Claims (14)
前記複数のパワー半導体モジュールの各々のドレイン・ソース間電圧Vds、ゲート・ソース間電圧Vgs、ソースまたはドレイン電流Isのそれぞれに基づく第1の物理量、第2の物理量、第3の物理量を前記複数のパワー半導体モジュールから取得する検知回路と、
前記第1の物理量、前記第2の物理量、前記第3の物理量に基づいて検知判定信号を生成する判定回路と、
前記検知回路および前記判定回路で構成され、前記検知判定信号を出力する検知判定回路と、
前記検知判定信号に基づいて前記複数のパワー半導体モジュールの制御信号を生成するゲート駆動回路と、を備え、
前記ゲート駆動回路は、抵抗値が可変に制御されるように構成された共通ゲート抵抗を有し、
前記複数のパワー半導体モジュールの各々は、抵抗値が可変に制御されるように構成された個別ゲート抵抗を有し、
前記検知判定回路は、前記ドレイン・ソース間電圧Vdsと前記ソースまたはドレイン電流Isが共に所定の閾値よりも大きい準短絡期間を抽出すると共に、前記ゲート・ソース間電圧Vgsと前記ソースまたはドレイン電流Isの組み合わせに対応するモジュール素子温度を抽出し、
前記準短絡期間内に、前記モジュール素子温度が所定の範囲内である場合、前記共通ゲート抵抗および前記個別ゲート抵抗の少なくともいずれか一方の抵抗値を変化させることを特徴とする電力変換装置。 With multiple power semiconductor modules connected in parallel,
The first physical quantity, the second physical quantity, and the third physical quantity based on each of the drain-source voltage Vds, the gate-source voltage Vgs, and the source or drain current Is of each of the plurality of power semiconductor modules are combined with the plurality of physical quantities. The detection circuit acquired from the power semiconductor module and
A determination circuit that generates a detection determination signal based on the first physical quantity, the second physical quantity, and the third physical quantity.
A detection determination circuit composed of the detection circuit and the determination circuit and outputting the detection determination signal, and a detection determination circuit.
A gate drive circuit that generates control signals of the plurality of power semiconductor modules based on the detection determination signal is provided.
The gate drive circuit has a common gate resistance configured so that the resistance value is variably controlled.
Each of the plurality of power semiconductor modules has an individual gate resistor configured so that the resistance value is variably controlled.
The detection determination circuit extracts a quasi-short circuit period in which both the drain-source voltage Vds and the source or drain current Is are larger than a predetermined threshold value, and the gate-source voltage Vgs and the source or drain. Extract the module element temperature corresponding to the combination of current Is,
A power conversion device comprising changing the resistance value of at least one of the common gate resistance and the individual gate resistance when the module element temperature is within a predetermined range within the quasi-short circuit period.
前記複数のパワー半導体モジュールがそれぞれ並列に接続された上アームと下アームで構成されるハーフブリッジ回路を有し、
前記上アームと前記下アームの各々は、それぞれ前記検知判定回路、前記ゲート駆動回路を有し、
前記上アームおよび前記下アームの各々のゲート駆動回路は、
第1の共通ゲート抵抗と、
前記第1の共通ゲート抵抗の抵抗値を可変な第1の共通ゲート抵抗値切替回路と、
第2の共通ゲート抵抗と、
前記第2の共通ゲート抵抗の抵抗値を可変な第2の共通ゲート抵抗値切替回路と、を有し、
前記複数のパワー半導体モジュールの各々は、
個別ゲート抵抗と、
前記個別ゲート抵抗の抵抗値を可変な個別ゲート抵抗値切替回路と、を有することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
It has a half-bridge circuit composed of an upper arm and a lower arm in which the plurality of power semiconductor modules are connected in parallel, respectively.
Each of the upper arm and the lower arm has the detection determination circuit and the gate drive circuit, respectively.
The gate drive circuits of the upper arm and the lower arm are
The first common gate resistance and
With the first common gate resistance value switching circuit in which the resistance value of the first common gate resistance is variable,
The second common gate resistance and
It has a second common gate resistance value switching circuit in which the resistance value of the second common gate resistance is variable.
Each of the plurality of power semiconductor modules
Individual gate resistance and
A power conversion device comprising: an individual gate resistance value switching circuit in which the resistance value of the individual gate resistance is variable.
前記複数のパワー半導体モジュールのうち、少なくとも1つはSiC-MOSFET型パワー半導体素子であることを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
A power conversion device characterized in that at least one of the plurality of power semiconductor modules is a SiC- MOSFET type power semiconductor element.
前記検知回路は、前記複数のパワー半導体モジュールのドレイン・ソース間電圧Vdsを検知して第1の物理量を生成する第1の検知回路と、
前記複数のパワー半導体モジュールのゲート・ソース間電圧Vgsを検知して第2の物理量を生成する第2の検知回路と、
前記複数のパワー半導体モジュールのソースまたはドレイン電流Isを検知して第3の物理量を生成する第3の検知回路と、を有し、
前記判定回路は、前記第1の物理量、前記第2の物理量、前記第3の物理量に基づいて前記共通ゲート抵抗および前記個別ゲート抵抗の抵抗値を制御する制御信号を生成することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
The detection circuit includes a first detection circuit that detects the drain-source voltage Vds of the plurality of power semiconductor modules and generates a first physical quantity.
A second detection circuit that detects the gate-source voltage Vgs of the plurality of power semiconductor modules and generates a second physical quantity, and
It has a third detection circuit that detects the source or drain current Is of the plurality of power semiconductor modules and generates a third physical quantity.
The determination circuit is characterized in that a control signal for controlling the resistance values of the common gate resistance and the individual gate resistance is generated based on the first physical quantity, the second physical quantity, and the third physical quantity. Power converter.
前記第1の検知回路の一方の入力端子は、前記パワー半導体モジュールの各々のドレインセンス端子に接続され、他方の入力端子はソースセンス端子に接続され、
前記第2の検知回路の一方の入力端子は、前記パワー半導体モジュールの各々のゲート端子に接続され、他方の入力端子は前記ソースセンス端子に接続され、
前記第3の検知回路の一方の入力端子は、前記パワー半導体モジュールの各々のソース端子に接続され、他方の入力端子は前記ソースセンス端子に接続されることを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 4.
One input terminal of the first detection circuit is connected to each drain sense terminal of the power semiconductor module, and the other input terminal is connected to a source sense terminal.
One input terminal of the second detection circuit is connected to each gate terminal of the power semiconductor module, and the other input terminal is connected to the source sense terminal.
A power conversion device, wherein one input terminal of the third detection circuit is connected to each source terminal of the power semiconductor module, and the other input terminal is connected to the source sense terminal.
前記検知回路は、前記複数のパワー半導体モジュールの直流電圧の差分電圧を電源電圧として動作する差動入力増幅回路と、
所定の検知閾値電圧を出力する検知閾値発生回路と、
前記差動入力増幅回路の出力を所定の利得で信号増幅し、前記検知閾値電圧に基づいて前記差動入力増幅回路の出力電圧の大小を判定するシュミットトリガ型コンパレータと、
前記複数のパワー半導体モジュールの直流電圧の差分電圧に重畳する高周波雑音信号を除去する電圧安定化回路と、
を有することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
The detection circuit includes a differential input amplifier circuit that operates using the differential voltage of the DC voltage of the plurality of power semiconductor modules as a power supply voltage.
A detection threshold generation circuit that outputs a predetermined detection threshold voltage, and
A Schmitt trigger type comparator that amplifies the output of the differential input amplifier circuit with a predetermined gain and determines the magnitude of the output voltage of the differential input amplifier circuit based on the detection threshold voltage.
A voltage stabilizing circuit that removes high-frequency noise signals superimposed on the differential voltage of the DC voltage of the plurality of power semiconductor modules, and
A power conversion device characterized by having.
前記第1の検知回路、前記第2の検知回路、前記第3の検知回路の各々は、それぞれの入力端子間の電位差に対する閾値電圧発生回路を備え、
各検知回路における閾値電圧を互いに独立して設定可能であることを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 4.
Each of the first detection circuit, the second detection circuit, and the third detection circuit includes a threshold voltage generation circuit for a potential difference between the input terminals.
A power conversion device characterized in that the threshold voltage in each detection circuit can be set independently of each other.
前記第1の検知回路で生成される閾値電圧は、前記電力変換装置の主電圧源の50%の電圧値であり、
前記第3の検知回路で生成される閾値電流は、前記電力変換装置のソース電流の定格電流値の50%の電流に相当する電流値であることを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 7.
The threshold voltage generated by the first detection circuit is a voltage value of 50% of the main voltage source of the power conversion device.
The power conversion device, characterized in that the threshold current generated by the third detection circuit is a current value corresponding to a current of 50% of the rated current value of the source current of the power conversion device.
前記判定回路は、前記第1の検知回路の出力をクロックトリガとして動作し、前記第2の検知回路の出力を入力信号として取り込み、第1の内部波形信号を出力するフリップフロップと、
前記第1の検知回路の出力と前記第3の検知回路の出力を入力信号として取り込み、第2の内部波形信号を出力する第1の論理積回路と、
前記第1の内部波形信号および前記第2の内部波形信号を入力信号として取り込み、第3の内部波形信号を出力する第2の論理積回路と、
前記第3の内部波形信号を入力信号として取り込み、前記複数のパワー半導体モジュールの各々の個別ゲート抵抗へ出力するバッファ回路と、
前記第3の内部波形信号を入力信号として取り込み、論理反転させて前記共通ゲート抵抗へ出力する反転バッファと、
を有することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 4.
The determination circuit operates with the output of the first detection circuit as a clock trigger, takes in the output of the second detection circuit as an input signal, and outputs a first internal waveform signal.
A first AND circuit that takes in the output of the first detection circuit and the output of the third detection circuit as input signals and outputs a second internal waveform signal.
A second AND circuit that takes in the first internal waveform signal and the second internal waveform signal as input signals and outputs the third internal waveform signal.
A buffer circuit that takes in the third internal waveform signal as an input signal and outputs it to each individual gate resistor of the plurality of power semiconductor modules.
An inversion buffer that takes in the third internal waveform signal as an input signal, logically inverts it, and outputs it to the common gate resistance.
A power conversion device characterized by having.
前記判定回路は、前記第1の物理量が変化したタイミングで前記第2の物理量を保持して前記第1の内部波形信号を出力し、
前記第1の物理量と前記第3の物理量の論理積の電圧を発生させて前記第2の内部波形信号を出力し、
前記第1の内部波形信号および前記第2の内部波形信号の論理積の電圧を発生させて第3の内部波形信号を出力し、
前記第2の内部波形信号の電位が高電位論理出力電圧(High電圧)である期間を抽出し、前記複数のパワー半導体モジュールのドレイン・ソース間電圧Vdsとソースまたはドレイン電流Isが各々の閾値を超えた準短絡期間t1を判定し、
前記第1の内部波形信号の電位が高電位論理出力電圧(High電圧)である期間を抽出し、前記複数のパワー半導体モジュールの素子温度が所定の閾値よりも低く、なおかつ、ソースまたはドレイン電流Isの値が所定の閾値より大きい期間t2を判定し、
前記第3の内部波形信号の電位が高電位論理出力電圧(High電圧)である期間を抽出し、前記準短絡期間t1と前記期間t2が重畳した不要振動が発生する期間t3を判定し、
前記期間t3が発生した場合、前記共通ゲート抵抗および前記個別ゲート抵抗の少なくともいずれか一方の抵抗値を変化させることを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 9.
The determination circuit holds the second physical quantity at the timing when the first physical quantity changes, and outputs the first internal waveform signal.
A voltage of the logical product of the first physical quantity and the third physical quantity is generated, and the second internal waveform signal is output.
The voltage of the logical product of the first internal waveform signal and the second internal waveform signal is generated, and the third internal waveform signal is output.
The period in which the potential of the second internal waveform signal is the high potential logic output voltage (High voltage) is extracted, and the drain-source voltage Vds and the source or drain current Is of the plurality of power semiconductor modules set their respective thresholds. Judging the exceeded quasi-short circuit period t1,
The period in which the potential of the first internal waveform signal is the high potential logic output voltage (High voltage) is extracted, the element temperature of the plurality of power semiconductor modules is lower than a predetermined threshold value, and the source or drain current Is. The period t2 in which the value of is larger than the predetermined threshold value is determined, and
The period in which the potential of the third internal waveform signal is the high potential logic output voltage (High voltage) is extracted, and the period t3 in which unnecessary vibration in which the quasi-short circuit period t1 and the period t2 are superimposed is generated is determined.
A power conversion device characterized in that when the period t3 occurs, the resistance value of at least one of the common gate resistance and the individual gate resistance is changed.
前記検知判定回路は、前記複数のパワー半導体モジュールの各々のゲート端子と、
前記複数のパワー半導体モジュールの各々のソースセンス端子と、
前記ゲート駆動回路と、
接続配線によって生じる寄生インダクタンスと、
前記複数のパワー半導体モジュールの各々に生じる寄生容量と、
によって構成されるゲート駆動経路の共振ループ回路を成し、
前記共通ゲート抵抗の値を低減することで前記共振ループ回路に生じる振動電流の迂回路を発生させて前記振動電流を低減し、
前記個別ゲート抵抗の値を増加することで前記共振ループ回路に損失を与えて前記振動電流を低減することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
The detection determination circuit includes the gate terminals of the plurality of power semiconductor modules and the gate terminals of the plurality of power semiconductor modules.
Each source sense terminal of the plurality of power semiconductor modules and
With the gate drive circuit
Parasitic inductance caused by connection wiring and
Parasitic capacitance generated in each of the plurality of power semiconductor modules,
Form a resonant loop circuit of the gate drive path composed of
By reducing the value of the common gate resistance, a detour circuit of the oscillating current generated in the resonance loop circuit is generated to reduce the oscillating current.
A power conversion device characterized in that the vibration current is reduced by giving a loss to the resonance loop circuit by increasing the value of the individual gate resistance.
前記複数のパワー半導体モジュールの各々は、それぞれのソースセンス端子とソース端子の間にシャント抵抗を有し、
前記ソースセンス端子と前記ソース端子の端子間にソースまたはドレイン電流Isに比例した電位差が発生することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
Each of the plurality of power semiconductor modules has a shunt resistor between the source sense terminal and the source terminal.
A power conversion device characterized in that a potential difference proportional to the source or drain current Is is generated between the source sense terminal and the terminal of the source terminal.
前記複数のパワー半導体モジュールの各々は、それぞれのソースセンス端子とソース端子の間にシャント抵抗を有し、
前記複数のパワー半導体モジュールの各々のソース電流を前記検知回路と負荷へ分流させ、
分流したソース電流の一部を前記シャント抵抗に流通させて発生した電位差が前記ソースセンス端子と前記ソース端子の端子間に発生することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
Each of the plurality of power semiconductor modules has a shunt resistor between the source sense terminal and the source terminal.
The source current of each of the plurality of power semiconductor modules is diverted to the detection circuit and the load.
A power conversion device characterized in that a potential difference generated by circulating a part of the divided source current through the shunt resistance is generated between the source sense terminal and the terminal of the source terminal.
前記複数のパワー半導体モジュールは、前記個別ゲート抵抗を複数備え、
前記複数の個別ゲート抵抗の接続を切り替える切替回路を内蔵することを特徴とする電力変換装置。 The power conversion device according to claim 1.
The plurality of power semiconductor modules include the plurality of individual gate resistors.
A power conversion device having a built-in switching circuit for switching the connection of the plurality of individual gate resistors.
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