JP7008277B2 - A peeling sheet and a method for manufacturing a decorative board using the peeling sheet. - Google Patents
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Description
本発明は、剥離シート及び該剥離シートを使用した化粧板の製造方法に関する。 The present invention relates to a release sheet and a method for manufacturing a decorative board using the release sheet.
従来、テーブル、カウンター、壁、床等の表面には、チタン紙等の紙質基材にメラミン樹脂の未硬化物を含む液状樹脂組成物を含浸させ、必要に応じてフェノール樹脂含浸紙等のコア紙上に積層した後、熱プレスによりメラミン樹脂の未硬化物を硬化させて製造されるメラミン化粧板が使用されている。 Conventionally, the surfaces of tables, counters, walls, floors, etc. are impregnated with a liquid resin composition containing an uncured melamine resin in a paper-like base material such as titanium paper, and a core such as phenol resin impregnated paper is used as necessary. A melamine decorative board manufactured by curing an uncured melamine resin by hot pressing after laminating on paper is used.
一方、高級感のある意匠を表現するために、化粧板の表面には、凹凸形状を付与されている。このような凹凸形状として、グロスマット調凹凸形状が知られている(例えば、特許文献1及び2)。グロスマット調凹凸形状は、物品表面に高光沢(gross)領域と低光沢(matte)領域とを模様状に混在させた凹凸形状を意味する。グロスマット調凹凸形状を有する物品表面は、物理的な凹凸とは無関係に、視覚的に、低光沢領域が高光沢領域に比べて凹んで見え、これにより立体的意匠感を表現することができる。 On the other hand, in order to express a high-class design, the surface of the decorative board is provided with an uneven shape. As such an uneven shape, a gloss matte uneven shape is known (for example, Patent Documents 1 and 2). The gloss matte uneven shape means an uneven shape in which a high gloss region and a low gloss region are mixed in a pattern on the surface of an article. On the surface of an article having a gloss matte uneven shape, the low-gloss region visually looks recessed as compared with the high-gloss region, regardless of the physical unevenness, thereby expressing a three-dimensional design feeling. ..
特許文献3には、グロスマット調の意匠感を表現できる化粧板及びその製造方法が開示されている。特許文献3に記載の化粧板は、紙質基材と、紙質基材の表面の一部に設けられた離型層と、紙質基材の表面の残部(紙質基材の表面のうち離型層が設けられていない領域)に設けられた硬化メラミン樹脂層とを備える。特許文献3に記載の化粧板は、紙質基材の表面の一部に離型層を設ける工程、紙質基材の表面の残部及び離型層を被覆する未硬化メラミン樹脂層を形成する工程、未硬化メラミン樹脂層上に剥離シートを積層した後、加熱することにより、未硬化メラミン樹脂層を硬化させ、硬化メラミン樹脂層を形成する工程、及び、剥離シートを剥離することにより、硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆する部分を剥離する工程を含む方法により製造される。 Patent Document 3 discloses a decorative board capable of expressing a gloss matte design and a method for manufacturing the decorative board. The decorative board described in Patent Document 3 includes a paper base material, a release layer provided on a part of the surface of the paper material base material, and the rest of the surface of the paper quality base material (the release layer of the surface of the paper quality base material). It is provided with a cured melamine resin layer provided in the region (area in which is not provided). The decorative board described in Patent Document 3 has a step of providing a release layer on a part of the surface of a paper-based substrate, a step of forming an uncured melamine resin layer covering the rest of the surface of the paper-based substrate and the release layer. A step of laminating a release sheet on an uncured melamine resin layer and then heating to cure the uncured melamine resin layer to form a cured melamine resin layer, and a step of peeling the release sheet to cure a cured melamine resin. It is manufactured by a method including a step of peeling off a portion of the layer that covers the release layer.
特許文献3において、剥離シートと硬化メラミン樹脂層との接合強度は、剥離対象部分(硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆する部分)と離型層との接合強度よりも大きく、硬化メラミン樹脂層の残部(硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆しない部分)と紙質基材との接合強度よりも小さく、かつ、離型層と紙質基材との接合強度よりも小さくなるように調整される。しかしながら、剥離シートと硬化メラミン樹脂層との接合強度が十分に大きくないと、剥離対象部分が十分に剥離されずに、剥離対象部分の一部が離型層上に残存するおそれがある。特に、化粧板を量産する場合、製造時の熱プレス条件、硬化メラミン樹脂層の形成に使用されるメラミン樹脂組成物の組成等に通常想定される程度のバラツキが生じるため、剥離シートの剥離時に再現性よく安定して剥離対象部分が剥離されないおそれがある。 In Patent Document 3, the bonding strength between the release sheet and the cured melamine resin layer is larger than the bonding strength between the release target portion (the portion of the cured melamine resin layer that covers the release layer) and the release layer, and the cured melamine. The strength is smaller than the bonding strength between the remaining part of the resin layer (the part of the cured melamine resin layer that does not cover the release layer) and the paper substrate, and is smaller than the bonding strength between the release layer and the paper substrate. Be adjusted. However, if the bonding strength between the release sheet and the cured melamine resin layer is not sufficiently high, the release target portion may not be sufficiently peeled and a part of the release target portion may remain on the release layer. In particular, in the case of mass production of decorative boards, the heat pressing conditions at the time of manufacture, the composition of the melamine resin composition used for forming the cured melamine resin layer, etc., vary to the extent normally expected, and therefore, when the release sheet is peeled off. There is a risk that the part to be peeled off will not be peeled off in a stable manner with good reproducibility.
そこで、本発明は、剥離対象部分(硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆する部分)の剥離に適した接合強度で硬化メラミン樹脂層と接合することができる剥離シート及び該剥離シートを使用した化粧板の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention uses a release sheet and the release sheet that can be bonded to the cured melamine resin layer with a bonding strength suitable for peeling the release target portion (the portion of the cured melamine resin layer that covers the release layer). It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a plastic plate.
上記課題を解決するために、本発明は、以下の発明を提供する。
[1]第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する剥離シートであって、
前記剥離シートが、基材シートと、前記剥離シートの第1面を形成する表面層とを備え、
前記表面層が、電離放射線硬化性樹脂と、アミノ基を有するシランカップリング剤とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されており、
前記電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる前記シランカップリング剤の量が、前記電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、3質量部以上9質量部以下である、前記剥離シート。
[2]前記電離放射線硬化性樹脂組成物が、前記電離放射線硬化性樹脂組成物の固形分総質量を基準として、80質量%以上97質量%以下の多官能性モノマーを含む、[1]に記載の剥離シート。
[3]前記基材シートと前記表面層との間に設けられたプライマー層をさらに備える、[1]又は[2]に記載の剥離シート。
[4][1]~[3]のいずれかに記載の剥離シートを使用して化粧板を製造する方法であって、
(1)第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する支持層と、前記支持層の第1面の一部に設けられた離型層と、前記支持層の第1面の残部及び前記離型層を被覆する未硬化メラミン樹脂層と、前記剥離シートの第1面が前記未硬化メラミン樹脂層と接するように、前記未硬化メラミン樹脂層上に設けられた前記剥離シートと、前記支持層の第2面に設けられたコア層の前駆層とを備える積層体を準備する工程、
(2)前記積層体を加圧及び加熱することにより、前記未硬化メラミン樹脂層を硬化させ、硬化メラミン樹脂層を形成する工程、並びに、
(3)前記剥離シートを剥離することにより、前記硬化メラミン樹脂層のうち前記離型層を被覆する部分を剥離し、前記硬化メラミン樹脂層に、前記離型層の表面を露出させる開口部を形成する工程
を含む、前記方法。
[5]前記支持層が紙質基材を有する、[4]に記載の方法。
[6]前記支持層が、前記紙質基材上に設けられた装飾層をさらに有する、[5]に記載の方法。
[7]工程(1)で準備される前記積層体が、前記紙質基材の空隙に充填されたメラミン樹脂の未硬化物を含み、
工程(2)において、前記積層体を加圧及び加熱することにより、前記紙質基材の空隙に充填された前記メラミン樹脂の未硬化物を前記未硬化メラミン樹脂層とともに硬化させ、前記紙質基材の空隙に充填されたメラミン樹脂の硬化物と、前記硬化メラミン樹脂層に含まれるメラミン樹脂の硬化物とを一体化させる、[5]又は[6]に記載の方法。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following inventions.
[1] A release sheet having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface.
The release sheet comprises a base material sheet and a surface layer forming the first surface of the release sheet.
The surface layer is formed of a cured product of an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin and a silane coupling agent having an amino group.
The release sheet in which the amount of the silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 3 parts by mass or more and 9 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin.
[2] The ionizing radiation curable resin composition contains a polyfunctional monomer of 80% by mass or more and 97% by mass or less based on the total solid content of the ionizing radiation curable resin composition in [1]. The peeling sheet described.
[3] The release sheet according to [1] or [2], further comprising a primer layer provided between the base material sheet and the surface layer.
[4] A method for manufacturing a decorative board using the release sheet according to any one of [1] to [3].
(1) A support layer having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, a mold release layer provided on a part of the first surface of the support layer, and a first of the support layers. The uncured melamine resin layer covering the rest of one surface and the release layer, and the uncured melamine resin layer provided on the uncured melamine resin layer so that the first surface of the release sheet is in contact with the uncured melamine resin layer. A step of preparing a laminate including a release sheet and a precursor layer of a core layer provided on the second surface of the support layer.
(2) A step of curing the uncured melamine resin layer by pressurizing and heating the laminate to form a cured melamine resin layer, and
(3) By peeling off the release sheet, the portion of the cured melamine resin layer that covers the release layer is peeled off, and the cured melamine resin layer is provided with an opening that exposes the surface of the release layer. The method comprising the step of forming.
[5] The method according to [4], wherein the support layer has a paper-like substrate.
[6] The method according to [5], wherein the support layer further has a decorative layer provided on the paper-based substrate.
[7] The laminate prepared in the step (1) contains an uncured product of a melamine resin filled in the voids of the paper substrate.
In the step (2), the laminated body is pressurized and heated to cure the uncured melamine resin filled in the voids of the paper substrate together with the uncured melamine resin layer, and the paper substrate is cured. The method according to [5] or [6], wherein the cured product of the melamine resin filled in the voids of the above and the cured product of the melamine resin contained in the cured melamine resin layer are integrated.
本発明によれば、剥離対象部分(硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆する部分)の剥離に適した接合強度で硬化メラミン樹脂層と接合することができる剥離シート及び該剥離シートを使用した化粧板の製造方法を提供することを目的とする。 According to the present invention, a release sheet and the release sheet that can be bonded to the cured melamine resin layer with a bonding strength suitable for peeling the release target portion (the portion of the cured melamine resin layer that covers the release layer) are used. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a plastic plate.
以下、図面に基づいて、本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
≪剥離シートの構成≫
以下、図1に基づいて、本発明の一実施形態に係る剥離シート10の構成について説明する。図1は、剥離シート10の構成を模式的に示す断面図である。
≪Structure of release sheet≫
Hereinafter, the configuration of the
図1に示すように、剥離シート10は、第1面S10及び第1面S10の反対側に位置する第2面T10を有する。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、剥離シート10は、基材シート11と、剥離シート10の第1面S10を形成する表面層12と、基材シート11と表面層12との間に設けられたプライマー層13とを備える。なお、プライマー層13は、必要に応じて設けられる層であり、本発明には、プライマー層13が省略された実施形態も包含される。
As shown in FIG. 1, the
基材シート
基材シート11は、その表面上に設けられた層を支持し得る限り特に限定されない。基材シート11は、可撓性を有することが好ましく、可撓性に加えて耐熱性及び寸法安定性を有することがさらに好ましい。基材シート11としては、例えば、プラスチックシートが使用される。プラスチックシートを構成する合成樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、オレフィン系熱可塑性エラストマー等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン-ビニルアルコール共重合樹脂等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、エチレンナフタレート-イソフタレート共重合樹脂、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸メチル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エチル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル樹脂等のアクリル樹脂;ナイロン6又はナイロン66等で代表されるポリアミド樹脂;三酢酸セルロース樹脂、セロファン等のセルロース系樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリアリレート樹脂;ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらのうち、耐熱性及び寸法安定性に優れている点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、特に2軸延伸したポリエステル樹脂が好ましい。
Base sheet The
基材シート11の表面上に設けられる層との密着性を向上させるために、基材シート11の表面に酸化法、凹凸化法等の物理的又は化学的表面処理を施してもよい。酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法等が挙げられ、凹凸化法としては、例えば、サンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。
In order to improve the adhesion to the layer provided on the surface of the
基材シート11の表面上に設けられる層との密着性を向上させるために、基材シート11の表面に易接着層を形成してもよい。易接着層(プライマー層、アンカー層と呼ばれることもある)に含まれる易接着性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン等が挙げられる。
An easy-adhesive layer may be formed on the surface of the
基材シート11の厚さは適宜調整することができるが、基材シート11としてプラスチックシートを使用する場合、プラスチックシートの厚さは、好ましくは25μm以上100μm以下、さらに好ましくは38μm以上50μm以下である。
The thickness of the
表面層
図1に示すように、表面層12は、基材シート11の第1面S10側に設けられており、剥離シート10の第1面S10を形成している。表面層12は、剥離シート10の第1面S10の一部を形成していてもよいが、剥離シート10の第1面S10の全体を形成していることが好ましい。表面層12は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。
Surface layer As shown in FIG. 1, the
表面層12の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは1μm以上5μm以下、さらに好ましくは2μm以上4μm以下である。なお、表面層12の厚みが均一でない場合、表面層12の最小厚み及び最大厚みの両者が、上記範囲内であることが好ましい。
The thickness of the
表面層12は、電離放射線硬化性樹脂と、アミノ基を有するシランカップリング剤とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されている。したがって、表面層12は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物及びアミノ基を有するシランカップリング剤を含む。アミノ基を有するシランカップリング剤は、その加水分解物又は加水分解物の重縮合物の状態で表面層12に存在し得る。アミノ基を有するシランカップリング剤、その加水分解物又は加水分解物の重縮合物は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物と結合した状態で表面層12に存在し得る。
The
表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ基を有するシランカップリング剤は、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。
The ionizing radiation curable resin contained in the ionizing radiation curable resin composition used for forming the
表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の固形分総質量を基準として、通常70質量%以上97質量%以下、好ましくは75質量%以上97質量%以下、さらに好ましくは80質量%以上97質量%以下である。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂が2種以上である場合、電離放射線硬化性樹脂の量は、2種以上の電離放射線硬化性樹脂の合計量を意味する。
The amount of the ionizing radiation curable resin contained in the ionizing radiation curable resin composition used for forming the
表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ基を有するシランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、3質量部以上9質量部以下、好ましくは4質量部以上8質量部以下、さらに好ましくは5質量部7以上質量部以下である。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ基を有するシランカップリング剤が2種以上である場合、アミノ基を有するシランカップリング剤の量は、アミノ基を有する2種以上のシランカップリング剤の合計量を意味する。
The amount of the silane coupling agent having an amino group contained in the ionizing radiation curable resin composition used for forming the
電離放射線硬化性樹脂組成物
電離放射線硬化性樹脂組成物に関する以下の説明は、別段規定される場合を除き、表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物だけでなくて、表面層12以外の層の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物にも適用される。
Ionizing Radiation Curable Resin Compositions The following description of ionizing radiation curable resin compositions is not limited to the ionizing radiation curable resin compositions used to form the
電離放射線硬化性樹脂組成物は、1種又は2種以上の電離放射線硬化性樹脂を含む。電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射により架橋重合反応を生じ、3次元の高分子構造に変化する樹脂である。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が使用されるが、その他、X線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線も含むものである。電離放射線硬化性樹脂の中でも、電子線硬化性樹脂は、無溶剤化が可能であり、安定な硬化特性が得られる点で好ましい。 The ionizing radiation curable resin composition contains one or more ionizing radiation curable resins. The ionizing radiation curable resin is a resin that undergoes a cross-linking polymerization reaction by irradiation with ionizing radiation and changes into a three-dimensional polymer structure. Ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle beam that has an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually ultraviolet (UV) or electron beam (EB) is used, but in addition, X It also includes electromagnetic waves such as rays and γ-rays, and charged particle beams such as α-rays and ion rays. Among the ionizing radiation curable resins, the electron beam curable resin is preferable in that it can be made solvent-free and stable curing characteristics can be obtained.
電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、電離放射線の照射により架橋可能な重合性不飽和結合、カチオン重合性官能基等を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等の1種以上を使用することができる。 As the ionizing radiation curable resin, for example, one or more of a monomer, an oligomer, a prepolymer, etc. having a polymerizable unsaturated bond, a cationically polymerizable functional group, etc. in the molecule, which can be crosslinked by irradiation with ionizing radiation, shall be used. Can be done.
電離放射線硬化性樹脂として使用される上記モノマーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートモノマー等が挙げられ、特に、多官能性(メタ)アクリレートモノマーが好ましい。なお、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。 Examples of the monomer used as the ionizing radiation curable resin include (meth) acrylate monomers having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule, and polyfunctional (meth) acrylate monomers are particularly preferable. In addition, "(meth) acrylate" means acrylate or methacrylate.
多官能性(メタ)アクリレートモノマーは、分子内に重合性不飽和結合を2個以上(2官能以上)、好ましくは3個以上(3官能以上)有する(メタ)アクリレートモノマーであればよく、特に限定されない。多官能性(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。多官能性(メタ)アクリレートは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。多官能性(メタ)アクリレートとともに、その粘度を低下させる等の目的で、単官能性(メタ)アクリレートを併用してもよい。 The polyfunctional (meth) acrylate monomer may be any (meth) acrylate monomer having two or more (bifunctional or higher), preferably three or more (trifunctional or higher) polymerizable unsaturated bonds in the molecule. Not limited. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth). Acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, Dicyclopentanyldi (meth) acrylate, Caprolactone-modified dicyclopentenyldi (meth) Acrylate, ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethyl propanetri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethyl propanetri (meth) acrylate, di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropanetri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propion Examples thereof include acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. The polyfunctional (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more. A monofunctional (meth) acrylate may be used in combination with the polyfunctional (meth) acrylate for the purpose of lowering the viscosity thereof.
電離放射線硬化性樹脂として使用される上記オリゴマーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられ、特に、分子内に重合性不飽和結合を2個以上(2官能以上)有する多官能性(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。多官能性(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ポリカーボネート(メタ)アクリレート、アクリルシリコーン(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート、分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマー(例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等)等が挙げられる。ここで、ポリカーボネート(メタ)アクリレートは、ポリマー主鎖にカーボネート結合を有し、かつ末端又は側鎖に(メタ)アクリレート基を有するものであれば特に制限されず、例えば、ポリカーボネートポリオールを(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリカーボネート(メタ)アクリレートは、例えば、ポリカーボネート骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート等であってもよい。ポリカーボネート骨格を有するウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリカーボネートポリオールと、多価イソシアネート化合物と、ヒドロキシ(メタ)アクリレートとを反応させることにより得られる。アクリルシリコーン(メタ)アクリレートは、シリコーンマクロモノマーを(メタ)アクリレートモノマーとラジカル共重合させることにより得ることができる。ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシ(メタ)アクリレートは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ(メタ)アクリレートを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ(メタ)アクリレートも使用することができる。ポリエステル(メタ)アクリレートは、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、或いは多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル(メタ)アクリレートは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリブタジエン(メタ)アクリレートは、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に(メタ)アクリル酸を付加することにより得ることができる。シリコン(メタ)アクリレートとは、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコンの末端又は側鎖に(メタ)(メタ)アクリル酸を付加することにより得ることができる。これらの中でも、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の硬度をより一層高める観点からは、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。これらのオリゴマーは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the oligomer used as the ionizing radiation curable resin include (meth) acrylate oligomers having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule, and in particular, two polymerizable unsaturated bonds in the molecule. A polyfunctional (meth) acrylate oligomer having the above (bifunctional or higher) is preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate oligomer include polycarbonate (meth) acrylate, acrylic silicone (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polyether (meth) acrylate. , Polybutadiene (meth) acrylate, silicon (meth) acrylate, oligomers having a cationically polymerizable functional group in the molecule (for example, novolak type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, aliphatic vinyl ether, aromatic vinyl ether, etc.) and the like. .. Here, the polycarbonate (meth) acrylate is not particularly limited as long as it has a carbonate bond in the polymer main chain and has a (meth) acrylate group in the terminal or side chain, and for example, a polycarbonate polyol (meth) is used. It can be obtained by esterification with acrylic acid. The polycarbonate (meth) acrylate may be, for example, urethane (meth) acrylate having a polycarbonate skeleton or the like. Urethane (meth) acrylate having a polycarbonate skeleton can be obtained, for example, by reacting a polycarbonate polyol with a polyhydric isocyanate compound and a hydroxy (meth) acrylate. Acrylic silicone (meth) acrylate can be obtained by radically copolymerizing a silicone macromonomer with a (meth) acrylate monomer. Urethane (meth) acrylate can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by a reaction between a polyether polyol or a polyester polyol and a polyisocyanate with (meth) acrylic acid. Epoxy (meth) acrylate can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxylan ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or a novolak type epoxy resin to esterify it. Further, a carboxyl-modified epoxy (meth) acrylate obtained by partially modifying this epoxy (meth) acrylate with a dibasic carboxylic acid anhydride can also be used. The polyester (meth) acrylate can be obtained, for example, by esterifying the hydroxyl group of a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, or to a polyvalent carboxylic acid. It can be obtained by esterifying the hydroxyl group at the end of the oligomer obtained by adding an alkylene oxide with (meth) acrylic acid. The polyether (meth) acrylate can be obtained by esterifying the hydroxyl group of the polyether polyol with (meth) acrylic acid. Polybutadiene (meth) acrylate can be obtained by adding (meth) acrylic acid to the side chain of the polybutadiene oligomer. Silicon (meth) acrylate can be obtained by adding (meth) (meth) acrylic acid to the terminal or side chain of silicon having a polysiloxane bond in the main chain. Among these, urethane (meth) acrylate oligomers are preferable from the viewpoint of further increasing the hardness of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition. These oligomers may be used alone or in combination of two or more.
電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは500以上、さらに好ましくは1000以上である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布する際、電離放射線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成しやすい。 The weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more. When the weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is in the above range, it is easy to form a coating film of the ionizing radiation curable resin composition when the ionizing radiation curable resin composition is applied.
電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは80000以下、さらに好ましくは50000以下である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、電離放射線硬化性樹脂組成物の粘度を、塗布に適した粘度に調整しやすい。 The weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is preferably 80,000 or less, more preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is in the above range, it is easy to adjust the viscosity of the ionizing radiation curable resin composition to a viscosity suitable for coating.
なお、「重量平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により、ポリスチレンを標準物質に用いて測定される値である。 The "weight average molecular weight" is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.
電離放射線硬化性樹脂は、重量平均分子量が500以上である多官能モノマー及びオリゴマーから選択される少なくとも1種であることが好ましい。このような多官能モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂が挙げられる。 The ionizing radiation curable resin is preferably at least one selected from polyfunctional monomers and oligomers having a weight average molecular weight of 500 or more. Examples of such a polyfunctional monomer or oligomer include acrylate resins such as dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、電離放射線硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、光重合開始剤(増感剤)を含んでもよい。例えば、紫外線の照射により電離放射線硬化性樹脂を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤(増感剤)を含むことが好ましい。なお、電離放射線硬化性樹脂は電子線を照射すれば十分に硬化するので、電子線の照射により電離放射線硬化性樹脂を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤(増感剤)を含まなくてもよい。 If necessary, the ionizing radiation curable resin composition may contain a component involved in the curing reaction of the ionizing radiation curable resin, for example, a photopolymerization initiator (sensitizer). For example, when the ionizing radiation curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays, the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator (sensitizer). Since the ionizing radiation curable resin is sufficiently cured by irradiating it with an electron beam, when the ionizing radiation curable resin is cured by irradiating it with an electron beam, the ionizing radiation curable resin composition is a photopolymerization initiator (sensitization). Agent) may not be included.
電離放射線硬化性樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、ミヒラーケトン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾール、イソプロピル-N,N-ジメチルアミノベンゾエート等の少なくとも1種を使用することができる。また、電離放射線硬化性樹脂がカチオン重合性官能基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル、フリールオキシスルホキソニウムジアリルヨードシル塩等の少なくとも1種を使用することができる。 When the ionizing radiation curable resin has a radically polymerizable unsaturated group, the photopolymerization initiator may be, for example, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoins, benzoin methyl ethers, Michler benzoyl benzoates, Michler ketones, diphenyl sulfides, etc. At least one of dibenzyldisulfide, diethyloxide, triphenylbiimidazole, isopropyl-N, N-dimethylaminobenzoate and the like can be used. When the ionizing radiation curable resin has a cationically polymerizable functional group, the photopolymerization initiator may be, for example, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonic acid ester, or a freele oxysulfoxonium. At least one kind such as diallyl iodosyl salt can be used.
電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤の量は特に限定されないが、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、通常0.1質量部以上10質量部以下である。 The amount of the photopolymerization initiator contained in the ionizing radiation curable resin composition is not particularly limited, but is usually 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin contained in the ionizing radiation curable resin composition. It is 10 parts by mass or less.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)、熱硬化性樹脂等を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を添加することにより、電離放射線硬化性樹脂組成物の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂を使用することができ、熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。 The ionizing radiation curable resin composition is a solvent-drying resin (a resin such as a thermoplastic resin that can be formed into a film simply by drying a solvent added to adjust the solid content at the time of coating), if necessary. , Thermosetting resin and the like may be contained. By adding the solvent-drying resin to the ionizing radiation curable resin composition, it is possible to effectively prevent film defects on the coated surface of the ionizing radiation curable resin composition. As the solvent-drying resin, for example, a thermoplastic resin can be used, and as the thermoplastic resin, for example, a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, and a halogen-containing resin can be used. , Alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, cellulose derivative, silicone resin and rubber or elastomer. Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, and silicon resin. Examples thereof include polysiloxane resin.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、多官能性モノマーを含むことが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物が多官能性モノマーを含むことにより、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の硬度を向上させることができる。電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の硬度は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる多官能性モノマーの官能数、量等を調整することにより、所望の範囲に調整することができる。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる多官能性モノマーの量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の固形分総質量を基準として、通常70質量部以上97質量部以下、好ましくは75質量部以上97質量部以下、さらに好ましくは80質量部以上97質量部以下である。多官能性モノマーは、重合性不飽和基又はカチオン重合性官能基を2個以上有する限り特に限定されないが、3官能以上のモノマーが好ましい。多官能性モノマーとしては、例えば、上記した多官能性(メタ)アクリレートモノマー等が挙げられる。 The ionizing radiation curable resin composition preferably contains a polyfunctional monomer. When the ionizing radiation curable resin composition contains a polyfunctional monomer, the hardness of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition can be improved. The hardness of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition can be adjusted to a desired range by adjusting the functional number, amount and the like of the polyfunctional monomer contained in the ionizing radiation curable resin composition. The amount of the polyfunctional monomer contained in the ionizing radiation curable resin composition is usually 70 parts by mass or more and 97 parts by mass or less, preferably 75 parts by mass or more, based on the total solid content mass of the ionizing radiation curable resin composition. It is 97 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or more and 97 parts by mass or less. The polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it has two or more polymerizable unsaturated groups or cationically polymerizable functional groups, but a trifunctional or higher functional monomer is preferable. Examples of the polyfunctional monomer include the above-mentioned polyfunctional (meth) acrylate monomer and the like.
シランカップリング剤
シランカップリング剤は、加水分解により水酸基となって無機材料と化学結合する反応基(加水分解性基)と、有機材料と化学結合する反応基(反応性官能基)の2種以上の異なった反応基を有する有機ケイ素化合物である。
Silane coupling agent There are two types of silane coupling agent: a reactive group that chemically bonds to an inorganic material as a hydroxyl group by hydrolysis (hydrolytic group) and a reactive group that chemically bonds to an organic material (reactive functional group). It is an organic silicon compound having the above different reactive groups.
アミノ基を有するシランカップリング剤は、反応性官能基としてアミノ基を有する。アミノ基を有するシランカップリング剤は、第一級アミノ基を有するシランカップリング剤であってもよいし、第二級アミノ基を有するシランカップリング剤であってもよいが、第一級アミノ基を有するシランカップリング剤であることが好ましい。第一級アミノ基を有するシランカップリング剤は、第一級アミノ基に加えて第二級アミノ基を有していてもよい。 A silane coupling agent having an amino group has an amino group as a reactive functional group. The silane coupling agent having an amino group may be a silane coupling agent having a primary amino group or a silane coupling agent having a secondary amino group, but may be a primary amino. It is preferably a silane coupling agent having a group. The silane coupling agent having a primary amino group may have a secondary amino group in addition to the primary amino group.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、以下の式A又は式Bで表されるシランカップリング剤が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include a silane coupling agent represented by the following formula A or formula B.
式A:R5HN-R1-Si(-R3)n(-R4)3-n
式B:R5HN-R1-NH-R2-Si(-R3)n(-R4)3-n
Formula A: R 5 HN-R 1 -Si (-R 3 ) n (-R 4 ) 3-n
Formula B: R 5 HN-R 1 -NH-R 2 -Si (-R 3 ) n (-R 4 ) 3-n
式A及びB中、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素数1~6(好ましくは炭素数1~4)の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基を表し、R3は、それぞれ独立して、炭素数1~6(好ましくは炭素数1~4)の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数3~8のシクロアルキル基を表し、R4は、それぞれ独立して、炭素数1~6(好ましくは炭素数1~4)の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基を表し、R5は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~6(好ましくは炭素数1~4)の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数3~8のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基又は炭素数7~10のアラルキル基を表し、nは0~2の整数を表す。 In formulas A and B, R 1 and R 2 each independently represent a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms), and R 3 is Each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and R 4 is independent of each other. Represents a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms), and R5 independently has a hydrogen atom and 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 6 carbon atoms). Represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4) carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, where n is. Represents an integer from 0 to 2.
R1又はR2で表されるアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。 Examples of the alkylene group represented by R 1 or R 2 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group and the like.
R3で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and the like.
R3で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル等が挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group represented by R 3 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl and the like.
R4で表されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。R4で表されるアルコキシ基は、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。 Examples of the alkoxy group represented by R4 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like. The alkoxy group represented by R4 is preferably a methoxy group or an ethoxy group.
R5で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and the like.
R5で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル等が挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group represented by R 5 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl and the like.
R5で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基等が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by R 5 include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group and the like.
R5で表されるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。 Examples of the aralkyl group represented by R5 include a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, a naphthylethyl group and the like.
シランカップリング剤が有する第一級アミノ基を有する場合、R5は水素原子である。 If the silane coupling agent has a primary amino group, R5 is a hydrogen atom.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩等が挙げられる。アミノ基を有するシランカップリング剤は、好ましくは、3-アミノプロピルトリメトキシシラン又は3-アミノプロピルトリエトキシシランである。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N-2-. (Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (N-phenyl) aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl)- Examples thereof include 2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride. The silane coupling agent having an amino group is preferably 3-aminopropyltrimethoxysilane or 3-aminopropyltriethoxysilane.
シリカ粒子
表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、シリカ粒子を含んでもよい。シリカ粒子は、ツヤ消し剤として使用されているものの中から適宜選択することができる。シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは1μm以上10μm以下、さらに好ましくは3μm以上7μm以下である。平均粒径は、JIS Z8825:2013に準拠するレーザー回折・散乱法によって、体積基準で測定される。レーザー回折・散乱法によって体積基準の粒度分布を測定するための市販の機器としては、例えば、ベックマンコールター社製の粒度分布測定装置LS-230が挙げられる。シリカ粒子としては、例えば、日本アエロジル株式会社製のアエロジル-200、200V、300、R972、R972V、R974、R976、R976S、R202、R812,R805、OX50、TT600、RY50、RX50、NY50、NAX50、NA50H、NA50Y、NX90、RY200S、RY200、RX200、R8200、RA200H、RA200HS、NA200Y、R816、R104、RY300、RX300、R106等が挙げられる。表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ粒子は、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ粒子の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは20質量部以下である。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ粒子の量の下限値は特に限定されないが、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるシリカの量は、好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上である。
The ionizing radiation curable resin composition used for forming the silica
プライマー層
図1に示すように、プライマー層13は、基材シート11と表面層12との間に設けられている。本実施形態において、プライマー層13は、基材シート11の第1面S10側表面の全体に形成されているが、基材シート11の第1面S10側表面の一部に形成されていてもよい。本実施形態において、プライマー層13は、基材シート11の第1面S10側表面に設けられているが、基材シート11とプライマー層13との間には1又は2以上の層が設けられていてもよい。本実施形態において、表面層12は、プライマー層13の第1面S10側表面に設けられているが、表面層12とプライマー層13との間には1又は2以上の層が設けられていてもよい。このような層は、当該層に求められる機能に応じて適宜選択することができる。
Primer layer As shown in FIG. 1, the
プライマー層13は、バインダー樹脂を含む。バインダー樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、(メタ)アクリル-ウレタン共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-アクリル共重合体樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ニトロセルロース樹脂(硝化綿)、酢酸セルロース樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The
プライマー層13は、必要に応じて、安定剤、潤滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤、蛍光増白剤等の1種又は2種以上の添加剤を含んでもよい。
The
プライマー層13の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは1μm以上5μm以下、さらに好ましくは2μm以上4μm以下である。
The thickness of the
≪剥離シートの製造≫
以下、剥離シート10の製造方法の一実施形態について説明する。
まず、基材シート11の第1面S10側表面に、プライマー層13を形成する。プライマー層13を形成する前に、基材シート11の第1面S10側表面に対して、易接着層の形成や、酸化法、凹凸化法等の物理的又は化学的表面処理を行ってもよい。これにより、基材シート11と表面層12との密着性を高めることができる。
≪Manufacturing of release sheet≫
Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing the
First, the
プライマー層13は、基材シート11の第1面S10側表面に、プライマー層形成用組成物を塗布することにより形成することができる。プライマー層形成用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
The
プライマー層形成用組成物は、例えば、溶剤又は分散媒と、バインダー樹脂等の固形分との混合物である。溶剤又は分散媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の石油系有機溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸-2-メトキシエチル、酢酸-2-エトキシエチル等のエステル系有機溶剤;メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系有機溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系有機溶剤;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤;ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤;水等の無機溶剤等が挙げられる。溶剤又は分散媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The composition for forming a primer layer is, for example, a mixture of a solvent or a dispersion medium and a solid content such as a binder resin. Examples of the solvent or dispersion medium include petroleum-based organic solvents such as hexane, heptane, octane, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, and methylcyclohexane; ethyl acetate, butyl acetate, -2-methoxyethyl acetate, and -2-ethoxy acetate. Ether-based organic solvent such as ethyl; Alcohol-based organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol; Ketone-based organic solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Solvents; ether-based organic solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran; chlorine-based organic solvents such as dichloromethane, carbon tetrachloride, trichloroethylene, tetrachloroethylene; inorganic solvents such as water and the like can be mentioned. As the solvent or the dispersion medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
プライマー層形成用組成物の塗布量は適宜調整することができるが、好ましくは1g/m2以上5g/m2以下、さらに好ましくは2g/m2以上4g/m2以下である。 The coating amount of the primer layer forming composition can be appropriately adjusted, but is preferably 1 g / m 2 or more and 5 g / m 2 or less, and more preferably 2 g / m 2 or more and 4 g / m 2 or less.
プライマー層13の形成後、プライマー層13上に、表面層12の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂組成物(表面層形成用組成物)を塗布する。表面層形成用組成物の塗布方法の具体例は、上記と同様である。
After the formation of the
表面層形成用組成物は、例えば、溶剤又は分散媒と、電離放射線硬化性樹脂、アミノ基を有するシランカップリング剤等の固形分との混合物である。溶剤又は分散媒の具体例は、上記と同様である。溶剤又は分散媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。表面層形成用組成物は、必要に応じて、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光重合開始剤等を含んでもよい。また、表面層形成用組成物は、表面層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える等を目的として、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、アミノ基を有さないシランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を含んでもよい。 The surface layer forming composition is, for example, a mixture of a solvent or a dispersion medium and a solid content such as an ionizing radiation curable resin and a silane coupling agent having an amino group. Specific examples of the solvent or the dispersion medium are the same as described above. As the solvent or the dispersion medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. The surface layer forming composition may contain a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photopolymerization initiator and the like, if necessary. Further, the composition for forming a surface layer includes a dispersant, a surfactant, an antistatic agent, a silane coupling agent having no amino group, and an increase for the purpose of increasing the hardness of the surface layer and suppressing curing shrinkage. Adhesives, color inhibitors, colorants (pigments, dyes), defoamers, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, adhesives, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, slippery agents, etc. It may be included.
表面層形成用組成物の塗布量は適宜調整することができるが、好ましくは1g/m2以上5g/m2以下、さらに好ましくは2g/m2以上4g/m2以下である。 The coating amount of the surface layer forming composition can be appropriately adjusted, but is preferably 1 g / m 2 or more and 5 g / m 2 or less, and more preferably 2 g / m 2 or more and 4 g / m 2 or less.
プライマー層13上に形成された表面層形成用組成物の塗膜を乾燥させた後、紫外線、電子線等の電離放射線を照射して表面層形成用組成物の塗膜を硬化させ、表面層12を形成する。
After the coating film of the surface layer forming composition formed on the
電離放射線として紫外線を使用する場合には、紫外線源として、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を使用することができる。紫外線の波長は、通常190nm以上380nm以下である。電離放射線として電子線を使用する場合には、電子線源として、例えば、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の電子線加速器を使用することができる。電子線のエネルギーは、通常100keV以上1000keV以下、好ましくは100keV以上300keV以下である。電子線の照射量は、通常2Mrad以上15Mrad以下である。 When ultraviolet rays are used as ionizing radiation, a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, or a metal halide lamp can be used as the ultraviolet source. The wavelength of ultraviolet rays is usually 190 nm or more and 380 nm or less. When an electron beam is used as ionizing radiation, the electron beam source may be, for example, an electron such as a Cockcroft-Walth type, a Van de Graaff type, a resonance transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, or a high frequency type. A line accelerator can be used. The energy of the electron beam is usually 100 keV or more and 1000 keV or less, preferably 100 keV or more and 300 keV or less. The irradiation amount of the electron beam is usually 2 Mrad or more and 15 Mrad or less.
≪剥離シートの使用≫
剥離シート10は、表面に凹部を有する化粧板を製造するために使用される。以下、図面に基づいて、剥離シート10を使用して化粧板を製造する方法の一実施形態について説明する。
≪Use of release sheet≫
The
<化粧板>
以下、図面に基づいて、本実施形態に係る製造方法の結果物である化粧板20について説明する。図2は、化粧板20の平面図であり、図3は、図2中の符号Rで示される領域の拡大図であり、図4は、図3のA-A線断面図であり、図5は、図3のB-B線断面図である。
<Decorative board>
Hereinafter, the
図2~図5に示すように、化粧板20は、互いに直交する第1方向X、第2方向Y及び厚み方向Zを有する。本実施形態では、第1方向Xが化粧板20の長手方向に相当し、第2方向Yが化粧板20の短手方向に相当するが、第1方向Xが化粧板20の短手方向に相当し、第2方向Yが化粧板20の長手方向に相当してもよい。
As shown in FIGS. 2 to 5, the
図2~図5に示すように、化粧板20は、第1面S20と、第1面S20の反対側に位置する第2面T20とを有する。
As shown in FIGS. 2 to 5, the
図4及び図5に示すように、化粧板20は、第1面S21及び第1面S21の反対側に位置する第2面T21を有する支持層21と、支持層21の第1面S21の一部に設けられた離型層22と、支持層21の第1面S21の残部に設けられた硬化メラミン樹脂層23と、支持層21の第2面T21に設けられたコア層24とを備える。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
支持層
図4及び図5に示すように、支持層21の第1面S21は、化粧板20の第1面S20側に位置し、支持層21の第2面T21は、化粧板20の第2面T20側に位置する。
Support layer As shown in FIGS. 4 and 5, the first surface S21 of the
図4及び図5に示すように、支持層21は、紙質基材211と、紙質基材211の第1面S21側に設けられた装飾層212とを備える。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
紙質基材
紙質基材211は、化粧板又は化粧紙の分野において一般的に使用されている原紙の中から適宜選択することができる。紙質基材211としては、例えば、チタン紙、薄葉紙、クラフト紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙、パーチメント紙、パラフィン紙、和紙等が挙げられる。
Paper- based base material The paper-based
紙質基材211の坪量は適宜調整することができるが、好ましくは30g/m2以上200g/m2以下、さらに好ましくは40g/m2以上150g/m2以下である。
The basis weight of the
紙質基材211の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは30μm以上200μm以下、さらに好ましくは50μm以上170μm以下である。
The thickness of the
紙質基材211は、無機成分を含むことが好ましい。紙質基材211に含まれる無機成分は、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。無機成分を含む紙質基材211は、例えば、抄造工程において、紙の原料に無機成分を配合し、紙に無機成分を抄き込むことにより製造することができる。
The
無機成分は、化粧板又は化粧紙の分野において一般的に使用されている無機成分の中から適宜選択することができる。無機成分としては、例えば、無機充填剤(無機フィラー)、無機顔料等が挙げられる。 The inorganic component can be appropriately selected from the inorganic components generally used in the field of decorative boards or decorative papers. Examples of the inorganic component include an inorganic filler (inorganic filler), an inorganic pigment, and the like.
無機充填剤としては、例えば、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、シリカ、カオリン、クレー、硫酸バリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、水酸化マグネシウム、タルク、マイカ、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、焼成タルク、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、燐酸マグネシウム等が挙げられる。 Examples of the inorganic filler include titanium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, silica, kaolin, clay, barium sulfate, calcium hydroxide, aluminum hydroxide, alumina, magnesium hydroxide, and talc. , Mica, hydrotalcite, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium silicate, calcined talc, wollastonite, potassium titanate, magnesium sulfate, calcium sulfate, magnesium phosphate and the like.
無機顔料としては、例えば、酸化チタン、亜鉛華、カーボンブラック、黒色酸化鉄、黄色酸化鉄、黄鉛、モリブデートオレンジ、カドミウムイエロー、ニッケルチタンイエロー、酸化鉄(弁柄)、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバルトグリーン、アルミニウム粉、ブロンズ粉、雲母チタン、硫化亜鉛等が挙げられる。 Examples of inorganic pigments include titanium oxide, zinc flower, carbon black, black iron oxide, yellow iron oxide, yellow lead, molybdate orange, cadmium yellow, nickel titanium yellow, iron oxide (valve handle), cadmium red, and ultramarine. Navy blue, cobalt blue, chromium oxide, cobalt green, aluminum powder, bronze powder, mica titanium, zinc sulfide and the like can be mentioned.
無機成分は、例えば、無機粒子である。無機粒子の平均粒径は、特に限定されないが、好ましくは0.1μm以上50μm以下、さらに好ましくは0.1μm以上10μm以下である。なお、平均粒径は、レーザー回折散乱法によって測定した体積基準粒度分布のメジアン径を意味する。 The inorganic component is, for example, inorganic particles. The average particle size of the inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less. The average particle size means the median diameter of the volume-based particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.
無機成分は、好ましくは酸化チタンである。酸化チタンを含む紙は、チタン紙と呼ばれる。紙質基材211に含まれる酸化チタンの量を増加させるほど、紙質基材211に対する未硬化メラミン樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物の浸透性を向上させることができる。
The inorganic component is preferably titanium oxide. Paper containing titanium oxide is called titanium paper. Increasing the amount of titanium oxide contained in the
紙質基材211に含まれる無機成分の量は、無機成分の種類等に応じて適宜調整することができる。紙質基材211に含まれる酸化チタンの量は、紙質基材211の総質量を基準として、好ましくは5質量%以上50質量%以下、さらに好ましくは5質量%以上40質量%以下である。なお、紙質基材211の総質量は、紙質基材211の乾燥時の総質量(すなわち、紙質基材211中の固形分の総質量)を意味する。
The amount of the inorganic component contained in the
紙質基材211は、着色されていてもよい。紙質基材211の製造段階(例えば、紙質基材211が紙であれば、抄造段階)において、形成原料に着色剤(顔料又は染料)を配合することにより、紙質基材211を着色することができる。また、硬化メラミン樹脂層23を形成する際、硬化メラミン樹脂層23の形成原料として、着色剤を含む樹脂組成物を使用し、これを紙質基材211に含浸させることにより、紙質基材211を着色することができる。着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の粒子からなる無機顔料;キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の粒子からなる有機顔料又は染料;アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢(パール)顔料等が挙げられる。着色剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。着色剤の配合量は、所望の色合い等に応じて適宜調整することができる。
The
紙質基材211は、必要に応じて、充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等の添加剤を含んでもよい。
The
装飾層
装飾層212は、紙質基材211の第1面S21側表面に設けられている。装飾層212は、紙質基材211の第1面S21側表面の全体に形成されていてもよいし、紙質基材211の第1面S21側表面の一部に形成されていてもよい。装飾層212が紙質基材211の第1面S21側表面の全体に形成される場合、支持層21の第1面S21は、装飾層212の表面により形成される。装飾層212が紙質基材211の第1面S21側表面の一部に形成される場合、支持層21の第1面S21は、紙質基材211の第1面S21側表面の一部(装飾層212が設けられていない部分)及び装飾層212の表面により形成される。
Decorative layer The
なお、装飾層212は必要に応じて設けられる層であり、本発明には、装飾層212が省略された実施形態も包含される。装飾層212が省略された実施形態において、支持層21の第1面S21は、紙質基材211の第1面S21側表面により形成される。
The
装飾層212は、化粧板20に装飾性(意匠性)を付与する。装飾層212は、例えば、着色層、絵柄層又はこれらの組み合わせである。
The
着色層は、化粧板20に所望の色を付与する。着色層は、例えば、紙質基材211の第1面S21側表面の全体に形成された全面ベタ層である。着色層の色は、通常、不透明色であるが、紙質基材211等の下地の色又は模様を活かす場合には、透明色であってもよい。また、紙質基材211等の下地の色又は模様を活かす場合には、着色層を形成しなくてもよい。
The colored layer imparts a desired color to the
絵柄層は、化粧板20に所望の模様を付与する。絵柄層は、例えば、紙質基材211の第1面S21側表面の一部又は全体あるいは着色層の第1面S21側表面の一部又は全体に形成された印刷層である。模様層を構成する模様としては、例えば、年輪断面の春材領域及び秋材領域、導管部等から構成される木目模様、レザー(皮シボ)模様、大理石、花崗岩、砂岩等の石材表面の石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、幾何学図形、文字、記号、抽象模様等が挙げられる。本実施形態における装飾層212は、図1に示すように、化粧板20に木目模様を付与する。
The pattern layer imparts a desired pattern to the
装飾層212の形成に使用されるインキは、例えば、溶剤又は分散媒と、着色剤、バインダー樹脂等の成分との混合物である。インキは、その他の成分として、着色剤、体質顔料、安定剤、可塑剤、触媒、硬化剤等を含んでもよい。インキは、シートのVOC(揮発性有機化合物)を低減する観点から、水性組成物であってもよい。
The ink used to form the
インキに含まれる着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の無機顔料;キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の有機顔料又は染料;アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢(パール)顔料等が挙げられる。着色剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Colorants contained in the ink include, for example, carbon black, iron black, titanium white, antimony white, yellow lead, titanium yellow, petal pattern, cadmium red, ultramarine, cobalt blue and other inorganic pigments; quinacridone red, isoindolinone. Organic pigments or dyes such as yellow and phthalocyanine blue; metal pigments made of scaly foil pieces such as aluminum and brass; titanium dioxide-coated mica, pearl pigments made of scaly foil pieces such as basic lead carbonate, etc. Can be mentioned. One type of colorant may be used alone, or two or more types may be used in combination.
インキに含まれるバインダー樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル/アクリル共重合体樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ニトロセルロース樹脂(硝化綿)、酢酸セルロース樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the binder resin contained in the ink include urethane resin, acrylic urethane resin, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride / vinyl acetate / acrylic copolymer resin, chlorinated polypropylene resin, acrylic resin, and polyester resin. , Polyamide resin, butyral resin, polystyrene resin, nitrocellulose resin (nitrated cotton), cellulose acetate resin and the like. As the binder resin, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
インキに含まれる溶剤又は分散媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の石油系有機溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸-2-メトキシエチル、酢酸-2-エトキシエチル等のエステル系有機溶剤;メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系有機溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系有機溶剤;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤;ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤;水等の無機溶剤等が挙げられる。溶剤又は分散媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the solvent or dispersion medium contained in the ink include petroleum-based organic solvents such as hexane, heptane, octane, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, and methylcyclohexane; ethyl acetate, butyl acetate, -2-methoxyethyl acetate, and acetic acid. -Ether-based organic solvent such as ethoxyethyl; alcohol-based organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketone-based organic solvent; ether-based organic solvent such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran; chlorine-based organic solvent such as dichloromethane, carbon tetrachloride, trichloroethylene, tetrachloroethylene; inorganic solvent such as water and the like. As the solvent or the dispersion medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
装飾層212の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは0.1μm以上50μm以下、さらに好ましくは0.1μm以上20μm以下である。
The thickness of the
離型層
離型層22は、支持層21の第1面S21の一部に設けられている。支持層21の第1面S21のうち、離型層22が設けられる領域は、連続した1つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。離型層22は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。離型層22が連続した1つの層で構成される場合、離型層22の厚みは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。離型層22が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚みは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。離型層22が不連続な複数の層で構成される場合、ある層の厚みと別の層の厚みは同一であってもよいし、異なっていてもよい。離型層22の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは0.1μm以上50μm以下、さらに好ましくは0.1μm以上20μm以下である。
Release layer The
離型層22は、支持層21の第1面S21に所定のパターン(模様状)で形成されていることが好ましく、装飾層212が形成する絵柄模様のうち視覚的に凹部又は低光沢(艷消)としたい領域と位置同調したパターンで形成されていることがさらに好ましい。離型層22が形成するパターンとしては、例えば、装飾層212が木目模様の場合は木目板の導管部、春材領域等の凹部又は低光沢領域、石目模様の場合はトラバーチン大理石板の凹陥部、花崗岩板の劈開面の凹部等の石板表面凹凸、布目模様の場合は布表面テクスチャア、レザー模様の場合は皮シボの皺形状、タイル貼模様や煉瓦積模様の場合は目地凹部、其の他、梨地、砂目、ヘアライン、万線条溝、文字、記号、幾何学模様等のパターンが挙げられる。
The
離型層22は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化により形成された層であり、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む。
The
離型層22を形成するための組成物(離型層形成用組成物)として使用される電離放射線硬化性樹脂組成物に関する説明は、上記と同様である。 The description of the ionizing radiation curable resin composition used as the composition for forming the release layer 22 (the composition for forming the release layer) is the same as described above.
離型層22は、シリコーン系離型剤を含んでもよい。離型層22に含まれるシリコーン系離型剤は、離型層形成用組成物に添加されるシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)に由来する。シリコーン系離型剤は、離型層形成用組成物の硬化時に、離型層22の表面に配向するので、離型層22の離型性が向上する。離型層形成用組成物に添加されるシリコーン系離型剤は、反応性シリコーン系離型剤であってもよいし、非反応性シリコーン系離型剤であってもよい。離型層形成用組成物に添加されるシリコーン系離型剤が反応性シリコーン系離型剤である場合、シリコーン系離型剤は、離型層22のその他の成分(例えば、硬化性樹脂の硬化物等)と結合した状態で離型層22に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The
離型層形成用組成物に含まれるシリコーン系離型剤の量は、離型層形成用組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、通常0.1~50質量部、好ましくは0.5~20質量部、さらに好ましくは3~20質量部、さらに一層好ましくは3~10質量部である。シリコーン系離型剤の量が上記範囲であると、離型層22の離型性を効果的に向上させることができる。
The amount of the silicone-based mold release agent contained in the release layer forming composition is usually 0.1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionized radiation curable resin contained in the release layer forming composition. It is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 3 to 20 parts by mass, and even more preferably 3 to 10 parts by mass. When the amount of the silicone-based mold release agent is within the above range, the mold release property of the
シリコーン系離型剤は、オルガノポリシロキサン構造を基本構造とし、側鎖及び/又は末端に有機基が導入された変性シリコーンである。有機機が導入される末端は、片方の末端であってもよいし、両方の末端であってもよい。 The silicone-based mold release agent is a modified silicone having an organopolysiloxane structure as a basic structure and having an organic group introduced into a side chain and / or a terminal. The end into which the organic machine is introduced may be one end or both ends.
反応性シリコーン系離型剤は、側鎖及び/又は末端に有機基が導入された変性シリコーンのうち、導入する有機基の性質によって反応性を有するものをいう。反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、カルボキシル変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、メタクリル変性シリコーン、異種官能基変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、メルカプト変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、フェノール変性ポリジメチルシロキサン、メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、異種官能基変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。反応性シリコーン系離型剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The reactive silicone-based mold release agent refers to a modified silicone having an organic group introduced into the side chain and / or the terminal, which is reactive depending on the nature of the organic group to be introduced. Examples of the reactive silicone-based release agent include amino-modified silicone, epoxy-modified silicone, mercapto-modified silicone, carboxyl-modified silicone, carbinol-modified silicone, phenol-modified silicone, methacryl-modified silicone, and heterogeneous functional group-modified silicone. .. More specifically, amino-modified polydimethylsiloxane, epoxy-modified polydimethylsiloxane, mercapto-modified polydimethylsiloxane, carboxyl-modified polydimethylsiloxane, carbinol-modified polydimethylsiloxane, phenol-modified polydimethylsiloxane, methacryl-modified polydimethylsiloxane, heterologous. Examples thereof include functional group-modified polydimethylsiloxane. As the reactive silicone-based mold release agent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
非反応性シリコーン系離型剤は、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基、アリル基等の反応性官能基を有しないシリコーンであれば特に制限されない。非反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、ポリシロキサンからなるシリコーンのほか、ポリエーテル変性シリコーン、アラルキル変性シリコーン、フロロアルキル変性シリコーン、長鎖アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸エステル変性シリコーン、高級脂肪酸アミド変性シリコーン、フェニル変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン、フロロアルキル変性ポリジメチルシロキサン、長鎖アルキル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸エステル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸アミド変性ポリジメチルシロキサン、フェニル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。非反応性シリコーン系離型剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The non-reactive silicone-based release agent is not particularly limited as long as it is a silicone having no reactive functional group such as an amino group, an epoxy group, a mercapto group, a carboxy group, a hydroxy group, a (meth) acryloyl group and an allyl group. Examples of the non-reactive silicone-based release agent include silicone composed of polysiloxane, polyether-modified silicone, aralkyl-modified silicone, fluoroalkyl-modified silicone, long-chain alkyl-modified silicone, higher fatty acid ester-modified silicone, and higher fatty acid amide. Examples thereof include modified silicone and phenyl-modified silicone. More specifically, polyether-modified polydimethylsiloxane, aralkyl-modified polydimethylsiloxane, fluoroalkyl-modified polydimethylsiloxane, long-chain alkyl-modified polydimethylsiloxane, higher fatty acid ester-modified polydimethylsiloxane, higher fatty acid amide-modified polydimethylsiloxane, Examples thereof include phenyl-modified polydimethylsiloxane. One type of non-reactive silicone-based mold release agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンは、主鎖がポリシロキサンであり、1個以上のポリオキシアルキレン基を置換基として有するものである。主鎖は環を形成していてもよい。 It is preferable to use a polyether-modified silicone as the silicone-based mold release agent. The polyether-modified silicone has a polysiloxane main chain and has one or more polyoxyalkylene groups as substituents. The main chain may form a ring.
ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリオキシアルキレン基の結合位置は、任意の適切な結合位置であり得る。例えば、ポリオキシアルキレン基は、主鎖の両末端に結合されていてもよいし、主鎖の片末端に結合されていてもよいし、側鎖に結合されていてもよい。ポリエーテル変性シリコーンは、ポリオキシアルキレン基が側鎖に結合された側鎖型ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 The bonding position of the polyoxyalkylene group in the polyether-modified silicone can be any suitable bonding position. For example, the polyoxyalkylene group may be attached to both ends of the main chain, to one end of the main chain, or to the side chain. The polyether-modified silicone is preferably a side-chain type polyether-modified silicone in which a polyoxyalkylene group is bonded to a side chain.
側鎖型ポリエーテル変性シリコーンは、例えば、一般式(1)で表される。 The side-chain type polyether-modified silicone is represented by, for example, the general formula (1).
一般式(1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基を表し、R1は炭素数1~4のアルキレン基を表し、R2は水素原子又は炭素数1~15のアルキル基を表し、R3は-(C2H4O)a-(C3H6O)b-で表されるポリオキシアルキレン基であり、aは1~50であり、bは0~30であり、mは1~7000であり、nは1~50である。 In the general formula (1), R independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom or 1 to 15 carbon atoms. Representing an alkyl group, R 3 is a polyoxyalkylene group represented by-(C 2 H 4 O) a- (C 3 H 6 O) b- , a is 1 to 50, and b is 0 to 0. It is 30, m is 1 to 7000, and n is 1 to 50.
一般式(1)中、Rは、好ましくはメチル基である。 In the general formula (1), R is preferably a methyl group.
ポリエーテル変性シリコーンとしては、例えば、信越シリコーン(株)製の商品名「KF-6011」(HLB:14.5)、「KF-6011P」(HLB:14.5)、「KF-6012」(HLB:7.0)、「KF-6013」(HLB:10.0)、「KF-6015」(HLB:4.5)、「KF-6016」(HLB:4.5)、「KF-6017」(HLB:4.5)、「KF-6017P」(HLB:4.5)、「KF-6043」(HLB:14.5)、「KF-6004」(HLB:9.0)、「KF351A」(HLB:12)、「KF352A」(HLB:7)、「KF353」(HLB:10)、「KF354L」(HLB:16)、「KF355A」(HLB:12)、「KF615A」(HLB:10)、「KF945」(HLB:4)、「KF-640」(HLB:14)、「KF-642」(HLB:12)、「KF-643」(HLB:14)、「KF-644」(HLB:11)、「KF-6020」(HLB:4)、「KF-6204」(HLB:10)、「X22-4515」(HLB:5)等の側鎖型(直鎖タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越シリコーン(株)製の商品名「KF-6028」(HLB:4.0)、「KF-6028P」(HLB:4.0)等の側鎖型(分岐鎖タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越シリコーン(株)製の商品名「KF-6038」(HLB:3.0)等の側鎖型(分岐鎖タイプ、アルキル共変性タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル等が挙げられる。 Examples of the polyether-modified silicone include trade names "KF-6011" (HLB: 14.5), "KF-6011P" (HLB: 14.5), and "KF-6012" manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. HLB: 7.0), "KF-6013" (HLB: 10.0), "KF-6015" (HLB: 4.5), "KF-6016" (HLB: 4.5), "KF-6017" (HLB: 4.5), "KF-6017P" (HLB: 4.5), "KF-6043" (HLB: 14.5), "KF-6004" (HLB: 9.0), "KF351A" (HLB: 12), "KF352A" (HLB: 7), "KF353" (HLB: 10), "KF354L" (HLB: 16), "KF355A" (HLB: 12), "KF615A" (HLB: 10) ), "KF945" (HLB: 4), "KF-640" (HLB: 14), "KF-642" (HLB: 12), "KF-643" (HLB: 14), "KF-644" ( HLB: 11), "KF-6020" (HLB: 4), "KF-6204" (HLB: 10), "X22-4515" (HLB: 5), etc. Silicone oil; side chain type (branched chain type) polyether modification such as trade name "KF-6028" (HLB: 4.0), "KF-6028P" (HLB: 4.0) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Silicone oil; Side chain type (branched chain type, alkyl co-modified type) polyether-modified silicone oil such as trade name "KF-6038" (HLB: 3.0) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. can be mentioned.
離型層形成用組成物は、体質顔料を含むことが好ましい。これにより、離型層形成用組成物にチキソトロピー性を付与することができ、版を使用して離型層形成用組成物を印刷する際に、離型層形成用組成物の模様形状を維持させることができる。体質顔料としては、例えば、シリカ、タルク、クレー、硫酸バリウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。これらのうち、材料設計の自由度が高く、意匠性、白さ及びインキとしての塗工安定性に優れた材料であるシリカが好ましく、特に微粉末のシリカが好ましい。 The release layer forming composition preferably contains an extender pigment. Thereby, thixotropic property can be imparted to the release layer forming composition, and the pattern shape of the release layer forming composition is maintained when the release layer forming composition is printed using the plate. Can be made to. Examples of the extender pigment include silica, talc, clay, barium sulfate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate and the like. Of these, silica, which has a high degree of freedom in material design and is excellent in designability, whiteness, and coating stability as an ink, is preferable, and fine powder silica is particularly preferable.
離型層形成用組成物に含まれる体質顔料の量は、離型層形成用組成物に含まれる樹脂100質量部に対して、通常0.1質量部以上20質量部以下、好ましくは0.5質量部15質量部以下、さらに好ましくは2質量部以上15質量部以下であり、さらに一層好ましくは5質量部以上15質量部以下である。体質顔料の含有量を上記範囲とすることにより、離型層形成用組成物に十分なチキソトロピー性を付与することができるとともに、隆起形状及び微細凹凸面の発現を付与する効果が得られる。 The amount of the extender pigment contained in the release layer forming composition is usually 0.1 part by mass or more and 20 parts by mass or less, preferably 0, with respect to 100 parts by mass of the resin contained in the release layer forming composition. It is 5 parts by mass or less, more preferably 2 parts by mass or more and 15 parts by mass or less, and even more preferably 5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less. By setting the content of the extender pigment in the above range, it is possible to impart sufficient thixotropy to the composition for forming a release layer, and it is possible to obtain an effect of imparting a raised shape and a fine uneven surface.
離型層形成用組成物は、無色であってもよいし、着色されていてもよい。着色する場合には、装飾層で使用する着色剤と同様のものを使用することができる。 The release layer forming composition may be colorless or colored. In the case of coloring, the same colorant as that used in the decorative layer can be used.
離型層形成用組成物は、粘度を調整する目的で溶媒を含んでもよい。溶媒としては、水;トルエン、キシレン等の炭化水素化合物;メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物;ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。離型層形成用組成物中の溶媒の量は、離型層形成用組成物に求められる粘度に応じて適宜設定することができる。 The release layer forming composition may contain a solvent for the purpose of adjusting the viscosity. As the solvent, water; hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; alcohol compounds such as methanol, ethanol and methyl glycol; ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone; ester compounds such as methyl formate and ethyl acetate; N-methylpyrrolidone and N. , Nitrogen-containing compounds such as N-dimethylformamide; ether compounds such as terrorahydrofuran and dioxane; halogenated hydrocarbon compounds such as methylene chloride and chloroform; dimethyl sulfoxide and the like. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. The amount of the solvent in the release layer forming composition can be appropriately set according to the viscosity required for the release layer forming composition.
離型層形成用組成物には、望まれる物性に応じて、公知の添加剤を適宜配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。 A known additive can be appropriately added to the release layer forming composition according to the desired physical characteristics. As additives, for example, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, light stabilizers, polymerization inhibitors, cross-linking agents, antistatic agents, antioxidants, leveling agents, coupling agents, plasticizers, defoaming agents, fillers, etc. Examples thereof include a thermal radical generator and an aluminum chelating agent.
硬化メラミン層
図3~図5に示すように、硬化メラミン樹脂層23は、支持層21の第1面S21の残部に設けられており、離型層22の一部又は全体を囲繞する。支持層21の第1面S21の残部は、支持層21の第1面S21のうち、離型層22が形成されていない領域を意味する。支持層21の第1面S21のうち、硬化メラミン樹脂層23が形成される領域は、第1面S21の残部の全体であってもよいし、第1面S21の残部の一部であってもよい。支持層21の第1面S21のうち、硬化メラミン樹脂層23が形成される領域は、連続した1つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。硬化メラミン樹脂層23は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。硬化メラミン樹脂層23が連続した1つの層で構成される場合、硬化メラミン樹脂層23の厚みは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。硬化メラミン樹脂層23が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚みは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。硬化メラミン樹脂層23が不連続な複数の層で構成される場合、ある層の厚みと別の層の厚みは同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Cured melamine layer As shown in FIGS. 3 to 5, the cured
支持層21の第1面S21のうち、硬化メラミン樹脂層23が形成される領域の面積(Sa)と、離型層22が形成される面積(Sb)との比(Sa:Sb)は、好ましくは3:7~9:1、さらに好ましくは5:5~8:2である。面積比が上記範囲内であると、化粧板20によって表現される凹凸形状の意匠感がより鮮明となる。
The ratio (Sa: Sb) of the area (Sa) of the region where the cured
図3~図5に示すように、硬化メラミン樹脂層23は、離型層22の表面S22を露出させる開口部230を有する。硬化メラミン樹脂層23の開口部230は、平面視において、離型層22と位置同調している。本発明において、「位置同調」とは、平面視において、硬化メラミン樹脂層23の開口部230の少なくとも一部が、離型層22の少なくとも一部と重なっていることを意味する。硬化メラミン樹脂層23の開口部230は、平面視において離型層22と重ならない部分を有していてもよいが、硬化メラミン樹脂層23の開口部230の全体が、離型層22の少なくとも一部と重なっていることが好ましい。離型層22は、平面視において硬化メラミン樹脂層23の開口部230と重ならない部分を有していてもよい。
As shown in FIGS. 3 to 5, the cured
なお、本発明において、「平面視」とは、対象となる部材又は部分を、化粧板20の厚み方向Zから観察することを意味する。例えば、図4及び図5において、同図に向かって上方から下方を見降ろすことを意味する。また、「平面視」は、対象となる部材又は部分がその他の部材又は部分に隠れて実際には観察できない場合であっても観察できるものとして取り扱う仮想的な概念である。すなわち、「平面視」は、対象となる部材又は部分を、化粧板20の厚み方向Zに対して垂直な仮想平面に投影することに相当する。
In the present invention, "planar view" means observing the target member or portion from the thickness direction Z of the
図3~図5に示すように、硬化メラミン樹脂層23の開口部230は、化粧板20の第1面S20に凹部25を形成しており、凹部25の底面は、離型層22の表面S22により形成されている。
As shown in FIGS. 3 to 5, the
凹部25の深さは、好ましくは0.1μm以上50μm以下、さらに好ましくは0.1μm以上30μm以下である。凹部25の深さが上記範囲内であると、化粧板20が表現する凹凸形状の意匠感が鮮明となる。
The depth of the
凹部25の深さは、化粧板20の第1面S20のうち、離型層22が形成されていない領域(硬化メラミン樹脂層23が形成されている領域)と、離型層22が形成されている領域との高低差として測定される。測定は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器SE-30Kを使用して、JIS B 0601:2013に規定された方法に従って実施される。表面の最大高さ粗さ(Rz)を高低差のパラメ-タ-として使用し、10箇所の平均値を「高低差」とする。
The depth of the
図3~図5に示すように、化粧板20の第1面S20のうち、凹部25に隣接する領域(硬化メラミン樹脂層23の表面S23により形成される領域)は、相対的に凸部となっており、化粧板20の第1面S20には、凹凸形状が形成されている。化粧板20の第1面S20のうち、凹部25の底面(離型層22の表面S22)により形成される領域は相対的に粗面となり、入射光に対して拡散反射性を有する低光沢領域となる一方、化粧板20の第1面S20のうち、凹部25に隣接する領域(硬化メラミン樹脂層23の表面S23により形成される領域)は相対的に鏡面となり、入射光に対して鏡面反射性を有する高光沢領域となる。これにより、化粧板20は、凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感を表現することができる。特に、化粧板20の凹凸形状(即ち、高光沢領域及び低光沢領域)を、装飾層212の絵柄模様と位置同調させることにより、化粧板20は、優れたグロスマット調の意匠感を表現することができる。例えば、装飾層212が木目模様を形成する場合、凹部25を、木目模様中の導管部(即ち、導管の切断面開口部によって形成される線条の溝部)と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させるとともに、凹部25に隣接する領域を、木目模様中の導管部以外の領域と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させることにより、木目模様中の導管部が相対的に凹部の外観を呈し、これにより、化粧板20は、本物の木目模様と同様の表面凹凸形状の意匠感(質感)を表現することができる。
As shown in FIGS. 3 to 5, in the first surface S20 of the
離型層22の表面S22の全体が、硬化メラミン樹脂層23の開口部230から露出し、凹部25の底面を形成していてもよいが、必ずしもその必要はない。離型層22の表面S22の一部は、硬化メラミン樹脂層23で被覆されていてもよい。特に、離型層22が、装飾層212が形成する木目模様の導管部と位置同調する場合、離型層22のうち導管部の周縁部に相当する部分は、硬化メラミン樹脂層23で被覆されていてもよい。なお、凹部25と凸部(硬化メラミン樹脂層23)とから成る凹凸形状の高低差が目視外観上で十分に確保され、且つ耐摩耗性等の表面物性上も実用上支障が無い範囲内においては、離型層22の表面S22の全体にわたって硬化メラミン樹脂層23が残渣又は痕跡程度に微量に残留していてもよい。化粧板20を平面視したとき、離型層22のうち硬化メラミン樹脂層23の開口部230から露出し、凹部25の底面を形成している部分の面積は、支持層21の第1面S21のうち離型層22が設けられる領域の面積の50%以上であることが好ましい。これにより、化粧板20は、凹凸形状の意匠感を表現することができる。
The entire surface S22 of the
化粧板20の第1面S20には、凹部25以外の凹部が形成されていてもよい。例えば、硬化メラミン樹脂層23の表面S23に凹部が形成されていてもよい。
A recess other than the
硬化メラミン樹脂層23は、未硬化メラミン樹脂層の硬化により形成された層であり、メラミン樹脂の硬化物を含む。
The cured
未硬化メラミン樹脂層は、未硬化メラミン樹脂組成物により形成される層であり、メラミン樹脂の未硬化物を含む。未硬化メラミン樹脂組成物は、メラミン樹脂の未硬化物を含む。メラミン樹脂の未硬化物は、メラミンとホルムアルデヒドとを中性又はアルカリ性条件下で反応させて得られる熱硬化性樹脂であり、メラミンとホルムアルデヒドとの反応生成物(初期縮合物)は、メチロールメラミン類(モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン)を含む。 The uncured melamine resin layer is a layer formed by the uncured melamine resin composition and contains an uncured product of the melamine resin. The uncured melamine resin composition contains an uncured product of the melamine resin. The uncured melamine resin is a thermosetting resin obtained by reacting melamine and formaldehyde under neutral or alkaline conditions, and the reaction product (initial condensate) of melamine and formaldehyde is methylol melamines. Includes (monomethylol melamine, dimethylol melamine, hexamethylol melamine).
未硬化メラミン樹脂組成物は、粘度を調整する目的で溶媒を含んでもよい。溶媒としては、水;トルエン、キシレン等の炭化水素化合物;メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物;ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。未硬化メラミン樹脂組成物中の溶媒の量は、未硬化メラミン樹脂組成物の粘度に応じて適宜設定することができる。 The uncured melamine resin composition may contain a solvent for the purpose of adjusting the viscosity. As the solvent, water; hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; alcohol compounds such as methanol, ethanol and methyl glycol; ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone; ester compounds such as methyl formate and ethyl acetate; N-methylpyrrolidone and N. , Nitrogen-containing compounds such as N-dimethylformamide; ether compounds such as terrorahydrofuran and dioxane; halogenated hydrocarbon compounds such as methylene chloride and chloroform; dimethyl sulfoxide and the like. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. The amount of the solvent in the uncured melamine resin composition can be appropriately set according to the viscosity of the uncured melamine resin composition.
未硬化メラミン樹脂組成物には、望まれる物性に応じて、公知の添加剤を適宜配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。 A known additive can be appropriately added to the uncured melamine resin composition according to the desired physical characteristics. As additives, for example, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, light stabilizers, polymerization inhibitors, cross-linking agents, antistatic agents, antioxidants, leveling agents, coupling agents, plasticizers, defoaming agents, fillers, etc. Examples thereof include a thermal radical generator and an aluminum chelating agent.
硬化メラミン樹脂層23の厚みは、離型層22の厚みとの関係で適宜調整することができるが、好ましくは1μm以上500μm以下、さらに好ましくは1μm以上300μm以下である。
The thickness of the cured
化粧板20において、紙質基材211の空隙には、メラミン樹脂の硬化物が充填されており、硬化メラミン樹脂層23に含まれるメラミン樹脂の硬化物は、紙質基材211の空隙に充填されたメラミン樹脂の硬化物と一体化している。これにより、支持層21と硬化メラミン樹脂層23との接合強度を向上させることができ、化粧板20の使用時において、硬化メラミン樹脂層23が支持層21から剥離しにくくなる。
In the
コア層
コア層24は、化粧板の分野で一般的に使用されているコア層と同様に構成することができる。コア層24は、例えば、多孔質基材と、多孔質基材の空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物とを有する。
Core layer The
多孔質基材としては、例えば、繊維シート等が挙げられる。繊維シートとしては、例えば、紙、不織布、織布等が挙げられる。紙としては、例えば、チタン紙、薄葉紙、クラフト紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙、紙にポリ塩化ビニル樹脂をゾルコート又はドライラミネートしたいわゆるビニル壁紙原反、上質紙、コート紙、パーチメント紙、和紙等が挙げられる。その他の繊維シートとしては、例えば、ガラス繊維、石綿、チタン酸カリウム繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維、炭素繊維等の無機繊維で構成されるシート;ポリエステル、ビニロン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の合成樹脂繊維で構成されるシート等が挙げられる。 Examples of the porous substrate include a fiber sheet and the like. Examples of the fiber sheet include paper, non-woven fabric, and woven fabric. Examples of paper include titanium paper, thin leaf paper, kraft paper, linter paper, paperboard, gypsum board paper, so-called vinyl wallpaper raw fabric obtained by sol-coating or dry-laminating polyvinyl chloride resin on paper, high-quality paper, coated paper, and parchment paper. Japanese paper and the like can be mentioned. Examples of other fiber sheets include sheets composed of inorganic fibers such as glass fibers, asbestos, potassium titanate fibers, alumina fibers, silica fibers and carbon fibers; synthetic resin fibers such as polyester, vinylon, polyethylene and polypropylene. Examples include sheets to be constructed.
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂(2液硬化性ポリウレタンも含む)、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。 Examples of the thermosetting resin include phenol resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin (including two-component curable polyurethane), epoxy resin, aminoalkyd resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, and melamine. -Urea cocondensation resin, silicon resin, polysiloxane resin and the like can be mentioned.
コア層24の前駆層としては、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを使用することができる。コア層24は、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを加熱して、熱硬化性樹脂を硬化させることにより形成することができる。熱硬化性樹脂含浸シートとしては、例えば、メラミン化粧板のコア紙として汎用されているフェノール樹脂含浸紙等が挙げられる。熱硬化性樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートをその他の層と共に熱圧成形する工程において硬化させることができる。
As the precursor layer of the
フェノール樹脂含浸紙は、例えば、コア紙として坪量150g/m2以上250g/m2以下のクラフト紙にフェノール樹脂を含浸率45%以上60%以下となるように含浸し、100℃以上140℃以下で乾燥させることにより製造することができる。市販のフェノール樹脂含浸紙を使用してもよい。 The phenol resin impregnated paper is, for example, impregnated kraft paper having a basis weight of 150 g / m 2 or more and 250 g / m 2 or less as core paper with a phenol resin so as to have an impregnation rate of 45% or more and 60% or less, and 100 ° C. or more and 140 ° C. It can be manufactured by drying below. Commercially available phenol resin impregnated paper may be used.
熱硬化性樹脂含浸シートは、ガラスクロス又はガラス不織布を基材とするプリプレグであってもよい。プリプレグは、例えば、熱硬化性樹脂をガラスクロス又はガラス不織布に含浸させることにより製造することができる。 The thermosetting resin impregnated sheet may be a prepreg using a glass cloth or a glass non-woven fabric as a base material. The prepreg can be produced, for example, by impregnating a glass cloth or a glass nonwoven fabric with a thermosetting resin.
コア層24の厚みは適宜調整することができるが、好ましくは300μm以上1750μm以下、さらに好ましくは300μm以上1400μm以下である。
The thickness of the
化粧板20は、必要に応じて、コア層24の一方の面又は両方の面に積層された補強層を有していてもよい。例えば、コア紙の黒褐色の色調が化粧板20の表面から透視されることを隠蔽するために、チタン白顔料を混抄したチタン紙からなるバリアー紙を、コア層24と支持層21との間に積層することができる。また、熱圧成形の際に生じる化粧板20の反りを相殺するために、チタン紙からなるバランス紙等を、コア層24の裏面(コア層24の第2面T20側の面)に積層することができる。これらの補強層は、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂を含む未硬化状態の樹脂組成物を含浸した上で、その他の層と共に熱圧成形することにより、その他の層と一体化することができる。
The
<化粧板の製造方法>
以下、図面に基づいて、化粧板20の製造方法の一実施形態について説明する。図6~図8は、化粧板20の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。なお、図7は、図6の続きであり、図8は、図7の続きである。
<Manufacturing method of decorative board>
Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing the
本実施形態に係る化粧板20の製造方法は、
(1)第1面S21及び第1面S21の反対側に位置する第2面T21を有する支持層21と、支持層21の第1面S21の一部に設けられた離型層22と、支持層21の第1面S21の残部及び離型層22を被覆する未硬化メラミン樹脂層L1と、剥離シート10の第1面S10が未硬化メラミン樹脂層L1と接するように、未硬化メラミン樹脂層L1上に設けられた剥離シート10と、支持層21の第2面T21に設けられたコア層24の前駆層L2とを備える積層体M3を準備する工程、
(2)積層体M3を加圧及び加熱することにより、未硬化メラミン樹脂層L1を硬化させ、硬化メラミン樹脂層23を形成する工程、及び
(3)剥離シート10を剥離することにより、硬化メラミン樹脂層23のうち離型層22を被覆する部分231を剥離し、硬化メラミン樹脂層23に、離型層22の表面S22を露出させる開口部230を形成する工程
を含む。
以下、各工程について説明する。
The method for manufacturing the
(1) A
(2) The step of curing the uncured melamine resin layer L1 by pressurizing and heating the laminated body M3 to form the cured
Hereinafter, each step will be described.
工程(1)
工程(1)は、積層体M3を準備する工程である。積層体M3は、以下の工程(1-1)~(1-4)を含む方法により製造することができる。
Process (1)
The step (1) is a step of preparing the laminated body M3. The laminated body M3 can be produced by a method including the following steps (1-1) to (1-4).
工程(1-1)は、図6(a)に示すように、第1面S21及び第1面S21の反対側に位置する第2面T21を有する支持層21を準備する工程である。
Step (1-1) is a step of preparing a
支持層21は、紙質基材211の第1面S21側表面に装飾層212を形成することにより製造することができる。インキを使用して装飾層212を形成する法としては、例えば、コーティング法、印刷法等が挙げられる。コーティング法としては、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、リップコート法、コンマコート法、キスコート法、フローコート法、ディップコート法等が挙げられる。印刷法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。
The
紙質基材211の第1面S21側表面に装飾層212を形成する前に、紙質基材211の第1面S21側表面に易接着層を形成してもよい。易接着層(プライマー層、アンカー層と呼ばれることもある)に含まれる易接着性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン等が挙げられる。これにより、装飾層212の密着性を高めることができる。
An easy-adhesive layer may be formed on the surface of the
紙質基材211の第1面S21側表面に装飾層212を形成する前に、紙質基材211の第1面S21側表面に、酸化法、凹凸化法等の物理的又は化学的表面処理を施してもよい。これにより、装飾層212の密着性を高めることができる。酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法等が挙げられ、凹凸化法としては、例えば、サンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。
Before forming the
装飾層212の厚みは適宜調整することができるが、インキ塗工時の厚みは、例えば1μm以上200μm以下であり、乾燥後の厚みは、例えば0.1μm以上20μm以下である。
The thickness of the
装飾層212は、手描き法、墨流し法、写真法、転写法、レーザービーム描画法、電子ビーム描画法等の方法により形成してもよい。装飾層212がアルミニウム、クロム、金、銀、銅等の金属層(金属薄膜)である場合、蒸着法、スパッタリング法、エッチング法等の方法により装飾層212を形成することができる。
The
工程(1-2)
工程(1-2)は、図6(b)に示すように、支持層21の第1面S21の一部に離型層22を形成する工程である。工程(1-2)において、支持層21と、支持層21の第1面S21の一部に形成された離型層22とを備える積層体M1が形成される。
Process (1-2)
The step (1-2) is a step of forming the
離型層22は、支持層21の第1面S21の一部に、離型層形成用組成物として使用される電離放射線硬化性樹脂組成物を所定の模様状に印刷し、電離放射線を照射して硬化させることにより形成することができる。離型層形成用組成物がシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)を含む場合、シリコーン系離型剤が、離型層形成用組成物の硬化時に、離型層22の表面に配向するので、離型層22の離型性が向上する。これにより、工程(3)において、硬化メラミン樹脂層23のうち離型層22を被覆する部分231を剥離する際、当該部分231を離型層22から剥離しやすい。
The
離型層形成用組成物を印刷する方法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。離型層形成用組成物は、印刷法以外の方法で支持層21の第1面S21の一部に塗布してもよく、離型層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアコート法等の塗布法が挙げられる。離型層形成用組成物の塗工時の厚み(乾燥前の厚み)は、好ましくは1μm以上200μm以下、さらに好ましくは1μm以上100μm以下であり、乾燥後の厚みは、好ましくは1μm以上40μm以下、さらに好ましくは1μm以上20μm以下である。
Examples of the method for printing the release layer forming composition include a gravure printing method, an offset printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an electrostatic printing method, and an inkjet printing method. The release layer forming composition may be applied to a part of the first surface S21 of the
電離放射線として紫外線を使用する場合には、紫外線源として、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を使用することができる。紫外線の波長は、例えば190nm以上380nm以下である。電離放射線として電子線を使用する場合には、電子線源として、例えば、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の電子線加速器を使用することができる。電子線のエネルギーは、通常100keV以上1000keV以下、好ましくは100keV以上300keV以下である。電子線の照射量は、好ましくは2Mrad以上15Mrad以下である。 When ultraviolet rays are used as ionizing radiation, a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, or a metal halide lamp can be used as the ultraviolet source. The wavelength of ultraviolet rays is, for example, 190 nm or more and 380 nm or less. When an electron beam is used as ionizing radiation, the electron beam source may be, for example, an electron such as a Cockcroft-Walth type, a Van de Graaff type, a resonance transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, or a high frequency type. A line accelerator can be used. The energy of the electron beam is usually 100 keV or more and 1000 keV or less, preferably 100 keV or more and 300 keV or less. The irradiation amount of the electron beam is preferably 2 Mrad or more and 15 Mrad or less.
工程(1-3)
工程(1-3)は、図6(c)に示すように、積層体M1に未硬化メラミン樹脂組成物を供給し、支持層21の第1面S21の残部(支持層21の第1面S21のうち離型層22が形成されていない領域)及び離型層22を被覆する未硬化メラミン樹脂層L1とを備える積層体M2を形成する工程である。
Process (1-3)
In the step (1-3), as shown in FIG. 6 (c), the uncured melamine resin composition is supplied to the laminated body M1, and the rest of the first surface S21 of the support layer 21 (the first surface of the support layer 21). This is a step of forming a laminated body M2 including a region of S21 in which the
積層体M1に未硬化メラミン樹脂組成物を供給する際、未硬化メラミン樹脂組成物は、例えば、支持層21の第1面S21側から供給される。供給された未硬化メラミン樹脂組成物のうち、一部は紙質基材211に含浸し、紙質基材211に含浸されない残部は、支持層21の第1面S21の残部及び離型層22を被覆する。なお、未硬化メラミン樹脂組成物は、離型層22には含浸されず、離型層22を被覆する。未硬化メラミン樹脂組成物の紙質基材211への含浸を促進するために、支持層21の第1面S21側からの未硬化メラミン樹脂組成物の供給に加えて、支持層21の第2面T21側からの未硬化メラミン樹脂組成物の供給を行ってもよい。支持層21の第2面T21側からの未硬化メラミン樹脂組成物の供給のみを行ってもよい。支持層21の第2面T21側からの未硬化メラミン樹脂組成物の供給のみが行われる場合も同様に、供給された未硬化メラミン樹脂組成物のうち、一部は、紙質基材211に含浸し、紙質基材211に含浸されない残部は、支持層21の第1面S21の残部及び離型層22を被覆する。未硬化メラミン樹脂組成物の供給方法としては、例えば、未硬化メラミン樹脂組成物への浸漬;キスコーター、コンマコーター等のコーターによる塗布;スプレー装置、シャワー装置等による吹き付け等が挙げられる。
When supplying the uncured melamine resin composition to the laminate M1, the uncured melamine resin composition is supplied, for example, from the first surface S21 side of the
未硬化メラミン樹脂層L1の厚みは、離型層22の厚みとの関係で適宜調整することができるが、塗工時の厚み(乾燥前の厚み)は、好ましくは1μm以上800μm以下、さらに好ましくは1μm以上500μm以下であり、乾燥後の厚みは、好ましくは1μm以上500μm以下、さらに好ましくは1μm以上300μm以下である。
The thickness of the uncured melamine resin layer L1 can be appropriately adjusted in relation to the thickness of the
未硬化メラミン樹脂組成物を紙質基材211に含浸させると、未硬化メラミン樹脂組成物は紙質基材211の空隙に充填される。したがって、積層体M2は、紙質基材211の空隙に充填されたメラミン樹脂の未硬化物を含む。紙質基材211の空隙にメラミン樹脂の未硬化物が含浸することにより、硬化メラミン樹脂層23に含まれるメラミン樹脂の硬化物を、紙質基材211の空隙に充填されたメラミン樹脂の硬化物と一体化させることができる。これにより、支持層21と硬化メラミン樹脂層23との接合強度を向上させることができ、化粧板20の使用時において、硬化メラミン樹脂層23が支持層21から剥離しにくくなる。
When the uncured melamine resin composition is impregnated into the
紙質基材211の空隙に充填される未硬化メラミン樹脂組成物の充填率は、化粧板20に求められる性能、紙質基材211の空隙率等に応じて適宜調整することができる。未硬化メラミン樹脂組成物の充填率は、好ましくは30%以上200%以下、さらに好ましくは50%以上150%以下である。なお、樹脂組成物の充填率は、下記式により算出される。
充填率(%)=[(樹脂組成物を含浸させた後の紙質基材の重量-樹脂組成物を含浸させる前の紙質基材の重量)/樹脂組成物を含浸させる前の紙質基材の重量]×100
The filling rate of the uncured melamine resin composition filled in the voids of the paper-based
Filling rate (%) = [(Weight of paper substrate after impregnation with resin composition-Weight of paper substrate before impregnation with resin composition) / Weight of paper substrate before impregnation with resin composition) Weight] x 100
未硬化メラミン樹脂組成物は離型層22の少なくとも一部を被覆していればよい。支持層21の第1面S21のうち離型層22が占める全面積(支持層21の第1面S21のうち離型層22が設けられている領域の面積)のうち、未硬化メラミン樹脂組成物により被覆される部分の面積は、例えば30%以上、好ましくは50%以上である。なお、上限は100%である。
The uncured melamine resin composition may cover at least a part of the
工程(1-4)
工程(1-4)は、図6(d)に示すように、未硬化メラミン樹脂層L1に剥離シート10を積層するとともに、支持層21の第2面T21にコア層24の前駆層L2を積層する工程である。工程(1-4)において、支持層21と、支持層21の第1面S21の一部に形成された離型層22と、支持層21の第1面S21の残部(支持層21の第1面S21のうち離型層22が形成されていない領域)及び離型層22を被覆する未硬化メラミン樹脂層L1と、未硬化メラミン樹脂層L1に積層された剥離シート10と、支持層21の第2面T21に積層されたコア層24の前駆層L2とを備える積層体M3が形成される。未硬化メラミン樹脂層L1への剥離シート10の積層は、支持層21の第2面T21へのコア層24の積層の前、後、同時のいずれの時点で行ってもよい。
Process (1-4)
In the step (1-4), as shown in FIG. 6D, the
図6(d)に示すように、剥離シート10は、剥離シート10の第1面S10が未硬化メラミン樹脂層L1と接するように、未硬化メラミン樹脂層L1上に積層される。
As shown in FIG. 6D, the
工程(2)
工程(2)は、積層体M3を加圧及び加熱することにより、未硬化メラミン樹脂層L1を硬化させ、硬化メラミン樹脂層23を形成する工程である。
Process (2)
The step (2) is a step of curing the uncured melamine resin layer L1 by pressurizing and heating the laminated body M3 to form the cured
積層体M3の加圧及び加熱は、例えば、図6(e)に示すように、積層体M3を2枚の鏡面加工金属板MP1,MP2の間に挟んだ状態で行うことができる。鏡面加工金属板MP1,MP2によって加えられる圧力は、通常0.1kg/cm2以上200kg/cm2以下である。加熱温度は、通常100℃以上200℃以下、加熱時間は、通常1秒以上120分以下である。 The pressurization and heating of the laminated body M3 can be performed, for example, in a state where the laminated body M3 is sandwiched between two mirror-finished metal plates MP1 and MP2, as shown in FIG. 6 (e). The pressure applied by the mirror-finished metal plates MP1 and MP2 is usually 0.1 kg / cm 2 or more and 200 kg / cm 2 or less. The heating temperature is usually 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and the heating time is usually 1 second or longer and 120 minutes or shorter.
積層体M3の加圧及び加熱により、未硬化メラミン樹脂層L1が硬化し、硬化メラミン樹脂層23が形成されるとともに、コア層24の前駆層L2が硬化し、コア層24が形成される。紙質基材211の空隙に充填されたメラミン樹脂の未硬化物もこの段階で硬化し、紙質基材211の空隙に充填されたメラミン樹脂の硬化物と、硬化メラミン樹脂層23に含まれるメラミン樹脂の硬化物とが一体化する。剥離シート10の表面層12は、この段階で硬化メラミン樹脂層23と接合する。
By pressurizing and heating the laminate M3, the uncured melamine resin layer L1 is cured to form the cured
これにより、図7(f)に示すように、支持層21と、支持層21の第1面S21の一部に形成された離型層22と、支持層21の第1面S21の残部(支持層21の第1面S21のうち離型層22が形成されていない領域)及び離型層22を被覆する硬化メラミン樹脂層23と、硬化メラミン樹脂層23に積層された剥離シート10と、支持層21の第2面T21に積層されたコア層24とを備える積層体M4が形成される。
As a result, as shown in FIG. 7 (f), the
図7(f)に示すように、硬化メラミン樹脂層23は、離型層22を被覆する部分231と、離型層22を被覆しない部分232とを有する。離型層22を被覆する部分231は、離型層22の表面S22上に、離型層22を被覆するように形成されている。離型層22を被覆しない部分232は、支持層21の第1面S21上に、離型層22を囲繞するように形成されている。
As shown in FIG. 7 (f), the cured
工程(3)
工程(3)は、図7(g)に示すように、積層体M4から剥離シート10を剥離することにより、硬化メラミン樹脂層23のうち離型層22を被覆する部分231を剥離し、硬化メラミン樹脂層23に、離型層22の表面S22を露出させる開口部230を形成する工程である。
Process (3)
In the step (3), as shown in FIG. 7 (g), the
硬化メラミン樹脂層23のうち離型層22を被覆する部分231は、離型層22を被覆しない部分232よりも剥離されやすい。このため、離型層22を被覆する部分231は、剥離シート10に接合したまま、剥離シート10とともに剥離される。一方、離型層22を被覆しない部分232は、支持層21の第1面S21の残部に残る。離型層22を被覆する部分231が除去されることにより、硬化メラミン樹脂層23に開口部230が形成されるとともに、離型層22の表面S22が、硬化メラミン樹脂層23の開口部230を通じて露出し、化粧板20の第1面S20に凹部25が形成される。これにより、図7(h)に示すように、化粧板20が製造される。
The
離型層22がシリコーン系離型剤を含む場合、離型層22にはシリコーン系離型剤により離型性が付与されるので、工程(3)において、離型層22を被覆する部分231を剥離しやすい。離型層22及び硬化メラミン樹脂層23の両者がシリコーン系離型剤を含む場合は、この効果が大きくなる。
When the
剥離シート10の表面層12と硬化メラミン樹脂層23との接合強度は、剥離対象部分(硬化メラミン樹脂層23のうち離型層22を被覆する部分231)と離型層22との接合強度よりも大きく、硬化メラミン樹脂層23の残部(離型層22を被覆しない部分232)と支持層21との接合強度よりも小さく、かつ、離型層22と支持層21との接合強度よりも小さくなるように調整される。但し、剥離シート10の表面層12と硬化メラミン樹脂層23との接合強度が十分に大きくないと、剥離対象部分が十分に剥離されずに、剥離対象部分の一部が離型層22上に残存するおそれがある。したがって、化粧板を量産する際に、製造時の熱プレス条件、硬化メラミン樹脂層の形成に使用されるメラミン樹脂組成物の組成等に通常想定される程度のバラツキが生じてもなお、剥離シート10の剥離により、離型層22から離型層22直上の剥離対象部分を、剥離シート10とともに安定して剥離(除去)する(その結果、化粧板20の第1面S20に凹部25が形成される)ためには、剥離シート10の表面層12と硬化メラミン樹脂層23との接合強度の指標である剥離シート10の剥離重さは、1N/インチ以上であることが好ましく、1.5N/インチ以上であることがさらに好ましく、2N/インチ以上であることがさらに一層好ましい。剥離シート10の剥離重さが1N/インチ以上であると、剥離対象部分を十分に剥離することができる。剥離シート10の剥離重さの上限値は、好ましくは10N/インチ、さらに好ましくは5N/インチ、さらに一層好ましくは3N/インチである。剥離重さが10N/インチを超えると、剥離シート10が破断したり、硬化メラミン樹脂層23のうち剥離対象部分以外の部分も剥離されたりするおそれがある。
The bonding strength between the
剥離シート10の剥離重さの測定方法は、次の通りである。離型層22が設けられていない点を除き、積層体M4と同一の構成を有する積層体サンプルM4’を準備する。積層体サンプルM4’は、図8に示すように、第1面S21及び第1面S21の反対側に位置する第2面T21を有する支持層21と、支持層21の第1面S21に設けられた硬化メラミン樹脂層23と、硬化メラミン樹脂層23に積層された剥離シート10と、支持層21の第2面T21に積層されたコア層24とを備える。積層体サンプルM4’は、離型層22を形成しない点を除き、積層体M4と同様の方法により製造される。すなわち、剥離シート10を、第1面S10が未硬化メラミン樹脂層と接するように、未硬化メラミン樹脂層上に積層した後、未硬化メラミン樹脂層とともに加圧及び加熱し、剥離シート10の表面層12を、未硬化メラミン樹脂層の硬化により形成される硬化メラミン樹脂層23と接合させる。この際、剥離シート10を硬化メラミン樹脂層23から剥離しても、硬化メラミン樹脂層23が支持層21から剥離しないように、硬化メラミン樹脂層23と支持層21との接合強度を調整する。積層体サンプルM4’を準備した後、剥離シート10に1インチ幅の切り込みを入れ、切り込みを入れた剥離シート10の一端を剥がした後、積層体サンプルM4’の一端(下部)を試験機に固定する。180°剥がした剥離シート10を上部の方向(矢印方向)に100mm/分のスピードで剥離したときの重さを測定し、これを「剥離重さ」とする。剥離重さは、株式会社オリエンテック製テンシロン万能材料試験機RTC-1250Aを使用して測定される。
The method for measuring the peeling weight of the peeling
〔実施例1〕
(1)剥離シートの製造
厚み50μmのPETフィルム(東洋紡株式会社製コスモシャイン(登録商標)A4100)の易接着性面に、プライマー層形成用組成物(昭和インク株式会社製EBFプライマー)を塗工し、その上に電離放射線硬化性樹脂組成物を5g/m2(乾燥時)の量で塗工し、165kVの加速電圧にて5Mradの電子線照射を行い、電離放射線硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させることにより、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物により形成された表面層を有する剥離シートを製造した。
[Example 1]
(1) Manufacture of release sheet A composition for forming a primer layer (EBF primer manufactured by Showa Ink Co., Ltd.) is applied to the easily adhesive surface of a PET film having a thickness of 50 μm (Cosmo Shine (registered trademark) A4100 manufactured by Toyo Spinning Co., Ltd.). Then, an ionizing radiation curable resin composition was applied thereto at an amount of 5 g / m 2 (when dried), and an electron beam irradiation of 5 mad was performed at an acceleration voltage of 165 kV to obtain the ionizing radiation curable resin composition. By curing the coating film, a release sheet having a surface layer formed of a cured product of the ionizing radiation curable resin composition was produced.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して、アミノ変性シランカップリング剤(アミノ基を有するシランカップリング剤)4質量部を添加することにより調製した。アミノ変性シランカップリング剤としては、3-アミノプロピルトリエトキシシランを使用した。電離放射線硬化性樹脂組成物の組成は以下の通りであり、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、4.11質量部である。
・3官能アクリレートモノマー 97.26質量部
・非反応性ポリマー 2.24質量部
・シリカ微粒子(平均粒径:5μm) 0.5質量部
・アミノ変性シランカップリング剤 4質量部
The ionizing radiation curable resin composition contains 4 parts by mass of an amino-modified silane coupling agent (silane coupling agent having an amino group) with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB / CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It was prepared by adding a portion. As the amino-modified silane coupling agent, 3-aminopropyltriethoxysilane was used. The composition of the ionizing radiation curable resin composition is as follows, and the amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is the ionizing radiation curable contained in the ionizing radiation curable resin composition. It is 4.11 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (trifunctional acrylate monomer).
-Trifunctional acrylate monomer 97.26 parts by mass-Non-reactive polymer 2.24 parts by mass-Silica fine particles (average particle size: 5 μm) 0.5 parts by mass-Amino-modified silane coupling agent 4 parts by mass
(2)剥離シートの剥離重さの測定
グラビア印刷法を使用して、原紙上に印刷インキ(DICグラフィックス株式会社製オーデSPTI)を印刷し、厚み3μmの木目柄状の絵柄層を有する印刷紙を製造した。原紙としては、坪量100g/m2の白チタン紙(KJ特殊紙株式会社製PM-7P)を使用した。白チタン紙に含まれる灰分(無機成分)の量は23質量%であり、灰分の量は、酸化チタンの量とほぼ等しい。
(2) Measurement of peeling weight of peeling sheet Using the gravure printing method, printing ink (Ode SPTI manufactured by DIC Graphics Co., Ltd.) is printed on the base paper, and printing with a wood grain pattern pattern layer with a thickness of 3 μm. Manufactured paper. As the base paper, white titanium paper (PM-7P manufactured by KJ Special Paper Co., Ltd.) having a basis weight of 100 g / m 2 was used. The amount of ash (inorganic component) contained in the white titanium paper is 23% by mass, and the amount of ash is almost equal to the amount of titanium oxide.
α-セルロースパルプ繊維に対して、ポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン樹脂、カルボキシメチルセルロース、硫酸バンド及びアルミン酸ソーダが添加された、坪量42g/m2のオーバーレイ原紙に、未硬化メラミン樹脂組成物を含浸させて乾燥させ、メラミン樹脂含浸オーバーレイ紙を製造した。なお、未硬化メラミン樹脂組成物の充填率(含浸率)は142%である。 An uncured melamine resin composition is impregnated into an overlay base paper having a basis weight of 42 g / m 2 to which polyamide polyamine epichlorohydrin resin, carboxymethyl cellulose, sulfate band and sodium aluminate are added to α-cellulose pulp fibers. It was allowed to dry to produce a melamine resin-impregnated overlay paper. The filling rate (impregnation rate) of the uncured melamine resin composition is 142%.
未硬化メラミン樹脂組成物の組成は以下の通りである。
・メラミン樹脂の未硬化物(水溶性メチロールメラミン樹脂、日本カーバイド工業社製ニカレジンS-260) 60質量部
・水 35質量部
・イソプロピルアルコール 5質量部
The composition of the uncured melamine resin composition is as follows.
・ Uncured melamine resin (water-soluble methylol melamine resin, Nikaresin S-260 manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.) 60 parts by mass ・ 35 parts by mass of water ・ 5 parts by mass of isopropyl alcohol
印刷紙を、クラフト紙にフェノール樹脂液を含浸させて製造した、坪量245g/m2のフェノール樹脂含浸コア紙(太田産業株式会社製太田コア)2枚の上に積層し、更にフェノール樹脂含浸コア紙の上にメラミン樹脂含浸オーバーレイ紙を積層し、更にメラミン樹脂含浸オーバーレイ紙の上に剥離シートを積層し、積層体を形成した。剥離シートは、剥離シートの表面層がメラミン樹脂含浸オーバーレイ紙と接するように積層した。 The printing paper was laminated on two sheets of phenol resin impregnated core paper (Ota core manufactured by Ota Sangyo Co., Ltd.) manufactured by impregnating kraft paper with a phenol resin solution and having a basis weight of 245 g / m 2 , and further impregnated with phenol resin. A melamine resin-impregnated overlay paper was laminated on the core paper, and a release sheet was further laminated on the melamine resin-impregnated overlay paper to form a laminated body. The release sheet was laminated so that the surface layer of the release sheet was in contact with the melamine resin-impregnated overlay paper.
形成された積層体を2枚の鉄板表面にクロムメッキしてなる鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて、圧力195kg/cm2、成型温度145℃、成型時間7分間の条件にて加熱成型し、未硬化メラミン樹脂組成物を熱硬化させることにより、メラミン樹脂の硬化物を含む硬化メラミン樹脂層を形成した。 The formed laminate is sandwiched between two chrome-plated mirror plates on the surface of two iron plates, and heat-molded using a heat press machine under the conditions of a pressure of 195 kg / cm 2 , a molding temperature of 145 ° C, and a molding time of 7 minutes. Then, the uncured melamine resin composition was heat-cured to form a cured melamine resin layer containing a cured product of the melamine resin.
硬化メラミン樹脂層から剥離シートを剥離する際の剥離重さを次の方法で測定した。剥離シートに1インチ幅の切り込みを入れ、切り込みを入れた剥離シートの一端を剥がした後、積層体の一端(下部)を試験機に固定した。180°剥がした剥離シートを上部の方向(矢印方向)に100mm/分のスピードで剥離したときの重さを測定し、これを「剥離重さ」とした。剥離重さは、株式会社オリエンテック製テンシロン万能材料試験機RTC-1250Aを使用して測定した。結果を表1に示す。 The peeling weight when peeling the peeling sheet from the cured melamine resin layer was measured by the following method. A 1-inch wide notch was made in the release sheet, one end of the cut release sheet was peeled off, and then one end (lower part) of the laminated body was fixed to the testing machine. The weight when the peeling sheet peeled off by 180 ° was peeled off at a speed of 100 mm / min in the upper direction (arrow direction) was measured, and this was defined as "peeling weight". The peeling weight was measured using a Tensilon universal material testing machine RTC-1250A manufactured by Orientec Co., Ltd. The results are shown in Table 1.
〔実施例2〕
実施例2は、アミノ変性シランカップリング剤の添加量を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して6質量部に変更した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、6.17質量部である。
[Example 2]
In Example 2, the amount of the amino-modified silane coupling agent added was changed to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as 1. The results are shown in Table 1. The amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. 6.17 parts by mass.
〔実施例3〕
実施例3は、アミノ変性シランカップリング剤の添加量を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して8質量部に変更した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、8.23質量部である。
[Example 3]
In Example 3, the amount of the amino-modified silane coupling agent added was changed to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as 1. The results are shown in Table 1. The amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. 8.23 parts by mass.
〔比較例1〕
比較例1は、アミノ変性シランカップリング剤を添加しなかった点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Comparative Example 1 is the same as that of Example 1 except that the amino-modified silane coupling agent was not added. The results are shown in Table 1.
なお、実施例及び比較例では離型層が設けられていないが、剥離シートの表面層と硬化メラミン樹脂層との接合強度の指標である剥離シートの剥離重さが、比較例1よりも十分に大きければ、好ましくは1N/インチ以上、さらに好ましくは1.5N/インチ以上、さらに一層好ましくは2N/インチ以上であれば、離型層が設けられている場合において、剥離対象部分(硬化メラミン樹脂層のうち離型層を被覆する部分)を十分に剥離できることが分かっている。 Although the release layer is not provided in Examples and Comparative Examples, the release weight of the release sheet, which is an index of the bonding strength between the surface layer of the release sheet and the cured melamine resin layer, is more sufficient than that of Comparative Example 1. If it is large, it is preferably 1 N / inch or more, more preferably 1.5 N / inch or more, and even more preferably 2 N / inch or more, when the release layer is provided, the part to be peeled off (cured melamine). It is known that the portion of the resin layer that covers the release layer) can be sufficiently peeled off.
〔比較例2〕
比較例2は、アミノ変性シランカップリング剤の添加量を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して1質量部に変更した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、1.03質量部である。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, the amount of the amino-modified silane coupling agent added was changed to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB ・ CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as 1. The results are shown in Table 1. The amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. It is 1.03 parts by mass.
〔比較例3〕
比較例3は、アミノ変性シランカップリング剤の添加量を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して2質量部に変更した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、2.06質量部である。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, the amount of the amino-modified silane coupling agent added was changed to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB / CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as 1. The results are shown in Table 1. The amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. 2.06 parts by mass.
〔比較例4〕
比較例4は、アミノ変性シランカップリング剤の添加量を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して10質量部に変更した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアミノ変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、10.28質量部である。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 4 , the amount of the amino-modified silane coupling agent added was changed to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Seikabeam EB / CON (a) NS clear manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as 1. The results are shown in Table 1. The amount of the amino-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. 10.28 parts by mass.
〔比較例5〕
比較例5は、アミノ変性シランカップリング剤の代わりに、アクリル変性シランカップリング剤(3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して1、2又は10質量部の量で添加した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるアクリル変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、1.03、2.06又は10.28質量部である。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 5, instead of the amino-modified silane coupling agent, an acrylic-modified silane coupling agent (3-acryloxypropyltrimethoxysilane) was used in Seikabeam EB ・ CON (a) NS Clear 100 manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as in Example 1 except that it is added in an amount of 1, 2 or 10 parts by mass with respect to parts by mass. The results are shown in Table 1. The amount of the acrylic-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. It is 1.03, 2.06 or 10.28 parts by mass.
〔比較例6〕
比較例6は、アミノ変性シランカップリング剤の代わりに、メルカプト変性シランカップリング剤(3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン)を、大日精化工業株式会社製セイカビームEB・CON(a)NSクリヤー100質量部に対して1、2又は10質量部の量で添加した点を除き、実施例1と同様である。結果を表1に示す。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれるメルカプト変性シランカップリング剤の量は、電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂(3官能アクリレートモノマー)100質量部に対して、1.03、2.06又は10.28質量部である。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 6 , instead of the amino-modified silane coupling agent, a mercapto-modified silane coupling agent (3-mercaptopropyltrimethoxysilane) was used, and Seikabeam EB ・ CON (a) NS clear 100 mass manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd. It is the same as in Example 1 except that it is added in an amount of 1, 2 or 10 parts by mass with respect to the part. The results are shown in Table 1. The amount of the mercapto-modified silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin (trifunctional acrylate monomer) contained in the ionizing radiation curable resin composition. It is 1.03, 2.06 or 10.28 parts by mass.
10・・・剥離シート
11・・・基材シート
12・・・表面層
13・・・プライマー層
20・・・化粧板
21・・・支持層
22・・・離型層
23・・・硬化メラミン樹脂層
24・・・コア層
25・・・凹部
S10・・・剥離シートの第1面
T10・・・剥離シートの第2面
S20・・・化粧板の第1面
T20・・・化粧板の第2面
S21・・・支持層の第1面
T21・・・支持層の第2面
S22・・・離型層の表面
S23・・・硬化メラミン樹脂層の表面
10 ...
Claims (7)
前記剥離シートが、基材シートと、前記剥離シートの第1面を形成する表面層とを備え、
前記表面層が、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートモノマー及び分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートオリゴマーから選択された1種以上の電離放射線硬化性樹脂と、アミノ基を有するシランカップリング剤とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されており、
前記電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる前記シランカップリング剤の量が、前記電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して、3質量部以上9質量部以下である、前記剥離シート。 A release sheet having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface.
The release sheet comprises a base material sheet and a surface layer forming the first surface of the release sheet.
The surface layer has one or more ionizing radiation curable properties selected from a (meth) acrylate monomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule and a (meth) acrylate oligomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule . It is formed of a cured product of an ionizing radiation curable resin composition containing a resin and a silane coupling agent having an amino radical.
The release sheet in which the amount of the silane coupling agent contained in the ionizing radiation curable resin composition is 3 parts by mass or more and 9 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin.
(1)第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する支持層と、前記支持層の第1面の一部に設けられた離型層と、前記支持層の第1面の残部及び前記離型層を被覆する未硬化メラミン樹脂層と、前記剥離シートの第1面が前記未硬化メラミン樹脂層と接するように、前記未硬化メラミン樹脂層上に設けられた前記剥離シートと、前記支持層の第2面に設けられたコア層の前駆層とを備える積層体を準備する工程、
(2)前記積層体を加圧及び加熱することにより、前記未硬化メラミン樹脂層を硬化させ、硬化メラミン樹脂層を形成する工程、並びに、
(3)前記剥離シートを剥離することにより、前記硬化メラミン樹脂層のうち前記離型層を被覆する部分を剥離し、前記硬化メラミン樹脂層に、前記離型層の表面を露出させる開口部を形成する工程
を含む、前記方法。 A method for manufacturing a decorative board using the release sheet according to any one of claims 1 to 3.
(1) A support layer having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, a mold release layer provided on a part of the first surface of the support layer, and a first of the support layers. The uncured melamine resin layer covering the rest of one surface and the release layer, and the uncured melamine resin layer provided on the uncured melamine resin layer so that the first surface of the release sheet is in contact with the uncured melamine resin layer. A step of preparing a laminate including a release sheet and a precursor layer of a core layer provided on the second surface of the support layer.
(2) A step of curing the uncured melamine resin layer by pressurizing and heating the laminate to form a cured melamine resin layer, and
(3) By peeling off the release sheet, the portion of the cured melamine resin layer that covers the release layer is peeled off, and the cured melamine resin layer is provided with an opening that exposes the surface of the release layer. The method comprising the step of forming.
工程(2)において、前記積層体を加圧及び加熱することにより、前記紙質基材の空隙に充填された前記メラミン樹脂の未硬化物を前記未硬化メラミン樹脂層とともに硬化させ、前記紙質基材の空隙に充填されたメラミン樹脂の硬化物と、前記硬化メラミン樹脂層に含まれるメラミン樹脂の硬化物とを一体化させる、請求項5又は6に記載の方法。 The laminate prepared in the step (1) contains an uncured melamine resin filled in the voids of the paper substrate, and contains the uncured material.
In the step (2), the laminated body is pressurized and heated to cure the uncured melamine resin filled in the voids of the paper substrate together with the uncured melamine resin layer, and the paper substrate is cured. The method according to claim 5 or 6, wherein the cured product of the melamine resin filled in the voids of No. 5 and the cured product of the melamine resin contained in the cured melamine resin layer are integrated.
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