JP7043249B2 - Ｃｏ２回収装置、ｃｏ２回収方法 - Google Patents

Description

本発明は、ＣＯ_２回収装置、ＣＯ_２回収方法に関する。

排出ガス中のＣＯ_２（二酸化炭素）を除去してＣＯ_２の排出を抑えるためのＣＯ_２回収装置がプラント等で利用されている。ＣＯ_２回収装置では、排出ガスとアミン系吸収液（以下、吸収液と呼ぶ）とを吸収塔で接触させて、吸収液にＣＯ_２を吸収させたリッチ溶液を生成する。またＣＯ_２回収装置ではリッチ溶液を再生塔へ送出し、再生塔においてリッチ溶液に含まれるＣＯ_２を遊離させるとともに、吸収液を再生して、再びその吸収液を吸収塔へ循環させている。ＣＯ_２回収装置は遊離したＣＯ_２のガスを油田中に圧入するか、帯水層へ貯留して、大気にＣＯ_２が放出されることを防いでいる。なお関連する技術が特許文献１に開示されている。

特許第５７４９６７７号公報

ところで上述のＣＯ_２回収装置において装置の故障率を低下させて吸収液やリッチ溶液の循環をより効率よく行うことが求められている。

そこでこの発明は、上述の課題を解決するＣＯ_２回収装置、ＣＯ_２回収方法を提供することを目的としている。

本発明の第１の態様によればＣＯ_２回収装置は、ＣＯ_２を含有する排ガスと吸収液とを接触させて前記排ガス中のＣＯ_２を除去し前記ＣＯ_２を吸収した前記吸収液であるリッチ溶液を生成する吸収塔と、前記リッチ溶液中のＣＯ_２を除去し前記吸収液を再生する再生塔と、前記リッチ溶液と当該リッチ溶液よりも温度が高く前記ＣＯ_２が除去された前記吸収液との間の熱交換を行う熱交換器と、前記熱交換器において熱交換された前記吸収液を前記吸収塔へ送出する吸収液送出配管と、前記熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出するバイパス配管と、前記再生塔の底部に蓄積する前記吸収液の液面位置が所定の位置未満の場合に前記バイパス配管に設けられるバイパス制御弁の開度を増加させる制御装置と、を備えることを特徴とする。

上述のＣＯ_２回収装置において、前記制御装置は、前記熱交換器に前記リッチ溶液を送出するリッチ溶液送出配管における第一圧力が所定の閾値を超えた場合に、前記バイパス配管に設けられた前記バイパス制御弁の開度を増加させて、前記熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出してよい。

上述のＣＯ_２回収装置は、前記リッチ溶液を前記再生塔へ送出するリッチ溶液送出配管と、前記リッチ溶液送出配管に流れる前記リッチ溶液と前記吸収液との熱交換を行う前記熱交換器よりも前記再生塔側に設けられ前記リッチ溶液の流量を調整するリッチ溶液制御弁と、前記再生塔の底部に蓄積する前記吸収液の液面位置を計測する液面位置計測部と、前記液面位置の変化割合が増加傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記リッチ溶液制御弁の開度を増加させる制御を行い、前記液面位置の変化割合が低下傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記バイパス制御弁の開度を増加させる制御を行う液面位置制御部と、を備えてよい。

本発明の第２の態様によればＣＯ_２回収方法は、ＣＯ_２回収装置において、吸収塔が、ＣＯ_２を含有する排ガスと吸収液とを接触させて前記排ガス中のＣＯ_２を除去し前記ＣＯ_２を吸収した前記吸収液であるリッチ溶液を生成し、再生塔が、前記リッチ溶液中のＣＯ_２を除去し前記吸収液を再生し、熱交換器が、前記リッチ溶液と当該リッチ溶液よりも温度が高く前記ＣＯ_２が除去された前記吸収液との間の熱交換を行い、吸収液送出配管が、前記熱交換器において熱交換された前記吸収液を前記吸収塔へ送出し、バイパス配管が、バイパス制御弁の制御に基づいて前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出することを特徴とする。

上述のＣＯ_２回収方法において前記熱交換が行われる前の前記リッチ溶液の前記吸収液送出配管における第一圧力が所定の閾値を超えた場合に、前記バイパス配管に設けられた前記バイパス制御弁の開度を増加させて、前記熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出してよい。

上述のＣＯ_２回収方法においてリッチ溶液送出配管が、前記リッチ溶液を前記再生塔へ送出し、リッチ溶液制御弁が、前記リッチ溶液送出配管に流れる前記リッチ溶液と前記吸収液との熱交換を行う前記熱交換器よりも前記再生塔側に設けられ前記リッチ溶液の流量を調整し、液面位置計測部が、前記再生塔の底部に蓄積する前記吸収液の液面位置を計測し、液面位置制御部が、前記液面位置の変化割合が増加傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記リッチ溶液制御弁の開度を増加させる制御を行い、前記液面位置の変化割合が低下傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記バイパス制御弁の開度を増加させる制御を行ってよい。

本発明によれば、故障率を低下させてＣＯ_２回収装置において吸収液やリッチ溶液の循環をより効率よく行うことができる。

本発明の位置実施形態によるＣＯ_２回収装置の概略図である。 本発明の位置実施形態による制御装置のハードウェア構成を示す図である。 本発明の位置実施形態による制御装置の機能ブロック図である。 本発明の位置実施形態による制御装置の処理フローを示す第一の図である。 本発明の位置実施形態による制御装置の処理フローを示す第二の図である。 本発明の位置実施形態による制御装置の処理フローを示す第三の図である。 本発明の位置実施形態による関数ｆｘ１と関数ｆｘ２の液面位置と開度との関係を示す図である。

以下、本発明の一実施形態によるＣＯ_２回収装置を、図面を参照して説明する。
図１は本実施形態によるＣＯ_２回収装置の概略図である。
この図で示すようにＣＯ_２回収装置１００は、制御装置１、吸収塔２、再生塔３、熱交換器４を主に備える。

ボイラやガスタービン等の産業燃焼設備から排出された排ガス８０は排ガス冷却装置に送られた後、冷却水により冷却されてＣＯ_２回収装置１００の吸収塔２へ送出される。吸収塔２において排ガス８０は、アミン系溶液をベースとする吸収液と交向流接触し、排ガス８０中のＣＯ_２は化学反応により吸収液（リーン溶液９２）に吸収される。ＣＯ_２を吸収した吸収液をリッチ溶液９１と呼ぶ。吸収塔２においてＣＯ_２が除去された後の排ガス８０は系外に放出される。リッチ溶液９１はリッチ溶液送出ポンプ２１により昇圧され第一リッチ溶液送出配管５３を通って熱交換器４に送出される。リッチ溶液９１は熱交換器４において、再生塔３で再生された吸収液でありリッチ溶液９１より温度の高いリーン溶液９２により加熱され、第二リッチ溶液送出配管５４を通って再生塔３に供給される。

再生塔３に供給されるリッチ溶液９１は再生塔３の上部から内部に放出される。リッチ溶液９１は再生塔３内部において吸熱反応を生じて大部分のＣＯ_２を放出する。再生塔３内で一部または大部分のＣＯ_２を放出した吸収液はセミリーン溶液と呼称される。このセミリーン溶液は、再生塔３下部に至る頃には、ほぼ全てのＣＯ_２が除去された吸収液（リーン溶液９２）となる。再生塔３下部ではリボイラにより吸収液が加熱され、セミリーン溶液中のＣＯ２が吸収液から放出される。リボイラの熱源には水蒸気などが使われる。このリーン溶液９２は第一吸収液送出配管５１を通って熱交換器４へ送出される。再生塔３の上部からは塔内においてリッチ溶液９１およびセミリーン溶液から放出された水蒸気を伴ったＣＯ_２ガス８１が導出される。放出されたＣＯ２ガス８１中の水蒸気は凝縮されて再生塔３に戻される。またＣＯ_２ガス８１は系外に放出されて別途回収される。この回収されたＣＯ_２ガス８１は、石油増進回収法（ＥＯＲ：Enhanced Oil Recovery）を用いて油田中に圧入するか、帯水層へ貯留し、温暖化対策が図られる。第一吸収液送出配管５１を通って熱交換器４に送出されたリーン溶液９２は当該熱交換器４においてリッチ溶液９１により冷却され、第二吸収液送出配管５２を通って吸収塔２に供給される。

第二リッチ溶液送出配管５４にはリッチ溶液制御弁６１が設けられる。制御装置１はリッチ溶液制御弁６１を制御することによりリッチ溶液９１の再生塔３への単位時間当たりの送出量を制御する。リッチ溶液９１の再生塔３への単位時間当たりの送出量の変動により再生塔３の下部に溜まるリーン溶液９２の液面位置（レベル）が増減する。また第二吸収液送出配管５２にはリーン溶液制御弁６２が設けられる。制御装置１はリーン溶液制御弁６２を制御することによりリーン溶液９２の吸収塔２への単位時間当たりの送出量を制御する。

第一リッチ溶液送出配管５３にはリッチ溶液送出ポンプ２１が設けられる。制御装置１はリッチ溶液送出ポンプ２１を制御することにより吸収塔２の下部に溜まるリッチ溶液９１を熱交換器４、再生塔３側へ圧送する。第一吸収液送出配管５１にはリーン溶液送出ポンプ３１が設けられる。制御装置１はリーン溶液送出ポンプ３１を制御することにより再生塔３の下部に溜まるリーン溶液９２を熱交換器４、吸収塔２側へ圧送する。

そして本実施形態によるＣＯ_２回収装置１００は第一リッチ溶液送出配管５３と、第二吸収液送出配管５２との間を接続するバイパス配管５５を設ける。バイパス配管５５にはバイパス制御弁６３が設けられる。制御装置１がバイパス制御弁６３を開に制御することにより熱交換器４に投入される熱交換が行われる前のリッチ溶液９１が第二吸収液送出配管５２へ送出される。

制御装置１はリッチ溶液送出ポンプ２１によるリッチ溶液９１の圧送、リーン溶液送出ポンプ３１によるリーン溶液９２の圧送、リッチ溶液制御弁６１の開度、リーン溶液制御弁６２の開度を制御することにより、リッチ溶液９１とリーン溶液９２とを循環させる。具体的には制御装置１はリッチ溶液流量計７１やリーン溶液流量計７２から得た単位時間当たりの流量、再生塔３の下部のリーン溶液９２の液面位置、吸収塔２の下部のリッチ溶液９１の液面位置、ボイラやガスタービン等の産業燃焼設備の負荷（出力）の値を取得し、これらの情報に基づいて、リッチ溶液送出ポンプ２１によるリッチ溶液９１の圧送、リーン溶液送出ポンプ３１によるリーン溶液９２の圧送、リッチ溶液制御弁６１の開度、リーン溶液制御弁６２の開度を制御する。

なお再生塔３の下部にはリーン溶液９２の液面位置を検出する液位計Ｌ１が設けられる。再生塔３の下部のリーン溶液９２の液面位置が極端に下がると、リーン溶液送出ポンプ３１が十分にリーン溶液９２を送出できずキャビテーション等の不具合が生じる可能性がある。したがって液面位置は基準位置となるように制御されることが望まれる。制御装置１は再生塔３の下部におけるリーン溶液９２の液面位置を液位計Ｌ１から取得した計測値に基づいて計測し、当該液面位置が一定となるようにフィードバック制御によりリッチ溶液制御弁６１の開度を制御する。具体的には負荷減少によって吸収塔２からリッチ溶液送出ポンプ２１から圧送される単位時間当たりのリッチ溶液９１の流量が減少すると、制御装置１はリッチ溶液制御弁６１の開度を小さくする制御を行う。この時、第一リッチ溶液送出配管５３の圧力が増大する。第一リッチ溶液送出配管５３の圧力は圧力計Ｐ１が計測して制御装置１へ計測値を出力する。第一リッチ溶液送出配管５３の圧力が増大すると熱交換器４に圧力負荷がかかり熱交換器４に故障などの不具合が発生する場合がある。このため本実施形態によるＣＯ_２回収装置１００は上述したようにバイパス配管５５を設け、バイパス制御弁６３を閉から開に制御することによりリッチ溶液９１を第二吸収液送出配管５２へ排出する。これにより第一リッチ溶液送出配管５３の圧力が減少し、熱交換器４の故障等の懸念を減少させることができる。

図２は本実施形態による制御装置のハードウェア構成を示す図である。
制御装置１はコンピュータであり、図２で示すように、ＣＰＵ１０１、ＲＯＭ（Read Only Memory）１０２、ＲＡＭ（Random Access Memory）１０３、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）１０４などの記憶部、タッチパネル等のユーザインタフェース１０５、各センサと通信する通信モジュール１０６等のハードウェアによって構成される。

図３は本実施形態による制御装置の機能ブロック図である。
制御装置のＣＰＵ１０１は制御装置の起動後に予め記憶する制御プログラムを実行する。これにより制御装置１には、制御部１１、圧力計測部１２、液面位置計測部１３、バイパス制御部１４、液面位置制御部１５、弁開度調整部１６、吸収液流量計測部１７、吸収液流量調節部１８を備える。
制御部１１は制御装置１の各機能部を制御する。
圧力計測部１２は熱交換器４にリッチ溶液９１を送出する第二リッチ溶液送出配管５４における圧力等の所定の配管の圧力を計測する。
液面位置計測部１３は再生塔３の底部に蓄積するリーン溶液９２の液面位置を計測する。
吸収液流量計測部１７はリッチ溶液流量計７１やリーン溶液流量計７２から単位時間当たりの流量を計測する。
バイパス制御部１４は、圧力計測部１２の計測した圧力が所定の閾値を超えた場合に、バイパス制御弁の開度を増加させるよう弁開度調整部１６に指示する。この結果、バイパス制御部１４は、熱交換器４に投入される熱交換が行われる前のリッチ溶液９１を第二吸収液送出配管５２へ送出する制御を行う。
液面位置制御部１５は再生塔３の底部に蓄積するリーン溶液９２の液面位置が所定の位置以上の場合には、当該液面位置の低下に応じてリッチ溶液制御弁６１の開度を増加するよう吸収液流量調節部１８に指示する。液面位置制御部１５は再生塔３の底部に蓄積するリーン溶液９２の液面位置が所定の位置未満の場合には当該液面位置の低下に応じてバイパス制御弁６３の開度を増加するよう吸収液流量調節部１８に指示する。
吸収液流量調節部１８は、吸収液流量計測部１７の計測した流量が所定の目標値となるようリッチ溶液制御弁６１およびリーン溶液制御弁６２の開度を演算する。リッチ溶液流量の目標値は、液面位置制御部１５によって決めてもよい。
弁開度調整部１６はバイパス制御部１４や、吸収液流量調節部１８の指示に基づいて、リッチ溶液制御弁６１やバイパス制御弁６３の開度を制御する。

＜第一の実施形態＞
図４は制御装置の処理フローを示す第一の図である。
第一リッチ溶液送出配管５３の圧力の増大により熱交換器４に負荷がかかることが懸念される。制御装置１は以下の処理により熱交換器４への圧力負荷を軽減する。
まず制御装置１の圧力計測部１２は圧力計Ｐ１から計測値ａを取得する（ステップＳ１）。バイパス制御部１４は圧力値の閾値ｂと計測値ａとを比較する（ステップＳ２）。閾値ｂは、一例としては整定時の第一リッチ溶液送出配管５３の圧力ｃに所定の値を加えた値である（ｂ＞ｃ）。ここで吸収液流量計測部１７によるリッチ溶液流量計７１やリーン溶液流量計７２から単位時間当たりの流量の計測結果を吸収液流量調節部１８が取得する。吸収液流量調節部１８は、リッチ溶液流量計７１やリーン溶液流量計７２から得た単位時間当たりの流量が所定の値となるよう、リッチ溶液制御弁６１およびリーン溶液制御弁６２の開度を制御する。当該制御は通常のリッチ溶液９１やリーン溶液９２の循環制御である。吸収液流量調節部１８が弁開度調整部１６にリッチ溶液制御弁６１の開度を減じるよう指示したとする。これにより弁開度調整部１６はリッチ溶液制御弁６１の開度を指示された開度まで減じる。これにより第一リッチ溶液送出配管５３の圧力が計測値ａ＞閾値ｂとなったとする。

バイパス制御部１４は上記比較によって計測値ａが閾値ｂを上回ったと判定した場合、バイパス制御を行うと判定する。バイパス制御部１４はバイパス制御弁６３を閉から開にするよう弁開度調整部１６に指示する。弁開度調整部１６はバイパス制御弁６３を閉から開に制御する（ステップＳ３）。バイパス制御部１４は計測値ａの値が高いほどバイパス制御弁６３の開度が大きくなるよう弁開度調整部１６に開度の指示を行って、この指示に基づいて弁開度調整部１６がバイパス制御弁６３の開度を制御してもよい。バイパス制御部１４は処理を終了するかを判定し（ステップＳ４）、終了しない場合にはステップＳ１からの処理を繰り返す。

以上の処理により制御装置１は、第一リッチ溶液送出配管５３の圧力の増大により熱交換器４にかかる圧力負荷を軽減することができる。また制御装置１は上述のようにバイパス配管５５を利用して、ミニマムフローラインを構成し、なんらかの理由によりリッチ溶液制御弁６１が全閉になった場合でも、バイパス制御弁６３を開にしてバイパス配管５５により構成される吸収塔２側のミニマムフローラインによりリッチ溶液９１を自動循環させることができる。

なおＣＯ_２回収装置１００の第一吸収液送出配管５１に圧力計Ｐ２を設け、制御装置１は圧力計Ｐ１から得た計測値ａと、圧力計Ｐ２から得た計測値ｄとを用いて、熱交換器４に投入される熱交換が行われる前のリッチ溶液９１を第二吸収液送出配管５２へ送出する制御を行ってもよい。
具体的にはバイパス制御部１４は圧力計Ｐ１から計測値ａを取得し、また圧力計Ｐ２から計測値ｄを取得する。そしてバイパス制御部１４は計測値ａ＞計測値ｄ＋αとなる場合に、バイパス制御弁６３を閉から開にするよう弁開度調整部１６に指示する。
これにより上述の効果と同様に、第一リッチ溶液送出配管５３の圧力の増大により熱交換器４にかかる圧力負荷を軽減することができる。

＜第二の実施形態＞
図５は制御装置の処理フローを示す第二の図である。
ＣＯ_２回収装置１００の再生塔３においては供給されたリッチ溶液９１のＣＯ_２が除去されたリーン溶液９２が再生塔３の下部に到達するまで数分の時間がかかる。これにより再生塔３の下部のリーン溶液９２の液面位置を安定させることが困難であった。この課題を解決するために第二の実施形態によるＣＯ_２回収装置１００の制御装置１は、バイパス配管５５を用いて熱交換器４に投入される熱交換が行われる前のリッチ溶液９１を第二吸収液送出配管５２へ送出する制御を行う。

具体的には液面位置制御部１５は、リーン溶液９２の液面位置を検出する液位計Ｌ１からリーン溶液９２の液面位置を取得する（ステップＳ１１）。液面位置制御部１５はリーン溶液９２の液面位置が所定の基準値となるよう制御している。液面位置制御部１５はリーン溶液９２の液面位置と所定の基準値よりも所定値以上低下した下限閾値とを比較する（ステップＳ１２）。液面位置制御部１５は、リーン溶液９２の液面位置が下限閾値以下と判定した場合、バイパス制御弁６３の開度が大きくなるよう弁開度調整部１６に開度を指示する。弁開度調整部１６はバイパス制御弁６３を閉から開に制御する（ステップＳ１３）。これにより、液面位置が著しく低下した場合にバイパス配管５５を介してリッチ溶液９１が第二吸収液送出配管５２へ送出される。すると第二吸収液送出配管５２にリッチ溶液９１が流入することにより、第一吸収液送出配管５１から第二吸収液送出配管５２へ向かうリーン溶液９２の単位時間当たりの流量が減少し、再生塔３の下部からのリーン溶液９２の単位時間当たりの排出量も減少する。この排出量の減少は応答性が良いため、リーン溶液９２の液面位置は直ちに増加する。液面位置制御部１５は処理を終了するかを判定し（ステップＳ１４）、終了しない場合にはステップＳ１１からの処理を繰り返す。

図６は制御装置の処理フローを示す第三の図である。
図７は関数ｆｘ１と関数ｆｘ２の液面位置と開度との関係を示す図である。
または制御装置１は以下のようにリーン溶液９２の液面位置の変化割合に応じた制御を行うようにしてもよい。具体的には液面位置制御部１５は、リーン溶液９２の液面位置を検出する液位計Ｌ１からリーン溶液９２の液面位置を取得する（ステップＳ２１）。液面位置制御部１５はリーン溶液９２の液面位置が所定の基準値となるよう制御している。液面位置制御部１５はリーン溶液９２の液面位置の変化割合を判定する（ステップＳ２２）。液面位置制御部１５は液面位置の変化割合が増加傾向にある場合には、液面位置の増加割合が増えるに従って線型的にリッチ溶液制御弁６１の開度が小さくなるよう開度を算出する関数ｆｘ１（図７（ａ））に現在の液面位置を入力し開度を算出する（ステップＳ２３）。液面位置制御部１５は算出した開度に制御するよう弁開度調整部１６に指示する。弁開度調整部１６はリッチ溶液制御弁６１を指示に基づく開度に制御する（ステップＳ２４）。これにより、液面位置の増加割合が増えるにつれてリッチ溶液９１の再生塔３に流れる単位時間当たりの流量が減るため。リーン溶液９２の液面位置は時間に応じて低下する。

他方、液面位置制御部１５は液面位置の変化割合が低下傾向にある場合には、液面位置の低下割合が増えるに従って線型的にバイパス制御弁６３の開度が大きくなるよう開度を算出する関数ｆｘ２（図７（ｂ））に現在の液面位置を入力し開度を算出する（ステップＳ２５）。液面位置制御部１５は算出した開度に制御するよう弁開度調整部１６に指示する。弁開度調整部１６はバイパス制御弁６３を指示に基づく開度に制御する（ステップＳ２６）。これにより、液面位置の低下割合が増えるにつれてバイパス配管５５を介してリッチ溶液９１が第二吸収液送出配管５２へ送出される。これにより第一吸収液送出配管５１から第二吸収液送出配管５２へ向かうリーン溶液９２の単位時間当たりの流量が減少し、再生塔３の下部からのリーン溶液９２の単位時間当たりの排出量も減少する。この排出量の減少は応答性が良いため、リーン溶液９２の液面位置は直ちに増加する。液面位置制御部１５は処理を終了するかを判定し（ステップＳ２７）、終了しない場合にはステップＳ２１からの処理を繰り返す。

以上の制御装置１の処理により、再生塔３の下部のリーン溶液９２の液面位置を従来よりも安定させる制御を行うことができる。

上述の制御装置は内部に、コンピュータシステムを有している。そして、上述した各処理の過程は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータが読み出して実行することによって、上記処理が行われる。ここでコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、半導体メモリ等をいう。また、このコンピュータプログラムを通信回線によってコンピュータに配信し、この配信を受けたコンピュータが当該プログラムを実行するようにしても良い。

また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良い。さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル（差分プログラム）であっても良い。

１００・・・ＣＯ_２回収装置
１・・・制御装置
２・・・吸収塔
３・・・再生塔
４・・・熱交換器
１１・・・制御部
１２・・・圧力計測部
１３・・・液面位置計測部
１４・・・バイパス制御部
１５・・・液面位置制御部
１６・・・弁開度調整部
５１・・・第一吸収液送出配管
５２・・・第二吸収液送出配管
５３・・・第一リッチ溶液送出配管
５４・・・第二リッチ溶液送出配管
６１・・・リッチ溶液制御弁
６２・・・リーン溶液制御弁
６３・・・バイパス制御弁

Claims (6)

1. ＣＯ_２を含有する排ガスと吸収液とを接触させて前記排ガス中のＣＯ_２を除去し前記ＣＯ_２を吸収した前記吸収液であるリッチ溶液を生成する吸収塔と、
   前記リッチ溶液中のＣＯ_２を除去し前記吸収液を再生する再生塔と、
   前記リッチ溶液と当該リッチ溶液よりも温度が高く前記ＣＯ_２が除去された前記吸収液との間の熱交換を行う熱交換器と、
   前記熱交換器において熱交換された前記吸収液を前記吸収塔へ送出する吸収液送出配管と、
   バイパス制御弁の制御に基づいて前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出するバイパス配管と、
   を備えるＣＯ_２回収装置。
2. 前記熱交換器に前記リッチ溶液を送出するリッチ溶液送出配管における第一圧力を計測する第一圧力計測部と、
   前記第一圧力が所定の閾値を超えた場合に、前記バイパス配管に設けられた前記バイパス制御弁の開度を増加させて、前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出するバイパス制御部と、
   を備える請求項１に記載のＣＯ_２回収装置。
3. 前記リッチ溶液を前記再生塔へ送出するリッチ溶液送出配管と、
   前記リッチ溶液送出配管に流れる前記リッチ溶液と前記吸収液との熱交換を行う前記熱交換器よりも前記再生塔側に設けられ前記リッチ溶液の流量を調整するリッチ溶液制御弁と、
   前記再生塔の底部に蓄積する前記吸収液の液面位置を計測する液面位置計測部と、
   前記液面位置の変化割合が増加傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記リッチ溶液制御弁の開度を増加させる制御を行い、前記液面位置の変化割合が低下傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記バイパス制御弁の開度を増加させる制御を行う液面位置制御部と、
   を備える請求項１または請求項２に記載のＣＯ_２回収装置。
4. ＣＯ_２回収装置において、
   吸収塔が、ＣＯ_２を含有する排ガスと吸収液とを接触させて前記排ガス中のＣＯ_２を除去し前記ＣＯ_２を吸収した前記吸収液であるリッチ溶液を生成し、
   再生塔が、前記リッチ溶液中のＣＯ_２を除去し前記吸収液を再生し、
   熱交換器が、前記リッチ溶液と当該リッチ溶液よりも温度が高く前記ＣＯ_２が除去された前記吸収液との間の熱交換を行い、
   吸収液送出配管が、前記熱交換器において熱交換された前記吸収液を前記吸収塔へ送出し、
   バイパス配管が、バイパス制御弁の制御に基づいて前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出する
   ＣＯ_２回収方法。
5. 第一圧力計測部が、前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液の前記吸収液送出配管における第一圧力を計測し、
   バイパス制御部が、前記第一圧力が所定の閾値を超えた場合に、前記バイパス配管に設けられた前記バイパス制御弁の開度を増加させて、前記熱交換器に投入される熱交換が行われる前の前記リッチ溶液を前記吸収液送出配管へ送出する
   請求項４に記載のＣＯ_２回収方法。
6. リッチ溶液送出配管が、前記リッチ溶液を前記再生塔へ送出し、
   リッチ溶液制御弁が、前記リッチ溶液送出配管に流れる前記リッチ溶液と前記吸収液との熱交換を行う前記熱交換器よりも前記再生塔側に設けられ前記リッチ溶液の流量を調整し、
   液面位置計測部が、前記再生塔の底部に蓄積する前記吸収液の液面位置を計測し、
   液面位置制御部が、前記液面位置の変化割合が増加傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記リッチ溶液制御弁の開度を増加させる制御を行い、前記液面位置の変化割合が低下傾向にある場合には当該液面位置の低下に応じて前記バイパス制御弁の開度を増加させる制御を行う
   請求項４または請求項５に記載のＣＯ_２回収方法。

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