JP6925921B2 - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

Description

この出願の発明は、空間光変調器を使用した露光技術に関するものである。

表面に感光層が形成されている対象物を露光して感光層を感光させる露光技術は、フォトリソグラフィの主要技術として各種微細回路や微細構造の形成に盛んに利用されている。フォトリソグラフィでは、形成すべき部材の形状に応じたパターンで光を照射する。以下、この光のパターンを露光パターンという。「形成すべき部材の形状」とは、基板自体の表面形状の場合もあるし、基板の表面に形成された膜や層等の部材の形状の場合もある。

このような露光技術の一種に、空間光変調器を使用して露光パターンを形成する技術が知られている。空間光変調器には、通常、ＤＭＤ(Digital Mirror Device）が使用される。ＤＭＤは、微小な方形のミラーが直角格子状に配設された構造を有する。各ミラーは、光軸に対する角度が独立に制御されるようになっており、光源からの光を反射して対象物に到達させる姿勢と、光源からの光を対象物に到達させない姿勢とを取り得るようになっている。ＤＭＤは、各ミラーを制御するコントローラを備えており、コントローラは、露光パターンに従って各ミラーを制御し、対象物の表面に露光パターンの光が照射されるようにする。
空間光変調器を使用した場合、露光パターンを必要に応じて適宜変更することが極めて容易で、多品種少量生産に適しており、またプロセスの状況に応じて柔軟に露光条件を変更することができる。これらの優位性が徐々に認知されてきあり、空間光変調器を搭載した露光装置が徐々に広まりつつある。

ＤＭＤを空間光変調器として使用した従来の露光装置の一例が、特許文献１に開示されている。ここに示されたように、ＤＭＤを空間光変調器として使用する露光装置は、光源やＤＭＤ、光学系等を内蔵した露光ヘッドを複数備えて構成される。各露光ヘッドは独立してメインコントローラにより制御され、照射エリアを通過する対象物に対して各露光ヘッドから所定のパターンの光が照射される。移動する対象物に対して各露光ヘッドで照射される光のパターンの集まりが、全体としての露光パターンであり、これが、形成すべき部材の形状に応じたものとされる。

対象物としては板状のもの（基板）である場合が多く、基板はステージに載置される。基板が載置されたステージは、各露光ヘッドからの光の照射エリアを通して搬送され、この際に露光が行われる。
尚、ＤＭＤは、反射型の空間光変調器と呼べるものであるが、透過型の空間光変調器として液晶ディスプレイを使用することも提案されている（特許文献２）。

特開２００８−１９１３０３号公報 特開２０１７−１３４３７５号公報

上述したような空間光変調器を使用した露光装置では、一般的に高い照度で露光パターンを形成するのが難しい。このため、基板の搬送速度を低くして光量を多くしたり、露光ヘッドの数を多くしたりする工夫がされることが多い。
しかしながら、露光ヘッドの数を多くすることは、装置コストの大幅上昇を招き、装置の構造も大がかりになり、複雑化する。このため、基板の搬送速度を低くという選択にならざるを得ないが、このことは、処理時間（タクトタイム）が長くなり、生産性を高くできないという欠点を抱えることを意味する。

このような問題を解決するため、特許文献１の装置では、照射エリアを挟んで両側にステージを配置し、交互に照射エリアを通過させて露光する構造が採用されている。特許文献１において、各ステージ上の基板は、照射エリアをいったん通過し、戻る際に（復路で）各露光ヘッドにより露光される。特許文献１の装置では、一方のステージにおいて基板のロード（載置）やアンロード（取り去り）がされている間に他方のステージを移動させて基板を露光することができるので、この点で生産性が向上する。
しかしながら、発明者の研究によると、特許文献１の装置では、ソフトウェアのボリュームの問題やデータ処理に関連した生産性低下の問題があり、特に露光に際して必要となるアライメントに関連してこの問題が顕著となることが判ってきた。以下、この点について説明する。

上記のように、空間光変調器を使用した露光では、空間光変調器の各画素（ＤＭＤでは個々のミラー）を照射エリアを通した基板の搬送に合わせて所定のタイミングでオンオフする制御が行われる。オンとは画素により光が照射される状態であり、オフとは画素が光を照射しない状態である。基板の搬送速度に応じた各画素のオンオフのシーケンスにより、所定の露光パターンでの露光が基板に対して行われる。

この際、１枚の基板についての露光パターンは全体として一つであり、その露光パターンが実現されるように各画素のシーケンスが予め作成され、制御プログラムとしてメインコントローラに実装される。この場合、１個のＤＭＤは例えば１０２４×７６８個（合計７８６４３２個）で構成されており、このような多数の画素のシーケンスがそれぞれプログラミングされる。実際には、複数の露光ヘッドが搭載されており、露光ヘッドの数だけＤＭＤがあり、それぞれ独立して駆動されるから、制御すべき画素の総数は露光ヘッドの数の倍数となる。特許文献１では露光ヘッドは１６個搭載されているので、１６倍となる。したがって、膨大な数のシーケンスプログラムが必要で、全体のプログラムのボリュームは極めて大きなものとなる。

この場合、特許文献１では、左右のステージが照射エリアを交互に通過して往復移動する際の各復路で露光が行われるから、露光の際のステージの移動の向きは互いに逆向きである。したがって、各画素のオンオフの順序も逆となり、全体として同じ露光パターンであるにもかかわらず二つの異なるシーケンスプログラムが必要になる。つまり、特許文献１の装置では、膨大な数のシーケンスプログラムから成るプログラムセットが二つ必要になる。特許文献１では、「描画データ変更手段」を備えたことを特徴点としているが、実際には、ボリュームの大きなプログラムの入れ替えに時間を要し、この点が欠点となる。

さらに深刻なのは、空間光変調器を使用した露光の優位性を発揮させるべく、データ処理上のアライメントを行った場合である。
マスクを使用した一般的な露光では、ステージにＸＹθのアライメント機構を設け、基板上のアライメントマークを読み取ってその結果からアライメント機構を駆動してマスクに対して基板の位置を補正するアライメントを行う。一方、空間光変調器を使用する場合、基板への露光パターンの形成位置を自由に変更することができるため、機構的なアライメントは不要である。即ち、空間光変調器を使用した露光では、基板のアライメントマークをカメラで読み取った後、カメラから送られる撮像データに従ってシーケンスプログラムを書き換えるデータ処理を行うことで、露光パターンの形成位置の方を変更するアライメント（データ処理上のアライメント）が行われる。

より詳しく説明すると、各画素のシーケンスプログラムは、基板に形成するパターンに応じた所定の露光パターンを全体として描くように当初はプログラミングされる。以下、このプログラムを初期シーケンスプログラムという。露光装置には、露光処理の基準となる位置（以下、露光基準点という。）が設定されている。各露光ヘッドは、露光基準点に対して所定の位置になるように調整された上で搭載されている。また、各ステージを移動させる搬送系は、露光基準点に対して所定の位置を通るよう精度良く組み立てられ、設置されている。そして、初期シーケンスプログラムには、露光基準点を基準にして各画素のシーケンスがプログラミングされている。つまり、基板が水平な姿勢で配置されるとし、水平面内で直交する二つの方向をＸＹ方向とすると、各画素の露光基準点に対するＸＹ方向の位置に応じて当該画素のオンオフのシーケンスが定められている。

基板は移載機構によってステージに載置され、その載置位置が露光基準点との関係で所定の位置となるように移載機構は制御されるが、移載機構の駆動精度上の限界からその位置はずれる。この場合、カメラがアライメントマークを撮影した際、その撮影データから基板のずれの方向と量が判るので、ずれを補償（キャンセル）するように初期シーケンスプログラムを書き換えるのである。書き換えられたシーケンスプログラムで各画素が制御されることで、基板のずれはそのままにしておき、露光パターンの形成位置の方を変更することで、アライメントされた状態で露光がされることになる。

このデータ処理上のアライメントは、機構的なアライメントを不要するものであるので、装置の構造を簡略化し、必要な精度で位置合わせがされるまで機構が動作を繰り返すといった手間も不要であり、空間光変調器を使用する露光の大きな優位性となっている。しかしながら、上記のように膨大な数の画素について各々作成されているシーケンスプログラムについて全て書き換えを行うことが必要で、データ処理上の負荷は少なくない。この場合に問題なのは、特許文献１の場合、初期シーケンスプログラムが二種類あるので、それぞれについて書き換え用のプログラムが必要になり、ソフトウェアのボリュームが二倍になってしまい、またプログラムの入れ替え等の処理にも時間を要してしまうことである。データ処理上のアライメントは各基板について露光に先立って行われる必要があるから、データ処理の負荷が膨大であると、露光が開始されるまでに長時間を要し、タクトタイム（１枚の基板の露光処理に要する全体の時間）が長くなって生産性を低下させる大きな要因となってしまう。

この出願の発明は、上記課題を解決するために為されたものであり、空間光変調器を使用した露光において、実装されるソフトウェアのボリュームを小さくするとともに、データ処理上のアライメントを行う場合にもプログラムの書き換えに要する時間を短くし、必要な精度の露光を実現しつつも生産性が低下することのない優れた露光技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、この出願の請求項１記載の発明は、所定のシーケンスに従って光を空間的に変調することで照射エリアに露光パターンを形成する空間光変調器を備えた露光ヘッドと、
露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ両側の待機位置で待機する一対のステージと、
一方の側の待機位置で基板が載置された第一のステージを照射エリアを通して往復搬送するとともに、他方の側の待機位置で基板が載置された第二のステージを照射エリアを通して往復搬送する搬送系と、
露光ヘッド内の空間光変調器を制御するコントローラと、
各ステージ上の基板が照射エリアで露光される前に当該基板のアライメントマークを撮影するカメラと、
カメラからの撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにする修正手段と
を備えており、
コントローラは、同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一のステージ上の基板の撮影データに従って修正されたシーケンスで第一のステージの復路移動の際に第一のステージ上の基板を露光し往路移動の際には露光しないようにするとともに、第二のステージ上の基板の撮影データに従って修正されたシーケンスで第二のステージの往路移動の際に第二のステージ上の基板を露光し復路移動の際には露光しないように空間光変調器を制御するものであり、
カメラが第一のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置は照射エリアの他方の側の位置であり、カメラが第二のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置も照射エリアの他方の側の位置であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項２記載の発明は、前記請求項１の構成において、前記カメラは、前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影と第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影に兼用されるものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項３記載の発明は、前記請求項２の構成において、前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第一カメラ配置位置と前記第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第二カメラ配置とは異なる位置であり、
第一カメラ配置位置と第二カメラ配置位置との間で前記カメラを移動させるカメラ移動機構が設けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項４記載の発明は、前記請求項１の構成において、前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第一カメラ配置位置と前記第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第二カメラ配置とは異なる位置であり、
第一カメラ配置位置と第二カメラ配置位置にそれぞれカメラが配置されているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項５記載の発明は、前記請求項１乃至４いずれかの構成において、前記修正手段は、前記基板において形成する部材の形状に応じた露光パターンデータに従って初期的に作成されたシーケンスプログラムである初期シーケンスプログラムを、前記撮影データに従って書き換えるシーケンス書き換えプログラムを備えているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項６記載の発明は、 所定のシーケンスに従って光を空間的に変調することで照射エリアに露光パターンを形成する空間光変調器を備えた露光ヘッドにより基板を露光する露光方法であって、
露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ一方の側の待機位置で待機する第一のステージに基板を載置するステップと、
露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ他方の側の待機位置で待機する第二のステージに基板を載置するステップと、
第一のステージに載置された基板のアライメントマークをカメラで撮影する第一の撮影ステップと、
第二のステージに載置された基板のアライメントマークをカメラで撮影する第二の撮影ステップと、
第一の撮影ステップで得られた撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにしながら第一のステージ上の基板が照射エリアを通過するように第一のステージを移動させることで第一のステージ上の基板を露光する第一の露光ステップと、
第二の撮影ステップで得られた撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにしながら第二のステージ上の基板が照射エリアを通過するように第二のステージを移動させることで第二のステージ上の基板を露光する第二の露光ステップと
を有しており、
同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一の露光ステップにおける第一のステージの移動の向きと、第二の露光ステップにおける第二のステージの移動の向きとは同じ向きであり、
同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一のステージの移動の向きと第二のステージの移動の向きとが異なる向きである状態で基板を露光するステップを有しておらず、
第一の撮影ステップにおいてカメラが第一のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置は照射エリアの他方の側の位置であり、第二の撮影ステップにおいてカメラが第二のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置も照射エリアの他方の側の位置である方法である。

以下に説明する通り、この出願の請求項１又は６記載の発明によれば、第一のステージと第二のステージとが同一向きの移動に移動している際に基板が露光され、異なる向きに移動している際の露光はないので、必要なソフトウェアのボリュームが小さくでき、ソフトウェアの取り扱いに要する時間も短くできる。このため、装置の構造がシンプルになり、全体の動作時間の短縮（生産性の向上）が実現できる。
また、請求項２記載の発明によれば、上記効果に加え、第一のステージ上の基板用と第二のステージ上の基板用とでカメラが兼用されるので、カメラの台数が少なくて済み、この点でコストが安価となる。
また、請求項３記載の発明によれば、上記効果に加え、カメラ移動機構が設けられているので、第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とについてカメラを兼用しつつも最適な撮影位置で撮影することができる。
また、請求項４記載の発明によれば、上記効果に加え、第一のステージ上の基板用と第二のステージ上の基板用と別々のカメラが設けられているので、撮影位置が異なる場合でもカメラの移動のための時間は不要である。このため、全体のタクトタイムが短くなり、機構的にもシンプルで安価となる。
また、請求項５記載の発明によれば、シーケンス書き換えプログラムによって初期シーケンスプログラムを書き換えることでデータ処理上のアライメントが行われるので、データ処理に要する時間が短くで、この点で生産性が向上する。

第一の実施形態の露光装置の正面概略図である。 第一の実施形態の露光装置の平面概略図である。 露光ヘッドの内部構造を示した概略図である。 照射エリアについて示した斜視概略図である。 各カメラで得られた撮影データからデータ処理上のアライメントを行う様子を描いた概略図である。 メインコントローラに実装されたメインシーケンスプログラムの概略を示したフローチャートである。 第二の実施形態の露光装置の正面概略図である。

次に、この出願発明を実施するための形態（以下、実施形態）について説明する。
図１及び図２は、第一の実施形態の露光装置の概略図であり、図１は正面概略図、図２は平面概略図である。図１及び図２に示す露光装置は、空間光変調器を使用した露光装置である。空間光変調器は、露光ヘッド１に内蔵されている。まず、露光ヘッド１について詳説する。
露光ヘッド１は、全体としては円筒形であり、垂直に立てた状態で配置されており、下方に向けて光を出射するものとなっている。図３は、露光ヘッド１の内部構造を示した概略図である。図３に示すように、露光ヘッド１は、光源２と、光源２からの光を空間的に変調する空間光変調器３と、空間光変調器３により変調された光による像を投影する光学系（以下、投影光学系）４等を備えている。

光源２は、基板Ｗにおける感光層の感光波長に応じて最適な波長の光を出力するものが使用される。レジストフィルムの感光波長は可視短波長域から紫外域である場合が多く、光源２としては、４０５ｎｍや３６５ｎｍのような可視短波長域から紫外域の光を出力するものが使用される。また、空間光変調器３の性能を活かすには、コヒーレントな光を出力するものであることが好ましく、このためレーザー光源２が好適に使用される。例えば、窒化ガリウム（ＧａＮ）系の半導体レーザーが使用される。

空間光変調器３としては、この実施形態ではＤＭＤが使用されている。図３中に拡大して示すように、ＤＭＤでは、各画素は微小なミラー３１である。ミラー（以下、画素ミラーという。）３１は、例えば１３．６８μｍ角程度の正方形のミラーであり、多数の画素ミラー３１が直角格子状に配列された構造とされる。配列数は、例えば１０２４×７６８個である。

空間光変調器３は、各画素ミラー３１を制御する変調器コントローラ３２を備えている。実施形態の露光装置は、全体を制御するメインコントローラ７を備えている。変調器コントローラ３２は、メインコントローラ７からの信号に従って各画素ミラー３１を制御する。尚、各画素ミラー３１は、各画素ミラー３１が配列された平面を基準面とし、この基準面に沿った第一の姿勢と、この基準面に対して例えば１１〜１３°程度に傾いた第二の姿勢とを取り得るようになっている。この実施形態では、第一の姿勢がオフ状態であり、第二の姿勢がオン状態である。
空間光変調器３は、各画素ミラー３１を駆動する駆動機構を含んでおり、変調器コントローラ３２は、各画素ミラー３１について、第一の姿勢を取るのか第二の姿勢を取るのかを独立して制御できるようになっている。このような空間光変調器３は、テキサス・インスツルメンツ社から入手できる。

図３に示すように、露光ヘッド１は、このような空間光変調器３に光源２からの光を照射する照射光学系５を備えている。この実施形態では、照射光学系５は光ファイバ５１を含んでいる。より高い照度で像形成を行うため、一つの露光ヘッド１は複数の光源２を備えており、各光源２について光ファイバ５１が設けられている。光ファイバ５１としては、例えば石英系のマルチモードファイバが使用される。

ＤＭＤである空間光変調器３を使用して精度の良い像形成を行うためには、平行光を入射させて各画素ミラー３１に反射させるのが望ましく、また各画素ミラー３１に対して斜めに光を入射させることが望ましい。このため、照射光学系５は、図３に示すように、各光ファイバ５１から出射して広がる光を平行光にするコリメータレンズ５２を含んでいる。

投影光学系４は、二つの投影レンズ群４１，４２と、投影レンズ群４１，４２の間に配置されたマイクロレンズアレイ（以下、ＭＬＡと略す。）４３等から構成されている。ＭＬＡ４３は、より形状精度の高い露光を行うため、補助的に配置されている。ＭＬＡ４３は、微小なレンズを直角格子状に多数配列した光学部品である。各レンズ素子は、空間光変調器３の各画素ミラー３１に１対１で対応している。

上述した露光ヘッド１において、光源２からの光は、光ファイバ６１で導かれた後、照射光学系５により空間光変調器３に入射する。この際、空間光変調器３の各画素ミラー３１は、変調器コントローラ３２により制御され、露光パターンに応じて選択的に傾斜した姿勢とされる。即ち、露光パターンに従い、光を照射エリアに到達させるべき位置に位置している画素ミラー３１はオン状態とされ、それ以外の画素ミラー３１はオフ状態とされる。オフ状態の画素ミラー３１に反射した光は照射エリアには到達せず、オン状態の画素ミラー３１に反射した光のみが到達する。このため、所定のパターンの光が照射エリアに照射される。

このような露光ヘッド１は、複数設けられている。図２に示すように、この実施形態では８個の露光ヘッド１が設けられている。８個の露光ヘッド１により、全体として一つの露光パターンが形成される。尚、各露光ヘッド１は、同じ構成である。

一方、図１に示すように、実施形態の露光装置は、照射エリアを挟んで両側に配置された一対のステージ６１，６２と、基板Ｗが載置されたステージ６１，６２を移動させて基板Ｗを搬送する搬送系６とを備えている。
各ステージ６１，６２は、水平な上面に基板Ｗが載置されるものである。各上面には、真空吸着孔が設けられている。基板Ｗとの接触面積を少なくするため、上面に多数の突起を設けた構造のステージが使用されることもある。

搬送系６は、照射エリアを通して配設されたリニアガイド６０と、リニアガイド６０に沿って各ステージ６１，６２を直線移動させる不図示の駆動源とを備えている。リニアガイド６０は、一対のステージ６１，６２で共用であり、同一の軌道上を各ステージ６１，６２が直線移動する。駆動源は、各ステージ６１，６２にそれぞれ設けられており、独立して各ステージ６１，６２を駆動可能である。駆動源としては例えばリニアモータが使用され、リニアモータステージの構成が採用され得る。
リニアガイド６０が延びる方向が、搬送方向である。以下、この方向をＸ方向と呼び、Ｘ方向に垂直な水平方向をＹ方向と呼ぶ。

尚、照射エリアから離れた両側には、それぞれ待機位置（左待機位置、右待機位置）が設定されている。各待機位置には、不図示の移載機構が配置されている。この例では、露光すべき基板Ｗはコンベア６３で運ばれてくるようになっており、露光後の基板Ｗは、ラック６４に収容されるようになっている。各移載機構は、コンベア６３から基板Ｗをステージ６１，６２に載置するロードと、露光済みの基板Ｗをステージ６１，６２から取り去ってラック６４に収容するアンロードとを行うよう構成されている。

照射エリアについて、図４を参照して補足する。図４は、照射エリアについて示した斜視概略図である。図４において、１個の露光ヘッド１で光が照射され得る領域（以下、個別エリアという。）Ｅが四角い枠で示されている。個別エリアＥの集まりが、照射エリアである。
基板Ｗは図４中矢印で示す方向（Ｘ方向）に移動しながら、各個別エリアＥで光照射を受ける。この際、二列の露光ヘッド１は互いにずれて配置されているので、移動方向に垂直な水平方向（Ｙ方向）においても、隙間無く露光が行われる。

図４中に拡大して示すように、実際には、各個別エリアＥ内は、微小な照射パターン（以下、微小パターンという。）Ｍの集まりとなっている。１個の微小パターンＭは、１個の画素ミラー３１によるパターンである。ステージ６１，６２に載置された基板Ｗがステージ６１，６２の移動に伴って照射エリアを移動するが、その移動のタイミングに合わせて所定のシーケンスで微小パターンＭのオンオフがされる。これにより、所望の露光パターンが基板Ｗに形成される。

図１に示すように、メインコントローラ７は、ハードディスク又は大容量メモリのような記憶部７１を備えている。記憶部７１には、装置全体のシーケンスを司るメインシーケンスプログラム７２と、１枚の基板Ｗに対する露光の際に各露光ヘッド１内の空間光変調器３の各画素ミラー３１をシーケンス制御する画素シーケンスプログラムとが記憶されている。メインシーケンスプログラム７２は、各基板Ｗの露光の際に、画素シーケンスプログラムを呼び出して実行する。尚、各画素ミラー３１を実際に制御するのは変調器コントローラ３２であるので、画素シーケンスプログラムは、変調器コントローラ３２にシーケンスを与えてそのシーケンスで各画素ミラー３１が駆動されるようにするプログラムである。
画素シーケンスプログラムには二種類あり、一つは初期シーケンスプログラム７３であり、もう一つは、アライメントにより書き換えられた書き換え済みシーケンスプログラム７４である。メインシーケンスプログラム７２は、実際には書き換え済みシーケンスプログラム７４を実行する。

また、記憶部７１には、露光パターンデータ７５と、シーケンス作成プログラム７６と、シーケンス書き換えプログラム７７とが記憶されている。 露光パターンデータ７５は、基板Ｗに形成するパターンのイメージデータである。実施形態の装置は、基本的に枚葉処理の装置であり、各基板Ｗには同一の露光パターンが形成される。ロットが異なる場合には露光パターンも異なる場合が多く、その場合には異なる露光パターンデータ７５が記憶部７１に記憶されて使用される。メインコントローラ７は、入力部７０１を備えており、各露光パターンデータ７５は入力部７０１から入力されて記憶部７１に記憶される。

シーケンス作成プログラム７６は、露光パターンデータ７５から初期シーケンスプログラム７３を作成するプログラムである。新たに露光パターンデータ７５が記憶されると、シーケンス作成プログラム７６が実行され、その露光パターンデータ７５に基づく初期シーケンスプログラム７３が作成されるようになっている。

次に、データ処理上のアライメントとしての初期シーケンスプログラム７３の書き換えについて説明する。
説明の都合上、一対のステージのうち、左側のステージ６１を第一のステージと呼び、右側のステージ６２を第二のステージ６２と呼ぶ。図１に示すように、装置は、アライメント用のカメラ８を備えている。第一の実施形態では、カメラ８は、第一のステージ６１上の基板Ｗについてアライメントと、第二のステージ６２上の基板Ｗについてのアライメントとに兼用されるものとなっている。

より具体的に説明すると、図１及び図２に示すように、照射エリアの右側には、ガイドレール８０１が設けられている。ガイドレール８０１はＸ方向に延びたものであり、互い平行に二本設けられている。二本のガイドレール８０１の離間間隔は、Ｙ方向のステージの幅にほぼ等しい。
各ガイドレール８０１には、台座８０２が取り付けられており、台座８０２にカメラ８が固定されている。したがって、この実施形態では、二台のカメラ８が設けられている。各カメラ８は、必要な解像度を備えたＣＣＤのようなデジタルカメラである。

各台座８０２にはカメラ移動機構８０３が設けられており、カメラ移動機構８０３により各カメラ８はガイドレール８０１上の任意に位置に移動可能となっている。また、台座８０２には、不図示のＹ方向調整機構が付設されている。Ｙ方向の移動は、基板Ｗのサイズが異なる場合に対応するためである。

基板Ｗは、アライメントマークを有している。装置において、第一のステージ６１上の基板Ｗのアライメントマークを撮影するためのカメラ８の配置位置（以下、第一カメラ配置位置という。）と、第二のステージ６２上の基板Ｗのアライメントマークを撮影するためのカメラ８の配置位置（以下、第二カメラ配置位置という。）とが設定されている。この実施形態では、第一カメラ配置位置はガイドレール８０１の左端付近の位置であり、第二カメラ配置位置はガイドレール８０１の右端付近の位置である。

以下、第一のステージ６１上の基板Ｗについてのアライメントを例にして、より具体的に説明する。
各カメラ８は、予め第一カメラ配置位置に位置した状態とされる。具体的には、各カメラ８の光軸が第一カメラ配置位置に一致した位置とされる。二つの第一カメラ配置位置は、Ｘ方向では同じ位置であるが、Ｙ方向では所定距離隔てられた位置となっている。基板Ｗのアライメントマークは基板Ｗの幅方向に二つ設けられており、二つの第一のカメラ配置位置のＹ方向の離間距離は、二つのアライメントマークの設計上の距離に一致したものとされる。Ｙ方向の各カメラ８の位置調整のため、Ｙ方向調整機構が動作する。

基板Ｗが載置された第一のステージ６１は、基板Ｗのアライメントマークがカメラ８により撮影され得る位置まで移動する。この移動の距離は、基板Ｗのアライメントマークがカメラ８の直下となると想定される位置までのＸ方向の距離である。以下、この距離を第一撮影用移動距離という。「想定される位置」とは、基板Ｗが第一のステージ６１上の正しい位置に配置され、且つ基板Ｗが設計通りのサイズであり、さらに搬送系６における機構精度上の誤差を無視した場合に位置すると想定される位置である。メインコントローラ７は、第一撮影用移動距離の分だけＸ方向に移動するよう搬送系６に制御信号を送る。

搬送系６は、第一撮影用移動距離だけ第一のステージ６１を移動させるが、基板Ｗの配置位置のずれ、基板Ｗの大きさのバラツキ等により、各アライメントマークは各カメラ８の光軸の直下には位置しない。それでも、各カメラ８の視野の範囲内に各アライメントマークが位置するよう、各カメラ８は十分な視野を有している。尚、第一のステージ６１については、第一撮影用移動距離の移動の際に照射エリアを通過又は照射エリア内に位置するが、各露光ヘッド１は動作せず、光は照射されない。「動作しない」とは、各画素ミラー３１から光が照射エリアに到達しないという状態であり、全ての画素ミラー３１がオフ状態とされるか、又はシャッタ等で遮蔽して各露光ヘッド１から光が出射されない状態とされるということである。

図５は、各カメラ８で得られた撮影データからデータ処理上のアライメントを行う様子を描いた概略図である。
図５において、各カメラ８の光軸Ａは視野Ｖの中心であり、上記の通り第一カメラ配置位置である。データ処理上のアライメントでは、その基準となる点（以下、アライメント基準点）Ｏが予め定められる。例えば、二つの第一カメラ配置位置（光軸Ａ）の中間点がアライメント基準点Ｏと定められる。

この例では、アライメントマークは、方形のパターンとなっている。シーケンス書き換えプログラム７７は、各カメラ８からの撮影データを処理し、各アライメントマークの中心Ｃを特定する。以下、特定されたアライメントマークの中心Ｃを検出マーク中心と呼ぶ。シーケンス書き換えプログラム７７は、アライメント基準点Ｏを原点したＸＹ座標における二つの検出マーク中心Ｃの座標を取得する。そして、二つの検出マーク中心Ｃを結ぶ線分Ｌの長さ、ＸＹ座標における傾きを算出する。

この例では、基板Ｗの大きさや形が正しく、基板Ｗが正しく位置している場合、二つのアライメントマークは、二つの第一カメラ配置位置上（光軸Ａ上）に位置する。二つの第一カメラ配置位置（光軸Ａ）を結ぶ線分が、基準となる正しい線分（以下、基準線分）Ｌｓである。したがって、シーケンス書き換えプログラム７７は、二つの検出マーク中心を結ぶ線分Ｌの基準線分Ｌｓに対するＸＹ方向のずれ、回転方向（θ方向）のずれ、長さの比率を算出する。尚、回転方向は、二つのアライメントマークが各第一カメラ配置位置（光軸Ａ）に位置した際に基板Ｗの中心が位置すると想定される点を中心とする回転方向である。

シーケンス書き換えプログラム７７は、これらＸＹθのずれ及び長さの比率（以下、ｎ倍という。）を初期シーケンスプログラム７３に適用して書き換えを行い、書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成する。即ち、露光パターンの形成位置をＸＹθずれた位置とし、露光パターンの倍率をｎ倍し、そのような位置及び大きさで露光パターンが形成されるよう書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成する。シーケンス書き換えプログラム７７は、このようにプログラミングされている。

次に、第二のステージ６２上の基板Ｗに対するアライメントについて説明する。
第二のステージ６２上の基板Ｗについては、アライメントマークの撮影位置（第二カメラ配置位置）が異なるのみで、他の構成は基本的に同様である。この実施形態では、第二カメラ配置位置は、第一カメラ配置位置と同様に照射エリアの右側にあるものの、第一カメラ配置位置に比べて照射エリアから離れた位置となっている。撮影位置が異なるので、第二のステージ６２についての撮影用移動距離（第二撮影用移動距離）は、第一のステージ６１についてのそれとは異なる。第二のステージ６２は、右待機位置で基板Ｗが載置され、Ｘ方向を照射エリアに向けて少し進み、その位置で基板Ｗのアライメントマークが撮影され、その後、さらに進んで照射エリアで基板Ｗに対する露光が行われる。通常は、第一のステージ６１上の基板Ｗとアライメントマークの位置も同じ（同種の基板Ｗ）であるから、設定マーク間距離や基準線分も、定数として同じ値が使用される。

このような第一の実施形態の露光装置において、基板Ｗの搬送の向きに関連した各露光ヘッド１の動作が重要な要素になっており、それらはメインコントローラ７によって実現されるので、以下、この点について説明する。図６は、メインコントローラ７に実装されたメインシーケンスプログラム７２の概略を示したフローチャートである。

メインシーケンスプログラム７２は、装置の稼働中、常に実行状態にあるが、図６では要部が概略的に示されている。尚、新しい露光パターンデータ７５が入力された場合、シーケンス作成プログラム７６が自動実行され、当該露光パターンデータ７５について初期シーケンスプログラム７３が作成される。露光パターンデータ７５毎に初期シーケンスプログラム７３が作成されるので、メインコントローラ７の記憶部７１に記憶された各初期シーケンスプログラム７３を識別できるようＩＤが付与される。このＩＤは、基板Ｗの品種に応じたものなので、以下、品種ＩＤという。

メインシーケンスプログラム７２は、変数として品種ＩＤが与えられる。品種ＩＤは、装置の稼働開始時に与えられる他、露光パターンデータ７５を変更する場合（異なる品種の露光を行う場合）に更新して与えられる。
図６に示すように、メインシーケンスプログラム７２は、各カメラ８を第一カメラ配置に位置するようカメラ移動機構８０３に制御信号を送る。次に、第一のステージ６１に対する基板Ｗの載置が確認された後、搬送系６に制御信号を送り、第一のステージ６１を第一撮影用移動距離の分だけ移動させる。これにより、第一のステージ６１上の基板Ｗの各アライメントマークは各カメラ８の視野に入る。

メインシーケンスプログラム７２は、各カメラ８からの撮影データを処理し、各アライメントマークが撮影されているかどうか判断する。いずれか又は双方のアライメントマークの像が確認できない場合、アライメントマークがカメラ８の視野を外れてしまったことになるので、メインシーケンスプログラム７２は、エラー処理を行う。即ち、装置の動作を停止させ、ディスプレイ７０２にその旨を表示する。

各アライメントマークの像が確認できた場合、メインシーケンスプログラム７２は、シーケンス書き換えプログラム７７を実行する。シーケンス書き換えプログラム７７の詳細は図示されていないが、シーケンス書き換えプログラム７７は、各カメラ８からの撮影データを処理し、各マーク中心Ｃの座標を取得する。そして、シーケンス書き換えプログラム７７は、マーク中心Ｃを結ぶ線分Ｌの基準線分Ｌｓからのずれと長さの比率を取得し、それらを初期シーケンスプログラム７３に適用して書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成する。尚、各アライメントマークの像が取得されていることの確認、確認できない場合のエラー処理は、シーケンス書き換えプログラム７７の機能として実装される場合もある。

シーケンス書き換えプログラム７７から正しく初期シーケンスプログラム７３の書き換えが完了した旨の値が戻されたら、メインシーケンスプログラム７２は、書き換え済みシーケンスプログラム７４を呼び出し、すぐに実行可能な状態としておく。そして、メインシーケンスプログラム７２は、搬送系６にさらに制御信号を送り、第一のステージ６１が照射エリアを通過するようにする。この際、各アライメントマークの撮影時に第一のステージ６１上の基板Ｗが照射エリア内に一部位置している場合には、メインシーケンスプログラム７２から搬送系６に送られる制御信号は、第一のステージ６１を少し右側に向けて前進させて基板Ｗが照射位置を完全に過ぎるようにし、所定の反転位置で反転させて後退させる制御信号である。

反転位置で反転した第一のステージ６１は、その後、照射エリアを再び通過する。このタイミングで、メインシーケンスプログラム７２は、書き換え済みシーケンスプログラム７４を動作させ、各露光ヘッド１内の空間光変調器３の各画素ミラー３１を所定のシーケンスでオンオフさせる。説明は省略したが、搬送系６による搬送ライン上には、不図示のセンサが複数取り付けられており、ステージ６１，６２の移動が検出されてメインコントローラ７に送られるようになっている。メインシーケンスプログラム７２は、これらセンサからの信号により第一のステージ６１が右側から進んで照射エリアを通過するのに同期させて書き換え済みシーケンスプログラム７４を実行する。この際、第一のステージ６１の移動速度の信号が定数としてメインシーケンスプログラム７２に与えられており、それにより同期が取られる。
第一のステージ６１が照射エリアを通過して露光が行われ、左待機位置に戻ったのが確認されると、メインシーケンスプログラム７２は、左待機位置の移載機構に基板Ｗのアンロードと次の基板Ｗのロードを行わせるよう制御信号を送る。

次に、メインシーケンスプログラム７２は、カメラ８を第二カメラ配置位置に位置させるようカメラ移動機構８０３に制御信号を送る。そして、右待機位置にある第二のステージ６２上に基板Ｗが既にロードされているのを確認した後、第二のステージ６２を第二撮影用移動距離の分だけ移動するよう搬送系６に制御信号を送る。そして、シーケンス書き換えプログラム７７を起動し、各カメラ８からの撮影データを処理して初期シーケンスプログラム７３を書き換え、書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成する。このシーケンス書き換えプログラム７７は、第一のステージ６１上の基板Ｗについて作成したシーケンス書き換えプログラム７７に上書きされる形で記憶部７１に記憶される。

メインシーケンスプログラム７２は、シーケンス書き換えプログラム７７が正常に終了したのを確認すると、第二のステージ６２をさらに前進させて照射エリアを通過させるよう搬送系６に制御信号を送る。そして、不図示のセンサで第二のステージ６２が照射エリアを通過させるタイミングを取得し、書き換え済みシーケンスプログラム７４を同期させて実行する。

第二のステージ６２が照射エリアを通過し、照射エリアの左側に設定された反転位置に達したのが確認されると、メインシーケンスプログラム７２は、反転位置から第二のステージ６２を後退させ、右側待機位置まで戻すよう搬送系６に制御信号を送る。この復路での移動の際、各露光ヘッド１には動作信号は送られず、露光は行われない。そして、右側待機位置に第二のステージ６２が戻ったのが確認されたら、メインシーケンスプログラム７２は、右側待機位置の移載機構に基板Ｗのアンロードと次の基板Ｗのロードとを行わせるよう制御信号を送る。
これで、第二のステージ６２上の各基板Ｗの露光処理は終了であり、メインシーケンスプログラム７２は、ロットの最後の基板Ｗまで上記ステップを繰り返すようプログラミングされている。

上記メインシーケンスプログラム７２の構成において重要なことは、第一のステージ６１が第一カメラ配置位置まで前進する際（往路）においては、メインシーケンスプログラム７２は各露光ヘッド１に動作信号を送らず、第一のステージ６１が反転位置で反転して戻る際（復路）において動作信号を送って露光を行わせる一方、第二のステージ６２が第二カメラ配置位置から前進して照射エリアを通過する際（往路）において各露光ヘッド１に動作信号を送って露光を行わせ、第二のステージ６２が反転位置から反転して戻る際（復路）においては各露光ヘッド１には動作信号を送らないことである。つまり、メインシーケンスプログラム７２は、第一のステージ６１についても第二のステージ６２についても、右から左に照射エリアを通過する際に露光が行われ、左から右に通過する際には露光が行われないようにプログラミングされている。

このため、メインシーケンスプログラム７２が実行する各空間光変調器３の各画素ミラー３１のシーケンスプログラムの（初期シーケンスプログラム７３）は一つであり、特許文献１のように二つの異なる「描画データ」を用意したり、「描画データ」を変更したりする必要はない。このため、メインコントローラ７に実装されるソフトウェアのボリュームは小さくて済む。

同一向きの移動の際の露光という点は、空間光変調器３を使用した露光の優位性であるデータ処理上のアライメントという観点においてさらに顕著な意義をもたらす。データ処理上のアライメントにおいては、上記の通り、アライメントマークの撮影データから基板Ｗの位置ずれを求め、そのずれに合わせて露光パターンの形成位置を変更する。この場合、元になるシーケンスプログラム（実施形態では初期シーケンスプログラム７３）が異なれば、書き換え用のプログラムもそれに合わせて異なるコードを実装しなければならず、書き換え用のプログラムも二種類必要になってしまう。このため、全体のソフトウェアのボリュームがさらに大きくなってしまうし、プログラムの入れ替え（記憶部７１からの読み込み）に要する時間も無視できないものとなる。

上記のように、実施形態の構成によれば、必要なソフトウェアのボリュームが小さくでき、ソフトウェアの取り扱いに要する時間も短くできる。このため、装置の構造がシンプルになり、全体の動作時間の短縮（生産性の向上）が実現できる。
露光装置の全体の動作の説明については、メインシーケンスプログラム７２の構成の説明と重複するので、省略する。また、露光装置の動作の説明は、露光方法の発明の実施形態に説明に相当するが、これについても重複を避けるため、省略する。尚、露光方法の発明は、露光された基板の製造方法という意味で、製造方法の発明に該当する。

尚、データ処理上のアライメントを行う際、カメラ８からの撮影データに従って最初からシーケンスプログラムを作成することも可能である。この場合、露光パターンデータ７５を撮影データに従って書き換えて露光パターンの拡縮を行ったり、シーケンス作成プログラム７６に対して露光パターンの形成位置の定数（ＸＹθ）を変更して与えたりして、書き換え済みシーケンスプログラム７４と同等のシーケンスプログラムがシーケンス作成プログラム７６により作成されるようにする。但し、この場合は、毎回の露光処理のたびに各空間光変調器３のシーケンスプログラムを最初から作り直すので、データ処理に要する時間が長くかかる欠点がある。シーケンス書き換えプログラム７７による場合には、このような欠点がなく、生産性が向上する。

次に、第二の実施形態の露光装置について説明する。
図７は、第二の実施形態の露光装置の正面概略図である。第二の実施形態では、第一のステージ６１上の基板Ｗ用のカメラ８１と第二のステージ６２上の基板Ｗ用のカメラ８２とが別々に設けられており、この点で第一の実施形態と相違している。
第二の実施形態においても、Ｘ方向に沿って互いに平行に延びる二本のガイドレール８０１が設けられている。各ガイドレール８０１には、二個ずつカメラ８１，８２が設けられており、各１個が第一のステージ６１上の基板Ｗ用であり、他の各１個が第二のステージ６２上の基板Ｗ用である。第一のステージ６１上の基板Ｗ用のカメラ８１を第一のカメラと呼び、第二のステージ６２上の基板Ｗ用のカメラ８２の第二のカメラと呼ぶ。

第一のカメラ８１が設けられた位置は、第一の実施形態における第一カメラ配置位置に相当しており、第二のカメラ８２が設けられた位置は、第一の実施形態における第二カメラ配置位置に相当している。各カメラ８１，８２には、同様に不図示のＹ方向調整が設けられており、基板Ｗのサイズの変更やアライメントマークの位置の変更に対応できるようになっている。

第二の実施形態の装置の構成及び動作は、第一のステージ６１上の基板Ｗのアライメントマークと第二のステージ６２上のアライメントマークとが別々のカメラ８１，８２で撮影される点を除き、第一の実施形態と同様である。メインシーケンスプログラム７２は、シーケンス書き換えプログラム７７を起動する際、どちらのステージ上の基板Ｗのアライメントであるかを特定する情報を引数として与える。シーケンス書き換えプログラム７７は、第一のステージ６１上の基板Ｗのアライメントであれば、第一のカメラ８１からの撮影データを取得してそれに基づいて書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成するし、第二のステージ６２上の基板Ｗのアライメントであれば、第二のカメラ８２からの撮影データを取得してそれに基づいて書き換え済みシーケンスプログラム７４を作成する。

第二の実施形態においても、初期シーケンスプログラム７３は１個で足り、それを修正するシーケンス書き換えプログラム７７も１個で足りる。このため、必要なソフトウェアのボリュームが小さくでき、ソフトウェアの取り扱いに要する時間も短くできる。このため、装置の構造がシンプルになり、全体の動作時間の短縮（生産性の向上）が実現できる。

尚、第二の実施形態では、第一のステージ６１上の基板Ｗ用と第二のステージ６２上の基板Ｗ用とで別々のカメラ８１，８２が設けられているので、第一の実施形態のようにカメラ８の移動のための時間は不要である。このため、全体のタクトタイムが短くなる。また、Ｘ方向に各カメラ８１，８２を移動させる機構も不要であるので、構造的によりシンプルになり、コストも安価となる。但し、カメラ８の台数が増えるので、その点では第一の実施形態に比べてコスト高となる。尚、各カメラ８１，８２のＸ方向位置も変更できるように移動機構を設ける場合もある。

上記各実施形態では、一枚の基板Ｗについてのアライメント用に二台のカメラ８，８１，８２を使用したが、アライメントマークが３個以上ある場合、それに応じてカメラの台数が増やされる。例えば、一枚の基板Ｗに４個のアライメントマークがある場合、四台のカメラ８を同時に使用して４個のアライメントマークを同時に撮影してアライメントが行われる。

また、一枚の基板Ｗのアライメントマークの数より少ない数のカメラが使用される場合もある。例えば、４個のアライメントマークについて二台のカメラが使用される場合もある。この場合は、第一の実施形態の構成において、左側の二個のアライメントマークを撮影した後、基板Ｗを動かさずに二台のカメラを右側に移動させて右側の二個のアライメントマークを撮影してアライメントを行うような動作例もあり得る。また、一台のカメラを順次４箇所に移動してアライメントを行う場合もあり得る。いずれの場合も、移動後のカメラの配置位置（撮影位置）は予め基準位置として定められており、その位置に位置したカメラの視野の範囲内にアライメントマークが無ければ（アライメントマークが撮影できなければ）、エラーとされる。

尚、第一の実施形態において、第一カメラ配置位置と第二カメラ配置位置を同じ位置とすることも可能である。例えば、第二カメラ配置位置で第一のステージ６１上の基板Ｗの各アライメントマークを撮影しても良い。但し、第一のステージ６１にとっての撮影用移動距離が長くなるので、その点でタクトタイムが長くなる欠点がある。

また、各実施形態において、各アライメントマークの撮影はステージ６１，６２が停止した状態で行われるように説明したが、ステージ６１，６２を移動させつつ各アライメントマークを撮影することもあり得る。この場合は、各カメラからは動画が撮影データとして送られるので、各アライメントマークが同時に撮影されているタイミングの画像（静止画）を抽出し、同様に画像処理して各マーク中心を取得する。この場合、撮影のためにステージ６１，６２の速度を一時的に低下させることもあり得る。

上述したように、各実施形態の露光装置及び露光方法では、照射エリアを挟んで左右にステージ６１，６２を配置しつつも、各ステージ６１，６２上の基板Ｗが露光される際には、照射エリアを通過する際の移動の向きは常に同じ向きとされる。この場合の「同じ向き」とは、各ステージ６１，６２上の基板Ｗについて同じ露光パターンを形成する場合において「同じ向き」ということであり、同じ露光パターンを形成するのに逆向きの移動はさせないということである。

異なる露光パターンを形成する場合は、異なる向きで移動させながらの露光というのがあり得る。即ち、第一のステージ６１上の基板ＷにはパターンＡの露光をし、第二のステージ６２上の基板ＷにはパターンＢの露光をする場合、逆向きに移動させての露光があり得る。そのような場合は、元々露光パターンデータが異なるので、初期シーケンスプログラムも二つ必要になるので、同じ向きにする意味がないからである。

また、一枚の基板Ｗについて往路と復路とで異なる露光パターンを形成すべく露光を行う場合があるが、この場合、第一のステージ６１上の基板Ｗの往路での露光パターンと第二のステージ６２上の基板Ｗの復路での露光パターンとが同じであり、第一のステージ６１上の基板Ｗの復路での露光パターンと第二のステージ６２上の基板Ｗの往路での露光パターンとが同じとされる場合があり得る。この場合も、同じ露光パターンの形成を行う限りにおいては各ステージ６１，６２は同じ向きに移動することになり、上記各実施形態と同様である。

各実施形態において、データ処理上のアライメントは、ＸＹθの各方向における基板Ｗの位置ずれに応じた調整に加えて、形成する露光パターンの拡縮も行うものであった。この点は、例えば前工程の熱処理で基板Ｗが不可逆的に多少熱膨張しているケース等を想定している。このような熱膨張が生じると、二つのアライメントマークの離間距離は、基板Ｗの熱膨張に比例する。そのような多少の熱膨張があっても製品としては問題がなく、且つ形成する微細パターンも基板Ｗの膨張に応じて拡大する必要がある場合がある。このため、前述したように、二つのアライメントマークを検出して離間距離を求め、基準となる距離に対する倍率を算出してその倍率で露光パターンを拡縮する。アライメントマークが３箇所設けられている場合、基板Ｗの変形を検出することもできるので、その変形に合わせて露光パターンを変形する場合もあり得る。

本願発明において、「アライメントマーク」は広義に解釈される必要があり、必ずしも「マーク」と呼べるものには限られない。スルーホールのような場合もあるし、基板Ｗの周縁に形成されたノッチのような特異点や方形の基板Ｗの角のような特異点をアライメントマークとして撮影することもあり得る。

上述した各実施形態の露光装置及び露光方法は、基板上の位置に所望のパターンを形成する各種の用途に使用できる。データ処理上のアライメントにより所定の位置に露光パターンを形成しつつ、品種に応じて適宜露光パターンを変更して形成することができるので、多品種少量生産が必要な高性能の製品の製造に適している。具体的には、スマートフォーン等の各種電子製品に搭載されるプリント基板の製造や、各種ディスプレイの製造に必要な表示基板の製造に好適に採用することができる。

尚、上記各実施形態は、露光装置は複数の露光ヘッド１を備えていたが、１個のみの露光ヘッド１でも実施可能である。大型の露光ヘッドを使用する場合や、形成する露光パターンのサイズが小さい場合、１個のみでも足りる場合があり得る。
また、上記各実施形態では、空間光変調器３はＤＭＤであったが、液晶ディスプレイのような透過型の空間光変調器が使用されることもあり得る。

１ 露光ヘッド
２ 光源
３ 空間光変調器
３１ 画素ミラー
３２ 変調器コントローラ
６ 搬送系
６１ 第一のステージ
６２ 第二のステージ
７ メインコントローラ
７１ 記憶部
７２ メインシーケンスプログラム
７３ 初期シーケンスプログラム
７４ 書き換え済みシーケンスプログラム
７５ 露光パターンデータ
７６ シーケンス作成プログラム
７７ シーケンス書き換えプログラム
８ カメラ
８１ カメラ
８２ カメラ
Ｗ 基板

Claims (6)

1. 所定のシーケンスに従って光を空間的に変調することで照射エリアに露光パターンを形成する空間光変調器を備えた露光ヘッドと、
   露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ両側の待機位置で待機する一対のステージと、
   一方の側の待機位置で基板が載置された第一のステージを照射エリアを通して往復搬送するとともに、他方の側の待機位置で基板が載置された第二のステージを照射エリアを通して往復搬送する搬送系と、
   露光ヘッド内の空間光変調器を制御するコントローラと、
   各ステージ上の基板が照射エリアで露光される前に当該基板のアライメントマークを撮影するカメラと、
   カメラからの撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにする修正手段と
   を備えており、
   コントローラは、同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一のステージ上の基板の撮影データに従って修正されたシーケンスで第一のステージの復路移動の際に第一のステージ上の基板を露光し往路移動の際には露光しないようにするとともに、第二のステージ上の基板の撮影データに従って修正されたシーケンスで第二のステージの往路移動の際に第二のステージ上の基板を露光し復路移動の際には露光しないように空間光変調器を制御するものであり、
   カメラが第一のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置は照射エリアの他方の側の位置であり、カメラが第二のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置も照射エリアの他方の側の位置であることを特徴とする露光装置。
2. 前記カメラは、前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影と第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影に兼用されるものであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第一カメラ配置位置と前記第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第二カメラ配置とは異なる位置であり、
   第一カメラ配置位置と第二カメラ配置位置との間で前記カメラを移動させるカメラ移動機構が設けられていることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
4. 前記第一のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第一カメラ配置位置と前記第二のステージ上の基板のアライメントマークの撮影位置である第二カメラ配置とは異なる位置であり、
   第一カメラ配置位置と第二カメラ配置位置にそれぞれカメラが配置されていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
5. 前記修正手段は、前記基板において形成する部材の形状に応じた露光パターンデータに従って初期的に作成されたシーケンスプログラムである初期シーケンスプログラムを、前記撮影データに従って書き換えるシーケンス書き換えプログラムを備えていることを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の露光装置。
6. 所定のシーケンスに従って光を空間的に変調することで照射エリアに露光パターンを形成する空間光変調器を備えた露光ヘッドにより基板を露光する露光方法であって、
   露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ一方の側の待機位置で待機する第一のステージに基板を載置するステップと、
   露光ヘッドからの光の照射エリアを挟んだ他方の側の待機位置で待機する第二のステージに基板を載置するステップと、
   第一のステージに載置された基板のアライメントマークをカメラで撮影する第一の撮影ステップと、
   第二のステージに載置された基板のアライメントマークをカメラで撮影する第二の撮影ステップと、
   第一の撮影ステップで得られた撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにしながら第一のステージ上の基板が照射エリアを通過するように第一のステージを移動させることで第一のステージ上の基板を露光する第一の露光ステップと、
   第二の撮影ステップで得られた撮影データに従いシーケンスを修正し、修正されたシーケンスで空間光変調器が制御されるようにしながら第二のステージ上の基板が照射エリアを通過するように第二のステージを移動させることで第二のステージ上の基板を露光する第二の露光ステップと
   を有しており、
   同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一の露光ステップにおける第一のステージの移動の向きと、第二の露光ステップにおける第二のステージの移動の向きとは同じ向きであり、
   同一の露光パターンを第一のステージ上の基板と第二のステージ上の基板とに形成するに際して、第一のステージの移動の向きと第二のステージの移動の向きとが異なる向きである状態で基板を露光するステップを有しておらず、
   第一の撮影ステップにおいてカメラが第一のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置は照射エリアの他方の側の位置であり、第二の撮影ステップにおいてカメラが第二のステージ上の基板のアライメントマークを撮影する位置も照射エリアの他方の側の位置であることを特徴とする露光方法。

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