JP6917006B2 - Manufacturing method of vapor chamber, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber - Google Patents
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Description
本発明は、作動液が密封された密封空間を有するベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法に関する。 The present invention relates to a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, a metal sheet for the vapor chamber, and a method for producing the vapor chamber.
携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイスの冷却のために、ベーパーチャンバ(ヒートパイプとも言う)が使用されている(例えば、特許文献1乃至4参照)。ベーパーチャンバ内には、作動液が封入されており、この作動液がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。 A vapor chamber (also referred to as a heat pipe) is used for cooling a device that generates heat, such as a central processing unit (CPU) used in a mobile terminal such as a mobile terminal or a tablet terminal (for example, a patent document). 1 to 4). A hydraulic fluid is sealed in the vapor chamber, and the hydraulic fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside to cool the device.
より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して蒸気になり、その後蒸気が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液状になる。液状になった作動液は、ベーパーチャンバ内の流路を通過して蒸発部に輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、熱輸送効率を高めている。 More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device at a portion close to the device (evaporation part) and evaporates to vapor, and then the vapor moves to a position away from the evaporation part. It cools and condenses into a liquid. The liquefied working liquid passes through the flow path in the vapor chamber, is transported to the evaporation section, and receives heat again in the evaporation section to evaporate. In this way, the working fluid transfers heat of the device by refluxing in the vapor chamber while repeating phase change, that is, evaporation and condensation, and enhances heat transport efficiency.
ところで、ベーパーチャンバにおいては、デバイスが取り付けられる面とは反対側の面は、放熱面として構成されている。すなわち、ベーパーチャンバを構成する金属シートがデバイスから受け取る熱は、この放熱面から外部に放出される。このため、放熱面から熱を放出する際に熱抵抗が存在すると、効率良く熱輸送を行うことが困難になり得る。 By the way, in the vapor chamber, the surface opposite to the surface on which the device is mounted is configured as a heat radiating surface. That is, the heat received from the device by the metal sheet constituting the vapor chamber is released to the outside from the heat radiating surface. Therefore, if there is a thermal resistance when heat is released from the heat radiating surface, it may be difficult to efficiently transport the heat.
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、熱輸送効率を向上させることができるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such a point, and an object of the present invention is to provide a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for producing a vapor chamber, which can improve heat transport efficiency.
本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ、
を提供する。
The present invention
A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The space demarcation surface that defines the sealed space and
The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
A vapor chamber, comprising a roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
I will provide a.
なお、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、前記受熱面の少なくとも一部にも設けられている、ようにしてもよい。 In the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be provided on at least a part of the heat receiving surface.
また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be roughened by the grain interface of the crystal of the material.
また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、複数の電着物によって粗面化されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be roughened by a plurality of electrodeposits.
また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面を更に備え、前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、ようにしてもよい。 Further, in the vapor chamber described above, an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface may be further provided, and the roughened portion may also be provided on the outer peripheral surface.
また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記受熱面を有する第1金属シートと、前記第1金属シート上に設けられ、前記放熱面を有する第2金属シートと、を更に備え、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間が形成されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the first metal sheet having the heat receiving surface and the second metal sheet provided on the first metal sheet and having the heat radiating surface are further provided with the first metal sheet. The sealed space may be formed between the second metal sheet and the second metal sheet.
また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記密封空間の少なくとも一部が形成された第1面と、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、
前記第2面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ用金属シート、
を提供する。
In addition, the present invention
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The first surface on which at least a part of the sealed space is formed, and
The space demarcation surface that defines the sealed space and
A second surface provided on the side opposite to the first surface,
A metal sheet for a vapor chamber, comprising a roughened portion provided on at least a part of the second surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
I will provide a.
また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、
粗面化部を形成する粗面化工程と、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成される、ベーパーチャンバの製造方法、
を提供する。
In addition, the present invention
A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
The roughening process for forming the roughened portion and
A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface in the step of forming the roughened portion.
I will provide a.
なお、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程は、前記画定面形成工程と前記接合工程との間に行われる、ようにしてもよい。 In the method for manufacturing a vapor chamber described above, the roughening step may be performed between the defining surface forming step and the joining step.
また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程は、前記封入工程の後に行われる、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned method for manufacturing a vapor chamber, the roughening step may be performed after the encapsulation step.
また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記粗面化部は、ハーフエッチングによって形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, the roughened portion may be formed by half etching.
また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記放熱面に、パターン状のレジスト膜が形成され、その後、前記レジスト膜のレジスト開口から前記放熱面をハーフエッチングして前記粗面化部が形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, a patterned resist film is formed on the heat radiating surface, and then the heat radiating surface is half-etched from the resist opening of the resist film. A roughened portion may be formed.
また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記画定面形成工程において、前記空間画定面はハーフエッチングによって形成され、前記粗面化工程において用いられるエッチング液は、前記画定面形成工程において用いられるエッチング液よりも浸食効果が小さい、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the defining surface forming step, the space defining surface is formed by half etching, and the etching solution used in the roughening step is the etching used in the defining surface forming step. The erosion effect may be smaller than that of the liquid.
また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記粗面化部は、電気めっきによって形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, the roughened portion may be formed by electroplating.
本発明によれば、熱輸送効率を向上させることができる。 According to the present invention, the heat transport efficiency can be improved.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, the scale, the aspect ratio, etc. are appropriately changed from those of the actual product and exaggerated for the convenience of illustration and comprehension.
(第1の実施の形態)
図1乃至図17を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。ここで、本実施の形態におけるベーパーチャンバ1は、作動液2が封入された密封空間3を有しており、密封空間3内の作動液2が相変化を繰り返すことにより、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイス(被冷却装置)を冷却するための装置である。ベーパーチャンバ1は、概略的に薄い平板状に形成されている。
(First Embodiment)
A method for manufacturing a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a vapor chamber according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 17. Here, the
図1乃至図4に示すように、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、下側金属シート10(第1金属シート)と、下側金属シート10上に設けられた上側金属シート20(第2金属シート)と、を備えている。このうち、下側金属シート10の下面(後述する受熱面10b、とりわけ、後述する蒸発部11の下面)に、冷却対象物であるデバイスDが取り付けられる。
As shown in FIGS. 1 to 4, the
ベーパーチャンバ1は、密封空間3を画定する空間画定面3aと、デバイスDから熱を受ける受熱面10bと、密封空間3に対して受熱面10bの側とは反対側に設けられた放熱面20bと、粗面化部30と、を備えている。このうち、受熱面10bは、上述した下側金属シート10の下面に相当し、放熱面20bは、上述した上側金属シート20の上面に相当する。また、ベーパーチャンバ1は、放熱面20bから受熱面10bに延びる周縁外側面5を更に備えている。この周縁外側面5は、下側金属シート10の外側面10c(後述)と、上側金属シート20の外側面20c(後述)と、によって構成されている。
The
下側金属シート10と上側金属シート20との間には、作動液2が封入された密封空間3が形成されている。作動液2の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。
A sealing
下側金属シート10と上側金属シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。図1に示す形態では、下側金属シート10および上側金属シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイスDから熱を受ける受熱面10b、および受けた熱を放出する放熱面20bに直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図1参照)、または下方から見た状態に相当している。
The
なお、ベーパーチャンバ1がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート10と上側金属シート20との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、デバイスDから熱を受ける液相側の金属シートを下側金属シート10と称し、受けた熱を放出する気相側の金属シートを上側金属シート20と称して、下側金属シート10が下側に配置され、上側金属シート20が上側に配置された状態で説明する。
When the
図1乃至図4に示すように、下側金属シート10は、上面10a(第1面、上側金属シート20の側の面)と、上面10aとは反対側に設けられた受熱面10b(第2面)と、外側面10cと、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10aに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側流路凹部12と、を有している。このうち下側流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2(図2乃至図4参照)を蒸発部11に輸送するように構成されている。この蒸発部11は、下側金属シート10の受熱面10bに取り付けられるデバイスDから熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、デバイスDに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスDに重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側金属シート10の任意の場所に設けることができるが、図1においては、下側金属シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢が、ベーパーチャンバ1の動作の安定化に影響を及ぼすことを抑制できる。
As shown in FIGS. 1 to 4, the
本実施の形態では、図1乃至図4に示すように、下側金属シート10の下側流路凹部12内に、下側流路凹部12の底面12a(後述)から上方(底面12aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路突出部13が設けられている。本実施の形態では、下側流路突出部13は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、上面13aと側面13bとを含んでいる。また、各下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図1における左右方向)に沿って、等間隔に離間して配置されている。また、下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の横断方向(長手方向に直交する横方向、図1における上下方向)にも沿って配置されている。このようにして配置された下側流路突出部13の周囲には、下側流路凹部12の底面12aが形成されている。このようにして、下側流路突出部13の周囲を作動液2が流れるように構成されており、作動液2の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路突出部13は、上側金属シート20の対応する上側流路突出部22(後述)に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、底面12aおよび下側流路突出部13の側面13bは、上述した密封空間3の空間画定面3aを構成している。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 to 4, inside the lower
図2乃至図4に示すように、下側流路凹部12には、ウィックWが設けられている。ここで、ウィックとは、例えば銅線を不定形状に圧接した金属メッシュや、多孔質焼結体により形成され、毛細管作用を発揮する部材である。このウィックWは、毛細管作用を発揮することにより、下側流路凹部12内の作動液2に、蒸発部11に向かう推進力を与えることができるように構成されている。このようにして、蒸気から凝縮した下側流路凹部12内の作動液2が、蒸発部11に向かってスムースに輸送されるようになっている。なお、図2乃至図4に示すように、ウィックWは、下側流路凹部12の底面12aの全領域に設けられていてもよい。底面12aのうち蒸発部11に設けられたウィックWは、液状の作動液2とデバイスDから受けた熱との熱交換面積を増大させ、熱効率向上をさせることに寄与し得る。一方、底面12aのうち蒸発部11の周囲に設けられたウィックWは、液状の作動液2を、蒸発部11に効果的に輸送することに寄与し得る。なお、ウィックWは、下側流路凹部12のうち下側流路突出部13の間の領域に嵌められるように取り付けられており、ベーパーチャンバ1の姿勢によってウィックWが移動することを防止している。また、ウィックWの高さは、蒸発部11における熱交換面積を増大させることや、毛細管作用によって蒸発部11に向かう作動液2の流量を確保することができれば任意とすることができる。
As shown in FIGS. 2 to 4, a wick W is provided in the lower
図1乃至図4に示すように、下側金属シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。下側周縁壁14は、後述する上側周縁壁23の下面23aに当接する上面14aを有している。また、図1に示すように、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。
As shown in FIGS. 1 to 4, a lower
本実施の形態では、上側金属シート20は、粗面化部30が形成されていることを除いては、下側金属シート10と同一の構造を有している。すなわち、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、粗面化部30を除くと、下側金属シート10を上下反転させると上側金属シート20になるように構成されている。このため、下側金属シート10と上側金属シート20とを接合した後に粗面化部30を形成する場合には、下側金属シート10と同一構造の金属シートを2枚作製して、一方を上下反転させて互いに接合させることもできる。以下に、上側金属シート20の構成についてより詳細に説明する。
In the present embodiment, the
図1乃至図4に示すように、上側金属シート20は、下面20a(第1面、下側金属シート10の側の面)と、下面20aとは反対側に設けられた放熱面20b(第2面)と、外側面20cと、下面20aに設けられた上側流路凹部21と、を有している。この上側流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気を拡散して冷却するように構成されている。より具体的には、上側流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。
As shown in FIGS. 1 to 4, the
本実施の形態では、図1に示すように、上側金属シート20の上側流路凹部21内に、上側流路凹部21の天井面21a(上側金属シート20を上下反転させた場合には上側流路凹部21の底面に相当する)から下方(天井面21aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路突出部22が設けられている。本実施の形態では、上側流路突出部22は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、下面22aと側面22bとを含んでいる。また、各上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の長手方向に沿って、等間隔に離間して配置されている。また、上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の横断方向にも沿って配置されている。このようにして配置された上側流路突出部22の周囲には、上側流路凹部21の天井面21a(下側流路凹部12の底面12aに相当する面)が形成されている。このようにして、上側流路突出部22の周囲を作動液2の蒸気が流れるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、上側流路突出部22は、下側金属シート10の対応する下側流路突出部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、天井面21aおよび上側流路突出部22の側面22bは、上述した密封空間3の空間画定面3aを構成している。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the ceiling surface 21a of the upper flow path recess 21 (upper flow when the
図1乃至図4に示すように、上側金属シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。上側周縁壁23は、下側周縁壁14の上面14aに当接する下面23aを有している。また、図1に示すように、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めが可能に構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 4, an upper
このような下側金属シート10と上側金属シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図2乃至図4に示すように、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが当接し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート10と上側金属シート20との間に、作動液2を密封した密封空間3が形成されている。また、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが当接し、各下側流路突出部13と対応する上側流路突出部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。とりわけ、本実施の形態による下側流路突出部13および上側流路突出部22は等間隔に配置されているため、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等化させることができる。なお下側金属シート10と上側金属シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。
Such a
また、図1および図3に示すように、ベーパーチャンバ1は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液2を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、下側金属シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側金属シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側流路凹部12に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側流路凹部21に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側金属シート10と上側金属シート20とが接合された際、作動液2の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液2は密封空間3に注入される。なお、本実施の形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはない。
Further, as shown in FIGS. 1 and 3, the
次に、本実施の形態による粗面化部30について、より詳細に説明する。本実施の形態では、ハーフエッチングにより粗面化部30が形成される例について説明する。
Next, the roughened
粗面化部30は、密封空間3の空間画定面3a(すなわち、下側流路凹部12の底面12a、下側流路突出部13の側面13b、上側流路凹部21の天井面21a、および上側流路突出部22の側面22b)の表面粗さよりも大きい表面粗さを有している。本実施の形態では、図2乃至図4に示すように、この粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。
The roughened
粗面化部30の表面粗さは、JIS B0601−2001で規定されている算術平均粗さで表わしたとき、Raが0.1μm〜5.0μmであることが好適であるが、なお、粗面化部30の表面粗さは、0.1μm未満であってもよく、または5.0μmを越えていてもよい。一方、密封空間3の空間画定面3aは、後述するようにエッチングで形成されており、Raが0.01μm〜0.07μmの表面粗さを有している。このため、粗面化部30の表面粗さを上述した数値範囲内に収めることにより、粗面化部30の表面粗さを、空間画定面3aの表面粗さより大きくすることができる。なお、Raの測定には、例えば、光波干渉式表面粗さ計(ZYGO社製、New view 5032)、レーザマイクロスコープ(キーエンス社製、VK−9500)などを用いることが好適である。
The surface roughness of the roughened
本実施の形態では、図2乃至図4に示すように、粗面化部30は、離間配置された複数の粗面化凸部31と、互いに隣り合う粗面化凸部31の間に設けられた粗面化凹部32と、を有している。このうち粗面化凹部32が後述するハーフエッチングによって形成されている。粗面化凸部31と粗面化凹部32とが、微細に形成されることにより、粗面化部30が、所望の表面粗さを有するようになっている。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 to 4, the roughened
粗面化凸部31の形状および配置は、上側金属シート20の放熱面20bの表面粗さを、所望の表面粗さにすることができれば、任意である。例えば、図5(a)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で円形状に形成され、格子状に配列されていてもよい。この場合、粗面化凸部31の平面視における直径を、10μm〜2000μm、粗面化凸部31の配列ピッチを、20μm〜4000μm、粗面化凸部31の高さを0.2μm〜10μmとすることにより、粗面化部30の表面粗さを上述した数値範囲に収めることができる。粗面化凸部31の直径や配列ピッチは、任意の値を設定することができる。なお、所望の表面粗さに応じて、粗面化凸部31の高さの数値は、上述した数値範囲外の数値を採用してもよい。あるいは、図5(b)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で矩形状に形成されて、格子状に配列されていてもよい。また、図5(c)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で円形状に形成され、千鳥状に配列されていてもよく、さらには図5(d)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で六角形状に形成され、千鳥状(またはハニカム状)に配列されていてもよい。
The shape and arrangement of the roughened
粗面化凹部32の横断面形状は、放熱面20bの表面粗さを、所望の表面粗さにすることができれば、任意である。例えば、図6(a)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、矩形状に形成されていてもよい。あるいは、図6(b)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、半円状に形成されていてもよく、図6(c)に示すように、三角形状若しくはV字状に形成されていてもよい。また、粗面化凹部32の横断面は、逆テーパ状に形成されていてもよい。例えば、図6(d)では、粗面化凹部32が、凹部開口部33と、凹部開口部33よりも粗面化凹部32の底側(図6(d)における下側)に設けられた大幅部34と、を有している。凹部開口部33は、粗面化凹部32のうち放熱面20bに相当する位置における開口である。大幅部34は、凹部開口部33よりも図6(d)における底側(下側)に配置されている。凹部開口部33の幅をw1、大幅部34の幅をw2としたときに、w1<w2になっている。このような図6(d)に示す粗面化凹部32の横断面は、円弧状(C字状、タコつぼ形状)に形成されている。逆テーパ形状の他の例として、図6(e)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、台形状に形成されていてもよい。なお、このような粗面化凹部32の横断面形状は、スプレーエッチング方式を採用する場合に、エッチング液のスプレー圧を制御したり、後述する第2レジスト膜40のパターン形状を変えたりすることにより、得ることができる。図6(d)や図6(e)に示すように逆テーパ状に形成する場合には、粗面化凹部32の横断面視において、粗面化凹部32の周囲長さを長くすることができ、表面積を増大させることができる。
The cross-sectional shape of the roughened
ところで、下側金属シート10および上側金属シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10および上側金属シート20は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を高めることができる。また、ベーパーチャンバ1の厚さT0は、0.1mm〜1.0mmである。図4では、下側金属シート10の厚さT1および上側金属シート20の厚さT2が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側金属シート10の厚さT1と上側金属シート20の厚さT2は、等しくなくてもよい。
By the way, the material used for the
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図7乃至図16を用いて説明するが、下側金属シート10のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図7乃至図9および図14乃至図16では、図4の横断面と同様の横断面を示している。
Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, first, the manufacturing method of the
まず、上側金属シート20の準備工程として、図7に示すように、平板状の金属材料シートMを準備する。
First, as a preparation step of the
続いて、上側金属シート20の画定面形成工程(第1ハーフエッチング工程)として、図8に示すように、金属材料シートMがハーフエッチングされて、密封空間3の空間画定面3aが形成される。このようにして、密封空間3の一部を構成する上側流路凹部21を有する上側金属シート20が形成される。
Subsequently, as a defining surface forming step (first half etching step) of the
画定面形成工程においては、まず、金属材料シートMの下面Maに図示しない第1レジスト膜が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の上側流路突出部22および上側周縁壁23に対応するパターン状に形成される。続いて、第1ハーフエッチング工程として、金属材料シートMの下面Maがハーフエッチングされる。このことにより、金属材料シートMの下面Maのうち第1レジスト膜の開口(図示せず)に対応する部分がハーフエッチングされて密封空間3の空間画定面3aが形成され、図8に示すような上側流路凹部21、上側流路突出部22および上側周縁壁23が形成される。この際、図1および図3に示す上側注入流路凹部26も同時に形成され、また、金属材料シートMが下面Maおよび上面からエッチングされて、外側面20cが形成されて、所定の外形輪郭形状が得られる。第1ハーフエッチング工程の後、第1レジスト膜が除去される。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、上側金属シート20の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。
In the defining surface forming step, first, a first resist film (not shown) is formed on the lower surface Ma of the metal material sheet M in a pattern corresponding to the plurality of upper flow path protrusions 22 and the upper
画定面形成工程の後、粗面化工程として、図9に示すように、上側金属シート20の放熱面20bに、粗面化部30が形成される。ここでは、ハーフエッチングにより粗面化部30が形成される。
After the defining surface forming step, as a roughening step, as shown in FIG. 9, a roughened
粗面化工程においては、まず、図10に示すように、上側金属シート20の放熱面20bに、第2レジスト膜40が形成される。この際、第2レジスト膜40は、上側金属シート20の下面20aを含む全面に形成される。第2レジスト膜40には、電界によって付着可能な電着レジスト材料を好適に使用することができるが、液状のレジスト材料など他の材料を用いてもよい。
In the roughening step, first, as shown in FIG. 10, a second resist
続いて、図11に示すように、第2レジスト膜40がパターン化される。すなわち、第2レジスト膜40が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の粗面化凹部32に対応するパターン状に形成され、レジスト開口41が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 11, the second resist
続いて、図12に示すように、第2ハーフエッチング工程として、上側金属シート20の放熱面20bがハーフエッチングされる。すなわち、第2レジスト膜40のレジスト開口41から放熱面20bがハーフエッチングされて、粗面化部30が形成される。このことにより、放熱面20bのうち第2レジスト膜40のレジスト開口41に対応する部分がハーフエッチングされて、放熱面20bに粗面化凹部32が形成される。粗面化凹部32に隣接したハーフエッチングされない部分が、粗面化凸部31になる。第2ハーフエッチング工程で用いるエッチング液は、特に限られることはないが、第1ハーフエッチング工程で用いるエッチング液と同一であってもよい。
Subsequently, as shown in FIG. 12, the
その後、図13に示すように、第2レジスト膜40が除去される。このようにして、図9に示すような粗面化部30が形成された上側金属シート20が得られる。
After that, as shown in FIG. 13, the second resist
一方、上側金属シート20と同様にして、下側金属シート10用の金属材料シート(図示せず)が上面からハーフエッチングされて、下側流路凹部12、下側流路突出部13および下側周縁壁14が形成される。そして、下側流路凹部12の下側流路突出部13の間にウィックWが挿入されて嵌められる。このようにして、上述した下側金属シート10が得られる。
On the other hand, similarly to the
次に、仮止工程として、図14に示すように、下側流路凹部12を有する下側金属シート10と、上側流路凹部21を有する上側金属シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側金属シート10の下側アライメント孔15(図1参照)と上側金属シート20の上側アライメント孔24(図1参照)とを利用して、下側金属シート10と上側金属シート20とが位置決めされる。続いて、下側金属シート10と上側金属シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10と上側金属シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート10と上側金属シート20とを固定してもよい。この場合、図14に示すように、電極棒42を用いてスポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。このようにして、下側金属シート10と上側金属シート20とが、位置決めされた状態で固定される。
Next, as a temporary fixing step, as shown in FIG. 14, the
仮止工程の後、接合工程として、図15に示すように、下側金属シート10と上側金属シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側金属シート10と上側金属シート20とを密着させ、減圧雰囲気中で、各金属シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート10および上側金属シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート10、20が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側金属シート10と上側金属シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側注入流路凹部17(図1および図3参照)と上側注入流路凹部26(図1および図3参照)とによって、密封空間3に連通する作動液2の注入流路が形成される。さらに、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。
After the temporary fixing step, as a joining step, as shown in FIG. 15, the
接合工程の後、封入工程として、図16に示すように、注入部4(図1および図3参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。
After the joining step, as a sealing step, the working
作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止することが好適である。このことにより、密封空間3と外気との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。
After injecting the working
以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が得られる。
As described above, the
上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、モバイル端末等のハウジング内に設置されるとともに、下側金属シート10の受熱面10bに、被冷却対象物であるCPU等のデバイスDが取り付けられる。この場合、上側金属シート20の放熱面20bは、他の部材に接することなく、ハウジング内に収容される。放熱面20bの周囲は、ハウジング内の空気に覆われる。なお、放熱面20bには、他の電子回路部品との接触を避けるための絶縁シートが貼り付けられる場合がある。
The
次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイスDの冷却方法について説明する。
Next, a method of operating the
下側金属シート10が鉛直下方に配置され、上側金属シート20が鉛直上方に配置される場合には、密封空間3に封入された作動液2の多くは、重力の影響を受けて、下側金属シート10の下側流路凹部12に滞留する。
When the
この状態でデバイスDが発熱すると、下側流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイスDから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、作動液2の蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3内を上昇して上側流路凹部21内に拡散する。生成された蒸気の一部は、下側金属シート10の下側流路凹部12内でも拡散する。上側流路凹部21内および下側流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される(図3の実線矢印参照)。拡散した蒸気は、ベーパーチャンバ1の下側金属シート10および上側金属シート20に放熱して冷却される。
When the device D generates heat in this state, the working
下側金属シート10および上側金属シート20が蒸気から受けた熱は、上側金属シート20の放熱面20bから周囲の空気に伝達されて放出される。この際、放熱面20bには、密封空間3を画定する空間画定面3aの表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部30(粗面化凸部31および粗面化凹部32)が形成されている。このことにより、粗面化部30において、放熱面20bと周囲の空気との接触面積が大きくなっており、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗が低減されている。このことにより、放熱面20bからは効率良く熱が放出される。言い換えると、下側金属シート10および上側金属シート20は、周囲の空気によって効率良く冷却され、これにより、密封空間3の下側流路凹部12内および上側流路凹部21内の作動液2の蒸気を効率良く冷却することができる。このため、密封空間3内の蒸気の凝縮速度を高めることができ、作動液2の相変化を促進することができる。
The heat received from the steam by the
蒸気は、下側金属シート10および上側金属シート20に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮する。上側流路凹部21内において液状になった作動液2は、上側流路凹部21内を下降して、下側流路凹部12に達する。蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、下側流路凹部12のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって輸送される(図3の破線矢印参照)。この際、下側流路凹部12には、毛細管作用を発揮することができるウィックWが設けられている。このため、ウィックWの毛細管作用により、作動液2は、蒸発部11に向かう推進力を得て、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。
By radiating heat to the
蒸発部11に達した作動液2は、デバイスDから再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイスDの熱を移動させて放出する。この結果、デバイスDが冷却される。
The working
このように本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bに粗面化部30が設けられ、粗面化部30が、密封空間3を画定する空間画定面3aの表面粗さよりも大きい表面粗さを有している。このことにより、粗面化部30において、放熱面20bと、放熱面20bの周囲の空気との接触面積を大きくすることができ、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気を効率良く冷却して凝縮させることができる。この結果、熱輸送効率を向上させることができる。
As described above, according to the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態によれば、粗面化部30が、複数の粗面化凸部31と、互いに隣り合う粗面化凸部31の間に設けられた粗面化凹部32と、を有している。このことにより、粗面化凸部31の平面サイズ(平面視における直径)、配列ピッチ、ハーフエッチング深さ(高さ)を任意に設計することができる。このため、粗面化部30に所望の接触面積を持たせることができ、粗面化部30の熱抵抗を制御することができる。
Further, according to the present embodiment, the roughened
なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることなく、粗面化部30は、放熱面20bの一部に形成されるようにしてもよい。この場合においても、この粗面化部30において、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。
In the present embodiment described above, an example in which the roughened
また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bに設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図17に示すように、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの少なくとも一部にも設けられていてよい。図17は、粗面化部30が、受熱面10bの全体に設けられている例を示している。なお、受熱面10bへの粗面化部30の形成は、上側金属シート20の放熱面20bに粗面化部30を形成する方法と同様の方法により形成することができる。
Further, in the above-described embodiment, the example in which the roughened
粗面化部30が、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられている場合には、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。とりわけ、受熱面10bとデバイスDとの間に、軟質性の熱伝導シート(図示せず)が介在されている場合には、熱伝導シートが、粗面化部30の粗面化凹部32内に入り込むことができるため、受熱面10bと熱伝導シートとの接触面積を大きくすることができる。このことにより、受熱面10bとデバイスDとの間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。熱伝導シートの代わりに、熱を容易に伝導させるためのグリース等の半固体状部材が、受熱面10bとデバイスDとの間に介在されるようにしてもよい。
When the roughened
粗面化部30が、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられている場合には、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができ、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させ、熱輸送効率を向上させることができる。
When the roughened
また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が設けられた放熱面20bが、他の部材に接することなく、空気に覆われている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、放熱面20bに、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材(図示せず)が配置されるようにしてもよい。この場合、放熱面20bとハウジング部材との間に、軟質性の熱伝導シート(図示せず)が介在されていることが好適である。このような熱伝導シートは、粗面化部30の粗面化凹部32内に入り込むことができるため、放熱面20bと熱伝導シートとの接触面積を大きくすることができる。このことにより、放熱面20bと熱伝導シートとの間の熱抵抗、すなわち放熱面20bとハウジング部材との間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。熱伝導シートの代わりに、熱を容易に伝導させるためのグリース等の半固体状部材が、放熱面20bとハウジング部材との間に介在されるようにしてもよい。
Further, in the above-described embodiment, an example has been described in which the
また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30を形成する粗面化工程が、密封空間3の空間画定面3aを形成する画定面形成工程と、下側金属シート10と上側金属シート20とを接合する接合工程との間(より詳細には、画定面形成工程と仮接合工程との間)に行われる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われるようにしてもよい。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、上側金属シート20の放熱面20bに、エッチングによって粗面化部30を形成してもよい。また、粗面化工程は、画定面形成工程と同時に行われるようにしてもよい。この場合には、図11および図12に示すレジスト開口41の幅を、粗面化凹部32の幅よりも小さくすることが好適である。このことにより、レジスト開口41に入り込むエッチング液の量が低減され、放熱面20bのうちレジスト開口41に対応する部分のエッチング速度が低下する。このため、所望の深さを有する上側流路凹部21を形成しながら、レジスト開口41によって形成される粗面化凹部32の深さを浅くすることができる。このように粗面化工程と画定面形成工程とを同時に行う場合には、ハーフエッチング工程の回数を減らすことができ、製造効率を向上させることができる。
Further, in the above-described embodiment, the roughening step for forming the roughened
さらに、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、エッチングにより形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、機械加工で切削することによって形成されるようにしてもよい。
Further, in the present embodiment described above, an example in which the roughened
(第2の実施の形態)
次に、図18を用いて、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a method for manufacturing the vapor chamber, the metal sheet for the vapor chamber, and the vapor chamber according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図18に示す第2の実施の形態においては、粗面化部が、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図18において、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The second embodiment shown in FIG. 18 is mainly different in that the roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material, and other configurations are shown in FIGS. 1 to 17. It is substantially the same as the first embodiment. In FIG. 18, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 17 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
図18に示すように、本実施の形態では、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。また、粗面化部30は、ハーフエッチングによって形成されており、上側金属シート20を構成する材料の結晶50の粒界面51によって粗面化されている。本実施の形態による粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.20μm〜1.20μmであることが好適である。
As shown in FIG. 18, in the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態では、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの全体および周縁外側面5の全体にも形成されている。すなわち、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cと、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cとに、粗面化部30が形成されている。このようにして、ベーパーチャンバ1の全体にわたって粗面化部30が形成されている。しかしながら、ベーパーチャンバ1の注入部4には、粗面化部30は形成されていなくてもよい。
Further, in the present embodiment, the roughened
本実施の形態では、粗面化部30を形成する粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われることが好適である。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10c、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cに、粗面化部30を形成してもよい。
In the present embodiment, it is preferable that the roughening step for forming the roughened
本実施の形態による粗面化部30を形成するためのエッチング液は、浸食効果が小さいことが好適である。すなわち、粗面化部30を形成する粗面化工程で用いるエッチング液は、密封空間3の空間画定面3aを形成する画定面形成工程で用いるエッチング液よりも浸食効果が小さいことが好適である。このことにより、結晶50の粒界面51に関わることなく材料が浸食されることを防止し、粒界面51に沿った形状を有する粗面化部30を形成することができる。このようなエッチング液としては、画定面形成工程の第1ハーフエッチング工程で用いるエッチング液よりも浸食効果が小さいギ酸系のエッチング液であることが好ましく、例えば、メック社製のCZシリーズや、三菱ガス化学社製のEMRシリーズを用いることが好適である。
The etching solution for forming the roughened
このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の受熱面10bに設けられた粗面化部30が、下側金属シート10を構成する材料の結晶50の粒界面51によって形成されて、上側金属シート20の放熱面20bに設けられた粗面化部30が、上側金属シート20を構成する材料の結晶50の粒界面51によって形成されている。このことにより、エッチングによって受熱面10bおよび放熱面20bを粗面化することができるため、受熱面10bおよび放熱面20bを容易に粗面化することができる。
As described above, according to the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bだけではなく、下側金属シート10の受熱面10bにも、粗面化部30が設けられている。このことにより、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられた粗面化部30によって、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。このため、熱輸送効率を向上させることができる。また、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられた粗面化部30によって、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率を向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態によれば、ベーパーチャンバ1の周縁外側面5にも粗面化部30が設けられている。このことにより、周縁外側面5と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率をより一層向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the roughened
さらに、本実施の形態によれば、粗面化工程が、封入工程の後に行われる。このことにより、粒界面51が接合工程時の熱を受けることを防止でき、粒界面51が熱を受けることによって粗面化が喪失されることを回避できる。
Further, according to the present embodiment, the roughening step is performed after the encapsulation step. As a result, it is possible to prevent the
なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が、下側金属シート10の受熱面10b、上側金属シート20の放熱面20bおよびベーパーチャンバ1の周縁外側面5に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、受熱面10bに形成されていなくてもよい。あるいは、粗面化部30は、周縁外側面5に形成されていなくてもよい。
In the above-described embodiment, the roughened
(第3の実施の形態)
次に、図19を用いて、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
(Third Embodiment)
Next, with reference to FIG. 19, a method for manufacturing a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a vapor chamber according to a third embodiment of the present invention will be described.
図19に示す第3の実施の形態においては、粗面化部が、複数の電着物によって粗面化されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図19において、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The third embodiment shown in FIG. 19 is mainly different in that the roughened portion is roughened by a plurality of electrodeposited objects, and the other configurations are the first shown in FIGS. 1 to 17. It is substantially the same as the embodiment of. In FIG. 19, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 17 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
図19に示すように、本実施の形態では、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。また、粗面化部30は、電気めっきによって形成されており、複数のこぶ状の電着物52によって粗面化されている。本実施の形態による粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.15μm〜0.30μmであることが好適である。
As shown in FIG. 19, in the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態では、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの全体および周縁外側面5の全体にも形成されている。すなわち、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cと、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cとに、粗面化部30が形成されている。このようにして、ベーパーチャンバ1全体にわたって粗面化部30が形成されている。しかしながら、ベーパーチャンバ1の注入部4には、粗面化部30は形成されていなくてもよい。
Further, in the present embodiment, the roughened
本実施の形態では、粗面化部30を形成する粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われることが好適である。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cと、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cに、粗面化部30を形成してもよい。
In the present embodiment, it is preferable that the roughening step for forming the roughened
本実施の形態による粗面化部30を構成するこぶ状の電着物52は、こぶめっき(やけめっきとも言う)と称される電気めっきによって形成することができる。形成された電着物52は丸みを帯びた突起物のようになる。電着物52は、下側金属シート10の材料と同じ材料(例えば、純銅)によって形成することが好適であり、この場合には、めっき液としてロームアンドハース社製マイクロポジットや、奥野製薬工業社製のトップルチナを使用することが好適である。
The hump-shaped
なお、本実施の形態による粗面化部30の電着物52は、針状に形成されていてもよい。この場合には、粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.10μm〜1.0μmであることが好適である。針状の電着物を形成する場合には、電着条件や薬液添加剤の組成を調整すればよい。
The
このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の受熱面10bに設けられた粗面化部30が、複数の電着物52によって形成されて、上側金属シート20の放熱面20bに設けられた粗面化部30が、複数の電着物52によって形成されている。このことにより、受熱面10bおよび放熱面20bを容易に粗面化することができる。また、めっきによって受熱面10bおよび放熱面20bを粗面化することができるため、めっき液の種類を変えることにより、電着物52の材質を変えることもできる。
As described above, according to the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bだけではなく、下側金属シート10の受熱面10bにも、粗面化部30が設けられている。このことにより、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられた粗面化部30によって、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。このため、熱輸送効率を向上させることができる。また、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられた粗面化部30によって、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率を向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the roughened
また、本実施の形態によれば、ベーパーチャンバ1の周縁外側面5にも粗面化部30が設けられている。このことにより、周縁外側面5と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率をより一層向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the roughened
さらに、本実施の形態によれば、粗面化工程が、封入工程の後に行われる。このことにより、電着物52が接合工程時の熱によって溶融することを防止でき、電着物52が熱を受けることによって粗面化が喪失されることを回避できる。
Further, according to the present embodiment, the roughening step is performed after the encapsulation step. As a result, it is possible to prevent the
なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が、下側金属シート10の受熱面10b、上側金属シート20の放熱面20bおよびベーパーチャンバ1の周縁外側面5に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、受熱面10bに形成されていなくてもよい。あるいは、粗面化部30は、周縁外側面5に形成されていなくてもよい。
In the above-described embodiment, the roughened
本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態および変形例にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment and modification as it is, and at the implementation stage, the components can be modified and embodied within a range that does not deviate from the gist thereof. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining the plurality of components disclosed in the above-described embodiments and modifications. Some components may be removed from all the components shown in the embodiments and modifications. In addition, components spanning different embodiments and variations may be combined as appropriate.
例えば、上述した本実施の形態においては、下側金属シート10の下側流路凹部12内に、下側流路突出部13がボスとして設けられるとともに、上側金属シート20の上側流路凹部21内に、上側流路突出部22がボスとして設けられている例について説明した。しかしながら、下側流路突出部13および上側流路突出部22の形状や構成は、これに限られることはなく、任意である。
For example, in the above-described embodiment, the lower
また、上述した本実施の形態においては、下側金属シート10の上面10aに、密封空間3の一部として下側流路凹部12が形成されるとともに、上側金属シート20の下面20aに、密封空間3の一部として上側流路凹部21が形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、密封空間3は、下側金属シート10および上側金属シート20のいずれか一方に形成されていれば他方に形成されていなくてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the lower
また、上述した本実施の形態において、粗面化部30を針状に形成する場合には、電着による方法に限られることはない。例えば、下側金属シート10および上側金属シート20が銅で形成されている場合には、粗面化部30を形成する面を酸化処理して酸化銅を析出させることで、針状の電着物を形成するようにしてもよい。あるいは、粗面化部30を形成する面を還元処理し、亜酸化銅を析出させることで、針状の電着物を形成するようにしてもよい。この場合においても、上述した粗面化部30の針状の電着物52と同様に、粗面化部30の表面粗さ(Ra)を、0.10μm〜1.0μmにすることができる。
Further, in the above-described embodiment, when the roughened
1 ベーパーチャンバ
2 作動液
3 密封空間
3a 空間画定面
5 周縁外側面
30 粗面化部
31 粗面化凸部
32 粗面化凹部
33 凹部開口部
34 大幅部
50 結晶
51 粒界面
52 電着物
1
Claims (22)
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、
前記放熱面の少なくとも一部に設けられるとともに前記受熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ。 A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The space demarcation surface that defines the sealed space and
The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
Provided on at least a portion of Rutotomoni the heat receiving surface provided on at least a portion of the heat radiating surface, equipped with a roughened portion having a larger surface roughness than the surface roughness of the space defining surfaces, vapor chamber ..
前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、請求項2または3に記載のベーパーチャンバ。 Further provided with an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface.
The vapor chamber according to claim 2 or 3 , wherein the roughened portion is also provided on the outer peripheral surface of the peripheral edge.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面と、を備え、A peripheral outer surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface is provided.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって、または複数の電着物によって粗面化され、The roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material or by a plurality of electrodepositions.
前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、ベーパーチャンバ。The roughened portion is a vapor chamber that is also provided on the outer peripheral surface of the peripheral edge.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface is provided.
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバ。A vapor chamber in which a plurality of roughened protrusions are arranged in two directions intersecting each other.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface is provided.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ベーパーチャンバ。The roughened portion is a vapor chamber that is roughened by the grain interface of the crystal of the material.
前記第1金属シート上に設けられ、前記放熱面を有する第2金属シートと、を更に備え、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間が形成されている、請求項1〜8のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ。 The first metal sheet having the heat receiving surface and
A second metal sheet provided on the first metal sheet and having the heat radiating surface is further provided.
The vapor chamber according to any one of claims 1 to 8 , wherein the sealed space is formed between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間の少なくとも一部が形成された第1面と、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、
前記第2面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバ用金属シート。 A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The first surface on which at least a part of the sealed space is formed, and
The space demarcation surface that defines the sealed space and
A second surface provided on the side opposite to the first surface,
Wherein provided on at least a portion of the second surface, Bei example and a roughened portion having a larger surface roughness than the surface roughness of the space defining surfaces,
The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
A metal sheet for a vapor chamber in which a plurality of roughened convex portions are arranged in two directions intersecting each other.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、
粗面化部を形成する粗面化工程と、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、
前記第1金属シートは、前記被冷却装置から熱を受ける受熱面を有し、
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成されるとともに前記受熱面の少なくとも一部に形成される、ベーパーチャンバの製造方法。 A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
The roughening process for forming the roughened portion and
A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
The first metal sheet has a heat receiving surface that receives heat from the cooled device.
The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
In the step of forming the roughened portion, the roughened portion, the formed on at least a portion of the heat radiation surface is formed on at least a portion of Rutotomoni the heat receiving surface, the manufacturing method of the vapor chamber.
前記粗面化工程において用いられるエッチング液は、前記画定面形成工程において用いられるエッチング液よりも浸食効果が小さい、請求項14に記載のベーパーチャンバの製造方法。 In the demarcation surface forming step, the space demarcation surface is formed by half etching.
The method for producing a vapor chamber according to claim 14 , wherein the etching solution used in the roughening step has a smaller erosion effect than the etching solution used in the defining surface forming step.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第1金属シートは、前記被冷却装置からの熱を受ける受熱面を有し、The first metal sheet has a heat receiving surface that receives heat from the cooled device.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって、または複数の電着物によって粗面化され、The roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material or by a plurality of electrodepositions.
前記粗面化部は、前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面にも形成されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is also formed on an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface.
前記粗面化工程において、前記電着物は、電気めっきによって形成される、請求項18に記載のベーパーチャンバの製造方法。The method for manufacturing a vapor chamber according to claim 18, wherein in the roughening step, the electrodeposit is formed by electroplating.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method of manufacturing a vapor chamber in which a plurality of roughened convex portions are arranged in two directions intersecting each other.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is roughened by a grain interface of crystals of a material.
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