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JP6917006B2 - Manufacturing method of vapor chamber, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber - Google Patents

Manufacturing method of vapor chamber, metal sheet for vapor chamber and vapor chamber Download PDF

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JP6917006B2 JP2017102941A JP2017102941A JP6917006B2 JP 6917006 B2 JP6917006 B2 JP 6917006B2 JP 2017102941 A JP2017102941 A JP 2017102941A JP 2017102941 A JP2017102941 A JP 2017102941A JP 6917006 B2 JP6917006 B2 JP 6917006B2
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Description

本発明は、作動液が密封された密封空間を有するベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法に関する。 The present invention relates to a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, a metal sheet for the vapor chamber, and a method for producing the vapor chamber.

携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイスの冷却のために、ベーパーチャンバ(ヒートパイプとも言う)が使用されている(例えば、特許文献1乃至4参照)。ベーパーチャンバ内には、作動液が封入されており、この作動液がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。 A vapor chamber (also referred to as a heat pipe) is used for cooling a device that generates heat, such as a central processing unit (CPU) used in a mobile terminal such as a mobile terminal or a tablet terminal (for example, a patent document). 1 to 4). A hydraulic fluid is sealed in the vapor chamber, and the hydraulic fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside to cool the device.

より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して蒸気になり、その後蒸気が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液状になる。液状になった作動液は、ベーパーチャンバ内の流路を通過して蒸発部に輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、熱輸送効率を高めている。 More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device at a portion close to the device (evaporation part) and evaporates to vapor, and then the vapor moves to a position away from the evaporation part. It cools and condenses into a liquid. The liquefied working liquid passes through the flow path in the vapor chamber, is transported to the evaporation section, and receives heat again in the evaporation section to evaporate. In this way, the working fluid transfers heat of the device by refluxing in the vapor chamber while repeating phase change, that is, evaporation and condensation, and enhances heat transport efficiency.

特開平11−31768号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-31768 特開2007−212028号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-21028 特開2015−59693号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-59693 特開2016−17702号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-17702

ところで、ベーパーチャンバにおいては、デバイスが取り付けられる面とは反対側の面は、放熱面として構成されている。すなわち、ベーパーチャンバを構成する金属シートがデバイスから受け取る熱は、この放熱面から外部に放出される。このため、放熱面から熱を放出する際に熱抵抗が存在すると、効率良く熱輸送を行うことが困難になり得る。 By the way, in the vapor chamber, the surface opposite to the surface on which the device is mounted is configured as a heat radiating surface. That is, the heat received from the device by the metal sheet constituting the vapor chamber is released to the outside from the heat radiating surface. Therefore, if there is a thermal resistance when heat is released from the heat radiating surface, it may be difficult to efficiently transport the heat.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、熱輸送効率を向上させることができるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such a point, and an object of the present invention is to provide a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a method for producing a vapor chamber, which can improve heat transport efficiency.

本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ、
を提供する。
The present invention
A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The space demarcation surface that defines the sealed space and
The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
A vapor chamber, comprising a roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、前記受熱面の少なくとも一部にも設けられている、ようにしてもよい。 In the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be provided on at least a part of the heat receiving surface.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be roughened by the grain interface of the crystal of the material.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記粗面化部は、複数の電着物によって粗面化されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the roughened portion may be roughened by a plurality of electrodeposits.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面を更に備え、前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、ようにしてもよい。 Further, in the vapor chamber described above, an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface may be further provided, and the roughened portion may also be provided on the outer peripheral surface.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記受熱面を有する第1金属シートと、前記第1金属シート上に設けられ、前記放熱面を有する第2金属シートと、を更に備え、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間が形成されている、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned vapor chamber, the first metal sheet having the heat receiving surface and the second metal sheet provided on the first metal sheet and having the heat radiating surface are further provided with the first metal sheet. The sealed space may be formed between the second metal sheet and the second metal sheet.

また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記密封空間の少なくとも一部が形成された第1面と、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、
前記第2面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ用金属シート、
を提供する。
In addition, the present invention
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The first surface on which at least a part of the sealed space is formed, and
The space demarcation surface that defines the sealed space and
A second surface provided on the side opposite to the first surface,
A metal sheet for a vapor chamber, comprising a roughened portion provided on at least a part of the second surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
I will provide a.

また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、
粗面化部を形成する粗面化工程と、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成される、ベーパーチャンバの製造方法、
を提供する。
In addition, the present invention
A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
The roughening process for forming the roughened portion and
A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface in the step of forming the roughened portion.
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程は、前記画定面形成工程と前記接合工程との間に行われる、ようにしてもよい。 In the method for manufacturing a vapor chamber described above, the roughening step may be performed between the defining surface forming step and the joining step.

また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程は、前記封入工程の後に行われる、ようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned method for manufacturing a vapor chamber, the roughening step may be performed after the encapsulation step.

また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記粗面化部は、ハーフエッチングによって形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, the roughened portion may be formed by half etching.

また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記放熱面に、パターン状のレジスト膜が形成され、その後、前記レジスト膜のレジスト開口から前記放熱面をハーフエッチングして前記粗面化部が形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, a patterned resist film is formed on the heat radiating surface, and then the heat radiating surface is half-etched from the resist opening of the resist film. A roughened portion may be formed.

また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記画定面形成工程において、前記空間画定面はハーフエッチングによって形成され、前記粗面化工程において用いられるエッチング液は、前記画定面形成工程において用いられるエッチング液よりも浸食効果が小さい、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the defining surface forming step, the space defining surface is formed by half etching, and the etching solution used in the roughening step is the etching used in the defining surface forming step. The erosion effect may be smaller than that of the liquid.

また、上述したベーパーチャンバの製造方法において、前記粗面化工程において、前記粗面化部は、電気めっきによって形成される、ようにしてもよい。 Further, in the method for manufacturing a vapor chamber described above, in the roughening step, the roughened portion may be formed by electroplating.

本発明によれば、熱輸送効率を向上させることができる。 According to the present invention, the heat transport efficiency can be improved.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるベーパーチャンバを示す上面図である。FIG. 1 is a top view showing a vapor chamber according to the first embodiment of the present invention. 図2は、図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 図3は、図1のB−B線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 図4は、図1のC−C線断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 図5(a)〜(d)は、図2〜図4に示す粗面化部の粗面化凸部の平面形状の例を示す平面図である。5 (a) to 5 (d) are plan views showing an example of the plan shape of the roughened convex portion of the roughened portion shown in FIGS. 2 to 4. 図6(a)〜(e)は、図2〜図4に示す粗面化部の粗面化凹部の横断面形状の例を示す断面図である。6 (a) to 6 (e) are cross-sectional views showing an example of the cross-sectional shape of the roughened concave portion of the roughened portion shown in FIGS. 2 to 4. 図7は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、上側金属シートの準備工程を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a step of preparing the upper metal sheet in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. 図8は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、上側金属シートの第1ハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a first half etching step of the upper metal sheet in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. 図9は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、上側金属シートの粗面化工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a roughening step of the upper metal sheet in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. 図10は、図9の粗面化工程において、上側金属シートの放熱面へのレジスト膜の形成工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a step of forming a resist film on the heat radiating surface of the upper metal sheet in the roughening step of FIG. 図11は、図9の粗面化工程において、図10のレジスト膜のパターン化工程を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining the patterning step of the resist film of FIG. 10 in the roughening step of FIG. 図12は、図9の粗面化工程において、上側金属シートの第2ハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a second half etching step of the upper metal sheet in the roughening step of FIG. 図13は、図9の粗面化工程において、レジスト膜の除去工程を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a step of removing the resist film in the roughening step of FIG. 図14は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、仮止工程を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining a temporary fixing step in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. 図15は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、接合工程を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram for explaining a joining process in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. 図16は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、作動液の封入工程を説明するための図である。FIG. 16 is a diagram for explaining a process of filling a working liquid in the method for manufacturing a vapor chamber of FIG. 図17は、図4に示すベーパーチャンバの断面の変形例を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a modified example of the cross section of the vapor chamber shown in FIG. 図18は、本発明の第2の実施の形態によるベーパーチャンバの断面図であって、図1のC−C線断面図に相当する断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view of the vapor chamber according to the second embodiment of the present invention, which corresponds to the cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 図19は、本発明の第3の実施の形態によるベーパーチャンバの断面図であって、図1のC−C線断面図に相当する断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view of the vapor chamber according to the third embodiment of the present invention, which corresponds to the cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, the scale, the aspect ratio, etc. are appropriately changed from those of the actual product and exaggerated for the convenience of illustration and comprehension.

(第1の実施の形態)
図1乃至図17を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。ここで、本実施の形態におけるベーパーチャンバ1は、作動液2が封入された密封空間3を有しており、密封空間3内の作動液2が相変化を繰り返すことにより、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイス(被冷却装置)を冷却するための装置である。ベーパーチャンバ1は、概略的に薄い平板状に形成されている。
(First Embodiment)
A method for manufacturing a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a vapor chamber according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 17. Here, the vapor chamber 1 in the present embodiment has a sealed space 3 in which the working liquid 2 is sealed, and the working liquid 2 in the sealing space 3 repeats phase changes, so that a mobile terminal or a tablet terminal is used. This is a device for cooling a device (cooled device) that generates heat, such as a central processing unit (CPU) used in a mobile terminal or the like. The vapor chamber 1 is formed in a substantially thin flat plate shape.

図1乃至図4に示すように、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、下側金属シート10(第1金属シート)と、下側金属シート10上に設けられた上側金属シート20(第2金属シート)と、を備えている。このうち、下側金属シート10の下面(後述する受熱面10b、とりわけ、後述する蒸発部11の下面)に、冷却対象物であるデバイスDが取り付けられる。 As shown in FIGS. 1 to 4, the vapor chamber 1 according to the present embodiment has a lower metal sheet 10 (first metal sheet) and an upper metal sheet 20 (second metal sheet 20) provided on the lower metal sheet 10. Metal sheet) and. Of these, the device D, which is the object to be cooled, is attached to the lower surface of the lower metal sheet 10 (the heat receiving surface 10b described later, particularly the lower surface of the evaporation portion 11 described later).

ベーパーチャンバ1は、密封空間3を画定する空間画定面3aと、デバイスDから熱を受ける受熱面10bと、密封空間3に対して受熱面10bの側とは反対側に設けられた放熱面20bと、粗面化部30と、を備えている。このうち、受熱面10bは、上述した下側金属シート10の下面に相当し、放熱面20bは、上述した上側金属シート20の上面に相当する。また、ベーパーチャンバ1は、放熱面20bから受熱面10bに延びる周縁外側面5を更に備えている。この周縁外側面5は、下側金属シート10の外側面10c(後述)と、上側金属シート20の外側面20c(後述)と、によって構成されている。 The vapor chamber 1 has a space defining surface 3a that defines the sealed space 3, a heat receiving surface 10b that receives heat from the device D, and a heat radiating surface 20b that is provided on the side opposite to the heat receiving surface 10b side with respect to the sealed space 3. And a roughened portion 30. Of these, the heat receiving surface 10b corresponds to the lower surface of the lower metal sheet 10 described above, and the heat radiating surface 20b corresponds to the upper surface of the upper metal sheet 20 described above. Further, the vapor chamber 1 further includes a peripheral outer surface 5 extending from the heat radiating surface 20b to the heat receiving surface 10b. The peripheral outer surface 5 is composed of an outer surface 10c (described later) of the lower metal sheet 10 and an outer surface 20c (described later) of the upper metal sheet 20.

下側金属シート10と上側金属シート20との間には、作動液2が封入された密封空間3が形成されている。作動液2の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。 A sealing space 3 in which the hydraulic fluid 2 is sealed is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. Examples of the working fluid 2 include pure water, ethanol, methanol, acetone and the like.

下側金属シート10と上側金属シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。図1に示す形態では、下側金属シート10および上側金属シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイスDから熱を受ける受熱面10b、および受けた熱を放出する放熱面20bに直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図1参照)、または下方から見た状態に相当している。 The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined by diffusion joining, which will be described later. In the form shown in FIG. 1, an example is shown in which the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are both formed in a rectangular shape in a plan view, but the present invention is not limited to this. Here, the plan view is a state in which the vapor chamber 1 is viewed from a direction orthogonal to the heat receiving surface 10b that receives heat from the device D and the heat radiating surface 20b that releases the received heat. It corresponds to the state seen from above (see FIG. 1) or the state seen from below.

なお、ベーパーチャンバ1がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート10と上側金属シート20との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、デバイスDから熱を受ける液相側の金属シートを下側金属シート10と称し、受けた熱を放出する気相側の金属シートを上側金属シート20と称して、下側金属シート10が下側に配置され、上側金属シート20が上側に配置された状態で説明する。 When the vapor chamber 1 is installed in the mobile terminal, the vertical relationship between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be broken depending on the posture of the mobile terminal. However, in the present embodiment, the metal sheet on the liquid phase side that receives heat from the device D is referred to as the lower metal sheet 10, and the metal sheet on the gas phase side that releases the received heat is referred to as the upper metal sheet 20. A state in which the lower metal sheet 10 is arranged on the lower side and the upper metal sheet 20 is arranged on the upper side will be described.

図1乃至図4に示すように、下側金属シート10は、上面10a(第1面、上側金属シート20の側の面)と、上面10aとは反対側に設けられた受熱面10b(第2面)と、外側面10cと、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10aに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側流路凹部12と、を有している。このうち下側流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2(図2乃至図4参照)を蒸発部11に輸送するように構成されている。この蒸発部11は、下側金属シート10の受熱面10bに取り付けられるデバイスDから熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、デバイスDに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスDに重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側金属シート10の任意の場所に設けることができるが、図1においては、下側金属シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢が、ベーパーチャンバ1の動作の安定化に影響を及ぼすことを抑制できる。 As shown in FIGS. 1 to 4, the lower metal sheet 10 has an upper surface 10a (first surface, a surface on the side of the upper metal sheet 20) and a heat receiving surface 10b (third surface) provided on the side opposite to the upper surface 10a. Two surfaces), an outer surface 10c, an evaporation portion 11 on which the hydraulic fluid 2 evaporates to generate vapor, and a lower flow path recess 12 provided on the upper surface 10a and formed in a rectangular shape in a plan view. Have. Of these, the lower flow path recess 12 constitutes a part of the sealed space 3 described above, and mainly evaporates the working liquid 2 (see FIGS. 2 to 4) condensed from the vapor generated by the evaporation unit 11. It is configured to be transported to section 11. The evaporation portion 11 is a portion where the working liquid 2 in the sealed space 3 evaporates by receiving heat from the device D attached to the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10. Therefore, the term evaporating unit 11 is used not only as a concept limited to a portion overlapping the device D, but also as a concept including a portion where the working fluid 2 can evaporate even if it does not overlap the device D. Here, the evaporation portion 11 can be provided at an arbitrary location on the lower metal sheet 10, but FIG. 1 shows an example in which the evaporation portion 11 is provided at the central portion of the lower metal sheet 10. In this case, it is possible to prevent the posture of the mobile terminal on which the vapor chamber 1 is installed from affecting the stabilization of the operation of the vapor chamber 1.

本実施の形態では、図1乃至図4に示すように、下側金属シート10の下側流路凹部12内に、下側流路凹部12の底面12a(後述)から上方(底面12aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路突出部13が設けられている。本実施の形態では、下側流路突出部13は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、上面13aと側面13bとを含んでいる。また、各下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図1における左右方向)に沿って、等間隔に離間して配置されている。また、下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の横断方向(長手方向に直交する横方向、図1における上下方向)にも沿って配置されている。このようにして配置された下側流路突出部13の周囲には、下側流路凹部12の底面12aが形成されている。このようにして、下側流路突出部13の周囲を作動液2が流れるように構成されており、作動液2の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路突出部13は、上側金属シート20の対応する上側流路突出部22(後述)に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、底面12aおよび下側流路突出部13の側面13bは、上述した密封空間3の空間画定面3aを構成している。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 to 4, inside the lower flow path recess 12 of the lower metal sheet 10, the lower flow path recess 12 is above the bottom surface 12a (described later) (perpendicular to the bottom surface 12a). A plurality of lower flow path protrusions 13 are provided so as to project in the above direction. In the present embodiment, an example in which the lower flow path protrusion 13 is formed as a columnar boss is shown, and includes an upper surface 13a and a side surface 13b. Further, the lower flow path protrusions 13 are arranged at equal intervals along the longitudinal direction (left-right direction in FIG. 1) of the vapor chamber 1. Further, the lower flow path protrusion portion 13 is also arranged along the transverse direction of the vapor chamber 1 (horizontal direction orthogonal to the longitudinal direction, vertical direction in FIG. 1). A bottom surface 12a of the lower flow path recess 12 is formed around the lower flow path protrusion 13 arranged in this way. In this way, the hydraulic fluid 2 is configured to flow around the lower flow path protrusion 13, and it is possible to prevent the flow of the hydraulic fluid 2 from being obstructed. Further, the lower flow path protrusion 13 is arranged so as to overlap the corresponding upper flow path protrusion 22 (described later) of the upper metal sheet 20 in a plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. ing. The bottom surface 12a and the side surface 13b of the lower flow path protrusion 13 form the space-defining surface 3a of the sealed space 3 described above.

図2乃至図4に示すように、下側流路凹部12には、ウィックWが設けられている。ここで、ウィックとは、例えば銅線を不定形状に圧接した金属メッシュや、多孔質焼結体により形成され、毛細管作用を発揮する部材である。このウィックWは、毛細管作用を発揮することにより、下側流路凹部12内の作動液2に、蒸発部11に向かう推進力を与えることができるように構成されている。このようにして、蒸気から凝縮した下側流路凹部12内の作動液2が、蒸発部11に向かってスムースに輸送されるようになっている。なお、図2乃至図4に示すように、ウィックWは、下側流路凹部12の底面12aの全領域に設けられていてもよい。底面12aのうち蒸発部11に設けられたウィックWは、液状の作動液2とデバイスDから受けた熱との熱交換面積を増大させ、熱効率向上をさせることに寄与し得る。一方、底面12aのうち蒸発部11の周囲に設けられたウィックWは、液状の作動液2を、蒸発部11に効果的に輸送することに寄与し得る。なお、ウィックWは、下側流路凹部12のうち下側流路突出部13の間の領域に嵌められるように取り付けられており、ベーパーチャンバ1の姿勢によってウィックWが移動することを防止している。また、ウィックWの高さは、蒸発部11における熱交換面積を増大させることや、毛細管作用によって蒸発部11に向かう作動液2の流量を確保することができれば任意とすることができる。 As shown in FIGS. 2 to 4, a wick W is provided in the lower flow path recess 12. Here, the wick is a member formed of, for example, a metal mesh in which a copper wire is pressed into an irregular shape or a porous sintered body, and exerts a capillary action. The wick W is configured to exert a capillary action to give a propulsive force toward the evaporation portion 11 to the hydraulic fluid 2 in the lower flow path recess 12. In this way, the hydraulic fluid 2 in the lower flow path recess 12 condensed from the vapor is smoothly transported toward the evaporation portion 11. As shown in FIGS. 2 to 4, the wick W may be provided in the entire region of the bottom surface 12a of the lower flow path recess 12. The wick W provided in the evaporation portion 11 of the bottom surface 12a can increase the heat exchange area between the liquid hydraulic fluid 2 and the heat received from the device D, and can contribute to improving the thermal efficiency. On the other hand, the wick W provided around the evaporation unit 11 on the bottom surface 12a can contribute to effectively transporting the liquid working liquid 2 to the evaporation unit 11. The wick W is attached so as to be fitted in the region between the lower flow path protrusions 13 of the lower flow path recesses 12 to prevent the wick W from moving depending on the posture of the vapor chamber 1. ing. Further, the height of the wick W can be made arbitrary as long as the heat exchange area in the evaporation unit 11 can be increased and the flow rate of the hydraulic fluid 2 toward the evaporation unit 11 can be secured by the capillary action.

図1乃至図4に示すように、下側金属シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。下側周縁壁14は、後述する上側周縁壁23の下面23aに当接する上面14aを有している。また、図1に示すように、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。 As shown in FIGS. 1 to 4, a lower peripheral wall 14 is provided on the peripheral edge of the lower metal sheet 10. The lower peripheral wall 14 is formed so as to surround the sealing space 3, particularly the lower flow path recess 12, and defines the sealing space 3. The lower peripheral wall 14 has an upper surface 14a that abuts on the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23, which will be described later. Further, as shown in FIG. 1, lower alignment holes 15 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at the four corners of the lower peripheral wall 14 in a plan view.

本実施の形態では、上側金属シート20は、粗面化部30が形成されていることを除いては、下側金属シート10と同一の構造を有している。すなわち、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、粗面化部30を除くと、下側金属シート10を上下反転させると上側金属シート20になるように構成されている。このため、下側金属シート10と上側金属シート20とを接合した後に粗面化部30を形成する場合には、下側金属シート10と同一構造の金属シートを2枚作製して、一方を上下反転させて互いに接合させることもできる。以下に、上側金属シート20の構成についてより詳細に説明する。 In the present embodiment, the upper metal sheet 20 has the same structure as the lower metal sheet 10 except that the roughened portion 30 is formed. That is, the vapor chamber 1 according to the present embodiment is configured to become the upper metal sheet 20 when the lower metal sheet 10 is turned upside down, except for the roughened portion 30. Therefore, when the roughened portion 30 is formed after joining the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20, two metal sheets having the same structure as the lower metal sheet 10 are produced, and one of them is used. It can also be flipped upside down and joined to each other. The configuration of the upper metal sheet 20 will be described in more detail below.

図1乃至図4に示すように、上側金属シート20は、下面20a(第1面、下側金属シート10の側の面)と、下面20aとは反対側に設けられた放熱面20b(第2面)と、外側面20cと、下面20aに設けられた上側流路凹部21と、を有している。この上側流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気を拡散して冷却するように構成されている。より具体的には、上側流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。 As shown in FIGS. 1 to 4, the upper metal sheet 20 has a lower surface 20a (first surface, a surface on the side of the lower metal sheet 10) and a heat radiating surface 20b (third surface) provided on the side opposite to the lower surface 20a. It has two surfaces), an outer surface 20c, and an upper flow path recess 21 provided on the lower surface 20a. The upper flow path recess 21 constitutes a part of the sealed space 3, and is mainly configured to diffuse and cool the steam generated by the evaporation unit 11. More specifically, the steam in the upper flow path recess 21 diffuses in the direction away from the evaporation portion 11, and most of the steam is transported to the peripheral portion having a relatively low temperature.

本実施の形態では、図1に示すように、上側金属シート20の上側流路凹部21内に、上側流路凹部21の天井面21a(上側金属シート20を上下反転させた場合には上側流路凹部21の底面に相当する)から下方(天井面21aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路突出部22が設けられている。本実施の形態では、上側流路突出部22は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、下面22aと側面22bとを含んでいる。また、各上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の長手方向に沿って、等間隔に離間して配置されている。また、上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の横断方向にも沿って配置されている。このようにして配置された上側流路突出部22の周囲には、上側流路凹部21の天井面21a(下側流路凹部12の底面12aに相当する面)が形成されている。このようにして、上側流路突出部22の周囲を作動液2の蒸気が流れるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、上側流路突出部22は、下側金属シート10の対応する下側流路突出部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、天井面21aおよび上側流路突出部22の側面22bは、上述した密封空間3の空間画定面3aを構成している。 In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the ceiling surface 21a of the upper flow path recess 21 (upper flow when the upper metal sheet 20 is turned upside down) is inside the upper flow path recess 21 of the upper metal sheet 20. A plurality of upper flow path protrusions 22 projecting downward (in a direction perpendicular to the ceiling surface 21a) from (corresponding to the bottom surface of the road recess 21) are provided. In the present embodiment, an example in which the upper flow path protrusion 22 is formed as a columnar boss is shown, and includes a lower surface 22a and a side surface 22b. Further, the upper flow path protrusions 22 are arranged at equal intervals along the longitudinal direction of the vapor chamber 1. Further, the upper flow path protrusion 22 is arranged along the transverse direction of the vapor chamber 1. A ceiling surface 21a of the upper flow path recess 21 (a surface corresponding to the bottom surface 12a of the lower flow path recess 12) is formed around the upper flow path protrusion 22 arranged in this way. In this way, the vapor of the working liquid 2 is configured to flow around the upper flow path protrusion 22, and the flow of the vapor is suppressed from being obstructed. Further, the upper flow path protrusion 22 is arranged so as to overlap the corresponding lower flow path protrusion 13 of the lower metal sheet 10 in a plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. .. The ceiling surface 21a and the side surface 22b of the upper flow path protrusion 22 form the space-defining surface 3a of the sealed space 3 described above.

図1乃至図4に示すように、上側金属シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。上側周縁壁23は、下側周縁壁14の上面14aに当接する下面23aを有している。また、図1に示すように、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めが可能に構成されている。 As shown in FIGS. 1 to 4, an upper peripheral wall 23 is provided on the peripheral edge of the upper metal sheet 20. The upper peripheral wall 23 is formed so as to surround the sealing space 3, particularly the upper flow path recess 21, and defines the sealing space 3. The upper peripheral wall 23 has a lower surface 23a that abuts on the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14. Further, as shown in FIG. 1, upper alignment holes 24 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at the four corners of the upper peripheral wall 23 in a plan view. That is, each upper alignment hole 24 is arranged so as to overlap each of the above-mentioned lower alignment holes 15 at the time of temporary fixing described later, and is configured to enable positioning of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. ..

このような下側金属シート10と上側金属シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図2乃至図4に示すように、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが当接し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート10と上側金属シート20との間に、作動液2を密封した密封空間3が形成されている。また、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが当接し、各下側流路突出部13と対応する上側流路突出部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。とりわけ、本実施の形態による下側流路突出部13および上側流路突出部22は等間隔に配置されているため、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等化させることができる。なお下側金属シート10と上側金属シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。 Such a lower metal sheet 10 and an upper metal sheet 20 are preferably diffusively bonded and permanently bonded to each other. More specifically, as shown in FIGS. 2 to 4, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are in contact with each other, and the lower surface 23a is in contact with each other. The side peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 are joined to each other. As a result, a sealing space 3 in which the hydraulic fluid 2 is sealed is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. Further, the upper surface 13a of the lower flow path protrusion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow path protrusion 22 of the upper metal sheet 20 come into contact with each other and correspond to each lower flow path protrusion 13. The upper flow path protrusion 22 is joined to each other. This improves the mechanical strength of the vapor chamber 1. In particular, since the lower flow path protrusion 13 and the upper flow path protrusion 22 according to the present embodiment are arranged at equal intervals, the mechanical strength at each position of the vapor chamber 1 can be equalized. The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be joined by another method such as brazing as long as they can be permanently joined instead of diffusion joining.

また、図1および図3に示すように、ベーパーチャンバ1は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液2を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、下側金属シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側金属シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側流路凹部12に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側流路凹部21に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側金属シート10と上側金属シート20とが接合された際、作動液2の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液2は密封空間3に注入される。なお、本実施の形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはない。 Further, as shown in FIGS. 1 and 3, the vapor chamber 1 is further provided with an injection portion 4 for injecting the hydraulic fluid 2 into the sealed space 3 at one end of the pair of ends in the longitudinal direction. There is. The injection portion 4 has a lower injection protrusion 16 projecting from the end surface of the lower metal sheet 10 and an upper injection protrusion 25 projecting from the end surface of the upper metal sheet 20. Of these, the lower injection flow path recess 17 is formed on the upper surface of the lower injection protrusion 16, and the upper injection flow path recess 26 is formed on the lower surface of the upper injection protrusion 25. The lower injection flow path recess 17 communicates with the lower flow path recess 12, and the upper injection flow path recess 26 communicates with the upper flow path recess 21. The lower injection flow path recess 17 and the upper injection flow path recess 26 form an injection flow path for the hydraulic fluid 2 when the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined. The hydraulic fluid 2 is injected into the sealed space 3 through the injection flow path. In the present embodiment, an example is shown in which the injection portion 4 is provided at one end of a pair of ends in the longitudinal direction of the vapor chamber 1, but the present invention is not limited to this. do not have.

次に、本実施の形態による粗面化部30について、より詳細に説明する。本実施の形態では、ハーフエッチングにより粗面化部30が形成される例について説明する。 Next, the roughened portion 30 according to the present embodiment will be described in more detail. In this embodiment, an example in which the roughened portion 30 is formed by half etching will be described.

粗面化部30は、密封空間3の空間画定面3a(すなわち、下側流路凹部12の底面12a、下側流路突出部13の側面13b、上側流路凹部21の天井面21a、および上側流路突出部22の側面22b)の表面粗さよりも大きい表面粗さを有している。本実施の形態では、図2乃至図4に示すように、この粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。 The roughened portion 30 is a space-defining surface 3a of the sealed space 3 (that is, a bottom surface 12a of the lower flow path recess 12, a side surface 13b of the lower flow path protrusion 13, a ceiling surface 21a of the upper flow path recess 21, and the surface surface 21a. It has a surface roughness larger than the surface roughness of the side surface 22b) of the upper flow path protrusion 22). In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 to 4, the roughened portion 30 is provided on the entire heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20.

粗面化部30の表面粗さは、JIS B0601−2001で規定されている算術平均粗さで表わしたとき、Raが0.1μm〜5.0μmであることが好適であるが、なお、粗面化部30の表面粗さは、0.1μm未満であってもよく、または5.0μmを越えていてもよい。一方、密封空間3の空間画定面3aは、後述するようにエッチングで形成されており、Raが0.01μm〜0.07μmの表面粗さを有している。このため、粗面化部30の表面粗さを上述した数値範囲内に収めることにより、粗面化部30の表面粗さを、空間画定面3aの表面粗さより大きくすることができる。なお、Raの測定には、例えば、光波干渉式表面粗さ計(ZYGO社製、New view 5032)、レーザマイクロスコープ(キーエンス社製、VK−9500)などを用いることが好適である。 The surface roughness of the roughened portion 30 is preferably Ra of 0.1 μm to 5.0 μm when expressed by the arithmetic mean roughness defined in JIS B0601-2001, but it is still rough. The surface roughness of the surfaced portion 30 may be less than 0.1 μm or more than 5.0 μm. On the other hand, the space-defining surface 3a of the sealed space 3 is formed by etching as described later, and has a surface roughness of Ra of 0.01 μm to 0.07 μm. Therefore, by keeping the surface roughness of the roughened portion 30 within the above-mentioned numerical range, the surface roughness of the roughened portion 30 can be made larger than the surface roughness of the spatially defined surface 3a. For the measurement of Ra, for example, it is preferable to use a light wave interference type surface roughness meter (ZYGO, New view 5032), a laser microscope (Keyence, VK-9500), or the like.

本実施の形態では、図2乃至図4に示すように、粗面化部30は、離間配置された複数の粗面化凸部31と、互いに隣り合う粗面化凸部31の間に設けられた粗面化凹部32と、を有している。このうち粗面化凹部32が後述するハーフエッチングによって形成されている。粗面化凸部31と粗面化凹部32とが、微細に形成されることにより、粗面化部30が、所望の表面粗さを有するようになっている。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 to 4, the roughened surface portion 30 is provided between the plurality of roughened convex portions 31 that are spaced apart from each other and the roughened convex portions 31 that are adjacent to each other. It has a roughened concave portion 32 and the surface roughened recess 32. Of these, the roughened recess 32 is formed by half etching, which will be described later. The roughened convex portion 31 and the roughened concave portion 32 are formed finely so that the roughened portion 30 has a desired surface roughness.

粗面化凸部31の形状および配置は、上側金属シート20の放熱面20bの表面粗さを、所望の表面粗さにすることができれば、任意である。例えば、図5(a)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で円形状に形成され、格子状に配列されていてもよい。この場合、粗面化凸部31の平面視における直径を、10μm〜2000μm、粗面化凸部31の配列ピッチを、20μm〜4000μm、粗面化凸部31の高さを0.2μm〜10μmとすることにより、粗面化部30の表面粗さを上述した数値範囲に収めることができる。粗面化凸部31の直径や配列ピッチは、任意の値を設定することができる。なお、所望の表面粗さに応じて、粗面化凸部31の高さの数値は、上述した数値範囲外の数値を採用してもよい。あるいは、図5(b)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で矩形状に形成されて、格子状に配列されていてもよい。また、図5(c)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で円形状に形成され、千鳥状に配列されていてもよく、さらには図5(d)に示すように、粗面化凸部31は、平面視で六角形状に形成され、千鳥状(またはハニカム状)に配列されていてもよい。 The shape and arrangement of the roughened convex portion 31 are arbitrary as long as the surface roughness of the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 can be made to a desired surface roughness. For example, as shown in FIG. 5A, the roughened convex portions 31 may be formed in a circular shape in a plan view and may be arranged in a grid pattern. In this case, the diameter of the roughened convex portion 31 in a plan view is 10 μm to 2000 μm, the arrangement pitch of the roughened convex portion 31 is 20 μm to 4000 μm, and the height of the roughened convex portion 31 is 0.2 μm to 10 μm. Therefore, the surface roughness of the roughened portion 30 can be kept within the above-mentioned numerical range. Any value can be set for the diameter and the arrangement pitch of the roughened convex portion 31. In addition, depending on the desired surface roughness, the numerical value of the height of the roughened convex portion 31 may be a numerical value outside the above-mentioned numerical range. Alternatively, as shown in FIG. 5B, the roughened convex portions 31 may be formed in a rectangular shape in a plan view and arranged in a grid pattern. Further, as shown in FIG. 5 (c), the roughened convex portions 31 may be formed in a circular shape in a plan view and may be arranged in a staggered pattern, and further, as shown in FIG. 5 (d). The roughened convex portions 31 may be formed in a hexagonal shape in a plan view and may be arranged in a staggered shape (or a honeycomb shape).

粗面化凹部32の横断面形状は、放熱面20bの表面粗さを、所望の表面粗さにすることができれば、任意である。例えば、図6(a)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、矩形状に形成されていてもよい。あるいは、図6(b)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、半円状に形成されていてもよく、図6(c)に示すように、三角形状若しくはV字状に形成されていてもよい。また、粗面化凹部32の横断面は、逆テーパ状に形成されていてもよい。例えば、図6(d)では、粗面化凹部32が、凹部開口部33と、凹部開口部33よりも粗面化凹部32の底側(図6(d)における下側)に設けられた大幅部34と、を有している。凹部開口部33は、粗面化凹部32のうち放熱面20bに相当する位置における開口である。大幅部34は、凹部開口部33よりも図6(d)における底側(下側)に配置されている。凹部開口部33の幅をw1、大幅部34の幅をw2としたときに、w1<w2になっている。このような図6(d)に示す粗面化凹部32の横断面は、円弧状(C字状、タコつぼ形状)に形成されている。逆テーパ形状の他の例として、図6(e)に示すように、粗面化凹部32の横断面は、台形状に形成されていてもよい。なお、このような粗面化凹部32の横断面形状は、スプレーエッチング方式を採用する場合に、エッチング液のスプレー圧を制御したり、後述する第2レジスト膜40のパターン形状を変えたりすることにより、得ることができる。図6(d)や図6(e)に示すように逆テーパ状に形成する場合には、粗面化凹部32の横断面視において、粗面化凹部32の周囲長さを長くすることができ、表面積を増大させることができる。 The cross-sectional shape of the roughened concave portion 32 is arbitrary as long as the surface roughness of the heat radiating surface 20b can be made to a desired surface roughness. For example, as shown in FIG. 6A, the cross section of the roughened recess 32 may be formed in a rectangular shape. Alternatively, as shown in FIG. 6 (b), the cross section of the roughened recess 32 may be formed in a semicircular shape, and as shown in FIG. 6 (c), it may be triangular or V-shaped. It may be formed. Further, the cross section of the roughened concave portion 32 may be formed in an inverted tapered shape. For example, in FIG. 6D, the roughened concave portion 32 is provided on the concave portion opening 33 and the bottom side (lower side in FIG. 6D) of the roughened concave portion 32 than the concave portion opening 33. It has a large portion 34 and. The recess opening 33 is an opening at a position corresponding to the heat radiating surface 20b in the roughened recess 32. The large portion 34 is arranged on the bottom side (lower side) in FIG. 6D with respect to the concave opening 33. When the width of the concave opening 33 is w1 and the width of the large portion 34 is w2, w1 <w2. The cross section of the roughened recess 32 shown in FIG. 6D is formed in an arc shape (C shape, octopus trap shape). As another example of the inverted tapered shape, as shown in FIG. 6E, the cross section of the roughened concave portion 32 may be formed in a trapezoidal shape. When the spray etching method is adopted, the cross-sectional shape of the roughened concave portion 32 may be changed by controlling the spray pressure of the etching solution or changing the pattern shape of the second resist film 40 described later. Can be obtained by When the roughened concave portion 32 is formed in an inverted tapered shape as shown in FIGS. 6 (d) and 6 (e), the peripheral length of the roughened concave portion 32 may be increased in the cross-sectional view of the roughened concave portion 32. It can increase the surface area.

ところで、下側金属シート10および上側金属シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10および上側金属シート20は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を高めることができる。また、ベーパーチャンバ1の厚さT0は、0.1mm〜1.0mmである。図4では、下側金属シート10の厚さT1および上側金属シート20の厚さT2が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側金属シート10の厚さT1と上側金属シート20の厚さT2は、等しくなくてもよい。 By the way, the material used for the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 is not particularly limited as long as it is a material having good thermal conductivity. For example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are made of copper. Alternatively, it is preferably formed of a copper alloy. As a result, the thermal conductivity of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 can be increased. Therefore, the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be improved. The thickness T0 of the vapor chamber 1 is 0.1 mm to 1.0 mm. FIG. 4 shows a case where the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are equal, but the present invention is not limited to this, and the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the upper side are not limited to this. The thickness T2 of the metal sheet 20 does not have to be equal.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図7乃至図16を用いて説明するが、下側金属シート10のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図7乃至図9および図14乃至図16では、図4の横断面と同様の横断面を示している。 Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, first, the manufacturing method of the vapor chamber 1 will be described with reference to FIGS. 7 to 16, but the description of the half-etching step of the lower metal sheet 10 will be simplified. In addition, in FIGS. 7 to 9 and 14 to 16, the cross section similar to the cross section of FIG. 4 is shown.

まず、上側金属シート20の準備工程として、図7に示すように、平板状の金属材料シートMを準備する。 First, as a preparation step of the upper metal sheet 20, as shown in FIG. 7, a flat metal material sheet M is prepared.

続いて、上側金属シート20の画定面形成工程(第1ハーフエッチング工程)として、図8に示すように、金属材料シートMがハーフエッチングされて、密封空間3の空間画定面3aが形成される。このようにして、密封空間3の一部を構成する上側流路凹部21を有する上側金属シート20が形成される。 Subsequently, as a defining surface forming step (first half etching step) of the upper metal sheet 20, as shown in FIG. 8, the metal material sheet M is half-etched to form the space defining surface 3a of the sealed space 3. .. In this way, the upper metal sheet 20 having the upper flow path recess 21 forming a part of the sealed space 3 is formed.

画定面形成工程においては、まず、金属材料シートMの下面Maに図示しない第1レジスト膜が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の上側流路突出部22および上側周縁壁23に対応するパターン状に形成される。続いて、第1ハーフエッチング工程として、金属材料シートMの下面Maがハーフエッチングされる。このことにより、金属材料シートMの下面Maのうち第1レジスト膜の開口(図示せず)に対応する部分がハーフエッチングされて密封空間3の空間画定面3aが形成され、図8に示すような上側流路凹部21、上側流路突出部22および上側周縁壁23が形成される。この際、図1および図3に示す上側注入流路凹部26も同時に形成され、また、金属材料シートMが下面Maおよび上面からエッチングされて、外側面20cが形成されて、所定の外形輪郭形状が得られる。第1ハーフエッチング工程の後、第1レジスト膜が除去される。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、上側金属シート20の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。 In the defining surface forming step, first, a first resist film (not shown) is formed on the lower surface Ma of the metal material sheet M in a pattern corresponding to the plurality of upper flow path protrusions 22 and the upper peripheral wall 23 by photolithography technology. Will be done. Subsequently, as the first half etching step, the lower surface Ma of the metal material sheet M is half-etched. As a result, the portion of the lower surface Ma of the metal material sheet M corresponding to the opening (not shown) of the first resist film is half-etched to form the space defining surface 3a of the sealed space 3, as shown in FIG. The upper flow path recess 21, the upper flow path protrusion 22, and the upper peripheral wall 23 are formed. At this time, the upper injection flow path recess 26 shown in FIGS. 1 and 3 is also formed at the same time, and the metal material sheet M is etched from the lower surface Ma and the upper surface to form the outer surface 20c to form a predetermined outer contour shape. Is obtained. After the first half etching step, the first resist film is removed. The half etching means etching for forming a recess that does not penetrate the material. Therefore, the depth of the recess formed by half etching is not limited to half the thickness of the upper metal sheet 20. As the etching solution, for example, an iron chloride-based etching solution such as a ferric chloride aqueous solution or a copper chloride-based etching solution such as a copper chloride aqueous solution can be used.

画定面形成工程の後、粗面化工程として、図9に示すように、上側金属シート20の放熱面20bに、粗面化部30が形成される。ここでは、ハーフエッチングにより粗面化部30が形成される。 After the defining surface forming step, as a roughening step, as shown in FIG. 9, a roughened portion 30 is formed on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20. Here, the roughened portion 30 is formed by half etching.

粗面化工程においては、まず、図10に示すように、上側金属シート20の放熱面20bに、第2レジスト膜40が形成される。この際、第2レジスト膜40は、上側金属シート20の下面20aを含む全面に形成される。第2レジスト膜40には、電界によって付着可能な電着レジスト材料を好適に使用することができるが、液状のレジスト材料など他の材料を用いてもよい。 In the roughening step, first, as shown in FIG. 10, a second resist film 40 is formed on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20. At this time, the second resist film 40 is formed on the entire surface including the lower surface 20a of the upper metal sheet 20. An electrodeposited resist material that can be adhered by an electric field can be preferably used for the second resist film 40, but other materials such as a liquid resist material may also be used.

続いて、図11に示すように、第2レジスト膜40がパターン化される。すなわち、第2レジスト膜40が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の粗面化凹部32に対応するパターン状に形成され、レジスト開口41が形成される。 Subsequently, as shown in FIG. 11, the second resist film 40 is patterned. That is, the second resist film 40 is formed in a pattern corresponding to the plurality of roughened recesses 32 by the photolithography technique, and the resist opening 41 is formed.

続いて、図12に示すように、第2ハーフエッチング工程として、上側金属シート20の放熱面20bがハーフエッチングされる。すなわち、第2レジスト膜40のレジスト開口41から放熱面20bがハーフエッチングされて、粗面化部30が形成される。このことにより、放熱面20bのうち第2レジスト膜40のレジスト開口41に対応する部分がハーフエッチングされて、放熱面20bに粗面化凹部32が形成される。粗面化凹部32に隣接したハーフエッチングされない部分が、粗面化凸部31になる。第2ハーフエッチング工程で用いるエッチング液は、特に限られることはないが、第1ハーフエッチング工程で用いるエッチング液と同一であってもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 12, the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 is half-etched as the second half-etching step. That is, the heat radiating surface 20b is half-etched from the resist opening 41 of the second resist film 40 to form the roughened portion 30. As a result, the portion of the heat radiating surface 20b corresponding to the resist opening 41 of the second resist film 40 is half-etched, and a roughened concave portion 32 is formed on the heat radiating surface 20b. The non-half-etched portion adjacent to the roughened concave portion 32 becomes the roughened convex portion 31. The etching solution used in the second half etching step is not particularly limited, but may be the same as the etching solution used in the first half etching step.

その後、図13に示すように、第2レジスト膜40が除去される。このようにして、図9に示すような粗面化部30が形成された上側金属シート20が得られる。 After that, as shown in FIG. 13, the second resist film 40 is removed. In this way, the upper metal sheet 20 on which the roughened portion 30 as shown in FIG. 9 is formed can be obtained.

一方、上側金属シート20と同様にして、下側金属シート10用の金属材料シート(図示せず)が上面からハーフエッチングされて、下側流路凹部12、下側流路突出部13および下側周縁壁14が形成される。そして、下側流路凹部12の下側流路突出部13の間にウィックWが挿入されて嵌められる。このようにして、上述した下側金属シート10が得られる。 On the other hand, similarly to the upper metal sheet 20, the metal material sheet (not shown) for the lower metal sheet 10 is half-etched from the upper surface, and the lower flow path recess 12, the lower flow path protrusion 13 and the lower A side peripheral wall 14 is formed. Then, the wick W is inserted and fitted between the lower flow path protrusions 13 of the lower flow path recess 12. In this way, the lower metal sheet 10 described above is obtained.

次に、仮止工程として、図14に示すように、下側流路凹部12を有する下側金属シート10と、上側流路凹部21を有する上側金属シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側金属シート10の下側アライメント孔15(図1参照)と上側金属シート20の上側アライメント孔24(図1参照)とを利用して、下側金属シート10と上側金属シート20とが位置決めされる。続いて、下側金属シート10と上側金属シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10と上側金属シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート10と上側金属シート20とを固定してもよい。この場合、図14に示すように、電極棒42を用いてスポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。このようにして、下側金属シート10と上側金属シート20とが、位置決めされた状態で固定される。 Next, as a temporary fixing step, as shown in FIG. 14, the lower metal sheet 10 having the lower flow path recess 12 and the upper metal sheet 20 having the upper flow path recess 21 are temporarily fixed. In this case, first, the lower metal sheet 10 and the upper metal are used by using the lower alignment hole 15 (see FIG. 1) of the lower metal sheet 10 and the upper alignment hole 24 (see FIG. 1) of the upper metal sheet 20. The sheet 20 is positioned. Subsequently, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed. The fixing method is not particularly limited, but for example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed by resistance welding to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. You may. In this case, as shown in FIG. 14, it is preferable to perform spot resistance welding using the electrode rod 42. Laser welding may be performed instead of resistance welding. In this way, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed in a positioned state.

仮止工程の後、接合工程として、図15に示すように、下側金属シート10と上側金属シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側金属シート10と上側金属シート20とを密着させ、減圧雰囲気中で、各金属シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート10および上側金属シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート10、20が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側金属シート10と上側金属シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側注入流路凹部17(図1および図3参照)と上側注入流路凹部26(図1および図3参照)とによって、密封空間3に連通する作動液2の注入流路が形成される。さらに、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。 After the temporary fixing step, as a joining step, as shown in FIG. 15, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are permanently joined by diffusion joining. Diffusion bonding means that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to be bonded are brought into close contact with each other, and in a reduced pressure atmosphere, the metal sheets 10 and 20 are pressed and heated in the direction of close contact, and atoms generated on the bonded surface are formed. It is a method of joining using the diffusion of. Diffusion bonding heats the materials of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to a temperature close to the melting point, but since it is lower than the melting point, it is possible to prevent the metal sheets 10 and 20 from melting and deforming. More specifically, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are diffusively joined as a joining surface. As a result, the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 form a sealing space 3 between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. Further, the lower injection flow path recess 17 (see FIGS. 1 and 3) and the upper injection flow path recess 26 (see FIGS. 1 and 3) form an injection flow path for the hydraulic fluid 2 communicating with the sealed space 3. Will be done. Further, the upper surface 13a of the lower flow path protrusion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow path protrusion 22 of the upper metal sheet 20 are diffusively joined as joint surfaces to form the vapor chamber 1. Mechanical strength is improved.

接合工程の後、封入工程として、図16に示すように、注入部4(図1および図3参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。 After the joining step, as a sealing step, the working liquid 2 is injected into the sealed space 3 from the injection section 4 (see FIGS. 1 and 3) as shown in FIG. At this time, first, the sealed space 3 is evacuated and depressurized, and then the working fluid 2 is injected into the sealed space 3. At the time of injection, the working fluid 2 passes through the injection flow path formed by the lower injection flow path recess 17 and the upper injection flow path recess 26.

作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止することが好適である。このことにより、密封空間3と外気との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。 After injecting the working fluid 2, the above-mentioned injection flow path is sealed. For example, it is preferable to irradiate the injection unit 4 with a laser to partially melt the injection unit 4 to seal the injection flow path. As a result, the communication between the sealed space 3 and the outside air is cut off, and the hydraulic fluid 2 is sealed in the sealed space 3. In this way, the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 is prevented from leaking to the outside.

以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が得られる。 As described above, the vapor chamber 1 according to the present embodiment is obtained.

上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、モバイル端末等のハウジング内に設置されるとともに、下側金属シート10の受熱面10bに、被冷却対象物であるCPU等のデバイスDが取り付けられる。この場合、上側金属シート20の放熱面20bは、他の部材に接することなく、ハウジング内に収容される。放熱面20bの周囲は、ハウジング内の空気に覆われる。なお、放熱面20bには、他の電子回路部品との接触を避けるための絶縁シートが貼り付けられる場合がある。 The vapor chamber 1 obtained as described above is installed in a housing of a mobile terminal or the like, and a device D such as a CPU, which is an object to be cooled, is attached to a heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10. .. In this case, the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 is housed in the housing without coming into contact with other members. The periphery of the heat radiating surface 20b is covered with the air inside the housing. An insulating sheet for avoiding contact with other electronic circuit components may be attached to the heat radiating surface 20b.

次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイスDの冷却方法について説明する。 Next, a method of operating the vapor chamber 1, that is, a method of cooling the device D will be described.

下側金属シート10が鉛直下方に配置され、上側金属シート20が鉛直上方に配置される場合には、密封空間3に封入された作動液2の多くは、重力の影響を受けて、下側金属シート10の下側流路凹部12に滞留する。 When the lower metal sheet 10 is arranged vertically below and the upper metal sheet 20 is arranged vertically above, most of the hydraulic fluid 2 sealed in the sealed space 3 is affected by gravity and is located on the lower side. It stays in the lower flow path recess 12 of the metal sheet 10.

この状態でデバイスDが発熱すると、下側流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイスDから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、作動液2の蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3内を上昇して上側流路凹部21内に拡散する。生成された蒸気の一部は、下側金属シート10の下側流路凹部12内でも拡散する。上側流路凹部21内および下側流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される(図3の実線矢印参照)。拡散した蒸気は、ベーパーチャンバ1の下側金属シート10および上側金属シート20に放熱して冷却される。 When the device D generates heat in this state, the working liquid 2 existing in the evaporation portion 11 of the lower flow path recess 12 receives heat from the device D. The received heat is absorbed as latent heat, the working liquid 2 evaporates (vaporizes), and the vapor of the working liquid 2 is generated. Most of the generated steam rises in the sealed space 3 and diffuses into the upper flow path recess 21. A part of the generated steam also diffuses in the lower flow path recess 12 of the lower metal sheet 10. The steam in the upper flow path recess 21 and the lower flow path recess 12 is separated from the evaporation portion 11, and most of the steam is transported to the peripheral portion where the temperature is relatively low (see the solid line arrow in FIG. 3). The diffused steam dissipates heat to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 of the vapor chamber 1 and is cooled.

下側金属シート10および上側金属シート20が蒸気から受けた熱は、上側金属シート20の放熱面20bから周囲の空気に伝達されて放出される。この際、放熱面20bには、密封空間3を画定する空間画定面3aの表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部30(粗面化凸部31および粗面化凹部32)が形成されている。このことにより、粗面化部30において、放熱面20bと周囲の空気との接触面積が大きくなっており、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗が低減されている。このことにより、放熱面20bからは効率良く熱が放出される。言い換えると、下側金属シート10および上側金属シート20は、周囲の空気によって効率良く冷却され、これにより、密封空間3の下側流路凹部12内および上側流路凹部21内の作動液2の蒸気を効率良く冷却することができる。このため、密封空間3内の蒸気の凝縮速度を高めることができ、作動液2の相変化を促進することができる。 The heat received from the steam by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 is transferred to the surrounding air from the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 and released. At this time, the heat radiating surface 20b is provided with a roughened portion 30 (roughened convex portion 31 and roughened concave portion 32) having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface 3a defining the sealed space 3. It is formed. As a result, in the roughened portion 30, the contact area between the heat radiating surface 20b and the surrounding air is increased, and the thermal resistance between the heat radiating surface 20b and the surrounding air is reduced. As a result, heat is efficiently released from the heat radiating surface 20b. In other words, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are efficiently cooled by the surrounding air, whereby the hydraulic fluid 2 in the lower flow path recess 12 and the upper flow path recess 21 in the sealed space 3 The steam can be cooled efficiently. Therefore, the condensation rate of the vapor in the sealed space 3 can be increased, and the phase change of the working fluid 2 can be promoted.

蒸気は、下側金属シート10および上側金属シート20に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮する。上側流路凹部21内において液状になった作動液2は、上側流路凹部21内を下降して、下側流路凹部12に達する。蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、下側流路凹部12のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって輸送される(図3の破線矢印参照)。この際、下側流路凹部12には、毛細管作用を発揮することができるウィックWが設けられている。このため、ウィックWの毛細管作用により、作動液2は、蒸発部11に向かう推進力を得て、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。 By radiating heat to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20, the steam loses the latent heat absorbed in the evaporation unit 11 and condenses. The hydraulic fluid 2 that has become liquid in the upper flow path recess 21 descends in the upper flow path recess 21 and reaches the lower flow path recess 12. Since the working liquid 2 continues to evaporate in the evaporation part 11, the working liquid 2 in the lower flow path recess 12 other than the evaporation part 11 is transported toward the evaporation part 11 (broken line arrow in FIG. 3). reference). At this time, the lower flow path recess 12 is provided with a wick W capable of exerting a capillary action. Therefore, due to the capillary action of the wick W, the working liquid 2 obtains a propulsive force toward the evaporation unit 11 and is smoothly transported toward the evaporation unit 11.

蒸発部11に達した作動液2は、デバイスDから再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイスDの熱を移動させて放出する。この結果、デバイスDが冷却される。 The working liquid 2 that has reached the evaporation unit 11 receives heat again from the device D and evaporates. In this way, the working fluid 2 recirculates in the vapor chamber 1 while repeating phase change, that is, evaporation and condensation, and transfers and releases the heat of the device D. As a result, the device D is cooled.

このように本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bに粗面化部30が設けられ、粗面化部30が、密封空間3を画定する空間画定面3aの表面粗さよりも大きい表面粗さを有している。このことにより、粗面化部30において、放熱面20bと、放熱面20bの周囲の空気との接触面積を大きくすることができ、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気を効率良く冷却して凝縮させることができる。この結果、熱輸送効率を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the roughened portion 30 is provided on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20, and the roughened portion 30 is based on the surface roughness of the space defining surface 3a defining the sealed space 3. Also has a large surface roughness. As a result, in the roughened portion 30, the contact area between the heat radiating surface 20b and the air around the heat radiating surface 20b can be increased, and the thermal resistance between the heat radiating surface 20b and the surrounding air is reduced. be able to. Therefore, the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 can be efficiently cooled and condensed. As a result, the heat transport efficiency can be improved.

また、本実施の形態によれば、粗面化部30が、複数の粗面化凸部31と、互いに隣り合う粗面化凸部31の間に設けられた粗面化凹部32と、を有している。このことにより、粗面化凸部31の平面サイズ(平面視における直径)、配列ピッチ、ハーフエッチング深さ(高さ)を任意に設計することができる。このため、粗面化部30に所望の接触面積を持たせることができ、粗面化部30の熱抵抗を制御することができる。 Further, according to the present embodiment, the roughened portion 30 has a plurality of roughened convex portions 31 and a roughened concave portion 32 provided between the roughened convex portions 31 adjacent to each other. Have. Thereby, the plane size (diameter in the plan view), the arrangement pitch, and the half etching depth (height) of the roughened convex portion 31 can be arbitrarily designed. Therefore, the roughened portion 30 can have a desired contact area, and the thermal resistance of the roughened portion 30 can be controlled.

なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることなく、粗面化部30は、放熱面20bの一部に形成されるようにしてもよい。この場合においても、この粗面化部30において、放熱面20bと周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。 In the present embodiment described above, an example in which the roughened portion 30 is provided on the entire heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the roughened portion 30 may be formed on a part of the heat radiating surface 20b. Even in this case, in the roughened portion 30, the thermal resistance between the heat radiating surface 20b and the surrounding air can be reduced, and the heat transport efficiency can be improved.

また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bに設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図17に示すように、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの少なくとも一部にも設けられていてよい。図17は、粗面化部30が、受熱面10bの全体に設けられている例を示している。なお、受熱面10bへの粗面化部30の形成は、上側金属シート20の放熱面20bに粗面化部30を形成する方法と同様の方法により形成することができる。 Further, in the above-described embodiment, the example in which the roughened portion 30 is provided on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 has been described. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 17, the roughened portion 30 may be provided on at least a part of the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10. FIG. 17 shows an example in which the roughened portion 30 is provided on the entire heat receiving surface 10b. The roughened portion 30 can be formed on the heat receiving surface 10b by the same method as the method for forming the roughened portion 30 on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20.

粗面化部30が、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられている場合には、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。とりわけ、受熱面10bとデバイスDとの間に、軟質性の熱伝導シート(図示せず)が介在されている場合には、熱伝導シートが、粗面化部30の粗面化凹部32内に入り込むことができるため、受熱面10bと熱伝導シートとの接触面積を大きくすることができる。このことにより、受熱面10bとデバイスDとの間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。熱伝導シートの代わりに、熱を容易に伝導させるためのグリース等の半固体状部材が、受熱面10bとデバイスDとの間に介在されるようにしてもよい。 When the roughened portion 30 is provided on the portion of the heat receiving surface 10b to which the device D is attached, the thermal resistance between the device D and the heat receiving surface 10b can be reduced. In particular, when a soft heat conductive sheet (not shown) is interposed between the heat receiving surface 10b and the device D, the heat conductive sheet is placed in the roughened concave portion 32 of the roughened portion 30. Since it can penetrate, the contact area between the heat receiving surface 10b and the heat conductive sheet can be increased. As a result, the thermal resistance between the heat receiving surface 10b and the device D can be reduced, and the heat transport efficiency can be improved. Instead of the heat conductive sheet, a semi-solid member such as grease for easily conducting heat may be interposed between the heat receiving surface 10b and the device D.

粗面化部30が、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられている場合には、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができ、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させ、熱輸送効率を向上させることができる。 When the roughened portion 30 is provided on a portion of the heat receiving surface 10b other than the portion to which the device D is attached, the thermal resistance between the lower metal sheet 10 and the surrounding air can be reduced. It is possible to further cool and condense the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 to improve the heat transport efficiency.

また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が設けられた放熱面20bが、他の部材に接することなく、空気に覆われている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、放熱面20bに、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材(図示せず)が配置されるようにしてもよい。この場合、放熱面20bとハウジング部材との間に、軟質性の熱伝導シート(図示せず)が介在されていることが好適である。このような熱伝導シートは、粗面化部30の粗面化凹部32内に入り込むことができるため、放熱面20bと熱伝導シートとの接触面積を大きくすることができる。このことにより、放熱面20bと熱伝導シートとの間の熱抵抗、すなわち放熱面20bとハウジング部材との間の熱抵抗を低減することができ、熱輸送効率を向上させることができる。熱伝導シートの代わりに、熱を容易に伝導させるためのグリース等の半固体状部材が、放熱面20bとハウジング部材との間に介在されるようにしてもよい。 Further, in the above-described embodiment, an example has been described in which the heat radiating surface 20b provided with the roughened portion 30 is covered with air without coming into contact with other members. However, it is not limited to this. For example, a housing member (not shown) forming a part of a housing of a mobile terminal or the like may be arranged on the heat radiating surface 20b. In this case, it is preferable that a soft heat conductive sheet (not shown) is interposed between the heat radiating surface 20b and the housing member. Since such a heat conductive sheet can enter the roughened concave portion 32 of the roughened portion 30, the contact area between the heat radiating surface 20b and the heat conductive sheet can be increased. As a result, the thermal resistance between the heat radiating surface 20b and the heat conductive sheet, that is, the thermal resistance between the heat radiating surface 20b and the housing member can be reduced, and the heat transport efficiency can be improved. Instead of the heat conductive sheet, a semi-solid member such as grease for easily conducting heat may be interposed between the heat radiating surface 20b and the housing member.

また、上述した本実施の形態においては、粗面化部30を形成する粗面化工程が、密封空間3の空間画定面3aを形成する画定面形成工程と、下側金属シート10と上側金属シート20とを接合する接合工程との間(より詳細には、画定面形成工程と仮接合工程との間)に行われる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われるようにしてもよい。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、上側金属シート20の放熱面20bに、エッチングによって粗面化部30を形成してもよい。また、粗面化工程は、画定面形成工程と同時に行われるようにしてもよい。この場合には、図11および図12に示すレジスト開口41の幅を、粗面化凹部32の幅よりも小さくすることが好適である。このことにより、レジスト開口41に入り込むエッチング液の量が低減され、放熱面20bのうちレジスト開口41に対応する部分のエッチング速度が低下する。このため、所望の深さを有する上側流路凹部21を形成しながら、レジスト開口41によって形成される粗面化凹部32の深さを浅くすることができる。このように粗面化工程と画定面形成工程とを同時に行う場合には、ハーフエッチング工程の回数を減らすことができ、製造効率を向上させることができる。 Further, in the above-described embodiment, the roughening step for forming the roughened portion 30 is a demarcating surface forming step for forming the space demarcating surface 3a of the sealed space 3, the lower metal sheet 10 and the upper metal. An example performed between the joining step of joining the sheet 20 (more specifically, between the demarcation surface forming step and the temporary joining step) has been described. However, the present invention is not limited to this, and the roughening step may be performed after the encapsulation step of encapsulating the working liquid 2. That is, after the hydraulic fluid 2 is sealed as shown in FIG. 16, the roughened portion 30 may be formed on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 by etching. Further, the roughening step may be performed at the same time as the defining surface forming step. In this case, it is preferable that the width of the resist opening 41 shown in FIGS. 11 and 12 is smaller than the width of the roughened recess 32. As a result, the amount of the etching solution that enters the resist opening 41 is reduced, and the etching rate of the portion of the heat radiating surface 20b corresponding to the resist opening 41 is reduced. Therefore, the depth of the roughened recess 32 formed by the resist opening 41 can be made shallow while forming the upper flow path recess 21 having a desired depth. When the roughening step and the defining surface forming step are performed at the same time as described above, the number of half etching steps can be reduced and the manufacturing efficiency can be improved.

さらに、上述した本実施の形態においては、粗面化部30は、エッチングにより形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、機械加工で切削することによって形成されるようにしてもよい。 Further, in the present embodiment described above, an example in which the roughened portion 30 is formed by etching has been described. However, the present invention is not limited to this, and the roughened portion 30 may be formed by cutting by machining.

(第2の実施の形態)
次に、図18を用いて、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a method for manufacturing the vapor chamber, the metal sheet for the vapor chamber, and the vapor chamber according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図18に示す第2の実施の形態においては、粗面化部が、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図18において、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The second embodiment shown in FIG. 18 is mainly different in that the roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material, and other configurations are shown in FIGS. 1 to 17. It is substantially the same as the first embodiment. In FIG. 18, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 17 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図18に示すように、本実施の形態では、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。また、粗面化部30は、ハーフエッチングによって形成されており、上側金属シート20を構成する材料の結晶50の粒界面51によって粗面化されている。本実施の形態による粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.20μm〜1.20μmであることが好適である。 As shown in FIG. 18, in the present embodiment, the roughened portion 30 is provided on the entire heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20. Further, the roughened portion 30 is formed by half etching, and is roughened by the grain interface 51 of the crystal 50 of the material constituting the upper metal sheet 20. The surface roughness (Ra) of the roughened portion 30 according to the present embodiment is preferably 0.20 μm to 1.20 μm.

また、本実施の形態では、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの全体および周縁外側面5の全体にも形成されている。すなわち、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cと、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cとに、粗面化部30が形成されている。このようにして、ベーパーチャンバ1の全体にわたって粗面化部30が形成されている。しかしながら、ベーパーチャンバ1の注入部4には、粗面化部30は形成されていなくてもよい。 Further, in the present embodiment, the roughened portion 30 is also formed on the entire heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10 and the entire peripheral outer surface 5. That is, the roughened portion 30 is formed on the heat radiating surface 20b and the outer surface 20c of the upper metal sheet 20 and the heat receiving surface 10b and the outer surface 10c of the lower metal sheet 10. In this way, the roughened portion 30 is formed over the entire vapor chamber 1. However, the roughened portion 30 may not be formed in the injection portion 4 of the vapor chamber 1.

本実施の形態では、粗面化部30を形成する粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われることが好適である。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10c、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cに、粗面化部30を形成してもよい。 In the present embodiment, it is preferable that the roughening step for forming the roughened portion 30 is performed after the sealing step for filling the working liquid 2. That is, as shown in FIG. 16, after the hydraulic fluid 2 is sealed, the roughened portion 30 is formed on the heat receiving surface 10b and the outer surface 10c of the lower metal sheet 10 and the heat radiating surface 20b and the outer surface 20c of the upper metal sheet 20. May be formed.

本実施の形態による粗面化部30を形成するためのエッチング液は、浸食効果が小さいことが好適である。すなわち、粗面化部30を形成する粗面化工程で用いるエッチング液は、密封空間3の空間画定面3aを形成する画定面形成工程で用いるエッチング液よりも浸食効果が小さいことが好適である。このことにより、結晶50の粒界面51に関わることなく材料が浸食されることを防止し、粒界面51に沿った形状を有する粗面化部30を形成することができる。このようなエッチング液としては、画定面形成工程の第1ハーフエッチング工程で用いるエッチング液よりも浸食効果が小さいギ酸系のエッチング液であることが好ましく、例えば、メック社製のCZシリーズや、三菱ガス化学社製のEMRシリーズを用いることが好適である。 The etching solution for forming the roughened portion 30 according to the present embodiment preferably has a small erosion effect. That is, it is preferable that the etching solution used in the roughening step for forming the roughened portion 30 has a smaller erosion effect than the etching solution used in the defining surface forming step for forming the space defining surface 3a of the sealed space 3. .. As a result, it is possible to prevent the material from being eroded without being involved in the grain interface 51 of the crystal 50, and to form the roughened portion 30 having a shape along the grain interface 51. As such an etching solution, it is preferable that the etching solution is a formic acid-based etching solution having a smaller erosion effect than the etching solution used in the first half etching step of the demarcation surface forming step. It is preferable to use the EMR series manufactured by Gas Chemical Company.

このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の受熱面10bに設けられた粗面化部30が、下側金属シート10を構成する材料の結晶50の粒界面51によって形成されて、上側金属シート20の放熱面20bに設けられた粗面化部30が、上側金属シート20を構成する材料の結晶50の粒界面51によって形成されている。このことにより、エッチングによって受熱面10bおよび放熱面20bを粗面化することができるため、受熱面10bおよび放熱面20bを容易に粗面化することができる。 As described above, according to the present embodiment, the roughened portion 30 provided on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10 is formed by the grain interface 51 of the crystals 50 of the material constituting the lower metal sheet 10. The roughened portion 30 provided on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 is formed by the grain interface 51 of the crystals 50 of the materials constituting the upper metal sheet 20. As a result, the heat receiving surface 10b and the heat radiating surface 20b can be roughened by etching, so that the heat receiving surface 10b and the heat radiating surface 20b can be easily roughened.

また、本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bだけではなく、下側金属シート10の受熱面10bにも、粗面化部30が設けられている。このことにより、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられた粗面化部30によって、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。このため、熱輸送効率を向上させることができる。また、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられた粗面化部30によって、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the roughened portion 30 is provided not only on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 but also on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10. As a result, the thermal resistance between the device D and the heat receiving surface 10b can be reduced by the roughened portion 30 provided in the portion of the heat receiving surface 10b to which the device D is attached. Therefore, the heat transport efficiency can be improved. Further, the thermal resistance between the lower metal sheet 10 and the surrounding air can be reduced by the roughened portion 30 provided on the portion of the heat receiving surface 10b other than the portion to which the device D is attached. Therefore, the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 can be further cooled and condensed, and the heat transport efficiency can be improved.

また、本実施の形態によれば、ベーパーチャンバ1の周縁外側面5にも粗面化部30が設けられている。このことにより、周縁外側面5と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率をより一層向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the roughened portion 30 is also provided on the outer peripheral surface 5 of the vapor chamber 1. This makes it possible to reduce the thermal resistance between the peripheral outer surface 5 and the surrounding air. Therefore, the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 can be further cooled and condensed, and the heat transport efficiency can be further improved.

さらに、本実施の形態によれば、粗面化工程が、封入工程の後に行われる。このことにより、粒界面51が接合工程時の熱を受けることを防止でき、粒界面51が熱を受けることによって粗面化が喪失されることを回避できる。 Further, according to the present embodiment, the roughening step is performed after the encapsulation step. As a result, it is possible to prevent the grain interface 51 from receiving heat during the joining process, and it is possible to avoid losing the roughening due to the grain interface 51 receiving heat.

なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が、下側金属シート10の受熱面10b、上側金属シート20の放熱面20bおよびベーパーチャンバ1の周縁外側面5に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、受熱面10bに形成されていなくてもよい。あるいは、粗面化部30は、周縁外側面5に形成されていなくてもよい。 In the above-described embodiment, the roughened portion 30 is formed on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10, the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20, and the peripheral outer surface 5 of the vapor chamber 1. An example has been described. However, the present invention is not limited to this, and the roughened portion 30 may not be formed on the heat receiving surface 10b. Alternatively, the roughened portion 30 may not be formed on the outer peripheral surface 5.

(第3の実施の形態)
次に、図19を用いて、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用金属シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。
(Third Embodiment)
Next, with reference to FIG. 19, a method for manufacturing a vapor chamber, a metal sheet for a vapor chamber, and a vapor chamber according to a third embodiment of the present invention will be described.

図19に示す第3の実施の形態においては、粗面化部が、複数の電着物によって粗面化されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図19において、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 The third embodiment shown in FIG. 19 is mainly different in that the roughened portion is roughened by a plurality of electrodeposited objects, and the other configurations are the first shown in FIGS. 1 to 17. It is substantially the same as the embodiment of. In FIG. 19, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 17 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図19に示すように、本実施の形態では、粗面化部30は、上側金属シート20の放熱面20bの全体に設けられている。また、粗面化部30は、電気めっきによって形成されており、複数のこぶ状の電着物52によって粗面化されている。本実施の形態による粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.15μm〜0.30μmであることが好適である。 As shown in FIG. 19, in the present embodiment, the roughened portion 30 is provided on the entire heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20. Further, the roughened portion 30 is formed by electroplating, and is roughened by a plurality of hump-shaped electrodeposits 52. The surface roughness (Ra) of the roughened portion 30 according to the present embodiment is preferably 0.15 μm to 0.30 μm.

また、本実施の形態では、粗面化部30は、下側金属シート10の受熱面10bの全体および周縁外側面5の全体にも形成されている。すなわち、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cと、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cとに、粗面化部30が形成されている。このようにして、ベーパーチャンバ1全体にわたって粗面化部30が形成されている。しかしながら、ベーパーチャンバ1の注入部4には、粗面化部30は形成されていなくてもよい。 Further, in the present embodiment, the roughened portion 30 is also formed on the entire heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10 and the entire peripheral outer surface 5. That is, the roughened portion 30 is formed on the heat radiating surface 20b and the outer surface 20c of the upper metal sheet 20 and the heat receiving surface 10b and the outer surface 10c of the lower metal sheet 10. In this way, the roughened portion 30 is formed over the entire vapor chamber 1. However, the roughened portion 30 may not be formed in the injection portion 4 of the vapor chamber 1.

本実施の形態では、粗面化部30を形成する粗面化工程は、作動液2を封入する封入工程の後に行われることが好適である。すなわち、図16に示すように作動液2が封入された後、下側金属シート10の受熱面10bおよび外側面10cと、上側金属シート20の放熱面20bおよび外側面20cに、粗面化部30を形成してもよい。 In the present embodiment, it is preferable that the roughening step for forming the roughened portion 30 is performed after the sealing step for filling the working liquid 2. That is, after the hydraulic fluid 2 is sealed as shown in FIG. 16, roughened portions are formed on the heat receiving surface 10b and the outer surface 10c of the lower metal sheet 10 and the heat radiating surface 20b and the outer surface 20c of the upper metal sheet 20. 30 may be formed.

本実施の形態による粗面化部30を構成するこぶ状の電着物52は、こぶめっき(やけめっきとも言う)と称される電気めっきによって形成することができる。形成された電着物52は丸みを帯びた突起物のようになる。電着物52は、下側金属シート10の材料と同じ材料(例えば、純銅)によって形成することが好適であり、この場合には、めっき液としてロームアンドハース社製マイクロポジットや、奥野製薬工業社製のトップルチナを使用することが好適である。 The hump-shaped electrodeposited object 52 constituting the roughened portion 30 according to the present embodiment can be formed by electroplating called hump plating (also referred to as burnt plating). The formed electrodeposited object 52 becomes like a rounded protrusion. The electrodeposited material 52 is preferably formed of the same material as the material of the lower metal sheet 10 (for example, pure copper). In this case, the plating solution is Microposit manufactured by Roam & Haas, or Okuno Pharmaceutical Industry Co., Ltd. It is preferable to use a top rutina made of.

なお、本実施の形態による粗面化部30の電着物52は、針状に形成されていてもよい。この場合には、粗面化部30の表面粗さ(Ra)は、0.10μm〜1.0μmであることが好適である。針状の電着物を形成する場合には、電着条件や薬液添加剤の組成を調整すればよい。 The electrodeposited object 52 of the roughened portion 30 according to the present embodiment may be formed in a needle shape. In this case, the surface roughness (Ra) of the roughened portion 30 is preferably 0.10 μm to 1.0 μm. When forming a needle-shaped electrodeposit, the electrodeposition conditions and the composition of the chemical solution additive may be adjusted.

このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の受熱面10bに設けられた粗面化部30が、複数の電着物52によって形成されて、上側金属シート20の放熱面20bに設けられた粗面化部30が、複数の電着物52によって形成されている。このことにより、受熱面10bおよび放熱面20bを容易に粗面化することができる。また、めっきによって受熱面10bおよび放熱面20bを粗面化することができるため、めっき液の種類を変えることにより、電着物52の材質を変えることもできる。 As described above, according to the present embodiment, the roughened portion 30 provided on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10 is formed by the plurality of electrodeposited objects 52, and is formed on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20. The roughened portion 30 provided is formed by a plurality of electrodeposited objects 52. As a result, the heat receiving surface 10b and the heat radiating surface 20b can be easily roughened. Further, since the heat receiving surface 10b and the heat radiating surface 20b can be roughened by plating, the material of the electrodeposited object 52 can be changed by changing the type of plating solution.

また、本実施の形態によれば、上側金属シート20の放熱面20bだけではなく、下側金属シート10の受熱面10bにも、粗面化部30が設けられている。このことにより、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分に設けられた粗面化部30によって、デバイスDと受熱面10bとの間の熱抵抗を低減することができる。このため、熱輸送効率を向上させることができる。また、受熱面10bのうちデバイスDが取り付けられる部分以外の部分に設けられた粗面化部30によって、下側金属シート10と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the roughened portion 30 is provided not only on the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20 but also on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10. As a result, the thermal resistance between the device D and the heat receiving surface 10b can be reduced by the roughened portion 30 provided in the portion of the heat receiving surface 10b to which the device D is attached. Therefore, the heat transport efficiency can be improved. Further, the thermal resistance between the lower metal sheet 10 and the surrounding air can be reduced by the roughened portion 30 provided on the portion of the heat receiving surface 10b other than the portion to which the device D is attached. Therefore, the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 can be further cooled and condensed, and the heat transport efficiency can be improved.

また、本実施の形態によれば、ベーパーチャンバ1の周縁外側面5にも粗面化部30が設けられている。このことにより、周縁外側面5と周囲の空気との間の熱抵抗を低減することができる。このため、密封空間3内の作動液2の蒸気をより一層冷却して凝縮させることができ、熱輸送効率をより一層向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, the roughened portion 30 is also provided on the outer peripheral surface 5 of the vapor chamber 1. This makes it possible to reduce the thermal resistance between the peripheral outer surface 5 and the surrounding air. Therefore, the vapor of the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 can be further cooled and condensed, and the heat transport efficiency can be further improved.

さらに、本実施の形態によれば、粗面化工程が、封入工程の後に行われる。このことにより、電着物52が接合工程時の熱によって溶融することを防止でき、電着物52が熱を受けることによって粗面化が喪失されることを回避できる。 Further, according to the present embodiment, the roughening step is performed after the encapsulation step. As a result, it is possible to prevent the electrodeposited object 52 from being melted by the heat during the joining process, and it is possible to prevent the electrodeposited object 52 from losing its roughening due to receiving heat.

なお、上述した本実施の形態においては、粗面化部30が、下側金属シート10の受熱面10b、上側金属シート20の放熱面20bおよびベーパーチャンバ1の周縁外側面5に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、粗面化部30は、受熱面10bに形成されていなくてもよい。あるいは、粗面化部30は、周縁外側面5に形成されていなくてもよい。 In the above-described embodiment, the roughened portion 30 is formed on the heat receiving surface 10b of the lower metal sheet 10, the heat radiating surface 20b of the upper metal sheet 20, and the peripheral outer surface 5 of the vapor chamber 1. An example has been described. However, the present invention is not limited to this, and the roughened portion 30 may not be formed on the heat receiving surface 10b. Alternatively, the roughened portion 30 may not be formed on the outer peripheral surface 5.

本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態および変形例にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment and modification as it is, and at the implementation stage, the components can be modified and embodied within a range that does not deviate from the gist thereof. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining the plurality of components disclosed in the above-described embodiments and modifications. Some components may be removed from all the components shown in the embodiments and modifications. In addition, components spanning different embodiments and variations may be combined as appropriate.

例えば、上述した本実施の形態においては、下側金属シート10の下側流路凹部12内に、下側流路突出部13がボスとして設けられるとともに、上側金属シート20の上側流路凹部21内に、上側流路突出部22がボスとして設けられている例について説明した。しかしながら、下側流路突出部13および上側流路突出部22の形状や構成は、これに限られることはなく、任意である。 For example, in the above-described embodiment, the lower flow path protrusion 13 is provided as a boss in the lower flow path recess 12 of the lower metal sheet 10, and the upper flow path recess 21 of the upper metal sheet 20 is provided. An example in which the upper flow path protrusion 22 is provided as a boss has been described. However, the shape and configuration of the lower flow path protrusion 13 and the upper flow path protrusion 22 are not limited to this, and are arbitrary.

また、上述した本実施の形態においては、下側金属シート10の上面10aに、密封空間3の一部として下側流路凹部12が形成されるとともに、上側金属シート20の下面20aに、密封空間3の一部として上側流路凹部21が形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、密封空間3は、下側金属シート10および上側金属シート20のいずれか一方に形成されていれば他方に形成されていなくてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the lower flow path recess 12 is formed as a part of the sealing space 3 on the upper surface 10a of the lower metal sheet 10, and is sealed on the lower surface 20a of the upper metal sheet 20. An example in which the upper flow path recess 21 is formed as a part of the space 3 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the sealing space 3 may not be formed in any one of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 as long as it is formed in the other.

また、上述した本実施の形態において、粗面化部30を針状に形成する場合には、電着による方法に限られることはない。例えば、下側金属シート10および上側金属シート20が銅で形成されている場合には、粗面化部30を形成する面を酸化処理して酸化銅を析出させることで、針状の電着物を形成するようにしてもよい。あるいは、粗面化部30を形成する面を還元処理し、亜酸化銅を析出させることで、針状の電着物を形成するようにしてもよい。この場合においても、上述した粗面化部30の針状の電着物52と同様に、粗面化部30の表面粗さ(Ra)を、0.10μm〜1.0μmにすることができる。 Further, in the above-described embodiment, when the roughened portion 30 is formed in a needle shape, the method is not limited to the electrodeposition method. For example, when the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are made of copper, the surface forming the roughened portion 30 is oxidized to precipitate copper oxide, whereby a needle-shaped electrodeposited material is formed. May be formed. Alternatively, the surface forming the roughened portion 30 may be reduced to precipitate cuprous oxide to form a needle-shaped electrodeposit. Also in this case, the surface roughness (Ra) of the roughened portion 30 can be set to 0.10 μm to 1.0 μm, similarly to the needle-shaped electrodeposited object 52 of the roughened portion 30 described above.

1 ベーパーチャンバ
2 作動液
3 密封空間
3a 空間画定面
5 周縁外側面
30 粗面化部
31 粗面化凸部
32 粗面化凹部
33 凹部開口部
34 大幅部
50 結晶
51 粒界面
52 電着物
1 Vapor chamber 2 Working fluid 3 Sealed space 3a Space demarcation surface 5 Peripheral outer surface 30 Roughened part 31 Roughened convex part 32 Roughened concave part 33 Recessed opening 34 Large part 50 Crystal 51 Grain interface 52 Electrodeposition

Claims (22)

作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、
前記放熱面の少なくとも一部に設けられるとともに前記受熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備えた、ベーパーチャンバ。
A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The space demarcation surface that defines the sealed space and
The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
Provided on at least a portion of Rutotomoni the heat receiving surface provided on at least a portion of the heat radiating surface, equipped with a roughened portion having a larger surface roughness than the surface roughness of the space defining surfaces, vapor chamber ..
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、請求項に記載のベーパーチャンバ。 The vapor chamber according to claim 1 , wherein the roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material. 前記粗面化部は、複数の電着物によって粗面化されている、請求項に記載のベーパーチャンバ。 The vapor chamber according to claim 1 , wherein the roughened portion is roughened by a plurality of electrodeposits. 前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面を更に備え、
前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、請求項またはに記載のベーパーチャンバ。
Further provided with an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface.
The vapor chamber according to claim 2 or 3 , wherein the roughened portion is also provided on the outer peripheral surface of the peripheral edge.
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface.
前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面と、を備え、A peripheral outer surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface is provided.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって、または複数の電着物によって粗面化され、The roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material or by a plurality of electrodepositions.
前記粗面化部は、前記周縁外側面にも設けられている、ベーパーチャンバ。The roughened portion is a vapor chamber that is also provided on the outer peripheral surface of the peripheral edge.
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface is provided.
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバ。A vapor chamber in which a plurality of roughened protrusions are arranged in two directions intersecting each other.
前記粗面化部は、前記受熱面の少なくとも一部にも設けられている、請求項6に記載のベーパーチャンバ。The vapor chamber according to claim 6, wherein the roughened portion is also provided on at least a part of the heat receiving surface. 作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、A vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記密封空間を画定する空間画定面と、The space demarcation surface that defines the sealed space and
前記被冷却装置から熱を受ける受熱面と、The heat receiving surface that receives heat from the cooled device and
前記密封空間に対して前記受熱面の側とは反対側に設けられた放熱面と、A heat radiating surface provided on the side opposite to the heat receiving surface side with respect to the sealed space,
前記放熱面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、A roughened portion provided on at least a part of the heat radiating surface and having a surface roughness larger than the surface roughness of the space defining surface is provided.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ベーパーチャンバ。The roughened portion is a vapor chamber that is roughened by the grain interface of the crystal of the material.
前記受熱面を有する第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられ、前記放熱面を有する第2金属シートと、を更に備え、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間が形成されている、請求項1〜のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ。
The first metal sheet having the heat receiving surface and
A second metal sheet provided on the first metal sheet and having the heat radiating surface is further provided.
The vapor chamber according to any one of claims 1 to 8 , wherein the sealed space is formed between the first metal sheet and the second metal sheet.
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記密封空間の少なくとも一部が形成された第1面と、
前記密封空間を画定する空間画定面と、
前記第1面とは反対側に設けられた第2面と、
前記第2面の少なくとも一部に設けられ、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有する粗面化部と、を備え、
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバ用金属シート。
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
The first surface on which at least a part of the sealed space is formed, and
The space demarcation surface that defines the sealed space and
A second surface provided on the side opposite to the first surface,
Wherein provided on at least a portion of the second surface, Bei example and a roughened portion having a larger surface roughness than the surface roughness of the space defining surfaces,
The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
A metal sheet for a vapor chamber in which a plurality of roughened convex portions are arranged in two directions intersecting each other.
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、
粗面化部を形成する粗面化工程と、
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、
前記第1金属シートは、前記被冷却装置から熱を受ける受熱面を有し、
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成されるとともに前記受熱面の少なくとも一部に形成される、ベーパーチャンバの製造方法。
A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
The roughening process for forming the roughened portion and
A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
The first metal sheet has a heat receiving surface that receives heat from the cooled device.
The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
In the step of forming the roughened portion, the roughened portion, the formed on at least a portion of the heat radiation surface is formed on at least a portion of Rutotomoni the heat receiving surface, the manufacturing method of the vapor chamber.
前記粗面化工程は、前記画定面形成工程と前記接合工程との間に行われる、請求項11に記載のベーパーチャンバの製造方法。 The method for manufacturing a vapor chamber according to claim 11 , wherein the roughening step is performed between the defining surface forming step and the joining step. 前記粗面化工程は、前記封入工程の後に行われる、請求項11に記載のベーパーチャンバの製造方法。 The method for manufacturing a vapor chamber according to claim 11 , wherein the roughening step is performed after the sealing step. 前記粗面化工程において、前記粗面化部は、ハーフエッチングによって形成される、請求項1113のいずれか一項に記載のベーパーチャンバの製造方法。 The method for manufacturing a vapor chamber according to any one of claims 11 to 13 , wherein in the roughening step, the roughened portion is formed by half etching. 前記粗面化工程において、前記放熱面に、パターン状のレジスト膜が形成され、その後、前記レジスト膜のレジスト開口から前記放熱面をハーフエッチングして前記粗面化部が形成される、請求項14に記載のベーパーチャンバの製造方法。 The claim that a patterned resist film is formed on the heat-dissipating surface in the roughening step, and then the heat-dissipating surface is half-etched from the resist opening of the resist film to form the roughened portion. 14. The method for manufacturing a vapor chamber according to 14. 前記画定面形成工程において、前記空間画定面はハーフエッチングによって形成され、
前記粗面化工程において用いられるエッチング液は、前記画定面形成工程において用いられるエッチング液よりも浸食効果が小さい、請求項14に記載のベーパーチャンバの製造方法。
In the demarcation surface forming step, the space demarcation surface is formed by half etching.
The method for producing a vapor chamber according to claim 14 , wherein the etching solution used in the roughening step has a smaller erosion effect than the etching solution used in the defining surface forming step.
前記粗面化工程において、前記粗面化部は、電気めっきによって形成される、請求項1113のいずれか一項に記載のベーパーチャンバの製造方法。 The method for manufacturing a vapor chamber according to any one of claims 11 to 13 , wherein in the roughening step, the roughened portion is formed by electroplating. 作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第1金属シートは、前記被冷却装置からの熱を受ける受熱面を有し、The first metal sheet has a heat receiving surface that receives heat from the cooled device.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって、または複数の電着物によって粗面化され、The roughened portion is roughened by the grain interface of the crystal of the material or by a plurality of electrodepositions.
前記粗面化部は、前記放熱面から前記受熱面に延びる周縁外側面にも形成されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is also formed on an outer peripheral surface extending from the heat radiating surface to the heat receiving surface.
前記粗面化部は、複数の前記電着物によって粗面化され、The roughened portion is roughened by the plurality of the electrodeposited objects, and the roughened portion is roughened.
前記粗面化工程において、前記電着物は、電気めっきによって形成される、請求項18に記載のベーパーチャンバの製造方法。The method for manufacturing a vapor chamber according to claim 18, wherein in the roughening step, the electrodeposit is formed by electroplating.
前記粗面化工程は、前記封入工程の後に行われる、請求項18または19に記載のベーパーチャンバの製造方法。The method for manufacturing a vapor chamber according to claim 18 or 19, wherein the roughening step is performed after the sealing step. 作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、離間配置された複数の粗面化凸部を有し、The roughened portion has a plurality of spaced roughened convex portions.
複数の粗面化凸部は、互いに交差する2つの方向に配列されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method of manufacturing a vapor chamber in which a plurality of roughened convex portions are arranged in two directions intersecting each other.
作動液が封入された密封空間を有し、被冷却装置を冷却するベーパーチャンバの製造方法であって、A method for manufacturing a vapor chamber that has a sealed space in which a hydraulic fluid is sealed and cools a device to be cooled.
前記被冷却装置が取り付けられる第1金属シートと、第2金属シートとを準備する準備工程と、A preparatory step for preparing a first metal sheet to which the cooled device is attached and a second metal sheet, and
前記第1金属シートおよび前記第2金属シートのうちの少なくとも一方に前記密封空間を画定する空間画定面を形成する画定面形成工程と、A demarcation surface forming step of forming a space demarcation surface that defines the sealed space on at least one of the first metal sheet and the second metal sheet.
粗面化部を形成する粗面化工程と、The roughening process for forming the roughened portion and
前記第1金属シートと前記第2金属シートとを接合し、前記第1金属シートと前記第2金属シートとの間に前記密封空間を形成する接合工程と、A joining step of joining the first metal sheet and the second metal sheet to form the sealed space between the first metal sheet and the second metal sheet.
前記密封空間に前記作動液を封入する封入工程と、を備え、A sealing step of sealing the working fluid in the sealed space is provided.
前記第2金属シートは、前記密封空間の一部を画定する空間画定面と、前記被冷却装置の側とは反対側に設けられた放熱面と、を有し、The second metal sheet has a space-defining surface that defines a part of the sealed space, and a heat-dissipating surface that is provided on a side opposite to the side of the device to be cooled.
前記粗面化部は、前記空間画定面の表面粗さよりも大きい表面粗さを有し、The roughened portion has a surface roughness larger than the surface roughness of the spatially defined surface.
前記粗面化部を形成する工程において、前記粗面化部は、前記放熱面の少なくとも一部に形成され、In the step of forming the roughened portion, the roughened portion is formed on at least a part of the heat radiating surface.
前記粗面化部は、材料の結晶の粒界面によって粗面化されている、ベーパーチャンバの製造方法。A method for manufacturing a vapor chamber, wherein the roughened portion is roughened by a grain interface of crystals of a material.
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