JP6898855B2 - 光学系 - Google Patents

Description

本発明は、光学系に関し、特に、光路の状態を決定するためのプローブパルスを持つ光学系に関する。本発明はまた、該光学系を有するレーザ処置装置に関する。本発明は更に、該レーザ処置装置を用いるための方法に関する。

毛及び皮膚の処置のための従来の技術は、それぞれ毛を切断する又は壊死した皮膚を除去するため皮膚の表面に置かれ皮膚表面上を引き動かされる、機械的な刃及び研磨剤の配置を含む。しかしながら、これら従来の技術は、皮膚表面に対しては過酷であり、損傷又は刺激を引き起こす。

機械的な刃及び研磨剤の代わりに、毛を切る又は皮膚を処置するためにレーザビームを用いることが知られている。レーザビーム処置は、切断部分を動かすことを必要としないこと、又は皮膚若しくは毛に対して研磨面が置かれることを必要としないことから、好適である。それ故、皮膚表面の損傷又は刺激の問題が軽減される。更に、切断要素の切れ味が鈍くなること、及び研磨剤が平滑となってしまうことといった問題がなくなる。

レーザビームはそれ自体が、高い強度の部分が皮膚表面に接触すると、損傷及び刺激を引き起こしてしまうことも知られている。従来の光学系は、皮膚表面がレーザビームの高強度部分に近過ぎる場合に、レーザビームの作動を止める。しかしながら、光学系は汚れてしまい得、レーザビームの軌道が意図された経路から逸れ得る。このことは、レーザビームが皮膚表面の不適切な領域に向けられること、及び／又は皮膚表面に対して損傷及び刺激を引き起こすことに帰着し得る。

本発明の目的は、上述した問題を著しく軽減する又は克服する光学系を提供することにある。

本発明によれば、複数の光学的要素と、前記光学的要素を通る処置パルス光路に沿って処置パルスを生成するよう構成され、更に、前記光学的要素を通って延在するプローブパルス光路に沿ってプローブパルスを生成するよう構成された、パルス生成構成と、前記光学的要素を通る前記プローブパルス光路に沿って通過した前記プローブパルスの光学的特性を示す情報を生成するよう構成された、センサと、前記センサにより生成された前記情報に依存して、前記処置パルス光路に沿って前記処置パルスを選択的に発するよう、前記パルス生成構成を制御するよう構成された、コントローラと、を有する光学系が提供される。

それ故、該光学系は、プローブパルスに関連するセンサにより生成された情報に依存してのみ、処置パルスを発する。

前記少なくとも１つのセンサにより生成された情報は、前記処置パルス光路におけるいずれかの障害物を示すものであっても良い。

前記少なくとも１つのセンサは、前記プローブパルスの少なくとも１つの特性を示す情報を生成するよう構成されても良い。該少なくとも１つの特性は、限定するものではないが例えば、該光学系を通る変更されたプローブパルス光路の位置、強度、パワー、エネルギー、プローブパルスの空間的分布又は時間的分布であっても良い。幾つかの実施例においては、感知された特性の１つ以上が所定の値又は値の範囲に従わない場合、該コントローラが処置パルスを発しない。

それ故、該少なくとも１つのセンサにより生成された、少なくとも１つのプローブパルスを示す情報が、処置パルス光路の状態が満足のいくものではないこと、即ち軌道が変化させられ、プローブパルスが皮膚表面に接触することを示唆する場合、処置パルス光路が発せられない。従って、皮膚表面に対する損傷又は刺激は、該光学系によって低減される。

前記処置パルスは、皮膚を処置する及び／又は毛を切断するよう構成されても良く、前記プローブパルスのパルスエネルギーよりも大きくても良いパルスエネルギーを持つ。

それ故、該光学系は、皮膚表面に接触し得るパルスが低強度のパルスのみとなることを確実にすることにより、皮膚表面に引き起こされる損傷又は刺激を低減させる。

前記プローブパルスのパルスエネルギーは、皮膚表面に損害を与えるのに十分なものではなくても良い。

それ故、該光学系は、皮膚表面が損傷される又は刺激される可能性を、完全に除去するか又は少なくとも著しく低減させ得る。

前記プローブパルス光路は、前記処置パルス光路の少なくとも一部と一致するよう構成されても良い。代替としては、前記プローブパルス光路は、前記処置パルス光路とは異なる光路であっても良い。例えば、該プローブパルス光路は、該処置パルス光路と略平行に延在しても良い。

プローブパルスと処置パルスが一致する場合、プローブパルスは、処置パルスによりとられる正確な処置パルス光路の状態を確認することが可能となる。プローブパルスと処置パルスとで光路の差がないため、処置パルスの光路の状態の決定における誤差が消去されるか、又は少なくとも著しく低減され得る。

前記プローブパルス光路は、前記光路の状態を決定するため、前記光路に略沿っているか又は前記光路に平行であっても良い。それ故、プローブパルス光路は、処置パルス光路よりも短くても良い。プローブパルス光路は、処置パルス光路の全体ではなく、処置パルス光路の特定の部分において合焦するよう構成されても良い。

前記パルス生成構成は、前記処置パルスを生成するよう構成された処置パルス生成器と、前記プローブパルスを生成するよう構成されたプローブパルス生成器と、を有しても良い。

それ故、該光学系は、少ない構成要素しか必要とせず、該光学系が用いられる装置のサイズを最小化することを支援し得る。また、プローブパルスが処置パルスと同じ光路に沿って進むことを確実することを容易化する。

前記パルス生成器は、前記プローブパルスの１０ｍｓ以内に、又はより好適には１ｍｓ以内に前記処置パルスを生成するよう構成されても良い。

それ故、プローブパルスと処置パルスとの間の遅延が著しく小さくなり、これらパルス間の処置パルス光路における環境的な影響が無視できることを確実にする。

前記パルス生成器は、１０ｍｓよりも短い時間間隔で連続するプローブパルスを生成するよう構成されても良い。

それ故、該光学系は、プローブパルス光路に沿って毎秒少なくとも１０個のプローブパルスを供給することが可能である。多数のプローブパルスは潜在的に、多数の処置パルスが発せられることに導き、処置を実行するために必要な時間を短縮することを支援し得る。更に、より多くの数のプローブパルスは、処置パルス光路における障害物のより迅速な識別に帰着する。

前記コントローラは、前記センサにより測定された特性を所定の値と比較し、前記感知された特性が前記所定の値に合致する場合に前記処置パルスを発するよう構成されても良い。

それ故、プローブパルスの解析は迅速に実行されることができ、処置パルス光路の状態、又は任意に処置パルス光路を示すプローブパルス光路の状態が、完全に妨害されていない又は変更されていないことを、プローブパルスが確認した場合にのみ、処置パルスが生成されることを確実にする。

プローブパルスの少なくとも１つの決定された特性が、該少なくとも１つの特性の意図された値と合致する場合には、コントローラは、レーザパルス生成構成を作動させて、処置パルスを生成させる。該プローブパルスの少なくとも１つの特性は、障害物によって光路が妨害、遮断又は変更されていない場合に、意図された値に合致することとなる。

前記コントローラは、前記センサにより測定された特性を所定の範囲と比較し、前記感知された特性が前記所定の範囲内である場合に、前記処置パルスを発するよう構成されても良い。

それ故、処置パルスは、処置パルス光路の状態、又は任意に処置パルス光路を示すプローブパルス光路の状態が、定義された範囲内であることを、プローブパルスが確認した場合にのみ生成される。このことは、処置パルス光路に対して、あまり大きくない変更又は妨害がある場合にも、処置パルスが発せられ得ることを意味する。それ故、皮膚表面又は光学系の他の構成要素が損傷又は刺激されない限り、処置パルス光路における小さな変化又は妨害は、処置パルスが生成されることを妨げない。

前記センサは、前記プローブパルス光路の端にあっても良い。

それ故、プローブパルスは、処置パルス光路、又は任意に処置パルス光路を示すプローブパルス光路の全体に沿って進むことが可能である。このことは、処置パルスの光路、又は任意に処置パルス光路を示すプローブパルスの光路の長さ全体の状態を、プローブパルスが確認することを確実にし、処置パルス光路の全体に亘って妨害又は変化がないことを確実にする。このことは、皮膚表面又は光学系の他の構成要素を処置パルスが損傷又は刺激する可能性を低減させることを支援する。

本発明の他の態様によれば、本発明の光学系を有するレーザ処置装置が提供される。

それ故、該光学系は、毛を切断するため又は皮膚を処置するため用いられ得る。該光学系は、毛及び／又は皮膚と障害物との間の差を知るようプログラムされても良い。シェービングシステムにおいては、前記少なくとも１つのセンサは、皮膚表面又は水滴のような他の障害物から切断されるべき毛により引き起こされる障害物を識別することが可能な情報を生成することが可能であっても良い。例えば、多素子画像センサは、毛を識別することが可能であり、皮膚表面の平坦な面に対して、毛の円筒形の形状を比較することによって偽陽性を回避することが可能であり得る。

代替例においては、コントローラ及び強度センサが、毛により引き起こされた強度減少を感知しても良く、該強度減少が所定のレベルを下回る場合に、処置パルスの生成を防止する。他の代替の実施例においては、前記少なくとも１つのセンサが、特性の時間プロファイルを測定しても良い。毛の時間プロファイルは、毛が切断されると迅速に変化するが、皮膚又は水滴の障害物は、長い時間の間、プローブパルス光路に留まる。それ故、該光学系は、皮膚及び／又は障害物から毛を区別することが可能となり得る。

皮膚処置システムにおいては、少なくとも１つのセンサは皮膚位置センサであっても良い。皮膚位置センサは、皮膚表面の位置及び幾何を示す情報を生成することが可能であっても良い。皮膚表面の位置及び幾何の変化は、ミリ秒乃至秒のオーダーで生じる。空間的及び時間的な分布の変化は、毛及び／又は障害物から皮膚表面を区別するため用いられ得る。

更に、毛及び／又は皮膚が位置する光路の部分より前で、プローブパルスの少なくとも１つの特性が決定されても良い。それ故、処置パルスは、毛を切断する及び／又は皮膚を処置するため発せられ得る。

しかしながら、該光学系は、毛を切断する及び皮膚を処置するために用いられることに限定されるものではない。代替としては、該光学系は、光路に沿って有害な処置パルスが発せられる前に、光路上に障害物がないかチェックするためにプローブパルスが発せられるいずれの状況においても用いられることができる。

前記処置パルス光路の一部は、レーザ処置装置における凹部に亘っていても良いし、皮膚係合面が存する凹部に沿って延在する面に平行であっても良く、また任意に該面から離隔されても良い。

それ故、プローブパルス及び／又は処置パルスは、該凹部を通過するときに皮膚表面から略同じ距離にある。このことは、これらパルスが、該凹部の一方の側における皮膚表面に近過ぎず、且つ他方の面から離れ過ぎないことを意味する。このことは、より均一な結果を与えることにより、不均一な性能を低減させることを支援する。

本発明の他の態様によれば、毛が延在する凹部を持つレーザ処置装置を用いて毛を切断するための方法であって、前記方法は、複数の光学的要素を通って延在するプローブパルス光路に沿ってプローブパルスを向けるよう光学系を動作させるステップと、前記プローブパルス光路に沿ったセンサを用いて前記プローブパルスの特性を測定することにより、前記光学的要素を通って延在する処置パルス光路の状態を示す情報を生成するステップと、前記プローブパルスの特性を示す情報を、所定の範囲と比較するステップと、前記プローブパルスの特性を示す情報が、前記所定の範囲内である場合に、前記凹部のなかに延在する毛を切断するため、前記光学的要素を通る前記処置パルス光路に沿って、処置パルスを発するステップと、を有する方法が提供される。

それ故、処置パルス光路、又は任意に処置パルス光路を示すプローブパルス光路の状態が満足のいくものでない場合、即ち軌道が変化させられておりプローブパルスが皮膚表面に接触する場合には、処置パルスが発せられない。従って、皮膚表面に対する損傷又は刺激が、該光学系によって低減される。

本発明の他の態様によれば、少なくとも１つのプロセッサにより実行されるときに、本発明による方法が実行されるようにする命令を有する、コンピュータプログラムが提供される。

本発明のこれらの及び他の態様は、以下に説明される実施例を参照しながら説明され明らかとなるであろう。

本発明の実施例は、添付図面を参照しながら、単に例として、以下に説明される。

光学系の模式的な前面図を示す。 凹部を持ち図１の光学系を有する、レーザビームを用いて毛又は皮膚を処置するためのレーザシェービング装置の斜視図を示す。 レーザビームを用いて毛又は皮膚を処置するためのレーザシェービング装置の凹部端の模式的な前面図を示す。

図１を参照すると、光学系１が示されている。光学系１は、意図された光路２に沿ってレーザパルスを導くよう構成される。意図された光路２は、レーザパルスが沿って進むことを意図された経路である。

光学系１は、レーザパルス生成構成３を有する。レーザパルス生成構成３は、処置パルス及びプローブパルスを生成するよう構成される。それ故、レーザパルス生成構成３は、意図された光路２の最初にある。レーザパルス生成構成３は、光学系１の残りの部分に向けてレーザパルスを向けるよう構成される。レーザパルス生成構成３は、限定するものではないが例えばレーザダイオードであっても良い。

本実施例においては、レーザパルス生成構成３は、２つの異なるレーザパルスを生成するよう構成される。第１のレーザパルスは、プローブパルスである。第２のレーザパルスは、処置パルスである。レーザパルス生成構成３は、これらのパルスを連続して生成する。即ち、プローブパルスは、処置パルスの前に生成される。処置パルスは、処置パルス光路２に沿って進む。プローブパルスは、プローブパルス光路（図示されていない）に沿って進む。本実施例においては、プローブパルス光路は、処置パルス光路２と同一であり、処置パルス光路２に一致する。それ故、処置パルス光路２が妨害されて及び／又は乱されていなければ、プローブパルス及び処置パルスは共に該光路に沿って進む。しかしながら、処置パルス光路２が乱されている場合、プローブパルスは代替の光路４に沿って進む。

代替の実施例においては、光学系１のレーザパルス生成構成３は、個々のレーザパルス生成器（図示されていない）を有しても良いことは、理解されるであろう。斯かる実施例においては、第１のレーザパルス生成器がプローブパルスを生成しても良く、第２のレーザパルス生成器が処置パルスを生成しても良い。これらレーザパルスが異なる光源からのものとなるため、プローブパルスは代替のプローブパルス光路（図示されていない）にのみ沿って進み得る。該代替のプローブパルス光路は、処置パルスの処置パルス光路２と略同じであっても良い。即ち、プローブパルスは、限定するものではないが例えば、処置パルス光路２に平行であり処置パルス光路２から離隔された、代替のプローブパルス光路に沿って進んでも良い。当該代替の経路は、処置パルス光路２に一致するプローブパルス光路に対する、プローブパルスのための所定の異なる経路（図示されていない）である。

光学系１は更に、コントローラ５を有する。コントローラ５は、レーザパルス生成構成３の動作を制御するよう構成される。それ故、コントローラ５は、プローブパルス及び処置パルスの生成を制御する。コントローラ５は、プロセッサ６を有する。コントローラ５は更に、メモリ７を有する。コントローラ５は、光学系１を動作させることが可能である。

プロセッサ６は、いずれの適切な形態をとっても良い。例えば、プロセッサ６は、マイクロコントローラ、複数のマイクロコントローラ、回路、単一のプロセッサ、若しくは複数のプロセッサであっても良いし、又はこれらを含んでも良い。コントローラ５は、１つ又は複数のモジュールから形成されていても良い。

メモリ７は、いずれの適切な形態をとっても良い。メモリ７は、不揮発性メモリ及び／又はＲＡＭを含んでも良い。該不揮発性メモリは、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）又は固体ドライブ（ＳＳＤ）を含んでも良い。メモリ７は、数ある中でも、オペレーティングシステムを保存する。メモリ７は、リモートに配置されていても良い。ＲＡＭは、データの一時的な保存のため、プロセッサ６により用いられる。

該オペレーティングシステムは、コントローラ５により実行されたときに、光学系１におけるハードウェア構成要素の動作を制御するコードを含んでも良い。

光学系１は更に、少なくとも１つのセンサ８を有する。本実施例においては、該光学系は、単一のレーザパルスセンサ８を有する。レーザパルスセンサ８は、電子センサであっても良い。代替としては、レーザパルスセンサ８は、フォトダイオードアレイであっても良い。本実施例においては、レーザパルスセンサ８は、処置パルス光路２に一致するプローブパルス光路に沿って進んだプローブパルスの少なくとも１つの光学的な特性を示す情報を生成するよう構成される。

本実施例においては、１つのレーザパルスセンサ８が、処置パルス光路２に一致するプローブパルス光路の端部に配置される。代替の実施例においては、レーザパルスセンサ８は、プローブパルス光路に沿った別の位置に配置されても良い。レーザパルスセンサ８は、プローブパルス光路と交差する。それ故、プローブパルスは、レーザパルスセンサ８により感知されるためには、処置パルス光路２の全体に沿って進む必要があるか、又は略沿って進む必要がある。しかしながら、１つよりも多いレーザパルスセンサ８が用いられても良いことは、理解されるであろう。

プローブパルス光路に長く沿ってレーザパルスセンサ８が配置されるほど、処置パルス光路２、又は処置パルス光路を示すプローブパルス光路の大きな部分が、処置パルスのために安全であると宣言される。それ故、光学系１の安全性が増大され、損傷又は負傷の可能性が低減される。

レーザパルスセンサ８は、プローブパルスの少なくとも１つの特性を示す情報を生成するよう構成される。該少なくとも１つの特性は、限定するものではないが例えば、光学系１を通る変化させられた光路４の位置、強度、パワー、エネルギー、プローブパルスの空間的分布又は時間的分布であっても良い。レーザパルスセンサ８は、該生成された情報をコントローラ５に通信するよう構成される。コントローラ５は、例えば変化させられた光路４及び／又はプローブパルスの強度のような少なくとも１つの特性を決定するために、レーザパルスセンサ８によって生成された情報を利用する。

コントローラ５は次いで、プローブパルスの少なくとも１つの決定された特性を、プローブパルスの該少なくとも１つの特性の意図された値と比較する。プローブパルスの少なくとも１つの決定された特性を、該少なくとも１つの特性の意図された値と比較することにより、コントローラ５は、処置パルス光路２の品質を決定することができる。プローブパルスの該少なくとも１つの決定された特性が、該少なくとも１つの特性の意図された値と合致する場合、コントローラ５は、処置パルスを生成するようレーザパルス生成構成３を作動させる。処置パルス光路２と一致するものであっても良いプローブパルス光路が、障害物９によって妨害され、遮断され又は変化させられていない場合には、プローブパルスの該少なくとも１つの決定された特性が、該意図された値と合致することとなる。障害物９は、限定するものではないが例えば、屑のような汚れであっても良いし、又は障害物９は、図３に示されるような皮膚表面２２であっても良い。該汚れは、限定するものではないが例えば、屑及び水又は汗の滴であっても良い。該汚れは、光学系１のいずれの面にあっても良い。

プローブパルスの該少なくとも１つの決定された特性が、意図された値と合致しない場合には、コントローラ５は、レーザパルス生成構成３を作動させない。それ故、処置パルスが生成されず、光学系１を通って進まない。処置パルス光路２、又は処置パルス光路２を示すプローブパルス光路が、プローブパルスを経路から逸らしてしまう屑若しくは汗（水）によって汚れている場合、又はプローブパルスを遮断する屑若しくは皮膚表面によって妨害されている場合、プローブパルスの該少なくとも１つの決定された特性が、該意図された値と合致しないこととなり得る。

代替の実施例においては、プローブパルスの該少なくとも１つの決定された特性が、意図された値の所定の範囲内にある場合、コントローラ５は、処置パルスを生成するようレーザパルス生成構成３を動作させても良い。該意図された値は、コントローラ５のメモリ７においてプログラムされた基準値であっても良い。代替としては、基準レベル又は意図される値は、処置パルス光路２と一致するものであっても良い、汚されていないプローブパルス光路に沿ってプローブパルスを送信することにより、製造の後に測定又は定義されても良い。他の実施例においては、基準レベル又は意図される値は、ユーザにより設定又は更新されても良い。

該所定の範囲は、±３０％であっても良い。即ち、プローブパルスの該少なくとも１つの特性は、生成されるべき処置パルスについて、該プローブパルスの該少なくとも１つの特性の意図された値の±３０％までの範囲内となる必要があり得る。より好適には、該所定の範囲は、±１０％であっても良い。それ故、プローブパルスの該少なくとも１つの特性は、生成されるべき処置パルスについて、該プローブパルスの該少なくとも１つの特性の意図された値の±１０％までの範囲内となる必要があり得る。光学系１の用途に依存して、プローブパルスの該少なくとも１つの特性が意図された範囲内となる必要がある所定の範囲は、±５％まで小さくされても良いし、又は±１％であっても良い。

本実施例においては、光学系１を通って処置パルス光路２に沿って進むことを意図された処置パルスは、生体組織（図示されていない）、及び／又は、図２及び図３に例が示された、光学系１を有する装置の構成要素を損傷させるのに十分に大きなパルスエネルギーを持つ。それ故、生体組織に高強度の処置パルスを向け得る、変化させられた光路４に沿った処置パルスの生成及び発光を防止することにより、望ましくない損傷又は刺激が回避されることができる。処置パルスのパルスエネルギーは、０．１Ｊと１×１０^３Ｊとの間であっても良い。処置パルスの強度は、１×１０^４Ｗ／ｍ^２と１×１０^１０Ｗ／ｍ^２との間であっても良い。

レーザパルス生成構成３により発せられるプローブパルスは、処置パルスのパルスエネルギーよりも小さなパルスエネルギーを持つ。プローブパルスのパルスエネルギーは、１×１０^−１Ｊと１Ｊとの間であっても良い。それ故、処置パルス光路２と一致するものであり得るプローブパルス光路が汚されていて、プローブパルスが変化させられた光路４に沿って向きを変えられた場合であっても、プローブパルスは、生体組織又は光学系１を有する装置の構成要素に対して、あまり損傷又は刺激を引き起こさない。プローブパルスの強度は、プローブパルスが、生体組織又は光学系１を有する装置の構成要素に対して損傷又は刺激を引き起こすことができないほど、十分に低い。プローブパルスの強度は、１×１０^−５Ｗ／ｍ^２と１×１０^７Ｗ／ｍ^２との間であっても良い。それ故、プローブパルスは弱く、処置パルスが生成されず発せられないため、プローブパルス光路及び／又は処置パルス光路２が汚されていても、光学系１によって損傷又は刺激は引き起こされない。

処置パルス光路２の状態が満足のいくものであるとコントローラ５が決定した場合、プローブパルスの発光と後続する処置パルスの発光との間の時間遅延は、１０ｍｓよりも短い。より好適には、プローブパルスの発光と後続する処置パルスの発光との間の時間遅延は、１ｍｓよりも短い。それ故、処置パルス光路２の状態の解析と、処置パルスの発光との間の時間差は、処置パルス光路２における環境の変化、即ち汚れ９が位置すること又は新たな汚れが位置することが、最小となることを確実にするのに十分に小さい。それ故、処置パルスがレーザパルス生成構成３から発せられる場合、該パルスは、処置パルス光路２の長さに亘って好適に進む見込みが高い。

更に、後続するプローブパルス間の時間差は、１０ｍｓより短い。それ故、処置パルス光路２に一致するプローブパルス光路、又は処置パルス光路２を示すプローブパルス光路の状態は、頻繁に評価され、処置パルス光路２に沿ったいずれの環境の変化もが測定されることを確実にする。このことは、処置パルスが損傷を引き起こし得る場合に、処置パルスが光学系１を通って進まないことを確実にすることを支援する。更にこのことは、より多くの処置パルスがレーザパルス生成構成３により発せられ得ることを意味し、光学系１を用いて実行されている手順又はタスクの速度を増大させ得る。

光学系１は更に、プローブパルス光路及び／又は処置パルス光路２に沿ってレーザパルスを向けるよう構成された付加的な構成要素を有しても良い。図１に示された本実施例においては、例えば、光学系１は更に、レンズ構成１０を有する。レンズ構成１０は、レーザパルス生成構成３から発せられたレーザパルスを合焦させるよう構成される。本実施例においては、レンズ構成１０は、コリメータレンズ１１を有する。コリメータレンズ１１は、レーザパルス生成構成３から光学系１の残りの部分へと発せられたレーザパルスの発散を低減又は除去する。レンズ構成１０は更に、少なくとも１つのフォーカスレンズ１２を有する。本実施例は、平行にされたレーザパルスを収束させ方向付けするための２つのフォーカスレンズ１２を有する。

光学系１は更に、第１の反射要素１３及び第２の反射要素１４を有する。第１及び第２の反射要素１３、１４は、入射したレーザパルスを、プローブパルス光路及び／又は処置パルス光路２に沿って反射させるよう構成される。しかしながら、代替の実施例においては、光学系１は、異なる数の反射要素を持っても良い。第１及び第２の反射要素１３、１４は、ミラー若しくはプリズム又はその他のいずれかの光学的に反射性の面を有しても良い。

光学系１は更に、エネルギー放散器（図示されていない）を有しても良い。該エネルギー放散器は、レーザパルスセンサ８に配置されても良い。それ故、処置パルス光路２に沿って進む処置パルスは、光学系１のいずれの構成要素に対しても損傷を引き起こさない。光学系１は更に、レーザパルスセンサ８の前において、プローブパルス光路及び／又は処置パルス光路２に配置された、検出器レンズ１５を有する。検出器レンズ１５は、レーザパルスの寸法をレーザパルスセンサ８に適するよう調節するよう構成される。検出器レンズ１５は省略されても良いことは、理解されるであろう。

一実施例においては、光学系１は、プローブパルス光路及び／又は処置パルス光路２を調節するためのアクチュエータ（図示されていない）を有しても良い。それ故、ユーザは、処置パルス光路２を選択しても良く、このことがユーザ入力部（図示されていない）を用いて、第１及び第２の反射要素１３、１４間の処置の度合いを制御する。

図２及び３に示されるように、レーザ処置装置２０は、光学系１を有する。レーザ処置装置２０は、限定するものではないが例えば、皮膚２２から延在する毛２１を切断するために用いられても良い。

レーザ処置装置２０は、筐体２３を有する。筐体２３は、保護部２４を有しても良い。保護部２４は、毛及び皮膚操作モジュールであっても良い。筐体２３は、皮膚係合面２５を持つ。皮膚係合面２５は、皮膚表面２２に当てられるよう構成される。皮膚表面２２は、限定するものではないが例えば、ユーザ又は処置されている人物の顔又は脚であっても良い。

皮膚係合面２５は、凹部２６を有する。凹部２６の中心は、皮膚係合面２５の中心と同心である。凹部２６は、楕円形のスリットである。しかしながら、凹部２６の断面の形状は、これに限定されるものではないことは、理解されるであろう。凹部２６は、シェービングのストロークの方向において、０．３ｍｍ以上１．５ｍｍ以下の幅を持つ。該凹部の幅は、レーザ処置装置２０への皮膚表面２２のドーム形成を制御することを支援する。本実施例においては、凹部２６の幅は０．８ｍｍである。皮膚係合面２５は、凹部２６に亘って延在する面２７に存する。

光学系１は、レーザ処置装置２０の筐体２３内に配置される。光学系１は、凹部２６内に少なくとも部分的に配置される。凹部２６は、切断領域２８を有する。レーザ処置装置２０の皮膚係合面２５が、皮膚表面２２に対して当てられ、皮膚表面２２上を動かされるとき、皮膚表面２２及び該皮膚表面上の毛２１が、切断領域２８へと延在し得る。

光学系１は、レーザパルスを凹部２６に向け、処置パルス光路２の一部が、皮膚係合面２５に亘って延在する面２７に平行となり、該面から離隔されるようにする。処置パルス光路２は、凹部２６に亘って延在する面２７に近接する。それ故、レーザ処置装置２０の皮膚係合面２５が、皮膚表面２２に対して当てられると、処置パルス光路２の少なくとも一部が、皮膚表面２２に近接する。処置パルスは、発せられると、皮膚表面２２から延在する毛２１を切断し得る。

本実施例においては、プローブパルスは、レーザパルス生成構成３により発せられ、最初に皮膚表面２２へと下に向けられる。レーザパルス生成構成３は、プローブパルスの発散を低減させるコリメータレンズ２５にプローブパルスを向ける。平行にされたプローブパルスは次いで、フォーカスレンズ１２を通過し、該フォーカスレンズ１２が、プローブパルスを整合させて、処置パルス光路２と一致するものであっても良いプローブパルス光路へと続くようにする。

凹部２６の一方の側に配置された第１の反射要素１３は、凹部２６の切断領域２８に、入射したプローブパルスを反射させるよう構成される。即ち、第１の反射要素１３は、レーザ処置装置２０の凹部２６に亘って延在する面２７に略平行であり且つ該面から離隔されたプローブパルス光路における切断領域２８に、入射したプローブパルスを反射させるよう構成される。それ故、プローブパルス光路は、処置パルス光路２と一致する。

凹部２６の他方の側に配置された第２の反射要素１４は、プローブパルスを切断領域２８から離れるように反射させるよう構成される。第２の反射要素１４は、プローブパルスを、皮膚表面２２から離れるように反射させるよう構成される。プローブパルスは、第２の反射要素１４により、検出器レンズ１５及びレーザパルスセンサ８の方へと向けられる。

レーザパルスセンサ８は、光学系１を通る処置パルス光路２に一致するプローブパルス光路の状態を示す情報を生成し、該情報をコントローラ５に通信する。コントローラ５は、プローブパルスの光学的特性の少なくとも１つについての値を決定し、該値を予期される値と比較する。

処置パルス光路２が汚れている場合、即ち光学系１の構成要素が、プローブパルスを変化させられた光路４に沿って向けるような汚れを持つか、又はプローブパルスを妨害する皮膚表面２２のような障害物９を持つ場合、決定される値は許容可能範囲内とはならない。それ故、コントローラ５は、処置パルスを発するようレーザパルス生成構成３を作動させず、損傷又は刺激を引き起こすことを回避する。

処置パルス光路２が汚されていない場合又は妨害されていない場合、これら値は合致し、コントローラ５は、意図された光路２に沿って進み皮膚表面２２から延在する毛２１を切断する処置パルスを発するよう、レーザパルス生成構成３を作動させる。

光学系１は、毛及び／又は皮膚と障害物９との間の差を知っているようにプログラムされても良い。例えば、コントローラ５が、毛及び／又は皮膚のプロファイルを決定することが可能であっても良い。

シェービングシステムにおいては、少なくとも１つのセンサ８は、皮膚表面２２又は水滴のような他の障害物９から、切断されるべき毛２１により引き起こされる障害物を識別することが可能な情報を生成することが可能であっても良い。例えば、多素子センサが、毛２１を識別し、毛２１の円筒形の形状を皮膚表面２２の平坦な面と比較することにより、偽陽性を回避することが可能であっても良い。

代替の例においては、強度センサが毛２１により引き起こされる強度低下を知っていても良く、強度低下が所定のレベルを下回ると、処置パルスの生成を防止する。他の代替実施例においては、少なくとも１つのセンサ８は、特性の時間的プロファイルを測定しても良い。毛２１の時間プロファイルは、毛２１が切断されると迅速に変化するが、皮膚又は水滴の障害物９は、長い時間の間、プローブパルス光路に留まる。それ故、光学系１は、皮膚表面２２及び／又は障害物９から毛２１を区別することが可能となり得る。

皮膚処置システムにおいては、少なくとも１つのセンサ８は皮膚位置センサであっても良い。皮膚位置センサは、皮膚表面の位置及び幾何を示す情報を生成することが可能であっても良い。皮膚表面の位置及び幾何の変化は、ミリ秒乃至秒のオーダーで生じる。空間的及び時間的な分布の変化は、毛２１及び／又は障害物９から皮膚表面２２を区別するため用いられ得る。

代替の実施例においては、例えば、プローブパルスが凹部２６に亘って延在する面２７に平行に凹部２６に亘って進む直前のような、毛２１及び／又は皮膚表面２２が位置する光路の部分より前で、プローブパルスの少なくとも１つの特性が決定されても良い。それ故、処置パルスは、毛２１のみが光路２における「障害物」である場合に、毛を切断するために発せられ得る。

しかしながら、光学系１は、毛を切断するために用いられることに限定されるものではない。代替として、光学系１は、光路２に沿って有害な処置パルスが発せられる前に、光路上に障害物９がないかチェックするためにプローブパルスが発せられるいずれの状況においても用いられることができる。

「有する（comprising）」なる語は他の要素又はステップを除外するものではなく、「１つの（a又はan）」なる不定冠詞は複数を除外するものではないことは、理解されるであろう。単一のプロセッサ又はその他のユニットが、請求項に列記された幾つかのアイテムの機能を実行しても良い。特定の手段が相互に異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これら手段の組み合わせが有利に利用されることができないことを示すものではない。請求項におけるいずれの参照記号も、請求の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。

請求項は特徴の特定の組み合わせに向けたものであるが、本発明の開示の範囲は、いずれかの請求項において現在請求されているものと同一の発明に関するものであろうとなかろうと、また本発明が軽減するものと同一の技術的課題のいずれか又は全てを軽減するものであろうとなかろうと、明示的若しくは暗黙的にここで開示されたいずれの新規な特徴若しくは特徴の新規な組み合わせ、又はその一般化をも含むことは、理解されるべきである。本出願人はここで、本出願又は本出願から導かれるいずれかの更なる出願の手続きの間に、斯かる特徴及び／又は斯かる特徴の組み合わせに対して、新たな請求項が作成され得ることを注記しておく。

Claims (14)

1. 複数の光学的要素と、
   前記光学的要素を通る処置パルス光路に沿って処置パルスを生成するよう構成され、更に、前記光学的要素を通って延在するプローブパルス光路に沿ってプローブパルスを生成するよう構成された、パルス生成構成と、
   前記光学的要素を通る前記プローブパルス光路に沿って通過した前記プローブパルスの光学的特性を示す情報を生成するよう構成された、センサと、
   前記センサにより生成された前記情報に依存して、前記処置パルス光路に沿って前記処置パルスを選択的に発するよう、前記パルス生成構成を制御するよう構成された、コントローラと、
   を有し、前記センサにより生成される情報は、前記処置パルス光路における、前記処置パルスによる処置の対象ではない第１の障害物と前記処置パルスによる処置の対象である第２の障害物とを示し、
   前記センサにより生成される情報が、前記処置パルス光路において前記第１の障害物がないことを示す場合にのみ、前記コントローラが、前記処置パルスを発するよう、前記パルス生成構成を制御する、光学系。
2. 前記第１の障害物は汚れ又は皮膚表面である、請求項１に記載の光学系。
3. 前記パルス生成構成は、前記プローブパルスのパルスエネルギーよりも大きなパルスエネルギーを持つ処置パルスを生成するよう構成された、請求項１又は２に記載の光学系。
4. 前記プローブパルス光路は、前記処置パルス光路の少なくとも一部と一致するよう構成された、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学系。
5. 前記パルス生成構成は、前記処置パルスを生成するよう構成された処置パルス生成器と、前記プローブパルスを生成するよう構成されたプローブパルス生成器と、を有する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学系。
6. 前記パルス生成構成は、前記プローブパルスの１０ｍｓ以内に前記処置パルスを生成するよう構成された、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学系。
7. 前記パルス生成構成は、１０ｍｓよりも短い時間間隔で連続するプローブパルスを生成するよう構成された、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学系。
8. 前記コントローラは、前記センサにより測定された特性を所定の値と比較し、感知された特性が前記所定の値に合致する場合に前記処置パルスを発するよう構成された、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学系。
9. 前記コントローラは、前記センサにより測定された特性を所定の範囲と比較し、感知された特性が前記所定の範囲内である場合に前記処置パルスを発するよう構成された、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学系。
10. 前記センサは、前記光路の端にある、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学系。
11. 請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学系を有する、レーザ処置装置。
12. 前記処置パルス光路の一部が、前記レーザ処置装置における凹部に亘り、皮膚係合面が存する前記凹部に沿って延在する面に平行であり、任意に前記面から離隔された、請求項１１に記載のレーザ処置装置。
13. 毛を切断するための、毛が延在する凹部を持つレーザ処置装置の作動方法であって、前記方法は、
    パルス生成機構により、複数の光学的要素を通って延在するプローブパルス光路に沿ってプローブパルスを生成するステップと、
    前記プローブパルス光路に沿ったセンサにより、前記プローブパルスの特性を測定し、前記光学的要素を通って延在する処置パルス光路の状態を示す情報を生成するステップと、
    コントローラにより、前記プローブパルスの特性を示す情報を、所定の範囲と比較するステップであって、前記プローブパルスの特性が前記所定の範囲内であることが、前記処置パルスによる処置の対象である前記毛が存在することに対応し、前記プローブパルスの特性が前記所定の範囲外であることは、前記処置パルスによる処置の対象ではない障害物が存在することに対応する、ステップと、
    前記プローブパルスの特性を示す情報が、前記所定の範囲内である場合に、前記パルス生成機構により、前記凹部のなかに延在する毛を切断するため、前記光学的要素を通る前記処置パルス光路に沿って、処置パルスを発するステップと、
    を有する方法。
14. 少なくとも１つのプロセッサにより実行されるときに、請求項１３に記載の方法が実行されるようにする命令を有する、コンピュータプログラム。

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