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JP6737605B2 - Irradiation device, marking device, and irradiation method - Google Patents

Irradiation device, marking device, and irradiation method Download PDF

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JP6737605B2 JP2016033143A JP2016033143A JP6737605B2 JP 6737605 B2 JP6737605 B2 JP 6737605B2 JP 2016033143 A JP2016033143 A JP 2016033143A JP 2016033143 A JP2016033143 A JP 2016033143A JP 6737605 B2 JP6737605 B2 JP 6737605B2
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Description

本発明は、照射装置と墨出器と照射方法に関する。 The present invention relates to an irradiation device, a marking device, and an irradiation method.

光学式の墨出器は、建築現場などにおいて、水平度の基準となる水平ラインや、鉛直度の基準となる鉛直ラインを壁や天井などの対象物に照射する。 An optical ink maker irradiates an object such as a wall or ceiling with a horizontal line that serves as a reference for horizontality and a vertical line that serves as a reference for verticality at a construction site.

光学式の墨出器は、例えば、半導体レーザからなる光源と、光源からのレーザ光の光線束(以下「光束」という。)が入射されるレンズと、を有してなる。光源からの光束は、レンズに入射されて拡散や反射される。光学式の墨出器は、レンズからの拡散光束や反射光束(以下「照射光束」という。)を壁や天井などの対象物に照射することで、対象物に水平ラインや鉛直ラインなどの直線状を描く。 The optical marking device includes, for example, a light source formed of a semiconductor laser, and a lens on which a light beam bundle of laser light (hereinafter referred to as “light flux”) from the light source is incident. The light flux from the light source enters the lens and is diffused or reflected. An optical squeeze device irradiates an object such as a wall or ceiling with a diffused light flux or a reflected light flux (hereinafter referred to as "irradiation light flux") from a lens, thereby causing a straight line such as a horizontal line or a vertical line on the object. Draw a shape.

照射光束を広範囲の対象物に照射する技術として、円柱のレンズ(以下「ロッドレンズ」という。)を用いて、光源からの光束を360度に近い範囲に放射状に照射する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 As a technique of irradiating an irradiation light beam to a wide range of objects, a technique of radially irradiating a light beam from a light source to a range close to 360 degrees by using a cylindrical lens (hereinafter referred to as “rod lens”) has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1).

ロッドレンズの外周面の略半周面は、半透過膜がコーティングされた半透過面である。光源からの光束は、ロッドレンズの半透過面側からロッドレンズに入射される。ロッドレンズに入射される光束(以下「入射光束」という。)の入射角は、ロッドレンズの中心軸線に対して直角である。入射光束の一部は、ロッドレンズの半透過膜により、入射光束と同一平面上に180度以上の範囲にわたり反射される。一方、入射光束の他の一部は、半透過膜を透過する。半透過膜を透過した入射光束(以下「透過光束」という。)は、ロッドレンズの外周面で屈折される。屈折された透過光束は、ロッドレンズの未コーティング面から入射光束と同一平面上の扇状に拡散される。すなわち、ロッドレンズからの照射光束は、ロッドレンズを中心として360度の範囲にわたり全周ライン状に照射される。 A substantially semi-peripheral surface of the outer peripheral surface of the rod lens is a semi-transmissive surface coated with a semi-transmissive film. The light flux from the light source enters the rod lens from the semi-transmissive surface side of the rod lens. The incident angle of a light beam incident on the rod lens (hereinafter referred to as “incident light beam”) is perpendicular to the central axis of the rod lens. A part of the incident light flux is reflected by the semi-transmissive film of the rod lens on the same plane as the incident light flux over a range of 180 degrees or more. On the other hand, another part of the incident light flux passes through the semi-transmissive film. The incident light flux (hereinafter referred to as “transmitted light flux”) that has passed through the semi-transmissive film is refracted by the outer peripheral surface of the rod lens. The refracted transmitted light beam is diffused from the uncoated surface of the rod lens into a fan shape on the same plane as the incident light beam. That is, the luminous flux emitted from the rod lens is radiated in a line shape around the entire circumference of 360 degrees centering on the rod lens.

特許第3532167号明細書Patent No. 3532167

しかし、ロッドレンズからの照射光束の明るさは、半透過膜の膜厚などのばらつきの影響を受ける。また、半透過膜の反射率と透過率との割合は、ロッドレンズや半透過膜の材料により異なる。すなわち、ロッドンレンズからの照射光束の明るさを均等にするためには、半透過膜の反射率と透過率との割合は、ロッドレンズごとに調整しなければならない。このように、ロッドレンズからの照射光束の明るさは、均等にすることが難しい。 However, the brightness of the luminous flux emitted from the rod lens is affected by variations in the film thickness of the semi-transmissive film. Further, the ratio between the reflectance and the transmittance of the semi-transmissive film differs depending on the material of the rod lens and the semi-transmissive film. That is, in order to make the brightness of the luminous flux emitted from the rodn lens uniform, the ratio between the reflectance and the transmittance of the semi-transmissive film must be adjusted for each rod lens. In this way, it is difficult to make the brightness of the luminous flux emitted from the rod lens uniform.

本発明は、以上のような従来技術の問題点を解消するためになされたもので、均等な明るさの照射光束を照射可能な照射装置と墨出器と照射方法とを提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an irradiation device, a marking device, and an irradiation method capable of irradiating an irradiation light beam of uniform brightness. And

本発明は、照射装置であって、光源と、光源からの光束が入射されて照射光束を照射する照射素子と、を有してなり、照射素子は、光源からの光束を全反射させる、ことを特徴とする。 The present invention is an irradiation device, comprising: a light source; and an irradiation element that receives a light beam from the light source and emits the irradiation light beam. The irradiation element totally reflects the light beam from the light source. Is characterized by.

本発明によれば、均等な明るさの照射光束を照射可能である。 According to the present invention, it is possible to irradiate the irradiation light flux of uniform brightness.

本発明にかかる照射装置の実施の形態を示す後方側斜視図である。It is a rear side perspective view showing an embodiment of an irradiation device concerning the present invention. 図1の照射装置の左側面視断面図である。It is a left view sectional drawing of the irradiation apparatus of FIG. 図1の照射装置の光学配置図である。It is an optical layout of the irradiation device of FIG. 図1の照射装置が備える光源からの光束が、同照射装置が備える照射ミラーに至るまでの光路を示す光路図である。It is an optical path diagram which shows the optical path from the light source with which the irradiation device of FIG. 1 is provided to the irradiation mirror with which the same irradiation device is equipped. 図1の照射装置が照射する照射光束の照射方向を示す照射装置の平面図である。It is a top view of an irradiation device which shows the irradiation direction of the irradiation light flux which the irradiation device of FIG. 1 irradiates. 図5の照射ミラーへの入射光束と、照射ミラーからの照射光束と、を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the incident light flux to the irradiation mirror of FIG. 5, and the irradiation light flux from an irradiation mirror. 本発明にかかる照射装置の別の実施の形態を示す左側面視断面図である。It is a left side sectional view showing another embodiment of an irradiation device concerning the present invention. 図7の照射装置が備える照射ミラーの平面図である。FIG. 8 is a plan view of an irradiation mirror included in the irradiation device in FIG. 7. 本発明にかかる墨出器の実施の形態を示す斜視図である。It is a perspective view showing an embodiment of a marking device concerning the present invention.

以下、図面を参照しながら、本発明にかかる照射装置と墨出器と照射方法との実施の形態について説明する。 Embodiments of an irradiation device, a marking device, and an irradiation method according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

●照射装置(1)●
先ず、本発明にかかる照射装置の実施の形態について説明する。
● Irradiation device (1) ●
First, an embodiment of an irradiation device according to the present invention will be described.

●照射装置(1)の構成
図1は、本発明にかかる照射装置の実施の形態(以下「第1実施形態」という。)を示す斜視図である。
照射装置1は、壁や天井などの対象物を照射して、対象物に水平ラインや垂直ラインを描く。照射装置1は、光源ユニット10と、導光ユニット20と、照射ミラー30と、調節機構40と、を有してなる。
Configuration of Irradiation Device (1) FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the irradiation device according to the present invention (hereinafter referred to as “first embodiment”).
The irradiation device 1 irradiates an object such as a wall or a ceiling and draws a horizontal line or a vertical line on the object. The irradiation device 1 includes a light source unit 10, a light guide unit 20, an irradiation mirror 30, and an adjustment mechanism 40.

図2は、照射装置1の左側面視断面図である。
以下の説明において、同図の紙面上側を上方といい、紙面下側を下方という。また、同図の紙面右側を前方といい、紙面左側を後方という。さらに、同図の紙面奥側を左方といい、紙面手前側を右方という。
FIG. 2 is a left side sectional view of the irradiation device 1.
In the following description, the upper side of the paper in the figure is called the upper side and the lower side of the paper is called the lower side. Further, the right side of the paper in the figure is called the front, and the left side of the paper is called the rear. Further, the back side of the paper in the figure is called the left side, and the front side of the paper is called the right side.

光源ユニット10は、導光ユニット20にレーザ光の光線束(以下「光束」という。)を出射する。光源ユニット10は、光源11と光源ホルダ12と回路基板13とを備える。 The light source unit 10 emits a light beam bundle of laser light (hereinafter referred to as “light flux”) to the light guide unit 20. The light source unit 10 includes a light source 11, a light source holder 12, and a circuit board 13.

光源11は、光束を出射する。光源11は、例えば、レーザダイオード(半導体レーザ)である。光源11は、光束を出射する出射面と、回路基板13に接続される端子と、を備える。 The light source 11 emits a light flux. The light source 11 is, for example, a laser diode (semiconductor laser). The light source 11 includes an emission surface that emits a light flux and a terminal that is connected to the circuit board 13.

光源ホルダ12は、光源11を保持する。光源ホルダ12の形状は、両端(紙面上下端)が開口する円筒である。光源ホルダ12は、フランジ部12aとボルト挿通孔(不図示)とを備える。フランジ部12aは、光源ホルダ12の上端の外周縁に形成される。ボルト挿通孔は、フランジ部12aの2箇所に上下方向に沿って形成される。光源11は、射出面を上方に向けて光源ホルダ12の内側に保持される。光源11の端子は、光源ホルダ12の下端側の開口から下方へ突出する。 The light source holder 12 holds the light source 11. The shape of the light source holder 12 is a cylinder whose both ends (upper and lower ends in the drawing) are open. The light source holder 12 includes a flange portion 12a and a bolt insertion hole (not shown). The flange portion 12a is formed on the outer peripheral edge of the upper end of the light source holder 12. The bolt insertion holes are formed at two locations on the flange portion 12a along the vertical direction. The light source 11 is held inside the light source holder 12 with the emission surface facing upward. The terminal of the light source 11 projects downward from the opening on the lower end side of the light source holder 12.

回路基板13は、光源11からの光束の出射を制御する。回路基板13には、例えば、コンパレータや電圧レギュレータなどの素子が設けられる。回路基板13は、光源11の下方に配置される。光源11の端子は、半田などで回路基板13に接続される。回路基板13は、電源(不図示)と接続する。 The circuit board 13 controls the emission of the light flux from the light source 11. The circuit board 13 is provided with elements such as a comparator and a voltage regulator. The circuit board 13 is arranged below the light source 11. The terminals of the light source 11 are connected to the circuit board 13 by soldering or the like. The circuit board 13 is connected to a power source (not shown).

導光ユニット20は、光源11からの光束を照射ミラー30に導く(導光する)。導光ユニット20は、コリメータレンズ21と、レンズホルダ22と、ユニットベース23と、反射ミラー24と、シリンドリカルレンズ25と、絞り26と、ミラーホルダ27と、を備える。 The light guide unit 20 guides (guides) the light flux from the light source 11 to the irradiation mirror 30. The light guide unit 20 includes a collimator lens 21, a lens holder 22, a unit base 23, a reflection mirror 24, a cylindrical lens 25, a diaphragm 26, and a mirror holder 27.

コリメータレンズ21は、光源11からの光束を平行光束にする。コリメータレンズ21の形状は、平面視で円形である。コリメータレンズ21は、凸面と平面とを備える。 The collimator lens 21 collimates the light flux from the light source 11 into a parallel light flux. The shape of the collimator lens 21 is circular in a plan view. The collimator lens 21 has a convex surface and a flat surface.

レンズホルダ22は、コリメータレンズ21を保持する。レンズホルダ22の形状は、両端(紙面上下端)が開口する円筒である。コリメータレンズ21は、凸面が上方に向いてレンズホルダ22の上半部の内側に保持される。レンズホルダ22は、溝を備える。溝は、レンズホルダ22の外周面に、レンズホルダ22の周方向に沿って形成される。溝には、Oリングが環装される。 The lens holder 22 holds the collimator lens 21. The shape of the lens holder 22 is a cylinder whose both ends (upper and lower ends on the paper surface) are open. The collimator lens 21 is held inside the upper half of the lens holder 22 with its convex surface facing upward. The lens holder 22 has a groove. The groove is formed on the outer peripheral surface of the lens holder 22 along the circumferential direction of the lens holder 22. An O-ring is mounted in the groove.

ユニットベース23は、レンズホルダ22を収納する。ユニットベース23の形状は、両端(紙面上下端)が開口する円筒である。ユニットベース23は、フランジ部23aと、雌ねじ穴23bと、V溝23gと、雌ねじ穴(不図示)と、を備える。 The unit base 23 houses the lens holder 22. The shape of the unit base 23 is a cylinder whose both ends (upper and lower ends in the drawing) are open. The unit base 23 includes a flange portion 23a, a female screw hole 23b, a V groove 23g, and a female screw hole (not shown).

フランジ部23aは、ユニットベース23の上端の外周縁に形成される。雌ねじ穴23bは、フランジ部23aの上面の2箇所に形成される。雌ねじ穴23bは、前後方向に沿うユニットベース23の直径ラインの延長線上で、かつ、ユニットベース23の開口の同心円上に形成される。 The flange portion 23a is formed on the outer peripheral edge of the upper end of the unit base 23. The female screw holes 23b are formed at two locations on the upper surface of the flange portion 23a. The female screw hole 23b is formed on the extension line of the diameter line of the unit base 23 along the front-rear direction and on the concentric circle of the opening of the unit base 23.

V溝23gは、ユニットベース23の上面に形成される。V溝23gの形状は、側方視でVの字状である。V溝23gは、左右方向に沿うユニットベース23の直径ラインの延長線上に形成される。V溝23gは、ユニットベース23の開口を挟んで2箇所に形成される。すなわち、V溝23gは、側方視で2つの雌ねじ穴23bの中間に位置する。 The V groove 23g is formed on the upper surface of the unit base 23. The V groove 23g has a V-shape when viewed from the side. The V groove 23g is formed on an extension line of the diameter line of the unit base 23 along the left-right direction. The V groove 23g is formed at two places with the opening of the unit base 23 interposed therebetween. That is, the V groove 23g is located in the middle of the two female screw holes 23b in a side view.

雌ねじ穴23bは、ユニットベース23の下面の2箇所に形成される。2つの雌ねじ穴23bの間隔は、光源ホルダ12の2つのボルト挿通孔の間隔と同じである。 The female screw holes 23b are formed at two locations on the lower surface of the unit base 23. The distance between the two female screw holes 23b is the same as the distance between the two bolt insertion holes of the light source holder 12.

レンズホルダ22は、コリメータレンズ21の凸面が上方に向いて、ユニットベース23に収納される。レンズホルダ22は、ユニットベース23の上下方向の略中央に、Oリングを介して保持される。 The lens holder 22 is housed in the unit base 23 with the convex surface of the collimator lens 21 facing upward. The lens holder 22 is held substantially vertically in the center of the unit base 23 via an O-ring.

反射ミラー24は、入射された光束を導光(反射)する。反射ミラー24は、本発明にかかる照射装置における導光素子の例である。反射ミラー24は、一方の面に全反射膜が蒸着などにより形成された全反射ミラーである。全反射膜は、金属などの光反射膜である。反射ミラー24の中心と、全反射膜が形成された面(以下「導光面」という。)24aの中心とは、一致する。 The reflection mirror 24 guides (reflects) the incident light flux. The reflection mirror 24 is an example of a light guide element in the irradiation device according to the present invention. The reflection mirror 24 is a total reflection mirror having a total reflection film formed on one surface by vapor deposition or the like. The total reflection film is a light reflection film made of metal or the like. The center of the reflection mirror 24 and the center of the surface (hereinafter referred to as “light guide surface”) 24a on which the total reflection film is formed coincide with each other.

シリンドリカルレンズ25は、反射ミラー24が反射したコリメータレンズ21からの平行光束を集光させる。シリンドリカルレンズ25は、本発明にかかる照射装置における集光素子の例である。シリンドリカルレンズ25の形状は、平面視で矩形である。シリンドリカルレンズ25の左右方向(紙面奥手前方向)の長さは、反射ミラー24の左右方向の長さと同じである。シリンドリカルレンズ25は、円柱面と平面とを備える。シリンドリカルレンズ25の円柱面は、曲率のある方向と、曲率のある方向に直交する曲率のない方向と、の2つの方向を備える。図2は、シリンドリカルレンズ25の曲率のない方向に沿う断面を示す。 The cylindrical lens 25 condenses the parallel light flux from the collimator lens 21 reflected by the reflection mirror 24. The cylindrical lens 25 is an example of a condensing element in the irradiation device according to the present invention. The shape of the cylindrical lens 25 is rectangular in a plan view. The length of the cylindrical lens 25 in the left-right direction (front side in the drawing) is the same as the length of the reflection mirror 24 in the left-right direction. The cylindrical lens 25 has a cylindrical surface and a flat surface. The cylindrical surface of the cylindrical lens 25 has two directions, that is, a direction having a curvature and a direction having no curvature orthogonal to the direction having the curvature. FIG. 2 shows a cross section of the cylindrical lens 25 along the direction without curvature.

絞り26は、シリンドリカルレンズ25からの光束の一部を遮る遮蔽部材である。絞り26の形状は、平面視で矩形枠である。絞り26の左右方向の長さは、シリンドリカルレンズ25の左右方向の長さと同じである。絞り26は、中央に開口26aを備える。開口26aの左右方向の長さは、後述する反射ミラー24からの光束のうち、開口26aを通過した光束の全てが照射ミラー30に入射するように調整される。 The diaphragm 26 is a shielding member that blocks a part of the light flux from the cylindrical lens 25. The shape of the diaphragm 26 is a rectangular frame in a plan view. The horizontal length of the diaphragm 26 is the same as the horizontal length of the cylindrical lens 25. The diaphragm 26 has an opening 26a at the center. The length of the opening 26a in the left-right direction is adjusted so that all of the light flux from the reflection mirror 24 described later that has passed through the opening 26a enters the irradiation mirror 30.

なお、絞り26は、開口26aを通過した光束の全てが照射ミラー30に入射するように調整可能であればよく、本実施の形態の態様に限定されない。すなわち、例えば、絞りは、カメラの絞りのように、開口の大きさが可変してもよい。 The diaphragm 26 may be adjusted so that all the light flux that has passed through the opening 26a is incident on the irradiation mirror 30, and is not limited to the mode of the present embodiment. That is, for example, the aperture may have a variable aperture size like a camera aperture.

ミラーホルダ27は、反射ミラー24と、シリンドリカルレンズ25と、絞り26と、照射ミラー30と、を保持する。ミラーホルダ27は、第1ホルダ部材27aと第2ホルダ部材27bとを備える。 The mirror holder 27 holds the reflection mirror 24, the cylindrical lens 25, the diaphragm 26, and the irradiation mirror 30. The mirror holder 27 includes a first holder member 27a and a second holder member 27b.

第1ホルダ部材27aの形状は、前後方向に長い平面視で略矩形である。第1ホルダ部材27aは、ミラー溝27aaと、絞り溝27abと、レンズ溝27acと、光導入孔27adと、係合溝27aeと、ボルト挿通孔27afと、逆V溝27agと、を備える。 The shape of the first holder member 27a is substantially rectangular in a plan view long in the front-rear direction. The first holder member 27a includes a mirror groove 27aa, a diaphragm groove 27ab, a lens groove 27ac, a light introduction hole 27ad, an engagement groove 27ae, a bolt insertion hole 27af, and an inverted V groove 27ag.

ミラー溝27aaは、第1ホルダ部材27aの上面の前端側に形成される。ミラー溝27aaの形状は、平面視で円形である。絞り溝27abは、第1ホルダ部材27aの上面の前半側において、ミラー溝27aaの後方に形成される。絞り溝27abの形状は、左右方向に沿うスリット状である。レンズ溝27acは、第1ホルダ部材27aの上面の前半側において、絞り溝27abの後方に形成される。レンズ溝27acの形状は、平面視で前方に凸な略半円である。 The mirror groove 27aa is formed on the front end side of the upper surface of the first holder member 27a. The shape of the mirror groove 27aa is circular in a plan view. The aperture groove 27ab is formed behind the mirror groove 27aa on the front half side of the upper surface of the first holder member 27a. The shape of the diaphragm groove 27ab is a slit shape along the left-right direction. The lens groove 27ac is formed behind the diaphragm groove 27ab on the front half side of the upper surface of the first holder member 27a. The shape of the lens groove 27ac is a substantially semicircular shape that is convex forward in plan view.

光導入孔27adは、第1ホルダ部材27aの前後方向の略中央に形成される。光導入孔27adの形状は、平面視で略矩形である。係合溝27aeは、第1ホルダ部材27aの上面のうち、光導入孔27adの後端縁に隣接する部分に形成される。係合溝27aeの形状は、矩形である。ミラー溝27aaと、絞り溝27abと、レンズ溝27acと、光導入孔27adと、係合溝27aeとは、第1ホルダ部材27aの幅方向(左右方向)の中央に形成される。 The light introducing hole 27ad is formed substantially at the center of the first holder member 27a in the front-rear direction. The shape of the light introducing hole 27ad is substantially rectangular in a plan view. The engagement groove 27ae is formed in a portion of the upper surface of the first holder member 27a adjacent to the rear end edge of the light introduction hole 27ad. The shape of the engagement groove 27ae is a rectangle. The mirror groove 27aa, the diaphragm groove 27ab, the lens groove 27ac, the light introduction hole 27ad, and the engagement groove 27ae are formed at the center of the first holder member 27a in the width direction (left-right direction).

ボルト挿通孔27afは、第1ホルダ部材27aの上面のうち、ミラー溝27aaと光導入孔27adとの間と、係合溝27aeの後側とに、上下方向に沿って形成される。2つのボルト挿通孔27afの間隔は、ユニットベース23の2つの雌ねじ穴23bの間隔と同じである。ボルト挿通孔27afは、第1ホルダ部材27aの幅方向の中央に形成される。 The bolt insertion holes 27af are formed in the upper surface of the first holder member 27a between the mirror groove 27aa and the light introduction hole 27ad and on the rear side of the engagement groove 27ae along the vertical direction. The interval between the two bolt insertion holes 27af is the same as the interval between the two female screw holes 23b of the unit base 23. The bolt insertion hole 27af is formed in the center of the first holder member 27a in the width direction.

逆V溝27agは、第1ホルダ部材27aの下面に形成される。逆V溝27agは、光導入孔27adの左右に形成される。逆V溝27agの形状は、側方視で逆Vの字状である。逆V溝27agは、左右方向に沿う。逆V溝27agは、側方視で2つのボルト挿通孔27afの中間に位置する。 The reverse V groove 27ag is formed on the lower surface of the first holder member 27a. The inverted V grooves 27ag are formed on the left and right of the light introducing hole 27ad. The shape of the inverted V groove 27ag is an inverted V shape in a side view. The reverse V groove 27ag extends in the left-right direction. The reverse V groove 27ag is located in the middle of the two bolt insertion holes 27af in a side view.

第2ホルダ部材27bの形状は、前後方向に長い平面視で略矩形である。第2ホルダ部材27bの前後方向の長さは、第1ホルダ部材27aの前後方向の長さよりも短い。第2ホルダ部材27bは、ミラー溝27baと、絞り溝27bbと、レンズ溝27bcと、工具挿通孔27bdと、ミラー支持柱27beと、を備える。 The shape of the second holder member 27b is substantially rectangular in a plan view long in the front-rear direction. The length of the second holder member 27b in the front-rear direction is shorter than the length of the first holder member 27a in the front-rear direction. The second holder member 27b includes a mirror groove 27ba, a diaphragm groove 27bb, a lens groove 27bc, a tool insertion hole 27bd, and a mirror support column 27be.

ミラー溝27baは、第2ホルダ部材27bの下面の前端側に形成される。ミラー溝27baの形状は、平面視で円形である。絞り溝27bbは、第2ホルダ部材27bの下面の前半側において、ミラー溝27baの後方に形成される。絞り溝27bbの形状は、左右方向に沿うスリット状である。レンズ溝27bcは、第2ホルダ部材27bの下面の前半側において、絞り溝27bbの後方に形成される。レンズ溝27bcの形状は、平面視で前方に凸な略半円である。 The mirror groove 27ba is formed on the front end side of the lower surface of the second holder member 27b. The shape of the mirror groove 27ba is circular in a plan view. The aperture groove 27bb is formed behind the mirror groove 27ba on the front half side of the lower surface of the second holder member 27b. The shape of the throttle groove 27bb is a slit shape along the left-right direction. The lens groove 27bc is formed behind the diaphragm groove 27bb on the front half side of the lower surface of the second holder member 27b. The shape of the lens groove 27bc is a substantially semicircle that is convex forward when seen in a plan view.

工具挿通孔27bdは、第2ホルダ部材27bのミラー溝27baと絞り溝27bbとの間に、上下方向に沿って形成される。ミラー溝27baと、絞り溝27bbと、レンズ溝27bcと、工具挿通孔27bdとは、第2ホルダ部材27bの幅方向(左右方向)の中央に形成される。 The tool insertion hole 27bd is formed between the mirror groove 27ba and the aperture groove 27bb of the second holder member 27b along the vertical direction. The mirror groove 27ba, the diaphragm groove 27bb, the lens groove 27bc, and the tool insertion hole 27bd are formed at the center of the second holder member 27b in the width direction (left-right direction).

ミラー支持柱27beは、第2ホルダ部材27bの下面の後端側に、下方に向けて突出して形成される。ミラー支持柱27beは、第2ホルダ部材27bの幅方向の中央に形成される。すなわち、第2ホルダ部材27bは、後方視でTの字状である(図1参照)。ミラー支持柱27beの前端面は、第2ホルダ部材27bの下面に対して斜め後方へ135度の角度で傾斜する。 The mirror support column 27be is formed on the rear end side of the lower surface of the second holder member 27b so as to project downward. The mirror support column 27be is formed at the center of the second holder member 27b in the width direction. That is, the second holder member 27b has a T-shape when viewed from the rear (see FIG. 1). The front end surface of the mirror support column 27be is inclined rearward at an angle of 135 degrees with respect to the lower surface of the second holder member 27b.

反射ミラー24は、ミラー支持柱27beの前端面に、導光面24aを前斜め下方へ向けて、例えば接着剤などで取り付けられる。そのため、反射ミラー24は、第2ホルダ部材27bの下面に対して斜め後方へ135度の角度で傾斜する。すなわち、反射ミラー24の導光面24aは、上下方向と前後方向とに対して45度の角度で傾斜する。ミラー支持柱27beの左右方向の幅は、反射ミラー24の左右方向の幅と、同一もしくは狭い。 The reflection mirror 24 is attached to the front end surface of the mirror support column 27be with the light guide surface 24a facing forward and obliquely downward, for example, with an adhesive or the like. Therefore, the reflection mirror 24 is inclined obliquely rearward at an angle of 135 degrees with respect to the lower surface of the second holder member 27b. That is, the light guide surface 24a of the reflection mirror 24 is inclined at an angle of 45 degrees with respect to the vertical direction and the front-back direction. The width of the mirror support column 27be in the left-right direction is the same as or narrower than the width of the reflection mirror 24 in the left-right direction.

第2ホルダ部材27bは、第1ホルダ部材27aの上方に、第1ホルダ部材27aと平行に配置される。第2ホルダ部材27bのミラー支持柱27beの下端部は、第1ホルダ部材27aの係合溝27aeに嵌め込まれる。 The second holder member 27b is arranged above the first holder member 27a and in parallel with the first holder member 27a. The lower end portion of the mirror support column 27be of the second holder member 27b is fitted into the engagement groove 27ae of the first holder member 27a.

第1ホルダ部材27aのミラー溝27aaは、第2ホルダ部材27bのミラー溝27baと対向する。第1ホルダ部材27aの2つのボルト挿通孔27afのうち、前側のボルト挿通孔27afは、第2ホルダ部材27bの工具挿通孔27bdと対向する。 The mirror groove 27aa of the first holder member 27a faces the mirror groove 27ba of the second holder member 27b. Of the two bolt insertion holes 27af of the first holder member 27a, the front bolt insertion hole 27af faces the tool insertion hole 27bd of the second holder member 27b.

第1ホルダ部材27aの絞り溝27abは、第2ホルダ部材27bの絞り溝27bbと対向する。絞り26は、第1ホルダ部材27aの絞り溝27abと、第2ホルダ部材27bの絞り溝27bbと、に嵌め込まれる。 The throttle groove 27ab of the first holder member 27a faces the throttle groove 27bb of the second holder member 27b. The diaphragm 26 is fitted into the diaphragm groove 27ab of the first holder member 27a and the diaphragm groove 27bb of the second holder member 27b.

第1ホルダ部材27aのレンズ溝27acは、第2ホルダ部材27bのレンズ溝27bcと対向する。シリンドリカルレンズ25は、シリンドリカルレンズ25の円柱面を前方に向けて、第1ホルダ部材27aのレンズ溝27acと、第2ホルダ部材27bのレンズ溝27bcと、に嵌め込まれる。このとき、シリンドリカルレンズ25は、シリンドリカルレンズ25の円柱面の曲率のある方向が左右方向に沿ってミラーホルダ27に配置される。 The lens groove 27ac of the first holder member 27a faces the lens groove 27bc of the second holder member 27b. The cylindrical lens 25 is fitted into the lens groove 27ac of the first holder member 27a and the lens groove 27bc of the second holder member 27b with the cylindrical surface of the cylindrical lens 25 facing forward. At this time, the cylindrical lens 25 is arranged on the mirror holder 27 so that the cylindrical surface of the cylindrical lens 25 has a curvature in the left-right direction.

照射ミラー30は、シリンドリカルレンズ25からの光束が入射されて照射光束を照射する。照射ミラー30は、本発明にかかる照射装置の照射素子の例である。照射ミラー30の材料は、例えば、アルミニウムなどの金属である。照射ミラー30の形状は、平面視で円形の円柱である。照射ミラー30の直径は、シリンドリカルレンズ25の左右方向の長さよりも小さい。照射ミラー30の直径は、後述するシリンドリカルレンズ25からの光束のうち、絞り26の開口26aを通過した光束の幅に基づいて適宜決定される。すなわち、照射ミラー30の直径は、絞り26の開口26aを通過した光束の全てが照射ミラー30の外周面に入射される値に決定される。 The irradiation mirror 30 receives the light flux from the cylindrical lens 25 and irradiates the irradiation light flux. The irradiation mirror 30 is an example of the irradiation element of the irradiation device according to the present invention. The material of the irradiation mirror 30 is, for example, a metal such as aluminum. The shape of the irradiation mirror 30 is a circular cylinder in plan view. The diameter of the irradiation mirror 30 is smaller than the length of the cylindrical lens 25 in the left-right direction. The diameter of the irradiation mirror 30 is appropriately determined based on the width of the light flux from the cylindrical lens 25, which will be described later, that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26. That is, the diameter of the irradiation mirror 30 is determined to a value such that all of the light flux that has passed through the aperture 26 a of the diaphragm 26 is incident on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30.

照射ミラー30の外周面は、鏡面に加工されている。すなわち、照射ミラー30は、照射ミラー30に入射された光束を全反射する全反射ミラーである。 The outer peripheral surface of the irradiation mirror 30 is processed into a mirror surface. That is, the irradiation mirror 30 is a total reflection mirror that totally reflects the light flux incident on the irradiation mirror 30.

照射ミラー30は、外周面を絞り26に向けて、第1ホルダ部材27aのミラー溝27aaと、第2ホルダ部材27bのミラー溝27baと、に嵌め込まれる。照射ミラー30の中心軸線は、第1ホルダ部材27aの上面と第2ホルダ部材27bの下面のそれぞれと直交する。すなわち、反射ミラー24は、照射ミラー30の中心軸線に対して斜め後方へ45度の角度で傾斜する。 The irradiation mirror 30 is fitted into the mirror groove 27aa of the first holder member 27a and the mirror groove 27ba of the second holder member 27b with the outer peripheral surface facing the diaphragm 26. The central axis of the irradiation mirror 30 is orthogonal to the upper surface of the first holder member 27a and the lower surface of the second holder member 27b. That is, the reflection mirror 24 is inclined obliquely rearward with respect to the central axis of the irradiation mirror 30 at an angle of 45 degrees.

ここで、照射ミラー30の中心軸線とは、照射ミラー30の中心軸を通る直線をいう。 Here, the central axis of the irradiation mirror 30 refers to a straight line passing through the central axis of the irradiation mirror 30.

調節機構40は、反射ミラー24と、後述する第1軸線L1と、の間の角度を調節する。調節機構40は、ピン41と調節ボルト42とを備える。ピン41の形状は、円柱である。ピン41と調節ボルト42との配置については、後述する。 The adjustment mechanism 40 adjusts the angle between the reflection mirror 24 and a first axis L1 described later. The adjusting mechanism 40 includes a pin 41 and an adjusting bolt 42. The shape of the pin 41 is a cylinder. The arrangement of the pin 41 and the adjustment bolt 42 will be described later.

ミラーホルダ27は、ユニットベース23の上方に配置される。このとき、反射ミラー24の導光面24aの中心は、コリメータレンズ21の中心と同一仮想軸線(以下「第1軸線」という。)L1上に配置される。 The mirror holder 27 is arranged above the unit base 23. At this time, the center of the light guide surface 24a of the reflection mirror 24 is arranged on the same virtual axis (hereinafter, referred to as “first axis”) L1 with the center of the collimator lens 21.

ユニットベース23のV溝23gは、ミラーホルダ27の逆V溝27agと対向する。V溝23gと逆V溝27agとの間には、ピン41が挟持される。ピン41は、ユニットベース23の開口の左右2箇所に配置される。ユニットベース23とミラーホルダ27とは、調節ボルト42により連結される。調節ボルト42は、第1ホルダ部材27aのボルト挿通孔27afに挿通されて、ユニットベース23の雌ねじ穴23bに留められる。 The V groove 23g of the unit base 23 faces the reverse V groove 27ag of the mirror holder 27. The pin 41 is sandwiched between the V groove 23g and the reverse V groove 27ag. The pins 41 are arranged at two places on the left and right of the opening of the unit base 23. The unit base 23 and the mirror holder 27 are connected by the adjusting bolt 42. The adjustment bolt 42 is inserted into the bolt insertion hole 27af of the first holder member 27a and is retained in the female screw hole 23b of the unit base 23.

このとき、ユニットベース23の上面と第1ホルダ部材27aの下面との間には、ピン41により隙間が形成される。すなわち、ミラーホルダ27は、ユニットベース23に対して、ピン41を支点とするシーソー状に揺動可能である。ミラーホルダ27のユニットベース23に対する角度は、2つの調節ボルト42の締結量に応じて調節可能である。つまり、第1軸線L1に対する反射ミラー24の角度は、2つの調節ボルト42の締め付け量により簡易に調節される。 At this time, a gap is formed by the pin 41 between the upper surface of the unit base 23 and the lower surface of the first holder member 27a. That is, the mirror holder 27 can swing in a seesaw shape with the pin 41 as a fulcrum with respect to the unit base 23. The angle of the mirror holder 27 with respect to the unit base 23 can be adjusted according to the fastening amount of the two adjustment bolts 42. That is, the angle of the reflection mirror 24 with respect to the first axis L1 is easily adjusted by the tightening amounts of the two adjustment bolts 42.

光源ホルダ12は、ユニットベース23の下面に取り付けられる。光源ホルダ12とユニットベース23とは、光源ホルダ12のボルト挿通孔に挿通されたボルト(不図示)により連結される。ボルトは、光源ホルダ12のボルト挿通孔に挿通されて、ユニットベース23の下面の雌ねじ穴に留められる。このとき、光源11の照射面の中心は、第1軸線L1上に位置する。すなわち、光源11の中心と、コリメータレンズ21の中心と、導光面24aの中心とは、第1軸線L1上に位置する。 The light source holder 12 is attached to the lower surface of the unit base 23. The light source holder 12 and the unit base 23 are connected by a bolt (not shown) inserted in a bolt insertion hole of the light source holder 12. The bolt is inserted into the bolt insertion hole of the light source holder 12 and fixed in the female screw hole on the lower surface of the unit base 23. At this time, the center of the irradiation surface of the light source 11 is located on the first axis L1. That is, the center of the light source 11, the center of the collimator lens 21, and the center of the light guide surface 24a are located on the first axis L1.

反射ミラー24の導光面24aの中心と、絞り26の開口26aの中心と、照射ミラー30の中心軸の中央とは、前後方向に沿う同一仮想軸線(以下「第2軸線」という。)L2上に位置する。すなわち、第1軸線L1と第2軸線L2とは、導光面24aの中心で交わる。 The center of the light guide surface 24a of the reflection mirror 24, the center of the opening 26a of the diaphragm 26, and the center of the central axis of the irradiation mirror 30 are the same virtual axis line (hereinafter, referred to as "second axis line") L2 along the front-rear direction. Located on top. That is, the first axis L1 and the second axis L2 intersect at the center of the light guide surface 24a.

第2軸線L2は、第1軸線L1に直交する。 The second axis L2 is orthogonal to the first axis L1.

なお、第1軸線L1に対する第2軸線L2の角度は、本実施の形態に限定されない。つまり、第1軸線L1に対する第2軸線L2の角度は、後述する反射ミラー24から照射ミラー30に至る光束の光軸が照射ミラー30の中心軸線に直交するように、調節機構40により適宜調節される。 The angle of the second axis L2 with respect to the first axis L1 is not limited to this embodiment. That is, the angle of the second axis L2 with respect to the first axis L1 is appropriately adjusted by the adjusting mechanism 40 so that the optical axis of the light flux from the reflection mirror 24 to the irradiation mirror 30 described later is orthogonal to the central axis of the irradiation mirror 30. It

反射ミラー24の後方には、ミラー支持柱27beのみが配置される。つまり、照射装置1を構成する全ての部材のうち、反射ミラー24よりも左右方向の幅を有する部材は、反射ミラー24の後方には存在しない。 Only the mirror support column 27be is disposed behind the reflection mirror 24. That is, of all the members that configure the irradiation device 1, a member having a width in the left-right direction than the reflection mirror 24 does not exist behind the reflection mirror 24.

●照射装置(1)の動作
次に、照射装置1の動作について、光束の進行を中心に説明する。
Operation of Irradiation Device (1) Next, the operation of the irradiation device 1 will be described focusing on the progress of the luminous flux.

図3は、照射装置1の光学配置図である。同図の一点鎖線は、光束の範囲と、第1軸線L1と、第2軸線L2と、を示す。
図4は、光源11からの光束が照射ミラー30に至るまでの光路を示す光路図である。
FIG. 3 is an optical layout diagram of the irradiation device 1. The dashed-dotted line in the same figure shows the range of the light flux, the first axis L1, and the second axis L2.
FIG. 4 is an optical path diagram showing an optical path through which the light flux from the light source 11 reaches the irradiation mirror 30.

光源11は、回路基板13に制御されて光束を出射する。光源11から出射される光束は、拡散光束である。光源11からの光束は、所定範囲に拡がりコリメータレンズ21の平面に入射される。コリメータレンズ21に入射された光束は、コリメータレンズ21の作用により平行光束となる。コリメータレンズ21の凸面からの光束は、反射ミラー24の導光面24aに入射される。 The light source 11 emits a light beam under the control of the circuit board 13. The light flux emitted from the light source 11 is a diffused light flux. The light flux from the light source 11 spreads over a predetermined range and is incident on the plane of the collimator lens 21. The light flux incident on the collimator lens 21 becomes a parallel light flux due to the action of the collimator lens 21. The light flux from the convex surface of the collimator lens 21 is incident on the light guide surface 24 a of the reflection mirror 24.

反射ミラー24に入射された光束は、反射ミラー24の全反射膜によりシリンドリカルレンズ25に向けて反射される。反射ミラー24からの光束は、シリンドリカルレンズ25の平面に入射される。 The light flux incident on the reflection mirror 24 is reflected toward the cylindrical lens 25 by the total reflection film of the reflection mirror 24. The light flux from the reflection mirror 24 is incident on the plane of the cylindrical lens 25.

シリンドリカルレンズ25に入射された光束は、シリンドリカルレンズ25の作用により所定の焦点(不図示)に集光される。ここで、シリンドリカルレンズ25の焦点は、シリンドリカルレンズ25の前方に配置される照射ミラー30よりも前方に設定される。 The light flux incident on the cylindrical lens 25 is condensed at a predetermined focus (not shown) by the action of the cylindrical lens 25. Here, the focus of the cylindrical lens 25 is set in front of the irradiation mirror 30 arranged in front of the cylindrical lens 25.

シリンドリカルレンズ25は、前述したとおり、シリンドリカルレンズ25の円柱面の曲率のある方向が左右方向(図3の紙面左右方向)に沿ってミラーホルダ27に配置される。そのため、シリンドリカルレンズ25による集光の方向は、照射ミラー30の中心軸線に直交する方向である左右方向である。換言すれば、シリンドリカルレンズ25による集光の方向は、反射ミラー24で反射された光束の進行方向と直交する方向である。 As described above, the cylindrical lens 25 is arranged on the mirror holder 27 so that the direction of curvature of the cylindrical surface of the cylindrical lens 25 is along the left-right direction (left-right direction on the paper surface of FIG. 3). Therefore, the direction of light collection by the cylindrical lens 25 is the left-right direction which is the direction orthogonal to the central axis of the irradiation mirror 30. In other words, the direction of light collection by the cylindrical lens 25 is a direction orthogonal to the traveling direction of the light beam reflected by the reflection mirror 24.

シリンドリカルレンズ25からの光束は、絞り26の開口26aを通過して、照射ミラー30に入射される。シリンドリカルレンズ25からの光束の一部は、絞り26により遮られる。すなわち、絞り26は、シリンドリカルレンズ25からの光束のうち、照射ミラー30に入射されない光束を遮蔽する。そのため、絞り26の開口26aを通過した光束は、照射ミラー30より前方に進行することなく、その全てが照射ミラー30に入射する。その結果、シリンドリカルレンズ25からの光束は、対象物に直接照射されない。シリンドリカルレンズ25からの光束が照射ミラー30に入射される角度は、照射ミラー30の中心軸線に対して直角である。 The light flux from the cylindrical lens 25 passes through the opening 26a of the diaphragm 26 and is incident on the irradiation mirror 30. A part of the light flux from the cylindrical lens 25 is blocked by the diaphragm 26. That is, the diaphragm 26 blocks the light flux from the cylindrical lens 25 that is not incident on the irradiation mirror 30. Therefore, all of the light flux that has passed through the opening 26 a of the diaphragm 26 does not travel forward of the irradiation mirror 30 and is incident on the irradiation mirror 30. As a result, the light beam from the cylindrical lens 25 is not directly applied to the object. The angle at which the light flux from the cylindrical lens 25 is incident on the irradiation mirror 30 is perpendicular to the central axis of the irradiation mirror 30.

ここで、光源11から反射ミラー24に至るまでの光束は、第1軸線L1上を通る。そのため、反射ミラー24から照射ミラー30に至るまでの光束は、第2軸線L2上を通る。すなわち、光源11から照射ミラー30に至る光束のうち、光源11から反射ミラー24に至る光束の光軸(以下「第1光軸」という。)は、反射ミラー24から照射ミラー30に至る光束の光軸(以下「第2光軸」という。)に直交する。第1光軸は、第1軸線L1と平行する。第2光軸は、第2軸線L2と平行する。 Here, the light flux from the light source 11 to the reflection mirror 24 passes on the first axis L1. Therefore, the light flux from the reflection mirror 24 to the irradiation mirror 30 passes on the second axis L2. That is, of the luminous fluxes from the light source 11 to the irradiation mirror 30, the optical axis of the luminous flux from the light source 11 to the reflection mirror 24 (hereinafter referred to as “first optical axis”) is the luminous flux from the reflection mirror 24 to the irradiation mirror 30. It is orthogonal to the optical axis (hereinafter referred to as "second optical axis"). The first optical axis is parallel to the first axis L1. The second optical axis is parallel to the second axis L2.

なお、第1光軸に対する第2光軸の角度は、本実施の形態に限定されない。すなわち、第1光軸に対する第2光軸の角度は、第2光軸が照射ミラー30の中心軸線に対して直交するように、調節機構40により適宜調節される。つまり、第1光軸に対する第2光軸の角度は、反射ミラー24に入射される光束の入射角に応じて、調節機構40により適宜調節される。 Note that the angle of the second optical axis with respect to the first optical axis is not limited to this embodiment. That is, the angle of the second optical axis with respect to the first optical axis is appropriately adjusted by the adjusting mechanism 40 so that the second optical axis is orthogonal to the central axis of the irradiation mirror 30. That is, the angle of the second optical axis with respect to the first optical axis is appropriately adjusted by the adjusting mechanism 40 according to the incident angle of the light beam incident on the reflection mirror 24.

照射ミラー30に入射された光束は、照射ミラー30の外周面により放射状に反射される。照射ミラー30から反射された光束は、壁や天井などの対象物に照射される照射光束を構成する。照射光束は、照射ミラー30の中心軸線に対して直交する方向に照射される。 The light flux incident on the irradiation mirror 30 is radially reflected by the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30. The light flux reflected from the irradiation mirror 30 constitutes an irradiation light flux with which an object such as a wall or a ceiling is irradiated. The irradiation light flux is emitted in a direction orthogonal to the central axis of the irradiation mirror 30.

図5は、照射光束の照射方向を示す照射装置1の平面図である。同図の一点鎖線は、反射ミラー24から照射ミラー30に至るまでの光束と、照射ミラー30からの照射光束と、を示す。
図6は、照射ミラー30への入射光束と、照射ミラー30からの照射光束と、を示す説明図である。同図の一点鎖線は、照射ミラー30への入射光束と、照射ミラー30からの照射光束と、を示す。
FIG. 5 is a plan view of the irradiation device 1 showing the irradiation direction of the irradiation light flux. A dashed-dotted line in the same figure shows the light flux from the reflection mirror 24 to the irradiation mirror 30, and the irradiation light flux from the irradiation mirror 30.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an incident light flux on the irradiation mirror 30 and an irradiation light flux from the irradiation mirror 30. A dashed-dotted line in the same figure shows an incident light flux to the irradiation mirror 30 and an irradiation light flux from the irradiation mirror 30.

照射光束は、照射ミラー30の外周面から放射状に反射される。照射光束は、絞り26の開口26aを通過した光束の照射ミラー30の外周面への入射角に応じた角度で反射される。照射ミラー30の前方には、照射ミラー30の陰が投影される領域が生じる。 The irradiation light flux is radially reflected from the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30. The irradiation light flux is reflected at an angle according to the incident angle of the light flux that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26 on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30. In front of the irradiation mirror 30, there is a region where the shadow of the irradiation mirror 30 is projected.

絞り26の開口26aを通過した光束は、シリンドリカルレンズ25の作用により集光されながら照射ミラー30に入射される。そのため、絞り26の開口26aを通過した光束のうち、左右端(図6の紙面上下端)部分の光束の一部は、照射ミラー30の中心軸よりも前方の外周面により反射される。その結果、照射光束の一部は、照射ミラー30よりも前方に照射される。照射ミラー30の右半面側(図6の紙面上側)から照射される照射光束の一部は、照射ミラー30の左半面側(図6の紙面下側)から照射される照射光束の一部と、照射ミラー30の前方の点Pで重なる(図3参照)。すなわち、照射ミラー30の陰が投影される領域は、照射ミラー30から見て点Pよりも前方には生じない。つまり、照射装置1は、点Pよりも前方に照射光束を照射可能である。その結果、照射装置1は、照射光束を全周ライン状に照射する。 The light flux that has passed through the aperture 26 a of the diaphragm 26 is incident on the irradiation mirror 30 while being condensed by the action of the cylindrical lens 25. Therefore, of the light flux that has passed through the opening 26a of the diaphragm 26, part of the light flux at the left and right ends (upper and lower ends of the paper surface of FIG. 6) is reflected by the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30 in front of the central axis. As a result, a part of the irradiation light flux is irradiated in front of the irradiation mirror 30. A part of the irradiation light flux emitted from the right half surface side of the irradiation mirror 30 (the upper side of the paper surface of FIG. 6) and a part of the irradiation light flux emitted from the left half surface side of the irradiation mirror 30 (the lower side of the paper surface of FIG. 6). , Overlap at a point P in front of the irradiation mirror 30 (see FIG. 3). That is, the area where the shadow of the irradiation mirror 30 is projected does not occur in front of the point P when viewed from the irradiation mirror 30. That is, the irradiation device 1 can irradiate the irradiation light flux in front of the point P. As a result, the irradiation device 1 irradiates the irradiation light flux in a line shape around the entire circumference.

このように、照射光束は、鏡面に加工された照射ミラー30の外周面により反射された光束のみで構成される。そのため、照射ミラー30からの照射光束は、従来の半透過膜を蒸着したロッドレンズからの照射光束と比較して、半透過膜のばらつきや、反射率と透過率との個別の調整を考慮することなく、均等な明るさで全周ライン状に照射される。 In this way, the irradiation light flux is composed only of the light flux reflected by the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30 processed into a mirror surface. Therefore, the irradiation light flux from the irradiation mirror 30 is considered in comparison with the irradiation light flux from the rod lens in which the conventional semi-transmissive film is vapor-deposited, and the dispersion of the semi-transmissive film and the individual adjustment of the reflectance and the transmittance are taken into consideration. Without being illuminated, it is illuminated in a line around the circumference with uniform brightness.

照射光束の一部は、第2軸線L2上を通る。すなわち、照射光束の照射範囲には、絞り26が配置される。そのため、照射光束の一部は、絞り26に照射される。つまり、照射光束の一部は、図3に示されるように、絞り26により扇状に遮られる。一方、照射光束の他の一部は、照射装置1に遮られることなく対象物に照射される。 A part of the irradiation light flux passes on the second axis L2. That is, the diaphragm 26 is arranged in the irradiation range of the irradiation light flux. Therefore, a part of the irradiation light flux is applied to the diaphragm 26. That is, a part of the irradiation light flux is blocked in a fan shape by the diaphragm 26, as shown in FIG. On the other hand, the other part of the irradiation light flux is applied to the object without being blocked by the irradiation device 1.

照射装置1は、例えば、ジンバル機構などにより、第1軸線L1を鉛直方向に、第2軸線L2を水平方向に、それぞれ合わせることができる。その結果、照射装置1は、絞り26の後方を除いて、切れ目の少ない全周ライン状に照射光束を照射することで、対象物に水平ラインを描くことができる。 The irradiation device 1 can align the first axis L1 in the vertical direction and the second axis L2 in the horizontal direction by, for example, a gimbal mechanism or the like. As a result, the irradiation device 1 can draw a horizontal line on the object by irradiating the irradiation light flux in the form of an entire circumference line with few breaks, except for behind the diaphragm 26.

以上説明した照射装置1の動作のうち、照射装置1により対象物を照射する照射方法の特徴は、以下のとおりである。すなわち、先ず、光源11は、一の方向である上方に光束を出射する。次いで、反射ミラー24は、光源11から出射された光束を上方とは異なる他の方向である前方に反射する。次いで、シリンドリカルレンズ25は、反射ミラー24からの光束を集光させる。次いで、照射ミラー30は、シリンドリカルレンズ25からの光束を全反射させる。このとき、照射光束は、均等な明るさである。 Among the operations of the irradiation device 1 described above, the characteristics of the irradiation method for irradiating an object with the irradiation device 1 are as follows. That is, first, the light source 11 emits a light beam upward in one direction. Next, the reflection mirror 24 reflects the light flux emitted from the light source 11 forward in another direction different from the upward direction. Next, the cylindrical lens 25 condenses the light flux from the reflection mirror 24. Next, the irradiation mirror 30 totally reflects the light flux from the cylindrical lens 25. At this time, the irradiation luminous flux has uniform brightness.

●まとめ
以上説明した実施の形態によれば、照射装置1は、シリンドリカルレンズ25により集光された光束を照射ミラー30に全反射させるという簡易な構造で、均等な明るさの照射光束を全周ライン状に照射する。
[Summary] According to the above-described embodiment, the irradiation device 1 has a simple structure in which the light beam condensed by the cylindrical lens 25 is totally reflected by the irradiation mirror 30, and the irradiation light beam having uniform brightness is entirely reflected. Irradiate in a line.

なお、本発明にかかる照射装置は、照射素子の別の例として、外周面に全反射膜を蒸着した円筒形状のロッドレンズを備えてもよい。また、全反射膜は、絞り26の開口26aを通過した光束が入射される面にのみ蒸着されてもよい。この場合、ロッドレンズからの照射光束は、全反射膜のばらつきの影響を受けるが、反射率のみを考慮すればよい。そのため、照射装置は、均等な明るさの照射光束を全周ライン状に照射する。 The irradiation device according to the present invention may include, as another example of the irradiation element, a cylindrical rod lens having a total reflection film deposited on the outer peripheral surface. The total reflection film may be vapor-deposited only on the surface on which the light flux that has passed through the opening 26 a of the diaphragm 26 is incident. In this case, the irradiation light flux from the rod lens is affected by the dispersion of the total reflection film, but only the reflectance needs to be considered. Therefore, the irradiation device irradiates the irradiation light flux of uniform brightness in a line shape around the entire circumference.

また、絞り26は、照射ミラー30に入射されない光束が照射ミラー30より前方に進行しない態様で導光ユニット20に配置されればよい。すなわち、例えば、絞り26は、コリメータレンズ21と反射ミラー24との間や、反射ミラー24とシリンドリカルレンズ25との間に配置されてもよい。 Further, the diaphragm 26 may be arranged in the light guide unit 20 in such a manner that a light beam that does not enter the irradiation mirror 30 does not travel forward of the irradiation mirror 30. That is, for example, the diaphragm 26 may be arranged between the collimator lens 21 and the reflection mirror 24, or between the reflection mirror 24 and the cylindrical lens 25.

さらに、シリンドリカルレンズ25は、照射ミラー30に入射される光束の一部が照射ミラー30の中心軸よりも前方の外周面で反射される態様で導光ユニット20に配置されればよい。すなわち、例えば、シリンドリカルレンズ25は、コリメータレンズ21と反射ミラー24との間に配置されてもよい。 Further, the cylindrical lens 25 may be arranged in the light guide unit 20 in such a manner that a part of the light beam incident on the irradiation mirror 30 is reflected by the outer peripheral surface in front of the central axis of the irradiation mirror 30. That is, for example, the cylindrical lens 25 may be arranged between the collimator lens 21 and the reflection mirror 24.

さらにまた、照射ミラー30は、少なくとも一端がミラーホルダ27に保持されていればよい。すなわち、例えば、照射ミラー30は、第1ホルダ部材27aにのみ保持されてもよい。その結果、照射ミラー30の保持の構成は、簡易になる。この場合、第2ホルダ部材の前後方向の長さは、例えば、ミラー支持柱27beの位置から絞り溝27bbの位置までの長さでよい。その結果、第2ホルダ部材の構造は、簡素になる。 Furthermore, at least one end of the irradiation mirror 30 may be held by the mirror holder 27. That is, for example, the irradiation mirror 30 may be held only by the first holder member 27a. As a result, the structure for holding the irradiation mirror 30 is simplified. In this case, the length of the second holder member in the front-rear direction may be, for example, the length from the position of the mirror support column 27be to the position of the diaphragm groove 27bb. As a result, the structure of the second holder member becomes simple.

さらにまた、本発明にかかる照射装置は、導光素子の別の例として、ペンタプリズムを備えてもよい。ペンタプリズムは、1つの角が90度、残りの4つの角が112.5度の5角8面体である。ペンタプリズムは、ペンタプリズムの90度をなす2面のうち、一方の面が、第1軸線に直交するように配置される。ペンタプリズムの他方の面は、第2軸線に直交する。ペンタプリズムの90度をなす2面に隣接する別の2面には、全反射膜が形成される。 Furthermore, the irradiation device according to the present invention may include a pentaprism as another example of the light guide element. The penta prism is a pentagonal octahedron with one angle of 90 degrees and the remaining four angles of 112.5 degrees. The penta prism is arranged so that one of the two surfaces forming the 90 degrees of the penta prism is orthogonal to the first axis. The other surface of the pentagonal prism is orthogonal to the second axis. A total reflection film is formed on the other two surfaces adjacent to the two surfaces that form 90 degrees of the pentagonal prism.

●照射装置(2)●
次に、本発明にかかる照射装置の別の実施の形態(以下「第2実施形態」という。)について、先に説明した第1実施形態と異なる部分を中心に説明する。第2実施形態における照射装置は、照射ミラー(照射素子)が第1実施形態と異なる。
● Irradiation device (2) ●
Next, another embodiment (hereinafter, referred to as “second embodiment”) of the irradiation device according to the present invention will be described focusing on parts different from the first embodiment described above. The irradiation device in the second embodiment is different from that in the first embodiment in the irradiation mirror (irradiation element).

●照射装置(2)の構成
図7は、第2実施形態における照射装置の左側面視断面図である。以下の説明において、同図の紙面上側を上方といい、紙面下側を下方という。また、同図の紙面右側を前方といい、紙面左側を後方という。さらに、同図の紙面奥側を左方といい、紙面手前側を右方という。
Configuration of Irradiation Device (2) FIG. 7 is a left side sectional view of the irradiation device in the second embodiment. In the following description, the upper side of the paper in the figure is called the upper side and the lower side of the paper is called the lower side. Further, the right side of the paper in the figure is called the front, and the left side of the paper is called the rear. Further, the back side of the paper in the figure is called the left side, and the front side of the paper is called the right side.

照射装置1Aは、照射ミラー30Aを備える。 The irradiation device 1A includes an irradiation mirror 30A.

図8は、照射ミラー30Aの平面図である。
同図の一点鎖線は、反射ミラー24から照射ミラー30Aに至るまでの光束と、照射ミラー30Aからの照射光束と、を示す。
FIG. 8 is a plan view of the irradiation mirror 30A.
A dashed-dotted line in the same figure shows the luminous flux from the reflection mirror 24 to the irradiation mirror 30A and the luminous flux irradiated from the irradiation mirror 30A.

照射ミラー30Aは、シリンドリカルレンズ25からの光束が入射されて照射光束を照射する。照射ミラー30Aは、本発明にかかる照射装置の照射素子の別の例である。照射ミラー30Aの材料は、例えば、アルミニウムなどの金属である。そのため、照射ミラー30Aの加工は、容易である。 The irradiation mirror 30A receives the light beam from the cylindrical lens 25 and irradiates the irradiation light beam. The irradiation mirror 30A is another example of the irradiation element of the irradiation device according to the present invention. The material of the irradiation mirror 30A is, for example, a metal such as aluminum. Therefore, the processing of the irradiation mirror 30A is easy.

照射ミラー30Aの形状は、長軸と短軸とを有する扁平状または円錐断面状である。円錐断面状とは、シリンドリカルレンズ25からの光束を反射する曲面の輪郭が、楕円や放物線などの円錐曲線である形状をいう。照射ミラー30Aの形状は、シリンドリカルレンズ25からの光束を反射する面が曲面であり、例えば、平面視で楕円の楕円柱である。以下の説明において、照射ミラー30Aの形状は、楕円柱である。 The irradiation mirror 30A has a flat shape or a conical cross section having a long axis and a short axis. The conical cross section means a shape in which the contour of the curved surface that reflects the light flux from the cylindrical lens 25 is a conical curve such as an ellipse or a parabola. The shape of the irradiation mirror 30A is such that the surface that reflects the light flux from the cylindrical lens 25 is a curved surface, and is, for example, an elliptic cylinder that is elliptical in plan view. In the following description, the shape of the irradiation mirror 30A is an elliptic cylinder.

照射ミラー30Aの短軸の長さは、シリンドリカルレンズ25からの光束のうち、絞り26の開口26aを通過した光束の幅に基づいて適宜決定される。すなわち、照射ミラー30Aの短軸の長さは、絞り26の開口26aを通過した光束の全てが照射ミラー30Aの外周面に入射される値に決定される。照射ミラー30Aの外周面の曲率は、後述するシリンドリカルレンズ25からの光束の光分布に合わせた最適な値に設定される。 The length of the minor axis of the irradiation mirror 30A is appropriately determined based on the width of the light flux from the cylindrical lens 25 that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26. That is, the length of the minor axis of the irradiation mirror 30A is determined to a value such that all of the light flux that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26 is incident on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A. The curvature of the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A is set to an optimum value according to the light distribution of the light flux from the cylindrical lens 25 described later.

照射ミラー30Aの外周面は、鏡面に加工されている。すなわち、照射ミラー30Aは、照射ミラー30Aに入射された光束を全反射する全反射ミラーである。 The outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A is processed into a mirror surface. That is, the irradiation mirror 30A is a total reflection mirror that totally reflects the light flux incident on the irradiation mirror 30A.

照射ミラー30Aは、長軸を前後方向(紙面左右方向)に沿わせて、第1ホルダ部材27aのミラー溝27aaと、第2ホルダ部材27bのミラー溝27baと、に嵌め込まれる。すなわち、照射ミラー30Aの長軸の方向は、照射ミラー30Aに入射される光束の進行方向と平行である。一方、照射ミラー30Aの短軸は、左右方向(紙面上下方向)に沿う。照射ミラー30Aの中心軸線は、第1ホルダ部材27aの上面と第2ホルダ部材27bの下面のそれぞれと直交する。すなわち、反射ミラー24は、照射ミラー30Aの中心軸線に対して斜め後方へ45度の角度で傾斜する。 The irradiation mirror 30A is fitted into the mirror groove 27aa of the first holder member 27a and the mirror groove 27ba of the second holder member 27b with the long axis along the front-back direction (left-right direction on the paper surface). That is, the direction of the major axis of the irradiation mirror 30A is parallel to the traveling direction of the light beam incident on the irradiation mirror 30A. On the other hand, the short axis of the irradiation mirror 30A is along the left-right direction (vertical direction on the paper surface). The central axis of the irradiation mirror 30A is orthogonal to the upper surface of the first holder member 27a and the lower surface of the second holder member 27b. That is, the reflection mirror 24 is inclined obliquely rearward at an angle of 45 degrees with respect to the central axis of the irradiation mirror 30A.

なお、第1ホルダ部材のミラー溝と第2ホルダ部材のミラー溝との平面視の形状は、照射ミラー30Aの平面視の形状に合わせた形状、例えば、楕円でもよい。 The planar shape of the mirror groove of the first holder member and the mirror groove of the second holder member may be a shape that matches the planar shape of the irradiation mirror 30A, for example, an ellipse.

●照射装置(2)の動作
次に、照射装置1Aの動作について、光束の進行を中心に説明する。
Operation of Irradiation Device (2) Next, the operation of the irradiation device 1A will be described focusing on the progress of the luminous flux.

光源11から照射ミラー30Aに至る光路は、第1実施形態の光源11から照射ミラー30に至る光路と同様である。 The optical path from the light source 11 to the irradiation mirror 30A is the same as the optical path from the light source 11 to the irradiation mirror 30 in the first embodiment.

シリンドリカルレンズ25からの光束は、絞り26の開口26aを通過して、照射ミラー30Aに入射される。このとき、シリンドリカルレンズ25からの光束の一部は、第1実施形態と同様に絞り26により遮られる。すなわち、絞り26の開口26aを通過した光束は、照射ミラー30Aより前方に進行することなく、その全てが照射ミラー30Aに入射される。前述したとおり、照射ミラー30Aの長軸の方向は、照射ミラー30Aに入射する光束の進行方向と平行である。そのため、絞り26の開口26aを通過した光束の一部は、第1実施形態と同様に、照射ミラー30Aの中心軸よりも前方の外周面に入射される。シリンドリカルレンズ25からの光束が照射ミラー30Aに入射される角度は、照射ミラー30Aの中心軸線に対して直角である。 The light flux from the cylindrical lens 25 passes through the opening 26a of the diaphragm 26 and enters the irradiation mirror 30A. At this time, a part of the light flux from the cylindrical lens 25 is blocked by the diaphragm 26 as in the first embodiment. That is, the entire light flux that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26 is incident on the irradiation mirror 30A without proceeding to the front of the irradiation mirror 30A. As described above, the direction of the long axis of the irradiation mirror 30A is parallel to the traveling direction of the light flux incident on the irradiation mirror 30A. Therefore, a part of the light flux that has passed through the aperture 26a of the diaphragm 26 is incident on the outer peripheral surface in front of the central axis of the irradiation mirror 30A, as in the first embodiment. The angle at which the light flux from the cylindrical lens 25 is incident on the irradiation mirror 30A is perpendicular to the central axis of the irradiation mirror 30A.

照射ミラー30Aに入射された光束は、照射ミラー30Aの外周面から放射状に反射される。照射ミラー30Aから反射された光束は、壁や天井などの対象物に照射される照射光束を構成する。照射光束は、照射ミラー30Aの中心軸線に対して直交する方向に照射される。 The light flux incident on the irradiation mirror 30A is radially reflected from the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A. The light flux reflected from the irradiation mirror 30A constitutes an irradiation light flux with which an object such as a wall or a ceiling is irradiated. The irradiation light flux is irradiated in a direction orthogonal to the central axis of the irradiation mirror 30A.

照射ミラー30Aの外周面の曲率は、シリンドリカルレンズ25からの光束の光分布に合わせた最適な値に設定される。すなわち、例えば、照射ミラー30Aの外周面の曲率は、照射ミラー30Aの外周面における照射ミラー30Aへの入射光束と、照射ミラー30Aからの反射光束(照射光束)と、の角度(以下「反射角度」という。)が均等になる領域が可能な限り広くなるように設定される。 The curvature of the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A is set to an optimum value according to the light distribution of the light flux from the cylindrical lens 25. That is, for example, the curvature of the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A is determined by the angle (hereinafter referred to as “reflection angle”) between the incident light flux to the irradiation mirror 30A on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A and the reflected light flux (irradiation light flux) from the irradiation mirror 30A. ") is evenly set.

ここで、図6に示した第1実施形態の照射ミラー30の反射角度は、照射ミラー30の外周面において全て異なる。そのため、第1実施形態の照射ミラー30からの照射光束の明るさには、若干のムラが生じる。一方、図8に示した照射ミラー30Aの反射角度は、照射ミラー30Aの外周面において均等になる領域を有する。そのため、前述の照射光束の明るさのムラは減少する。すなわち、照射ミラー30Aの照射光束は、第1実施形態の照射ミラー30からの照射光束と比較して、さらに均等な明るさとなる。 Here, the reflection angles of the irradiation mirror 30 of the first embodiment shown in FIG. 6 are all different on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30. Therefore, the brightness of the luminous flux emitted from the irradiation mirror 30 of the first embodiment is slightly uneven. On the other hand, the reflection angle of the irradiation mirror 30A shown in FIG. 8 has a uniform area on the outer peripheral surface of the irradiation mirror 30A. Therefore, the unevenness of the brightness of the irradiation light flux described above is reduced. That is, the irradiation light flux of the irradiation mirror 30A has more uniform brightness as compared with the irradiation light flux from the irradiation mirror 30 of the first embodiment.

●まとめ
以上説明した実施の形態によれば、照射装置1Aは、シリンドリカルレンズ25からの光束を反射する面が曲面で長軸と短軸とを有する扁平状の照射ミラー30Aを備える。そのため、照射装置1Aは、照射装置1と比較して、さらに均等な明るさの照射光束を全周ライン状に照射する。
[Summary] According to the embodiment described above, the irradiation device 1A includes the flat irradiation mirror 30A having a curved surface for reflecting the light flux from the cylindrical lens 25 and having a major axis and a minor axis. Therefore, as compared with the irradiation device 1, the irradiation device 1A irradiates the irradiation light flux having a more uniform brightness in a line shape around the entire circumference.

なお、照射ミラー30Aの形状は、平面視で楕円に限定されない。すなわち、例えば、照射ミラーの形状は、平面視で二つの円弧が結合した形状でもよい。その結果、照射ミラーの外周面における反射角度が均等になる領域は、さらに広がる。 The shape of the irradiation mirror 30A is not limited to an ellipse in plan view. That is, for example, the shape of the irradiation mirror may be a shape in which two arcs are combined in a plan view. As a result, the area where the reflection angles on the outer peripheral surface of the irradiation mirror are uniform is further expanded.

●墨出器●
次に、本発明にかかる墨出器の実施の形態について説明する。
● Sumiki device ●
Next, an embodiment of the marking device according to the present invention will be described.

●墨出器の構成
図9は、本発明にかかる墨出器の実施の形態を示す斜視図である。
墨出器Sは、前述の第1実施形態における照射装置1、とベース5と、支持体(不図示)と、ジンバル機構(不図示)と、揺動体(不図示)、と電源(不図示)と、ケース6と、を有してなる。
Configuration of Marker FIG. 9 is a perspective view showing an embodiment of the marker according to the present invention.
The marking-out device S includes the irradiation device 1 in the first embodiment, the base 5, a support (not shown), a gimbal mechanism (not shown), an oscillating body (not shown), and a power supply (not shown). ) And a case 6.

照射装置1は、対象物に水平ラインや鉛直ラインを描く。 The irradiation device 1 draws a horizontal line or a vertical line on the object.

なお、本発明の墨出器が備える照射装置は、前述した第2実施形態における照射装置1Aでもよい。 The irradiation device included in the marking device of the present invention may be the irradiation device 1A in the second embodiment described above.

照射装置1は、揺動体に固定される。照射装置1は、例えば、導光ユニット20と照射ミラー30とがケース6の上方に配置される。照射装置1は、ジンバル機構により、第1軸線L1が鉛直方向に向くように調整される。 The irradiation device 1 is fixed to the oscillator. In the irradiation device 1, for example, the light guide unit 20 and the irradiation mirror 30 are arranged above the case 6. The irradiation device 1 is adjusted by the gimbal mechanism so that the first axis L1 is oriented in the vertical direction.

ベース5は、支持体を支持する。ベース5は、略矩形の板状体である。ベース5は、3脚により支持される。 The base 5 supports a support. The base 5 is a substantially rectangular plate-shaped body. The base 5 is supported by three legs.

支持体は、ベース5の4角から上方に立ち上がった4本の支柱から構成される。 The support is composed of four columns that stand up from four corners of the base 5.

ジンバル機構は、揺動体を介して照射装置1の水平方向と鉛直方向とのバランスを調整する。ジンバル機構は、前後方向に沿う第1軸と、左右方向に沿う第2軸と、中間支持体と、を備える。中間支持体は、第1軸により左右方向に揺動可能に支持される。第2軸は中間支持体に支持される。 The gimbal mechanism adjusts the balance between the horizontal direction and the vertical direction of the irradiation device 1 via the swing body. The gimbal mechanism includes a first shaft extending in the front-rear direction, a second shaft extending in the left-right direction, and an intermediate support. The intermediate support is supported by the first shaft so as to be swingable in the left-right direction. The second shaft is supported by the intermediate support.

揺動体は、照射装置1を支持する。揺動体は、ジンバル機構の第2軸に前後方向に揺動可能に支持される。すなわち、揺動体は、支持体に対して前後左右に揺動可能である。つまり、揺動体は、常に水平方向と鉛直方向とに対する一定の姿勢を保つ。 The rocking body supports the irradiation device 1. The rocking body is supported by the second shaft of the gimbal mechanism so as to be rockable in the front-rear direction. That is, the oscillating body can oscillate back and forth and left and right with respect to the support body. That is, the oscillating body always maintains a constant posture in the horizontal direction and the vertical direction.

電源は、照射装置1に光源11(図2参照)の駆動用の電源を供給する。電源は、例えば、ベース5の上に配置される。 The power supply supplies the irradiation device 1 with power for driving the light source 11 (see FIG. 2 ). The power supply is arranged on the base 5, for example.

ケース6は、支持体とジンバル機構と揺動体と電源とを収納する。ケース6は、例えば、有底筒体である。ケース6は、ベース5の上方に被せられる。 The case 6 houses a support, a gimbal mechanism, a rocking body, and a power supply. The case 6 is, for example, a bottomed cylinder. The case 6 is placed over the base 5.

●墨出器の動作
次に墨出器Sの動作について説明する。
-Operation of the marking device Next, the operation of the marking device S will be described.

墨出器Sは、例えば、建築現場の建築中の建物の床面に設置される。照射装置1は、ジンバル機構により、第1軸線L1が鉛直方向に向くように調整される。この状態において、墨出器Sの電源をオンにすると、照射装置1からの照射光束は、建物の壁(対象物)に照射される。その結果、墨出器Sは、水平方向における絞り26に遮られた範囲を除いた範囲内の対象物に切れ目の少ない全周ライン状に水平ラインを描くことができる。 The ink ejector S is installed, for example, on the floor surface of the building under construction at the construction site. The irradiation device 1 is adjusted by the gimbal mechanism so that the first axis L1 is oriented in the vertical direction. In this state, when the power of the marking device S is turned on, the irradiation light flux from the irradiation device 1 is applied to the wall (object) of the building. As a result, the marking-out device S can draw a horizontal line on the object within the range excluding the range blocked by the diaphragm 26 in the horizontal direction in the form of an entire circumference line with few breaks.

以上説明した墨出器Sにより対象物を照射する照射方法の特徴は、以下のとおりである。すなわち、先ず、光源11は、一の方向である上方に光束を出射する。次いで、反射ミラー24は、光源11から出射された光束を上方とは異なる他の方向である前方に反射する。次いで、シリンドリカルレンズ25は、反射ミラー24からの光束を集光する。照射ミラー30は、シリンドリカルレンズ25からの光束を全反射する。このとき、照射光束は、均等な明るさである。 The characteristics of the irradiation method for irradiating the object with the squeeze device S described above are as follows. That is, first, the light source 11 emits a light beam upward in one direction. Next, the reflection mirror 24 reflects the light flux emitted from the light source 11 forward in another direction different from the upward direction. Next, the cylindrical lens 25 collects the light flux from the reflection mirror 24. The irradiation mirror 30 totally reflects the light flux from the cylindrical lens 25. At this time, the irradiation luminous flux has uniform brightness.

●まとめ
以上説明した実施の形態によれば、墨出器Sは、本発明にかかる照射装置を備えるため、均等な明るさの照射光束を照射する。
[Summary] According to the embodiment described above, since the marking-out device S includes the irradiation device according to the present invention, the marking-out device S irradiates an irradiation light flux having uniform brightness.

S 墨出器
1 照射装置
10 光源ユニット
11 光源
12 光源ホルダ
13 回路基板
20 導光ユニット
21 コリメータレンズ
22 レンズホルダ
23 ユニットベース
24 反射ミラー(導光素子)
24a 導光面
25 シリンドリカルレンズ(集光素子)
26 絞り
26a 開口
27 ミラーホルダ
27a 第1ホルダ部材
27b 第2ホルダ部材
30 照射ミラー(照射素子)
40 調節機構
41 ピン
42 調節ボルト
5 ベース
6 ケース
1A 照射装置
30A 照射ミラー(照射素子)


S ink maker 1 irradiation device 10 light source unit 11 light source 12 light source holder 13 circuit board 20 light guide unit 21 collimator lens 22 lens holder 23 unit base 24 reflection mirror (light guide element)
24a Light guide surface 25 Cylindrical lens (condensing element)
26 diaphragm 26a opening 27 mirror holder 27a first holder member 27b second holder member 30 irradiation mirror (irradiation element)
40 adjustment mechanism 41 pin 42 adjustment bolt 5 base 6 case 1A irradiation device 30A irradiation mirror (irradiation element)


Claims (11)

光源と、
前記光源からの光束が入射されて照射光束を照射する照射素子と、
前記光源からの光束を、前記照射素子に向けて集光させる集光素子と、
を有してなり、
前記照射素子は、全反射ミラーからなり、
前記集光素子は、前記光源からの光束を、前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向において、前記照射素子よりも前方の焦点に集光させ、
前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向において、前記照射素子の中心軸よりも前方の外周面は、前記集光素子により集光された光束の一部を反射する、
ことを特徴とする照射装置。
A light source,
An illuminating element that illuminates an illuminating luminous flux upon incidence of the luminous flux from the light source,
A light condensing element for condensing the light flux from the light source toward the irradiation element,
Have
The irradiation element comprises a total reflection mirror,
The condensing element condenses the light flux from the light source at a focal point in front of the irradiation element in a traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element,
In the traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element, the outer peripheral surface in front of the central axis of the irradiation element reflects a part of the light flux condensed by the condensing element,
Irradiation device characterized by the above.
中央に開口部を備える遮蔽部材、
を有してなり、
前記遮蔽部材は、前記光源からの光束の一部を遮り
前記照射素子は、前記開口部を通過した光束を反射する、
請求項1記載の照射装置。
A shielding member having an opening in the center,
Have
The shielding member blocks a part of the light flux from the light source,
The irradiation element reflects the light flux that has passed through the opening,
The irradiation device according to claim 1.
前記照射素子は、外周面が鏡面加工された金属製の円柱である、The irradiation element is a metal cylinder whose outer peripheral surface is mirror-finished.
請求項1記載の照射装置。The irradiation device according to claim 1.
前記集光素子は、前記光源からの光束を、前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向と、前記照射素子の中心軸の方向と、のそれぞれに直交する方向に狭める、
請求項記載の照射装置。
The condensing element narrows a light flux from the light source in a direction orthogonal to each of a traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element and a direction of a central axis of the irradiation element,
The irradiation device according to claim 3 .
前記集光素子は、The condensing element is
前記照射素子側に向けられる円柱面と、A cylindrical surface facing the irradiation element side,
前記照射素子側とは反対側に向けられる平面と、A plane facing the side opposite to the irradiation element side,
を備え、Equipped with
前記円柱面は、The cylindrical surface is
曲率のある方向と、A direction with curvature,
前記曲率のある方向に直交する曲率のない方向と、A direction having no curvature orthogonal to the direction having the curvature,
を備え、Equipped with
前記曲率のある方向は、前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向と、前記照射素子の中心軸の方向と、のそれぞれに直交する、The direction with the curvature is orthogonal to each of the traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element and the direction of the central axis of the irradiation element,
請求項4記載の照射装置。The irradiation device according to claim 4.
前記集光素子の曲率のない方向は、前記照射素子の中心軸の方向に直交する方向と平行である、The curvature-free direction of the condensing element is parallel to the direction orthogonal to the direction of the central axis of the irradiation element,
請求項5記載の照射装置。The irradiation device according to claim 5.
前記照射素子の形状は、長軸と短軸とを有する平面視で扁平状または円錐断面状であり、
前記光源からの光束が入射する前記照射素子の面は、曲面である、
請求項1記載の照射装置。
The shape of the irradiation element is a flat or conical cross-sectional shape in a plan view having a long axis and a short axis,
The surface of the irradiation element on which the light flux from the light source is incident is a curved surface,
The irradiation device according to claim 1.
前記長軸の方向は、前記照射素子に入射する光束の進行方向と平行である、
請求項記載の照射装置。
The direction of the major axis is parallel to the traveling direction of the light beam incident on the irradiation element,
The irradiation device according to claim 7 .
前記光源からの光束を前記照射素子に向けて導光させる導光素子を備える、
請求項1記載の照射装置。
A light guide element for guiding a light beam from the light source toward the irradiation element,
The irradiation device according to claim 1.
対象物を照射する照射装置を有してなる墨出器であって、
前記照射装置は、請求項1乃至のいずれかに記載の照射装置である、
ことを特徴とする墨出器。
A marking device having an irradiation device for irradiating an object,
The irradiation device is an irradiation device according to any one of claims 1 to 9,
Sumiki device characterized by that.
光源と、
前記光源からの光束が入射されて照射光束を照射する照射素子と、
前記光源からの光束を、前記照射素子に向けて集光させる集光素子と、
を有してなる照射装置の照射方法であって、
前記集光素子は、前記光源からの光束を、前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向において、前記照射素子よりも前方の焦点に集光させ、
前記照射装置は、
前記光源が、光束を出射し、
前記集光素子が、前記光源からの光束を集光させ、
前記照射素子が、前記集光素子により集光された光束を全反射させ、
前記集光素子から前記照射素子に向かう光束の進行方向において、前記照射素子の中心軸よりも前方の外周面が、前記集光素子により集光された光束の一部を反射する、
ことを特徴とする照射方法。
A light source,
An illuminating element that illuminates an illuminating luminous flux upon incidence of the luminous flux from the light source,
A light condensing element for condensing the light flux from the light source toward the irradiation element,
An irradiation method of an irradiation device comprising
The condensing element condenses the light flux from the light source at a focal point in front of the irradiation element in a traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element,
The irradiation device,
The light source emits a light beam,
The condensing element condenses the light flux from the light source,
The irradiation element totally reflects the luminous flux condensed by the condensing element ,
In the traveling direction of the light flux from the condensing element toward the irradiation element, the outer peripheral surface in front of the central axis of the irradiation element reflects a part of the light flux condensed by the condensing element.
Irradiation method characterized by the above.
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