JP6513747B2 - 眼科装置 - Google Patents
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Description
図1に、実施形態に係る眼科装置の外観構成を示す。眼科装置1000は、ベース200と、架台300と、ヘッド部400と、顔受け部500と、ジョイスティック800と、表示部10とを有する。
眼科装置1000は被検眼の検査を行うための光学系を有する。この光学系の構成例について図2〜図7を参照して説明する。光学系はヘッド部400内に設けられている。光学系は、Zアライメント投影系1と、XYアライメントスポット投影系2と、ケラト測定用リング投影系3と、固視および自覚測定系4と、観察系5と、レフ測定投影系6と、レフ測定受光系7と、眼軸長測定系8とを含む。処理部9は、各種の処理を実行する。
観察系5は、対物レンズ51と、ダイクロイックミラー52、53と、絞り54と、ハーフミラー55と、リレーレンズ56、57と、結像レンズ58と、撮像素子(CCD)59とを含む。観察系5は、更に、被検眼Eの前眼部を照明するための照明光源を含んで構成されていてもよい。撮像素子59の出力は、処理部9に入力される。処理部9は、撮像素子59から入力された信号に基づいて、表示部10に前眼部像E’を表示させる。
ケラト板31の周辺にはZアライメント投影系1が設けられている。前述したように、Zアライメント投影系1は、観察系5の光軸前後方向のアライメントに用いられる。Zアライメント投影系1は、Zアライメント光源11を有する。Zアライメント光源11からの光は、角膜Kに投影される。角膜Kに投影された光は、角膜Kで反射し、結像レンズ12を経由してラインセンサー13上に投影される。角膜頂点の位置が観察系5の光軸上に対し前後方向に移動するとラインセンサー13上に投影された光束の位置が変化する。この位置の変化を解析することにより、対物レンズ51に対する被検眼Eの角膜頂点の位置を計測し、その計測値に基づいてアライメントすることができる。
固視および自覚測定系4は、光源41と、透過型の視標チャート42と、合焦レンズ43と、バリアブルクロスシリンダ(以下、VCC)レンズ44と、反射ミラー45とを含む。合焦レンズ43は、固視および自覚測定系4の光軸に沿って移動可能に構成されている。固視および自覚測定系4は、更に、ダイクロイックミラー53、52と、対物レンズ51とを含んで構成されていてもよい。
レフ測定投影系6とレフ測定受光系7とによりレフ測定系が構成される。レフ測定投影系6は、レフ測定光源61から出力された光(赤外光)をリング状の測定パターン光束として被検眼Eの眼底Efに投影する機能を有する。レフ測定受光系7は、レフ測定投影系6により被検眼Eに投影された測定パターン光束の戻り光を受光する機能を有する。
眼軸長測定系8は、OCTユニット80と、コリメータレンズ84と、合焦レンズ85と、リレーレンズ86と、XYスキャナ87と、瞳レンズ88とを含む。眼軸長測定系8は、更に、ダイクロイックミラー52と、対物レンズ51とを含んで構成されていてもよい。ダイクロイックミラー52と、対物レンズ51とは、観察系5と共用される。
ケラト測定を行う場合、処理部9は、ケラトリング光源32を点灯させる。角膜Kに投影された角膜形状測定用リング状光束の角膜による反射光束は、観察系5により撮像素子59に前眼部像とともに投影される。処理部9は、撮像素子59によって取得された像に対して所定の演算処理を施すことにより、角膜の形状を表すパラメータを算出する。
レフ測定(他覚屈折測定)を行う場合、処理部9は、レフ測定光源61を点灯させる。レフ測定光源61からの光は、前述のようにリング状の測定パターン光束となって被検眼Eに投影される。被検眼Eが正視(=0D(ディオプター))の場合には、レフ測定光源61と被検眼Eの眼底Efが共役となる位置がレフ測定光源61と合焦レンズ72の基準位置となっている。この状態で眼底Efに投影された光束は眼底Efで反射され、眼底Efからの戻り光に基づくリング像が撮像素子74に結像される。また、結像されたリング像から算出される測定値(屈折値)に基づき、レフ測定光源61と眼底Efが略共役となる位置にレフ測定光源61と合焦レンズ72とが移動される。処理部9は、撮像素子74により検出された眼底Efからの戻り光に基づく像を解析し、レフ測定光源61の移動量を加味することにより、被検眼Eの屈折力として球面度数S、乱視度数C、および乱視軸角度Aを求める。
眼軸長測定は、OCT計測機能を用いて実行される。眼軸長測定を実行する場合、処理部9は、光路長変更ユニット90を制御しつつ被検眼Eの角膜頂点から網膜までの距離を眼軸長として測定する。まず、処理部9は、OCT光源81を点灯させる。OCT光源81の点灯に同期して、光路長変更ユニット90が制御される。具体的には、角膜用シャッター95がビームスプリッター92と角膜用参照ミラーユニット96との間の光路に挿入され、網膜用シャッター93がビームスプリッター92と網膜用参照ミラーユニット94との間の光路から退避される。OCT光源81からの光L0は、ファイバーカプラー82により測定光LSと参照光LRとに分割される。測定光LSは、上記のように被検眼Eの眼底Efに投影される。このとき、クイックリターンミラー67は、光路外に退避されている。また、前述の被検眼Eの屈折力測定結果より、ファイバー80aの端面は被検眼Eの眼底Efと共役となるように合焦レンズ85が移動されている。眼底Efで反射された光は同光路を戻りファイバー端面に投影され、ファイバーカプラー82に到達する。
自覚測定を行う場合、処理部9は視標チャート42を制御し、所望の視標を表示させる。また、処理部9は、他覚測定の結果に応じた位置に合焦レンズ43を移動させる。同様に、処理部9は、他覚測定で得られた被検眼Eの乱視状態(乱視度数、乱視軸角度)に基づいて、この乱視状態が矯正されるようにVCCレンズ44を制御することが可能である。乱視度数は、VCCレンズ44を構成する2つのシリンダレンズを独立に互いに逆方向に回転させることにより変更可能である。乱視軸角度は、VCCレンズ44を構成する2つのシリンダレンズを同方向に同じ角度だけ回転させることにより変更可能である。
眼科装置1000の情報処理系について説明する。眼科装置1000の情報処理系の機能的構成の例を図8および図9に示す。情報処理系は、制御部110と、演算処理部120と、表示部170と、操作部180と、通信部190とを含む。制御部110は、演算処理部120、Zアライメント投影系1、XYアライメントスポット投影系2、ケラト測定用リング投影系3、固視および自覚測定系4、観察系5、レフ測定投影系6、レフ測定受光系7、眼軸長測定系8を制御する。また、制御部110は、表示部170および通信部190を制御する。Zアライメント投影系1に対する制御として、Zアライメント光源11に対する制御や、ラインセンサー13に対する制御などがある。XYアライメントスポット投影系2に対する制御として、XYアライメント光源21に対する制御などがある。ケラト測定用リング投影系3に対する制御として、ケラトリング光源32に対する制御などがある。処理部9は、たとえば、制御部110と、演算処理部120とを含んで構成される。
制御部110は、主制御部111と、記憶部112とを有する。制御部110は、たとえば、マイクロプロセッサ、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、ハードディスクドライブ等を含んで構成される。
主制御部111は、眼科装置1000の各種制御を行う。主制御部111は、Zアライメント投影系1のZアライメント光源11やラインセンサー13、XYアライメントスポット投影系2のXYアライメント光源21、ケラト測定用リング投影系3のケラトリング光源32を制御する。それにより、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21やケラトリング光源32から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り換えられたりする。また、ラインセンサー13により検出された信号が取り込まれ、取り込まれた信号に基づくアライメント制御等が行われる。
記憶部112は、各種のデータを記憶する。記憶部112に記憶されるデータとしては、たとえば、OCT情報の画像データ、眼底像の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者IDや氏名などの被検者に関する情報や、左眼/右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。測定情報は、眼科装置1000の内部または外部にて被検眼Eの眼屈折力測定が行われたときに記憶部112に記憶される。また、記憶部112には、眼科装置1000を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。
表示部170は、制御部110による制御を受けて情報を表示する。表示部170は、図1などに示す表示部10を含む。
通信部190は、図1に示す外部装置900と通信するための機能を有する。通信部190は、たとえば処理部9に設けられていてもよい。通信部190は、外部装置900との通信の形態に応じた構成を有する。
演算処理部120は、図9に示すように、眼屈折力算出部121と、眼軸長算出部122と、IOL度数算出部123とを含む。眼屈折力算出部121は、第1屈折力算出部121Aと、第2屈折力算出部121Bとを含む。また、演算処理部120は、ラインセンサー13や撮像素子59、74や分光器83により取得された信号を取り込み、各種の制御や画像の形成や解析等を行う。
実施形態に係る眼科装置1000の動作例について説明する。この実施形態では、被検眼Eに対する他覚屈折測定により得られた測定結果を用いてIOL度数を決定することができない場合に、眼軸長測定系8を用いたOCT計測により被検眼Eの少なくとも球面度数を求める。以下では、IOL度数を決定することができない場合として、被検眼Eに対して投影されたリング状の測定パターン光束の戻り光に基づくリング像を取得することができないと判断された場合を例に説明するが、実施形態はこれに限定されるものではない。
まず、被検者の顔を顔受け部500で固定した後、操作部180に対する検者の操作を受け、制御部110は、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21や光源41を点灯させる。処理部9は、撮像素子59の撮像面上に結像された前眼部像の撮像信号を取得し、表示部170(表示部10の表示画面10a)に前眼部像E’を表示させる。その後、ヘッド部400が被検眼Eの検査位置に移動される。検査位置とは、被検眼Eの検査を行うことが可能な位置である。前述のアライメント(Zアライメント投影系1およびXYアライメントスポット投影系2と観察系5とによるアライメント)を介して被検眼Eが検査位置に配置される。ヘッド部400の移動は、ユーザによる操作若しくは指示または制御部110による指示にしたがって、制御部110によって実行される。すなわち、被検眼Eの検査位置へのヘッド部400の移動と、他覚測定を行うための準備とが行われる。
制御部110は、ダイクロイックミラー52により観察系5の光路から分岐された光路上にクイックリターンミラー67の反射面を配置させる。S2では、前述のようにレフ測定のためのリング状の測定パターン光束が被検眼Eに投影される。被検眼Eからの測定パターン光束の戻り光に基づくリング像が、撮像素子74の結像面に結像される。
制御部110は、S2において撮像素子74により検出された眼底Efからの戻り光に基づくリング像を取得できたか否かを判定する。たとえば、制御部110は、撮像素子74により検出された戻り光に基づく像のエッジの位置(画素)を検出し、像の幅(外径と内径との差)が所定値以上であるか否かを判定する、もしくは強度が所定の高さ以上の点(像)に基づいてリングを形成できるか否かを判定することにより、リング像を取得できたか否かを判定する。リング像を取得できたと判定されたとき(S3:Y)、眼科装置1000の動作はS4に移行する。原点、たとえば0Dの位置でリング像を取得できない場合、レフ測定光源61と合焦レンズ72、合焦レンズ85、合焦レンズ43を連動させて、たとえば+10D、−10Dの位置へ移動し、同様の判定を行う。どの位置でもリング像を取得できないと判定されたとき(S3:N)、眼科装置1000の動作はS10に移行する。
リング像を取得できたと判定されたとき(S3:Y)、制御部110は、レフ測定を実行する。レフ測定では、第1屈折力算出部121Aが、S2において投影された測定パターン光束、またはS4において新たに投影された測定パターン光束の戻り光に基づくリング像が前述のように解析される。それにより、球面度数S、乱視度数C、および乱視軸角度Aが求められる。制御部110では、算出された球面度数などが記憶部112に記憶される。制御部110からの指示、または操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はS5に移行する。
制御部110は、ケラトリング光源32を点灯させる。ケラトリング光源32から光が出力されると、角膜Kに角膜形状測定用リング状光束光が投影される。眼屈折力算出部121は、撮像素子59によって取得された像に対して演算処理を施すことにより、角膜曲率半径を算出し、算出された角膜曲率半径から角膜屈折力、角膜乱視度および角膜乱視軸角度を算出する。制御部110では、算出された角膜屈折力などが記憶部112に記憶される。制御部110からの指示、または操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はS6に移行する。
制御部110は、ダイクロイックミラー52により観察系5の光路から分岐された光路からクイックリターンミラー67を退避させる。続いて、制御部110は、OCT光源81を点灯させ、前述のように眼軸長測定を実行させる。眼軸長算出部122は、眼軸長を算出する。制御部110では、算出された眼球情報が記憶部112に記憶される。眼軸長測定が終了したとき、眼科装置1000の動作はS7に移行する。S7への移行は、制御部110からの指示、または操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により行われる。
制御部110は、たとえば、操作部180に対するユーザの指示に基づき、視標チャート42を制御することにより所望の視標を表示させる。また、制御部110は、他覚測定の結果に応じた位置に合焦レンズ43を移動させる。被検者は、眼底Efに投影された視標に対する応答を行う。たとえば、視力測定用の視標の場合には、被検者の応答により被検眼の視力値が決定される。視標の選択とそれに対する被検者の応答が、検者または制御部110の判断により繰り返し行われる。自覚測定が終了したとき、眼科装置1000の動作はS8に移行する。S8への移行は、制御部110からの指示、または操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により行われる。
制御部110は、他覚測定で得られた被検眼Eの乱視状態(乱視度数、乱視軸角度)に基づいて、この乱視状態が矯正されるようにVCCレンズ44を制御する。被検者は、眼底Efに投影された視標に対する応答を行う。たとえば、視力測定用の視標の場合には、被検者の応答により被検眼の視力値が決定される。視標の選択とそれに対する被検者の応答が、検者または制御部110の判断により繰り返し行われる。検者または制御部110は、被検者からの応答に基づいて視力値或いは処方値(S、C、A)を決定する。矯正が終了したとき、眼科装置1000の動作はS9に移行する。S9への移行は、制御部110からの指示、または操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により行われる。
制御部110は、IOL度数算出部123において、前述の測定で求められた被検眼Eの屈折力とS6において求められた眼軸長とを用いて、IOLの度数を求める。制御部110では、求められたIOL度数が記憶部112に記憶される。以上で、眼科装置1000の動作は終了となる(エンド)。
S3においてリング像を取得できないと判定されたとき(S3:N)、制御部100は、ダイクロイックミラー52により観察系5の光路から分岐された光路からクイックリターンミラー67を退避させ、OCT光源81を点灯させる。このとき、合焦レンズ85は、たとえば0Dの位置に配置される。
制御部110は、網膜用参照ミラーユニット94の参照ミラー94Bを光軸に沿って移動させつつ、被検眼Eの眼底Efからの測定光LSの戻り光により生成された干渉光LCの検出信号の所定の波高値以上のピーク値を探索する。
ピーク値の探索によりピーク値が検出されたと判定されたとき(S12:Y)、眼科装置1000の動作はS13に移行する。原点、たとえば0Dの位置でピーク値が検出されない場合、レフ測定光源61と合焦レンズ72、合焦レンズ85、合焦レンズ43を連動させて、たとえば+10D、−10Dの位置へ移動し、同様の判定を行う。どの位置でもピーク値の探索によりピーク値が検出されないと判定されたとき(S12:N)、眼科装置1000の動作はS19に移行する。
S12においてピーク値が検出されたと判定されたとき(S12:Y)、制御部110は、波高値がより高いピーク値が検出されるように合焦レンズ85を移動させる。合焦レンズ85に連動して、レフ測定受光系7の光軸に沿って合焦レンズ72、レフ測定光源61も移動される。
制御部110は、S13における合焦レンズ85等の移動により得られた新たなピーク値から白内障の進行度を示す評価値を算出する。
次に、制御部110は、レフ測定条件を変更する。たとえば、制御部110は、S15における第1変更制御として、第1変更量だけ検出感度を上げるように撮像素子74を制御する。第1変更量は、あらかじめ決められた量であってもよいし、S14において求められた評価値に基づいて決定されてもよい。検出感度を上げることにより、被検眼Eの眼底Efからの戻り光を検出しやすくなり、リング像を取得しやすくなる。
次に、制御部110は、S15において測定条件が変更されたレフ測定により眼底Efからの戻り光に基づくリング像を取得できたか否かをS3と同様に判定する。リング像を取得できたと判定されたとき(S16:Y)、眼科装置1000の動作はS4に移行し、再びレフ測定を実行する。一方、リング像を取得できないと判定されたとき(S16:N)、眼科装置1000の動作はS17に移行する。
リング像を取得できないと判定されたとき(S16:N)、制御部110は、リトライを実行するか否かを判定する。たとえば、制御部110は、S17において過去にリトライが実行された回数が所定回数以下であるか否かを判定することにより、リトライを実行するか否かを判定する。リトライを実行すると判定されたとき(S17:Y)、眼科装置1000の動作はS15に移行する。リトライを実行しないと判定されたとき(S17:N)、眼科装置1000の動作はS18に移行する。
リトライを実行しないと判定されたとき(S17:N)、制御部110は、第2屈折力算出部121Bにおいて、前述の通り、少なくとも球面度数を求める。S18の詳細については後述する。眼科装置1000の動作はS5に移行する。
S12においてピーク値が検出されないと判定されたとき(S12:N)、制御部110は、OCT計測条件を変更する。たとえば、制御部110は、S19における第4変更制御として、第2変更量だけ検出感度を上げるよう分光器83を制御する。第2変更量は、あらかじめ決められた量であってもよいし、S11において探索されたピーク値の最大値に基づいて決定されてもよい。検出感度を上げることにより、被検眼Eの眼底Efからの戻り光に基づく干渉光を検出しやすくなる。
制御部110は、S12と同様に、網膜用参照ミラーユニット94の参照ミラー94Bを光軸に沿って移動させつつ、被検眼Eの眼底Efからの測定光LSの戻り光により生成された干渉光LCの検出信号の所定の波高値以上のピーク値を探索する。
ピーク値の探索によりピーク値が検出されたと判定されたとき(S21:Y)、眼科装置1000の動作はS13に移行する。ピーク値の探索によりピーク値が検出されないと判定されたとき(S21:N)、眼科装置1000の動作はS22に移行する。
ピーク値が検出されないと判定されたとき(S21:N)、制御部110は、S22において過去にリトライが実行された回数が所定回数以下であるか否かを判定することにより、リトライを実行するか否かを判定する。リトライを実行すると判定されたとき(S22:Y)、眼科装置1000の動作はS19に移行する。リトライを実行しないと判定されたとき(S22:N)、眼科装置1000の動作はS23に移行する。
リトライを実行しないと判定されたとき(S22:N)、制御部110は、測定エラー処理を実行する。測定エラー処理は、測定エラーである旨を表示部170に表示する処理を含む。測定エラー処理は、当該測定により信頼性の高い値の取得が不可能であった旨を表示部170に表示する処理を含んでもよい。以上で、眼科装置1000の動作は終了する(エンド)。
眼科装置1000の動作がS18に移行すると、制御部110は、S11において探索された干渉光LCの検出信号のピーク値のうち所定の波高値以上のピーク値を取得する。なお、所定の波高値以上のピーク値を取得できない場合には、探索されたピーク値の最大値を取得するようにしてもよい。
制御部110は、第2屈折力算出部121Bにおいて、球面度数として等価球面度数を求める。第2屈折力算出部121Bは、S31においてピーク値が最大となる合焦ミラー85の位置を特定し、0Dの基準位置からの合焦ミラー85の移動量に基づいて等価球面度数を求める。以上で、制御部110は球面度数の算出処理の処理を終了する(エンド)。
実施形態に係る眼科装置1000の効果について説明する。
前述の実施形態では、第2屈折力算出部121Bが眼軸長測定系8を用いて球面度数(等価球面度数)だけを求める場合について説明したが、実施形態に係る眼科装置の構成はこれに限定されるものではない。実施形態の変形例に係る第2屈折力算出部は、眼軸長測定系を用いて球面度数、乱視度数、および乱視軸角度を求める。
本変形例では、眼科装置の動作がS18に移行すると、制御部110は、S11において探索された干渉光LCの検出信号のピーク値のうち所定の波高値以上のピーク値を取得する。なお、所定の波高値以上のピーク値を取得できない場合には、ピーク値の最大値を取得するようにしてもよい。
制御部110は、XYスキャナ87により測定光LSを偏向することにより、当該測定光LSで被検眼Eの瞳上を円形スキャンする(たとえば、直径3mmの円周上)。たとえば、図15に示すように、スキャン位置P1〜P8でスキャンされる。
第2屈折力算出部121Bは、スキャン位置P1〜P8の各スキャン位置で合焦レンズ85をピーク値が最大となる位置に移動し、その位置から球面度数を求める。S43では、たとえばS31〜S32と同様に、各スキャン位置において球面度数(等価球面度数)が求められる。
第2屈折力算出部121Bは、S43において求められた各スキャン位置での球面度数の分布から球面度数、乱視度数、および乱視軸角度(レフ値)を求める。
以上に示された実施形態またはその変形例は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。
2 XYアライメントスポット投影系
3 ケラト測定用リング投影系
4 固視および自覚測定系
5 観察系
6 レフ測定投影系
7 レフ測定受光系
8 眼軸長測定系
9 処理部
10、170 表示部
80 OCTユニット
110 制御部
111 主制御部
112 記憶部
120 演算処理部
121 眼屈折力算出部
121A 第1屈折力算出部
121B 第2屈折力算出部
122 眼軸長算出部
123 IOL度数算出部
1000 眼科装置
Claims (4)
- レフ測定光源から出力された光を測定パターン光束として被検眼の眼底に投影するレフ測定投影系と、
前記レフ測定投影系により前記眼底に投影された前記測定パターン光束の戻り光を受光するレフ測定受光系と、
前記レフ測定受光系により受光された前記戻り光に基づく像を解析して前記被検眼の屈折力を求める処理部と
を含み、
前記レフ測定光源は、前記被検眼の前記眼底と光学的に略共役な位置に配置され、
前記レフ測定投影系は、円錐プリズムと、リレーレンズと、パターン部分が形成された絞りとを含み、
前記円錐プリズムは、前記レフ測定光源から出力された前記光を、前記リレーレンズを介して前記絞りの前記パターン部分に集光させ、
前記絞りの前記パターン部分を通過した前記光が前記測定パターン光束となる
ことを特徴とする眼科装置。 - 前記レフ測定光源は、前記レフ測定投影系の光軸に沿って移動可能であり、
前記レフ測定光源が前記眼底と光学的に略共役な位置に配置されるように前記レフ測定光源が移動される
ことを特徴とする請求項1に記載の眼科装置。 - 前記戻り光に基づく像から前記処理部により算出された測定値に基づき前記レフ測定光源が移動される
ことを特徴とする請求項2に記載の眼科装置。 - 前記レフ測定光源は、中心波長が820nm〜880nmの範囲に含まれる低コヒーレンス光源である
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の眼科装置。
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