JP6447354B2 - 現像装置 - Google Patents

Description

本発明は、露光後の基板に対して現像液を供給して現像する現像装置に関する。

半導体装置の製造におけるフォトリソグラフィ工程では、レジスト膜が形成され、所定のパターンに沿って露光された基板に対して現像液が供給され、レジストパターンが形成される。例えば特許文献１に記載されるように、基板を回転させながらノズルから現像液を供給し、現像液が供給される位置を基板の半径上で移動させることにより現像処理が行われている。この手法では現像液の供給位置の移動と遠心力の作用とにより、基板に現像液の液膜が形成され、当該液膜を構成する現像液が流動する。

基板に供給された現像液は遠心力により広がりながらレジスト膜表面を流れるが、そのように流れる間に現像液はレジストと反応してその濃度が変化してしまうため、現像液の液流れ方向で、レジスト膜と現像液の反応具合が異なるおそれがある。その結果として、面内の１つの露光領域（ショット）内におけるパターンの線幅であるＣＤ（Critical Dimension）が変化し、ＣＤの均一性（ＣＤＵ：Critical Dimension Uniformity）が悪化してしまう懸念がある。

また、特許文献２には、基板の中央部上に配置したノズルの下端を、当該ノズルから供給した処理液に接液させ、基板を回転させて当該基板に液膜を形成する技術について記載されているが、上記の問題を解決できるものではない。

特許第４８９３７９９号公報 特開２０１２−７４５８９号公報

本発明は、このような事情においてなされたものであり、その目的は、露光後の基板に現像処理を行うにあたり、基板の面内におけるレジストパターンの線幅の均一性を改善すると共に、装置の大型化を抑えることができる技術を提供することにある。

このため本発明の現像装置は、回転機構により回転自在に構成された基板保持部とこの基板保持部を囲む液受け用のカップとを含むカップモジュールを備え、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液を供給して現像を行う現像装置において、
互いに離間して横方向に並ぶ第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールと、
前記第１のカップモジュールと第２のカップモジュールとの間の待機位置にて待機する第１の現像液ノズルと、
前記第１の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させるための第１の移動機構と、
前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの並ぶ方向を左右方向とすると、前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの各前方側に隣接する待機位置に設けられた、第１のカップモジュール専用の一方の第３の現像液ノズル及び第２のカップモジュール専用の他方の第３の現像液ノズルと、前記一方の第３の現像液ノズル及び他方の第３の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で夫々移動させるための一方の第３の移動機構及び他方の第３の移動機構と、を備え、
前記第１の現像液ノズルは、現像液を吐出して基板の表面に液溜まりを形成するための吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部と、を備え、前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に現像液の供給位置と共に移動することにより当該液溜まりを基板に広げるように構成されていることと、
前記第３の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なることと、を特徴とする。

また本発明の他の現像装置は、回転機構により回転自在に構成された基板保持部とこの基板保持部を囲む液受け用のカップとを含むカップモジュールを備え、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液を供給して現像を行う現像装置において、
互いに離間して横方向に並ぶ第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールと、
第１の待機位置に待機し、現像液を基板に供給する第１の現像液ノズルと、
前記第１の待機位置に対して上下方向に重なった第２の待機位置に待機する第２の現像液ノズルと、
前記第１の現像液ノズルを前記第１の待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させる第１の移動機構と、
前記第２の現像液ノズルを第２の待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させる第２の移動機構と、
前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの並ぶ方向を左右方向とすると、前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの各前方側に隣接する待機位置に設けられた、第１のカップモジュール専用の一方の第３の現像液ノズル及び第２のカップモジュール専用の他方の第３の現像液ノズルと、前記一方の第３の現像液ノズル及び他方の第３の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で夫々移動させるための一方の第３の移動機構及び他方の第３の移動機構と、を備え、
前記第１の現像液ノズルは、現像液を吐出して基板の表面に液溜まりを形成するための吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部と、を備え、前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に現像液の供給位置と共に移動することにより当該液溜まりを基板に広げるように構成されていることと、
前記第３の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なり、かつ前記第２の現像液ノズルで用いられる現像液とは異なる現像液が用いられるものであることと、を特徴とする。

本発明は、基板に対して現像液により現像を行うにあたり、吐出口から現像液を吐出して基板の表面に液溜まりを形成し、基板の表面よりも小さい接触部の移動と基板の回転とにより、当該液溜まりを基板に広げるように構成した現像ノズルを用いている。このため現像液は流動し、撹拌された状態で広がるので、現像液の濃度の均一性が良好になり、結果として基板の面内におけるパターンの線幅の均一性が改善される。
そして一の発明によれば、互いに離間して横方向に並ぶ第１、第２のカップモジュールの間の待機位置にて上述の現像液ノズルを待機させるようにしているため、装置の大型化が抑えられる。
また他の発明によれば、第１の現像液ノズルの第１の待機位置と、第２の現像液ノズルの第２の待機位置とが上下方向に重なるように設けられているため、平面的に見て第１の待機位置と第２の待機位置とを別々に設ける場合に比べて設置スペースが少なくて済み、装置の大型化が抑えられる。

本発明の第1の実施の形態に係る現像装置の斜視図である。 現像装置の平面図である。 現像装置に設けられる第１のカップモジュールの縦断側面図である。 現像装置に設けられる第１の現像液ノズルの縦断側面図である。 現像装置に設けられる待機部の一例を示す斜視図である。 待機部の縦断側面図である。 待機部の縦断側面図である。 第２の現像液ノズルの一例を示す側面図である。 現像装置の作用を説明するための側面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 現像装置の作用を説明するための側面図である。 待機部の作用を示す縦断側面図である。 現像装置の作用を説明するための側面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 本発明の第１の実施の形態の第１の変形例を示す平面図である。 本発明の第１の実施の形態の第２の変形例を示す平面図である。 本発明の第１の実施の形態の第３の変形例を示す平面図である。 本発明の第１の実施の形態の第４の変形例を示す平面図である。 本発明の第２の実施の形態を示す平面図である。 カップモジュールと第１の現像液ノズルとノズルユニット（第２の現像液ノズル）とを示す斜視図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 ウエハに現像液を塗布する様子を示す平面図である。 第１の現像液ノズルの他の例を示す縦断側面図である。 第２の現像液ノズルの他の例を示す概略斜視図である。 第２の現像液ノズルのさらに他の例を示す平面図と概略斜視図である。 待機部の他の例を示す縦断側面図である。 待機部のさらに他の例を示す縦断側面図である。 待機部のさらに他の例を示す縦断側面図である。 待機部のさらに他の例を示す縦断側面図である。 第１の現像液ノズルの現像液の供給系の例を示す側面図である。 第１の現像液ノズルからの洗浄液の垂れ落ちを抑えるための動作を示す第１の説明図である。 前記洗浄液の垂れ落ちを抑えるための動作を示す第２の説明図である。 前記洗浄液の垂れ落ちを抑えるための動作を示す第３の説明図である。 前記洗浄液の垂れ落ちを抑えるための動作を示す第４の説明図である。 第１の現像液ノズルに付着した液滴を除去する液体除去部の構成例を示す斜視である。 前記液体除去部の作用を示す第１の説明図である。 前記液体除去部の作用を示す第２の説明図である。 前記液体除去部の作用を示す第３の説明図である。 前記液体除去部の他の例を示す縦断側面図である。 前記液体除去部の手前に洗浄液供給部を設けた例を示す縦断側面図である。 本発明の現像装置が組み込まれる塗布、現像装置の処理部を示す平面図である。

（第１の実施形態）
図１及び図２は、本発明における第１の実施形態に係る現像装置１を示したものであり、例えば現像装置１は、基板である半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）Ｗに対するレジスト液の塗布処理と、現像処理とを行う複数のモジュールを備えた塗布、現像装置に組み込まれる。この現像装置１は、複数個例えば２個のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂと、第１の現像液ノズル３と、第２の現像液ノズル６１と、を備えている。前記２個のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂは、互いに離間して横方向（図１及び図２中Ｙ方向）に並ぶように設けられており、この例では、図１及び図２中左側を第１のカップモジュール１１Ａ、右側を第２のカップモジュール１１Ｂとして説明する。

これら第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂは同様に構成されているため、図１〜図３を参照し、第１のカップモジュール１１Ａを例にして説明する。カップモジュール１１Ａは、基板保持部であるスピンチャック１２を備えている。このスピンチャック１２は、ウエハＷの裏面中央部を吸着して、ウエハＷを水平に保持するものであり、回転軸１３１を介して回転機構１３により鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。またカップモジュール１１Ａには、スピンチャック１２に保持されたウエハＷを取り囲むように、液受け用のカップ２が設けられている。このカップ２は略円筒状であり、上部側が内側に傾斜している。カップ２は昇降機構２１により、スピンチャック１２との間でウエハＷの受け渡しを行うときの受け渡し位置（図３中実線で示す位置）と、現像処理を行うときの処理位置（図３中点線で示す位置）との間で昇降自在に構成されている。

スピンチャック１２に保持されたウエハＷの下方側には円形板２２が設けられており、この円形板２２の外側には縦断面形状が山型のガイド部材２３がリング状に設けられている。前記ガイド部材２３は、ウエハＷよりこぼれ落ちた現像液や洗浄液を、円形板２２の外側に設けられる液受け部２４にガイドするように構成されている。液受け部２４は環状の凹部として構成され、排液管２５を介して図示しない廃液部に接続されている。図中１４は、スピンチャック１２と図示しない基板搬送機構との間でウエハＷの受け渡しを行うために、昇降機構１５により昇降自在に構成された受け渡しピンである。

上述の構成を備える現像装置１において、本発明者らは、ウエハＷを回転させた状態で、ウエハＷに形成された現像液の液溜まりに接触する接触部３２（後段で詳細に説明する）をウエハＷの表面に沿って移動させることにより、ウエハＷ表面に液溜まりを広げる手法を採用している。この手法によれば、ウエハＷの回転と接触部３２の移動とにより現像液は流動し、撹拌された状態で広げられる。このためウエハＷ表面上の現像液の濃度の均一性が高められ、結果としてＣＤ均一性を改善することができる。接触部３２の役割を有効に発揮するためには、接触部３２の面積をある程度広くすることが好ましいが、一方において現像装置１の大型化を抑えることも要求される。また１台のモジュールに、既述の接触部３２を備えた現像液ノズル（第１の現像液ノズル３）と、他のタイプの現像液ノズル、例えば従来から用いられているタイプの現像液ノズル（第２の現像液ノズル６１）とを併存させる要請もあり、この要請を踏まえた上で現像装置１の小型化が求められている。
本例の現像装置１は、これらの要請を満足する構成となっている。以下、その具体的な構成について説明する。

第１の現像液ノズル３は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂに対して共通化された現像液ノズルであり、これら第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ同士の間の待機位置にて待機するように構成されている。この第１の現像液ノズル３について、図４の第１の現像液ノズル３の縦断側面図を参照して説明する。第１の現像液ノズル３は、現像液を吐出してウエハＷの表面に液溜まりを形成するための吐出口３１と、ウエハＷの表面よりも小さく形成されると共に前記ウエハＷの表面と対向するように設けられた接触部３２と、を備えている。第１の現像液ノズル３は例えば円柱形状に構成され、その中央部に垂直な貫通孔３３を備えると共に、この貫通孔３３の下端が吐出口３１として構成されている。貫通孔３３には現像液供給管３６が当該貫通孔３３が大気に開放しないように配設され、こうして現像液供給管３６は、第１の現像液ノズル３の下面よりなる接触部３２の中央部に開口した吐出口３１に接続されている。この吐出口３１は例えば第１の現像液ノズル３の中心軸上、つまり前記接触部の中心部に開口している。この例では前記現像液供給管３６は直管３４１と樹脂チューブ３４２とを備えると共に、例えば貫通孔３３は下部側にて縮径しており、こうして形成された段部により前記直管３４１の先端側が位置決めされるように構成されているが、この構成に限られない。

前記接触部３２はスピンチャック１２に載置されたウエハＷの表面と対向するように設けられている。ウエハＷの直径が例えば３００ｍｍの場合、接触部３２の直径ｄ１は３０ｍｍ〜２００ｍｍこの例では１００ｍｍに設定される。第１の現像液ノズル３の材質としては、後述するように表面張力によって現像液を撹拌できるように例えば樹脂が用いられる。この樹脂としては、例えばＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、石英（ガラス）等が用いられる。

第１の現像液ノズル３の上面は支持部材３５を介してアーム４１の先端に固定され、アーム４１の基端側は第１の移動機構４２に接続されている。この第１の移動機構４２は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの配列方向（Ｙ方向）に水平に伸びるガイドレール４３に沿って移動するように構成されている。また第１の移動機構４２は図示しない昇降機構によりアーム４１を昇降自在に支持するようになっており、第１の現像液ノズル３は、スピンチャック１２に保持されたウエハＷに対して現像液を供給する処理位置の高さ位置と、前記待機位置と前記処理位置との間で移動するときの高さ位置との間で昇降自在に構成される。こうして第１の現像液ノズル３は、第１の移動機構４２により前記処理位置と、前記待機位置との間で移動自在に構成されることになる。

現像液は、現像液供給管３６から吐出口３１へと供給され、これら吐出口３１からウエハＷに吐出される。現像液供給管３６は、例えばアーム４１及び支持部材３５に固定されている。図中３６１は現像液この例ではネガ型レジストの現像液の供給源であり、現像液供給管３６の上流端に接続されている。この現像液供給源３６１は、ポンプやバルブなどを備え、後述の制御部２００からの制御信号に従って、第１の現像液ノズル３へ現像液を供給するように構成されている。また第１の現像液ノズル３はこの例に限らず、例えば貫通孔３３の下方側に接触部３２に沿って広がる扁平な現像液の通流空間を形成し、この通流空間に連通する多数の吐出口を、通流空間の下方に位置する接触部３２の面内全体に亘って形成するようにしてもよい。

第１の現像液ノズル３の待機位置には待機部５が設けられている。この待機部５は、図５〜図７に示すように、収納容器５１の中に基部５２を備えて構成されている。この基部５２は例えば円柱体形状を成しており、その上面は洗浄液のガイド面部５２１として構成され、このガイド面部５２１は第１の現像液ノズル３の接触部３２とほぼ同じか大きく形成されている。基部５２は例えば略直方体形状の支持台５３に設けられており、支持台５３における基部５２の周囲には、基部５２を囲むように凹部５４が設けられている。この凹部５４の一部には、凹部５４内の洗浄液を下方側へ流出させるための切欠部５５が形成されている。

基部５２には、例えばガイド面部５２１の中央部に洗浄液を吐出するための吐出口５２２が形成されると共に、この吐出口５２２に連通する洗浄液の供給路５２３が形成されている。また供給路５２３は洗浄液供給管５２４を介して洗浄液の供給源５２５と乾燥用のガス例えば窒素ガスの供給源５２６に接続されている。洗浄液としては例えば現像液が用いられ、これら供給源５２５、５２６はポンプやバルブなどを備え、後述の制御部２００からの制御信号に従って、基部５２へ洗浄液や窒素ガスを供給するように構成されている。洗浄液としては純水、現像後のリンス液等を用いるようにしてもよい。

収納容器５１について図７を参照して説明する。前記支持台５３は例えばその長さ方向（Ｘ方向）の両端部の下面を支持板５１１により支持されており、支持台５３の下方側には支持台５３の切欠部５５から流出した洗浄液を下方側にガイドするために下方に傾斜すると共に、下流端が垂直なガイド板５１２が設けられている。収納容器５１の底板５６は、その長さ方向の両端よりも内側の位置にて高さ位置が最も低くなるように構成され、最も低い面５６１には排出路５７が接続されている。つまり底板５６も下方側に向けて傾斜しており、前記ガイド板５１２に沿って流れた洗浄液が底板５６によりガイドされて排出路５７に向けて流れるようになっている。

さらに第１の現像液ノズル３の待機位置と当該第１の現像液ノズル３が使用されるカップモジュール１１Ａ、１１Ｂのカップ２内との間には、その移動時に当該第１の現像液ノズル３から垂れる現像液を受けるための受け部５８が設けられている。この受け部５８は、例えば待機部５の幅方向（Ｙ方向）の両側において、現像液ノズル３が移動するときの高さ位置よりも低く、カップ２が処理位置（図１に示す位置）にあるときに、カップ２よりも高い位置に設けられる。また例えば平面的に見たときに、カップ２と重なるように設けられている。

さらにまた現像装置１は、第２の現像液ノズル６１を備えた第１のノズルユニット６Ａ及び第２のノズルユニット６Ｂを備えている。これらノズルユニット６Ａ、６Ｂはほぼ同様に構成され、図１〜図３に示すように、第２の現像液ノズル６１と、ウエハＷ表面に洗浄液を供給するための洗浄ノズル６２と、ウエハＷ表面にガスを吹き付けるためのガスノズル６３とを、共通のアーム６４１、６４２の先端側に夫々取り付けて構成されている。

第２の現像液ノズル６１は、第１の現像液ノズル３とは構造及び現像液の供給手法が異なるものである。この例の第２の現像液ノズル６１は、例えば図８に示すように、その内部に垂直に伸びる直管状の供給路６０１を備え、その供給路６０１の下端側が、口径が例えば２ｍｍ〜３ｍｍの吐出口６０２として形成されている。洗浄ノズル６２、ガスノズル６３も、例えば第２の現像液ノズル６１と同様に、直管状の供給路を備えるように構成されている。これら第２の現像液ノズル６１、洗浄ノズル６２、ガスノズル６３は、図３に示すように、夫々供給路６１１、６２１、６３１を介して現像液の供給源３６１、洗浄液の供給源３６２、ガス例えば窒素ガスの供給源３６３に夫々接続されている。これら供給源３６１〜３６３は夫々ポンプやバルブなどを備え、制御部２００からの制御信号に従って前記現像液（洗浄液、窒素ガス）を第２の現像液ノズル６１、洗浄ノズル６２、ガスノズル６３に夫々供給するように構成されている。

第１のノズルユニット６Ａは第１のカップモジュール１１Ａ専用に用いられ、第１のカップモジュール１１Ａから見て第２のカップモジュール１１Ｂとは反対側に待機位置が設定されている。また第２のノズルユニット６Ｂは第２のカップモジュール１１Ｂ専用に用いられ、第２のカップモジュール１１Ｂから見て第１のカップモジュール１１Ａとは反対側に待機位置が設定されている。これら待機位置には、第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂを待機させるためのノズルバス６７１、６７２が夫々設けられている。

前記アーム６４１、６４２は、夫々一方の第２の移動機構６５１及び他方の第２の移動機構６５２に昇降自在に支持されており、前記第２の移動機構６５１、６５２は、夫々前記Ｙ方向に水平に伸びるガイドレール６６１、６６２に沿って移動自在に構成されている。こうして第２の現像液ノズル６１、洗浄ノズル６２、ガスノズル６３は第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂとして一方及び他方の第２の移動機構６５１、６５２に夫々設けられる。そして第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂは、夫々スピンチャック１２上のウエハＷに対して現像液等を供給する位置である処理位置と前記待機位置との間を移動自在に構成される。第１の移動機構４２と第２の移動機構６５１、６５２とは互いに干渉せずに、第１の現像液ノズル３及びノズルユニット６Ａ、６Ｂを夫々の待機位置と処理位置との間で移動できるようになっている。

ここで第２の現像液ノズル６１による現像液の液盛り手法について、図８を参照して簡単に説明する。先ず第２の現像液ノズル６１をスピンチャック１２上に載置されたウエハＷの中央部に現像液を供給する位置に移動する。そしてウエハＷを回転させ、第２の現像液ノズル６１から現像液を供給した状態で、第２の現像液ノズル６１をウエハＷの中央部上から周縁部上に向けて移動させる。これにより現像液はウエハＷ表面を遠心力により広がりながら、ウエハＷ全面に行き渡り、こうして現像液の液盛りが行われる。

この実施の形態では、図１及び図２において紙面左側から順に、例えば第１のノズルユニット６Ａの待機位置、第１のカップモジュール１１Ａ、第１の現像液ノズル３の待機位置、第２のカップモジュール１１Ｂ及び第２のノズルユニット６Ｂの待機位置が配列されている。また第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂでは、例えば夫々カップモジュール１１Ａ、１１Ｂに遠い側から順に、第２の現像液ノズル６１、洗浄ノズル６２、ガスノズル６３が設けられている。（図９参照）

現像装置１には、コンピュータからなる制御部２００が設けられ、この制御部２００は不図示のプログラム格納部を有している。プログラム格納部には、後述の作用で説明する現像処理及び洗浄処理が行われるように命令が組まれた、例えばソフトウェアからなるプログラムが格納される。このプログラムが制御部２００に読み出されることで、制御部２００は現像装置１の各部に制御信号を出力する。それによって、移動機構４２、６５１、６５２による第１の現像液ノズル３、第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂの移動、現像液供給源３６１、洗浄液供給源３６２及び窒素ガス供給源３６３による現像液、洗浄液及び窒素ガスの供給、スピンチャック１２によるウエハＷの回転、ピン１４の昇降などの各動作が制御され、後述のようにウエハＷに現像処理及び洗浄処理を行うことができる。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。

続いて当該現像装置１を用いて行われる現像処理及び洗浄処理の手順について、図９〜図１６を参照しながら説明する。なお図９、図１３及び図１５は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂにおいて、スピンチャック１２と第１の現像液ノズル３と第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂとを模式的に描いたものである。また図１０〜図１２、図１６では、待機位置にある第１の現像液ノズル３を点線で示している。

先ずネガ型レジストを塗布し、所定のパターンに沿って露光したウエハＷを図示しない基板搬送機構により、図２に示す矢印の方向つまり第１のカップモジュール１１Ａから見てガイドレール４３等が設けられた領域と反対の方向から搬入し、第１のカップモジュール１１Ａのスピンチャック１２に受け渡す。次いで第１の現像液ノズル３が待機位置からウエハＷの中央部上へ移動し、その接触部３２がウエハＷに近接して対向するように下降する。このときウエハＷの表面と第１の現像液ノズル３の下面との距離ｄ２（図４参照）は例えば０．５ｍｍ〜２ｍｍである。このように接触部３２がウエハＷに近接した状態で、吐出口３１からウエハＷに現像液を吐出することで、第１の現像液ノズル３の下方に当該接触部３２に接触した状態の液溜まり３０を形成する（図１０参照）。

しかる後、図９及び図１０に示すように、ウエハＷを例えば平面視時計回りに回転させる。ウエハＷの回転数が例えば１０ｒｐｍに達すると、当該１０ｒｐｍでウエハＷの回転を続けると共に、図１１に示すように、第１の現像液ノズル３がウエハＷの中央部上から待機部５側の周縁部上へ向けて、ウエハＷの半径上をその表面に沿って、例えば１０ｍｍ／秒で図９〜図１１中右方向に移動する。これによって液溜まり３０は前記現像液ノズル３の接触部３２に接した状態で、ウエハＷの周縁部へ向けて広げられる。なお接触部３２が液溜まり３０に接触した状態で、回転しているウエハＷの例えば待機部５側の周縁部上から中央部上に向けて現像液の供給位置と共に移動させることにより、液溜まり３０をウエハＷ表面に広げるようにしてもよい。

第１の現像液ノズル３の下方では、形成された液溜まり３０と第１の現像液ノズル３の接触部３２との間において表面張力が働き、これら液溜まり３０と前記接触部３２とは引き合っている。ウエハＷを回転させながら第１の現像液ノズル３が移動すると、第１の現像液ノズル３の下方では現像液が撹拌され、現像液の濃度の均一性が高くなる。またウエハＷの面内において、前記第１の現像液ノズル３の接触部３２の下方領域については、そのように現像液の濃度の均一性が高くなるので、均一性高くレジストと現像液との反応が進行する。即ちレジストパターンのＣＤの均一性が高くなる。

第１の現像液ノズル３は広がる液溜まり３０を追い越さないように移動させる。その理由については、追い越しが起きると、ウエハＷ表面で現像液の液千切れが起き、液溜まりが複数個所形成されるからである。そうなると、各液溜まりが個別にウエハＷ表面を広がり、各液溜まりの界面同士が合わさるため、その影響を受けて当該箇所のレジストパターンのＣＤが、他の箇所におけるレジストのＣＤと異なってしまう。すなわちレジストパターンの面内のＣＤの均一性（ＣＤＵ）が低下するおそれがあるため、前記追い越しが起きないように、第１の現像液ノズル３の移動速度を設定する。

前記第１の現像液ノズル３の接触部３２の直径ｄ１、ウエハＷの回転数、第１の現像液ノズル３の水平移動速度は、上に述べた条件に基づき第１の現像液ノズル３の接触部３２がウエハＷ表面全体を通過できるように設定する。現像液ノズル３の水平移動速度は、例えば１０ｍｍ／秒〜１００ｍｍ／秒である。ウエハＷの回転数は、ウエハＷに現像液を吐出したときの液跳ねを抑えるために１００ｒｐｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは１０ｒｐｍ〜６０ｒｐｍである。

こうして第１の現像液ノズル３がウエハＷの周縁部上に移動し、ウエハＷ全面が現像液に覆われると、第１の現像液ノズル３の移動を停止すると共に、ウエハＷの回転を停止する。そして例えば第１の現像液ノズル３の移動停止と同時に、第１の現像液ノズル３からの現像液の供給を停止し、第１の現像液ノズル３は待機位置へと戻る（図１３参照）。次いでウエハＷを所定時間静止し、静止された液溜まり３０により、ウエハＷの表面全体でレジスト膜と現像液との反応をさらに進行させる。ところでウエハＷ全面（表面全体）とは、レジストパターンの形成領域全体の意味である。従って例えばウエハＷの周縁部に前記形成領域が設けられていないウエハＷに対しては、前記周縁部に現像液の液溜まり３０を形成しなくてもよいし、当該周縁部を液溜まり３０にて被覆してもよい。

続いて例えば第１のカップモジュール１１ＡではウエハＷ表面の洗浄処理を行う。つまりウエハＷの表面全体でレジスト膜と現像液との反応を十分に進行させた後、図１３に示すように洗浄ノズル６２をウエハＷの中央部上に移動して洗浄液を供給すると共に、ウエハＷを所定の回転数で例えば平面視時計回りに回転させる。

こうしてウエハＷの中央部に洗浄液を吐出し、この洗浄液を遠心力によりウエハＷの周縁部に広げることによって、ウエハＷから現像液の液溜まり３０を除去する。洗浄ノズル６２から洗浄液を所定時間吐出した後、吐出を停止する。次いでこの例ではガスノズル６３をウエハＷの中央部上に移動して窒素ガスを供給すると共に、ウエハＷを所定の回転数で回転させる。これによりウエハＷ上の洗浄液は、ウエハＷの回転と窒素ガスの供給によってウエハＷ表面から振り切られ、ウエハＷが乾燥する。しかる後、図示しない基板搬送機構により第１のカップモジュール１１ＡのウエハＷを現像装置１から搬出する。

一方、第１の現像液ノズル３は待機部５にて待機しているが、例えばこの待機の間に第１の現像液ノズル３の洗浄を行う。この洗浄では、第１の移動機構４２により第１の現像液ノズル３を、図１４に示すように、その接触部３２が基部５２のガイド面部５２１との間に隙間を介して対向するように配置する。このとき第１の現像液ノズル３の下面と基部５２のガイド面部５２１との距離ｄ３は、例えば０．５ｍｍ〜２ｍｍである。

次いで第１の現像液ノズル３に現像液を供給して、吐出口３１から現像液を吐出すると共に、基部５２に洗浄液である現像液を供給する。また基部５２の吐出口５２２からも現像液が供給され、ガイド面部５２１と第１の現像液ノズル３の接触部３２との間の隙間に洗浄液（現像液）が満たされる。この洗浄液は前記隙間から基部５２の側面に流出し、支持台５３の凹部５４を介して、切欠部５５から下方側へと流れて行き、排出路５７から排出される。次いで、例えば第１の現像液ノズル３を同じ高さ位置に設定したまま、洗浄液の供給を停止してから、窒素ガスの供給を開始する。これにより、ガイド面部５２１と接触部３２との隙間が乾燥される。こうして第１の現像液ノズル３の接触部３２は洗浄液の接触と流動とにより洗浄される。

この例では第１のカップモジュール１１Ａにて現像処理を行っている間に、第２のカップモジュール１１Ｂのスピンチャック１２へウエハＷの受け渡しを開始する。そして第２のカップモジュール１１Ｂでは、図１５に示すように、第１の現像液ノズル３が待機位置からウエハＷの中央部上へ移動し、その接触部３２をウエハＷ表面に近接させて吐出口３１から現像液を吐出する。次いでウエハＷを例えば図１５及び図１６に示すように平面視反時計回りに回転させながら、第１の現像液ノズル３をウエハＷの待機部側の周縁部上へ向けて、ウエハＷの半径上をその表面に沿って、例えば１０ｍｍ／秒で例えば図２、図１５、図１６中左方向に移動する。例えば第２のカップモジュール１１Ｂにて現像処理を行っている間、第１のカップモジュール１１Ａでは例えばウエハＷの洗浄処理が行われ、乾燥処理が開始される。

このように現像液をウエハＷに供給するときのスピンチャック１２の回転方向は第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間で互いに逆向きに設定されている。スピンチャック１２の回転方向を逆向きにすることにより、移動している第１の現像液ノズル３から見たときのウエハＷの回転方向が揃えられる。第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂでは、例えばウエハＷの中央部上から待機位置側の周縁部上へ向けて第１の現像液ノズル３を移動して、現像液の液盛りを行っている。例えば第１のカップモジュール１１Ａでは現像液の供給時に第１の現像液ノズル３は右方向に移動し、第２のカップモジュール１１Ｂでは現像液の供給時に第１の現像液ノズル３は左方向に移動している。このように第１の現像液ノズル３の移動方向は互いに逆向きであるが、スピンチャック１２の回転方向を逆向きに設定することにより、現像液の供給時の第１の現像液ノズル３の移動方向とウエハＷの回転方向との関係が互いに揃うことになる。

このため第１のカップモジュール１１Ａと第２のカップモジュール１１Ｂとの間において、現像液の液盛りの手法が揃い、２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ間における処理のばらつきの発生が抑えられる。また２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ間の処理条件が揃うことにより、パターンの検査においても評価が容易になる。しかしながら現像液をウエハＷに供給するときのスピンチャック１２の回転方向は第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間で互いに同じ向きに設定してもよい。この場合、例えば２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂにおいて、第１の現像液ノズル３をウエハＷの中央部から同じ方向、例えば第１のカップモジュール１１Ａでは中央部から待機部側の周縁部上（図中右方向）、第２のカップモジュール１１Ｂでは中央部から待機部と反対側の周縁部上（図中右方向）に移動させるようにしてもよい。

そして第２のカップモジュール１１Ｂにおいても、ウエハＷの表面全体に現像液を供給した後、第１の現像液ノズル３を待機位置に戻し、ウエハＷの回転を停止する。次いでウエハＷを静止した状態で、レジストと現像液との反応を十分に進行させた後、第２のノズルユニット６Ｂの洗浄ノズル６２からウエハＷに洗浄液を供給して、ウエハＷ上の現像液を除去する。しかる後、第２のノズルユニット６Ｂのガスノズル６３から窒素ガスを供給して、ウエハＷの乾燥を行った後、第２のカップモジュール１１ＢからウエハＷを搬出する。例えば第２のカップモジュール１１ＢにおいてウエハＷの洗浄を行っている間に、第１のカップモジュール１１Ａのスピンチャック１２に対してウエハＷの受け渡しを開始し、既述の動作で現像処理と洗浄処理とを行う。こうしてあるロットのウエハＷに対して第１の現像液ノズル３を用いて現像液の供給を行なった後、例えばロットを切り替え、第２の現像液ノズル６１を用いて現像液の供給を行う。

この例では、現像液をウエハＷに供給するときのスピンチャック１２の回転方向及び第１の現像液ノズル３の移動方向は第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間で互いに逆向きに設定されているが、これらスピンチャック１２の回転方向及び第１の現像液ノズル３の移動方向の少なくとも一方を揃えてもよい。
また上述の例では、第１のカップモジュール１１Ａにて現像液の供給を行っている間に、第２のカップモジュール１１Ｂに対してウエハＷの入れ替えを開始し、第２のカップモジュール１１ＢにてウエハＷの洗浄を行っている間に、第１のカップモジュール１１Ａに対してウエハＷの入れ替えを開始しているが、必ずしもこの例には限らない。一方のカップモジュール１１Ａ，１１ＢにてウエハＷの現像、洗浄、乾燥の一連の処理を行って、ウエハＷを搬出した後、他方のカップモジュール１１Ｂ、１１ＡにウエハＷを搬入して、前記一連の処理を行うようにしてもよい。また前記待機部５における第１の現像液ノズル３の洗浄は、所定枚数のウエハＷに現像液を供給した後に行うようにしてもよいし、ロットを切り替えるタイミングで行うようにしてもよい。

上述の実施の形態によれば、第１の現像液ノズル３によりウエハＷ表面に液溜まり３０を形成し、この液溜まり３０を広げるように現像液を液盛りしている。このため第１の現像液ノズル３の下方では、ウエハＷの回転と現像液ノズル３の移動により、現像液が流動し、撹拌されるので、現像液の濃度のばらつきの発生が抑えられる。また現像液を遠心力により広げる場合のように、現像液の液流れによるウエハＷの面内での現像液の濃度のばらつきがない。このためウエハＷ面内において、均一性が良好な状態でレジストと現像液との反応が起こり、ウエハＷ面内におけるＣＤの均一性（ＣＤＵ）を改善することができる。さらに現像液を遠心力により広げる場合に比べて、ウエハＷの外側への現像液の零れ落ちが抑制されるので、現像液の消費量を抑えることができる。また遠心力により現像液を広げる場合に比べて、ウエハＷの回転数を低くすることができるため、現像液がウエハＷの回転によって遠方に飛散する液跳ねが抑えられる。

さらに上述の実施の形態では、互いに離間して並ぶ第１のカップモジュール１１Ａと第２のカップモジュール１１Ｂとの間に第１の現像液ノズル３の待機位置を設けている。これら２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂは、隣接するカップモジュールからの液跳ねや互いの処理雰囲気への影響を抑えるために、ある程度離れて配置されている。この例では第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂのカップ２が最も接近する部位同士の間の距離ｄ４（図２参照）は、例えば２００ｍｍである。このように２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ同士の間に元々確保されていたスペースを第１の現像液ノズル３の待機位置に利用することにより、スペースを有効利用でき、現像装置１の大型化を抑えることができる。背景技術にて記載したように、ＣＤの均一性を改善するためには第１の現像液ノズル３の接触部３２を広くすることが有効である。当該実施の形態では直径ｄ１が１００ｍｍ程度の接触部３２を用いているが、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ同士の間に第１の現像液ノズル３の待機位置を設けることにより、接触部３２が大型化しても、従来の現像装置１の大きさを変更せずに設置することができる。

また当該実施の形態では、第１のカップモジュール１１Ａ及び第２のカップモジュール１１Ｂに共通化された第１の現像液ノズル３を設けているので、カップモジュール１１Ａ、１１Ｂ毎に専用の第１の現像液ノズルを用意する場合に比べて、第１の現像液ノズル３をより大型化することができる。このように大型化すると、ウエハＷの中央部上と周縁部上との間の実質的な移動距離が短くなるため、現像液の液盛り時間が短縮される。このため共通化された第１の現像液ノズル３で２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの液盛りを行う場合であっても、スループットの低下が抑えられる。

さらにこの実施の形態では、第１の現像液ノズル３とは構造及び現像液の供給手法が異なる第２の現像液ノズル６１を設けている。このため、１台の現像装置１にて異なる供給手法で現像液の供給を行うことができるので、複数の種別の現像処理を実施でき、現像処理の自由度が高くなる。さらに第１の現像液ノズル３は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ同士の間に元々確保されていたスペースを待機位置としているので、第１の現像液ノズル３と第２の現像液ノズル６１を設ける場合であっても、現像装置１の大型化を抑えることができる。

さらに上述の実施の形態では、第２の移動機構６５１、６５２に、洗浄ノズル６２とガスノズル６３とを設けているので、現像処理終了後には現像液の液溜まり３０を素早く除去し、ウエハＷ表面を乾燥することができて、カップモジュール１１Ａ、１１ＢからのウエハＷの搬出を速やかに行うことができる。
さらにまた上述の実施の形態では、第１の現像液ノズル３の待機位置に待機部５を設けているので、適切なタイミングで現像液ノズル３の接触部３２の洗浄ができ、清浄度を維持した状態で現像液の供給を行うことができる。さらにまた上述の実施の形態では、第１の現像液ノズル３の待機位置と当該第１の現像液ノズル３が使用されるカップモジュール１１Ａ、１１Ｂのカップ２内との間に、受け部５８が設けられているので、第１の現像液ノズル３の移動時に当該現像液ノズル３から垂れる現像液がウエハＷやカップ２に付着することを抑えることができる。

続いて第１の実施の形態の第１の変形例について図１７を参照しながら説明する。この例が上述の実施の形態と異なる点は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ毎に専用の第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂを用意し、これら２本の第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂの待機位置を２つのカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間に設定したことである。第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂは接触部３２の大きさが上述の第１の現像液ノズル３の接触部３２よりも小さく、例えばその直径が５０ｍｍに設定されている以外は、上述の第１の現像液ノズル３と同様に構成されている。

これら第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂは、夫々アーム４１Ａ、４１Ｂにより支持されて第１の移動機構４２Ａ、４２Ｂにより昇降自在に構成されると共に、ガイドレール４３Ａ、４３Ｂに沿って、横方向（Ｙ方向）に移動自在に構成されている。図１７中５Ａ、５Ｂは待機部、５８Ａ、５８Ｂは受け部であり、これらは上述の待機部５、受け部５８と同様に構成されている。第１の移動機構４２Ａ、４２Ｂと第２の移動機構６５１、６５２とは互いに干渉せずに、第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂ及び第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂを夫々の待機位置と処理位置との間で移動できるようになっている。その他の構成は上述の実施の形態と同様であり、図１７においては同じ構成部材については同符号を付して、説明を省略する。

第１のカップモジュール１１Ａでは、第１の現像液ノズル３Ａにより、ウエハＷの中央部に液溜まり３０を形成する。そしてスピンチャック１２を平面視時計回りに回転させ、第１の現像液ノズル３Ａから現像液を吐出しながら、ウエハＷの中央部上から待機部５Ａ側の周縁部上まで移動して、液溜まり３０を接触部３２にて広げることにより、ウエハＷ全面に現像液の液盛りを行う。一方第２のカップモジュール１１Ｂでは、スピンチャック１２を平面視反時計回りに回転させ、第１の現像液ノズル３Ｂから現像液を吐出しながら、ウエハＷの中央部上から待機部５Ｂ側の周縁部まで移動させて、液溜まり３０を接触部３２にて広げることにより、ウエハＷ全面に現像液の液盛りを行う。

この例においても、第１の実施の形態と同様に、ウエハＷ面内におけるＣＤの均一性（ＣＤＵ）を改善することができると共に、現像液の消費量を抑え、現像液の液跳ねを抑えることができる。さらに接触部３２の直径を５０ｍｍ程度に設定することにより、２本の第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂの待機位置を第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ同士の間に設定することができ、装置の大型化を抑えることができる。また第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ毎に専用の第１の現像液ノズル３Ａ、３Ｂを夫々設けているので、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ毎に独立して現像液の供給を行うことができ、スループットの向上を図ることができる。

上述の例では、第１の現像液ノズル３、３Ａ、３Ｂ及び第２の現像液ノズル６１がネガ型レジスト用の現像液を供給する現像液ノズルとして説明したが、第１の現像液ノズル３、３Ａ、３Ｂ及び第２の現像液ノズル６１はポジ型レジスト用の現像液を供給するものであってもよい。また第１の現像液ノズル３、３Ａ、３Ｂと第２の現像液ノズル６１とは互いに異なる現像液を供給してもよく、第１の現像液ノズル３と第２の現像液ノズル６の一方がネガ型レジスト用の現像液を供給し、他方がポジ型レジスト用の現像液を供給するものであってもよい。異なる現像液には、成分が同じであっても組成が異なるものも含まれる。

続いて第１の実施の形態の第２の変形例について、図１８を参照して説明する。この例は、第１のカップモジュール１１Ａ専用の第３の現像液ノズルと、第２のカップモジュール１１Ｂ専用の第３の現像液ノズルをさらに設ける例である。これら第３の現像液ノズルは、第１の現像液ノズル３とは構造及び現像液の供給手法が異なり、かつ前記第２の現像液ノズル６１で用いられる現像液とは異なる現像液が用いられるものである。この例では、第１の現像液ノズル３及び第２の現像液ノズル６１はネガ型レジスト用現像液を供給し、第３の現像液ノズルはポジ型レジスト用現像液を供給する。

図１８に示すように、第１のカップモジュール１１Ａ専用の第３のノズルユニット７Ａと、第２のカップモジュール１１Ｂ専用の第４のノズルユニット７Ｂとを備えており、第３の現像液ノズルはこれら第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂに組み込まれている。第３の現像液ノズルとしては、例えば第２の現像液ノズル６１と同様に直管状の供給路を備え、その供給路の下端側に口径が例えば２ｍｍ〜３ｍｍの吐出口が形成される構成が用いられる。また第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂは、第３の現像液ノズルの他に、洗浄ノズルやガスノズル等例えば５系統の直管状ノズルを共通のアーム７１１、７１２の先端側に取り付けて構成されている。

この例では、第１の現像液ノズル３は第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂに共通化されたものが用いられ、その待機位置は第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間に設定されている。また第２の現像液ノズル６１を備えた第１のノズルユニット６Ａの待機位置は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間であって、第１の現像液ノズル３よりも第１のカップモジュール１１Ａ側に寄った位置に設けられている。また第２の現像液ノズル６１を備えた第２のノズルユニット６Ｂの待機位置は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間であって、第１の現像液ノズル３よりも第２のカップモジュール１１Ｂ側に寄った位置に設けられている。第３の現像液ノズルを備えた第３のノズルユニット７Ａの待機位置は、第１の現像液ノズル３から見て、第１のカップモジュール１１Ａを挟んで反対側の位置、第３の現像液ノズルを備えた第４のノズルユニット７Ｂの待機位置は、第１の現像液ノズル３から見て、第２のカップモジュール１１Ｂを挟んで反対側の位置に夫々設定されている。

前記アーム７１１、７１２は、夫々第３の移動機構７２１、７２２に昇降自在に支持されており、これら第３の移動機構７２１、７２２は、夫々横方向（Ｙ方向）に水平に伸びるガイドレール７３１、７３２に沿って移動自在に構成されている。こうして第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂは、夫々スピンチャック１２上のウエハＷに対して、現像液等を供給する位置である処理位置と待機位置との間を移動自在に設けられる。これら第３の現像液ノズルによる現像液の供給手法は、既述の第２の現像液ノズル６１による現像液の供給手法と同様である。さらに第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂの待機位置にはノズルバス７４１、７４２が夫々設けられている。第１の移動機構４２と第２の移動機構６５１、６５２と第３の移動機構７２１、７２２とは、互いに干渉せずに、第１の現像液ノズル３、第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂ、第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂを夫々の待機位置と処理位置との間で移動できるように構成されている。第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂの待機位置が異なる以外は、上述の第１の実施の形態と同様に構成され、同じ構成部材については同符号を付し、説明を省略する。

この例では、図１８中左側から順に第１のノズルユニット６Ａの待機位置、第１のカップモジュール１１Ａ、第３のノズルユニット７Ａの待機位置、第１の現像液ノズル３の待機位置、第４のノズルユニット７Ｂの待機位置、第２のカップモジュール１１Ｂ、第２のノズルユニット６Ｂの待機位置を配列するようにしてもよい。また、図１８中左側から順に第１のノズルユニット６Ａの待機位置、第１のカップモジュール１１Ａ、第３のノズルユニット７Ａの待機位置、第１の現像液ノズル３の待機位置、第２のノズルユニット６Ｂの待機位置、第２のカップモジュール１１Ｂ、第４のノズルユニット７Ｂの待機位置を配列するようにしてもよい。

この例においても、第１の実施の形態と同様に、ウエハＷ面内におけるＣＤの均一性を改善することができると共に、現像液の消費量を抑え、現像液の液跳ねを抑えることができる。さらに１台の現像装置１に、第１の現像液ノズル３と、第１の現像液ノズル３とは構造と現像液の供給手法が異なる第２の現像液ノズル６１と、第１の現像液ノズル３とは構造と現像液の供給手法が異なり、かつ第２の現像液ノズル６１とは異なる現像液が用いられる第３の現像液ノズルを設けている。従って現像処理の自由度をさらに高めながら、装置の大型化を抑えることができる。

続いて第１の実施の形態の第３の変形例について図１９を参照して説明する。この例では、第３の現像液ノズルを夫々備えた第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂの待機位置が、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの並ぶ方向（Ｙ方向）を左右方向としたときに、第１のカップモジュール１１Ａ及び第２のカップモジュール１１Ｂの各前方側に隣接する位置に夫々設定されている。また第１の現像液ノズル３の待機位置は、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間に設定され、第２の現像液ノズル６１を夫々備えた第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂの待機位置は、第１の現像液ノズル３から見て、第１のカップモジュール１１Ａや第２のカップモジュール１１Ｂを挟んで反対側の位置に夫々設定されている。

次いで、図２０は第１の実施の形態の第４の変形例を示している。この例では、第２の現像液ノズル６１、洗浄ノズル６２、ガスノズル６３を備え、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂ内のいずれのウエハＷに対しても各種流体の供給を行うことが可能な共通ノズルユニット６が設けられている。当該共通ノズルユニット６におけるノズル６１〜６３の待機位置（ノズルバス６７１）は、これらカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間の中央位置に設定されている。
前記共通ノズルユニット６の待機位置から見て第１のカップモジュール１１Ａ側には、当該第１のカップモジュール１１Ａ専用に設けられた第１の現像液ノズル３Ａの待機位置となる待機部５Ａが配置されている。さらに第１の現像液ノズル３Ａの待機位置から見て、第１のカップモジュール１１Ａを挟んだ反対側の位置には、第１のカップモジュール１１Ａ専用の第３のノズルユニット７Ａの待機位置（ノズルバス７４１）が配置されている。

一方で、既述の共通ノズルユニット６の待機位置から見て第２のカップモジュール１１Ｂ側には、当該第２のカップモジュール１１Ｂ専用の第４のノズルユニット７Ｂの待機位置（ノズルバス７４２）が設けられている。そして、この第４の現像液ノズルユニット７Ｂの待機位置から見て、第２のカップモジュール１１Ｂを挟んだ反対側の位置には、第２のカップモジュール１１Ｂ専用に設けられた他の現像液ノズル３Ｃの待機位置となる待機部５Ｃが配置されている。ここで、他の現像液ノズル３Ｃやこれを支持するアーム４１Ｃ、移動機構４２Ｃ、及び待機部５Ｃの構成や機能は、第１のカップモジュール１１Ａ側の第１の現像液ノズル３Ａ、アーム４１Ａ、第１の移動機構４２Ａ、及び待機部５Ａと共通である。

このように、第４の変形例に係る現像装置１では、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂに対し、第２の現像液ノズル６１を共通化して、その待機位置をカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間に配置する一方、第１の現像液ノズル３Ａ、他の現像液ノズル３Ｃの待機位置（待機部５Ａ、５Ｃ）は、各カップモジュール１１Ａ、１１Ｂに隣接して配置している。この結果、面積の大きな接触部３２を備えた現像液ノズル３Ａ、３Ｃが、他のノズルユニット６、７Ａ、７Ｂを跨いで移動する動作の発生を避けつつ、各カップモジュール１１Ａ、１１Ｂ内のいずれのウエハＷに対しても、３種類のノズル３Ａ、３Ｃ、ノズルユニット６、７Ａ、７Ｂを用いた現像液の供給を行うことができる。

ここで、中央部に配置された共通ノズルユニット６は、例えばその両脇の第１の現像液ノズル３Ｂ、第３のノズルユニット７Ｂの上方側を通って各カップモジュール１１Ａ、１１Ｂ内のウエハＷに流体を供給する位置へと移動する。このとき、共通ノズルユニット６に設けられている第２の現像液ノズル６１などは、図８を用いて説明したように、その先端部に小径の吐出口６０２を備えた直管構造となっている。このため例えば、供給路６０１内の現像液を吸い上げるサックバック機構を上流側に設けることにより、接触部３２を備える現像液ノズル３Ａ、３Ｃに比べて、現像液の垂れ落ちの発生しにくい構造とすることができる。
本例の現像装置１においても、第１の現像液ノズル３Ａ（但し、第１のカップモジュール１１Ａ専用に現像液の供給を行う）の待機位置（待機部５Ａ）が、第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂの間に設けられているという、本発明の要件を備えている。

第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂの第３の移動機構７５１、７５２は、夫々のアーム７１１、７１２の基端側に設けられ、これらアーム７１１、７１２を昇降させると共に、当該アーム７１１、７１２を待機位置と現像液の供給を行う処理位置との間で旋回移動させるように構成されている。第１の移動機構４２と第２の移動機構６５１、６５２と第３の移動機構７５１、７５２とは互いに干渉せずに、第１の現像液ノズル３、第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂ、第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂを夫々の待機位置と処理位置との間で移動できるようになっている。第３及び第４のノズルユニット７Ａ、７Ｂが設けられる以外は、上述の第１の実施の形態と同様に構成され、同じ構成部材については同符号を付し、説明を省略する。なお第１のノズルユニット６Ａの待機位置と第３のノズルユニット７Ａの待機位置とを入れ替えると共に、第２のノズルユニット６Ｂの待機位置と第４のノズルユニット７Ｂの待機位置とを入れ替えるようにしてもよい。このとき第１及び第２のノズルユニット６Ａ、６Ｂが旋回移動される。

この例においても、第１の実施の形態と同様に、ウエハＷ面内におけるＣＤの均一性を改善することができると共に、現像液の消費量を抑え、現像液の液跳ねを抑えることができる。さらに１台の現像装置１に、第１の現像液ノズル３と第２の現像液ノズル６１と第３の現像液ノズルを設けている。従って、現像処理の自由度をさらに高めながら、装置の小型化を図ることができる。
以上において、上述の第１の実施の形態の構成では、第２の現像液ノズルや第３の現像液ノズルを第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂに共通化して用いてもよい。但し、第１の実施の形態では、第２の現像液ノズル６１、第３の現像液ノズル、洗浄ノズル６２及びガスノズル６３、待機部５や受け部５８については必ずしも設ける必要はない。また、第２の現像液ノズルと第３の現像液ノズルを、第１の現像液ノズル３と同様の構造にしてもよい。

（第２の実施の形態）
続いて本発明の第２の実施の形態について説明する。この実施の形態が上述の実施の形態と異なる点は、第１の現像液ノズルの第１の待機位置が、第２の現像液ノズルの第２の待機位置と上下方向に重なっていることである。以下図２１を参照して、第１の実施の形態と異なる点について説明する。この例では互いに離間して横方向に第１のカップモジュール１１Ａ、第２のカップモジュール１１Ｂ及び第３のカップモジュール１１Ｃが設けられている。

第２の現像液ノズルを備えたノズルユニット８Ａ〜８Ｃが第１〜第３のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃ毎に専用に用意され、夫々の待機位置は例えば第１〜第３のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃの左右方向の一方側、この例では各左側に設定されている。各ノズルユニット８Ａ〜８Ｃは例えば既述のノズルユニット６Ａ、６Ｂと同様に構成され、夫々アーム８２１、８２２、８２３の先端に例えば第２の現像液ノズルと洗浄ノズルとガスノズルとを備えている。前記アーム８２１、８２２、８２３は第２の移動機構８３１、８３２、８３３により昇降自在に支持され、ノズルユニット８Ａ〜８Ｃは第２の移動機構８３１、８３２、８３３により、ウエハＷに対して現像液を供給する位置と待機位置との間で移動自在に構成されている。図中８４１、８４２、８４３は横方向（Ｙ方向）に伸びるガイドレール、８０１、８０２、８０３は夫々の第２の待機位置に設けられた第２の現像液ノズルの待機用のノズルバスである。

この例では、第１〜第３のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃに対して共通化された第１の現像液ノズル８５が設けられており、第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置は、例えば第１のカップモジュール１１Ａ専用のノズルユニット８Ａの第２の待機位置の上方側に設定されている。図２２を参照して説明すると、この図では第１のカップモジュール１１Ａと、ノズルユニット８Ａと、第１の現像液ノズル８５とを描いている。前記第１の待機位置は、ノズルユニット８Ａの水平方向の移動領域の上方側の高さ位置に設けられており、この第１の待機位置には例えば待機部８６が設けられている。図２２中８６１は収納容器であり、この内部に上述の基部５２が設けられている。

第１の現像液ノズル８５は、アーム８７を介して第１の移動機構８７１に昇降自在に支持されている。また第１の移動機構８７１は横方向（Ｙ方向）に伸びるガイドレール８７２に沿って移動自在に構成され、こうして第１の現像液ノズル８５は、第１の待機位置と、第１〜第３のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃの夫々の処理位置との間で移動するようになっている。図中８８は受け部材である。第１の移動機構８７１と第２の移動機構８３１〜８３３とは、互いに干渉せずに、第１の現像液ノズル８５及びノズルユニット８Ａ〜８Ｃを夫々の待機位置と処理位置との間で移動できるように構成されている。その他の構成については第１の実施の形態と同様であり、同じ構成部材については同符号を付し、説明を省略する。

この実施の形態においても、第１の実施の形態と同様に、ウエハＷ面内におけるＣＤの均一性を改善することができると共に、現像液の消費量を抑え、現像液の液跳ねを抑えることができる。さらに第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置と、第２の現像液ノズルの第２の待機位置とが上下方向に重なるように設けられているため、平面的に見て第１の待機位置と第２の待機位置とを別々に設ける場合に比べて設置スペースが少なくて済み、装置の大型化を抑えることができる。

第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置は、第２の現像液ノズルを含むノズルユニット８Ａの第２の待機位置の下方向に重なるように設定してもよい。また前記第１の待機位置は、第１のカップモジュール１１Ａ以外のカップモジュール１１Ｂ、１１Ｃ専用のノズルユニット８Ｂ、８Ｃの第２の待機位置に対して上下方向のいずれかに重なるように設けるようにしてもよい。さらに第１〜第３のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃ毎に専用の第１の現像液ノズル８５を夫々用意し、夫々の第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置は、夫々第２の現像液ノズルを含むノズルユニット８Ａ〜８Ｃの第２の待機位置と上下方向に重なるように設けるようにしてもよい。

さらに３つのカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃに対して共通の第１の現像液ノズル８５と共通の第２の現像液ノズルを設け、第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置と第２の現像液ノズルの第２の待機位置を上下方向に重ねて設定してもよい。この場合、第１の待機位置及び第２の待機位置は、３つのカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃのいずれかの間に設定してもよいし、第１のカップモジュール１１Ａの図２１中左側または第３のカップモジュール１１Ｃの図２１中右側に設定してもよい。さらにまた、第２の現像液ノズルを３つのカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃに対して共通化されたノズルとし、夫々のカップモジュール１１Ａ〜１１Ｃ毎に専用の第１の現像液ノズル８５を用意してもよい。このとき第２の現像液ノズルの第２の待機位置は、第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置の少なくとも一つと上下方向に重なるように設けられる。

さらにこの例では、カップモジュール１１の個数は３個に限らず、２個であってもよいし、４個以上であってもよい。また第１の現像液ノズル８５の現像液と第２の現像液ノズルの現像液とは、いずれもネガ型レジスト用又はポジ型レジスト用の現像液であってもよいし、一方がネガ型レジスト用の現像液、他方がポジ型レジスト用の現像液であってもよい。さらに第１の現像液ノズル８５の現像液と第２の現像液ノズルの現像液とは、成分や組成が同じ現像液であってもよいし、成分や組成が異なる現像液であってもよい。さらに第３の現像液ノズルを設けるようにしてもよく、この第３の現像液ノズルは複数のカップモジュール１１毎に専用のものであってもよいし、共通化されるものでもよい。この第３の現像液ノズルの待機位置は、第１の現像液ノズル８５の第１の待機位置と、第２の現像液ノズルの第２の待機位置と上下方向に重なるようにしてもよいし、図１８に示す位置であってもよいし、図１９に示す位置であってもよい。但し、第２の実施の形態では、洗浄ノズル及びガスノズル、待機部８６や受け部８８については必ずしも設ける必要はない。

特許請求の範囲では、前記第１のカップモジュールと第２のカップモジュールとにより技術を特定しているが、本発明は３個以上のカップモジュールが設けられている場合にも適用できる。即ち、３個以上のカップモジュールのうちの第１のカップモジュールと第２のカップモジュールと他の構成要素との関係が特許請求の範囲で規定される関係にあれば、本発明の技術的範囲に含まれる。

続いて第１の現像液ノズルを用いて行なわれる現像液の供給手法の他の例について、図２３〜図２５を参照して説明する。この供給手法は、第１の現像液ノズル３をウエハＷの中央部上と周縁部上との間で往復運動させて、現像液の液盛りを行うものである。この例においても、ウエハＷの中央部上に第１の現像液ノズル３を近接させて液溜まり３０を形成すると共に、ウエハＷを回転させた状態で第１の現像液ノズル３から現像液を吐出しながら、ウエハＷの周縁部上に向けて移動させて液溜まり３０を広げる（図２３）。第１の現像液ノズル３が周縁部上に到達すると現像液の吐出を停止し、次いでウエハＷを回転させながら、第１の現像液ノズル３をウエハＷの中央部上に向けて移動させる（図２４）。こうして第１の現像液ノズル３がウエハＷの中央部上に位置すると（図２５）、ウエハＷの回転を停止する。この手法では、ウエハＷの全面の各部は第１の現像液ノズル３の下方側を２回通過するため、より現像液が撹拌され、現像液とレジストとの反応がより促進される。このため現像液を液盛りしてから洗浄液を供給して現像液を洗い流すまでの現像液とレジストとの反応時間が短縮され、スループットの向上を図ることができる。

また図２３に示すように、第１の現像液ノズル３をウエハＷの中央部上から周縁部上に移動させて現像液の液盛りを行った後、一旦ウエハＷを回転させて、ウエハＷ表面の現像液を振り切って除去する。次いで図２４に示すように、第１の現像液ノズル３をウエハＷの周縁部上から中央部上に移動させながら現像液の液盛りを行うようにしてもよい。このように現像初期の溶解生成物を含んだ現像液をウエハＷの外部に排出してから、新鮮な現像液で液盛りをして現像することによって、ＣＤの面内均一性をさらに改善することができる。

次いで第１の現像液ノズル３００の他の例について説明する。この例の現像液ノズル３００は、図２６に示すように、鉛直軸まわりに回転自在に構成されたものである。第１の現像液ノズル３００の上面の中央部には垂直な円筒体３０１が設けられ、この円筒体３０１の周囲には軸受３０２を介して基部３０３が設けられている。こうして円筒体３０１は、図示しない回転機構により基部３０３に対して軸受３０２を介して回転自在に構成される。円筒体３０１の内部は、第１の現像液ノズル３００の貫通孔３３と連通しており、現像液供給管３６は、当該円筒体３０１の内部に、貫通孔３３が大気に開放しないように配設される。
その他の構成は、図４に示す第１の現像液ノズル３と同様であり、同じ構成部材については同符号を付し、説明を省略する。そして現像液の液盛りを行うときには、吐出口３１から現像液を吐出して接触部３２を液溜まり３０に接触させ、円筒体３０１を介して接触部３２を回転させると共に、ウエハＷを回転させた状態で、第１の現像液ノズル３００をウエハＷの中央部上から周縁部上に向けて移動する。接触部３２の回転により現像液に旋回流が形成されるので、より現像液が撹拌されて現像液の濃度の均一性が改善され、パターンの線幅の均一性が良好となる。

続いて第２の現像液ノズルの他の例について簡単に説明する。図２７に示す第２の現像液ノズル９１は、例えばウエハＷの直径よりも長い長尺なノズル本体９１１の下面に、図示しない吐出口をノズル本体９１１の長さ方向に沿って形成して構成されている。前記吐出孔はスリットであってもよいし、複数の吐出口を前記長さ方向に沿って互いに間隔を開けて形成したものであってもよい。この第２の現像液ノズル９１では、吐出口から現像液を吐出しながら、ウエハＷの一端側から他端側へ向けて第２の現像液ノズル９１を移動させることにより、ウエハＷ表面全体に現像液が供給される。

図２８に示す第２の現像液ノズル９２は、ウエハＷの直径よりも短いノズル本体９２１の下面に例えばスリット状の吐出口９２２を備えて構成されている。この第２の現像液ノズル９２では、ウエハＷを回転させると共に、吐出口９２２から現像液を吐出した状態で、当該ノズル９２をウエハＷの周縁部上から中央部上へ向けて移動することにより、ウエハＷ表面全体に現像液が供給される。第３の現像液ノズルについても、図２７又は図２８に示す構成の現像液ノズルを用いることができる。

次いで待機部の他の例について、図２９〜図３３を参照して簡単に説明する。図２９に示す待機部５１０が上述の待機部５と異なる点は、基部５１１の上面に、平面形状が第１の現像液ノズル３の接触部３２よりも大きい凹部５１２を形成し、凹部５１２の内面が洗浄液のガイド面部として構成されていることである。その他の構成及び洗浄方法は上述の待機部５と同様であり、同じ構成部材については同符号を付している。この例では、第１の現像液ノズル３の接触部３２及び接触部近傍の側面３２１に洗浄液が供給されるため、接触部３２のみならず側面３２１も洗浄される。
図３０に示す待機部５１３が上述の待機部５と異なる点は、基部５２側からは洗浄液を供給せず、第１の現像液ノズル３の吐出口３１から現像液を供給して、基部５２のガイド面部５２１と接触部３２との間に現像液（洗浄液）を満たし、洗浄液との接触と洗浄液の液流れを利用して接触部３２を洗浄することである。

図３１に示す待機部５３１は例えば円柱体よりなる基部５３２を備え、当該基部５３２の上面に平面形状が第１の現像液ノズル３の接触部３２よりも大きい凹部５３３を形成し、この凹部５３３の内面がガイド面部として構成されている。前記基部５３２には凹部５３３に洗浄液を供給する供給路５３４と、凹部５３３からの洗浄液を排出する排出路５３５が形成されている。また前記供給路５３４の上流側は、洗浄液の供給源５３６及び乾燥用のガス例えば窒素ガスの供給源５３７に接続されている。これら供給源５３６、５３７は、ポンプやバルブなどを備え、制御部２００からの制御信号に従って、基部５３２へ洗浄液や窒素ガスを供給するように構成されている。

この例では、図３１に示すように、第１の現像液ノズル３を、凹部５３３の底面と接触部３２とが僅かな隙間を介して対向するように位置させて凹部５３３に供給路５３４を介して洗浄液を供給する。洗浄液は凹部５３３と第１の現像液ノズル３の接触部３２との間の隙間を満たしながら流れて排出路５３５から排出される。凹部５３３内には洗浄液の液流れが形成されるため、この洗浄液との接触及び液流れにより第１の現像液ノズル３における洗浄液と接する領域が洗浄される。次いで、例えば第１の現像液ノズル３を同じ高さ位置に設定したまま、洗浄液の供給を停止してから、窒素ガスの供給を開始する。これにより、凹部５３３と接触部３２との隙間が乾燥される。この例においては、供給路５３４からの洗浄液の供給と同時に第１の現像液ノズル３の吐出口３１から洗浄液を供給するようにしてもよい。

また図３２に示すように、基部５４０を回転機構５４１により鉛直軸周りに回転させるようにしてもよい。この例では、第１の現像液ノズル３を、その接触部３２が基部５４０の表面（ガイド面部５４２）と僅かな隙間を介して対向するように位置させて、第１の現像液ノズル３の吐出口３１から洗浄液を供給する一方、基部５４０を回転させながら洗浄処理を行う。基部５４０が回転しているため、基部５４０のガイド面部５４２と接触部３２との間の洗浄液が流動し、より確実に洗浄される。図３２中５４３は洗浄液を受ける容器であり、５４４は洗浄液の排出路である。なお、図６、図２９〜図３１に示す基部を回転させるようにしてもよい。また待機部側にガイド面部に洗浄液を供給する機構が設けられている場合には、接触部３２の洗浄の際に、第１の現像液ノズル３から洗浄液を吐出しなくてもよい。

続いて図３３に示す例について説明する。この例は、第１の現像液ノズル３の現像液供給管３６に現像液を貯留する貯留部を設けたものである。図３３中において、第１の現像液ノズル３及び待機部５は模式的に示している。前記現像液供給管３６は貯留部３７１を介して現像液の供給源３６１に接続されており、貯留部３７１には吸引路３７２を介して吸引機構例えば吸引ポンプ３７３が設けられている。また現像液供給路３６は、分岐路３７４を介して乾燥用のガス例えば窒素ガスの供給源３７５に接続されている。例えば第１の現像液ノズル３を洗浄するときには、供給源３６１から貯留部３７１及び現像液供給路３６を介して第１の現像液ノズル３に現像液（洗浄液）を供給して、既述のように第１の現像液３の接触部３２の洗浄を行う。次いで洗浄処理が終了した後、現像液の供給を停止してから、吸引ポンプ３７３により所定量の現像液を吸引する。

これにより貯留部３７１内の現像液が吸引路３７２に向けて流れていき、第１の現像液ノズル３内に残存する洗浄液が吸引除去される。続いて例えば窒素ガスの供給源３７５から第１の現像液ノズル３に所定の窒素ガスを供給して、第１の現像液ノズル３内の現像液の流路を乾燥させる。こうして洗浄処理を行った後、第１の現像液ノズル３の現像液の流路内の現像液が除去されてから、第１の現像液ノズル３の移動を開始する。これにより第１の現像液ノズル３を移動させるときに、当該第１の現像液ノズル３内に残存する現像液の滴下が防止される。

次に、図３４〜３７を参照しながら、接触部３２からの現像液の垂れ落ちを抑える他の手法について説明する。
図１４を用いて説明したように、第１の現像液ノズル３を待機部５にて待機させる際に、接触部３２と基部５２側のガイド面部５２１との間の隙間に現像液からなる洗浄液（液体）を満たして接触部３２の洗浄が行われるものとする。なお、この隙間内の液体は、基部５２側の供給路５２３から洗浄液として供給される現像液でなく、第１の現像液ノズル３内に残存している現像液が流れ出て、前記隙間内を満たした状態となったものでもよい。

このとき、接触部３２とガイド面部５２１との間には、洗浄液の液溜まり３０ａが形成されている（図３４）。この状態から、第１の現像液ノズル３を処理位置に移動させるために、第１の移動機構４２に設けられている既述の昇降機構（不図示）を用いて、第１の現像液ノズル３を急激に上昇させると、液溜まり３０ａを構成する洗浄液の一部がちぎれて、接触部３２に比較的多くの洗浄液が付着したままの状態となってしまう。この状態にて待機部５から処理位置まで第１の現像液ノズル３を移動させると、接触部３２から洗浄液が垂れ落ちて、他の機器やウエハＷを汚染する要因ともなる。

そこで本例の現像装置１においては、ガイド面部５２１との間に洗浄液の液溜まり３０ａを形成する高さ位置（第１の高さ位置：図１４に示した例ではｄ３＝０．５〜２ｍｍ）から、その上方側へ第１の現像液ノズル３を移動させる際に、比較的低速で第１の現像液ノズル３を上昇させる（図３５）。このときの第１の現像液ノズル３の上昇速度は、液溜まり３０ａに重力や表面張力を十分に作用させ、洗浄液に働く剪断力を抑えて、ガイド面部５２１への液滴３０ｂの付着量を低減できる第１の上昇速度に調節されている。第１の設定速度は、例えば０ｍｍ／秒より大きく、１０ｍｍ／秒以下の範囲内の値、より好適には１〜５ｍｍ／秒の範囲内の値に設定されている。

一方で、第１の現像液ノズル３の上昇動作の全工程をこのような低速で実行すると、第１の現像液ノズル３の移動時間が長時間化してしまい、現像装置１の処理効率を低下させる要因ともなりかねない。そこで、ガイド面部５２１上の液溜まり３０ａの大部分が接触部３２から離れた状態となる高さ位置（第２の高さ位置）に第１の現像液ノズル３が到達したら（図３６）、前記第１の上昇速度よりも速い第２の上昇速度にて第１の現像液ノズル３を移動させる。

第２の高さ位置は、前記第１の高さ位置よりも上方側２〜１０ｍｍの範囲内に設定され、本例では第１の高さ位置よりも５ｍｍ上方側の高さに設定されている。また、第２の上昇速度については、ウエハＷの処理スケジュールなどにより決定されるので、第１の上昇速度よりも速いとの要件を満たせば特段の限定はないが、本例では４０〜５０ｍｍ／秒の範囲内の上昇速度に設定される。

このように第１の現像液ノズル３の上昇を低速で開始し、その後、高速に切り替えることにより、接触部３２に付着する液滴３０ｂの量を低減し、接触部３２からの洗浄液の垂れ落ちを抑えることができる（図３７）。
ここで上述した、第１の高さ位置から第２の高さ位置までは、第１の上昇速度で第１の現像液ノズル３を上昇させるステップと、第２の高さ位置に到達したら、第１の上昇速度よりも速い、第２の上昇速度で第１の現像液ノズル３を上昇させるステップとは、制御部２００から昇降機構に出力される制御信号に基づいて実行される。

次いで図３８〜４１は、液体除去部５９を用いて接触部３２に付着した洗浄液を除去する手法を示している。図３８に示すように、第１の現像液ノズル３の待機位置である基部５２に隣接する位置には、接触部３２に付着した洗浄液を除去するための液体除去部５９が設けられている。例えば、液体除去部５９の上端は、三角柱を横倒しにして、その先鋭な稜線部５９１を上面に向けて配置した構造となっている。また前記稜線部５９１は、基部５２と液体除去部５９との並び方向と交差する方向に向けて水平に延在するように配置され、稜線部５９１の長さ寸法は、第１の現像液ノズル３の接触部３２の直径よりも大きく構成されている。

第１の現像液ノズル３を支持するアーム４１は、既述のように不図示の昇降機構によって昇降自在な状態で第１の移動機構４２に支持されていることに加え、アーム４１は、不図示の伸縮機構を備えている。さらに本例においては、アーム４１の昇降機構及び伸縮機構を利用して、待機位置と処理位置との間で第１の現像液ノズル３を移動させる際の移動経路として、前記液体除去部５９の上方側を通過する経路が設定されている。即ち、第１の現像液ノズル３の移動経路上には、液体除去部５９が設けられていると言える。

上述の構成を備えた現像装置１において、第１の現像液ノズル３は、接触部３２とガイド面部５２１との間に、洗浄液など、液体の液溜まり３０ａが形成されている状態で待機している（図３９）。次いで、第１の現像液ノズル３を処理位置まで移動させるにあたり、前記液溜まり３０ａを形成する位置から、予め設定された高さ位置まで第１の現像液ノズル３を上昇させる（図４０）。このとき、第１の現像液ノズル３の上昇速度は、液溜まり３０ａ構成する液体の一部が千切れ、比較的多くの液滴３０ｂが接触部３２に付着する程度の上昇速度に調節されている。

ここで図４１に示すように、前記予め設定された高さ位置は、第１の現像液ノズル３の接触部３２が、液体除去部５９の稜線部５９１よりも、隙間寸法ｔ［ｍｍ］だけ上方側に位置するように設定されている。
前記隙間寸法ｔは、接触部３２に付着している液滴３０ｂの平均的な厚さよりも短い値に設定されている。この結果、図４１に示すように、第１の現像液ノズル３が液体除去部５９の上方側を移動すると、前記液滴３０ｂに液体除去部５９の稜線部５９１が接触し、液体除去部５９がスクレーパーのように作用して液滴３０ｂが掻き落とされる。この動作により、液体除去部５９の上方を通過した接触部３２からは、接触部３２に付着した液滴３０ｂの大部分が除去されるので、処理位置まで移動する際の接触部３２からの液体の垂れ落ちを抑えることができる。

ここで、接触部３２に付着した液滴３０ｂを除去する手法は、図３８〜４１を用いて説明したように、液滴３０ｂに液体除去部５９を接触させて掻き落とす方式に限定されない。例えば図４２に示すように液体除去部５９ａの稜線部５９１に沿って、複数、または線状の吸引口５９２を開口させ、この吸引口５９２につながる吸引路５９３を介して吸引ポンプ５９４により液滴３０ｂを吸引して除去する構成としてもよい。

そして、これら液体除去部５９、５９ａを用い、強制的に液体の除去を行うことが可能な場合には、図４３に示すように、第１の現像液ノズル３の待機位置（基部５２）と液体除去部５９、５９ａとの間に、洗浄液供給部５９３を設け、接触部３２の洗浄を行ってもよい（図４３には液体除去部５９を設けた例を示してある）。
例えば洗浄液供給部５９３は、既述の液体除去部５９ａと同様の外観形状を有し、その稜線部には複数、または線状の吐出口５９４が開口している。そして洗浄液ポンプ５９６から供給された洗浄液が、供給路５９５及び吐出口５９４を介して接触部３２の全面へ向けて吐出される（図４３の洗浄液３０ｃ）。洗浄液としては、現像液や純水などが用いられる。

図４４に、本発明の現像装置１が組み込まれる塗布、現像装置の処理部の一例について示す。図中４０１は基板搬送機構であり、この基板搬送機構４０１は、横方向（Ｙ方向）に伸びる搬送路に沿って移動自在に構成されている。また搬送路の長さ方向を左右方向とすると、搬送路の前後方向の一方には本発明の現像装置１が２つ並んで配列されている。また搬送路の前後方向の他方には、現像装置１における現像処理の前後の処理を行うモジュールが複数個設けられている。図中４０２はウエハＷの受け渡し部、４０３は基板搬送機構である。

以上において、第１の実施の形態及び第２の実施の形態では、第２の移動機構には、第２の現像液ノズルが設けられることに代えて、基板の表面に洗浄液を供給する洗浄ノズルを設けるようにしてもよいし、それに加えてガスノズルを設けるようにしてもよい。

これまで説明した各実施の形態においては、ウエハＷの現像処理を行う現像装置１内に、ウエハＷの表面に液溜まり３０を形成するための接触部３２を備えた第１の現像液ノズル３を配置した場合について説明した。但し、装置の大型化を抑えるという目的に鑑みると、図１、３などに示す第１及び第２のカップモジュール１１Ａ、１１Ｂを備え、現像液とは異なる種類の処理液の供給を行う液処理装置に、第１の現像液ノズル３と同じ構造のノズルを設け、当該ノズルから各種処理液の供給を行ってもよい。処理液の種類としては、例えば洗浄液、リンス液、エッチング液などが挙げられる。これらの液処理装置においても、図２、１７〜２１を用いて説明した各種のレイアウトを採用することにより、液処理装置の大型化を抑えることができる。

Ｗ ウエハ
１ 現像装置
１１Ａ 第１のカップモジュール
１１Ｂ 第２のカップモジュール
１２ スピンチャック
１３ 回転機構
２ カップ
３、３Ａ 第１の現像液ノズル
３０、３０ａ
液溜まり
３０ｂ 液滴
３０ｃ 洗浄液
３１ 吐出口
３２ 接触部
４２ 第１の移動機構
５、５Ａ、５Ｂ
待機部
５２ 基部
５２１ ガイド面部
５８ 受け部
５９、５９ａ
液体除去部
５９３ 洗浄液供給部
６１ 第２の現像液ノズル
６５１、６５２ 第２の移動機構
６２ 洗浄ノズル
６３ ガスノズル

Claims (19)

1. 回転機構により回転自在に構成された基板保持部とこの基板保持部を囲む液受け用のカップとを含むカップモジュールを備え、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液を供給して現像を行う現像装置において、
   互いに離間して横方向に並ぶ第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールと、
   前記第１のカップモジュールと第２のカップモジュールとの間の待機位置にて待機する第１の現像液ノズルと、
   前記第１の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させるための第１の移動機構と、
   前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの並ぶ方向を左右方向とすると、前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの各前方側に隣接する待機位置に設けられた、第１のカップモジュール専用の一方の第３の現像液ノズル及び第２のカップモジュール専用の他方の第３の現像液ノズルと、前記一方の第３の現像液ノズル及び他方の第３の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で夫々移動させるための一方の第３の移動機構及び他方の第３の移動機構と、を備え、
   前記第１の現像液ノズルは、現像液を吐出して基板の表面に液溜まりを形成するための吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部と、を備え、前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に現像液の供給位置と共に移動することにより当該液溜まりを基板に広げるように構成されていることと、
   前記第３の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なることと、を特徴とする現像装置。
2. 前記第１のカップモジュールから見て前記第２のカップモジュールとは反対側に位置する待機位置に設けられ、第１のカップモジュール専用の一方の第２の現像液ノズルと、前記第２のカップモジュールから見て前記第１のカップモジュールとは反対側に位置する待機位置に設けられ、第２のカップモジュール専用の他方の第２の現像液ノズルと、前記一方の第２の現像液ノズル及び他方の第２の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で夫々移動させるための一方の第２の移動機構及び他方の第２の移動機構と、を備え、
   前記第３の現像液ノズルは、前記第２の現像液ノズルで用いられる現像液とは異なる現像液が用いられるものであることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
3. 前記一方の第２の現像液ノズル及び他方の第２の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なることを特徴とする請求項２記載の現像装置。
4. 回転機構により回転自在に構成された基板保持部とこの基板保持部を囲む液受け用のカップとを含むカップモジュールを備え、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液を供給して現像を行う現像装置において、
   互いに離間して横方向に並ぶ第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールと、
   第１の待機位置に待機し、現像液を基板に供給する第１の現像液ノズルと、
   前記第１の待機位置に対して上下方向に重なった第２の待機位置に待機する第２の現像液ノズルと、
   前記第１の現像液ノズルを前記第１の待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させる第１の移動機構と、
   前記第２の現像液ノズルを第２の待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で移動させる第２の移動機構と、
   前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの並ぶ方向を左右方向とすると、前記第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールの各前方側に隣接する待機位置に設けられた、第１のカップモジュール専用の一方の第３の現像液ノズル及び第２のカップモジュール専用の他方の第３の現像液ノズルと、前記一方の第３の現像液ノズル及び他方の第３の現像液ノズルを前記待機位置と基板に対して現像液を供給する処理位置との間で夫々移動させるための一方の第３の移動機構及び他方の第３の移動機構と、を備え、
   前記第１の現像液ノズルは、現像液を吐出して基板の表面に液溜まりを形成するための吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成されると共に前記基板の表面と対向するように設けられた接触部と、を備え、前記接触部が前記液溜まりに接触した状態で、回転している基板の中央部及び周縁部の一方側から他方側に現像液の供給位置と共に移動することにより当該液溜まりを基板に広げるように構成されていることと、
   前記第３の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なり、かつ前記第２の現像液ノズルで用いられる現像液とは異なる現像液が用いられるものであることと、を特徴とする現像装置。
5. 前記第２の現像液ノズルは、前記第１の現像液ノズルとは構造及び現像液の供給手法が異なることを特徴とする請求項４記載の現像装置。
6. 前記第２の現像液ノズルは、一方の第２の待機位置に設けられた、第１のカップモジュール専用の一方の第２の現像液ノズルと、他方の第２の待機位置に設けられた、第２のカップモジュール専用の他方の第２の現像液ノズルと、を含み、
   前記第１の現像液ノズルの第１の待機位置は、前記一方の第２の待機位置及び他方の第２の待機位置の少なくとも一方に対して上下方向に重なっていることを特徴とする請求項４又は５記載の現像装置。
7. 前記第１の待機位置に上下方向に重なっている第２の待機位置は、第１のカップモジュールから見て前記第２のカップモジュールとは反対側に位置していることを特徴とする請求項４ないし６のいずれか一項に記載の現像装置。
8. 前記第１の現像液ノズルは、第１のカップモジュール専用の現像液ノズルと、第２のカップモジュール専用の現像液ノズルと、を含むことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の現像装置。
9. 前記第１の現像液ノズルは、第１のカップモジュール及び第２のカップモジュールに対して共通化された現像液ノズルであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の現像装置。
10. 現像液を基板に供給するときの基板保持部の回転方向は、前記第１のカップモジュールと第２のカップモジュールとの間で互いに逆向きに設定されていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一項に記載の現像装置。
11. 前記第２の移動機構には、各々基板の表面を洗浄するための洗浄ノズルが設けられていることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の現像装置。
12. 前記第２の移動機構には、第２の現像液ノズルが設けられることに代えて、基板の表面に洗浄液を供給する洗浄ノズルが設けられることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の現像装置。
13. 前記第２の移動機構には、基板の表面にガスを吹き付けるためのガスノズルが設けられていることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の現像装置。
14. 前記第１の現像液ノズルの待機位置と当該第１の現像液ノズルが使用されるカップモジュールのカップ内との間には、その移動時に当該第１の現像液ノズルから垂れる現像液を受けるための受け部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか一項に記載の現像装置。
15. 前記第１の現像液ノズルの吐出口は、前記接触部の下面に開口するように形成され、
    当該第１の現像液ノズルの待機位置には、待機部が設けられ、
    前記待機部は、上面が洗浄液のガイド面部として形成された基部を備え、前記接触部の下面と前記ガイド面部との間の隙間に洗浄液を満たすように構成されていることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか一項に記載の現像装置。
16. 前記第１の移動機構に設けられ、第１の現像液ノズルを昇降させる昇降機構と、
    前記昇降機構の昇降動作を制御するための制御信号を出力する制御部と、を備え、
    前記第１の現像液ノズルの待機位置には、当該第１の現像液ノズルの接触部に対向して配置されるガイド面部を備えた待機部が設けられ、
    前記制御部は、前記第１の現像液ノズルを待機位置から処理位置まで移動させるにあたり、前記接触部とガイド面部との間に隙間を形成し、この隙間に液体を満たした状態で前記第１の現像液ノズルを待機させるための第１の高さ位置から、第１の高さ位置よりも上方側２〜１０ｍｍの範囲内に設定された第２の高さ位置を通って、第２の高さ位置よりも上方側へ前記第１の現像液ノズルを上昇させる際に、前記第１の高さ位置から第２の高さ位置までは、０ｍｍ／秒より大きく、１０ｍｍ／秒以下の範囲内の第１の上昇速度で第１の現像液ノズルを上昇させるステップと、前記第２の高さ位置に到達したら、前記第１の上昇速度よりも速い、第２の上昇速度で第１の現像液ノズルを上昇させるステップと、を実行するように前記昇降機構を制御することを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか一項に記載の現像装置。
17. 前記第１の現像液ノズルの待機位置には、当該第１の現像液ノズルの接触部に対向して配置されるガイド面部を備えた待機部が設けられ、
    前記第１の現像液ノズルは、前記接触部とガイド面部との間に隙間を形成し、この隙間に液体を満たした状態で待機位置にて待機し、
    前記待機位置から処理位置までの第１の現像液ノズルの移動経路には、前記第１の現像液ノズルが基板の上方に移動する前に、前記接触部に付着した液体を除去するための液体除去部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか一項に記載の現像装置。
18. 前記液体除去部は、前記処理位置へ向けて移動する第１の現像液ノズルの接触部が通過する高さ位置よりも下方側に配置され、前記接触部に付着した液体を吸引して除去することを特徴とする請求項１７に記載の現像装置。
19. 前記第１の現像液ノズルの待機位置と液体除去部との間には、前記処理位置へ向けて移動する第１の現像液ノズルの接触部に洗浄液を供給して、当該接触部の洗浄を行うための洗浄液供給部が設けられていることを特徴とする請求項１７または１８に記載の現像装置。

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