JP6117211B2 - ルテニウム含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物 - Google Patents

Description

ヒドロシリル化反応を触媒するための触媒は当該技術分野において既知であり、市販されている。このような従来のヒドロシリル化触媒は、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム及びイリジウムから選択される金属であり得る。あるいは、ヒドロシリル化触媒は、このような金属の化合物であり得、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸六水和物、二塩化白金、上記化合物と低分子量オルガノポリシロキサンとの錯体、又はマトリックス若しくはコア／シェル型構造にマイクロカプセル化された白金化合物が挙げられる。白金と低分子量オルガノポリシロキサンの錯体としては、白金を有する１，３−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体が挙げられる。これらの錯体は、樹脂マトリックス中にマイクロカプセル化されてもよい。代表的なヒドロシリル化触媒は、米国特許第３，１５９，６０１号、同第３，２２０，９７２号、同第３，２９６，２９１号、同第３，４１９，５９３号、同第３，５１６，９４６号、同第３，８１４，７３０号、同第３，９８９，６６８号、同第４，７８４，８７９号、同第５，０３６，１１７号及び同第５，１７５，３２５号並びに欧州特許第０ ３４７ ８９５（Ｂ）号に記載されている。マイクロカプセル化されたヒドロシリル化触媒及びこれらの調製方法は、米国特許第４，７６６，１７６号及び同第５，０１７，６５４号に例示されているように、当該技術分野において既知である。

これらのヒドロシリル化触媒は、極度に高コストであるという欠点を有する。これらのヒドロシリル化触媒中の金属のいくつかはまた、入手が困難でもあり得、これらのヒドロシリル化触媒のいくつかは調製が困難であり得る。上記の従来のヒドロシリル化触媒をより安価で及び／又はより容易に入手可能な代替物と置き換える必要が産業界において存在する。

ルテニウム前駆体（Ｒｕ前駆体）及び配位子を含む成分の反応生成物、及びこの反応生成物の調製方法が開示される。ヒドロシリル化反応を介して反応生成物を生じさせることができる組成物は、反応生成物と、分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、を含む。脂肪族不飽和化合物がケイ素結合水素原子を持たない場合、この組成物は、分子あたり平均で１個以上のケイ素結合水素原子を有するＳｉＨ官能性化合物を更に含む。

全ての量、比率、及びパーセンテージは、特に記載のない限り、重量である。冠詞「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」はそれぞれ、明細書の文脈により特に示されない限り、１つ以上を指す。範囲の開示には、範囲それ自体と、その中に包含される任意の数、並びに端点が含まれる。例えば、２．０〜４．０の範囲の開示には、２．０〜４．０の範囲だけでなく、２．１、２．３、３．４、３．５、及び４．０の個々の数、並びにその範囲に包含される任意の他の数も含まれる。更に、例えば２．０〜４．０の範囲の開示には、例えば２．１〜３．５、２．３〜３．４、２．６〜３．７、及び３．８〜４．０の部分集合、並びにその範囲に包含される任意の他の部分集合も含まれる。同様に、マーカッシュ群の開示には、群全体と、その中に包含される任意の個々の要素及び部分集合も含まれる。例えば、マーカッシュ群の水素原子、アルキル基、アリル基、又はアラルキル基の開示は、個々のアルキルメンバー、アルキル及びアリルのサブグループ、並びにその中に包含される任意の他の個々のメンバー及びサブグループを含む。

「アルキル」は、非環式、分枝状又は非分枝状、飽和一価の炭化水素基を意味する。アルキルは、限定するものではないが、メチル、エチル、プロピル（例えば、イソ−プロピル及び／又はｎ−プロピル）、ブチル（例えば、イソブチル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル及び／又はｓｅｃ−ブチル）、ペンチル（例えば、イソペンチル、ネオペンチル及び／又はｔｅｒｔ−ペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル及びデシル、並びに、６個以上の炭素原子の分枝状飽和一価炭化水素基により、例示される。

「アリール」は、環式完全不飽和炭化水素基を意味する。アリールは、限定するものではないが、シクロペンタジエニル、フェニル、アントラセニル及びナフチルにより例示される。単環式アリール基は、５〜９個の炭素原子、あるいは６〜７個の炭素原子、あるいは５〜６個の炭素原子を有し得る。多環式アリール基は、１０〜１７個の炭素原子、あるいは１０〜１４個の炭素原子、あるいは１２〜１４個の炭素原子を有し得る。

「アラルキル」は、側枝及び／又は末端アリール基を有するアルキル基又は側枝アルキル基を有するアリール基を意味する。代表的なアラルキル基としては、トリル、キシリル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、及びフェニルブチルが挙げられる。

「炭素環」及び「炭素環式」は、それぞれに炭化水素環を意味する。炭素環は、単環式であってもよく、又は、あるいは縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式炭素環は、３〜９個の炭素原子、あるいは４〜７個の炭素原子、及びあるいは５〜６個の炭素原子を有し得る。多環式炭素環は、７〜１７個の炭素原子、あるいは７〜１４個の炭素原子、及び、あるいは９〜１０個の炭素原子を有し得る。炭素環は、飽和であっても又は部分不飽和であってもよい。

「シクロアルキル」は、飽和炭素環を意味する。単環式シクロアルキル基は、シクロブチル、シクロペンチル、及びシクロヘキシルによって例示される。

「ハロゲン化炭化水素」は、炭素原子に結合する１つ以上の水素原子が形式的にハロゲン原子で置き換えられた炭化水素を意味する。ハロゲン化炭化水素基は、ハロアルキル基、ハロゲン化炭素環式基、及びハロアルケニル基を含む。ハロアルキル基としては、フッ化アルキル基（トリフルオロメチル（ＣＦ_３）、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル（nonafluorohexyl）、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチルなどの）、並びに塩化アルキル基（塩素メチル及び３−クロロプロピルなどの）が挙げられる。ハロゲン化炭素環式基としては、フッ化シクロアルキル基（２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチルなどの）、並びに塩化シクロアルキル基（２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチルなどの）が挙げられる。ハロアルケニル基としては、塩化アリルが挙げられる。

「へテロ原子」は、炭素を除く、ＩＵＰＡＣ元素周期表（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｉｕｐａｃ．ｏｒｇ／ｆｉｌｅａｄｍｉｎ／ｕｓｅｒ＿ｕｐｌｏａｄ／ｎｅｗｓ／ＩＵＰＡＣ＿Ｐｅｒｉｏｄｉｃ＿Ｔａｂｌｅ−１Ｊｕｎ１２．ｐｄｆ）の１３〜１７族の元素を意味する。「へテロ原子」としては、例えば、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、及びＩが挙げられる。

「ヘテロ原子含有基」は、水素原子及び炭素原子からなり、かつ、少なくとも１つのへテロ原子も含む有機基を意味する。ヘテロ原子含有基は、例えば、アシル、アミド、アミン、カルボキシル、シアノ、エポキシ、炭化水素オキシ、イミノ、ケトン、ケトオキシム、メルカプト、オキソ、及び／又はチオールのうちの１つ以上を含む場合がある。例えば、ヘテロ原子含有基が１つ以上のハロゲン原子を含有するとき、ヘテロ原子含有基は、上記の定義によるハロゲン化炭化水素基であってもよい。あるいは、へテロ原子が酸素である時、ヘテロ原子含有基は、炭化水素オキシ基（アルコキシ基又はアルキルアルコキシ基などの）であってもよい。

「無機へテロ原子含有基」は、少なくとも１つのヘテロ原子と少なくとも１つの水素又は異なるヘテロ原子からなる基を意味する。へテロ原子含有基は、例えば、アミン、ヒドロキシル、イミノ、ニトロ、オキソ、スルホニル及び／又はチオールのうちの１つ以上を含む場合がある。

「ヘテロアルキル」基は、少なくとも１つのへテロ原子をも含む非環式、分枝状又は非分枝状、飽和一価の炭化水素基を意味する。「ヘテロアルキル」は、ハロアルキル基及び、少なくとも１つの炭素原子がＮ、Ｏ、Ｐ、又はＳなどのへテロ原子と置き換えられたアルキル基を含み、例えば、へテロ原子がＯのとき、ヘテロアルキル基は、アルコキシ基となる場合がある。

「複素環」及び「複素環式」は、それぞれ、環状の炭素原子及び１つ以上のへテロ原子から構成される環基を意味する。複素環のへテロ原子は、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、又はこれらの組み合わせであってもよい。複素環は、単環式であってもよく、又は、あるいは縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式複素環は、３〜９個の環員原子、あるいは４〜７個の環員原子、あるいは５〜６個の環員原子を有し得る。多環式複素環は、７〜１７個の環員原子、あるいは７〜１４個の環員原子、あるいは９〜１０個の環員原子を有し得る。複素環は、飽和であっても又は部分不飽和であってもよい。

「複素芳香族」は、環状の炭素原子及び１つ以上のへテロ原子から構成される完全に不飽和な環含有基を意味する。単環式ヘテロ芳香族基は、５〜９個の環員原子、あるいは６〜７個の環員原子、あるいは５〜６個の環員原子を有し得る。多環式ヘテロ芳香族基は、１０〜１７個の環員原子、あるいは１０〜１４個の環員原子、あるいは１２〜１４個の環員原子を有し得る。

複素芳香族は、ピリジルなどのヘテロアリール基を含む。複素芳香族は、ヘテロアラルキル、すなわち、側枝及び／又は末端ヘテロアリール基を有するアルキル基、又はペンダントアルキル基を有するヘテロアリール基を含む。代表的なヘテロアラルキル基は、メチルピリジルそしてジメチルピリジルを含む。

本明細書で使用される略語は、以下のように定義される。略語「ｃＰ」はセンチポアズを意味し、「ｃＳｔ」はセンチストークスを意味する。「ＤＰ」は、重合度を意味する。「ＦＴＩＲ」は、フーリエ変換赤外分光法を意味する。「ＧＣ」は、ガスクロマトグラフィーを意味する。「ＧＰＣ」は、ゲル透過クロマトグラフィーを意味する。「Ｍｎ」は、数平均分子量を意味する。Ｍｎは、ＧＰＣを使用して測定され得る。「Ｍｗ」は、重量平均分子量を意味する。「ＮＭＲ」は、核磁気共鳴を意味する。「Ｐａ・ｓ」はパスカル秒を意味し、「ｐｐｍ」は百万分率を意味する。「ＣＯＤ」は、シクロオクタジエニルを意味する。「Ｅｔ」は、エチルを意味する。「Ｍｅ」は、メチルを意味する。「Ｐｈ」は、フェニルを意味する。「Ｐｒ」は、プロピルを意味し、ｉＰｒ及びｎＰｒなどの様々な構造を含む。「ｉＰｒ」は、イソプロピルを意味する。「ｎＰｒ」は、ノルマルプロピルを意味する。「Ｂｕ」は、ブチルを意味し、ｎＢｕ、ｓｅｃ−ブチル、ｔＢｕ、及びｉＢｕを含む様々な構造を含む。「ｉＢｕ」は、イソブチルを意味する。「ｎＢｕ」は、ノルマルブチルを意味する。「ｔＢｕ」は、ｔｅｒｔ−ブチルを意味する。「ＡｃＡｃ」は、アセチルアセトネートを意味する。「２−ＥＨＡ」は、２−エチルヘキサノエートを意味する。「ＯＡｃ」は、アセテートを意味する。「Ｈｅｘ」は、ヘキセニルを意味する。「ＴＨＦ」は、テトラヒドロフランを意味する。「Ｖｉ」は、ビニルを意味する。

「Ｍ単位」は、式Ｒ_３ＳｉＯ_１／２を有するシロキサン単位を意味し、式中、各Ｒは独立して、一価の原子又は有機基を表す。「Ｄ単位」は、式Ｒ_２ＳｉＯ_２／２を有するシロキサン単位を意味し、式中、各Ｒは独立して、一価の原子又は有機基を表す。「Ｔ単位」は、式ＲＳｉＯ_３／２を有するシロキサン単位を意味し、式中、各Ｒは独立して、一価の原子又は有機基を表す。「Ｑ単位」は、式ＳｉＯ_４／２を有するシロキサン単位を意味する。

「非官能性」は、成分が、ヒドロシリル化反応に関与する脂肪族不飽和置換基又はケイ素結合水素原子のいずれも有さないことを意味する。

「〜を含まない」とは、組成物が感知不可能な量でしか含有しない、又はその成分を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例の項に記載される方法により測定されるＧＣ測定値を変化させるのに不十分な量でしか組成物がその成分を含有しないことを意味する。例えば、本明細書に記載の組成物は、白金触媒を含まないものであり得る。「白金触媒を含まない」とは、組成物が、組成物中の他の成分の不飽和基とのヒドロシリル化反応を触媒できる白金触媒を感知不可能な量でしか含有しない、又は白金触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例の項に記載のように測定されるＧＣ測定値を変化させるのに不十分な量でしか組成物が白金触媒を含有しないことを意味する。この組成物は、従来の金属触媒を含まないものであり得る。「従来の金属触媒を含まない」とは、組成物が、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ及びＩｒから選択される金属、若しくは組成物中の他の成分の不飽和基とヒドロシリル化反応を触媒できるこのような金属の化合物を感知不可能な量でしか含有しない、又は従来の金属触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例の項に記載のように測定されるＧＣ測定値を変化させるのに不十分な量でしか組成物が従来の金属触媒を含有しないことを意味する。あるいは、本明細書に記載の組成物は、ヒドロシリル化反応触媒を含まない（すなわち、本明細書に記載の成分（Ａ）以外に、下記の成分（Ｂ）の脂肪族不飽和基のヒドロシリル化反応を触媒できる任意の成分を含まない）ものであり得る。

ヒドロシリル化反応（組成物）によって反応することができる少なくとも１つの成分を有する組成物は、
（Ａ）Ｒｕ含有ヒドロシリル化反応触媒と、
（Ｂ）分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、を含む。

理論に束縛されるものではないが、Ｒｕ含有ヒドロシリル化反応触媒は、組成物のヒドロシリル化反応を触媒するために有効であると特徴付けることができると考えられる。組成物のヒドロシリル化反応は、反応生成物を調製する。この反応生成物は、シラン、ガム、ゲル、ゴム及び樹脂からなる群から選択される形態を有し得る。

成分（Ｂ）がケイ素結合水素原子を含有しない場合、組成物は更に成分（Ｃ）を含み、成分（Ｃ）は平均で１分子あたり１個以上のケイ素結合水素原子を有するＳｉＨ官能化合物であって、成分（Ａ）及び（Ｂ）と異なる。

この組成物は、任意選択で、上述の成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）とは異なる１つ以上の追加成分を更に含み得る。好適な追加成分は、（Ｄ）スペーサー；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｉ）安定剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）融剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）顔料；（Ｑ）酸受容体；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）ビヒクル；（Ｔ）界面活性剤；（Ｕ）腐食防止剤；並びにこれらの組み合わせによって例示される。

成分（Ａ）は、Ｒｕ含有ヒドロシリル化反応触媒である。Ｒｕ含有ヒドロシリル化反応触媒は、Ｒｕ前駆体と配位子の反応生成物を含むか、又は、Ｒｕ前駆体と配位子の反応生成物で調製される。理論に束縛されるものではないが、この反応生成物はＲｕ−配位子錯体を含むと考えられる。Ｒｕ前駆体は、Ｒｕ−配位子錯体とは異なる。Ｒｕ前駆体は、Ｒｕ前駆体と配位子の反応生成物とは異なる。

Ｒｕ前駆体は、一般式（Ｐ）：Ｒｕ−Ａ_２を有する金属化合物であり得、式中、各Ａは独立して置換可能な置換基である。理論に束縛されるものではないが、Ａの１つ以上の事例は、配位子によってＲｕから置換されてＲｕ−配位子錯体を生じることができると考えられる。理論に束縛されるものではないが、Ａ基の１つ以上の事例は、Ｒｕ前駆体と配位子の間の錯化反応によって置換されてＲｕ−配位子錯体を生じると考えられる。一般式（Ｐ）においてＡの各事例は、同じであっても又は異なってもよい。Ａの例としては、ハロゲン原子及び一価有機基が挙げられる。一価有機基は、一価炭化水素基又は一価ヘテロ原子含有基であってもよい。一価ヘテロ原子含有基は、アミノ基、ハロゲン化炭化水素基、シラザン基、カルボキシレート基、カルボキシルエステル基、カルボニル基、炭化水素オキシ基、スルホネートエステル基、スルホニルイミド基、アセテート基、及びシアノ基により例示される。

一般式（Ｐ）中のＡのハロゲン原子の例としては。Ｂｒ、Ｃｌ又はＩが挙げられる。Ａの一価ハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基［例えば、フッ化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、並びに、塩化アルキル基（例えば、クロロメチル及び３−クロロプロピル）］、ハロゲン化炭素環基［例えば、フッ化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）、並びに、塩化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）］、並びに、ハロアルケニル基［例えば、塩化アリル］が挙げられる。

一般式（Ｐ）中のＡの一価炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル、アルケニル、炭素環、アリール及びアラルキルが挙げられる。アルキル基は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシルにより例示される。アルケニル基は、Ｖｉ、アリル、プロぺニル及びＨｅｘにより例示される。炭素環基は、飽和炭素環基［例えば、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）］又は不飽和炭素環基［例えば、シクロアルケニル（例えば、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル又はシクロオクタジエニル）］により例示される。アリール基は、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル及びナフチルにより例示される。アラルキル基は、ベンジル及び２−フェニルエチルにより例示される。

一般式（Ｐ）中のＡのアミノ基の例は、式−ＮＡ’_２を有し、式中、各Ａ’は、独立して、水素原子又は一価炭化水素基である。Ａ’の代表的な一価炭化水素基としては、限定するものではないが、アルキル［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル］、アルケニル［例えば、ビニル、アリル、プロペニル及びＨｅｘ］、飽和炭素環基［例えば、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）］又は不飽和炭素環基［例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル］又はアリール［例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル］、並びにアラルキル［例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル］によって例示される炭素環基が挙げられる。あるいは、各Ａ’は、水素原子又は１〜４個の炭素原子のアルキル基（例えば、Ｍｅ又はＥｔ）であってもよい。

あるいは、一般式（Ｐ）中の各Ａは、シラザン基であってもよい。

あるいは、一般式（Ｐ）中の各Ａは、カルボキシルエステル基であってもよい。Ａに好適なカルボキシルエステル基の例としては、限定するものではないが、ＯＡｃ、エチルヘキサノエート（例えば、２−ＥＨＡ）、ネオデカノエート、オクタノエート、及びステアレートが挙げられる。

一般式（Ｐ）中のＡの一価炭化水素オキシ基の例は、式−Ｏ−Ａ”を有し得、式中、Ａ”は一価炭化水素基である。Ａ”の一価炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル］、アルケニル［例えば、Ｖｉ、アリル、プロペニル、及びＨｅｘ］、シクロアルキル［例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル］、アリール［例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、及びナフチル］、アラルキル［例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル］が挙げられる。あるいは、各Ａ”は、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎＰｒ、ｉＰｒ、ｎＢｕ、ｉＢｕ、又はｔＢｕといったアルキル基であり得る。あるいは各Ａ”はアルキル基であり得、あるいは各Ａ”はＥｔ、Ｐｒ［例えば、ｉＰｒ若しくはｎＰｒ］、又はＢｕであり得る。

あるいは、一般式（Ｐ）中の各Ａは、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎＰｒ、ｉＰｒ、ｎＢｕ、ｉＢｕ又はｔＢｕといったアルキル基であり得る。あるいは、各Ａは、独立して、Ｅｔ、ベンジル、メシチル、Ｐｈ、ＮＥｔ_２、ＮＭｅ_２、シクロオクタジエン、エトキシド、ｉＰｒ、Ｂｕ、２−ＥＨＡ、エトキシ、プロポキシ、メトキシ及びカルボニルからなる群から選択され得る。

あるいは、Ｒｕ前駆体は、下の表１に示されているもののような市販の化合物であり得る。

表１において、「Ａｌｄｒｉｃｈ」はＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）を指し、「Ｓｔｒｅｍ」はＳｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．（Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）を指す。

配位子は、Ｒｕと配位する有機化合物である。本明細書の一般式において、一価有機基は、一価炭化水素基又は一価ヘテロ原子含有基であり得る。一価炭化水素基の例としては、アルキル［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル］、アルケニル［例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル］、飽和炭素環基［例えば、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）］、又は不飽和炭素環基［例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル］、アリール［例えば、Ｐｈ及びナフチル］、アラルキル［例えば、ベンジル、トリル、キシリル、メシチル又は２−フェニルエチル］によって例示される炭素環基が挙げられるがこれに限定されない。

一般式中の一価へテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又は炭化水素オキシ基が挙げられる。一価ハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられる。炭化水素オキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基は、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ、あるいはＯＭｅによって例示される。アラルキルオキシ基は、フェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環内の炭素原子に結合する置換基を１つ以上有するアリール基又はアラルキル基（その置換基の１つ以上がヘテロ原子を含有する）であってもよく、例えば、上記のアラルキルオキシ、又は

のような基（式中、^＊は付加部位を示す）であってもよい。

配位子は、一般式（ｉ）：

を有し得る。

一般式（ｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^１の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^１は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。

一般式（ｉ）中、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｉ）中、各Ａ^１は、独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機へテロ原子含有基から選択され、但し、Ａ^６がＭｅである場合にはＡ^１がフェニルチオメチルエーテルではないことを条件とする。

あるいは、一般式（ｉ）中、Ａ^２とＡ^３は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^３とＡ^４は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^４とＡ^５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^５とＡ^６は、一緒に結合して環構造を形成し得る。このような環構造は、一般式（ｉ）中のピリジン環に縮合される。

一般式（ｉ）の配位子の例としては、表２の４８３、４８４、４８６、４８７、４８８、５１０、５１２、７７７、７８５、７８８、８０５、８１９、２３６３、６２６９、８８３８、８８４２、８８５６、８９４５、及び８９４６が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｉｉ）中、Ｑ^２は、酸素又はイオウである。Ａ^７、Ａ^８、Ａ^９、Ａ^１０及びＡ^１２はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｉｉ）中、Ａ^１３は、一価有機基、水素、ハロゲン原子及び一価無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｉｉ）中、Ａ^７とＡ^８は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^８とＡ^９は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９とＡ^１０は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１２とＡ^１１は、結合して環構造を形成し得る。一般式（ｉｉ）の配位子の例としては、表２の２９２１、７３７７及び１０３６４が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｉｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｉｉｉ）中、下付き文字ｘはＱ^３の価数に応じて０〜１の整数であり、Ｑ^３は酸素、イオウ及び窒素から選択される。

一般式（ｉｉｉ）中、Ａ^１５、Ａ^１６、Ａ^１７、Ａ^１８、Ａ^２０及びＡ^２１はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機へテロ原子含有基から選択され、但し、Ａ^１５がメチルホスフィンジブチル基を含有しないこと、並びに、Ａ^２１がメチルピリジン基又はメチルフェノールエーテル基を含有しないこと、並びに、Ａ^２０がメチルピリジン基又はメチルフェノールエーテル基を含有しないことを条件とする。

一般式（ｉｉｉ）中、各Ａ^１９は、独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機へテロ原子含有基から選択され、但し、Ａ^１９がジフェニルホスフィンを含有しないことを条件とする。

あるいは、一般式（ｉｉｉ）中、Ａ^２０とＡ^２１は、一緒に結合して環構造を形成することができる。あるいは、Ａ^１９とＡ^１８は、一緒に結合して環構造を形成することができる。あるいは、Ａ^１８とＡ^１７は、一緒に結合して環構造を形成することができる。あるいは、Ａ^１７とＡ^１６は、一緒に結合して環構造を形成することができる。あるいは、Ａ^１６とＡ^１５は、一緒に結合して環構造を形成することができる。一般式（ｉｉｉ）の配位子の例としては、表２の７５５、１８３２、２０７２、２９１５、２９２７、３４７２、３５８６、３７４６、３７４９、４０９８、４１１７、５４７９、６８７０、７１２４、７４７１、及び７４９６が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｉｖ）：

を有し得る。

一般式（ｉｖ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^４の価数に応じて、並びに、Ｑ^４とＡ^２９が破線により示される単結合であるか又は二重結合であるかのいずれかに応じて、０〜１の整数である。下付き文字ｙは、Ｑ^５の価数に応じて、並びに、Ｑ^５とＡ^３１が破線により示される単結合であるか又は二重結合であるかのいずれかに応じて、０〜１の整数である。あるいは、各破線は、単結合を表す。

一般式（ｉｖ）中、Ｑ^４及びＱ^５はそれぞれ独立して、Ｎ、Ｏ、Ｐ及びＳから選択される。

一般式（ｉｖ）中、Ａ^２５、Ａ^２６、Ａ^２７、Ａ^２８、Ａ^２９、Ａ^３０、Ａ^３１及びＡ^３２はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｉｖ）中、Ａ^２９とＡ^２５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^２５とＡ^２６は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^２６とＡ^２７は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^２７とＡ^２８は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^２８とＡ^３２は、一緒に結合して環構造を形成し得る。

あるいは、一般式（ｉｖ）中、Ａ^２９とＡ^３０は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^３１とＡ^３２は、一緒に結合して環構造を形成し得るが、但し、形成される環構造がピロールではないことを条件とする。一般式（ｉｖ）の配位子の例としては、表２の１６５、３５４４、３５４７、４１５１、７６３９及び８７４９が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖ）：

を有し得る。

一般式（ｖ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^７の価数に応じて０〜１の整数である。下付き文字ｙは、０〜５の整数である。Ｑ^７は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。Ｑ^６は、窒素又はリンから選択される。

Ａ^３５、Ａ^３６、Ａ^３７、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０及びＡ^４１は独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子及び一価無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、Ａ^３７とＡ^４１は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^４１とＡ^３８は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^３８とＡ^３９は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^３９とＡ^４０は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^３６とＡ^３７は、結合して環構造を形成し得るが、但し、Ａ^３６とＡ^３７が結合して環構造を形成する場合にはＱ^７が窒素ではないことを条件とする。一般式（ｖ）の配位子の例としては、表２の１１２５、１２１４及び４２０２が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉ）：

を有し得る。

一般式（ｖｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^８の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^８は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。

一般式（ｖｉ）中、Ａ^４５、Ａ^４６、Ａ^４７、Ａ^４９、Ａ^５０、Ａ^５１及びＡ^５２はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子及び無機ヘテロ原子含有基から選択され、但し、Ｑ^８がイオウである場合には、Ａ^４５がベンゼンではないことを条件とする。

一般式（ｖｉ）中、Ａ^４８は、一価有機基、水素及び無機へテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｖｉ）中、Ａ^４５とＡ^５２は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^５２とＡ^５１は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^５１とＡ^５０は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^５０とＡ^４９は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^４５とＡ^４６は、結合して環構造を形成し得る。一般式（ｖｉ）の配位子の例としては、表２の６３５、１２４９、１８８８、２０６１、２０６２、２０７５、２２７２、３０９６、３１９１、４２０２、４９９０、５１７７、６２５３、６３２２、６３４０、６３７２、７１２４、及び７５３４が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｖｉｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^１０の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^１０は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。破線は、単結合又は二重結合を表す。

一般式（ｖｉｉ）中、Ａ^５６及びＡ^５７はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｖｉｉ）中、Ａ^５８及びＡ^５５はそれぞれ独立して、一価有機基、水素及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｖｉｉ）中、Ａ^５６とＡ^５７は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^５５とＡ^５６は、結合して環構造を形成し得る。一般式（ｖｉｉ）の配位子の例としては、表２の配位子７３２、７３４、７３５、１９３６、２９５６、６４１７、９０４２及び１０２６７が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｖｉｉｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^１１の価数に応じて０〜１の整数である。下付き文字ｙは、Ｑ^１２の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^１１及びＱ^１２はそれぞれ独立して、Ｎ、Ｏ及びＳから選択され、但し、Ｑ^１１及び／又はＱ^１２が窒素である場合にはこれらがイミン窒素ではないことを条件とする。破線は、単結合又は二重結合のいずれかを表す。

一般式（ｖｉｉｉ）中、Ａ^６０、Ａ^６１、Ａ^６５及びＡ^６６はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｖｉｉｉ）中、各Ａ^６２、各Ａ^６３及び各Ａ^６４は独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｖｉｉｉ）中、Ａ^６０とＡ^６１は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６１とＡ^６２は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６２とＡ^６３は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６３とＡ^６４は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６４とＡ^６５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６５とＡ^６６は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^６３とＡ^６１は、一緒に結合して環構造を形成し得る。一般式（ｖｉｉｉ）の配位子の例としては、表２の７４８、１２１４、１７６９、３４９９、３５４７、３７４６、３７４９、６３２２、６３７２、７５３４、８８８１、８９７７、９０４２及び９０７２が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｉｘ）：

を有し得る。

一般式（ｉｘ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^１７の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^１７は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。あるいは、Ｑ^１７は、炭素から選択されてもよく、但し、Ｑ^１７が炭素である場合にはＡ^８１とカルボニル結合、及び、Ａ^８０とヒドロキシル基を形成する（例えば、配位子２８１６）ことを条件とする。Ｑ^１８は、酸素及びイオウから選択される。Ｑ^１９は、ヒドロキシル及びチオールから選択される。

一般式（ｉｘ）中、Ａ^８２、Ａ^８３、Ａ^８４及びＡ^８５はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｉｘ）中、Ａ^８０及びＡ^８１はそれぞれ独立して、一価有機基及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｉｘ）中、Ａ^８１とＡ^８２は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^８２とＡ^８３は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^８３とＡ^８４は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^８４とＡ^８５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。一般式（ｉｘ）の配位子の例としては、配位子２８１６及び３５０５が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘ）：

を有し得る。

一般式（ｘ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^１６の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^１６は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択される。Ｑ^１４は、酸素及びイオウから選択される。Ｑ^１５は、ヒドロキシル及びチオールから選択される。

一般式（ｘ）中、各Ａ^７６はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｘ）中、Ａ^７７及びＡ^７８はそれぞれ独立して、一価有機基、水素又は無機基から選択される。

あるいは、一般式（ｘ）中、Ａ^７６とＡ^７７は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^７７とＡ^７８は、一緒に結合して環構造を形成し得る。一般式（ｘ）の配位子の例としては、配位子２３６３、２８０６及び４２２６が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^５０の価数に応じて０〜２の整数である。Ｑ^５０は、Ｎ及びＣから選択される。下付き文字ｙ及びｚはそれぞれ独立して、Ａ^９０及びＡ^８８がそれぞれ結合しているＮの価数に応じて０〜１の整数である。破線は、単結合又は二重結合を表す。これらの２個の窒素原子は、平衡する負に帯電したアニオン、あるいは、四フッ化塩素又はホウ素によって、正に帯電し得る。

一般式（ｘｉ）中、各Ａ^８６はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、又は無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｘｉ）中、Ａ^８７、Ａ^８８、Ａ^９０及びＡ^９１はそれぞれ独立して、一価有機基、水素及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、一般式（ｘｉ）中、Ａ^８８とＡ^９０は一緒に結合して環構造を形成し得るが、但し、Ａ^８８とＡ^９０が一緒に結合して環構造を形成する場合にはＡ^８７及びＡ^９１はｉＰｒではないことを条件とする。あるいは、Ａ^８７とＡ^８８は一緒に結合して環構造を形成するが、但し、Ａ^８７とＡ^８８が一緒に結合して環構造を形成する場合には形成される環構造がジフェニルピロールではないことを条件とする。あるいは、Ａ^８７とＡ^８６は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^８６とＡ^９１は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９１とＡ^９０は一緒に結合して環構造を形成するが、但し、Ａ^９１とＡ^９０が一緒に結合して環構造を形成する場合には形成される環構造がジフェニルピロールではないことを条件とする。一般式（ｘｉ）の配位子の例としては、表２の４２１０、４２２６、６２５３、６３４０、８５００、８５３８、８７４９、８８８１、８９７７、９０４２、１０３７４、１０３７６、１０３７７、１０３８０、１０３８１、１０３９０、１０４４９、１０４５１、１０４５４、１０４５５、１０４５６及び１０４５７が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｉｉ）中、下付き文字ｘは、１〜５の整数である。Ｑ^２０は、窒素及びリンから選択される。破線は、単結合又は二重結合を表す。

一般式（ｘｉｉ）中、Ａ^９０、Ａ^９１、Ａ^９２、Ａ^９３、Ａ^９４及びＡ^９５はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン、又は無機へテロ原子含有基から選択され、但し、Ｑ^２０が水素の場合にはＡ^９０、Ａ^９１、Ａ^９２、Ａ^９３、Ａ^９４及びＡ^９５がハロゲンではないこと、また、Ｑ^２０がリンである場合にはＡ^９４及びＡ^９５がイソプロビルではないこと、また、Ｑ^２０が窒素であり、Ａ^９５が水素である場合にはＡ^９０及びＡ^９１はシクロヘキシルではないことを条件とする。

あるいは、一般式（ｘｉｉ）中、Ａ^９０とＡ^９１は一緒に結合して環構造を形成し得るが、但し、Ａ^９０とＡ^９１が一緒に結合して環構造を形成し、Ｑ^２０がＰである場合にはこの分子が芳香族性を有することを条件とする。あるいは、Ａ^９１とＡ^９２は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９２とＡ^９３は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９３とＡ^９４は一緒に結合して環構造を形成し得るが、但し、Ａ^９３とＡ^９４が一緒に結合して環構造を形成し、Ｑ^２０が窒素である場合には、Ａ^９０及びＡ^９１がＰｈではないことを条件とする。あるいは、Ａ^９４とＡ^９５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。

一般式（ｘｉｉ）中、下付き文字ｘが２以上である場合には、Ａ^９３の２つ以上は一緒に結合して環構造を形成し得る。一般式（ｘｉｉ）の配位子の例としては、表２の配位子１０３７３、１０３８２、１０３８５、１０３８６、１０３８７、１０３９１、１０３９２、１０３９３、１０３９４、１０３９７、１０３９８、１０３９９、１０４００、１０４０１、１０４０４及び１０４４７が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｉｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｉｉｉ）中、下付き文字ｘは、Ｑ^２１の価数に応じて０〜１の整数である。Ｑ^２１は、酸素、イオウ、窒素及びリンから選択され、但し、Ｑ^２１がＯであり、Ａ^１０４及びＡ^１０５がそれぞれＨである場合には、Ａ^９６、Ａ^９７、Ａ^９９及びＡ^１００がＰｈではないことを条件とする。

一般式（ｘｉｉｉ）中、Ａ^９６、Ａ^９７、Ａ^９８、Ａ^９９、Ａ^１００、Ａ^１０１、Ａ^１０２、Ａ^１０３、Ａ^１０４、Ａ^１０５、Ａ^１０６、Ａ^１０７及びＡ^１０８はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。あるいは、Ａ^９６とＡ^９７は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９９とＡ^１００は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^９６とＡ^１０８は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０８とＡ^１０７は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０７とＡ^１０６は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０６とＡ^１０５は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０５とＡ^１０４は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０４とＡ^１０３は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０３とＡ^１０２は、一緒に結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１０２とＡ^１０１は、一緒に結合して環構造を形成し得る。一般式（ｘｉｉｉ）の配位子の例としては、表１の１０４０２、１０４０５、１０４０６及び１０４４６が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｖ）：

を有し得る。

一般式（ｘｉｖ）中、下付き文字ｘ及びｙはそれぞれ独立して、０〜５の整数である。Ａ^１１１、Ａ^１１０及びＡ^１１２はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。一般式（ｘｉｖ）の配位子の例としては、表２の３１７９が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖ）：

を有し得る。

一般式（ｘｖ）中、Ｑ^２２及びＱ^２３はそれぞれ独立して、酸素及びイオウから選択される。Ａ^１１５、Ａ^１１６、Ａ^１１７及びＡ^１１８はそれぞれ独立して、一価有機基、水素及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

あるいは、Ａ^１１６とＡ^１１５は、結合して環構造を形成し得る。あるいは、Ａ^１１８とＡ^１１９は、結合して環構造を形成し得る。一般式（ｘｖ）の配位子の例としては、表２の配位子４５７０及び８７６８が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｖｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｖｉ）中、下付き文字ｘ及びｙはそれぞれ独立して、０〜４の整数である。Ｑ^２４及びＱ^２５はそれぞれ独立して、酸素及びイオウから選択される。

一般式（ｘｖｉ）中、Ａ^１２１及びＡ^１２２はそれぞれ独立して、一価有機基、水素及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。一般式（ｘｖｉ）の配位子の例としては、表２の４５４８及び６５１０が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｖｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｖｉｉ）中、Ｑ^２６は、酸素及びイオウから選択される。Ｑ^２７は、窒素及び炭素から選択される。下付き文字ｘは、０〜４の整数である。Ａ^１２５、Ａ^１２６、Ａ^１２７、Ａ^１２８及びＡ^１３０はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。Ａ^１２９は一価有機基、水素及び無機へテロ原子含有基から選択され、但し、Ａ^１２８及びＡ^１２９が結合して環構造を形成し得ることを条件とする。一般式（ｘｖｉｉ）の配位子の例としては、表２の１０４４１、１０４４４及び１０４４５が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｖｉｉｉ）：

を有し得る。

一般式（ｘｖｉｉｉ）中、Ａ^１３２、Ａ^１３３及びＡ^１３４はそれぞれ独立して、一価有機基、水素、ハロゲン原子、及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｘｖｉｉｉ）中、Ａ^１３１及びＡ^１３５は独立して、一価有機基、水素及び無機ヘテロ原子含有基から選択される。一般式（ｘｖｉｉｉ）の配位子の例としては、表２の１０４５３が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｉｘ）：

を有し得る。

一般式（ｘｉｘ）中、下付き文字ｂ、ｃ、ｄ及びｅはそれぞれ独立して、１又は２の整数である。Ａ^１４１、Ａ^１４２、Ａ^１４３及びＡ^１４４はそれぞれ独立して、一価有機基、ハロゲン原子及び無機一価へテロ原子含有基から選択される。

一般式（ｘｉｘ）中、Ａ^１３６、Ａ^１３７、Ａ^１３９及びＡ^１４０は独立して、一価有機基、水素又は無機基から選択される。一般式（ｘｉｘ）の配位子の例としては、表２の１０１５０が挙げられる。

あるいは、配位子は、表２に示される配位子のうちのいずれかから選択されてもよい。例示的な配位子の中性の形態が表２に示される。

本明細書で有用であり、上の表にある様々な配位子は、（例えば、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｕｓｔｏｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ［Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ［Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ａｍｂｉｎｔｅｒ［Ｐａｒｉｓ，Ｆｒａｎｃｅ］、Ａｎｔｈｅｍ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＬＬＣ［Ｎｅｗｉｎｇｔｏｎ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、ＣｈｅｍＢｒｉｄｇｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ［Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｃｏｍｂｉ−Ｂｌｏｃｋｓ［Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．［Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｉｎｔｅｒｃｈｉｍ，Ｉｎｃ．［Ｓａｎ Ｐｅｄｒｏ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｍａｙｂｒｉｄｇｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．［Ｂｅｌｇｉｕｍ］、Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ Ｂｉｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ．［Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．［Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．［Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、ＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ［Ｐｏｒｔｌａｎｄ，Ｏｒｅｇｏｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］、及びＶＷＲ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，ＬＬＣ［Ｒａｄｎｏｒ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．］といった製造販売業者から）市販されており、並びに／又は、有機化学における従来の合成法を用いて調製することができる。

成分（Ａ）は、上述の、配位子とＲｕ前駆体を組み合わせる方法により、調製され得る。この方法は、任意選択で、Ｒｕ前駆体と配位子とを組み合わせる前に、Ｒｕ前駆体、若しくは配位子のいずれか、又は両方を溶媒中に溶解する工程を更に含んでもよい。好適な溶媒は、以下に成分（Ｓ）を記述したものによって例示される。あるいは、配位子は、容器内の溶媒中に溶解されてもよく、その後、配位子の入った容器にＲｕ前駆体を加える前に溶媒が除去されてもよい。配位子とＲｕ前駆体の量は、Ｒｕ前駆体に対する配位子のモル比（金属：配位子の比）が１０：１〜１：１０、あるいは２：１〜１：２、あるいは１：１〜１：４となるように選択される。Ｒｕ前駆体と配位子とを組み合わせることは、これらを容器内で一緒に混合する、又は容器を振盪するなどの任意の都合の良い手段によって実施されてもよい。

Ｒｕ前駆体と配位子とを反応させることは、任意の都合の良い条件下で、例えば、上述のように調製されたＲｕ前駆体と配位子を−８０℃〜２００℃、あるいは２５℃の室温（ＲＴ）にて一定時間にわたって反応させることによって、加熱することによって、又はこれらの組み合わせによって、行われ得る。加熱は、例えば、２５℃超〜２００℃、あるいは２５℃超〜７５℃にて行われ得る。加熱は、加熱マントル、加熱コイル、又は容器を炉内に置くことによるなどの任意の都合の良い手段によって行われてもよい。錯化反応温度は、選択された具体的なＲｕ前駆体と配位子との反応性、及び金属：配位子の比といった様々な因子によるが、温度は、２５℃〜２００℃、あるいは２５℃〜７５℃の範囲であってもよい。錯化反応時間は、選択された反応温度などの様々な因子によるが、錯化反応時間は典型的には１秒（ｓ）〜４８時間（ｈ）、あるいは１分（ｍｉｎ）〜３０時間（ｈ）、あるいは４５ｍｉｎ〜１５ｈの範囲であり得る。配位子とＲｕ前駆体は、逐次的に、組み合わされ、加熱されてもよい。あるいは、配位子とＲｕ前駆体は、同時に、組み合わされ、加熱されてもよい。

成分（Ａ）の触媒活性反応生成物の調製方法は、上述のように調製された反応生成物を活性化する工程を更に含み得る。反応生成物を活性化する工程は、上述の反応生成物を還元剤と組み合わせることによってＲｕ−配位子錯体内の金属原子の形式酸化状態を還元することにより、行うことができる。反応生成物と組み合わせられ得る還元剤の例としては、アルカリ金属アマルガム、水素、金属水素化物［例えば、リチウムアルミニウム水素化物（ＬｉＡｌＨ_４）］又はナトリウムナフタレニド、シリル水素化物（下記のシラン架橋剤の全て又は一部に加えて、あるいは、その代わりに）、あるいは、水素化ホウ素金属［例えば、水素化トリエチルホウ素ナトリウム（ＮａＥｔ_３ＢＨ）、水素化トリエチルホウ素リチウム（ＬｉＥｔ_３ＢＨ）、又は水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ_４）］が挙げられる。好適な還元剤としては、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９６，９６，８７７〜９１０に記載のものが挙げられる。

あるいは、上述の反応生成物は、上述の反応生成物をイオン活性剤と組み合わせることを含むプロセスにより、活性化することができる。このプロセスで使用するためのイオン活性剤の例としては、カルボラン（例えば、Ｌｉ＋［ＣＢ_１１Ｈ_６Ｂｒ_６］−、Ｌｉ＋［ＣＢ_９Ｈ_５Ｂｒ_５］−、Ｌｉ＋［ＣＢ_１１Ｈ_１０Ｂｒ_２］−及びＬｉ＋［ＣＢ_９Ｈ_８Ｂｒ_２］−、ＮＨ_４＋［ＣＢ_１１Ｈ_６Ｂｒ_６］−、ＮＨ_４＋［ＣＢ_９Ｈ_５Ｂｒ_５］−、ＮＨ_４＋［ＣＢ_１１Ｈ_１０Ｂｒ_２］−、ＮＨ_４＋［ＣＢ_９Ｈ_８Ｂｒ_２］−、Ｎａ＋［ＣＢ_１１Ｈ_６Ｂｒ_６］−、Ｎａ＋［ＣＢ_９Ｈ_５Ｂｒ_５］−、Ｎａ＋［ＣＢ_１１Ｈ_１０Ｂｒ_２］−及びＮａ＋［ＣＢ_９Ｈ_８Ｂｒ_２］−）、又は金属ホウ酸塩［例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸リチウム（ＬｉＢＡｒＦ）、テトラキス（３，５−トリフルオロメチル）フェニルホウ酸リチウム、テトラキス（３，５−トリフルオロメチル）フェニルホウ酸ナトリウム］、又はこれらの混合物が挙げられる。

あるいは、上述の還元生成物は、上述の反応生成物を中性活性剤と組み合わせることを含む方法より、活性化することができる。この方法で使用するための中性活性剤の例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン及びトリス（ペンタフルオロフェニル）アランが挙げられる。

成分（Ａ）の触媒活性反応生成物を調製する方法は、反応後に溶媒を添加する工程を任意選択で更に含み得る。好適な溶媒は、以下に成分（Ｓ）を記述したものによって例示される。あるいは、この方法は、溶媒が存在する（例えば、錯化反応の前又は間にＲｕ前駆体及び配位子の組み合わせを促進するために使用された）場合には、反応副生成物及び／又は溶媒を除去する工程を任意選択で更に含んでもよい。副生成物としては、例えば、Ｈ−Ａ（式中、Ａは、一般式（Ｐ）において上記で定義されている）、又は、配位子がＲｕ前駆体と反応するときにＲｕ前駆体から離れた置換可能な置換基の反応の結果生じた任意の種が包含される。副生成物は、加熱又は真空下によるストリッピング若しくは蒸留、及び／又は濾過、結晶化、あるいはこれらの組み合わせなどの任意の都合の良い手段によって除去されてもよい。結果として得られる、単離されたＲｕ−配位子錯体は、成分（Ａ）の触媒活性反応生成物として使用され得る。

あるいは、触媒活性反応生成物を成分（Ａ）として使用する前には、反応副生成物は、除去されない。例えば、配位子及びＲｕ前駆体を、上記のように、溶媒除去あり又はなしで、及び活性化あり又はなしで、反応させてもよく、得られる反応生成物（Ｒｕ−配位子錯体及び反応副生成物並びに任意選択で溶媒又は希釈剤を含む）を成分（Ａ）として使用してもよい。理論に束縛されるものではないが、副生成物は、ヒドロシリル化反応触媒として、又は共触媒若しくは活性剤として、Ｒｕ−配位子錯体に加えて、作用し得ると考えられる。したがって、反応生成物は、ヒドロシリル化反応を触媒し得る。

組成物は、単一種の単一触媒を含有してもよい。あるいは、組成物は、上に成分（Ａ）として記載された触媒を２種以上含んでもよく、その際２種以上の触媒は、配位子の選択、前駆体の選択、金属：配位子比、及び一般式（Ｐ）におけるＡ基の定義のような、少なくとも１つの特性において異なる。組成物は、白金触媒を含まなくてもよい。あるいは、組成物は、従来の金属触媒を含まなくてもよい。あるいは、この組成物は、成分（Ａ）以外に、成分（Ｂ）上の不飽和基のヒドロシリル化反応を触媒し得るＲｕ化合物を一切含まなくてもよい。あるいは、この組成物は、成分（Ａ）以外に、ヒドロシリル化反応触媒を含まなくてもよい。あるいは、この組成物は、成分（Ａ）以外に、成分（Ｂ）上の不飽和基のヒドロシリル化反応を触媒し得る成分を一切含まなくてもよい。

成分（Ａ）は、触媒的に有効な量で組成物中に存在する。正確な量は、成分（Ａ）の反応性、成分（Ｂ）の種類及び量、並びに存在する場合、任意の追加の成分の種類及び量を含む様々な因子によって異なる。しかしながら、組成物中の成分（Ａ）の量は、組成物中の全ての成分の総重量に基づいて、１百万分率（ｐｐｍ）から５％、あるいは０．１％〜２％、そして、あるいは１ｐｐｍから１％、の範囲であってもよい。

成分（Ｂ）は、分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物である。あるいは、成分（Ｂ）は、分子あたり平均で２個以上の脂肪族不飽和有機基を有し得る。脂肪族不飽和有機基は、ビニル、アリル、プロぺニル、ブテニル、及びヘキセニルによって例示されるがこれらに限定されないアルケニルであり得る。不飽和有機基は、エチニル、プロピニル、及びブチニルによって例示されるがこれらに限定されないアルキニル基であり得る。

組成物の成分（Ｂ）は、不飽和炭化水素であり得、この不飽和基はヒドロシリル化を介して反応することができる。成分（Ｂ）は、モノマー性であり得る。例えば、成分（Ｂ）に好適な脂肪族不飽和有機化合物としては、限定するものではないが、アルケン［例えば、エチレン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン］、ハロゲン化アルケン［例えば、塩化アリル］、ジオレフィン［例えば、ジビニルベンゼン、ブタジエン、１，５−ヘキサジエン及び１−ブテン−３−イン］、シクロオレフィン［例えば、シクロヘキセン及びシクロヘプテン］、並びに、アルキン［例えば、アセチレン、プロピン及び１−ヘキシン］が挙げられる。

酸素含有脂肪族不飽和化合物も成分（Ｂ）に使用することができ、例えば、不飽和はエチレン性であり、例えば、ビニルシクロヘキシルエポキシド、アリルグリシジルエーテル、メチルビニルエーテル、ジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、エチレングリコールのモノアリルエーテル、アリルアルデヒド、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、アリルアクリレート、メチルメタクリレート、アリルメタクリレート、ビニル酢酸、酢酸ビニル及びリノレン酸が挙げられる。

ジヒドロフラン及びジヒドロピランのような環内に脂肪族不飽和を含有する複素環式化合物もまた成分（Ｂ）として好適である。アクリロニトリル、Ｎ−ビニルピロリドン、シアン化アルキル、ニトロエチレンのような窒素置換基を含有する不飽和化合物もまた成分（Ｂ）として好適である。

あるいは、組成物の成分（Ｂ）は、ポリマーを含む。成分（Ｂ）は、分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有するベースポリマーを含み得る。成分（Ｂ）は、少なくとも１個のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和が存在する上記の様々な化合物のポリマー（例えば、コポリマー又はターポリマー）を含み得る。例としては、２〜２０個の炭素原子を有するオレフィン性モノマーと４〜２０この炭素原子を有するジエンとから誘導されるポリマー、モノオレフィン、イソモノオレフィン［例えば、２〜２０個の炭素基を有するモノオレフィン、４〜２０個の炭素基を有するイソモノオレフィン］及びビニル芳香族モノマー［例えば、スチレン、パラ−アルキルスチレン、パラ−メチルスチレン］のポリマーが挙げられる。あるいは、この化合物は、ポリ（ジエン）であり得る。ジエンから誘導されたほとんどのポリマーは通常、不飽和エチレン性単位を主鎖又は側鎖上に含有する。代表例としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリブテニレン、ポリ（アルキル−ブテニレン）［アルキルは、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む］、ポリ（フェニル−ブテニレン）、ポリペンテニレン、天然ゴム（ポリイソプレンの一形態）、及びブチルゴム（イソブチレンとイソプレンのコポリマー）が挙げられる。

あるいは、成分（Ｂ）は、脂肪族不飽和を有するハロゲン化オレフィンポリマーを含み得る。脂肪族不飽和を有するハロゲン化オレフィンポリマーの代表例としては、ベンジルハロゲンを導入するためのハロゲンパラ−メチルスチレンとイソモノオレフィンのコポリマーの臭素化から得られるポリマー、ハロゲン化ポリブタジエン、ハロゲン化ポリイソブチレン、ポリ（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、ポリクロロプレン（８５％トランス）、ポリ（１−クロロ−１−ブテニレン）（Ｎｅｏｐｒｅｎｅ（登録商標））及びクロロスルホン化ポリエチレンが挙げられる。

あるいは、成分（Ｂ）は、ビニルエーテル基、アクリレート基、メチルアクリレート（methyacrylate）基及びエポキシ官能基といった上記の他の化合物を含有するポリマーを含み得る。

あるいは、成分（Ｂ）は、脂肪族不飽和を有するシランを含み得る。あるいは、このシランは、一般式Ｒ^３５ _ｘｘＳｉＲ^３６ _{（４−ｘｘ）}を有してもよく、式中、下付き文字ｘｘは１〜４、あるいは１〜３、あるいは１の整数である。Ｒ^３５は脂肪族不飽和有機基であり、Ｒ^３６は、Ｈ、ハロゲン原子及び一価有機基から選択される。

あるいは、成分（Ｂ）は、脂肪族不飽和を有する直鎖、分枝状、環式又は樹脂性構造を有するケイ素含有ベースポリマーを含み得る。あるいは、ベースポリマーは、直鎖及び／又は分枝状構造を有し得る。あるいは、ベースポリマーは、樹脂性構造を有し得る。ベースポリマーは、ホモポリマー又はコポリマーであり得る。成分（Ｂ）は、単一種のベースポリマーであり得る。あるいは、成分（Ｂ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２種以上のベースポリマーを含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、シロキサン単位、及び配列。ベースポリマーの脂肪族不飽和有機基は、末端に、側枝に、又は末端及び側枝の両方に、位置し得る。

成分（Ｂ）のためのベースポリマー中の残りのケイ素結合有機基は、脂肪族不飽和を含まない一価有機基であり得る。一価炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル］、シクロアルキル［例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル］、アリール［例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、及びナフチル］、及びアラルキル［例えば、ベンジル、１−フェニルエチル及び２−フェニルエチル］が挙げられる。一価ハロゲン化炭化水素基の例としては、限定するものではないが、塩化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）が挙げられる。他の一価有機基の例としては、限定するものではないが、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）、及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）、及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル）が挙げられる。

成分（Ｂ）は、以下のポリジオルガノシロキサン：
式（Ｉ）：Ｒ^１ _２Ｒ^２ＳｉＯ（Ｒ^１ _２ＳｉＯ）_ａ（Ｒ^１Ｒ^２ＳｉＯ）_ｂＳｉＲ^１ _２Ｒ^２、
式（ＩＩ）：Ｒ^１ _３ＳｉＯ（Ｒ^１ _２ＳｉＯ）_ｃ（Ｒ^１Ｒ^２ＳｉＯ）_ｄＳｉＲ^１ _３、
又はこれらの組み合わせを含み得る。

式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、各Ｒ^１は独立して、水素原子、又は、脂肪族不飽和を含まない一価有機基であり、各Ｒ^２は独立して、上述のものにより例示される脂肪族不飽和有機基である。下付き文字ａは０又は正の数であり得る。あるいは、下付き文字ａは、少なくとも２の平均値を有する。あるいは、下付き文字ａは、２〜２０００の範囲の値を有し得る。下付き文字ｂは０又は正の数であり得る。あるいは、下付き文字ｂは０〜２０００の範囲の平均値を有し得る。下付き文字ｃは０又は正の数であり得る。あるいは、下付き文字ｃは０〜２０００の範囲の平均値を有し得る。下付き文字ｄは少なくとも２の平均値を有する。あるいは、下付き文字ｄは２〜２０００の範囲の平均値を有し得る。Ｒ^１に好適な一価有機基は、成分（Ｂ）について上述した通りである。あるいは、各Ｒ^１は、アルキル（例えば、Ｍｅ）及びアリール（例えば、Ｐｈ）により例示される一価炭化水素基である。各Ｒ^２は独立して、成分（Ｂ）について上述した脂肪族不飽和一価有機基である。あるいは、Ｒ^２は、アルケニル基［例えば、ビニル、アリル、及びブテニル］、並びに、アルキニル基［例えば、エチニル及びプロピニル］が挙げられる。

成分（Ｂ）は、以下のもののようなポリジオルガノシロキサンを含み得る：
ｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリジメチルシロキサン、
ｉｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルビニルシロキサン）、
ｉｉｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリメチルビニルシロキサン、
ｉｖ）トリメチルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルビニルシロキサン）、
ｖ）トリメチルシロキシで末端処理したポリメチルビニルシロキサン、
ｖｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルビニルシロキサン）、
ｖｉｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルフェニルシロキサン）、
ｖｉｉｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／ジフェニルシロキサン）、
ｉｘ）フェニル、メチル、ビニル−シロキシで末端処理したポリジメチルシロキサン、
ｘ）ジメチルヘキセニルシロキシで末端処理したポリジメチルシロキサン、
ｘｉ）ジメチルヘキセニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルヘキセニルシロキサン）、
ｘｉｉ）ジメチルヘキセニルシロキシで末端処理したポリメチルヘキセニルシロキサン、
ｘｉｉｉ）トリメチルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルヘキセニルシロキサン）、
ｘｉｖ）トリメチルシロキシで末端処理したポリメチルヘキセニルシロキサン、
ｘｖ）ジメチルヘキセニル−シロキシ末端ポリ（ジメチルシロキサン／メチルヘキセニルシロキサン）、
ｘｖｉ）ジメチルビニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチルヘキセニルシロキサン）、
ｘｖｉｉ）これらの組み合わせ。

対応するオルガノハロシランの加水分解及び縮合、又は環式ポリジオルガノシロキサンの平衡などの、成分（Ｂ）としての使用に好適なポリジオルガノシロキサン流体の調製方法は、当該技術分野において周知である。

上述のポリジオルガノシロキサンに加えて又はその代わりに、成分（Ｂ）は、Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位とＳｉＯ_４／２単位とから本質的になるＭＱ樹脂、Ｒ^３ＳｉＯ_３／２単位とＲ^３ _２ＳｉＯ_２／２単位とから本質的になるＴＤ樹脂、Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位とＲ^３ＳｉＯ_３／２単位とから本質的になるＭＴ樹脂、Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位とＲ^３ＳｉＯ_３／２単位とＲ^３ _２ＳｉＯ_２／２単位とから本質的になるＭＴＤ樹脂、又はこれらの組み合わせのような樹脂を更に含み得る。

各Ｒ^３は、成分（Ｂ）について上述したものにより例示される一価有機基である。あるいは、Ｒ^３で表される一価有機基は１〜２０の炭素原子を有し得る。あるいは、Ｒ^３についての一価有機基の例としては、限定するものではないが、一価炭化水素基及び一価ハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

樹脂は、平均で３〜３０モルパーセント、あるいは０．１〜３０モルパーセント、あるいは０．１〜５モルパーセント、あるいは３〜１００モルパーセントの脂肪族不飽和有機基を含有し得る。脂肪族不飽和有機基はアルケニル基、アルキニル基、又はこれらの組み合わせであってよい。樹脂中の脂肪族不飽和有機基のモル％は、樹脂中のシロキサン単位の総モル数に対する樹脂中の不飽和基含有シロキサン単位のモル数の比率に１００を乗じたものである。

樹脂の調製方法は、当該技術分野において周知される。例えば、樹脂は、少なくとも１種のアルケニル含有末端保護試薬を用いるＤａｕｄｔらのシリカヒドロゾル封鎖プロセスにより製造された樹脂コポリマーを処理することにより調製され得る。Ｄａｕｄｔらの方法は、米国特許第２，６７６，１８２号に開示されている。

Ｄａｕｄｔらの方法は、酸性条件下でシリカヒドロゾルとトリメチルクロロシランなどの加水分解性トリオルガノシラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのシロキサン又はそれらの混合物とを反応させる工程とＭ単位及びＱ単位を有するコポリマーを回収する工程とを伴う。得られるコポリマーは、２〜５重量％のヒドロキシル基を含有する。

典型的に２％未満のケイ素結合ヒドロキシル基を含有する樹脂は、Ｄａｕｄｔらの生成物と不飽和有機基含有末端保護剤及び脂肪族不飽和を有しない末端保護剤とを、最終製品中に３〜３０モル％の不飽和有機基をもたらすのに十分な量で反応させることにより調製できる。末端保護剤の例としては、シラザン、シロキサン及びシランが挙げられるがこれらに限定されない。好適な末端保護剤は、当該技術分野において既知であり、米国特許第４，５８４，３５５号、同第４，５９１，６２２号、及び同第４，５８５，８３６号に例示されている。単一の末端保護剤又はこのような剤の混合物を使用して、樹脂を調製することができる。

あるいは、成分（Ｂ）は、上記のポリオルガノシロキサン以外のケイ素含有ベースポリマーを含み得る。例えば、成分（Ｂ）に好適な他の化合物としては、シラザン及び／又は、アルキレン若しくはポリアルキレン基のようなヒドロカルビル基又はアリーレン基により一緒に結合されたケイ素原子を含有するポリマー物質が挙げられる。成分（Ｂ）として有用なケイ素修飾された有機化合物としては、シラン又はシロキサン部分として結合したケイ素原子を少なくとも１個有する有機ポリマーが挙げられる。ケイ素含有単位は、脂肪族不飽和を含有することができ、有機ポリマー鎖上の末端及び／若しくは側枝位置に、又はコポリマーとして、結合することができる。成分（Ｂ）について他の代表的なケイ素修飾有機ポリマーは、限定するものではないが、ビニルシロキシ−、アリルシロキシ−、及びヘキセニルシロキシ−有機ポリマーといったアルケニルシロキシ官能性ポリマー、並びに、シロキサン−有機ブロックコポリマーにより例示される。シラン修飾有機ポリマーの例は、オレフィン、イソモノオレフィン、ジエン、エチレン又はプロピレンオキシドから誘導されるシリル化ポリマー、イソモノオレフィンとビニル芳香族モノマーとのシラン−グラフト化コポリマーのような２〜２０個の炭素原子を有するビニル芳香族モノマーである。

上記のケイ素修飾有機ポリマーの例としては、ビニルシロキシで末端処理した又はヘキセニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／ヒドロカルビル）コポリマー、ビニルシロキシで末端処理した若しくはヘキセニルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／ポリオキシアルキレン）ブロックコポリマー、アルケニルオキシジメチルシロキシで末端処理したポリイソブチレン及びアルケニルオキシジメチルシロキシで末端処理したポリジメチルシロキサン／ポリイソブチレンブロックコポリマーが挙げられる。成分（Ｂ）に好適な化合物の例は、例えば、国際公開第２００３／０９３３６９号に見出すことができる。

組成物中の成分（Ｂ）の量は、組成物の反応生成物の所望される形態、成分（Ｂ）の脂肪族不飽和基の量及びヒドロシリル化反応性、成分（Ａ）の種類及び量、並びに、成分（Ｂ）及び／又は成分（Ｃ）のケイ素結合水素原子の量といった様々な因子によって異なる。しかしながら、成分（Ｂ）の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０．１重量％〜９９．９重量％の範囲であり得る。

組成物中の成分（Ｃ）は、ＳｉＨ官能性化合物、すなわち、分子あたり平均で１個以上のケイ素結合水素原子を有する。成分（Ｃ）は、シラン及び／又は有機水素ケイ素化合物を含み得る。あるいは、成分（Ｃ）は、分子あたり平均で少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有し得る。組成物中の成分（Ｃ）の量は成分（Ｃ）のＳｉＨ含有量、成分（Ｂ）の不飽和基含有量、及び所望の組成物の反応生成物といった様々な因子によって異なるが、成分（Ｃ）の量は、成分（Ｃ）中のＳｉＨ基の、成分（Ｂ）中の脂肪族不飽和有機基に対するモル比（ＳｉＨ：Ｖｉの比と一般的に称される）を、０．３：１〜５：１、あるいは０．１：１０〜１０：１の範囲で提供するのに十分であり得る。成分（Ｃ）は、モノマー又はポリマー構造を有し得る。成分（Ｃ）がポリマー構造を有する場合、このポリマー構造は、直鎖、分枝状、環式又は樹脂状構造であり得る。成分（Ｃ）がポリマーである場合、成分（Ｃ）はホモポリマー又はコポリマーであり得る。成分（Ｃ）中のケイ素結合水素原子は、末端に、側枝に、又は末端及び側枝位置の両方に、配置され得る。成分（Ｃ）は、１種のＳｉＨ官能性化合物であり得る。あるいは、成分（Ｃ）は、２種以上のＳｉＨ官能性化合物の組み合わせを含み得る。成分（Ｃ）は、以下の特性：構造、平均分子量、粘度、シロキサン単位、及び配列、のうちの少なくとも１つが異なる２種以上の有機水素ポリシロキサンであり得る。

成分（Ｃ）は、式Ｒ^４ _ｅＳｉＨ_ｆのシランを含んでもよく、式中、下付き文字ｅは０、１、２又は３であり、下付き文字ｆは１、２、３又は４であり、但し、和（ｅ＋ｆ）が４であることを条件とする。各Ｒ^４は独立して、ハロゲン原子又は一価有機基である。Ｒ^４に好適なハロゲン原子は、塩素、フッ素、臭素及びヨウ素、あるいは塩素により例示される。Ｒ^４に好適な一価有機基の例としては、一価炭化水素基及び一価ハロゲン化炭化水素基が挙げられるが、これらに限定されない。一価炭化水素基としては、限定するものではないが、アルキル［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル］、シクロアルキル［例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル］、アリール［例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、及びナフチル］、及びアラルキル［例えば、ベンジル、１−フェニルエチル及び２−フェニルエチル］が挙げられる。一価ハロゲン化炭化水素基の例としては、限定するものではないが、塩化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）が挙げられる。他の一価の有機基の例としては、限定するものではないが、酸素原子で置換された炭化水素基［例えば、グリシドキシアルキル、及びアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ及びブトキシ）］、及び窒素原子で置換された炭化水素基［例えば、アミノアルキル］、及びシアノ官能基［例えば、シアノエチル及びシアノプロピル］が挙げられる。成分（Ｃ）に好適なシランの例は、トリクロロシラン（ＨＳｉＣｌ_３）、Ｍｅ_２ＨＳｉＣｌ又はＭｅＨＳｉ（ＯＭｅ）_２により例示される。

あるいは、成分（Ｃ）の有機水素ケイ素化合物は、限定するものではないがＨＲ^５ _２ＳｉＯ_１／２、Ｒ^５ _３ＳｉＯ_１／２、ＨＲ^５ＳｉＯ_２／２、Ｒ^５ _２ＳｉＯ_２／２、Ｒ^５ＳｉＯ_３／２、ＨＳｉＯ_３／２及びＳｉＯ_４／２単位が挙げられるシロキサン単位を含むポリ有機水素シロキサンを含み得る。上記式中、各Ｒ^５は独立して、上記の脂肪族不飽和を含まない一価有機基から選択される。

成分（Ｃ）は、
式（ＩＩＩ）：Ｒ^５ _３ＳｉＯ（Ｒ^５ _２ＳｉＯ）_ｇ（Ｒ^５ＨＳｉＯ）_ｈＳｉＲ^５ _３、
式（ＩＶ）：Ｒ^５ _２ＨＳｉＯ（Ｒ^５ _２ＳｉＯ）_ｉ（Ｒ^５ＨＳｉＯ）_ｊＳｉＲ^５ _２Ｈ、又は
これらの組み合わせのポリ有機水素シロキサンを含み得る。

上記式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）中、下付き文字ｇは０〜２０００の平均値を有し、下付き文字ｈは２〜２０００の平均値を有し、下付き文字ｉは０〜２０００の平均値を有し得、下付き文字ｊは０〜２０００の平均値を有する。各Ｒ^５は独立して、上記の一価有機基である。

成分（Ｃ）のポリ有機水素シロキサンは、以下により例示される：
ａ）ジメチル水素シロキシで末端処理したポリジメチルシロキサン、
ｂ）ジメチル水素シロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチル水素シロキサン）、
ｃ）ジメチル水素シロキシで末端処理したポリメチル水素シロキサン、
ｄ）トリメチルシロキシで末端処理したポリ（ジメチルシロキサン／メチル水素シロキサン）、
ｅ）トリメチルシロキシで末端処理したポリメチル水素シロキサン、
ｆ）Ｈ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位とＳｉＯ_４／２単位とから本質的になる樹脂、及び
ｇ）これらの組み合わせ。

オルガノハロシランの加水分解及び縮合のような、成分（Ｃ）として用いるのに好適な直鎖、分枝状、及び環式有機水素ポリシロキサンの調製方法は、当該技術分野において周知である。成分（Ｃ）として用いるのに好適なオルガノ水素ポリシロキサン樹脂の調製方法もまた、米国特許第５，３１０，８４３号、同第４，３７０，３５８号、及び同第４，７０７，５３１号に例示されるように周知である。

あるいは、成分（Ｃ）の有機水素ケイ素化合物は、式（Ｖ）の化合物を含み得る：

式中、各Ｒ^２９は独立して、水素原子及び、１〜２０個の構成原子を含む一価有機基から選択され、下付き文字ｋは１０〜１８の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｍは０２〜１９の範囲の値を有する整数であり、ｋ＋ｍは３〜２０、あるいは３〜４０の範囲の値を有する整数である。各Ｒ^３０は独立して、上述の部分に記載の一価有機基、ハロゲン基又はシロキサン単位から選択される。あるいは、各Ｒ^３０は独立して、ハロゲン原子、エーテル基、アルコキシ基、アルコキシエーテル基、アシル基、エポキシ基、アミノ基、シリル基又は−Ｚ−Ｒ^３１基から選択され、式中、各Ｚは独立して、酸素原子、及び２〜２０個の炭素原子を含む二価炭化水素基から選択され、各Ｒ^３１基は独立して、−ＢＲ^２９ _ｕＲ^３２ _２−ｕ、−ＳｉＲ^２９ _ｖＲ^３２ _３−ｖ又は式（ＶＩ）により表される基から選択される：
（Ｒ^３２ _３−ｎＲ^２９ _ｎＳｉＯ_１／２）_ｗ（Ｒ^３２ _２−ｏＲ^２９ _ｏＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^３２ _１−ｐＲ^２９ _ｐＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（ＣＲ^２９ _ｑＲ^３２ _１−ｑ）_ａａ（ＣＲ^２９ _ｒＲ^３２ _２−ｒ）_ｂｂ（Ｏ（ＣＲ^２９ _ｓＲ^３２ _２−ｓ）_ｃｃ（ＣＲ^２９ _ｔＲ^３２ _３−ｔ）_ｄｄ
式中、Ｂはホウ素を指し、各Ｒ^２９は上記の通りであり、和ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＋ａａ＋ｂｂ＋ｃｃ＋ｄｄは少なくとも２であり、下付き文字ｎは０〜３の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｏは０〜２の値の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｐは０〜１の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｑは０〜１の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｒは０〜２の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｓは０〜２の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｔは０〜３の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｕは０〜２の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｖは０〜３の範囲の値を有する整数であり、各Ｒ^３２は、独立してハロゲン原子、エーテル基、アルコキシ基、アルコキシエーテル基、アシル基、エポキシ基、アミノ基、シリル基、又はＺ−Ｇ基から選択される官能性基であり、式中、Ｚは上記の通りであり、各Ｇは式（ＶＩＩ）により表されるシクロシロキサンである：

式中、Ｒ^２９及びＲ^３０は上記の通りであり、下付き文字ｅｅは１であり、下付き文字ｆｆは０〜１８の範囲の値を有する整数であり、下付き文字ｇｇは０〜１８の範囲の値を有する整数であり、ｆｆ＋ｇｇは、２〜２０の範囲の値を有する整数であり、但し、式（ＶＩＩ）において、Ｒ^３２のうちの１つが、Ｒ^３１基を式（ＶＩＩ）のシクロシロキサンに結合するＺ基により置換され、更にａａ＋ｂｂ＋ｃｃ＋ｄｄ＞０である場合にはｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＞０であることを条件とする。

このような有機水素ケイ素化合物は、市販されており、例としてはＳＹＬ−ＯＦＦ（登録商標）ＳＬ２架橋剤及びＳＹＬ−ＯＦＦ（登録商標）ＳＬ１２架橋剤が挙げられ、これらはどちらもＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。上記の有機水素ケイ素化合物及びそれらの調製方法は、国際公開第２００３／０９３３４９号及び同第２００３／０９３３６９号に例示されている。代表的な有機水素ケイ素化合物は、次の一般式を有し得る：

式中、
各Ｒ^３３は独立して、水素原子及び一価有機基から選択され、各Ｒ^３４は独立して、水素原子、一価有機基及び式

の基から選択され、下付き文字ｈｈは少なくとも１の値を有する整数であり、下付き文字ｊｊは少なくとも１の値を有する整数であり、下付き文字ｉｉは最小値０を有する整数である。この一般式中、Ｒ^３３の少なくとも１つは、水素原子である。Ｒ^３３及び／又はＲ^３４に好適な一価有機基は、Ｒ^２９について上述した基により例示される。

組成物中の成分（Ｃ）の正確な量は、成分（Ａ）の反応性、成分（Ｂ）の種類及び量、成分（Ｂ）がケイ素結合水素原子を含有しているかどうか、並びに、（成分（Ｃ）以外の）任意の追加成分が存在する場合にはその種類及び量といった、様々な因子によって異なる。しかしながら、組成物中の成分（Ｃ）の量は、組成物中の全ての成分の総重量に基づいて、０％〜２５％、あるいは０．１％〜１５％、あるいは１％〜５％の範囲であり得る。

成分（Ｄ）はスペーサーである。スペーサーは、有機粒子、無機粒子、又はこれらの組み合わせを含み得る。スペーサーは、熱伝導性、導電性、又は両方であり得る。スペーサーは、所望の粒径を有することができ、例えば、粒径は２５マイクロメートル（μｍ）〜１２５μｍの範囲であり得る。スペーサーは、ガラス又はポリマー（例えば、ポリスチレン）ビーズなどの単分散ビーズを含み得る。スペーサーは、アルミナ、窒化アルミニウム、噴霧金属粉、窒化ホウ素、銅、及び銀などの熱伝導性充填剤を含み得る。成分（Ｄ）の量は、粒径分布、組成物若しくはそれから調製される硬化生成物の使用中に適用される圧力、使用中の温度、並びに、組成物若しくはそれから調製される硬化生成物の所望の厚さといった、様々な因子によって異なる。しかしながら、組成物は０．０５〜２％、あるいは０．１％〜１％の範囲の量の成分（Ｄ）を含有し得る。

成分（Ｅ）は、増量剤及び／又は可塑剤である。非官能性ポリオルガノシロキサンを含む増量剤を、組成物に使用することができる。例えば、非官能性ポリオルガノシロキサンは、式Ｒ^６ _２ＳｉＯ_２／２の二官能性単位及び式Ｒ^７ _３ＳｉＲ^２８−の末端単位を含み得、式中、各Ｒ^６及び各Ｒ^７は独立して、一価有機基［例えば、一価炭化水素基、（例えば、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル及びブチル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル及びヘキセニル）、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル及びナフチル）、及びアラルキル基（例えば、フェニルエチル）］であり、Ｒ^２８は、酸素原子、又は末端単位のケイ素原子と別のケイ素原子とを連結している二価基である。Ｒ^２８の二価連結基は、二価有機基、又は二価炭化水素基と二価シロキサン基の組み合わせであり得る。あるいは、各Ｒ^２８は独立して、酸素原子及び二価の炭化水素基から選択され得る。あるいは各Ｒ^２８は、酸素原子であり得る。あるいは各Ｒ^２８は、アルキレン基［例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン又はヘキシレン］、アリーレン基［例えば、フェニレン］、又はアルキルアリーレン基［例えば、

］であり得る。あるいは、Ｒ^２８の例は酸素原子であり得、一方、Ｒ^２８の異なる例は二価の炭化水素基である。非官能性ポリオルガノシロキサンは、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な非官能性ポリオルガノシロキサンは、限定するものではないが、ポリジメチルシロキサンにより例示される。このようなポリジメチルシロキサンとしては、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）６．０Ｌ（２００ Ｆｌｕｉｄｓ）が挙げられ、５Ｅ−５ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ）〜０．１ｍ^２／ｓ（１００，０００ｃＳｔ）、あるいは５Ｅ−５〜０．０５ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ〜５０，０００ｃＳｔ）、あるいは０．０１２５ｍ^２ｓ（１２，５００ｃｓｔ）〜０．０６ｍ^２／ｓ（６０，０００ｃＳｔ）の範囲の粘度を有し得る。

有機可塑剤は、上記の非官能性ポリオルガノシロキサン増量剤に加えて、又はその代わりに、使用され得る。有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。有機可塑剤は、フタル酸塩、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、アジピン酸塩、又はこれらの組み合わせを含み得る。有機可塑剤は、ビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、分枝状及び直鎖の１，２シクロヘキサンジカルボン酸，ジノニルエステル、ビス（２−プロピルへプチル）フタレート、ジイソノニルアジペート、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

有機可塑剤は、式

の基を分子あたり平均で少なくとも１個有し得る。（式中、Ｒ^８は、水素原子又は一価有機基を表す。あるいは、Ｒ^８は、分枝状又は直鎖の一価炭化水素基を表し得る。一価の有機基は、４〜１５個の炭素原子、あるいは９個〜１２個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価炭化水素基であり得る。好適な可塑剤は、アジピン酸塩、カルボン酸塩、フタル酸塩及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

あるいは、有機可塑剤は、環式炭化水素中の炭素原子に結合した上記の式の基を、分子あたり平均で少なくとも２個有し得る。有機可塑剤は、次の一般式を有し得る：

式中、Ｚ基は、３個以上の炭素原子、あるいは３〜１５個の炭素原子を有する環式炭化水素基を表す。下付き文字ｋは、１〜１２の範囲の値を有し得る。Ｚ基は、飽和又は芳香族であり得る。各Ｒ^１０は独立して水素原子、又は分枝状若しくは直鎖の一価の有機基である。Ｒ^９の一価有機基は、Ｍｅ、Ｅｔ又はＢｕといった、アルキル基であり得る。あるいは、Ｒ^１０の一価有機基は、エステル官能基であり得る。各Ｒ^９は独立して、４〜１５個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価炭化水素基である。

好適な有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。可塑剤は、フタレート（ジブチルフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＢＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）、フタル酸ジヘプチル、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート、又はフタル酸ジイソデシル（ＤＩＤＰ）などのフタル酸ジアルキル、ビス（２−プロピルヘプチル）フタレート（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＤＰＨＰ）、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）、フタル酸ジメチル（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；フタル酸ジエチル（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；フタル酸ブチルベンジル、及びビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）４２５ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；ジカルボン酸塩（ベンジル、Ｃ７〜Ｃ９直鎖及び分枝状アルキルエステル、１，２，ベンゼンジカルボン酸（Ｆｅｒｒｏ ＳＡＮＴＩＣＩＺＥＲ（登録商標）２６１Ａ）、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＴＯＴＭ−Ｉ）、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボン酸塩（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）１６８Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボン酸塩；１，２シクロヘキサンジカルボン酸、ジノニルエステル、分枝状及び直鎖（ＢＡＳＦ Ｈｅｘａｍｏｌｌ ^＊ＤＩＮＣＨ）；ジイソノニルアジパート；トリメリタート（トリオクチルトリメリテート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＯＴＭ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＥＧ−ＥＨ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；トリアセチン（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）Ｔｒｉａｃｅｔｉｎ）；非芳香族二塩基酸エステル（ジオクチルアジパート、ビス（２−エチルヘキシル）アジパート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ及びＥａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ、Ｋｏｓｈｅｒ）、ジ−２−エチルヘキシルアジパート（ＢＡＳＦ Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ（登録商標）ＤＯＡ）、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、及びコハク酸ジイソデシルなどの）；脂肪族エステル（オレイン酸ブチル及びリシノール酸メチルアセチルなどの）；リン酸塩（リン酸トリクレシル及びリン酸トリブチルなどの）；塩化パラフィン；炭化水素油（アルキルジフェニル及び部分的に水素添加したテルフェニルなどの）；プロセス油；エポキシ可塑剤（エポキシ化した大豆油及びベンジルエポキシステアレートなどの）；トリス（２−エチルヘキシル）エステル；脂肪酸エステル；並びにこれらの組み合わせを含んでもよい。他の適切な可塑剤の例及びその商業的入手源としては、ＢＡＳＦ Ｐａｌａｍｏｌｌ（登録商標）６５２及びＥａｓｔｍａｎ １６８ Ｘｔｒｅｍｅ（商標）Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒが挙げられる。

あるいは、ポリマー可塑剤を使用することもできる。ポリマー可塑剤の例としては、様々な方法によりビニル若しくはアリルモノマーを重合することによって得られるアルケニルポリマー；ポリアルキレングリコールエステル（例えば、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、及びペンタエリスリトールエステル）；二塩基酸（例えば、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸及びフタル酸）と二価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール）から得られるポリエステル可塑剤；それぞれ５００以上の分子量を有するポリエーテルポリオール（例えば、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール）とポリスチレン（例えば、ポリスチレン及びポリ−α−メチルスチレン）とを含むポリエーテル；並びに、ポリブタジエン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ブタジエンアクリロニトリル及びポリクロロプレンが挙げられる。

成分（Ｅ）について上述したポリオルガノシロキサン増量剤及び有機可塑剤は、それぞれ単独で、又は、これらを２つ以上組み合わせて、のいずれかで使用され得る。低分子量有機可塑剤と高分子量ポリマー可塑剤を組み合わせて使用してもよい。組成物中で使用される成分（Ｅ）の正確な量は、組成物及びその硬化生成物の所望される最終用途といった様々な因子によって異なる。しかしながら、成分（Ｅ）の量は、組成物中の全成分の総重量に基づいて０．１〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｆ）は、充填剤である。充填剤は、補強充填剤、増量充填剤、伝導性充填剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。例えば、組成物は、場合により、成分（ｆ１）補強充填剤を更に含み得、これは、存在する場合には、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％の範囲の量で添加され得る。成分（ｆ１）の正確な量は、組成物の反応生成物の形態（例えば、ゲル又はゴム）、及び、他の充填剤が添加されるかどうか、といった様々な因子によって異なる。好適な補強充填剤の例としては、細断繊維［例えば、細断されたＫＥＶＬＡＲ（登録商標）］及び／又はシリカ充填剤［例えば、ヒュームシリカ、シリカエアロゲル及び沈殿シリカ］が挙げられる。ヒュームドシリカは、当該技術分野において既知であり、市販されている：例えば、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から名称ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬで販売されているヒュームドシリカ。

組成物は、場合により、成分（ｆ２）増量充填剤を、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％、あるいは１〜２０重量％の範囲の量で更に含み得る。増量充填剤の例としては、破砕石英、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム（例えば、軽質炭酸カルシウム）、酸化亜鉛、タルク、珪藻土、酸化鉄、粘土、雲母、二酸化チタン、ジルコニア、砂、カーボンブラック、グラファイト、又はこれらの組み合わせが挙げられる。増量充填剤は、当該技術分野において既知であり、例えば、Ｕ．Ｓ．Ｓｉｌｉｃａ（Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｓｐｒｉｎｇｓ，ＷＶ）により名称ＭＩＮ−Ｕ−ＳＩＬで販売されている破砕シリカといったように、市販されている。好適な軽質炭酸カルシウムとしては、ＳｏｌｖａｙからのＷｉｎｎｏｆｉｌ（登録商標）ＳＰＭ、並びに、ＳＭＩからのＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）及びＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）１００が挙げられる。

組成物は、場合により、成分（ｆ３）伝導性充填剤を更に含む。成分（Ｆ）は、熱伝導性及び導電性の両方であってよい。あるいは、成分（Ｆ）は、熱伝導性及び電気絶縁性であり得る。成分（Ｆ）は、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、アルミニウム三水和物、チタン酸バリウム、酸化ベリリウム、窒化ホウ素、炭素繊維、ダイヤモンド、黒鉛、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、金属微粒子、オニキス、炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る。成分（Ｆ）は、金属充填剤、無機充填剤、溶融性充填剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。金属充填剤は、金属の粒子及び粒子の表面上に層を有する金属の粒子を含む。これらの層は、例えば、粒子の表面上の金属窒化物層又は金属酸化物層であってよい。好適な金属充填剤としては、アルミニウム、銅、金、ニッケル、銀、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される金属、又はアルミニウムの粒子が挙げられる。好適な金属充填剤としては、更に、表面上に窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化銅、酸化ニッケル、酸化銀、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される層を有する上記金属の粒子が挙げられる。例えば、金属充填剤は、表面上に酸化アルミニウム層を有するアルミニウム粒子を含み得る。

無機導電性充填剤としては、オニキス；アルミニウム三水和物；酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、酸化マグネシウム、及び酸化亜鉛などの金属酸化物；窒化アルミニウム及び窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素及び炭化タングステンなどの炭化物；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。あるいは、無機導電性充填剤としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせが挙げられる。溶融性充填剤は、Ｂｉ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、又はこれらの合金を含み得る。溶融性充填剤は、任意にＡｇ、Ａｕ、Ｃｄ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｚｎ、又はこれらの組み合わせを更に含み得る。好適な溶融性充填剤の例としては、Ｇａ、Ｉｎ−Ｂｉ−Ｓｎ合金、Ｓｎ−Ｉｎ−Ｚｎ合金、Ｓｎ−Ｉｎ−Ａｇ合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｂｉ合金、Ｓｎ−Ｂｉ−Ｃｕ−Ａｇ合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ−Ｓｂ合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ合金、Ｓｎ−Ａｇ合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ−Ｚｎ合金、及びこれらの組み合わせが挙げられる。溶融性充填剤は、５０℃〜２５０℃、あるいは１５０℃〜２２５℃の範囲の融点を有し得る。溶融性充填剤は、共晶合金、非共晶合金、又は純金属であってよい。溶融性充填剤は市販されている。

例えば溶融性充填剤はＩｎｄｉｕｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ（Ｕｔｉｃａ，Ｎ．Ｙ．，Ｕ．Ｓ．Ａ．）、Ａｒｃｏｎｉｕｍ（Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，Ｒ．Ｉ．，Ｕ．Ｓ．Ａ．）、及びＡＩＭ Ｓｏｌｄｅｒ（Ｃｒａｎｓｔｏｎ，Ｒ．Ｉ．，Ｕ．Ｓ．Ａ）から入手可能である。アルミニウム充填剤は、例えばＴｏｙａｌ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）、及びＶａｌｉｍｅｔ Ｉｎｃ．（Ｓｔｏｃｋｔｏｎ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。銀充填剤はＭｅｔａｌｏｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｕ．Ｓ．Ａ．Ｃｏｒｐ．（Ａｔｔｌｅｂｏｒｏ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。

熱伝導性充填剤は、当該技術分野において既知であり、また市販されている。例えば、ＣＢ−Ａ２０Ｓ及びＡｌ−４３−Ｍｅは、昭和電工株式会社から市販されている様々な粒径の酸化アルミニウムであり、ＡＡ−０４、ＡＡ−２及びＡＡ１８は、住友化学株式会社から市販されている酸化アルミニウムである。商標ＫＡＤＯＸ（登録商標）及びＸＸ（登録商標）を有する酸化亜鉛のような酸化亜鉛は、Ｚｉｎｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ（Ｍｏｎａｃａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。

充填剤粒子の形状は特に制限されていないが、丸みを帯びた又は球状の粒子は、組成物中に充填剤を高装填した際に粘度が望ましくない程度にまで増加することを防止し得る。

成分（Ｆ）は、単一の充填剤、又は充填剤の粒子形状、平均粒径、粒径分布、及び種類などの少なくとも１つの特性が異なる２種以上の充填剤の組み合わせとなり得る。例えば、より大きな平均粒径を有する第一の充填剤とより小さな平均粒径を有する第二の充填剤などの、充填剤同士の組み合わせを用いることが望ましい場合がある。より大きな平均粒径を有する第一の充填剤と第一の充填剤よりも小さな平均粒径を有する第二の充填剤を使用すると、充填効率が改善し得る、並びに／あるいは、このような充填剤の組み合わせを持たない組成物と比較して組成物の粘度を低減し得る。

充填剤の平均粒径は、成分（Ｆ）に選択される充填剤の種類、組成物に添加される正確な量、並びに、組成物の反応生成物についての最終用途といった、様々な因子によって異なる。しかしながら、充填剤は、０．１〜８０μｍ、あるいは０．１〜５０μｍ、あるいは０．１〜１０μｍの範囲の平均粒径を有し得る。

組成物中の成分（Ｆ）の量は、組成物及び組成物の反応生成物について選択される最終用途、成分（Ｂ）の種類及び量、並びに、成分（Ｆ）に選択される充填剤の種類及び量といった、様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｆ）の量は、組成物の容積の、０容積％〜８０容積％、あるいは５０容積％〜７５容積％、あるいは３０容積％〜８０容積％の範囲であり得る。理論に束縛されるものではないが、充填剤の量が８０容積％を超える場合には、組成物は、反応して、一部の用途について不十分な寸法一体性を有する反応生成物を形成し得ると考えられる。

組成物は、場合により、成分（Ｇ）処理剤を更に含み得る。成分（Ｇ）の量は、選択される処理剤の種類、処理される（成分（Ｆ）及び／又は（Ｄ）といった）粒子の種類及び量、粒子が組成物の添加前に処理されるのかどうか、又は、粒子がその場で処理されるのかどうか、といった因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｇ）は、組成物の全成分の０．０１〜２０重量％、あるいは０．１〜１５重量％、あるいは０．５〜５重量％の範囲の量で使用され得る。粒子、例えば、充填剤、物理的乾燥剤、特定の難燃剤、特定の顔料は、存在する場合には、任意選択で、成分（Ｇ）で表面処理され得る。粒子は、組成物に添加される前に、又は、その場にて、成分（Ｇ）で処理され得る。成分（Ｇ）は、アルコキシシラン、アルコキシ官能性オリゴシロキサン、環式ポリオルガノシロキサン、ヒドロキシル官能性オリゴシロキサン、例えば、ジメチルシロキサン、又はメチルフェニルシロキサン、又は脂肪酸を含み得る。脂肪酸の例としては、ステアリン酸カルシウムといったステアリン酸塩が挙げられる。

成分（Ｇ）として使用できる一部の代表的な有機ケイ素充填剤処理剤としては、シリカ充填剤を処理するのに通常使用される組成物、例えば、オルガノクロロシラン、オルガノシロキサン、オルガノジシラザン［例えば、ヘキサアルキルジシラザン］、及びオルガノアルコキシシラン［例えば、Ｃ_６Ｈ_１３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_８Ｈ_１７Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、Ｃ_１０Ｈ_２１Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１２Ｈ_２５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１４Ｈ_２９Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、及びＣ_６Ｈ_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］が挙げられる。使用できる他の処理剤としては、アルキルチオール、脂肪酸、チタン酸塩、チタン酸塩カップリング剤、ジルコン酸塩カップリング剤、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｇ）は、式：Ｒ^１１ _ｍＳｉ（ＯＲ^１２）_{（４−ｍ）}を有するアルコキシシランを含み得、式中、下付き文字ｍは１〜３の範囲の値を有し得、あるいは下付き文字ｍは３である。各Ｒ^１１は独立して、１〜５０個の炭素原子、あるいは８〜３０個の炭素原子、あるいは８〜１８個の炭素原子の一価炭化水素基といった、一価有機基である。Ｒ^１１としては、ヘキシル、オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタデシルなどのアルキル基、並びにベンジル及びフェニルエチルなどの芳香族基が挙げられる。Ｒ^１１は、飽和又は不飽和、並びに、分枝状又は非分枝状であり得る。あるいは、Ｒ^１１は、飽和及び非分枝状であり得る。

各Ｒ^１２は、独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。成分（Ｇ）としての使用に好適なアルコキシシランは、へキシトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、フェニルエチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン及びこれらの組み合わせにより例示される。

アルコキシ官能性オリゴシロキサンはまた、処理剤としても使用され得る。例えば、好適なアルコキシ官能性オリゴシロキサンとしては、式（Ｖ）：（Ｒ^１３Ｏ）_ｎＳｉ（ＯＳｉＲ^１４ _２Ｒ^１５）_{（４−ｎ）}のものが挙げられる。この式中、下付き文字ｎは１、２、又は３であり、あるいは下付き文字ｎは３である。各Ｒ^１３は、アルキル基であり得る。各Ｒ^１４は、１〜１０個の炭素原子の不飽和一価炭化水素基であり得る。各Ｒ^１５は、少なくとも１０個の炭素原子を有する不飽和一価炭化水素基であり得る。

金属充填剤などの特定の粒子は、アルキルチオール（例えば、オクタデシルメルカプタン）、脂肪酸（例えば、オレイン酸及びステアリン酸）、及びこれらの組み合わせで処理され得る。

アルミナ又は不動態化窒化アルミニウムのための処理剤としては、アルコキシシリル官能性アルキルメチルポリシロキサン（例えば、Ｒ^１６ _ｏＲ^１７ _ｐＳｉ（ＯＲ^１８）_{（４−ｏ−ｐ）}の部分加水分解縮合体又は共加水分解縮合体又は混合物）、あるいは、加水分解可能な基がシラザン、アシルオキシ、又はオキシモを含み得る類似の物質を挙げることができる。これらの全てにおいて、上式中のＲ^１６などのＳｉに連結された基は、長鎖不飽和一価炭化水素又は一価芳香族官能性炭化水素である。Ｒ^１７は各々独立して一価炭化水素基であり、Ｒ^１８は各々独立して炭素原子数１〜４個の一価炭化水素基である。上記式中、下付き文字ｏは１、２、又は３であり、下付き文字ｐは０、１、又は２であるが、但し、和（ｏ＋ｐ）が１、２、又は３であることを条件とする。

他の処理剤としては、アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンが挙げられる。好適なアルケニル官能性ポリオルガノシロキサンとしては、限定するものではないが、以下のものが挙げられる：

式中、下付き文字ｑは、最大１，５００の値を有する。他の処理剤としては、モノ末端封鎖アルコキシ官能性ポリジオルガノシロキサン、すなわち、アルコキシ基を一方の末端に有するポリジオルガノシロキサンが挙げられる。このような処理剤は、式：Ｒ^２５Ｒ^２６ _２ＳｉＯ（Ｒ^２６ _２ＳｉＯ）_ｕＳｉ（ＯＲ^２７）_３により例示され、式中、下付き文字ｕは０〜１００、あるいは１〜５０、あるいは１〜１０、あるいは３〜６の値を有する。各Ｒ^２５は独立して、アルキル基［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ヘキシル及びオクチル］及びアルケニル基［例えば、Ｖｉ、アリル、ブテニル及びＨｅｘ］から選択される。各Ｒ^２６は独立して、アルキル基［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ヘキシル及びオクチル］である。各Ｒ^２７は独立して、アルキル基［例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ及びＢｕ］である。あるいは、各Ｒ^２５、各Ｒ^２６、及び各Ｒ^２７は、Ｍｅである。あるいは、各Ｒ^２５は、Ｖｉである。あるいは、各Ｒ^２６、及び各Ｒ^２７は、Ｍｅである。

あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンが、処理剤として有用である。充填剤の表面を処理するためのこの方法は、相溶性の部分を充填剤表面に繋ぎ止める手段として、集積している又は分散している又はその両方のいずれかの多数の水素結合を利用する。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合可能なケイ素結合基を分子あたり平均で少なくとも１個有する。この基は、多数のヒドロキシル官能基を有する有機基、又は、少なくとも１個のアミノ官能基を有する有機基から選択され得る。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合が、充填剤に対するポリオルガノシロキサンにとっての主な取り付け様式であることを意味する。ポリオルガノシロキサンは、充填剤と共有結合を形成できなくてもよい。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマー、アミノ官能性ポリオルガノシロキサン、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマーであり得る。

成分（Ｈ）は、殺生物剤である。成分（Ｈ）の量は、選択される殺生物剤のタイプ及び所望される効果といった因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｈ）の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０重量％超〜５重量％の範囲であり得る。成分（Ｈ）は、（ｈ１）殺真菌剤、（ｈ２）除草剤、（ｈ３）殺虫剤、（ｈ４）抗菌剤、又はこれらの組み合わせにより、例示される。

成分（ｈ１）は、殺真菌剤であり、例えば、これらとしては、Ｎ−置換ベンゾイミダゾールカルバメート、ベンゾイミダゾリルカルバメート（例えば、メチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、エチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、イソプロピル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−クロロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、及びメチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−ニトロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート）、１０，１０’−オキシビスフェノキサルシン（商品名：Ｖｉｎｙｚｅｎｅ，ＯＢＰＡ）、ジ−ヨードメチル−パラ−トリルスルホン、ベンゾチオフェン−２−シクロヘキシルカルボキサミド−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、Ｎ−（フルオロジクロリド（fluordichloride）メチルチオ）フタルイミド（商品名：Ｆｌｕｏｒ−Ｆｏｌｐｅｒ及びＰｒｅｖｅｎｔｏｌ Ａ３）、メチル−ベンゾイミダゾール−２−イルカルバメート（商品名：Ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ、Ｐｒｅｖｅｎｔｏｌ ＢＣＭ）、亜鉛−ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）（亜鉛ピリチオン）２−（４−チアゾリル）−ベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニル−ヨードプロパルギルカルバメート、Ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロリド−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、及び／又は、トリアゾリル化合物（例えば、銀を含有するゼオライトと組み合わせたテブコナゾール）が挙げられる。

成分（ｈ２）は除草剤であり、例えば、好適な除草剤としては、アミド系除草剤（例えば、アリドクロルＮ，Ｎ−ジアリル−２−クロロアセトアミド、ＣＤＥＡ ２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、エトニプロミド（ＲＳ）−２−［５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ−エチルプロピオンアミド）、アニリド系除草剤（例えば、シサニリドシス−２，５−ジメチルピロリジン−１−カルボキシアニリド、フルフェナセット４’−フルオロ−Ｎ−イソプロピル−２−［５−（トリフルオロメチル）−１，３，４−チアジアゾール−２−イルオキシ］アセトアニリド、ナプロアニリド（ＲＳ）−α−２−ナフトキシプロピオンアニリド）、アリルアラニン系除草剤（例えば、ベンゾイルプロップＮ−ベンゾイル−Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）−ＤＬ−アラニン、フラムプロップ−Ｍ Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−Ｄ−アラニン）、クロロアセトアニリド系除草剤（例えば、ブタクロールＮ−ブトキシメチル−２−クロロ−２’，６’−ジエチルアセトアニリド、メタザクロル２−クロロ−Ｎ−（ピラゾール−１−イルメチル）アセト−２’，６’−キシリジド、プリナクロル（ＲＳ）−２−クロロ−Ｎ−（１−メチルプロパ−２−イニル）アセトアニリド）、スルホンアニリド系除草剤（例えば、クロランスラム３−クロロ−２−（５−エトキシ−７−フルオロ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−イルスルホンアミド）安息香酸、メトスラム２’，６’−ジクロロ−５，７−ジメトキシ−３’−メチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、抗生物質系除草剤（例えば、ビラナホス４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−Ｌ−ホモアラニル−Ｌ−アラニル−Ｌ−アラニン）、安息香酸系除草剤（例えば、クロランベン３−アミノ−２，５−ジクロロ安息香酸、２，３，６−ＴＢＡ ２，３，６−トリクロロ安息香酸）、ピリミジニルオキシ安息香酸系除草剤（例えば、ビスピリバック２，６−ビス（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルオキシ）安息香酸）、ピリミジニルチオ安息香酸系除草剤（例えば、ピリチオバック２−クロロ−６−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルチオ）安息香酸）、フタル酸系除草剤（例えば、クロルタールテトラクロロテレフタル酸）、ピコリン酸系除草剤（例えば、アミノピラリド４−アミノ−３，６−ジクロロピリジン−２−カルボン酸）、キノリンカルボン酸系除草剤（例えば、キンクロラック３，７−ジクロロキノリン−８−カルボン酸）、ヒ素系除草剤（例えば、ＣＭＡカルシウムビス（水素メチルアルソネート）、ＭＡＭＡアンモニウム水素メチルアルソネート、亜ヒ酸ナトリウム）、ベンゾイルシクロヘキサンジオン系除草剤（例えば、メソトリオン２−（４−メシル−２−ニトロベンゾイル）シクロヘキサン−１，３−ジオン）、ベンゾフラニルアルキルスルホネート系除草剤（例えば、ベンフレセート２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチルベンゾフラン−５−イルエタンスルホネート）、カルバミン酸塩系除草剤（例えば、カルボキサゾールメチル５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イルカルバメート、フェナスラム（fenasulam）メチル４−［２−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）アセトアミド］フェニルスルホニルカルバメート）、カルバニル酸塩系除草剤（例えば、ＢＣＰＣ（ＲＳ）−ｓｅｃ−ブチル３−クロロカルバニレート、デスメジファムエチル３−フェニルカルバモイルオキシフェニルカルバニレート、スウェップメチル３，４−ジクロロカルバニレート）、シクロヘキセンオキシム系除草剤（例えば、ブトロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−５−（３−ブチリル−２，４，６−トリメチルフェニル）−２−（１−エトキシイミノプロピル）−３−ヒドロキシシクロヘキサ−２−エン−１−オン、テプラロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−２−｛１−［（２Ｅ）−３−クロロアリルオキシイミノ］プロピル｝−３−ヒドロキシ−５−ペルヒドロピラン−４−イルシクロヘキサ−２−エン−１−オン）、シクロプロピルイソオキサゾール系除草剤（例えば、イソキサクロルトール４−クロロ−２−メシルフェニル５−シクロプロピル−１，２−オキサゾール−４−イルケトン）、ジカルボキシミド系除草剤（例えば、フルメジン２−メチル−４−（α，α，α−トリフルオロ−ｍ−トリル）−１，２，４−オキサジアジナン−３，５−ジオン）、ジニトロアニリン系除草剤（例えば、エタルフルラリンＮ−エチル−α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−（２−メチルアリル）−２，６−ジニトロ−ｐ−トルイジン、プロジアミン５−ジプロピルアミノ−α，α，α−トリフルオロ−４，６−ジニトロ−ｏ−トルイジン）、ジニトロフェノール系除草剤（例えば、ジノプロップ４，６−ジニトロ−ｏ−シメン−３−オール、エチノフェンα−エトキシ−４，６−ジニトロ−ｏ−クレゾール）、ジフェニルエーテル系除草剤（例えば、エトキシフェンＯ−［２−クロロ−５−（２−クロロ−α，α，α−トリフルオロ−ｐ−トリルオキシ）ベンゾイル］−Ｌ乳酸）、ニトロフェニルエーテル系除草剤（例えば、アクロニフェン２−クロロ−６−ニトロ−３−フェノキシアニリン、ニトロフェン２，４−ジクロロフェニル４−ニトロフェニルエーテル）、ジチオカルバメート系除草剤（例えば、ダゾメット３，５−ジメチル−１，３，５−チアジアジナン−２−チオン）、ハロゲン化脂肪族系除草剤（例えば、ダラポン２，２−ジクロロプロピオン酸）、クロロ酢酸）、イミダゾリノン系除草剤（例えば、イマザピル（ＲＳ）−２−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリン−２−イル）ニコチン酸）、無機除草剤（例えば、四ホウ酸二ナトリウム十水和物、アジ化ナトリウム）、ニトリル系除草剤（例えば、クロロキシニル３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾニトリル、イオキシニル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ヨードベンゾニトリル）、有機リン系除草剤（例えば、アニロホスＳ−４−クロロ−Ｎ−イソプロピルカルバニロイルメチルＯ，Ｏ−ジメチルホスホロジチオネート、グルホシネート４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−ＤＬ−ホモアラニン）、フェノキシ系除草剤（例えば、クロメプロップ（ＲＳ）−２−（２，４−ジクロロ−ｍ−トリルオキシ）プロピオンアニリド、フェンテラコール２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）エタノール）、フェノキシ酢酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＡ（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸）、フェノキシ酪酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＢ ４−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）酪酸）、フェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、フェノプロップ（ＲＳ）−２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）プロピオン酸）、アリルオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、イソキサピリホップ（ＲＳ）−２−［２−［４−（３，５−ジクロロ−２−ピリジルオキシ）フェノキシ］プロピオニル］イソオキサゾリジン）、フェニレンジアミン系除草剤（例えば、ジニトラミンＮ^１，Ｎ^１−ジエチル−２，６−ジニトロ−４−トリフルオロメチル−ｍ−フェニレンジアミン）、ピラゾリルオキシアセトフェノン系除草剤（例えば、ピラゾキシフェン２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセトフェノン）、ピラゾリルフェニル系除草剤（例えば、ピラフルフェン２−クロロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−メチルピラゾール−３−イル）−４−フルオロフェノキシ酢酸）、ピリダジン系除草剤（例えば、ピリダフォル６−クロロ−３−フェニルピリダジン−４−オール）、ピリダジノン系除草剤（例えば、クロリダゾン５−アミノ−４−クロロ−２−フェニルピリダジン−３（２Ｈ）−オン、オキサピラゾン５−ブロモ−１，６−ジヒドロ−６−オキソ−１−フェニルピリダジン−４−イルオキサム酸）、ピリジン系除草剤（例えば、フルロキシピル４−アミノ−３，５−ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジルオキシ酢酸、チアゾピルメチル２−ジフルオロメチル−５−（４，５−ジヒドロ−１，３−チアゾール−２−イル）−４−イソブチル−６−トリフルオロメチルニコチネート）、ピリミジンジアミン除草剤（例えば、イプリダム６−クロロ−Ｎ^４−イソプロピルピリミジン−２，４−ジアミン）、四級アンモニウム系除草剤（例えば、ジエタムクアット１，１’−ビス（ジエチルカルバモイルメチル）−４，４’−ビピリジニウム、パラクアット１，１’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム）、チオカルバメート系除草剤（例えば、シクロエートＳ−エチルシクロヘキシル（エチル）チオカルバメート、チオカルバジルＳ−ベンジルジ−ｓｅｃ−ブチルチオカルバメート）、チオカルボネート除草剤（例えば、ＥＸＤ Ｏ，Ｏ−ジエチルジチオビス（チオホルメート））、チオ尿素系除草剤（例えば、メチウロン１，１−ジメチル−３−ｍ−トリル−２−チオ尿素）、トリアジン系除草剤（例えば、トリアジフラム（ＲＳ）−Ｎ−［２−（３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチルエチル］−６−（１−フルオロ−１−メチルエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、クロロトリアジン系除草剤（例えば、シプラジン６−クロロ−Ｎ^２−シクロプロピル−Ｎ^４−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン、プロパジン６−クロロ−Ｎ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メトキシトリアジン系除草剤（例えば、プロメトンＮ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メチルチオトリアジン系除草剤（例えば、シアナトリン２−（４−エチルアミノ−６−メチルチオ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル）、トリアジノン系除草剤（例えば、ヘキサジノン３−シクロヘキシル−６−ジメチルアミノ−１−メチル−１，３，５−トリアジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオン）、トリアゾール系除草剤（例えば、エプロナズＮ−エチル−Ｎ−プロピル−３−プロピルスルホニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−カルボキサミド）、トリアゾロン系除草剤（例えば、カルフェントラゾン（ＲＳ）−２−クロロ−３−｛２−クロロ−５−［４−（ジフルオロメチル）−４，５−ジヒドロ−３−メチル−５−オキソ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル］−４−フルオロフェニル｝プロピオン酸）、トリアゾールピリミジン系除草剤（例えば、フロラスラム２’，６’，８−トリフルオロ−５−メトキシ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、ウラシル系除草剤（例えば、フルプロパシルイソプロピル２−クロロ−５−（１，２，３，６−テトラヒドロ−３−メチル−２，６−ジオキソ−４−トリフルオロメチルピリミジン−１−イル）ベンゾエート）、尿素系除草剤（例えば、シクルロン３−シクロ−オクチル−１，１−ジメチル尿素、モニソウロン（monisouron）１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イル）−３−メチル尿素）、フェニル尿素系除草剤（例えば、クロロクスロン３−［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル］−１，１−ジメチル尿素、シデュロン１−（２−メチルシクロヘキシル）−３−フェニル尿素）、ピリミジニルスルホニル尿素系除草剤（例えば、フラザスルフロン１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（３−トリフルオロメチル−２−ピリジルスルホニル）尿素、ピラゾスルフロン５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルバモイル）スルファモイル］−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸）、トリアジニルスルホニル尿素除草剤（例えば、チフェンスルフロン３−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イルカルバモイルスルファモイル）チオフェン−２−カルボン酸）、
チアジアゾリル尿素除草剤（例えば、テブチウロン１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，３−ジメチル尿素）、並びに／又は、未分類の除草剤（例えば、クロルフェナック（２，３，６−トリクロロフェニル）酢酸、メタゾール２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン、トリタック（tritac）（ＲＳ）−１−（２，３，６−トリクロロベンジルオキシ）プロパン−２−オール、２，４−Ｄ、クロリムロン、及びフェノキサプロップ）、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（ｈ３）は、殺虫剤である。好適な殺虫剤は、アトラジン、ダイアジノン、及びクロロピリホスにより、例示される。議論を進めるため、殺虫剤は、昆虫忌避剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチル−メタ−トルアミド）及びプレスロイド（例えば、ピレトリン）を包含するものとする。

成分（ｈ４）は、抗菌剤である。好適な抗菌剤は市販されており、例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７００及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７７２が挙げられ、これらはＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのものである。

あるいは、成分（Ｈ）は、例えば、ホウ素無水物、ホウ砂又は八ホウ酸二ナトリウム四水和物といったホウ素含有物質を含んでよく、これは殺虫剤、殺真菌剤、及び／又は難燃剤として機能し得る。

成分（Ｉ）は、同じ成分を含有するが安定剤を含まない組成物と比較して、組成物の反応速度を変えるために使用され得る安定剤である。ヒドロシリル化硬化性組成物用の安定剤は、アセチレンアルコール［例えば、メチルブチノール、エチニルシクロヘキサノール、ジメチルヘキシノール（hexynol）及び３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−ブチン−３−オ−ル、１−プロピン−３−オール、２−メチル−３−ブチン−２−オール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オール、３−フェニル−１−ブチン−３−オール、４−エチル−１−オクチン−３−オール、３，５−ジエムチル（diemthyl）−１−ヘキシン−３−オール及び１−エチニル−１−シクロヘキサノール及びこれらの組み合わせ］、シクロアルケニルシロキサン［例えば、メチルビニルシクロシロキサン（例えば、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン及びこれらの組み合わせ）］、エン−イン化合物［例えば、３−メチル−３−ペンテン−１−イン、３，５−ジメチル−３−ヘキセン−１−イン］、トリアゾール［例えば、ベンゾトリアゾール］、ホスフィン、メルカプタン、ヒドラジン、アミン［例えば、テトラメチルエチレンジアミン］、ジアルキルフマレート、ジアルケニルフマレート、ジアルコキシアルキルフマレート、マレエート［例えば、ジアリルマレエート］、ニトリル、エーテル、一酸化炭素、アルケン［例えば、シクロ−オクタジエン］、ジビニルテトラメチルジシロキサン、アルコール［例えば、ベンジルアルコール］及びこれらの組み合わせにより例示される。

あるいは、組成物中の成分（Ｉ）は、シリル化アセチレン化合物であり得る。理論に束縛されるものではないが、シリル化アセチレン化合物を添加すると、シリル化アセチレン化合物を含有しない又は上記のもののような有機アセチレンアルコール安定剤を含有する組成物のヒドロシリル化からの反応生成物と比較して、組成物のヒドロシリル化反応から調製される反応生成物の黄変が低減すると考えられている。

シリル化アセチレン化合物は、（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）トリメチルシラン、（（１，１−ジメチル−２−プロピニル）オキシ）トリメチルシラン、ビス（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルシラン、ビス（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）シランメチルビニルシラン、ビス（（１，１−ジメチル−２−プロピニル）オキシ）ジメチルシラン、メチル（トリス（１，１−ジメチル−２−プロピニルオキシ））シラン、メチル（トリス（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ））シラン、（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルフェニルシラン、（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルヘキセニルシラン、（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）トリエチルシラン、ビス（３−メチル−１−ブチン−３−オキシ）メチルトリフルオロプロピルシラン、（３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オキシ）トリメチルシラン、（３−フェニル−１−ブチン−３−オキシ）ジフェニルメチルシラン、（３−フェニル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルフェニルシラン、（３−フェニル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルビニルシラン、（３−フェニル−１−ブチン−３−オキシ）ジメチルヘキセニルシラン、（シクロヘキシル−１−エチン−１−オキシ）ジメチルヘキセニルシラン、（シクロヘキシル−１−エチン−１−オキシ）ジメチルビニルシラン、（シクロヘキシル−１−エチン−１−オキシ）ジフェニルメチルシラン、（シクロヘキシル−１−エチン−１−オキシ）トリメチルシラン及びこれらの組み合わせにより例示される。あるいは、成分（Ｉ）は、メチル（トリス（１，１−ジメチル−２−プロピニルオキシ））シラン、（（１，１−ジメチル−２−プロピニル）オキシ）トリメチルシラン、又はこれらの組み合わせにより例示される。成分（Ｉ）として有用なシリル化アセチレン化合物は、酸受容体の存在下でクロロシランと反応させることにより上記アセチレンアルコールをシリル化するといった当該技術分野において既知の方法により調製され得る。

組成物に添加された安定剤の量は、組成物の所望の可使時間、組成物が単一部構成組成物又は多部構成組成物であるかどうか、使用される具体的な安定剤、及び、成分（Ｃ）が存在する場合にはその選択及び量といった、様々な因子によって異なる。しかしながら、安定剤が存在する場合、その量は、組成物の全成分の０重量％〜１重量％、あるいは０重量％〜５重量％、あるいは０．００１重量％〜１重量％、あるいは０．０１重量％〜０．５重量％、あるいは０．００２５重量％〜０．０２５重量％の範囲であり得る。

成分（Ｊ）は、難燃剤である。好適な難燃剤としては、例えば、カーボンブラック、水酸化アルミニウム水和物、及びケイ酸塩（例えば、ウォラストナイト）、白金及び白金化合物を挙げることができる。あるいは、難燃剤は、ハロゲン系難燃剤、（例えば、デカブロモジフェニルオキシド、オクタブロモジフェニルオキシド、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモビフェニルオキシド、ジフェニルオキシベンゼン、エチレンビス−テトラブロモフタルアミド、ペンタブロモエチルベンゼン、ペンタブロモベンジルアクリレート、トリブロモフェニルマレイン酸イミド、テトラブロモビスフェニルＡ、ビス−（トリブロモフェノキシ）エタン、ビス−（ペンタブロモフェノキシ）エタン、ポリジブロモフェニレンオキシド、トリブロモフェニルアリールエーテル、ビス−ジブロモプロピルエーテル、テトラブロモフタル酸無水物、ジブロモネオペンチルグリコール、ジブロモエチルジブロモシクロヘキサン、ペンタブロモジフェニルオキシド、トリブロモスチレン、ペンタブロモクロロシクロヘキサン、テトラブロモキシレン、ヘキサブロモシクロドデカン、臭化ポリスチレン、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、トリフルオロプロペン及びＰＶＣから選択され得る。あるいは、難燃剤は、リン系難燃剤（例えば、（２，３−ジブロモプロピル）−ホスフェート、リン、環式リン酸塩、トリアリルホスフェート、ビス−メラミニウムペンテート、ペンタエリスリトール二環式ホスフェート、ジメチルメチルホスフェート、ホスフィンオキシドジオール、トリフェニルホスフェート、トリス−（２−クロロエチル）ホスフェート）、リン酸エステル（例えば、トリクレイル（tricreyl）、トリキシレニル、イソデシルジフェニル、エチルヘキシルジフェニル）、様々なアミンのリン酸塩（例えば、リン酸アンモニウム、トリオクチル、トリブチル又はトリス−ブトキシエチルホスフェートエステル）から選択され得る。他の難燃剤としては、テトラアルキル鉛化合物（例えば、テトラエチル鉛）、ペンタカルボニル鉄、メチルシクロペンタジエニルマンガントリカルボニル、メラミン及び誘導体（例えば、メラミン塩）、グアニジン、ジシアンジアミド、スルファミン酸アンモニウム、アルミナ三水和物、及び水酸化マグネシウムとアルミナ三水和物を挙げることができる。

難燃剤の量は、選択される難燃剤、及び溶媒が存在するかどうかといった因子に応じて異なる。しかしながら、組成物中の難燃剤の量は、組成物の全成分の０重量％超〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｋ）は、表面改質剤である。好適な表面改質剤は、（ｋ１）接着促進剤及び（ｋ２）離型剤により、例示される。成分（ｋ１）に好適な接着促進剤は、遷移金属キレート、ハイドロカーボンオキシシラン、例えば、アルコキシシラン、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせ、アミノ官能性シラン、又はこれらの組み合わせを含み得る。接着促進剤は、当該技術分野において既知であり、式Ｒ^１９ _ｒＲ^２０ _ｓＳｉ（ＯＲ^２１）_{４−（ｒ＋ｓ）}を有するシランを含み得、式中、各Ｒ^１９は独立して、少なくとも３個の炭素原子を有する一価有機基であり、Ｒ^２０は、接着促進基［例えば、アミノ、エポキシ、メルカプト、又はアクリレート基］を有するＳｉＣ結合置換基を少なくとも１個含有し、下付き文字ｒは０〜２の範囲の値を有し、下付き文字ｓは１又は２のいずれかであり、和（ｒ＋ｓ）は３以下である。あるいは、接着促進剤は、上記シランの部分縮合体を含み得る。あるいは、接着促進剤は、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせを含み得る。

あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性化合物を含み得る。あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性アルコキシシランを含み得る。例えば、官能性アルコキシシランは、式Ｒ^２２ _ｔＳｉ（ＯＲ^２３）_{（４−ｔ）}を有することができ、式中、下付き文字ｔは１、２又は３であり、あるいは、下付き文字ｔは１である。各Ｒ^２２は、独立して一価の有機基であるが、但し、少なくとも１つのＲ^２２が不飽和有機基又はエポキシ官能性有機基であることを条件とする。Ｒ^２２のエポキシ官能性有機基は、３−グリシドキシプロピル及び（エポキシシクロヘキシル）エチルにより例示される。Ｒ^２２の不飽和有機基は、３−メタクリロイルオキシプロピル、３−アクリロイルオキシプロピル、並びに、ビニル、アリル、ヘキセニル、ウンデシレノイル（undecylenyl）などの不飽和一価の炭化水素基により例示される。各Ｒ^２３は、独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。）Ｒ^２３は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ及びＢｕにより例示される。

好適なエポキシ官能性アルコキシシランの例としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジメトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。好適な不飽和アルコキシシランの例としては、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、ウンデシレノイル（undecylenyl）トリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、接着促進剤は、上記のようなヒドロキシで末端処理したポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの反応生成物、又は、ヒドロキシで末端処理したポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの物理的ブレンドなどのエポキシ官能性シロキサンを含み得る。接着促進剤は、エポキシ官能性アルコキシシランとエポキシ官能性シロキサンの組み合わせを含み得る。例えば、接着促進剤は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと、ヒドロキシで末端処理したメチルビニルシロキサンと３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物と、の混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシで末端処理したメチルビニルシロキサンの混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシで末端処理したメチルビニル／ジメチルシロキサンコポリマーの混合物により、例示される。

あるいは、接着促進剤は、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２及びこれらの組み合わせによって例示されるアミノ官能性アルコキシシランなどのアミノ官能性シランを含んでもよい。

あるいは、接着促進剤は、遷移金属キレートを含み得る。好適な遷移金属キレートとしては、チタン酸塩、アセチルアセトナトジルコニウムなどのジルコン酸塩、アセチルアセトナトアルミニウムなどのアルミニウムキレート、及びこれらの組み合わせが挙げられる。あるいは、接着促進剤は、グリコシドキシプロピルトリメトキシシランとアルミニウムキレート又はジルコニウムキレートの組み合わせといった、遷移金属キレートとアルコキシシランの組み合わせを含み得る。

成分（ｋ２）は、離型剤である。好適な離型剤は、フッ化化合物（例えば、フルオロ官能性シリコーン又はフルオロ官能性有機化合物）により、例示される。

あるいは、成分（Ｋ）にの表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の外観を変化させるために使用することができる。例えば、表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の光沢を増加させるために使用することができる。このような表面改質剤は、アルキル及びアリル基を有するポリジオルガノシロキサンを含み得る。例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）１６．０Ｌ（５５０流体）は、０．０００１２５ｍ^２／ｓ（１２５ｃＳｔ）の粘度を有するトリメチルシロキシで末端処理したポリ（ジメチル／メチルフェニル）シロキサンであり、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。

あるいは、成分（Ｋ）は、亜麻仁油、桐油、大豆油、ヒマシ油、魚油、麻実油、綿実油、オイチシカ油又は菜種油といった、植物又は動物資源から得られる天然油であり得る。

成分（Ｋ）の正確な量は、成分（Ｋ）として選択される表面改質剤のタイプ、並びに、組成物及びその反応生成物の最終用途といった、様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｋ）は、存在する場合、組成物の重量に基づいて０．０１〜５０重量部、あるいは０．０１〜１０重量部、あるいは０．０１〜５重量部の範囲の量で組成物に添加され得る。成分（Ｋ）は、単一種の接着促進剤であってもよい。あるいは、成分（Ｋ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２種以上の異なる表面改質剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

鎖延長剤は、二官能性シラン及び二官能性シロキサンを含んでよく、これらは、架橋が生じる前にポリオルガノシロキサン鎖の長さを延長する。鎖延長剤は、硬化生成物の引張弾性率を減少させるために使用することができる。鎖延長剤は、組成物の他の成分［例えば、存在する場合には成分（Ｂ）及び／又は成分（Ｃ）］中の脂肪族不飽和基及び／又はケイ素結合水素原子との反応において競合する。比較的低い重合度（例えば、３〜５０の範囲のＤＰ）を有するジメチル水素シロキシで末端処理したポリジメチルシロキサンは、成分（Ｌ）として使用され得る。成分（Ｌ）は、単一種の鎖延長剤であってもよい。あるいは、成分（Ｌ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２種以上の異なる鎖延長剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

成分（Ｍ）は、Ｍ単位、すなわち、式Ｒ^２４ _３ＳｉＯ_１／２を含む末端封鎖剤であり、式中、各Ｒ^２４は独立して、脂肪族不飽和を含まない一価炭化水素基のような、一価非官能性有機基を表す。成分（Ｍ）は、トリオルガノシリル基［例えば、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ−］により一方の末端において末端封鎖され、ケイ素結合水素原子及び／又は脂肪族不飽和有機基によりもう一方の末端において末端封鎖されたポリオルガノシロキサンを含み得る。成分（Ｍ）は、ポリジオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン）であり得る。ケイ素結合水素末端とトリオルガノシリル末端基の両方を有するポリオルガノシロキサンは、末端基の合計の５０％超、あるいは７５％超をケイ素結合水素原子として有し得る。ポリジメチルシロキサン中のトリオルガノシリル基の量は、組成物を硬化させることにより調製される硬化生成物の弾性率を制御するために使用することができる。理論に束縛されるものではないが、トリオルガノシリル末端基の濃度が高いほど、硬化生成物の弾性率が低くなり得ると考えられている。成分（Ｍ）は、単一種の末端封鎖剤であってもよい。あるいは、成分（Ｍ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２種以上の異なる末端封鎖剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

成分（Ｎ）は融剤である。組成物は、組成物中の全成分の０重量％〜２重量％の融剤を含み得る。カルボン酸及びアミンなどの化学活性官能基を含有する分子を融剤として用いることができる。このような融剤は、コハク酸、アビエチン酸、オレイン酸、及びアジピン酸などの脂肪酸；安息香酸などの芳香族酸；トリエタノールアミン、アミンの塩酸塩、及びアミンの臭化水素酸塩などの脂肪族アミン及びその誘導体を含み得る。融剤は当該技術分野において既知であり、市販されている。

成分（Ｏ）は、老化防止添加剤である。老化防止添加剤は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、熱安定剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。好適な酸化防止剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、及び、フェノール系酸化防止剤と安定剤の組み合わせが挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、完全立体障害フェノール及び部分立体障害フェノール、並びに、立体障害アミン［例えば、テトラメチル−ピペリジン誘導体］が挙げられる。適切なフェノール系酸化防止剤としては、ビタミンＥ及びＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（米国）からのＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０が挙げられる。ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）を含む。紫外線吸収剤の例としては、分枝状及び直鎖の、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）５７１）が挙げられる。紫外線安定剤の例としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピぺリジル／セバケート、及びこれらの組み合わせ（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）２７２）が挙げられる。これら及び他のＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）添加剤［例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７６５］は、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。他の紫外線及び光安定剤も市販されており、ＣｈｅｍｔｕｒａからのＬｏｗＬｉｔｅ、ＰｏｌｙＯｎｅからのＯｎＣａｐ、Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｄｅｌａｗａｒｅ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのＬｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒ ２１０により例示される。オリゴマー（高分子量）安定剤は、代替的に、例えば、組成物又はその硬化生成物から安定剤が移動する可能性を最小化するために、使用することができる。オリゴマーの酸化防止剤安定剤（特に障害アミン光安定剤（ＨＡＬＳ））は、Ｃｉｂａ ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）６２２であり、これは、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールと共重合したブタン二酸のジメチルエステルである。熱安定剤は、酸化鉄及びカーボンブラック、カルボン酸鉄、セリウム水和物、ジルコン酸バリウム、オクタン酸セリウム及びオクタン酸ジルコニウム、並びにポルフィリンを含み得る。

成分（Ｏ）の量は、選択される特定の老化防止添加剤及び所望される老化防止効果といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｏ）の量は、組成物全成分の重量に基づいて０〜５重量％、あるいは０．１〜４重量％、あるいは０．５〜３重量％の範囲であり得る。成分（Ｏ）は、単一種の老化防止添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｏ）は、２種以上の異なる老化防止添加剤であってもよい。

成分（Ｐ）は、顔料である。議論を進めるため、用語「顔料」は、本明細書に記載の組成物の反応生成物に色を付与するのに使用される任意の成分を包含するものとする。顔料の量は、選択される顔料のタイプ及び生成物の所望される色合いといった様々な因子に応じて異なる。例えば、組成物は、組成物中の全成分の量に基づいて、０〜２０重量％、あるいは０．００１〜５重量％の顔料を含み得る。

好適な顔料の例としては、インディゴ、二酸化チタンＳｔａｎ−Ｔｏｎｅ ５０ＳＰ０１ Ｇｒｅｅｎ（ＰｏｌｙＯｎｅから市販されている）及びカーボンブラックが挙げられる。カーボンブラックの代表的な非限定例としては、Ｓｈａｗｉｎｉｇａｎアセチレンブラック（Ｃｈｅｖｒｏｎ Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ ＬＰから市販されている）、ＳＵＰＥＲＪＥＴ（登録商標）カーボンブラック（ＬＢ−１０１１）（Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（Ｆａｉｒｖｉｅｗ Ｈｅｉｇｈｔｓ，ＩＬ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、ＳＲ ５１１（Ｓｉｄ Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ Ｃａｒｂｏｎ Ｃｏ，（Ａｋｒｏｎ，ＯＨ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、並びに、Ｎ３３０、Ｎ５５０、Ｎ７６２、Ｎ９９０（Ｄｅｇｕｓｓａ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｃａｒｂｏｎｓ（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ，Ｕ．Ｓ．Ａ．））が挙げられる。

成分（Ｑ）は酸受容体である。好適な酸受容体としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びこれらの組み合わせが挙げられる。組成物は、組成物の０重量％〜２重量％の成分（Ｑ）を含み得る。

組成物は、場合により、組成物のレオロジーを改質するために、組成物の重量に基づいて最大で５重量％、あるいは１〜２重量％の成分（Ｒ）レオロジー添加剤を更に含み得る。レオロジー添加剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例としては、ポリアミド、Ｅｖｏｎｋから市販されているＰｏｌｙｖｅｓｔ、Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されているＤｉｓｐａｒｌｏｎ、Ｄｕ Ｐｏｎｔから市販されているＫｅｖｌａｒ Ｆｉｂｒｅ Ｐｕｌｐ、Ｎａｎｏｃｏｒから市販されているＲｈｅｏｓｐａｎ、Ｌｕｂｒｉｚｏｌから市販されているＩｒｃｏｇｅｌが挙げられる。他の好適なレオロジー添加剤としては、ポリアミド蝋、硬化ヒマシ油誘導体、及び金属石鹸（例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム及びステアリン酸バリウム）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｒ）は、２５℃にて固体（蝋）である微結晶性ワックスを含み得る。融点は、所望される温度の適用範囲の下端にて蝋が融点を有するように、選択することができる。理論に束縛されるものではないが、成分（Ｒ）は、組成物の流れ特性を改善する加工助剤として作用する。理論に束縛されるものではないが、蝋の組み込みは、充填剤の組み込み、（組成物の製造中の）混練及び脱気、及び混合（多部構成組成物の複数の構成部分の適用中の静的又は動的混合）を促進し得ると考えられる。蝋は、溶融すると加工助剤として働き、混練中の組成物において充填剤の組み込み、混練プロセスそれ自体、並びに、使用される場合には脱気工程を容易にすると考えられる。蝋は、１００℃以下の溶融温度では、単純な静的ミキサーでも、適用前の多部構成組成物の複数の構成部分の混合を促進し得る。

成分（Ｒ）としての使用に好適な蝋は、無極性炭化水素であり得る。蝋は、分枝状構造、環状構造、又はこれらの組み合わせを有し得る。例えば、石油微結晶性ワックスは、Ｓｔｒａｈｌ ＆ Ｐｉｔｓｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｗｅｓｔ Ｂａｂｙｌｏｎ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から入手可能であり、例としては、ＳＰ ９６（６２℃〜６９℃の範囲の融点）、ＳＰ １８（７３℃〜８０℃の範囲の融点）、ＳＰ １９（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ２６（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ６０（７９℃〜８５℃の範囲の融点）、ＳＰ ６１７（８８℃〜９３℃の範囲の融点）、ＳＰ ８９（９０℃〜９５℃の範囲の融点）、及びＳＰ ６２４（９０℃〜９５℃の範囲の融点）が挙げられる。他の石油微結晶性ワックスとしては、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｐｅｔｒｏｌｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）によってＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）の商標で販売されているワックスが挙げられる。これらのワックスとしては、飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７９℃〜８７℃の範囲の融点を有する１８０−Ｗ；飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７６℃〜８３℃の範囲の融点を有するＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−４４５、；並びに飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７３℃〜８０℃の範囲の融点を有するＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−８３５が挙げられる。

成分（Ｒ）の量は、選択される特定のレオロジー添加剤及び組成物の他の成分の選択といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｒ）の量は、組成物の全成分の０重量部〜２０重量部、あるいは１重量部〜１５重量部、あるいは１重量部〜５重量部の範囲であり得る。成分（Ｒ）は、単一種のレオロジー添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｒ）は、２種以上の異なるレオロジー添加剤を含んでもよい。

ビヒクルを組成物に使用してもよい。ビヒクルは、組成物の流動及びシリコーン樹脂のような特定の成分の導入を容易にする場合がある。本明細書で使用されるビヒクルは、組成物の成分の流動化を補佐するがこれらの成分のいずれとも本質的に反応しないものである。ビヒクルは、組成物中の成分の溶解性及び揮発性に基づいて選択されてもよい。「溶解性」は、ビヒクルが組成物の成分を溶解及び／又は分散させるのに十分であることを指す。「揮発性」は、ビヒクルの蒸気圧を指す。ビヒクルの揮発性が高すぎる（高すぎる蒸気圧を有する）場合、ヒドロシリル化反応中に組成物中に気泡が生じる場合があり、この気泡が亀裂を引き起こす、又は他の方法により反応組成物の特性を弱める、又は負の影響を与えるおそれがある。しかしながら、ビヒクルが十分に揮発性ではない（蒸気圧が低すぎる）場合、ビヒクルは、組成物の反応生成物中で可塑剤として残り得る。

好適なビヒクルとしては、好適な蒸気圧を有するポリオルガノシロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン及び他の低分子量ポリオルガノシロキサン、例えば、５Ｅ−７〜１．５Ｅ−６ｍ^２／ｓ（０．５〜１．５センチストークス（ｃＳｔ））のＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）６．０Ｌ（２００ Ｆｌｕｉｄｓ）及びＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）ＯＳ ＦＬＵＩＤＳ（これらは、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている）が挙げられる。

あるいは、ビヒクルは有機溶媒を含んでもよい。有機溶媒は、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、又はｎ−プロパノール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、又はメチルイソブチルケトン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、又はキシレン）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘプタン、ヘキサン、又はオクタン）、グリコールエーテル（例えば、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、又はエチレングリコールｎ−ブチルエーテル）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロエタン、又は塩化メチレン）、クロロホルム、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ホワイトスピリット、ミネラルスピリット、ナフサ、ｎ−メチルピロリドン、又はこれらの組み合わせであり得る。

ビヒクルの量は、選択されるビヒクルの種類並びに組成物のために選択される他の成分の量及び種類といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、ビヒクルの量は、組成物中の全成分の１重量％〜９９重量％、あるいは２重量％〜５０重量％の範囲であり得る。成分（Ｓ）は、例えば、混合及び送達を補助するために、組成物の調製中に添加することができる。成分（Ｓ）の全て又は一部は、組成物を調製した後に任意に除去してもよい。

成分（Ｔ）は界面活性剤である。好適な界面活性剤としては、シリコーンポリエーテル、エチレンオキシドポリマー、プロピレンオキシドポリマー、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのコポリマー、その他の非イオン性界面活性剤、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。組成物は、組成物中の全成分の０重量％〜０．０５重量％の界面活性剤を含み得る。

成分（Ｕ）は、腐食防止剤である。好適な腐食防止剤の例としては、ベンゾトリアゾール、メルカプタベンゾトリアゾール（mercaptabenzotriazole）及び市販の腐食防止剤［例えば、Ｒ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ（Ｎｏｒｗａｌｋ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からの２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール誘導体（ＣＵＶＡＮ（登録商標）８２６）及びアルキルチアジアゾール（ＣＵＶＡＮ（登録商標）４８４）が挙げられる。存在する場合には、成分（Ｕ）の量は、組成物の０．０５重量％〜０．５重量％の範囲であり得る。

本明細書に記載の特定の成分は１つを超える機能を有する場合があるため、上述の組成物の成分を選択する際、成分の種類に重複がある場合がある。例えば、特定のアルコキシシランは、充填剤処理剤及び接着促進剤として有用であり得、脂肪酸エステルなどの特定の可塑剤も、充填剤処理剤として有用であり得る。特定の粒子は、充填剤として、及び顔料として、更には難燃剤として有用であり得る［例えば、カーボンブラック］。組成物に追加成分を添加する場合、追加成分は互いに異なる。

組成物は、周囲温度又は高温での混合などの任意の便利な手段により全ての成分を合わせることを含む方法により、製造することができる。成分（Ｉ）は、存在する場合、例えば、組成物が高温にて調製される及び／又は組成物が単一部構成組成物として調製される際といったように、成分（Ａ）の前に添加され得る。

成分（Ｇ）が存在する場合、組成物は任意選択で、微粒子成分（例えば、充填剤及び／又はスペーサー、但し、存在するならば）を成分（Ｇ）で表面処理し、その後、その生成物を組成物の他の成分と混合することにより調製され得る。

あるいは、例えば、成分（Ｉ）が存在しないとき、又は組成物を使用前に長期間保存するとき、組成物は、多部構成組成物として調製され得る。多部構成組成物中、成分（Ａ）は、ケイ素結合水素原子を有する任意の成分［例えば、成分（Ｃ）］とは別の構成部に収容され、これらの構成部は組成物の使用直前に組み合わされる。例えば、二部構成組成物は、混合のような任意の便利な手段により（Ｂ）、（Ａ）、（Ｆ）を含む成分及び任意選択で１種以上の他の上記追加成分を組み合わせてベースを形成することによって、調製され得る。硬化剤は、混合のような任意の便利な手段により（Ｂ）、（Ｃ）を含む成分及び任意選択で１種以上の他の上記追加成分を組み合わせることによって、調製され得る。これらの成分は、周囲温度又は高温にて組み合わされ得る。二部構成組成物を用いるとき、ベースと硬化剤の量の重量比は、１：１〜１０：１の範囲とすることができる。組成物は、ヒドロシリル化反応を介して反応して反応生成物を形成する。反応生成物は、シラン、ガム、ゲル、ゴム又は樹脂のような様々な形態を有し得る。

これらの実施例は、本発明のいくつかの実施形態を例示することを目的とするものであり、請求項に記載の本発明の範囲を制限するものとして解釈すべきではない。実施例では、以下の成分を使用した。

脂肪族不飽和化合物は、スチレン（Ｂ１）、１−オクテン（Ｂ２）、又は１−ヘキセン（Ｂ３）であることができ、これらの全てはまた、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈから入手可能である。あるいは、脂肪族不飽和化合物は、２．６ｍｅｑのケイ素結合ビニル基を含有し、９４００のＭｗ及び０．０００２ｍ^２／ｓ（２００ｃＳｔ）の粘度を有するビニル末端ポリジメチルシロキサン（Ｂ４）であることができ、これは、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＤＭＳ−Ｖ２２として市販されている。ＳｉＨ官能性化合物は、１，８００〜２，１００の範囲のＭｗ及び２．６ｍｅｑのＳｉＨ含量を有するトリメチルシロキシで末端処理したポリ（メチル水素）シロキサン（「ＭＤ^ＨＭ」）（Ｃ１）であることができ、これもまた、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．からＨＭＳ−９９２として市販されている。あるいは、ＳｉＨ官能性化合物は、フェニルシラン（「Ｈ_３ＳｉＰｈ」）（Ｃ２）であることができ、これはＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈから市販されている。

対照触媒はＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２−０７０７ ＩＮＴであったが、これはＰｔとポリオルガノシロキサンの錯体である。ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２−０７０７ ＩＮＴは、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。

以下のモデル反応のうちの１つ以上を使用して、成分（Ａ）のために上記のように調製された反応生成物の触媒活性を試験することができる。ＰｈＳｉＨ_ｚ（Ｃ_６Ｈ_１３）_{（３−ｚ）}を含む反応生成物［Ｉ］を作製しようとして、成分（Ｂ３）及び（Ｃ２）を［ＰｈＳｉ］反応において使用した。（Ｈ_３Ｃ）_３Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_２）（Ｃ_６Ｈ_１３）−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３含む反応生成物［ＩＩ］を作製しようとして、成分（Ｂ３）及び（Ｃ１）を［ＨＭＴＳ］反応において使用した。

実施例１−金属−配位子錯体の形成
表１で上述したＲｕ前駆体のビス（２−メチルアリル）（１，５−シクロ−オクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）又はジクロロ（ベンゼン）ルテニウム（ＩＩ）二量体のいずれかを０．０２５モル（Ｍ）濃度でＴＨＦと混合して、あるいは、前駆体がＴＨＦに不溶性だった場合には好適な溶媒と混合して、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、トルエン及びヘキサンから選択される配位子を溶解させることにより、前駆体溶液を調製した。上記の表２に示されている各配位子の溶液もまた、配位子を０．０２５Ｍの濃度でＴＨＦと混合することによって調製した。上で調製した各配位子溶液をバイアル瓶あたり８５マイクロリットル（μＬ）にて２ミリリットル（ｍＬ）バイアル瓶の中に分注した。成分（Ａ）として評価するためのサンプルを調製するために、配位子を含有するバイアル瓶に上記金属前駆体溶液のうちの１つを加え、追加の８５マイクロリットル（μＬ）のＴＨＦを加え、バイアル内容物を２５℃の室温で３００ＲＰＭにて２時間にわたって混合した。金属：配位子の比が１：１又は１：２のいずれかになるように、十分な量の金属前駆体溶液を加えた。バイアル瓶内の得られた混合物を−１７℃の温度に冷却した。活性剤を加え、バイアル瓶を室温に戻るまで放置した。活性剤は、０．０５Ｍの濃度のＬｉＢＡｒＦのＴＨＦ溶液又はＮａＥｔ_３ＢＨのトルエン溶液９５μＬであった。バイアル瓶の内容物を２時間にわたって混合した。得られたバイアル瓶の内容物を、ヒドロシリル化の触媒への使用に関して評価した。

実施例２−［ＰｈＳｉ］反応
［ＰｈＳｉ］反応を実施するために、実施例１に従って調製されたバイアル瓶にＰｈＳｉＨ_３（Ｃ２）のドデカン及び１−ヘキセン（Ｂ３）溶液を添加した。バイアル瓶に添加したＰｈＳｉＨ_３（Ｃ２）の量は、（Ｈ又はＳｉＨとして）６．２５ＭのＰｈＳｉＨ_３（Ｃ２）のドデカン溶液１７０μＬ、又は、ドデカン３７．６μＬに１３２．４μＬのＰｈＳｉＨ_３（Ｃ２）のいずれかであった。１−ヘキセン（Ｂ３）の量は１４５μＬであった。各バイアル瓶を５０℃にて一晩（１６時間にわたって）混合した。各バイアル瓶で得られた内容物を、下記の方法に従ってＧＣで分析した。

実施例３−［ＨＭＴＳ］反応
［ＨＭＴＳ］反応を実施するため、１−ヘキセン（Ｂ３）及び１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン（Ｃ１）を、実施例１に従って調製したバイアル瓶に添加した。添加した１−ヘキセンの量は１４５μＬであった。ヘプタメチルトリシロキサン（Ｃ１）の量は、（Ｈ又はＳｉＨとして）３．４Ｍの濃度のヘプタメチルトリシロキサン（Ｃ１）のドデカン溶液を３１２μＬ、又は２２μＬのドデカンに２９０μＬのヘプタメチルトリシロキサン（Ｃ１）のいずれかであった。各バイアル瓶を５０℃にて一晩（１６時間にわたって）混合した。各バイアル瓶で得られた内容物を、下記の方法に従ってＧＣで分析した。

実施例４−ＧＣ測定
上記実施例において調製されたサンプルについてガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析を行った。水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）と共にＨｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ ７８９０Ａガスクロマトグラフで、ＧＣ分析を行った。Ｌｅａｐ Ｃｏｍｂｉ−Ｐａｌロボットを用いて、自動で注入を行った。このシステムは、表３に詳細に記されているように、設定された。

ＧＣ温度プログラムの詳細は表４の通りであり、オーブンは３００℃の一定温度である。

クロマトグラフィー分析を重力測定的に定量化するための内標準としてドデカンを使用した。内標準は、反応前に、ドデカン及びフェニルシランの溶液から５％（ｗ／ｗ）で導入した。検体の理論的な応答係数を計算してＣｈｅｍＳｔａｔｉｏｎに入力すると、校正表を自動的に計算し、内標準存在時の検体の濃度が定量的に計算された（式１）。
ＲＦ_{ａｎａｌｙｔｅ}＝（［ａｎａｌｙｔｅ］／Ａｒｅａ_{ａｎａｌｙｔｅ}）×（Ａｒｅａ_ＩＳ／［ＩＳ］）×ＲＦ_ＩＳ（１）
式１の用語は次のように定義される：ＲＦ_{ａｎａｌｙｔｅ}＝検体の応答係数、［ａｎａｌｙｔｅ］＝検体の濃度、Ａｒｅａ_{ａｎａｌｙｔｅ}＝検体のピーク面積、Ａｒｅａ_ＩＳ＝内標準のピーク面積、［ＩＳ］＝内標準の温度、ＲＦ_ＩＳ＝内標準の応答係数。

実験誤差及び装置誤差を包含すると、この測定の相対標準偏差は、検体の濃度、及びそれに対応する収率に応じて０．３％〜１０％の範囲であった。結果を表５に示す。

表５において、Ｒｕ−１前駆体はビス（２−メチルアリル）（１，５−シクロ−オクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）であり、Ｒｕ−２前駆体はジクロロ（ベンゼン）ルテニウム（ＩＩ）二量体であった。

Claims (10)

1. （Ａ）
   （１）Ｒｕ前駆体及び配位子を含む成分を組み合わせ、これにより反応生成物を調製する工程、を含む方法であって、
   前記Ｒｕ前駆体は、一価炭化水素基を含むルテニウム金属化合物であり、ここで前記一価炭化水素基は、アルキル、アルケニル又は炭素環であり、
   前記配位子は、一般式（ｉ）を有し、
   一般式（ｉ）は
   

   

   であり、式中、下付き文字ｘはＱ^１の原子価に応じて０〜１の整数であり、Ｑ^１は、窒素であり、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６はそれぞれ独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、ニトロ、スルホニル及び／又はチオールから選択され、各Ａ^１は独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、イミノ、ニトロ、オキソ、スルホニル及び／又はチオールから選択され［但し、Ａ^６がＭｅである場合にはＡ^１はフェニルチオメチルエーテルではない］、但し、Ａ^２とＡ^３が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^３とＡ^４が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^４とＡ^５が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^５とＡ^６が一緒に結合して環構造を形成し得ることを条件とし、このような環構造は、一般式（ｉ）中のピリジン環に縮合され、
   （２）イオン活性剤を前記反応生成物と組み合わせる工程
   を含む方法により調製された生成物と、
   （Ｂ）分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、
   （ｃ）ポリ有機水素シロキサンと、を含む、組成物。
2. 前記配位子が、
   

   

   のうちの１つである、請求項１に記載の組成物。
3. （Ａ）
   （１）Ｒｕ前駆体及び配位子を含む成分を組み合わせ、これにより反応生成物を調製する工程、を含む方法であって、
   前記Ｒｕ前駆体は、一価炭化水素基を含むルテニウム金属化合物であり、ここで前記一価炭化水素基は、アルキル、アルケニル又は炭素環であり、
   前記配位子は、一般式（ｉ）を有し、
   一般式（ｉ）は
   

   

   であり、式中、下付き文字ｘはＱ^１の原子価に応じて０〜１の整数であり、Ｑ^１は、窒素であり、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６はそれぞれ独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、ニトロ、スルホニル及び／又はチオールから選択され、各Ａ^１は独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、イミノ、ニトロ、オキソ、スルホニル及び／又はチオールから選択され［但し、Ａ^６がＭｅである場合にはＡ^１はフェニルチオメチルエーテルではない］、但し、Ａ^２とＡ^３が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^３とＡ^４が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^４とＡ^５が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^５とＡ^６が一緒に結合して環構造を形成し得ることを条件とし、
   （２）前記反応生成物を還元剤と組み合わせる工程
   を含む方法により調製された生成物と、
   （Ｂ）分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、
   （ｃ）ポリ有機水素シロキサンと、を含む、組成物。
4. 前記配位子が
   

   

   のうちの１つである、請求項３に記載の組成物。
5. （Ａ）
   （１）Ｒｕ前駆体及び配位子を含む成分を組み合わせ、これにより反応生成物を調製する工程、を含む方法であって、
   前記Ｒｕ前駆体は、一価炭化水素基を含むルテニウム金属化合物であり、ここで前記一価炭化水素基は、アルキル、アルケニル又は炭素環であり、
   前記配位子が一般式（ｉ）を有し、
   一般式（ｉ）は
   

   

   であり、式中、下付き文字ｘはＱ^１の原子価に応じて０〜１の整数であり、Ｑ^１は、窒素であり、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６はそれぞれ独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、ニトロ、スルホニル及び／又はチオールから選択され、各Ａ^１は独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、イミノ、ニトロ、オキソ、スルホニル及び／又はチオールから選択され［但し、Ａ^６がＭｅである場合にはＡ^１はフェニルチオメチルエーテルではない］、但し、Ａ^２とＡ^３が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^３とＡ^４が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^４とＡ^５が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^５とＡ^６が一緒に結合して環構造を形成し得ることを条件とし、
   （２）イオン活性剤を前記反応生成物と組み合わせる工程
   を含む方法により調製された生成物と、
   （Ｂ）分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、
   （Ｃ）式Ｒ^４ _ｅＳｉＨ_ｆ［式中、下付き文字ｅは０、１、２又は３であり、下付き文字ｆは１、２、３又は４であり、但し、和（ｅ＋ｆ）が４であることを条件とし、各Ｒ^４は独立して、ハロゲン原子、一価炭化水素基又は一価ハロゲン化炭化水素基である］のシランと、を含む、組成物。
6. 前記配位子が
   

   

   

   のうちの１つである、請求項５に記載の組成物。
7. （Ａ）
   （１）Ｒｕ前駆体及び配位子を含む成分を組み合わせ、これにより反応生成物を調製する工程、を含む方法であって、
   前記Ｒｕ前駆体は、一価炭化水素基を含むルテニウム金属化合物であり、ここで前記一価炭化水素基は、アルキル、アルケニル又は炭素環であり、
   前記配位子は一般式（ｉ）を有し、
   一般式（ｉ）は
   

   

   であり、式中、下付き文字ｘはＱ^１の原子価に応じて０〜１の整数であり、Ｑ^１は、窒素であり、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６はそれぞれ独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、ニトロ、スルホニル及び／又はチオールから選択され、各Ａ^１は独立して、一価炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキシ基、水素、ハロゲン原子、アミン、ヒドロキシル、イミノ、ニトロ、オキソ、スルホニル及び／又はチオールから選択され［但し、Ａ^６がＭｅである場合にはＡ^１はフェニルチオメチルエーテルではない］、但し、Ａ^２とＡ^３が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^３とＡ^４が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^４とＡ^５が一緒に結合して環構造を形成し得ること、Ａ^５とＡ^６が一緒に結合して環構造を形成し得ることを条件とし、
   （２）前記反応生成物を還元剤と組み合わせる工程
   を含む方法により調製された生成物と、
   （Ｂ）分子あたり平均で１個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、
   （Ｃ）式Ｒ^４ _ｅＳｉＨ_ｆ［式中、下付き文字ｅは０、１、２又は３であり、下付き文字ｆは１、２、３又は４であり、但し、和（ｅ＋ｆ）が４であることを条件とし、各Ｒ^４は独立して、ハロゲン原子、一価炭化水素基又は一価ハロゲン化炭化水素基である］のシランと、を含む、組成物。
8. 前記配位子が、
   

   

   のうちの１つである、請求項７に記載の組成物。
9. 前記反応生成物が、Ｒｕ−配位子錯体、及び、前記Ｒｕ前駆体と前記配位子の反応の副生成物又はその副反応の副生成物を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。
10. 前記組成物が、成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）とは異なり、（Ｄ）スペーサー；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｉ）安定剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）融剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）顔料；（Ｑ）酸受容体；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）ビヒクル；（Ｔ）界面活性剤；（Ｕ）腐食防止剤；並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、１種以上の追加成分を更に含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。