JP6110184B2 - Biaxially stretched film, polarizing plate, image display device, and method for producing biaxially stretched film - Google Patents
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Description
本発明は、熱可塑性樹脂から構成される原フィルムを二軸延伸して得た二軸延伸フィルムと、当該フィルムを備える偏光板および画像表示装置とに関する。また、本発明は、当該二軸延伸フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a biaxially stretched film obtained by biaxially stretching an original film composed of a thermoplastic resin, and a polarizing plate and an image display device including the film. Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the said biaxially stretched film.
非晶性のビニル重合体、例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)に代表される(メタ)アクリル重合体、およびポリスチレンに代表される芳香族ビニル重合体は、重合性が高く製造が比較的容易であるとともに光学的透明性に優れることから、光学用途に幅広く使用されている。光学用途には、レンズなどのバルク体としての使用の他、当該重合体を含む熱可塑性樹脂から構成される樹脂フィルム(光学フィルム)としての使用も一般的である。光学フィルムは、近年、液晶表示装置(LCD)および有機電界発光表示装置(OLED)をはじめとする画像表示装置への使用がますます拡大している。 Amorphous vinyl polymers such as (meth) acrylic polymers represented by polymethyl methacrylate (PMMA) and aromatic vinyl polymers represented by polystyrene are highly polymerizable and relatively easy to produce. In addition to being excellent in optical transparency, it is widely used in optical applications. For optical applications, in addition to use as a bulk material such as a lens, use as a resin film (optical film) composed of a thermoplastic resin containing the polymer is also common. In recent years, optical films have been increasingly used in image display devices such as liquid crystal display devices (LCD) and organic electroluminescence display devices (OLED).
画像表示装置の設計上、光学フィルムは、電源部、発光部、回路基板などの発熱体に近接した配置を避けることができない。このため、光学フィルムには耐熱性が求められる。しかし、耐熱性の指標となるガラス転移温度(Tg)について、PMMAおよびポリスチレンのTgは100℃に満たず、そのままでは画像表示装置への使用に十分に耐えうる光学フィルムが得られない。そこで、重合体の主鎖に環構造を導入したり、重合体としたときに主鎖に位置する環構造を有する単量体と共重合したりすることで、光学フィルムの耐熱性の向上が図られてきた。一方で、主鎖の環構造は、重合体の機械的特性を硬く脆い方向に変化させることから、このような重合体を含む光学フィルムの可撓性が低下し、強度などの機械的特性およびハンドリング性が低下するなどの点が問題となる。この問題の対処方法に、二軸延伸の実施がある。樹脂フィルムを二軸延伸して二軸延伸フィルムとすることで、当該フィルムの可撓性が増し、機械的特性が向上する(例えば、特許文献1)。 Due to the design of the image display device, the optical film cannot be disposed close to a heating element such as a power supply unit, a light emitting unit, or a circuit board. For this reason, the optical film is required to have heat resistance. However, regarding the glass transition temperature (Tg), which is an index of heat resistance, the Tg of PMMA and polystyrene is less than 100 ° C., and an optical film that can sufficiently withstand use in an image display device cannot be obtained as it is. Therefore, by introducing a ring structure into the main chain of the polymer or copolymerizing with a monomer having a ring structure located in the main chain when the polymer is made, the heat resistance of the optical film can be improved. It has been planned. On the other hand, the ring structure of the main chain changes the mechanical properties of the polymer in a hard and brittle direction, so that the flexibility of the optical film containing such a polymer is reduced, and mechanical properties such as strength and The problem is that handling is reduced. One way to deal with this problem is to perform biaxial stretching. By biaxially stretching the resin film to obtain a biaxially stretched film, the flexibility of the film is increased and mechanical properties are improved (for example, Patent Document 1).
そして近年、携帯性およびデザイン性が重視されるスマートフォンおよびタブレット端末の急速な普及に伴い、光学フィルムには、光学フィルムとして必要な光学特性の確保はもちろんのこと、耐熱性、機械的特性の向上のみならず、同時に薄膜化を達成することが強く求められている。 In recent years, with the rapid spread of smartphones and tablet devices, where portability and design are important, optical films have improved heat resistance and mechanical properties, as well as ensuring the optical properties necessary for optical films. In addition, there is a strong demand to achieve a thin film at the same time.
本発明は、光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性が確保されるとともに、薄膜化が達成された二軸延伸フィルムの提供を目的とする。 An object of the present invention is to provide a biaxially stretched film in which optical properties, heat resistance, and mechanical properties as an optical film are ensured and a thin film is achieved.
本発明の二軸延伸フィルムは、熱可塑性樹脂から構成される二軸延伸フィルムであって、前記熱可塑性樹脂が、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体を含み、前記熱可塑性樹脂について、以下の式(A)に示される、動的粘弾性スペクトルのゴム状平坦領域における絡み合い点間分子量Me0が10000以上、かつ以下の式(B)に示される絡み合い数Nが10以上500以下となる温度範囲が25℃以上であり、厚さが35μm以下のフィルムである。
Me0=3cRT0/E’0 ・・・(A)
N=(MwE’)/(3cRT)・・・(B)
[式(A),(B)において、cは、25℃における前記熱可塑性樹脂の密度(g・m-3)、Rは、気体定数(8.31J・K-1・mol-1)、Tは、前記熱可塑性樹脂の温度(K)、E’は、前記温度Tにおける前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)、T0は、前記熱可塑性樹脂における前記ゴム状平坦領域の中間点の温度(K)、E’0は、前記温度T0における前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)、Mwは、前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量、である]
The biaxially stretched film of the present invention is a biaxially stretched film composed of a thermoplastic resin, wherein the thermoplastic resin includes an amorphous vinyl polymer having a ring structure in the main chain, and the thermoplastic For the resin, the molecular weight Me 0 between entanglements in the rubber-like flat region of the dynamic viscoelastic spectrum shown in the following formula (A) is 10,000 or more, and the entanglement number N shown in the following formula (B) is 10 or more. The temperature range of 500 or less is 25 ° C. or more, and the film has a thickness of 35 μm or less.
Me 0 = 3cRT 0 / E ′ 0 (A)
N = (MwE ′) / (3cRT) (B)
[In the formulas (A) and (B), c is the density (g · m −3 ) of the thermoplastic resin at 25 ° C., R is a gas constant (8.31 J · K −1 · mol −1 ), T is a temperature (K) of the thermoplastic resin, E ′ is a storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T, and T 0 is an intermediate point of the rubber-like flat region in the thermoplastic resin. The temperature (K), E ′ 0 is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T 0 , and Mw is the weight average molecular weight of the thermoplastic resin]
本発明の偏光板は、上記本発明の二軸延伸フィルムを備える。 The polarizing plate of the present invention includes the biaxially stretched film of the present invention.
本発明の画像表示装置は、上記本発明の二軸延伸フィルムを備える。 The image display device of the present invention includes the biaxially stretched film of the present invention.
本発明の二軸延伸フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂から構成される原フィルムを二軸延伸することによって、厚さ35μm以下の二軸延伸フィルムを形成する方法である。ここで、前記熱可塑性樹脂が、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体を含み、前記熱可塑性樹脂について、以下の式(A)に示される、動的粘弾性スペクトルのゴム状平坦領域における絡み合い点間分子量Me0が10000以上、かつ以下の式(B)に示される絡み合い数Nが10以上500以下となる温度範囲が25℃以上である。
Me0=3cRT0/E’0 ・・・(A)
N=(MwE’)/(3cRT)・・・(B)
[式(A),(B)において、cは、25℃における前記熱可塑性樹脂の密度(g・m-3)、Rは、気体定数(8.31J・K-1・mol-1)、Tは、前記熱可塑性樹脂の温度(K)、E’は、前記温度Tにおける前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)、T0は、前記熱可塑性樹脂における前記ゴム状平坦領域の中間点の温度(K)、E’0は、前記温度T0における前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)、Mwは、前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量、である]
The method for producing a biaxially stretched film of the present invention is a method for forming a biaxially stretched film having a thickness of 35 μm or less by biaxially stretching an original film composed of a thermoplastic resin. Here, the thermoplastic resin contains an amorphous vinyl polymer having a ring structure in the main chain, and the thermoplastic resin is represented by the following formula (A), and is a rubber-like material having a dynamic viscoelastic spectrum. The temperature range in which the molecular weight Me 0 between entanglement points in a flat region is 10,000 or more and the entanglement number N shown in the following formula (B) is 10 or more and 500 or less is 25 ° C. or more.
Me 0 = 3cRT 0 / E ′ 0 (A)
N = (MwE ′) / (3cRT) (B)
[In the formulas (A) and (B), c is the density (g · m −3 ) of the thermoplastic resin at 25 ° C., R is a gas constant (8.31 J · K −1 · mol −1 ), T is a temperature (K) of the thermoplastic resin, E ′ is a storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T, and T 0 is an intermediate point of the rubber-like flat region in the thermoplastic resin. The temperature (K), E ′ 0 is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T 0 , and Mw is the weight average molecular weight of the thermoplastic resin]
本発明によれば、光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性が確保されるとともに、薄膜化が達成された二軸延伸フィルムが得られる。 According to the present invention, it is possible to obtain a biaxially stretched film in which the optical properties, heat resistance and mechanical properties as an optical film are ensured and a thin film is achieved.
本明細書において、「熱可塑性樹脂(単に樹脂とも表記する)」とは「重合体」よりも広い概念である。熱可塑性樹脂は、1種または2種以上の重合体を含むことができ、必要に応じて、重合体以外の材料、例えば紫外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー、可塑剤などの添加剤を含んでいてもよい。熱可塑性樹脂が1種類の重合体のみを含む場合、両者は同一である。 In this specification, “thermoplastic resin (also simply referred to as resin)” is a broader concept than “polymer”. The thermoplastic resin can contain one kind or two or more kinds of polymers, and if necessary, contains materials other than the polymer, for example, additives such as ultraviolet absorbers, antioxidants, fillers, and plasticizers. You may go out. When the thermoplastic resin contains only one type of polymer, they are the same.
本発明の二軸延伸フィルムは、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体(C)を含む熱可塑性樹脂(D)から構成される。非晶性のビニル重合体は光学的透明性に優れる。また、重合体主鎖への環構造の導入によって、当該重合体のTgが向上する。このため、光学フィルムとしての光学的透明性および耐熱性が確保される。 The biaxially stretched film of this invention is comprised from the thermoplastic resin (D) containing the amorphous vinyl polymer (C) which has a ring structure in a principal chain. An amorphous vinyl polymer is excellent in optical transparency. Moreover, the Tg of the polymer is improved by introducing a ring structure into the polymer main chain. For this reason, the optical transparency and heat resistance as an optical film are ensured.
光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性を確保しながら従来になく薄膜化された二軸延伸フィルムを得るために、本発明者は、薄い原フィルムを作製して二軸延伸前の原フィルム自体を薄膜化したり、延伸倍率を高くすることで原フィルムを強く延伸して、延伸後のフィルムの厚さを薄くすることを検討した。しかし、単なる原フィルムの薄膜化では得られた延伸フィルムの強度を十分に確保できないし、延伸後のフィルムを位相差フィルムとする場合に必要な位相差が得られなくなる。一方、単なる延伸倍率の増大では、延伸時に原フィルムの破断、例えば、延伸の際に原フィルムの一部に孔が生じ、この孔が次第に拡張することによる破断、が発生して、二軸延伸フィルム自体の形成が困難となる。だが、原フィルムの延伸倍率の増大は、フィルムに含まれる重合体の配向の程度を強くし、延伸後のフィルムの強度を向上させる可能性がある。また、位相差フィルムとする場合にも、強い延伸によって必要な位相差を確保できる可能性がある。 In order to obtain a biaxially stretched film that is thinner than before while ensuring optical properties, heat resistance and mechanical properties as an optical film, the present inventor made a thin original film before biaxial stretching. The original film itself was thinned, or the original film was strongly stretched by increasing the stretch ratio, and the thickness of the stretched film was reduced. However, it is not possible to ensure sufficient strength of the obtained stretched film by simply reducing the thickness of the original film, and it is impossible to obtain the necessary retardation when the stretched film is a retardation film. On the other hand, when the stretching ratio is simply increased, the original film breaks during stretching, for example, a hole is formed in a part of the original film during stretching, and breakage occurs due to the gradual expansion of the hole, and biaxial stretching occurs. Formation of the film itself becomes difficult. However, an increase in the stretching ratio of the original film may increase the degree of orientation of the polymer contained in the film and improve the strength of the film after stretching. Moreover, also when setting it as a phase difference film, there exists a possibility that a required phase difference can be ensured by strong extending | stretching.
本発明の二軸延伸フィルムは、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体(C)を含み、式(A)に示されるMe0が10000以上、かつ式(B)に示されるNが10以上500以下となる温度範囲TMが25℃以上の熱可塑性樹脂(D)から構成される原フィルムを二軸延伸して得た二軸延伸フィルムである。これにより、二軸延伸を高延伸倍率で行うことが可能となり、原フィルムを薄くした場合にも強度の確保が可能となって、光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性が確保されるとともに、薄膜化が達成された二軸延伸フィルムとすることができる。なお、二軸延伸の前後でフィルムの組成は変化しないため、本発明の二軸延伸フィルムは、当該熱可塑性樹脂(D)から構成される。 The biaxially stretched film of the present invention includes an amorphous vinyl polymer (C) having a ring structure in the main chain, Me 0 represented by the formula (A) is 10,000 or more, and represented by the formula (B). It is a biaxially stretched film obtained by biaxially stretching an original film composed of a thermoplastic resin (D) having a temperature range T M in which N is 10 or more and 500 or less and 25 ° C. or more. As a result, biaxial stretching can be performed at a high draw ratio, and even when the original film is thinned, strength can be ensured, and optical properties, heat resistance and mechanical properties as an optical film are ensured. In addition, the biaxially stretched film can be made thin. In addition, since the composition of a film does not change before and after biaxial stretching, the biaxially stretched film of this invention is comprised from the said thermoplastic resin (D).
[熱可塑性樹脂(D)]
本発明の二軸延伸フィルムを構成する熱可塑性樹脂(D)は、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体(C)を含む。樹脂(D)では、以下の式(A)に示される、動的粘弾性スペクトルのゴム状平坦領域における絡み合い点間分子量Me0が10000以上、かつ以下の式(B)に示される絡み合い数Nが10以上500以下となる温度範囲TMが25℃以上である。
Me0=3cRT0/E’0 ・・・(A)
N=(MwE’)/(3cRT)・・・(B)
[Thermoplastic resin (D)]
The thermoplastic resin (D) constituting the biaxially stretched film of the present invention contains an amorphous vinyl polymer (C) having a ring structure in the main chain. In the resin (D), the molecular weight Me 0 between the entanglement points in the rubber-like flat region of the dynamic viscoelastic spectrum shown in the following formula (A) is 10,000 or more, and the entanglement number N shown in the following formula (B). Is a temperature range T M where the temperature is 10 or more and 500 or less.
Me 0 = 3cRT 0 / E ′ 0 (A)
N = (MwE ′) / (3cRT) (B)
式(A)において、cは、25℃における熱可塑性樹脂の密度(g・m-3)、Rは、気体定数(8.31J・K-1・mol-1)、T0は、熱可塑性樹脂における前記ゴム状平坦領域の中間点の温度(K)、E’0は、温度T0における熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)である。式(B)において、Mwは、熱可塑性樹脂の重量平均分子量、Tは、熱可塑性樹脂の温度(K)、E’は、温度Tにおける熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)である。 In the formula (A), c is the density (g · m −3 ) of the thermoplastic resin at 25 ° C., R is a gas constant (8.31 J · K −1 · mol −1 ), and T 0 is the thermoplasticity. The temperature (K) and E ′ 0 at the midpoint of the rubber-like flat region in the resin are the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T 0 . In the formula (B), Mw is the weight average molecular weight of the thermoplastic resin, T is the temperature (K) of the thermoplastic resin, and E ′ is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T.
高分子化合物(重合体)は、一つ一つの分子が長い鎖状となった化合物であり、いわゆる濃厚系に相当する樹脂組成物の状態において分子の動きが制限され、互いに絡み合った状態にある。温度が上昇すると絡み合いが次第に解消され、完全に解消されると流動状態(流動領域)となるが、絡み合いの解消が始まってから完全に解消されるまでの間に、通常、ゴム状平坦領域と呼ばれる状態をとる。ゴム状平坦領域は、高分子化合物の動的粘弾性スペクトルにおいて、貯蔵弾性率E’および損失弾性率E'’の変化が他の領域よりも小さい、理想的には、当該スペクトルにおいてE’およびE'’がほぼ平坦で変化しない区間として表される領域である。ゴム状領域において重合体の分子は、その主鎖同士が絡み合う点(絡み合い点)において「固定」されているが、隣接する絡み合い点間では主鎖同士が滑り合うことができると考えられる。この領域で、樹脂フィルムの延伸が可能である。 A high molecular compound (polymer) is a compound in which each molecule has a long chain shape, and the movement of the molecule is restricted in a state of a resin composition corresponding to a so-called dense system, and the molecules are intertwined with each other. . As the temperature rises, the entanglement gradually disappears, and when it is completely eliminated, it enters a fluidized state (flow region). Take a state called. The rubber-like flat region has a smaller change in storage elastic modulus E ′ and loss elastic modulus E ″ in the dynamic viscoelastic spectrum of the polymer compound than in other regions. Ideally, E ′ and E ″ is an area expressed as a section that is substantially flat and does not change. In the rubbery region, the polymer molecules are “fixed” at the point where the main chains are entangled (entanglement points), but it is considered that the main chains can slide between adjacent entanglement points. In this region, the resin film can be stretched.
式(A)は、上記ゴム状平坦領域の中間点の温度、より具体的には、ゴム状平坦領域における代表的な(平均的な)温度である、当該領域の開始温度TSと終了温度TEとの中間の温度T0(=(TS+TE)/2)、における絡み合い点間分子量Me0を定めている。式(A)のMe0が大きくなるほど、樹脂のゴム状平坦領域における絡み合い点の密度が低下し、薄膜化を実現する高倍率延伸が難しくなる。絡み合い点の密度が低いことは、樹脂が流動状態に近いことを意味する。このため、延伸時の加熱ムラによって原フィルムの一部が他の部分よりも高温になると、当該部分のみが流動状態により近づくことで強く延伸されやすくなり、例えば、フィルムの一部に孔が生じ、当該孔が拡張することによる破断が起きやすくなる。強く延伸された部分において分子鎖同士の摩擦によりさらに温度が上昇し、さらなる局所的な延伸につながることも、上記例示した破断の発生に関わっている可能性がある。フィルムの厚さが大きいと、このような温度の不均一による影響は弱められ、高倍率延伸を行った場合でもフィルムの破断につながりにくい。しかし薄膜化を目指す場合、当該影響は直接的かつ確実に高倍率延伸を阻害することになる。Me0が10000以上であることは、樹脂(D)が、薄膜化を目指した場合に高倍率延伸が難しい樹脂であることに対応している。なお、絡み合い点間分子量Me自体は、式Me=3cRT/E’とともに当業者に知られている(Me=cRT/G’と表記されることもある)。Meは、一般に、重合体の(樹脂の)分子量の影響を受けないとされている。 Formula (A), the temperature of the midpoint of the rubbery plateau region, more specifically, a typical (average) temperature in the rubbery plateau region, the starting temperature T S and the end temperature of the region The molecular weight Me 0 between the entanglement points at a temperature T 0 (= (T S + T E ) / 2) intermediate between T E is defined. As Me 0 in the formula (A) increases, the density of the entanglement points in the rubber-like flat region of the resin decreases, and it becomes difficult to stretch at a high magnification to realize a thin film. A low density of entanglement points means that the resin is close to a fluid state. For this reason, when part of the original film becomes hotter than other parts due to uneven heating during stretching, it becomes easy to stretch strongly because only that part is closer to the fluidized state, for example, holes are formed in part of the film. The breakage due to the expansion of the hole is likely to occur. In the strongly stretched portion, the temperature further increases due to friction between molecular chains, leading to further local stretching, which may be related to the occurrence of the above-described fracture. When the film thickness is large, the influence of such temperature non-uniformity is weakened, and even when the film is stretched at a high magnification, the film is hardly broken. However, when aiming at a thin film, the influence directly and surely inhibits high magnification stretching. A Me 0 of 10,000 or more corresponds to the fact that the resin (D) is a resin that is difficult to stretch at a high magnification when aiming at thinning. In addition, the molecular weight Me between the entanglement points is known to those skilled in the art together with the formula Me = 3cRT / E ′ (may be expressed as Me = cRT / G ′). Me is generally not affected by the molecular weight of the polymer (resin).
式(B)は、重合体の(樹脂の)重量平均分子量Mwを絡み合い点間分子量Meで除して得た、分子鎖における絡み合い点の数の平均(絡み合い数)Nを定めている。絡み合い数Nが10以上500以下であることが、原フィルムの高倍率延伸に適している。そして樹脂(D)では、絡み合い数Nが10以上500以下の温度範囲TMが25℃以上である。これは、ゴム状平坦領域の温度範囲がある程度以上であることを意味し、より具体的には、例えば延伸時の加熱に温度ムラなどがある場合に、たとえフィルムの厚さが薄い場合においても、フィルムを構成する樹脂が容易に流動状態となることなく延伸できることを意味する。これにより、薄膜化を目指す場合においても、Me0が10000以上の樹脂(D)から構成される原フィルムの高倍率延伸が可能となる。温度範囲TMは、好ましくは27℃以上である。温度範囲TMの上限は、特に限定されないが、通常100℃以下であり、好ましくは60℃以下である。 Formula (B) defines an average (number of entanglements) N of the number of entanglement points in the molecular chain obtained by dividing the polymer (resin) weight average molecular weight Mw by the molecular weight Me between the entanglement points. An entanglement number N of 10 or more and 500 or less is suitable for high-magnification stretching of the original film. In the resin (D), the temperature range T M in which the entanglement number N is 10 or more and 500 or less is 25 ° C. or more. This means that the temperature range of the rubber-like flat region is more than a certain level. More specifically, for example, when there is temperature unevenness in heating during stretching, even when the film is thin. It means that the resin constituting the film can be easily stretched without being in a fluid state. Thereby, even when aiming at thin film formation, it becomes possible to stretch the original film composed of the resin (D) having Me 0 of 10,000 or more at high magnification. The temperature range T M is preferably 27 ° C. or higher. The upper limit of the temperature range T M is not particularly limited, is usually 100 ° C. or less, preferably 60 ° C. or less.
樹脂(D)の動的粘弾性スペクトルおよび当該スペクトル上の貯蔵弾性率E’は、樹脂(D)により構成されるフィルムに対して、公知の動的粘弾性スペクトル評価方法を適用して求めることができる。 The dynamic viscoelastic spectrum of the resin (D) and the storage elastic modulus E ′ on the spectrum are obtained by applying a known dynamic viscoelastic spectrum evaluation method to a film composed of the resin (D). Can do.
樹脂(D)について、以下の式(C)に示される、上記ゴム状平坦領域における絡み合い数N0が9以上であることが好ましい。この場合、Me0が10000以上の樹脂(D)から構成される原フィルムの高倍率延伸をより確実に行うことができる。絡み合い数N0は10以上が好ましい。
N0=Mw/Me0 ・・・(C)
For the resin (D), the entanglement number N 0 in the rubber-like flat region shown in the following formula (C) is preferably 9 or more. In this case, high-stretching of the original film composed of the resin (D) having Me 0 of 10,000 or more can be more reliably performed. The entanglement number N 0 is preferably 10 or more.
N 0 = Mw / Me 0 (C)
樹脂(D)のMe0が10000以上である限り、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体(C)は限定されない。 As long as Me 0 of the resin (D) is 10,000 or more, the amorphous vinyl polymer (C) having a ring structure in the main chain is not limited.
重合体(C)は、例えば、主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体である。(メタ)アクリル重合体のTgは、PMMAを典型として、通常100℃に達しないが、主鎖の環構造によって、当該重合体のTgが向上し(例えば110℃以上)、当該重合体を含む樹脂(D)から構成される二軸延伸フィルムの耐熱性が向上する。また、(メタ)アクリル重合体は、光学的透明性が高いとともに、表面強度が高く、成形加工性に優れるなどの諸特性にも優れており、重合体(C)が(メタ)アクリル重合体である場合、光学用途に適した二軸延伸フィルムを得ることができる。なお、主鎖の環構造が重合体の分子鎖同士の絡み合いを立体的に阻害するため、環構造の種類および含有率にもよるが、110℃以上の高いTgを示す(メタ)アクリル重合体のMe0は一般に10000以上となる。 The polymer (C) is, for example, a (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain. The Tg of the (meth) acrylic polymer typically does not reach 100 ° C., typically PMMA, but the Tg of the polymer is improved by the ring structure of the main chain (eg, 110 ° C. or higher) and includes the polymer. The heat resistance of the biaxially stretched film composed of the resin (D) is improved. In addition, the (meth) acrylic polymer has high optical transparency, high surface strength, and excellent properties such as molding processability. The polymer (C) is a (meth) acrylic polymer. In this case, a biaxially stretched film suitable for optical applications can be obtained. In addition, since the ring structure of the main chain sterically inhibits the entanglement between the molecular chains of the polymer, the (meth) acrylic polymer exhibiting a high Tg of 110 ° C. or higher, depending on the type and content of the ring structure. The Me 0 is generally 10,000 or more.
(メタ)アクリル重合体は、(メタ)アクリル酸エステル単位を、全構成単位の50モル%以上、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上有する重合体である。(メタ)アクリル重合体は、(メタ)アクリル酸エステル単位の誘導体である環構造を含んでいてもよく、この場合、(メタ)アクリル酸エステル単位および環構造の合計が全構成単位の50モル%以上であれば、(メタ)アクリル重合体となる。 The (meth) acrylic polymer is a polymer having (meth) acrylic acid ester units in an amount of 50 mol% or more, preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more based on all structural units. The (meth) acrylic polymer may contain a ring structure that is a derivative of a (meth) acrylic acid ester unit. In this case, the total of the (meth) acrylic acid ester unit and the ring structure is 50 mol of all the structural units. If it is% or more, it becomes a (meth) acrylic polymer.
(メタ)アクリル酸エステル単位は、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル;の各単量体の重合体により形成される単位である。なかでも、高い透明性および耐熱性を有する二軸延伸フィルムが得られることから、主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体である重合体(C)は、メタクリル酸メチル(MMA)単位を構成単位として有することが好ましい。主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体である重合体(C)は、これらの(メタ)アクリル酸エステル単位を2種以上有していてもよい。 The (meth) acrylic acid ester unit is, for example, an acrylic acid ester such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate; methacrylic acid Formed of a polymer of monomers such as methyl, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, and the like. Unit. Among them, since a biaxially stretched film having high transparency and heat resistance can be obtained, the polymer (C) which is a (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain is a methyl methacrylate (MMA) unit. Are preferably included as structural units. The polymer (C) which is a (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain may have two or more of these (meth) acrylic acid ester units.
環構造は、例えば、エステル基、イミド基または酸無水物基を有する環構造である。 The ring structure is, for example, a ring structure having an ester group, an imide group or an acid anhydride group.
より具体的な環構造の例は、N−置換マレイミド構造、無水マレイン酸構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造およびラクトン環構造から選ばれる少なくとも1種である。これらの環構造のうち、置換基の結合した窒素原子を有するグルタルイミド構造およびN−置換マレイミド構造が、他の環構造よりも、重合体(C)のMe0を上昇させる大きな作用を有する。換言すれば、グルタルイミド構造あるいはN−置換マレイミド構造を主鎖に有する場合に、特に二軸延伸フィルムの薄膜化が困難となるが、本発明によれば、これらの環構造を主鎖に有する場合においても、光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性を確保したまま薄膜化を達成することができる。 A more specific example of the ring structure is at least one selected from an N-substituted maleimide structure, a maleic anhydride structure, a glutarimide structure, a glutaric anhydride structure, and a lactone ring structure. Of these ring structures, the glutarimide structure having a nitrogen atom to which a substituent is bonded and the N-substituted maleimide structure have a greater effect of increasing Me 0 of the polymer (C) than other ring structures. In other words, when the main chain has a glutarimide structure or an N-substituted maleimide structure, it is particularly difficult to reduce the thickness of the biaxially stretched film. According to the present invention, these ring structures are included in the main chain. Even in this case, it is possible to achieve a thin film while ensuring the optical properties, heat resistance and mechanical properties of the optical film.
主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルと、重合体としたときに主鎖に位置する環構造を有する単量体とを共重合することにより、あるいは、(メタ)アクリル重合体を形成した後、環化反応を進行させて当該重合体の主鎖に環構造を導入することにより、形成できる。 The (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain is obtained by, for example, copolymerizing a (meth) acrylic acid ester and a monomer having a ring structure located in the main chain when the polymer is used. Alternatively, it can be formed by forming a (meth) acrylic polymer and then introducing a ring structure into the main chain of the polymer by advancing the cyclization reaction.
以下の式(1)に、N−置換マレイミド構造および無水マレイン酸構造を示す。 The following formula (1) shows an N-substituted maleimide structure and a maleic anhydride structure.
式(1)におけるR1およびR2は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、X1は、酸素原子または窒素原子である。X1が酸素原子のときR3は存在せず、X1が窒素原子のとき、R3は、水素原子、炭素数1〜6の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。 In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X 1 is an oxygen atom, R 3 does not exist, and when X 1 is a nitrogen atom, R 3 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group. .
X1が窒素原子のとき、式(1)に示される環構造はN−置換マレイミド構造となる。N−置換マレイミド構造を主鎖に有する(メタ)アクリル重合体は、例えば、N−置換マレイミドと(メタ)アクリル酸エステルとを共重合して形成できる。 When X 1 is a nitrogen atom, the ring structure represented by the formula (1) is an N-substituted maleimide structure. The (meth) acrylic polymer having an N-substituted maleimide structure in the main chain can be formed, for example, by copolymerizing an N-substituted maleimide and a (meth) acrylic ester.
X1が酸素原子のとき、式(1)に示される環構造は無水マレイン酸構造となる。無水マレイン酸構造を主鎖に有する(メタ)アクリル重合体は、例えば、無水マレイン酸と(メタ)アクリル酸エステルとを共重合して形成できる。 When X 1 is an oxygen atom, the ring structure represented by the formula (1) is a maleic anhydride structure. The (meth) acrylic polymer having a maleic anhydride structure in the main chain can be formed, for example, by copolymerizing maleic anhydride and (meth) acrylic acid ester.
以下の式(2)に、グルタルイミド構造および無水グルタル酸構造を示す。 The following formula (2) shows a glutarimide structure and a glutaric anhydride structure.
式(2)におけるR4およびR5は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、X2は、酸素原子または窒素原子である。X2が酸素原子のときR6は存在せず、X2が窒素原子のとき、R6は、水素原子、炭素数1〜6の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。 R 4 and R 5 in the formula (2) are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and X 2 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X 2 is an oxygen atom, R 6 does not exist, and when X 2 is a nitrogen atom, R 6 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group. .
X2が窒素原子のとき、式(2)に示される環構造はグルタルイミド構造となる。グルタルイミド構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル重合体をメチルアミンなどのイミド化剤によりイミド化して形成できる。 When X 2 is a nitrogen atom, the ring structure represented by the formula (2) is a glutarimide structure. The glutarimide structure can be formed, for example, by imidizing a (meth) acrylic acid ester polymer with an imidizing agent such as methylamine.
X2が酸素原子のとき、式(2)に示される環構造は無水グルタル酸構造となる。無水グルタル酸構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体を、分子内で脱アルコール環化縮合させて形成できる。 When X 2 is an oxygen atom, the ring structure represented by the formula (2) is a glutaric anhydride structure. The glutaric anhydride structure can be formed, for example, by subjecting a copolymer of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid to dealcoholization cyclocondensation within the molecule.
重合体(C)が主鎖に有していてもよい具体的なラクトン環構造は特に限定されないが、例えば、以下の式(3)に示される構造である。 Although the specific lactone ring structure which the polymer (C) may have in the main chain is not particularly limited, for example, it is a structure represented by the following formula (3).
式(3)において、R7、R8およびR9は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の範囲の有機残基である。当該有機残基は酸素原子を含んでもよい。 In the formula (3), R 7 , R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.
有機残基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数が1〜20の範囲のアルキル基;エテニル基、プロペニル基などの炭素数が1〜20の範囲の不飽和脂肪族炭化水素基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数が1〜20の範囲の芳香族炭化水素基;上記アルキル基、上記不飽和脂肪族炭化水素基および上記芳香族炭化水素基において、水素原子の一つ以上が水酸基、カルボキシル基、エーテル基およびエステル基から選ばれる少なくとも1種の基により置換された基;である。 The organic residue is, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group; an unsaturated aliphatic carbonization having 1 to 20 carbon atoms such as an ethenyl group or a propenyl group A hydrogen group; an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group; one of hydrogen atoms in the alkyl group, the unsaturated aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group; One or more groups are substituted with at least one group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an ether group and an ester group.
式(3)に示すラクトン環構造は、例えば、メタクリル酸メチル(MMA)と2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)とを含む単量体群を共重合した後、得られた共重合体における隣り合ったMMA単位とMHMA単位とを脱アルコール環化縮合させて形成できる。このとき、R7はH、R8およびR9はCH3である。 The lactone ring structure represented by formula (3) is obtained by, for example, copolymerizing a monomer group containing methyl methacrylate (MMA) and 2- (hydroxymethyl) methyl acrylate (MHMA), Adjacent MMA units and MHMA units in the coalescence can be formed by dealcoholization cyclocondensation. At this time, R 7 is H, and R 8 and R 9 are CH 3 .
主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体である重合体(C)における当該環構造の含有率は、例えば、2〜90重量%であり、5〜85重量%が好ましい。 The content of the ring structure in the polymer (C) which is a (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain is, for example, 2 to 90% by weight, and preferably 5 to 85% by weight.
主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル重合体である重合体(C)は、Me0が10000以上である限り、(メタ)アクリル酸エステル単位および環構造以外の構成単位を1種または2種以上有していてもよい。当該単位は、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドンなどの各単量体の重合により形成される単位である。また、当該重合体(C)は、複素芳香族基を有するα,β−不飽和単量体単位、例えば、N−ビニルカルバゾール単位、ビニルピリジン単位、ビニルイミダゾール単位およびビニルチオフェン単位から選ばれる少なくとも1種を有していてもよく、この場合、二軸延伸フィルムにおける波長分散性の制御の自由度が高くなり、例えば、光の波長が短くなるほど複屈折(位相差)が小さくなる波長分散性(逆波長分散性)を示す二軸延伸フィルムとすることもできる。逆波長分散性を示す光学フィルムは、コントラストを向上させるなど、画像表示装置における表示特性の向上に寄与する。 The polymer (C) which is a (meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain has one or two (meth) acrylate units and structural units other than the ring structure as long as Me 0 is 10,000 or more. You may have more than one seed. The unit is a unit formed by polymerization of monomers such as styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, ethylene, propylene, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone. The polymer (C) is an α, β-unsaturated monomer unit having a heteroaromatic group, for example, at least selected from an N-vinylcarbazole unit, a vinylpyridine unit, a vinylimidazole unit, and a vinylthiophene unit. In this case, the degree of freedom in controlling the wavelength dispersibility in the biaxially stretched film is increased. For example, the wavelength dispersibility in which the birefringence (phase difference) decreases as the wavelength of light decreases. It can also be set as the biaxially stretched film which shows (reverse wavelength dispersion). An optical film exhibiting reverse wavelength dispersion contributes to improving display characteristics in an image display device, such as improving contrast.
重合体(C)の別の例は、芳香族ビニル単量体単位と、当該重合体(C)の主鎖に位置する環構造を有する単位(G)とを構成単位として有する共重合体(H)である。共重合体(H)では、芳香族ビニル単量体単位によって、光学的透明性および成形加工性の確保を図るとともに、単位(G)によって、当該重合体のTgおよび機械的特性の向上(例えば、Tgが110℃以上)を図ることができる。この例においても、単位(G)の環構造が重合体の分子鎖同士の絡み合いを立体的に阻害するため、単位(G)の種類および含有率にもよるが、110℃以上の高いTgを示す共重合体(H)のMe0は、一般に10000以上となる。 Another example of the polymer (C) is a copolymer having an aromatic vinyl monomer unit and a unit (G) having a ring structure located in the main chain of the polymer (C) as constituent units ( H). In the copolymer (H), the aromatic vinyl monomer unit ensures optical transparency and molding processability, and the unit (G) improves the Tg and mechanical properties of the polymer (for example, , Tg can be 110 ° C. or higher). Also in this example, since the ring structure of the unit (G) sterically inhibits the entanglement between the molecular chains of the polymer, depending on the type and content of the unit (G), a high Tg of 110 ° C. or higher is required. The Me 0 of the copolymer (H) shown is generally 10,000 or more.
芳香族ビニル単量体単位は、以下の式(4)に示す単位である。式(4)におけるR10は芳香族基であり、R11〜R13は、水素原子または炭素数1〜4の直鎖または分岐アルキル基である。 The aromatic vinyl monomer unit is a unit represented by the following formula (4). R 10 in Formula (4) is an aromatic group, and R 11 to R 13 are a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
芳香族ビニル単量体単位は、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、メトキシスチレン、ビニルトルエンなどの各単量体の重合により形成される単位である。なかでも、光学的透明性が高い二軸延伸フィルムが得られることから、スチレン単位が好ましい。 The aromatic vinyl monomer unit is a unit formed by polymerization of monomers such as styrene, α-methylstyrene, methoxystyrene, vinyltoluene and the like. Especially, since a biaxially stretched film with high optical transparency is obtained, a styrene unit is preferable.
芳香族ビニル単量体単位は、複素芳香族基を有するビニル単量体単位であってもよく、例えば、N−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェンなどの各単量体の重合により形成される単位であってもよい。 The aromatic vinyl monomer unit may be a vinyl monomer unit having a heteroaromatic group, for example, by polymerization of monomers such as N-vinyl carbazole, vinyl pyridine, vinyl imidazole, and vinyl thiophene. It may be a unit to be formed.
共重合体(H)は、2種以上の芳香族ビニル単量体単位を有していてもよい。 The copolymer (H) may have two or more types of aromatic vinyl monomer units.
共重合体(H)における芳香族ビニル単量体単位の含有率は、例えば、3〜97モル%であり、5〜95モル%が好ましく、10〜90%がより好ましい。 The content rate of the aromatic vinyl monomer unit in a copolymer (H) is 3-97 mol%, for example, 5-95 mol% is preferable and 10-90% is more preferable.
単位(G)は、例えば、N−置換マレイミド単位、グルタルイミド単位、無水マレイン酸単位、無水グルタル酸単位およびラクトン環構造単位から選ばれる少なくとも1種である。共重合体(H)は、芳香族ビニル単量体単位としてスチレン単位を、環構造を有する単位(G)としてN−置換マレイミド単位を有することが好ましい。このような共重合体(H)は、例えば、スチレン/N−置換マレイミド共重合体である。 The unit (G) is, for example, at least one selected from an N-substituted maleimide unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, a glutaric anhydride unit, and a lactone ring structure unit. The copolymer (H) preferably has a styrene unit as an aromatic vinyl monomer unit and an N-substituted maleimide unit as a unit (G) having a ring structure. Such a copolymer (H) is, for example, a styrene / N-substituted maleimide copolymer.
N−置換マレイミド単位は、上述したとおりである。より具体的には、N−メチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドなどの各単量体の重合により形成される単位である。なかでも、N−メチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミドが好ましい。 The N-substituted maleimide unit is as described above. More specifically, it is a unit formed by polymerization of monomers such as N-methylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-benzylmaleimide and the like. Of these, N-methylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, and N-phenylmaleimide are preferable.
共重合体(H)は、2種以上の単位(G)を有していてもよい。 The copolymer (H) may have 2 or more types of units (G).
共重合体(H)における単位(G)の含有率は、例えば、3〜97モル%であり、5〜95モル%が好ましく、10〜90%がより好ましい。 The content rate of the unit (G) in a copolymer (H) is 3-97 mol%, for example, 5-95 mol% is preferable and 10-90% is more preferable.
共重合体(H)は、例えば、芳香族ビニル単量体と、重合により単位(G)が形成される単量体とを共重合して形成できる。 The copolymer (H) can be formed, for example, by copolymerizing an aromatic vinyl monomer and a monomer in which the unit (G) is formed by polymerization.
共重合体(H)は、Me0が10000以上である限り、芳香族ビニル単量体および単位(G)以外の構成単位を、1種または2種以上有していてもよい。当該単位は、例えば、上述した(メタ)アクリル酸エステル単位である。共重合体(H)が(メタ)アクリル酸エステル単位を構成単位としてさらに有する場合、光学的透明性の向上、あるいは表面硬度の向上といったアクリル系単位に由来する特性の獲得が期待される。 The copolymer (H) may have one or more structural units other than the aromatic vinyl monomer and the unit (G) as long as Me 0 is 10,000 or more. The unit is, for example, the (meth) acrylic acid ester unit described above. When the copolymer (H) further has a (meth) acrylic acid ester unit as a constituent unit, it is expected to acquire characteristics derived from the acrylic unit such as an improvement in optical transparency or an improvement in surface hardness.
重合体(C)における構成単位および環構造の含有率は、公知の手法、例えば1H核磁気共鳴(1H−NMR)、赤外線分光分析(IR)あるいは元素分析により求めることができる。重合体(C)におけるラクトン環構造の含有率は、特開2001-151814号公報に記載の方法により求めることができる。 The content of the structural unit and the ring structure in the polymer (C) can be determined by a known method such as 1 H nuclear magnetic resonance ( 1 H-NMR), infrared spectroscopy (IR), or elemental analysis. The content of the lactone ring structure in the polymer (C) can be determined by the method described in JP-A-2001-151814.
重合体(C)のTgは、例えば110℃以上であり、当該重合体(C)を構成する単位および/または環構造の種類および含有率によっては、120℃以上、130℃以上、さらには140℃以上とすることができる。 The Tg of the polymer (C) is, for example, 110 ° C. or higher. Depending on the type and content of the units and / or ring structures constituting the polymer (C), 120 ° C. or higher, 130 ° C. or higher, and further 140 It can be set to at least ° C.
重合体(C)の重量平均分子量(Mw)は、例えば、10万〜50万であり、好ましくは12万〜40万、より好ましくは13万〜30万である。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (C) is, for example, 100,000 to 500,000, preferably 120,000 to 400,000, and more preferably 130,000 to 300,000.
重合体(C)は、公知の重合方法により形成できる。 The polymer (C) can be formed by a known polymerization method.
本発明の二軸延伸フィルムを構成する樹脂(D)は、重合体(C)を含む。樹脂(D)がMe0について10000以上およびTMについて25℃以上を満たす限り、樹脂(D)における重合体(C)の含有率は特に限定されないが、通常、30重量%以上であり、50重量%が好ましく、70重量%以上がより好ましい。 Resin (D) which comprises the biaxially stretched film of this invention contains a polymer (C). The content of the polymer (C) in the resin (D) is not particularly limited as long as the resin (D) satisfies 10,000 or more for Me 0 and 25 ° C. or more for T M , but is usually 30% by weight or more, and 50 % By weight is preferable, and 70% by weight or more is more preferable.
樹脂(D)のMe0は、当該樹脂に含まれる重合体の種類および含有率によって調整できる。樹脂(D)のMe0は、当該樹脂に含まれる重合体同士のMe0の兼ね合いによって変化するためである。例えば、高いMe0Hを示す重合体と、低いMe0Lを示す重合体とを混合して得た樹脂のMe0は、Me0HとMe0Lとの間の値となる。なお、重合体同士の混合にあたっては、二軸延伸フィルムの光学的透明性を確保するために、これら重合体間の相溶性について考慮する必要がある。 Me 0 of the resin (D) can be adjusted by the type and content of the polymer contained in the resin. This is because Me 0 of the resin (D) changes depending on the balance of Me 0 between the polymers contained in the resin. For example, Me 0 of a resin obtained by mixing a polymer showing high Me 0H and a polymer showing low Me 0L is a value between Me 0H and Me 0L . In addition, in mixing of polymers, in order to ensure the optical transparency of a biaxially stretched film, it is necessary to consider the compatibility between these polymers.
また、樹脂(D)のMe0は、当該樹脂に含まれる重合体間の架橋によって調整することも可能である。ただし、一般的な架橋密度とした場合には、樹脂(D)が剛直となることで、硬くて脆い、機械的特性が損なわれた二軸延伸フィルムとなりうることに留意しなければならない。また、あまりに剛直な樹脂(D)は、フィルムへの成形自体が困難となることがある。例えば、通常よりも少ない架橋剤の使用によって、僅かに架橋密度を上昇させた樹脂(D)とすることで、樹脂(D)のMe0を適切に大きくすることができる。架橋剤は、例えば、ジビニルベンゼン(DVB)、ジアクリレート、トリアクリレートなどの多官能架橋剤であり、樹脂(D)の形成時に当該架橋剤を使用することにより、樹脂(D)の架橋密度を上昇させ、Me0を適切に大きくすることができる。 Further, Me 0 of the resin (D) can be adjusted by crosslinking between the polymers contained in the resin. However, when it is set as a general crosslinking density, it should be noted that the resin (D) can be a biaxially stretched film that is hard and brittle and has impaired mechanical properties. In addition, a resin (D) that is too rigid may make it difficult to form a film itself. For example, the Me 0 of the resin (D) can be appropriately increased by using the resin (D) having a slightly increased crosslink density by using less crosslinking agent than usual. The crosslinking agent is, for example, a polyfunctional crosslinking agent such as divinylbenzene (DVB), diacrylate, or triacrylate. By using the crosslinking agent when forming the resin (D), the crosslinking density of the resin (D) is increased. It is possible to raise Me 0 appropriately.
樹脂(D)のTMは、当該樹脂に含まれる重合体の種類および含有率によって調整できる。樹脂(D)のTMは、当該樹脂に含まれる重合体同士のTMの兼ね合いによって変化するためである。例えば、大きなTMHを示す重合体と、低いTMLを示す重合体とを混合して得た樹脂のTMは、TMHとTMLとの間の値となる。 T M of the resin (D) can be adjusted by the type and content of the polymer contained in the resin. T M of the resin (D) is to change the balance of T M of the polymer bodies contained in the resin. For example, the T M of a resin obtained by mixing a polymer exhibiting a large T MH and a polymer exhibiting a low T ML is a value between T MH and T ML .
また、樹脂(D)の分子量(例えば、樹脂(D)に含まれる重合体(C)の分子量)によってもTMを調整できる。樹脂(D)の分子量が大きくなれば、当該樹脂のTMも大きくなるためである。分子量は、例えば、重量平均分子量(Mw)である。これに加えて、重合体(D)のTMは、Me0と同様に、当該樹脂に含まれる重合体間の架橋によって調整することができる。 The molecular weight of the resin (D) (e.g., a resin (polymer contained in D) the molecular weight of (C)) can be adjusted T M by. The larger the molecular weight of the resin (D), is because the greater the T M of the resin. The molecular weight is, for example, a weight average molecular weight (Mw). In addition, T M of the polymer (D), as well as Me 0, can be adjusted by crosslinking between the polymer contained in the resin.
樹脂(D)のTgは、例えば110℃以上であり、当該樹脂(D)の組成によっては、120℃以上、130℃以上、さらには140℃以上とすることができる。 The Tg of the resin (D) is, for example, 110 ° C. or higher, and can be 120 ° C. or higher, 130 ° C. or higher, and further 140 ° C. or higher depending on the composition of the resin (D).
重合体(C)との相溶性が確保されるとともに本発明の効果が得られる限り、樹脂(D)は重合体(C)以外の重合体を含んでいてもよい。当該重合体は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン重合体、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)などのオレフィン系重合体;塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などの含ハロゲン系重合体;ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610などのポリアミド;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリサルホン;ポリエーテルサルホン;ポリオキシペンジレン;ポリアミドイミド;ゴム質重合体である。樹脂(D)は、2種以上のこれら重合体を含むことができる。 As long as compatibility with the polymer (C) is ensured and the effect of the present invention is obtained, the resin (D) may contain a polymer other than the polymer (C). Examples of the polymer include olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene polymer, and poly (4-methyl-1-pentene); halogen-containing polymers such as vinyl chloride and chlorinated vinyl resins; Acrylic polymers such as methyl methacrylate; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6, nylon 66, nylon 610; polyacetals; polycarbonates; polyphenylene oxides; polyphenylene sulfides; Polysulfone; polyethersulfone; polyoxypentylene; polyamideimide; rubbery polymer. Resin (D) can contain 2 or more types of these polymers.
本発明の効果が得られる限り、樹脂(D)は、重合体以外の材料、例えば添加剤、を含むことができる。添加剤は、例えば、酸化防止剤、耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤;位相差上昇剤、位相差低減剤、位相差安定剤などの位相差調整剤;ガラス繊維、炭素繊維などの補強材;紫外線吸収剤;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤を含む帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤;有機フィラー、無機フィラー、樹脂改質剤、可塑剤、滑剤である。樹脂(D)における添加剤の含有率は、好ましくは7重量%未満、より好ましくは2重量%以下、さらに好ましくは0.5重量%以下である。 As long as the effects of the present invention are obtained, the resin (D) can contain a material other than the polymer, for example, an additive. Additives include, for example, antioxidants, light stabilizers, weather stabilizers, heat stabilizers and other stabilizers; phase difference adjusting agents such as phase difference increasing agents, phase difference reducing agents, phase difference stabilizers; glass fibers, Reinforcing materials such as carbon fibers; UV absorbers; near infrared absorbers; flame retardants such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; antistatic agents including anionic, cationic and nonionic surfactants Agents; colorants such as inorganic pigments, organic pigments, dyes; organic fillers, inorganic fillers, resin modifiers, plasticizers, lubricants. The content of the additive in the resin (D) is preferably less than 7% by weight, more preferably 2% by weight or less, and still more preferably 0.5% by weight or less.
樹脂(D)の形成方法は特に限定されない。重合体(C)からなる樹脂(D)であれば、重合体(C)をそのまま樹脂(D)とすればよいし(このとき、重合体(C)=樹脂(D)である)、樹脂(D)が上記他の重合体および/または添加剤を含む場合は、重合体(C)と、上記他の重合体および/または添加剤とを公知の混合方法で混合して形成できる。混合は、例えば、オムニミキサーなどの混合機でプレブレンドした後、得られた混合物を混練して実施できる。この場合、混練機は特に限定されず、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、公知の混練機を使用できる。 The formation method of resin (D) is not specifically limited. In the case of the resin (D) made of the polymer (C), the polymer (C) may be used as it is as the resin (D) (in this case, the polymer (C) = resin (D)), and the resin When (D) contains the other polymer and / or additive, it can be formed by mixing the polymer (C) and the other polymer and / or additive by a known mixing method. Mixing can be carried out, for example, by pre-blending with a mixer such as an omni mixer and then kneading the resulting mixture. In this case, the kneader is not particularly limited. For example, a known kneader such as an extruder such as a single screw extruder or a twin screw extruder or a pressure kneader can be used.
[二軸延伸フィルム]
本発明の二軸延伸フィルムは、樹脂(D)から構成される。これにより、光学フィルムとしての光学特性、耐熱性および機械的特性が確保されるとともに、薄膜化が達成されたフィルムとなる。
[Biaxially stretched film]
The biaxially stretched film of this invention is comprised from resin (D). As a result, the optical properties, heat resistance and mechanical properties of the optical film are ensured, and the film is thinned.
光学特性について、本発明の二軸延伸フィルムは高い光学的透明性を有する。当該フィルムの全光線透過率は、例えば85%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは91%以上である。全光線透過率は、フィルムの光学的透明性の指標となる。全光線透過率が85%未満のフィルムは、光学用途に適さない。フィルムの全光線透過率は、JIS K7361の規定に準拠して求めることができる。 Regarding optical properties, the biaxially stretched film of the present invention has high optical transparency. The total light transmittance of the film is, for example, 85% or more, preferably 90% or more, more preferably 91% or more. The total light transmittance is an index of optical transparency of the film. A film having a total light transmittance of less than 85% is not suitable for optical applications. The total light transmittance of the film can be determined in accordance with JIS K7361.
本発明の二軸延伸フィルムが示すヘイズは、厚さ100μmの値にして、例えば、5%以下であり、樹脂(D)の組成によっては、3%以下、さらには2%以下となる。 The haze exhibited by the biaxially stretched film of the present invention is, for example, 5% or less with a thickness of 100 μm, and is 3% or less, and further 2% or less depending on the composition of the resin (D).
本発明の二軸延伸フィルムは、樹脂(D)の組成および延伸条件に基づいて、位相差を示すことも、配向複屈折の発生がない、位相差がほぼゼロであるゼロ位相差フィルムとすることもできる。位相差を示すフィルムは、例えば、位相差フィルムとして使用したり、偏光板と組み合わせて反射防止フィルムとして使用することができる。ゼロ位相差フィルムは、例えば、偏光子保護フィルムとして使用することができ、この場合、当該保護フィルムを偏光子と組み合わせて偏光板を形成することができる。なお、本明細書では、位相差(面内位相差Re、および厚さ方向の位相差Rthの絶対値)が5nm以下である場合を、配向複屈折の発生がないゼロ位相差フィルムであるとする。ゼロ位相差フィルムは、Reと、Rthの絶対値ともに3nm以下が好ましく、1.5nm以下がより好ましく、1nm以下がさらに好ましい。本発明の二軸延伸フィルムは、波長550nmの光に対する面内位相差Reが5nm以下であり、上記光に対する厚さ方向の位相差の絶対値が5nm以下でありうる。 The biaxially stretched film of the present invention is a zero-retarded film that exhibits a phase difference based on the composition of the resin (D) and stretching conditions, and that does not generate orientation birefringence and has a phase difference of almost zero. You can also. The film which shows retardation can be used as a retardation film, for example, or can be used as an antireflection film in combination with a polarizing plate. The zero retardation film can be used, for example, as a polarizer protective film. In this case, the protective film can be combined with a polarizer to form a polarizing plate. In the present specification, when the phase difference (the absolute value of the in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth) is 5 nm or less, it is a zero retardation film in which no orientation birefringence occurs. To do. The absolute value of Re and Rth of the zero retardation film is preferably 3 nm or less, more preferably 1.5 nm or less, and further preferably 1 nm or less. In the biaxially stretched film of the present invention, the in-plane retardation Re for light having a wavelength of 550 nm may be 5 nm or less, and the absolute value of the retardation in the thickness direction for the light may be 5 nm or less.
面内位相差Reおよび厚さ方向の位相差Rthは、フィルム面内における遅相軸方向の屈折率をnx、フィルム面内における進相軸方向の屈折率をny、フィルムの厚さ方向の屈折率をnz、フィルムの厚さをd(nm)としたときに、それぞれ、式(nx−ny)×d、および式{(nx+ny)/2−nz}×dにより与えられる。なお、本明細書における屈折率nx、ny、nzは、波長550nmの光に対する屈折率である。 The in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth are the refractive index in the slow axis direction in the film plane nx, the refractive index in the fast axis direction in the film plane ny, and the refractive index in the film thickness direction. When the rate is nz and the film thickness is d (nm), they are given by the equation (nx−ny) × d and the equation {(nx + ny) / 2−nz} × d, respectively. In the present specification, the refractive indexes nx, ny, and nz are refractive indexes with respect to light having a wavelength of 550 nm.
機械的特性について、本発明の二軸延伸フィルムは高い強度を有する。フィルムの強度は、例えば、ASTM D3420の規定に準拠して測定したフィルムインパクト強度により表すことができる。本発明の二軸延伸フィルムのフィルムインパクト強度は、例えば0.2J以上と、光学フィルムとしての使用に適した十分に高い値とすることができる。 Regarding mechanical properties, the biaxially stretched film of the present invention has high strength. The strength of the film can be represented by, for example, a film impact strength measured in accordance with ASTM D3420. The film impact strength of the biaxially stretched film of the present invention can be set to a sufficiently high value suitable for use as an optical film, for example, 0.2 J or more.
耐熱性について、本発明の二軸延伸フィルムは高いTgを有する。フィルムのTgは、当該フィルムを構成する樹脂(D)のTgと同じであり、例えば110℃以上、樹脂(D)の組成によっては、120℃以上、130℃以上、さらには140℃以上とすることができる。このように高い耐熱性を示す二軸延伸フィルムは、電源部、発光部、回路基板といった発熱体に近接した配置を余儀なくされる画像表示装置への使用に適している。 Regarding heat resistance, the biaxially stretched film of the present invention has a high Tg. The Tg of the film is the same as the Tg of the resin (D) constituting the film, for example, 110 ° C. or higher, and depending on the composition of the resin (D), 120 ° C. or higher, 130 ° C. or higher, and 140 ° C. or higher. be able to. Such a biaxially stretched film exhibiting high heat resistance is suitable for use in an image display apparatus in which the power supply unit, the light emitting unit, and the circuit board are forced to be disposed close to each other.
薄膜化について、本発明の二軸延伸フィルムは、光学特性、耐熱性および機械的特性を満たしながら厚さ35μm以下を実現している。樹脂(D)の組成および延伸条件によっては、上記各特性を満たしながら、厚さ30μm以下、25μm以下、さらには20μm以下が実現する。厚さの下限は特に限定されないが、あまりに薄い光学フィルムは画像表示装置の製造時におけるハンドリング性が低下する可能性があるため、例えば、10μmである。 Regarding thinning, the biaxially stretched film of the present invention achieves a thickness of 35 μm or less while satisfying optical properties, heat resistance and mechanical properties. Depending on the composition of the resin (D) and the stretching conditions, a thickness of 30 μm or less, 25 μm or less, and further 20 μm or less is realized while satisfying the above-mentioned characteristics. The lower limit of the thickness is not particularly limited, but an optical film that is too thin may be, for example, 10 μm because handling properties may be reduced during the manufacture of the image display device.
本発明の二軸延伸フィルムは、二軸延伸における少なくとも一方の方向の延伸について、例えば、1.8〜5.0倍、樹脂(D)の組成によっては、2.2〜5.0倍、さらには3.0〜5.0倍の延伸を受けたフィルムである。本発明の二軸延伸フィルムは、二軸延伸における双方の方向の延伸について、これらの倍率の延伸を受けたフィルムでありうる。 The biaxially stretched film of the present invention is, for example, 1.8 to 5.0 times stretched in at least one direction in biaxial stretching, and 2.2 to 5.0 times depending on the composition of the resin (D), Furthermore, it is a film that has been stretched 3.0 to 5.0 times. The biaxially stretched film of the present invention may be a film that has been stretched at these magnifications for stretching in both directions in biaxial stretching.
本発明の二軸延伸フィルムの表面には、必要に応じて各種の機能性コーティング層が形成されていてもよい。機能性コーティング層は、例えば、帯電防止層、粘接着剤層、接着層、易接着層、防眩(ノングレア)層、光触媒層などの防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層である。機能性コーティング層の形成は、任意の時点で行うことができる。 Various functional coating layers may be formed on the surface of the biaxially stretched film of the present invention as necessary. Functional coating layers include, for example, antistatic layers, adhesive layers, adhesive layers, easy adhesion layers, antiglare (non-glare) layers, antifouling layers such as photocatalyst layers, antireflection layers, hard coat layers, and UV shielding layers. A layer, a heat ray shielding layer, an electromagnetic wave shielding layer, and a gas barrier layer. The functional coating layer can be formed at any time.
本発明の二軸延伸フィルムは、従来の二軸延伸フィルムと同様に、各種の光学部材として用いることができる。光学部材は、例えば、光学用保護フィルム、具体的には、各種の光ディスク(VD、CD、DVD、MD、LDなど)の基板の保護フィルム、LCDなどの画像表示装置が備える偏光板に用いる偏光子保護フィルム、位相差フィルムである。視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルムなどに使用してもよい。 The biaxially stretched film of the present invention can be used as various optical members in the same manner as conventional biaxially stretched films. The optical member is, for example, an optical protective film, specifically, a polarizing film used for a protective film for substrates of various optical disks (VD, CD, DVD, MD, LD, etc.), and a polarizing plate included in an image display device such as an LCD. It is a child protective film and a retardation film. You may use for a viewing angle compensation film, a light-diffusion film, a reflection film, an antireflection film, an anti-glare film, a brightness enhancement film, a conductive film for touch panels, etc.
本発明の二軸延伸フィルムを用いて、例えば、偏光板を形成できる。 For example, a polarizing plate can be formed using the biaxially stretched film of the present invention.
本発明の二軸延伸フィルムは、例えば、以下に示す本発明の製造方法により形成することができる。 The biaxially stretched film of this invention can be formed with the manufacturing method of this invention shown below, for example.
[製造方法]
本発明の製造方法では、樹脂(D)から構成される原フィルムを二軸延伸することによって、厚さが35μm以下である本発明の二軸延伸フィルムを形成する。樹脂(D)から構成される原フィルムを使用すること以外は、従来の二軸延伸フィルムの製造と同様に実施すればよい。
[Production method]
In the manufacturing method of this invention, the biaxially stretched film of this invention whose thickness is 35 micrometers or less is formed by biaxially stretching the original film comprised from resin (D). What is necessary is just to implement similarly to manufacture of the conventional biaxially stretched film except using the original film comprised from resin (D).
樹脂(D)から構成される原フィルムの形成方法は特に限定されず、例えば、キャスト法、溶融成形法(溶融押出成形、プレス成形など)を適用できる。 The formation method of the original film comprised from resin (D) is not specifically limited, For example, the casting method and the melt molding method (melt extrusion molding, press molding, etc.) are applicable.
原フィルムの二軸延伸についても、公知の方法を適用できる。二軸延伸は、同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。延伸方法、延伸温度および延伸倍率は、目的とする二軸延伸フィルムの特性に応じて、適宜、選択することができる。延伸温度は、例えば、樹脂(D)のTg以上Tg+50℃以下であり、Tg以上Tg+40℃以下が好ましい。延伸倍率は、本発明においては従来よりも高くすることができ、二軸延伸における少なくとも一方の方向の延伸について、例えば、1.8〜5.0倍、樹脂(D)の組成によっては、2.2〜5.0倍、さらには3.0〜5.0倍とすることができる。二軸延伸における双方の方向の延伸について、これらの倍率とすることも可能である。 Known methods can also be applied to biaxial stretching of the original film. Biaxial stretching may be simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching. The stretching method, stretching temperature, and stretching ratio can be appropriately selected according to the properties of the target biaxially stretched film. The stretching temperature is, for example, Tg or more and Tg + 50 ° C. or less of the resin (D), and preferably Tg or more and Tg + 40 ° C. or less. In the present invention, the draw ratio can be made higher than in the prior art. For stretching in at least one direction in biaxial stretching, for example, 1.8 to 5.0 times, depending on the composition of the resin (D), 2 .2 to 5.0 times, and further 3.0 to 5.0 times. These stretching ratios can be set for stretching in both directions in biaxial stretching.
[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の二軸延伸フィルムを備える限り特に限定されない。本発明の画像表示装置は、例えばLCDであり、当該LCDの画像表示部が、液晶セル、バックライトなどの部材とともに、本発明の二軸延伸フィルムを備える。
[Image display device]
The image display device of the present invention is not particularly limited as long as it includes the biaxially stretched film of the present invention. The image display device of the present invention is, for example, an LCD, and the image display unit of the LCD includes the biaxially stretched film of the present invention together with members such as a liquid crystal cell and a backlight.
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the examples shown below.
最初に、本実施例において作製した重合体、樹脂および二軸延伸フィルムの評価方法を示す。 Initially, the evaluation method of the polymer, resin, and biaxially stretched film which were produced in the present Example is shown.
[ガラス転移温度(Tg)]
重合体および樹脂のTgは、JIS K7121の規定に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計(リガク製、DSC−8230)を用い、窒素ガス雰囲気下、約10mgのサンプルを常温から200℃まで昇温(昇温速度20℃/分)して得られたDSC曲線から、始点法により評価した。リファレンスには、α−アルミナを用いた。
[Glass transition temperature (Tg)]
The Tg of the polymer and resin was determined in accordance with JIS K7121 regulations. Specifically, a differential scanning calorimeter (manufactured by Rigaku, DSC-8230) is used, and a sample of about 10 mg is heated from normal temperature to 200 ° C. (temperature increase rate: 20 ° C./min) in a nitrogen gas atmosphere. The DSC curve was evaluated by the starting point method. Α-alumina was used as a reference.
[重量平均分子量(Mw)]
重合体および樹脂のMwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、ポリスチレン換算により求めた。Mwの測定に用いた装置および測定条件は、以下のとおりである。
システム:東ソー製GPCシステム HLC-8220
測定側カラム構成;
・ガードカラム:東ソー製、TSKguardcolumn SuperHZ-L
・分離カラム:東ソー製、TSKgel SuperHZM-M 2本直列接続
リファレンス側カラム構成;
・リファレンスカラム:東ソー製、TSKgel SuperH-RC
展開溶媒:クロロホルム(和光純薬工業製、特級)
展開溶媒の流量:0.6mL/分
標準試料:TSK標準ポリスチレン(東ソー製、PS−オリゴマーキット)
カラム温度:40℃
[Weight average molecular weight (Mw)]
The Mw of the polymer and resin was determined by gel conversion using gel permeation chromatography (GPC). The apparatus and measurement conditions used for the measurement of Mw are as follows.
System: Tosoh GPC system HLC-8220
Measurement side column configuration;
Guard column: Tosoh TSKguardcolumn SuperHZ-L
・ Separation column: Tosoh, TSKgel SuperHZM-M 2 in series connection Reference side column configuration;
Reference column: Tosoh TSKgel SuperH-RC
Developing solvent: Chloroform (Wako Pure Chemical Industries, special grade)
Flow rate of developing solvent: 0.6 mL / min Standard sample: TSK standard polystyrene (manufactured by Tosoh, PS-oligomer kit)
Column temperature: 40 ° C
[フィルムの厚さ]
フィルム(原フィルムおよび二軸延伸フィルム)の厚さは、デジマチックマイクロメーター(ミツトヨ製)を用いて測定した。
[Film thickness]
The thickness of the film (original film and biaxially stretched film) was measured using a Digimatic Micrometer (manufactured by Mitutoyo).
[フィルムインパクト強度]
二軸延伸フィルムのフィルムインパクト強度は、フィルムインパクトテスター(テスター産業製)を用いて、23℃、50%RHの条件下において、ASTM D3420の規定に準拠して求めた。
[Film impact strength]
The film impact strength of the biaxially stretched film was determined using a film impact tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) under the conditions of 23 ° C. and 50% RH in accordance with the provisions of ASTM D3420.
[絡み合い点間分子量Me0、絡み合い数N0、絡み合い数Nが10〜500である温度範囲TM]
原フィルムを5mm×30mmのサイズに切断して得た評価試料を、25℃、60%RHの雰囲気下に2時間以上放置して調湿した後、動的粘弾性測定装置(TAインスツルメント製、RSA3)を用い、当該試料の貯蔵弾性率E’、損失弾性率E'’およびこれらの比であるtanδを求めた。このとき、試料のつかみ間距離を20mm、測定周波数を1Hzとし、温度条件は30℃からのスタートおよび昇温速度5℃/分とした。
[Molecular weight Me 0 between entanglement points, entanglement number N 0 , temperature range T M where entanglement number N is 10 to 500]
An evaluation sample obtained by cutting the original film into a size of 5 mm × 30 mm was left to stand for 2 hours or more in an atmosphere of 25 ° C. and 60% RH, and then the humidity was adjusted. Then, a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (TA instrument) RSA3), and the storage elastic modulus E ′, the loss elastic modulus E ″ and the ratio tan δ of the sample were determined. At this time, the distance between the grips of the sample was 20 mm, the measurement frequency was 1 Hz, and the temperature conditions were a start from 30 ° C. and a temperature increase rate of 5 ° C./min.
次に、測定した貯蔵弾性率E’(Pa)を対数軸である縦軸に、温度(K)を線形軸である横軸にプロットし、ガラス転移領域と流動領域との間に位置する、E’が他の領域に比べて変化しない、場合によっては一定値を示すゴム状平坦領域の中間点の温度T0を、ゴム状平坦領域の開始温度TSと終了温度TEとの中間の温度(=(TS+TE)/2)から求めた。このT0と、当該T0におけるE’の値E’0とから、式(A)により、絡み合い点間分子量Me0を求めた。 Next, the measured storage elastic modulus E ′ (Pa) is plotted on the vertical axis that is the logarithmic axis, and the temperature (K) is plotted on the horizontal axis that is the linear axis, and is located between the glass transition region and the flow region. The temperature T 0 at the midpoint of the rubber-like flat region where E ′ does not change as compared to other regions, and in some cases shows a constant value, is intermediate between the start temperature T S and the end temperature T E of the rubber-like flat region. The temperature was determined from the temperature (= (T S + T E ) / 2). This T 0, from 0 Metropolitan 'value E of' E in the T 0, the formula (A), was determined the entanglement molecular weight Me 0.
これとは別に、ゴム状平坦領域における温度T(K)および当該温度Tにおける貯蔵弾性率E’(Pa)ならびに別途評価したMwから、式(B)により絡み合い数Nを求め、求めた絡み合い数Nを対数軸である縦軸に、温度(K)を線形軸である横軸にプロットし、絡み合い数Nが10となる温度と500となる温度との差から、絡み合い数Nが10〜500である温度範囲TMを求めた。 Separately from this, from the temperature T (K) in the rubber-like flat region, the storage elastic modulus E ′ (Pa) at the temperature T, and Mw separately evaluated, the number of entanglements N is obtained by the formula (B), and the number of entanglements obtained. N is plotted on the vertical axis which is the logarithmic axis, and the temperature (K) is plotted on the horizontal axis which is the linear axis. From the difference between the temperature at which the entanglement number N is 10 and the temperature at which the entanglement number N is 500, the entanglement number N is 10 to 500. A temperature range T M was obtained.
[位相差]
二軸延伸フィルムの位相差は、位相差フィルム・光学材料検査装置(大塚電子製、RETS−100)を用いて、波長550nmの光に対する面内位相差Re、同波長の光に対する厚さ方向の位相差Rthとして求めた。位相差の測定は、二軸延伸フィルムの中央付近、一点に対して行った。ただし、厚さ方向の位相差Rthについては、フィルムの厚さdおよびアッベ屈折率計で測定したフィルムの平均屈折率、ならびに上記装置によりフィルムを40°傾斜させて測定した位相差値(Re(40°))および三次元屈折率nx、ny、nzを用いて、式Rth={(nx+ny)/2−nz}×dより求めた。nxはフィルムの遅相軸方向の屈折率、nyは進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚さ方向の屈折率、dはフィルムの厚さ(nm)である。フィルムを傾斜させる方向について、遅相軸を傾斜軸としたRe(S40°)と進相軸を傾斜軸としたRe(F40°)とを予め測定し、Re(S40°)>Re(F40°)となる場合は遅相軸を、Re(S40°)<Re(F40°)となる場合は進相軸を、それぞれ傾斜軸とした。
[Phase difference]
The retardation of the biaxially stretched film is determined by using an retardation film / optical material inspection apparatus (Otsuka Electronics, RETS-100), in-plane retardation Re for light having a wavelength of 550 nm, and thickness direction for light having the same wavelength. It calculated | required as phase difference Rth. The phase difference was measured at one point near the center of the biaxially stretched film. However, regarding the retardation Rth in the thickness direction, the film thickness d, the average refractive index of the film measured with an Abbe refractometer, and the retardation value (Re ( 40 °)) and the three-dimensional refractive indexes nx, ny, and nz, and obtained from the formula Rth = {(nx + ny) / 2−nz} × d. nx is the refractive index in the slow axis direction of the film, ny is the refractive index in the fast axis direction, nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is the thickness (nm) of the film. Regarding the direction of tilting the film, Re (S40 °) with the slow axis as the tilt axis and Re (F40 °) with the fast axis as the tilt axis are measured in advance, and Re (S40 °)> Re (F40 °). ) Is the slow axis, and when Re (S40 °) <Re (F40 °), the fast axis is the tilt axis.
(製造例1:CHMI−MMA−St共重合体の作製)
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管および滴下ロートを備えた反応容器に、メタクリル酸メチル(MMA)45重量部、スチレン(St)40重量部、酸化防止剤(ADEKA製、アデカスタブ2112)0.05重量部、および重合溶媒としてトルエン13重量部を仕込んだ。次に、反応容器に窒素ガスを導入しながら内温を105℃まで昇温させ、還流が始まったところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富製、ルペロックス570)0.052重量部を添加し、同時に、シクロヘキシルマレイミド(CHMI)15重量部、トルエン35重量部およびt−アミルパーオキシイソノナノエート0.308重量部の混合物の滴下を開始した。この混合物の80重量%を4時間かけて、残り20重量%をさらに2時間かけて滴下しながら、還流下、約100〜115℃で溶液重合を進行させた。また、上記混合物の滴下を開始してから4時間経過した時点で15.4重量部のトルエンを投入し、重合溶液を希釈した。滴下終了後、さらに2時間の熟成を行った。
(Production Example 1: Production of CHMI-MMA-St copolymer)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe and a dropping funnel, 45 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 40 parts by weight of styrene (St), antioxidant (made by ADEKA, ADK STAB 2112) 0.05 part by weight and 13 parts by weight of toluene as a polymerization solvent were charged. Next, while introducing nitrogen gas into the reaction vessel, the internal temperature was raised to 105 ° C., and when refluxing began, t-amyl peroxyisononanoate (Lukelox 570, manufactured by Arkema Yoshitomi) as a polymerization initiator 0. At the same time, dropwise addition of a mixture of 15 parts by weight of cyclohexylmaleimide (CHMI), 35 parts by weight of toluene and 0.308 parts by weight of t-amylperoxyisononanoate was started. While 80% by weight of this mixture was added dropwise over 4 hours and the remaining 20% by weight over 2 hours, solution polymerization was allowed to proceed at about 100 to 115 ° C. under reflux. In addition, 15.4 parts by weight of toluene was added at the time when 4 hours had elapsed from the start of dropping of the above mixture, and the polymerization solution was diluted. After completion of the dropwise addition, aging was further performed for 2 hours.
次に、得られた重合溶液をベントタイプスクリュー二軸押出機に導入してバレル温度240℃で脱揮し、重合溶液に含まれる重合体をペレット化して、シクロヘキシルマレイミド/メタクリル酸メチル/スチレン共重合体である透明な重合体(C−1)のペレットを得た。重合体(C−1)のTgは122℃、Mwは16.5万であった。 Next, the obtained polymerization solution was introduced into a vent type screw twin screw extruder, devolatilized at a barrel temperature of 240 ° C., the polymer contained in the polymerization solution was pelletized, and cyclohexylmaleimide / methyl methacrylate / styrene co-polymerized. A transparent polymer (C-1) pellet as a polymer was obtained. The polymer (C-1) had a Tg of 122 ° C. and an Mw of 16,000.
次に、樹脂(D−1)として、作製した重合体(C−1)のペレットを60℃の乾燥エアー中で24時間乾燥させた後、単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した重合体を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−1)を得た。原フィルム(F−1)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。なお、これ以降、重合体(樹脂)をフィルムに成形する際には、いずれも60℃の乾燥エアー中で24時間乾燥させた後に成形した。 Next, after pellets of the produced polymer (C-1) were dried in a dry air at 60 ° C. for 24 hours as a resin (D-1), a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt-extruded at 280 ° C., and the melt-extruded polymer was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to give an unstretched film having a thickness of 122 μm (original film) ; (F-1) was obtained. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-1). Hereafter, when the polymer (resin) was formed into a film, all were formed after drying in dry air at 60 ° C. for 24 hours.
(製造例2:CHMI−St共重合体の作製)
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管および滴下ロートを備えた反応容器に、St71重量部および酸化防止剤(ADEKA製、アデカスタブ2112)0.05重量部を仕込み、これに窒素ガスを通じつつ110℃に昇温させた。昇温後、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富製、ルペロックス570)0.045重量部を添加し、同時に、滴下系1としてCHMI29重量部およびトルエン28重量部の混合物、ならびに滴下系2としてt−アミルパーオキシイソノナノエート0.090重量部およびトルエン7.5重量部の混合物の滴下を開始した。滴下系1の20重量%は0.5時間かけて滴下し、残る80重量%はさらに3時間かけて滴下した。滴下系2は、その全量を3.5時間かけて連続的に滴下した。その間、還流下、約115〜125℃で溶液重合を進行させた。滴下の完了後、さらに1.5時間の熟成を行った。得られた重合溶液の組成比をガスクロマトグラフィーを用いて算出したところ、重合体におけるCHMI単位の含有率は34重量%、St単位の含有率は66重量%であった。
(Production Example 2: Production of CHMI-St copolymer)
A reaction vessel equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe, nitrogen introduction pipe and dropping funnel was charged with 71 parts by weight of St and 0.05 parts by weight of antioxidant (ADEKA, ADK STAB 2112), and nitrogen gas was passed through it. The temperature was raised to 110 ° C. After raising the temperature, 0.045 parts by weight of t-amylperoxyisononanoate (Arkema Yoshitomi, Luperox 570) was added as a polymerization initiator, and at the same time, a mixture of 29 parts by weight of CHMI and 28 parts by weight of toluene as dropping system 1; As a dropping system 2, dropping of a mixture of 0.090 parts by weight of t-amylperoxyisononanoate and 7.5 parts by weight of toluene was started. 20 wt% of the dropping system 1 was dropped over 0.5 hours, and the remaining 80 wt% was further dropped over 3 hours. The total amount of the dropping system 2 was continuously dropped over 3.5 hours. Meanwhile, solution polymerization was allowed to proceed at about 115 to 125 ° C. under reflux. After completion of the dropwise addition, aging was further performed for 1.5 hours. When the composition ratio of the obtained polymerization solution was calculated using gas chromatography, the content of CHMI units in the polymer was 34% by weight, and the content of St units was 66% by weight.
次に、得られた重合溶液をベントタイプスクリュー二軸押出機に導入してバレル温度240℃で脱揮し、重合溶液に含まれる重合体をペレット化して、シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体である透明な重合体(E−1)のペレットを得た。重合体(E−1)のTgは146℃、Mwは13.6万であった。 Next, the obtained polymerization solution is introduced into a vent type screw twin-screw extruder and devolatilized at a barrel temperature of 240 ° C., and the polymer contained in the polymerization solution is pelletized to obtain a cyclohexylmaleimide / styrene copolymer. A transparent polymer (E-1) pellet was obtained. The polymer (E-1) had a Tg of 146 ° C. and an Mw of 130,000.
次に、作製した重合体(E−1)のペレットを用いて製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−2)を作製した。原フィルム(F−2)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, a film was formed in the same manner as in Production Example 1 using the produced polymer (E-1) pellets to prepare an unstretched film (original film); (F-2) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-2).
(製造例3:PMMAの作製)
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管および滴下ロートを備えた反応容器に、MMA30重量部、酸化防止剤(ADEKA製、アデカスタブ2112)0.05重量部および重合溶媒としてメチルエチルケトン(MEK)65重量部を仕込んだ。次に、反応容器に窒素ガスを導入しながら内温を80℃まで昇温させ、還流が始まったところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(アルケマ吉富製、ルペロックス575)0.052重量部およびMEK5重量部を添加した。添加後、窒素気流下の還流状態で6時間攪拌を続けた。
(Production Example 3: Production of PMMA)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe and a dropping funnel, MMA 30 parts by weight, antioxidant (manufactured by ADEKA, ADK STAB 2112) 0.05 part by weight and methyl ethyl ketone (MEK) 65 as a polymerization solvent The weight part was charged. Next, the inside temperature was raised to 80 ° C. while introducing nitrogen gas into the reaction vessel, and when refluxing started, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Arkema Yoshitomi, Luperox, Inc.) was used as a polymerization initiator. 575) 0.052 parts by weight and 5 parts by weight of MEK were added. After the addition, stirring was continued for 6 hours under reflux in a nitrogen stream.
次に、得られた重合溶液をベントタイプスクリュー二軸押出機に導入してバレル温度240℃で脱揮し、重合溶液に含まれる重合体をペレット化して、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)である透明な重合体(E−2)のペレットを得た。重合体(E−2)のMwは10.1万であった。 Next, the obtained polymerization solution is introduced into a vent type screw twin screw extruder and devolatilized at a barrel temperature of 240 ° C., and the polymer contained in the polymerization solution is pelletized to form polymethyl methacrylate (PMMA). A transparent polymer (E-2) pellet was obtained. Mw of the polymer (E-2) was 10.11,000.
(製造例4:PMMAの作製)
反応容器への仕込み量をMMA45重量部およびMEK50重量部とした以外は製造例3と同様にして、PMMAである透明な重合体(E−3)のペレットを得た。重合体(E−3)のMwは15.3万であった。
(Production Example 4: Production of PMMA)
A transparent polymer (E-3) pellet of PMMA was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that the amount charged into the reaction vessel was 45 parts by weight of MMA and 50 parts by weight of MEK. Mw of the polymer (E-3) was 153,000.
(製造例5:グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル重合体の作製)
製造例5では、国際公開第06/129573号の製造例1および特開2011−246623号公報の実施例を参考にして、グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル重合体を以下のように作製した。最初に、製造例3で作製したPMMA(E−2)を、サイドフィーダーを有するバレル温度260℃のベントタイプスクリュー二軸押出機に導入し、上記サイドフィーダーから重合体(E−2)100重量部に対して5重量部のモノメチルアミンを注入して、イミド化反応(グルタルイミド環形成反応)を進行させた。反応による副生成物および過剰のメチルアミンをベント口から除去しながら、押出機内で形成された重合体を押し出し、ペレット化して、主鎖に位置するグルタルイミド環構造を含む単位と未反応のMMA単位とを構成単位として有する、透明な重合体(E−4)のペレットを得た。重合体(E−4)のTgは119℃、Mwは9.6万、イミド化率は5%であった。
(Production Example 5: Production of (meth) acrylic polymer having glutarimide structure)
In Production Example 5, a (meth) acrylic polymer having a glutarimide structure was produced as follows with reference to Production Example 1 of International Publication No. 06/129573 and Examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-246623. . First, PMMA (E-2) produced in Production Example 3 was introduced into a vent-type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 260 ° C. having a side feeder, and 100 weight of polymer (E-2) from the side feeder. 5 parts by weight of monomethylamine was injected into the part, and an imidization reaction (glutarimide ring formation reaction) was allowed to proceed. While removing by-products and excess methylamine from the reaction from the vent port, the polymer formed in the extruder was extruded, pelletized, and a unit containing a glutarimide ring structure located in the main chain and unreacted MMA. A transparent polymer (E-4) pellet having a unit as a constituent unit was obtained. The polymer (E-4) had a Tg of 119 ° C., an Mw of 96,000, and an imidization ratio of 5%.
次に、作製した重合体(E−4)のペレットを用いて製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−3)を作製した。原フィルム(F−3)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, a film was formed using the produced polymer (E-4) pellets in the same manner as in Production Example 1 to produce an unstretched film (original film); (F-3) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-3).
(製造例6:製造例5の(メタ)アクリル重合体とAS重合体とを含む樹脂組成物の作製)
製造例5で作製した重合体(E−4)75重量部と、スチレン−アクリロニトリル共重合体(旭化成製、スタイラックAS783、スチレン単位/アクリロニトリル単位の含有率比が73重量%/27重量%)25重量部とを、先端部にギアポンプを介してポリマーフィルターが配置された二軸押出機を用いて混練し、樹脂(D−2)を得た。樹脂(D−2)のTgは115℃、Mwは13.2万であった。なお、重合体(E−4)と混合したスチレン−アクリロニトリル共重合体のMe0を別途測定したところ、11000であった。
(Production Example 6: Production of resin composition containing (meth) acrylic polymer and AS polymer of Production Example 5)
75 parts by weight of the polymer (E-4) produced in Production Example 5 and a styrene-acrylonitrile copolymer (manufactured by Asahi Kasei, Stylac AS783, content ratio of styrene units / acrylonitrile units is 73% by weight / 27% by weight) 25 parts by weight were kneaded using a twin screw extruder having a polymer filter disposed at the tip via a gear pump to obtain a resin (D-2). Resin (D-2) had a Tg of 115 ° C. and an Mw of 132,000. Incidentally, was mixed with the polymer (E-4) Styrene - where the Me 0 acrylonitrile copolymer was separately measured, was 11000.
次に、樹脂(D−2)を用いて製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−4)を作製した。原フィルム(F−4)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, the resin (D-2) was used to form a film in the same manner as in Production Example 1 to prepare an unstretched film (original film); (F-4) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-4).
(製造例7:グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル重合体の作製)
製造例3で作製したPMMA(E−2)の代わりに、製造例4で作製したPMMA(E−3)を用いた以外は製造例5と同様にして、主鎖に位置するグルタルイミド環構造を含む単位と未反応のMMA単位とを構成単位として有する、透明な重合体(C−2)のペレットを得た。重合体(C−2)のTgは119℃、Mwは14.9万、イミド化率は5%であった。
(Production Example 7: Production of (meth) acrylic polymer having glutarimide structure)
A glutarimide ring structure located in the main chain in the same manner as in Production Example 5 except that PMMA (E-3) produced in Production Example 4 was used instead of PMMA (E-2) produced in Production Example 3. A transparent polymer (C-2) pellet having a unit containing an unreacted MMA unit as a constituent unit was obtained. The polymer (C-2) had a Tg of 119 ° C., an Mw of 149,000, and an imidization ratio of 5%.
次に、樹脂(D−3)として、作製した重合体(C−2)のペレットを用い、製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−5)を作製した。原フィルム(F−5)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, using the polymer (C-2) pellets produced as a resin (D-3), a film was formed in the same manner as in Production Example 1, and an unstretched film (original film) having a thickness of 122 μm; (F -5) was produced. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-5).
(製造例8:グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル重合体の準備)
主鎖に位置するグルタルミド環構造(式(2)におけるR4およびR5がメチル基)を含む単位とMMA単位とを構成単位として有する市販の(メタ)アクリル重合体(E−5);(ダイセル・エボニック製、プレキシイミド8813、グルタルイミド環を含む単位の含有率42重量%)のペレットを準備した。重合体(E−5)のTgは132℃、重量平均分子量は14.3万であった。
(Production Example 8: Preparation of (meth) acrylic polymer having glutarimide structure)
A commercially available (meth) acrylic polymer (E-5) having a unit containing a glutaramide ring structure located in the main chain (R 4 and R 5 in formula (2) are methyl groups) and an MMA unit as constituent units; A pellet made of Daicel-Evonik, plexiimide 8813, and a unit content containing a glutarimide ring (42% by weight) was prepared. The polymer (E-5) had a Tg of 132 ° C. and a weight average molecular weight of 143,000.
次に、準備した重合体(E−5)のペレットを用いて製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−6)を作製した。原フィルム(F−6)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, the prepared polymer (E-5) pellets were used to form a film in the same manner as in Production Example 1 to prepare an unstretched film (original film); (F-6) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-6).
(製造例9:製造例8の(メタ)アクリル重合体とAS重合体とを含む樹脂組成物の作製)
製造例8で準備した重合体(E−5)78重量部と、製造例6で使用したスチレン−アクリロニトリル共重合体22重量部とを、先端部にギアポンプを介してポリマーフィルターが配置された二軸押出機を用いて混練し、樹脂(D−4)を得た。樹脂(D−4)のTgは128℃、Mwは14.2万であった。
(Production Example 9: Production of a resin composition containing the (meth) acrylic polymer and AS polymer of Production Example 8)
78 parts by weight of the polymer (E-5) prepared in Production Example 8 and 22 parts by weight of the styrene-acrylonitrile copolymer used in Production Example 6 were provided with a polymer filter disposed at the tip via a gear pump. The resin (D-4) was obtained by kneading using a shaft extruder. Resin (D-4) had Tg of 128 ° C. and Mw of 142,000.
次に、樹脂(D−4)を用いて製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−7)を作製した。原フィルム(F−7)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, the resin (D-4) was used to form a film in the same manner as in Production Example 1 to prepare an unstretched film (original film); (F-7) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-7).
(製造例10:ラクトン環構造を主鎖に有する(メタ)アクリル重合体の作製)
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた反応釜に、MMA229.6重量部、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)33重量部、重合溶媒としてトルエン248.6重量部、酸化防止剤(ADEKA製、アデカスタブ2112)0.138重量部、およびn−ドデシルメルカプタン0.1925重量部を仕込み、これに窒素を通じつつ、105℃まで昇温させた。
(Production Example 10: Production of (meth) acrylic polymer having lactone ring structure in main chain)
In a reaction kettle equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe and a nitrogen introduction pipe, 229.6 parts by weight of MMA, 33 parts by weight of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (MHMA), and 248.6 parts by weight of toluene as a polymerization solvent. Then, 0.138 parts by weight of an antioxidant (manufactured by ADEKA, Adeka Stub 2112) and 0.1925 parts by weight of n-dodecyl mercaptan were charged, and the temperature was raised to 105 ° C. through nitrogen.
昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富製、ルペロックス570)0.2838重量部を添加するとともに、上記t−アミルパーオキシイソノナノエート0.5646重量部とスチレン12.375重量部とを2時間かけて滴下しながら、約105〜110℃の還流下で溶液重合を進行させ、さらに4時間の熟成を行った。 At the start of reflux accompanying the temperature rise, 0.2838 parts by weight of t-amylperoxyisonononanoate (manufactured by Arkema Yoshitomi, Luperox 570) was added as a polymerization initiator, and the above t-amylperoxyisonononanoate 0 was added. The solution polymerization was allowed to proceed under reflux at about 105 to 110 ° C. while adding 5646 parts by weight and 12.375 parts by weight of styrene dropwise over 2 hours, followed by further aging for 4 hours.
次に、得られた重合溶液に、環化縮合反応の触媒(環化触媒)として、リン酸ステアリル(堺化学工業製、Phoslex A−18)0.206重量部を加え、約90〜110℃の還流下において2時間、ラクトン環構造を形成するための環化縮合反応を進行させた。 Next, 0.206 parts by weight of stearyl phosphate (manufactured by Sakai Chemical Industry, Phoslex A-18) is added to the obtained polymerization solution as a catalyst for the cyclization condensation reaction (cyclization catalyst), and about 90 to 110 ° C. The cyclization condensation reaction for forming a lactone ring structure was allowed to proceed for 2 hours under reflux.
次に、得られた重合溶液を、240℃に加熱した多管式熱交換器に通して環化縮合反応を完結させた後、バレル温度250℃、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個およびフォアベント数4個(上流側から第1、第2、第3、第4ベントと称する)、第3ベントと第4ベントとの間にサイドフィーダーが設けられており、先端部にリーフディスク型のポリマーフィルタ(濾過精度5μm)が配置されたベントタイプスクリュー二軸押出機(L/D=52)に31.2重量部/時(樹脂量換算)の処理速度で導入し、脱揮を行った。その際、イオン交換水を0.47重量部/時の投入速度で第2ベントの後から投入した。 Next, the obtained polymerization solution was passed through a multi-tube heat exchanger heated to 240 ° C. to complete the cyclization condensation reaction, and then the barrel temperature was 250 ° C. and the degree of vacuum was 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg). ), Rear vent number 1 and fore vent number 4 (referred to as the first, second, third and fourth vents from the upstream side), side feeders are provided between the third vent and the fourth vent In a vent type screw twin screw extruder (L / D = 52) having a leaf disk type polymer filter (filtration accuracy 5 μm) at the tip, the processing speed is 31.2 parts by weight (resin amount conversion). Introduced and devolatilized. At that time, ion-exchanged water was charged after the second vent at a charging rate of 0.47 parts by weight / hour.
脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある重合体を当該押出機の先端からポリマーフィルタにより濾過しながら排出し、ペレタイザーによりペレット化して、ラクトン環構造を主鎖に有するとともに、スチレン単位を構成単位として有する透明な(メタ)アクリル共重合体(C−3)のペレットを得た。重合体(C−3)のTgは122℃、Mwは13.1万であった。 After completion of devolatilization, the polymer in the hot melt state remaining in the extruder is discharged while filtering through a polymer filter from the tip of the extruder, pelletized by a pelletizer, and having a lactone ring structure in the main chain, A transparent (meth) acrylic copolymer (C-3) pellet having a styrene unit as a constituent unit was obtained. The polymer (C-3) had Tg of 122 ° C. and Mw of 131,000.
次に、樹脂(D−5)として、作製した重合体(C−3)のペレットを用い、製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−8)を作製した。原フィルム(F−8)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, using the produced polymer (C-3) pellets as the resin (D-5), a film was formed in the same manner as in Production Example 1, and an unstretched film (original film) having a thickness of 122 μm; (F -8) was produced. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0, and T M of the original film (F-8).
(製造例11:ラクトン環構造を主鎖に有する(メタ)アクリル重合体の作製)
二軸押出機における脱揮の際に、紫外線吸収剤(ADEKA製、アデカスタブ LA−F70)0.66重量部をトルエン1.23重量部に溶解させた溶液を、0.59重量部/時の投入速度で第4ベントの後からさらに投入した以外は、製造例10と同様にして、ラクトン環構造を主鎖に有するとともに、スチレン単位を構成単位として有する透明な(メタ)アクリル共重合体(C−3)と紫外線吸収剤とを含む樹脂(D−6)のペレットを得た。樹脂(D−6)のTgは121℃、Mwは13.1万であった。
(Production Example 11: Production of (meth) acrylic polymer having lactone ring structure in main chain)
At the time of devolatilization in a twin screw extruder, a solution prepared by dissolving 0.66 parts by weight of an ultraviolet absorber (manufactured by ADEKA, ADK STAB LA-F70) in 1.23 parts by weight of toluene was added at 0.59 parts by weight / hour. A transparent (meth) acrylic copolymer (having a lactone ring structure in the main chain and having a styrene unit as a constituent unit, as in Production Example 10 except that it was further charged after the fourth vent at the charging speed ( Resin (D-6) pellets containing C-3) and an ultraviolet absorber were obtained. Resin (D-6) had Tg of 121 ° C. and Mw of 131,000.
次に、樹脂(D−6)のペレットを用い、製造例1と同様にフィルム成形して、厚さ122μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−9)を作製した。原フィルム(F−9)のT0、Me0、N0およびTMを、以下の表1に示す。 Next, the resin (D-6) pellets were used to form a film in the same manner as in Production Example 1 to prepare an unstretched film (original film); (F-9) having a thickness of 122 μm. Table 1 below shows T 0 , Me 0 , N 0 and T M of the original film (F-9).
(実施例1)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)を96mm×96mmのサイズに切り出した後、逐次二軸延伸機(東洋精機製作所製、X−6S)を用いて、延伸温度を重合体(C−1)のTg+15℃、延伸倍率を2.2倍×2.2倍、延伸速度を800mm/分として、縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順に逐次二軸延伸した。延伸後、延伸機から速やかにフィルムを取り出して冷却し、二軸延伸フィルム(FS−1)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−1)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.22Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−1)の特性を以下の表2Aに示す。
Example 1
After the original film (F-1) produced in Production Example 1 was cut into a size of 96 mm × 96 mm, the stretching temperature was changed to the polymer (C) using a sequential biaxial stretching machine (X-6S, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). -1) Tg + 15 ° C., stretching ratio was 2.2 × 2.2 times, stretching speed was 800 mm / min, and biaxial stretching was sequentially performed in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction). After stretching, the film was quickly taken out from the stretching machine and cooled to obtain a biaxially stretched film (FS-1). The produced biaxially stretched film (FS-1) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.22J and 0.2J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-1) are shown in Table 2A below.
(実施例2)
製造例1で作製した重合体(C−1)を樹脂(D−1)として、単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した重合体を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−1−2)を得た。
(Example 2)
Using the polymer (C-1) produced in Production Example 1 as a resin (D-1), a single-screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm) The polymer that was melt-extruded at 280 ° C. and melt-extruded was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-1-2).
次に、作製した原フィルム(F−1−2)について、延伸温度を重合体(C−1)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−1−2)を得た。作製したフィルム(FS−1−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.20Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−1−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-1-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (C-1), and the stretching ratio was further set to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. Produced a biaxially stretched film (FS-1-2) in the same manner as in Example 1. The thickness of the produced film (FS-1-2) was 16 μm, the film impact strength was 0.20 J and 0.2 J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength at the same time while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-1-2) are shown in Table 2A below.
(実施例3)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例6で作製した原フィルム(F−4)を用い、延伸温度を樹脂(D−2)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−4)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−4)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.24Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−4)の特性を以下の表2Aに示す。
(Example 3)
Example except that the original film (F-4) produced in Production Example 6 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the resin (D-2). In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched film (FS-4) was obtained. The produced biaxially stretched film (FS-4) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.24 J and 0.2 J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-4) are shown in Table 2A below.
(実施例4)
製造例6で作製した樹脂(D−2)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−4−2)を得た。
Example 4
The resin (D-2) produced in Production Example 6 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extruded. The resin was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-4-2).
次に、作製した原フィルム(F−4−2)について、延伸温度を樹脂(D−2)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は実施例3と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−4−2)を得た。作製したフィルム(FS−4−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.21Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−4−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-4-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the resin (D-2), and the stretching ratio was further set to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. In the same manner as in Example 3, a biaxially stretched film (FS-4-2) was obtained. The thickness of the produced film (FS-4-2) was 16 μm, the film impact strength was 0.21J and 0.2J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength at the same time while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-4-2) are shown in Table 2A below.
(実施例5)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例7で作製した原フィルム(F−5)を用い、延伸温度を重合体(C−2)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−5)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−5)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.23Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−5)の特性を以下の表2Aに示す。
(Example 5)
Implemented except that the original film (F-5) produced in Production Example 7 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the polymer (C-2). In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched film (FS-5) was obtained. The produced biaxially stretched film (FS-5) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.23 J and 0.2 J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-5) are shown in Table 2A below.
(実施例6)
製造例7で作製した重合体(C−2)を樹脂(D−3)として、単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−5−2)を得た。
(Example 6)
Using the polymer (C-2) produced in Production Example 7 as a resin (D-3), using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm) The melt-extruded resin at 280 ° C. was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-5-2).
次に、作製した原フィルム(F−5−2)について、延伸温度を重合体(C−2)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は実施例5と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−5−2)を得た。作製したフィルム(FS−5−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.21Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−5−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-5-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (C-2), and the stretching ratio was further set to a high magnification of 3.0 × 3.0 times. Produced a biaxially stretched film (FS-5-2) in the same manner as in Example 5. The thickness of the produced film (FS-5-2) was 16 μm, and the film impact strength was 0.21J and 0.2J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-5-2) are shown in Table 2A below.
(実施例7)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例9で作製した原フィルム(F−7)を用い、延伸温度を樹脂(D−4)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−7)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−7)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.24Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−7)の特性を以下の表2Aに示す。
(Example 7)
Example except that the original film (F-7) produced in Production Example 9 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the resin (D-4). In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched film (FS-7) was obtained. The produced biaxially stretched film (FS-7) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.24 J and 0.2 J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-7) are shown in Table 2A below.
(実施例8)
製造例9で作製した樹脂(D−4)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−7−2)を得た。
(Example 8)
The resin (D-4) produced in Production Example 9 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extruded. The resin was discharged onto a cooling roll at a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-7-2).
次に、作製した原フィルム(F−7−2)について、延伸温度を樹脂(D−4)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は実施例7と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−7−2)を得た。作製したフィルム(FS−7−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.23Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−7−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-7-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the resin (D-4), and the stretching ratio was further increased to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. In the same manner as in Example 7, a biaxially stretched film (FS-7-2) was obtained. The thickness of the produced film (FS-7-2) was 16 μm, and the film impact strength was 0.23 J and 0.2 J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength at the same time while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-7-2) are shown in Table 2A below.
(参考例9)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例10で作製した原フィルム(F−8)を用い、延伸温度を重合体(C−3)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−8)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−8)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.26Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−8)の特性を以下の表2Aに示す。
( Reference Example 9)
Implemented except that the original film (F-8) produced in Production Example 10 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the polymer (C-3). In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched film (FS-8) was obtained. The produced biaxially stretched film (FS-8) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.26 J and 0.2 J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-8) are shown in Table 2A below.
(参考例10)
製造例10で作製した重合体(C−3)を樹脂(D−5)として、単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−8−2)を得た。
( Reference Example 10)
Using the polymer (C-3) produced in Production Example 10 as a resin (D-5), a single-screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm) The melt-extruded resin at 280 ° C. was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-8-2).
次に、作製した原フィルム(F−8−2)について、延伸温度を重合体(C−3)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は参考例9と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−8−2)を得た。作製したフィルム(FS−8−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.22Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−8−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, for the produced original film (F-8-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (C-3), and the stretching ratio was further set to a high magnification of 3.0 × 3.0 times. Produced biaxially stretched film (FS-8-2) in the same manner as in Reference Example 9. The thickness of the produced film (FS-8-2) was 16 μm, and the film impact strength was 0.22J and 0.2J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-8-2) are shown in Table 2A below.
(参考例11)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例11で作製した原フィルム(F−9)を用い、延伸温度を樹脂(D−6)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−9)を得た。作製した二軸延伸フィルム(FS−9)の厚さは25μm、フィルムインパクト強度は0.24Jと0.2J以上であり、薄膜化がなされながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−9)の特性を以下の表2Aに示す。
( Reference Example 11)
Example except that the original film (F-9) produced in Production Example 11 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1, and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the resin (D-6). In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched film (FS-9) was obtained. The produced biaxially stretched film (FS-9) had a thickness of 25 μm and film impact strengths of 0.24 J and 0.2 J or more, and was a biaxially stretched film having high strength at the same time as the film thickness was reduced. The properties of the film (FS-9) are shown in Table 2A below.
(参考例12)
製造例11で作製した樹脂(D−6)を、単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−9−2)を得た。
( Reference Example 12)
The resin (D-6) produced in Production Example 11 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin obtained was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-9-2).
次に、作製した原フィルム(F−9−2)について、延伸温度を樹脂(D−6)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は参考例11と同様にして、二軸延伸フィルム(FS−9−2)を得た。作製したフィルム(FS−9−2)の厚さは16μm、フィルムインパクト強度は0.22Jと0.2J以上であり、さらなる薄膜化を達成しながら同時に高い強度を有する二軸延伸フィルムであった。フィルム(FS−9−2)の特性を以下の表2Aに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-9-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the resin (D-6), and the stretching ratio was further increased to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. In the same manner as in Reference Example 11, a biaxially stretched film (FS-9-2) was obtained. The thickness of the produced film (FS-9-2) was 16 μm, and the film impact strength was 0.22J and 0.2J or more, and it was a biaxially stretched film having high strength while achieving further thinning. . The properties of the film (FS-9-2) are shown in Table 2A below.
(比較例1)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例2で作製した原フィルム(F−2)を用い、延伸温度を重合体(E−1)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。
(Comparative Example 1)
Implemented except that the original film (F-2) produced in Production Example 2 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the polymer (E-1). In the same manner as in Example 1, an attempt was made to produce a biaxially stretched film. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例2)
製造例2で作製した重合体(E−1)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−2−2)を得た。
(Comparative Example 2)
The polymer (E-1) produced in Production Example 2 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin obtained was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-2-2).
次に、作製した原フィルム(F−2−2)について、延伸温度を重合体(E−1)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は比較例1と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。 Next, with respect to the produced original film (F-2-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (E-1), and the stretching ratio was further increased to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. Tried to produce a biaxially stretched film in the same manner as in Comparative Example 1. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例3)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例5で作製した原フィルム(F−3)を用い、延伸温度を重合体(E−4)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。
(Comparative Example 3)
Implemented except that the original film (F-3) produced in Production Example 5 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the polymer (E-4). In the same manner as in Example 1, an attempt was made to produce a biaxially stretched film. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例4)
製造例5で作製した重合体(E−4)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−3−2)を得た。
(Comparative Example 4)
The polymer (E-4) produced in Production Example 5 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin obtained was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-3-2).
次に、作製した原フィルム(F−3−2)について、延伸温度を重合体(E−4)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は比較例3と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。 Next, with respect to the produced original film (F-3-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (E-4), and the stretching ratio was further increased to 3.0 times × 3.0 times the high magnification. Attempted to produce a biaxially stretched film in the same manner as in Comparative Example 3. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例5)
比較例3において原フィルムの破断が生じたことに基づき、延伸温度を重合体(E−4)のTg+20℃に上昇させた以外は比較例3と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。
(Comparative Example 5)
A biaxially stretched film was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the stretching temperature was raised to Tg + 20 ° C. of the polymer (E-4) based on the fact that the original film was broken in Comparative Example 3. It was. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例6)
比較例3において原フィルムの破断が生じたことに基づき、原フィルムの厚さを薄くするとともに延伸倍率を低下させて二軸延伸フィルムの作製を試みた。
(Comparative Example 6)
In Comparative Example 3, an attempt was made to produce a biaxially stretched film by reducing the stretch ratio while reducing the thickness of the original film based on the fact that the original film was broken.
製造例5で作製した重合体(E−4)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ56μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−3−3)を得た。 The polymer (E-4) produced in Production Example 5 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin obtained was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 56 μm-thick unstretched film (original film); (F-3-3).
次に、作製した原フィルム(F−3−3)について、延伸倍率を低倍率の1.5倍×1.5倍とした以外は比較例3と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。その結果、厚さ25μmの二軸延伸フィルム(FS−3−3)を得ることができたが、作製したフィルム(FS−3−3)のフィルムインパクト強度は0.06Jと低く、光学用途に使用する二軸延伸フィルムとして十分な強度を確保できず、脆いフィルムとなった。フィルム(FS−3−3)の特性を以下の表2Bに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-3-3), a biaxially stretched film was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the draw ratio was set to 1.5 times x 1.5 times of the low magnification. Tried. As a result, a biaxially stretched film (FS-3-3) having a thickness of 25 μm could be obtained, but the film impact strength of the produced film (FS-3-3) was as low as 0.06 J, which was suitable for optical applications. As a biaxially stretched film to be used, sufficient strength could not be secured, resulting in a brittle film. The properties of the film (FS-3-3) are shown in Table 2B below.
(比較例7)
製造例1で作製した原フィルム(F−1)の代わりに製造例8で作製した原フィルム(F−6)を用い、延伸温度を重合体(E−5)のTg+15℃とした以外は実施例1と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。
(Comparative Example 7)
Implemented except that the original film (F-6) produced in Production Example 8 was used instead of the original film (F-1) produced in Production Example 1 and the stretching temperature was Tg + 15 ° C. of the polymer (E-5). In the same manner as in Example 1, an attempt was made to produce a biaxially stretched film. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例8)
製造例8で作製した重合体(E−5)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ144μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−6−2)を得た。
(Comparative Example 8)
The polymer (E-5) produced in Production Example 8 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin obtained was discharged onto a cooling roll having a temperature of 110 ° C. to obtain a 144 μm-thick unstretched film (original film); (F-6-2).
次に、作製した原フィルム(F−6−2)について、延伸温度を重合体(E−5)のTg+20℃とし、延伸倍率をさらに高倍率の3.0倍×3.0倍とした以外は比較例7と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。しかし、原フィルムの破断により、二軸延伸フィルムを得ることができなかった。 Next, for the produced original film (F-6-2), the stretching temperature was Tg + 20 ° C. of the polymer (E-5), and the stretching ratio was further set to a high magnification of 3.0 times × 3.0 times. Attempted to produce a biaxially stretched film in the same manner as in Comparative Example 7. However, a biaxially stretched film could not be obtained due to the breaking of the original film.
(比較例9)
比較例7において原フィルムの破断が生じたことに基づき、原フィルムの厚さを薄くするとともに延伸倍率を低下させて二軸延伸フィルムの作製を試みた。
(Comparative Example 9)
Based on the fact that the original film was broken in Comparative Example 7, an attempt was made to produce a biaxially stretched film by reducing the thickness of the original film and decreasing the draw ratio.
製造例8で作製した重合体(E−5)を単軸押出機(φ=20mm、L/D=25)およびコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて280℃で溶融押出し、溶融押出した樹脂を温度110℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ56μmの未延伸フィルム(原フィルム);(F−6−3)を得た。 The polymer (E-5) produced in Production Example 8 was melt extruded at 280 ° C. using a single screw extruder (φ = 20 mm, L / D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm), and melt extrusion. The resin thus obtained was discharged onto a cooling roll at a temperature of 110 ° C. to obtain a 56 μm-thick unstretched film (original film); (F-6-3).
次に、作製した原フィルム(F−6−3)について、延伸倍率を低倍率の1.5倍×1.5倍とした以外は比較例7と同様にして、二軸延伸フィルムの作製を試みた。その結果、厚さ25μmの二軸延伸フィルム(FS−6−3)を得ることができたが、作製したフィルム(FS−6−3)のフィルムインパクト強度は0.08Jと低く、光学用途に使用する二軸延伸フィルムとして十分な強度を確保できず、脆いフィルムとなった。フィルム(FS−6−3)の特性を以下の表2Bに示す。 Next, with respect to the produced original film (F-6-3), a biaxially stretched film was produced in the same manner as in Comparative Example 7 except that the draw ratio was set to 1.5 times x 1.5 times of the low magnification. Tried. As a result, a biaxially stretched film (FS-6-3) having a thickness of 25 μm could be obtained, but the film impact strength of the produced film (FS-6-3) was as low as 0.08 J, which was suitable for optical applications. As a biaxially stretched film to be used, sufficient strength could not be secured, resulting in a brittle film. The properties of the film (FS-6-3) are shown in Table 2B below.
表2A,2Bに示すように、重合体(樹脂)についてMe0≧10000かつTM≧25℃が満たされる実施例1〜8および参考例9〜12では、光学フィルムとしての光学特性(透明性および位相差、場合によっては偏光子保護フィルムに好適な、ReおよびRthがともにゼロ近傍である位相差)、耐熱性(Tgにして110℃以上)、および機械的特性(フィルムインパクト強度が0.2J以上)が確保されながら、16〜25μmと非常に薄い二軸延伸フィルムを実現できた。 As shown in Tables 2A and 2B, in Examples 1 to 8 and Reference Examples 9 to 12 in which Me 0 ≧ 10000 and T M ≧ 25 ° C. are satisfied for the polymer (resin), the optical properties (transparency) And retardation, which is suitable for a polarizer protective film in some cases, a retardation where Re and Rth are both near zero, heat resistance (Tg of 110 ° C. or more), and mechanical properties (film impact strength is 0.1). 2J or more) was secured, and a very thin biaxially stretched film of 16 to 25 μm could be realized.
一方、比較例1〜5,7,8では、延伸時の破断により二軸延伸フィルムが得られなかった。比較例6,9では、原フィルムの厚さを薄くするとともに延伸倍率を下げることで、薄い二軸延伸フィルムこそ形成できたが、当該フィルムは光学フィルムとして十分な強度を有さない、非常に脆く使用に耐えないフィルムであった。 On the other hand, in Comparative Examples 1 to 5, 7, and 8, no biaxially stretched film was obtained due to breakage during stretching. In Comparative Examples 6 and 9, a thin biaxially stretched film could be formed by reducing the thickness of the original film and reducing the stretch ratio, but the film does not have sufficient strength as an optical film, The film was fragile and unbearable.
本発明の二軸延伸フィルムは、従来の光学フィルムと同様の用途に使用できる。当該用途は、例えば、LCD、OLEDなどの画像表示装置に使用される位相差フィルム、偏光子保護フィルム、偏光板、反射防止フィルム、色調補償フィルム、視野角補償フィルムである。 The biaxially stretched film of this invention can be used for the same use as the conventional optical film. The application is, for example, a retardation film, a polarizer protective film, a polarizing plate, an antireflection film, a color compensation film, and a viewing angle compensation film used for image display devices such as LCDs and OLEDs.
Claims (15)
前記熱可塑性樹脂が、10万以上の重量平均分子量を有する、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体を含み、
前記熱可塑性樹脂について、
以下の式(A)に示される、動的粘弾性スペクトルのゴム状平坦領域における絡み合い点間分子量Me0が12300以上、かつ以下の式(B)に示される絡み合い数Nが10以上500以下となる温度範囲が25℃以上であり、
Me0=3cRT0/E’0 ・・・(A)
N=(MwE’)/(3cRT)・・・(B)
厚さが35μm以下である、二軸延伸フィルム。
[式(A),(B)において、
cは、25℃における前記熱可塑性樹脂の密度(g・m-3)
Rは、気体定数(8.31J・K-1・mol-1)
Tは、前記熱可塑性樹脂の温度(K)
E’は、前記温度Tにおける前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)
T0は、前記熱可塑性樹脂における前記ゴム状平坦領域の中間点の温度(K)
E’0は、前記温度T0における前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)
Mwは、前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量、である] A biaxially stretched film composed of a thermoplastic resin,
The thermoplastic resin comprises an amorphous vinyl polymer having a cyclic structure in the main chain, having a weight average molecular weight of 100,000 or more ,
About the thermoplastic resin
It is shown in the following formula (A), rubber the entanglement in the plateau region molecular weight Me 0 of dynamic viscoelasticity spectrum 1 23 00 or more and 10 or more entanglement number N represented by the following formula (B) 500 The following temperature range is 25 ° C. or higher,
Me 0 = 3cRT 0 / E ′ 0 (A)
N = (MwE ′) / (3cRT) (B)
A biaxially stretched film having a thickness of 35 μm or less.
[In the formulas (A) and (B)
c is the density (g · m −3 ) of the thermoplastic resin at 25 ° C.
R is a gas constant (8.31 J · K −1 · mol −1 )
T is the temperature (K) of the thermoplastic resin.
E ′ is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T
T 0 is the temperature (K) at the midpoint of the rubber-like flat region in the thermoplastic resin.
E ′ 0 is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T 0 .
Mw is the weight average molecular weight of the thermoplastic resin]
N0=Mw/Me0 ・・・(C) The biaxially stretched film according to claim 1, wherein the thermoplastic resin has an entanglement number N 0 in the rubber-like flat region represented by the following formula (C) of 9 or more.
N 0 = Mw / Me 0 (C)
前記環構造を有する単位がN−置換マレイミド単位である、請求項7に記載の二軸延伸フィルム。 The aromatic vinyl monomer unit is a styrene unit;
The biaxially stretched film according to claim 7 , wherein the unit having a ring structure is an N-substituted maleimide unit.
前記熱可塑性樹脂が、10万以上の重量平均分子量を有する、主鎖に環構造を有する非晶性のビニル重合体を含み、
前記熱可塑性樹脂について、
以下の式(A)に示される、動的粘弾性スペクトルのゴム状平坦領域における絡み合い点間分子量Me0が12300以上、かつ以下の式(B)に示される絡み合い数Nが10以上500以下となる温度範囲が25℃以上である、二軸延伸フィルムの製造方法。
Me0=3cRT0/E’0 ・・・(A)
N=(MwE’)/(3cRT)・・・(B)
[式(A),(B)において、
cは、25℃における前記熱可塑性樹脂の密度(g・m-3)
Rは、気体定数(8.31J・K-1・mol-1)
Tは、前記熱可塑性樹脂の温度(K)
E’は、前記温度Tにおける前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)
T0は、前記熱可塑性樹脂における前記ゴム状平坦領域の中間点の温度(K)
E’0は、前記温度T0における前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率(Pa)
Mwは、前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量、である] By biaxially stretching an original film composed of a thermoplastic resin, a biaxially stretched film having a thickness of 35 μm or less is formed,
The thermoplastic resin comprises an amorphous vinyl polymer having a cyclic structure in the main chain, having a weight average molecular weight of 100,000 or more ,
About the thermoplastic resin
It is shown in the following formula (A), rubber the entanglement in the plateau region molecular weight Me 0 of dynamic viscoelasticity spectrum 1 23 00 or more and 10 or more entanglement number N represented by the following formula (B) 500 The manufacturing method of the biaxially stretched film whose temperature range used as the following is 25 degreeC or more.
Me 0 = 3cRT 0 / E ′ 0 (A)
N = (MwE ′) / (3cRT) (B)
[In the formulas (A) and (B)
c is the density (g · m −3 ) of the thermoplastic resin at 25 ° C.
R is a gas constant (8.31 J · K −1 · mol −1 )
T is the temperature (K) of the thermoplastic resin.
E ′ is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T
T 0 is the temperature (K) at the midpoint of the rubber-like flat region in the thermoplastic resin.
E ′ 0 is the storage elastic modulus (Pa) of the thermoplastic resin at the temperature T 0 .
Mw is the weight average molecular weight of the thermoplastic resin]
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