JP6172690B2 - アンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置 - Google Patents
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Description
2 冷媒
3 フランジ
4 真空チャンバー
5 冷却部
6 無酸素銅棒
7 冷却パイプ
8 気化窒素逃しチューブ
9 小径冷却パイプ
10 気泡
101 走査電子顕微鏡(SEM)
102 電子源
103 電子ビーム
104 第1コンデンサレンズ
105 第2コンデンサレンズ
106 偏向コイル
107 電子光学鏡筒
108 2次電子検出器
109 試料ホルダ
110 アンチコンタミネーショントラップ
111 上磁極
112 下磁極
113 試料ステージ
114 冷媒
115 冷却タンク
116 真空チャンバー
117 フランジ
119 冷却部
120 冷却タンク注入口
121 冷却パイプ
122 冷却パイプ調整部
123 内側冷却タンク
124 熱シールド部
125 外側冷却タンク
126 気化窒素逃しチューブ
128 気泡
本明細書で引用した全ての刊行物、特許および特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。
Claims (19)
- 真空応用装置の真空試料室の内部にその冷却部が配置されるアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、前記冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備え、
前記導入管の内部に前記排出管が挿入されている
ことを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記導入管の位置を調整する調整部を備えることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、前記導入管より熱伝導率が高い材質で構成されていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、無酸素銅またはアルミニウムで構成されていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、半球状、中心部が窪んだU字形状、上下に板状部を有する形状、または下部に板状部を有する形状であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷媒が液体窒素であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項1のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷媒を保持する内側冷却タンクと、当該内側冷却タンクを熱シールド部を挟んで収容する外側冷却タンクとを備え、前記熱シールド部と前記真空試料室が空間的に繋がっている構造であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - アンチコンタミネーショントラップを備え、その真空試料室の内部に前記アンチコンタミネーショントラップの冷却部が配置されている真空応用装置であって、
前記冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、前記冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備え、
前記導入管の内部に前記排出管が挿入されている
ことを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記導入管の位置を調整する調整部を備えることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷却部が、前記導入管より熱伝導率が高い材質で構成されていることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷却部が、無酸素銅またはアルミニウムで構成されていることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷却部が、半球状、中心部が窪んだU字形状、上下に板状部を有する形状、または下部に板状部を有する形状であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷媒が液体窒素であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷媒を保持する内側冷却タンクと、当該内側冷却タンクを熱シールド部を挟んで収容する外側冷却タンクとを備え、前記熱シールド部と前記真空試料室が空間的に繋がっている構造であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
前記冷媒と同一種の冷媒で試料を冷却する冷却ホルダを備えることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
当該真空応用装置が、対物レンズの上磁極と外磁極との間に試料を配置する荷電粒子線装置であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項8の真空応用装置であって、
当該真空応用装置が、薄膜試料に電子ビームを透過させる透過電子顕微鏡であることを特徴とする真空応用装置。 - 真空応用装置で装置内冷却部を冷却し試料のコンタミネーションを防ぐアンチコンタミネーショントラップであって、
冷却部を冷却する冷媒を入れる冷却タンクから冷却部まで冷却パイプを有し、前記冷却パイプは、前記冷却タンクから前記冷却部に向けて低くなるように勾配がつけられており、
前記冷却タンクから前記冷却部の先端まで冷媒が供給されることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項18のアンチコンタミネーショントラップにおいて、
冷却部、冷却パイプは無酸素銅やアルミニウムの高熱伝導率の材料を用いることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。
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JP2000046452A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-18 | Hitachi Ltd | 低温容器 |
JP2000133188A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡の試料冷却ホルダー |
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