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JP5931553B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は表示装置に係り、特に液晶表示パネルに対する曲げ強度を改善した液晶表示装置に関する。
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、TFT基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が設置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
液晶表示装置では、画面は一定のサイズを保ったまま、セットの外形寸法を小さくしたいという要求と同時に液晶表示パネルを薄くしたいという要求が強い。しかし、液晶表示パネルを薄くすると曲げ強度が問題となる。特に近年は、タッチパネルに指等を押し付けて画面の表示を制御する方式が増えている。このような方式では、タッチパネルを通して液晶表示パネルに曲げ応力が加わる。
液晶表示パネルに曲げ応力が加わった場合、ガラス基板であるTFT基板や対向基板の端部にガラスの欠け等が存在すると、その部分を起点にガラスが破壊する恐れがある。これを防止するために、欠けが生じやすいガラス基板の端部に面取りを施している。しかし、単に面取りを施しただけでは、安定して曲げ強度の高いガラス基板を得られるとは限らない。
「特許文献1」には、ガラス基板のたわみが生じたときのガラスのクラックを防止するために、ガラス基板に面取りを施し、面取り面の粗さ曲線の2乗平均平方根傾斜RΔqを0.1以下とする構成が記載されている。また、「特許文献2」には、ガラス基板にクラックを生じ難くするために、端部に面取りを施し、その面取り大きさを板厚方向において、18〜75μmとする構成が記載されている。
特開2011−84453号公報 特開2008−266046号公報
液晶表示パネルを構成するTFT基板や対向基板等のガラス基板に面取りを施すことは、曲げ強度の向上にはなるが、安定した強度を確保することは困難である。液晶表示パネルの全数に対して曲げ強度を確保するために、製造ライン中において、全数の液晶表示パネルのガラス基板の端部を評価する必要がある。
これは、ガラス基板の端部の面取り付近をカメラ等の光学方式を用いて行うが、従来は、測定精度が十分でなく、完成した液晶表示パネルの曲げ強度にもばらつきが生じていた。
本発明の課題は、製造ラインにおいて、効率的に、かつ、高精度で曲げ強度に対する評価を可能とする液晶表示装置を実現することである。また、曲げ強度について安定した特性を有する液晶表示装置を実現することである。
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段の主なものは次のとおりである。
(1)TFTと画素電極がマトリクス状に形成された平面が長方形であるTFT基板と、カラーフィルタが形成された平面が長方形である対向基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記TFT基板の長辺は前記対向基板の長辺よりも長く、前記対向基板の長辺にはC面取りが形成され、前記対向基板の長辺の中央部に対応する場所を中心として、前記TFT基板には、金属で形成された遮光膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置
(2)TFTと画素電極がマトリクス状に形成された平面が長方形であるTFT基板と、カラーフィルタが形成された平面が長方形である対向基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記TFT基板の長辺は前記対向基板の長辺よりも長く、前記対向基板の長辺にはC面取りが形成され、前記対向基板の長辺の中央部に対応する場所にはブラックマトリクスが形成され、前記長辺の中央部を挟んだ、所定の領域におけるC面取りが形成された部分の前記対向基板の上面には欠けが存在せず、前記所定の領域は、前記対向基板の前記長辺に沿った長さが1.3mmで、前記対向基板の短辺方向に沿った長さが0.1mmであることを特徴とする液晶表示装置。
本発明によれば、液晶表示パネルを構成するガラス基板の端部における欠け等の状況を効率よく、かつ、精度よく評価することが可能である。また、液晶表示パネル全数について短時間に評価可能であるので、液晶表示パネルの曲げ強度の評価を全数について行うことが出来、安定して品質の液晶表示パネルを市場に提供することが出来る。
本発明による液晶表示装置の斜視図である。 図1のA−A断面図である。 マザー基板における隣り合う液晶表示パネルの境界部を示す断面図である。 面取り前であって、遮光膜が形成された液晶表示装置の斜視図である。 面取り前のガラスの切断等によって生じた欠けの例である。 C面取り形成時において生じた欠けの例である。 液晶表示装置に対してC面取りを行う前後の工程を示すプロセスフローである。 従来例によるC面取り付近の評価方法を示す模式図である。 本発明によるC面取り付近の評価方法を示す模式図である。 C面取りを施す可能性のある他の辺を示す液晶表示装置の斜視図である。 通常のC面取りの断面図である。 修正したC面取りの例を示す断面図である。 マザー基板における隣り合う液晶表示パネルの境界部の他の例を示す断面図である。 ブラックマトリクスをC面取り評価用の遮光膜として使用する場合の例を示す断面図である。 ブラックマトリクスをC面取り評価用の遮光膜として使用する場合の例を示す斜視図である。
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
図1は、本発明を適用した液晶表示パネルの斜視図である。なお、本明細書では液晶表示パネルと言ったり液晶表示装置といったりするが、同義である。このような液晶表示パネルは例えば、携帯電話等に使用される。図1において、TFTや画素電極を有する画素がマトリクス状に配置したTFT基板100の上に画素に対応したカラーフィルタが形成された対向基板200が対向して配置されている。TFT基板100と対向基板200とは周辺のシール材によって接着し、TFT基板100と対向基板200の間には液晶が挟持されている。TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成され、TFT基板100が1枚になった部分は端子部150となっている。
図1において、対向基板200の2つの長辺にはC面取り10が施されている。後で説明するが、C面取り部分は曲げ強度に対して重要な影響をもつので、工程内において、面取り部10の形状を評価する必要がある。この評価を高精度に、かつ、高速におこなうために、本発明は、図1に示すように、対向基板200の長辺の中央部に対応する部分に島状の遮光膜20を形成している。図1において、対向基板200の長辺の長さをLとすると、島状の遮光膜20の中心は、L/2の場所と一致している。
この島状の遮光膜20は、工程中において、面取り部10をカメラ等で測定する場合に、高精度に測定を行うことを可能とする。遮光膜20はTFT基板100に形成され、位置は、対向基板200の長辺の中央部であり、大きさは例えば、対向基板200の長辺に沿った幅w=1.3〜2.6mm、奥行き、すなわち、対向基板200の短辺方向の長さはv=0.1〜0.2mmである。遮光膜20を対向基板200の長辺の中央部に配置するのは、対向基板200を押圧した場合に、中央部において、応力が最も大きくなるからである。
TFT基板100に形成された遮光膜20は金属膜によって形成される。TFT基板100には配線用又は電極用として様々な金属膜が形成されているので、その中の1層あるいは複数の層をパターニングする際、遮光膜20を同時に形成することが出来る。
図2は図1のA-A断面図である。図2において、TFT基板100と対向基板200がシール材30によって接着している。シール材30の内側には液晶110が封入されている。シール材30の外側は、空間となっており、この部分のTFT基板100側に島状の遮光膜20が形成されている。
図1は、個別の液晶表示パネルであるが、個別の液晶表示パネルを個々に製作することは能率が悪いので、多数の液晶表示パネルを配置したマザーパネルを製作し、これをダイシングあるいはスクライビング等によって個別の液晶表示パネルに分離する。図3は、このようなマザーパネルにおける個々の液晶表示パネルの境界部を示す断面図である。液晶表示パネルの分離線40を含む境界部に島状の遮光膜20が形成されている。
図4は、マザー基板から個々の液晶表示パネルを分離した状態を示す斜視図である。図4のTFT基板100および対向基板200にはまだ、面取りは施されていない。TFT基板100あるいは対向基板200等のガラスの欠けは、液晶表示パネルを個々に分離する際のスクライビング等の時にも発生するし、面取りを行ったときにも発生する。
図5はスクライビング等の時に生じた欠け50であり、図5(a)は欠け部分の平面図、図5(b)は図5(a)のB-B断面図である。図5における欠け50は、対向基板200の面取り部分10と対向基板の上面210の両方に発生していることが特徴である。図6は面取り時に発生した欠け50であり、図6(a)は欠け部分の平面図、図6(b)は図6(a)のC-C断面図である。図6における欠け50は、対向基板200の上面にのみ発生していることが特徴である。
対向基板200の曲げ強度に対する影響は面取り時に生じた欠け50、すなわち、対向基板200の上面に存在する欠け50の影響が大きい。したがって、製造工程内において、面取り後の形状を検査する工程を組み入れる必要がある。
図7は、本発明に関連する液晶表示パネルの製造プロセスフローである。図7において、工程Aにおいて、TFT基板100の成膜時に、面取り部分10の評価を容易にするための島状の遮光膜20をTFT基板100に形成する。これは、マザーTFT基板を形成するときに行われる。その後、マザーTFT基板とマザー対向基板を貼り合わせ、マザー基板を製作する。その後、工程Bにおいて、セル切断によって、マザー基板を個別の液晶表示パネルに分離する。その後、工程Cにおいて、個々の液晶表示パネルに対してC面取り加工を施す。
その後、判定の工程Dにおいて、個々の液晶表示パネル全てに対して、C面取り加工の評価を行う。この工程は、例えば、C面取り10がほどこされている部分に対応する対向基板200の上面を、検査用カメラ等を用いて画像評価する。このC面取り評価において、合格品は工程Eに流して洗浄し、後工程に流す。判定の工程Dにおいて、不合格品は、再度C面取りを行うか、C面取りによる回復が不可能と判断されれば破棄される。
図8は従来例での図7の工程Dにおける検査の概要を示す模式図である。図8において、液晶表示パネルの対向基板200のC面取り10の上方に検査用カメラ300が設置されており、このカメラ300によってC面取り10のある部分における対向基板200の上面210に欠け50があるか否かについて検査を行う。
図8における従来例では、対向基板200の下面、あるいは、TFT基板100の上面には特定パターンは形成されておらず、不規則なパターンが形成されていることもあるし、下方の物体が映り込むこともある。したがって、カメラ300によって対向基板200の上面210を測定しても十分な精度を上げることが出来なかった。
図9は、本発明による図7の工程Dにおける検査の概要を示す模式図である。図9では、対向基板200にC面取り10がほどこされており、TFT基板100の上面には、島状の遮光パターン20が形成されている。遮光パターン20の大きさは、図1で説明したように、長辺の中央部において、辺方向の幅wは1.3〜2.6mm、奥行きvは0.1〜0.2mmである。
本発明では、この遮光パターン20の存在する領域では、図6に示すような、対向基板200の上面210にはガラスの欠けが存在しないことを特徴としている。本発明によれば、遮光パターン20の存在によって、C面取り10の存在している付近における対向基板200の上面の欠け50の存在を正確に、かつ迅速に測定することが出来る。
対向基板200の上面210の欠け50を測定する理由は、対向基板200に対する曲げ強度は、対向基板200の上面210に存在する欠け50が最も影響するからである。最も厳しい仕様は、検査領域である島状遮光膜の大きさが、長辺方向の長さが2.6mmで、奥行き、すなわち、短辺方向の長さが0.2mmの範囲でガラスの欠けが存在しないことである。また、検査領域である島状遮光膜20の大きさが最も緩い仕様は、長辺方向の幅が1.3mmで、奥行き、すなわち、短辺方向の幅が、0.1mmの範囲でガラスの欠け50が存在しないことを特徴としている。
このように、対向基板200の中央部において、面取り後の上面210におけるガラスの欠けが存在しないことによって対向基板200の曲げ強度を所定の値以上に維持できると同時に、対向基板200の面取り後の上面210の欠け50の存在を制御する目安とすることが出来る。
図1は対向基板200の長辺にC面取り10を施した場合である。C面取り10は、対向基板200の長辺のみでなく、他の辺あるいは、TFT基板100の辺に施しても効果がある。図10は、C面取り10が可能であり、かつC面取り10の効果がある辺を示している。図10では、TFT基板100の4辺、対向基板200の3辺に対してC面取り10を施す場合を示している。C面取り10の場所は合計7辺である。
図10において、対向基板200の端子部150側の短辺、TFT基板100側の端子150側の上面にはC面取りは施していない。図10に示すような液晶表示パネルにおいては、対向基板200の厚さが小さいので、十分なC面取りの角度を確保できないからである。
図10において、C面取り10を施す辺に対応する下方には、C面取り10の特に、対向基板200においては上面、TFT基板100においては、下面の欠けが良好に観察できるように、島状の遮光膜20が形成されている。例えば、対向基板200の短辺のC面取り10部分の評価を能率的に行うために、TFT基板100の対応する部分には、島状の遮光膜20が形成されている。これによって、図9に示すような、C面取り部分の正確で迅速な評価を行うことが出来る。
このような、島状の遮光膜20は、対向基板200のC面取り評価を行う場合と、TFT基板100のC面取り評価を行う場合とで共用することが出来る。カメラ300の焦点を変えるだけで対応することが出来る。図10において、TFT基板100の端子部150の下面にC面取り10を施す場合の遮光膜20を記載しているが、これは、端子部150に形成された、金属膜による端子によって代用することも出来る。
図11は標準的なC面取り10の断面形状である。図16において、C面取り10の角度θは45度であり、C面取り10の幅dは15μm〜50μmである。C面取り10の幅dが15μmよりも小さいと曲げ強度のばらつきが大きくなり、50μmを超えると対向基板200の上面210に欠け50が生じやすくなる。
このようにしてC面取り10を形成した場合に、対向基板200の上面210等に欠け50が生じた場合は、その製品は、曲げ強度が十分でないとして、出荷出来なくなる。図12は、このような欠け50が存在する基板に対して、欠け部分を含むC面取り10をさらにおこなうことによって、対向基板200の上面210から欠け50を取り除いた例である。図12において、C面取り10における上面210との角度θは45度よりも小さくなっている。
図13は、マザー基板における隣り合う2個の液晶表示パネルの境界部を示すものである。図13の例では、シール材30は、隣り合う2個の液晶表示パネルにおいて連続して形成されている。この場合も、図3と同様に、分離線40を挟んで所定の幅で島状遮光膜20を形成することによって、C面取り形成後の欠け50の評価を容易にかつ迅速に行うことが出来る。
図13では、シール材30が遮光膜20の上を覆って形成されているが、シール材30は完全な黒色ではないので、シール材30を透して遮光膜20を見ることが出来、遮光膜20を用いることによって、図9に示すように、対向基板200の上面210等の欠け50を安定して、かつ、効率的に測定することが出来る。
図14は、マザー基板における隣り合う2個の液晶表示パネルの境界部を示すものである。図14の例では、対向基板200に形成されたブラックマトリクス220は、隣り合う2個の液晶表示パネルに対して連続して形成されている。ブラックマトリクス220は遮光膜20としての効果を有しているので、島状の遮光膜20を別途形成しなくとも、このブラックマトリクス220を利用して、C面取り部分の対向基板200上面210の欠けを評価することが出来る。
ただし、図14の場合は、ブラックマトリクス220が連続して形成されているので、図9に示すような、カメラ300等による測定時は欠け50の評価範囲21をあらかじめ決めておく必要がある。この評価範囲21は図1等における島状の遮光膜20の大きさと同一である。すなわち、最も厳しい仕様は、対向基板の長辺方向の幅2.6mmで、奥行き、すなわち、短辺方向の長さが0.2mmの範囲でガラスの欠け50が存在しないことである。また、最も緩い仕様は、対向基板の長辺方向の幅が1.3mmで奥行き、すなわち、短辺方向の長さが0.1mmの範囲でガラスの欠け50が存在しないことである。
図15は、マザー基板を図14における分離線40によって分離した場合の、液晶表示パネル周辺におけるブラックマトリクス220の範囲を示す斜視図である。図9に示すカメラ300等による欠け50の測定は、図15における範囲21を測定することになる。図15では、島状の範囲21に境界が記載されているが、実際の製品ではこのような境界の記載はないので、測定装置側で、所定の面積内を測定するように設定する必要がある。
図15では、対向基板200の上面210側、あるいは、TFT基板100の下面側にC面取り10を形成する場合の遮光膜の範囲21を示しているが、これに限らず、対向基板200、TFT基板100の短辺側にC面取り10を施す場合にもブラックマトリクス220内に範囲を設定するだけで、正確で迅速な欠け50の評価を行うことが出来る。
なお、ガラスの厚みや特性、タクト、或いは顧客の要求等により、検査する長辺の長さは、0.3mmから10mmの範囲とすることも可能である。
10…C面取り、 20…遮光膜、 21…遮光膜領域、 30…シール材、 40…分離線、 50…欠け、 100…TFT基板、 110…液晶、 150…端子部、 200…対向基板、 210…対向基板上面、 220…ブラックマトリクス、 300…カメラ、 400…ステージ、 θ…面取り角度

Claims (5)

  1. TFTと画素電極がマトリクス状に形成された平面が長方形であるTFT基板と、カラーフィルタが形成された平面が長方形である対向基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
    前記TFT基板の長辺は前記対向基板の長辺よりも長く、
    前記対向基板の長辺側端部にC面取りが形成され、
    前記C面取りが形成された前記対向基板の長辺側端部の中央部に対応する場所を中心として、前記TFT基板上に、金属で形成された遮光膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置
  2. 前記対向基板の前記TFT基板の前記遮光膜に対応する部分において、前記遮光膜の大きさは、前記対向基板の前記長辺に沿った長さは1.3mmで、前記対向基板の短辺方向の長さは0.1mmであり、
    前記C面取りが形成された部分の対向基板の上面において、前記遮光膜と重複する領域には、欠けが存在しないことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記対向基板の前記TFT基板の前記遮光膜に対応する部分において、前記遮光膜の大きさは、前記対向基板の前記長辺に沿った長さは2.6mmで、前記対向基板の短辺方向の長さは0.2mmであり、
    前記C面取りが形成された部分の対向基板の上面において、前記遮光膜と重複する領域には、欠けが存在しないことを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置。
  4. 前記遮光膜は前記TFT基板と前記対向基板を接着するシール材によって覆われていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  5. 前記対向基板の短辺側端部にC面取りが施され、
    前記C面取りが形成された前記対向基板の短辺側端部の中央部に対応する場所を中心として、前記TFT基板上に、金属で形成された遮光膜が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置
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