JP5988599B2 - Workpiece division method - Google Patents
Workpiece division method Download PDFInfo
- Publication number
- JP5988599B2 JP5988599B2 JP2012026193A JP2012026193A JP5988599B2 JP 5988599 B2 JP5988599 B2 JP 5988599B2 JP 2012026193 A JP2012026193 A JP 2012026193A JP 2012026193 A JP2012026193 A JP 2012026193A JP 5988599 B2 JP5988599 B2 JP 5988599B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive tape
- holding
- workpiece
- dividing
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 73
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000009300 dissolved air flotation Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は、半導体ウェーハなどの被加工物の分割方法に関する。 The present invention relates to a method for dividing a workpiece such as a semiconductor wafer.
従来、例えば、特許文献1に開示されるように、粘着テープに貼着された被加工物について、改質層、レーザー加工溝、切削溝等の分割起点を分割予定ラインに沿って形成したのちに、分割装置を用いて個々のチップに分割することが行われている。 Conventionally, for example, as disclosed in Patent Document 1, after forming a dividing start point such as a modified layer, a laser processing groove, a cutting groove, or the like along a planned dividing line for a workpiece attached to an adhesive tape, In addition, it is divided into individual chips using a dividing device.
特許文献1では、被加工物が貼着された粘着テープを拡張することで被加工物に外力を付与して被加工物を分割する技術について開示されている。拡張によって伸ばされた粘着テープは、拡張した状態から開放されると、伸ばされた部位によって余剰部位が形成することになる。この余剰部位にはテンションがかからずに弛んだ状態となるため、分割後の隣接するチップ同士が接触して欠損や破損が生じることが懸念される。 Patent Document 1 discloses a technique for dividing a workpiece by applying an external force to the workpiece by expanding the adhesive tape to which the workpiece is attached. When the adhesive tape stretched by expansion is released from the expanded state, a surplus portion is formed by the stretched portion. Since this surplus portion is in a relaxed state without being applied with tension, there is a concern that adjacent chips after the division may come into contact with each other to cause a defect or breakage.
また、ウェーハにチップ実装時に接着剤の役割を果たす粘接着層からなるDAF(ダイアタッチフィルム)が貼着されている場合では、粘着テープが拡張した状態から解放されると、チップとともに分割されたDAF同士が接触し、DAFが再接合する不具合が生じることが懸念される。 In addition, when a DAF (die attach film) consisting of an adhesive layer that acts as an adhesive is mounted on the wafer when the chip is mounted, it is divided with the chip when the adhesive tape is released from the expanded state. There is a concern that the DAFs may come into contact with each other and the DAF may rejoin.
この点に関し、特許文献2には、拡張されて形成された粘着テープの余剰部位に熱等の外的刺激を付与し、余剰部位を収縮させることにより、チップ間の間隔を維持する方法が開示されている。 In this regard, Patent Document 2 discloses a method of maintaining an interval between chips by applying an external stimulus such as heat to an excessive portion of an expanded adhesive tape and contracting the excessive portion. Has been.
しかし、特許文献2に開示される技術であっても、粘着テープの材質や厚みによっては外的刺激による収縮が不十分である、或いは、収縮しないことが懸念され、更なる改善が切望されている。 However, even with the technique disclosed in Patent Document 2, there is a concern that shrinkage due to external stimulation is insufficient or does not shrink depending on the material and thickness of the adhesive tape, and further improvement is eagerly desired. Yes.
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、分割後におけるチップやDAFの接触を防止することにより、チップの欠損・破損やDAFの再接合を確実に防止可能とする被加工物の分割方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and the object of the present invention is to prevent chip chipping / damage and DAF rejoining by preventing contact between the chip and DAF after division. It is another object of the present invention to provide a method of dividing a workpiece that can be prevented.
請求項1に記載の発明によると、交差する複数の分割予定ラインが設定された被加工物に分割予定ラインに沿って分割起点を形成する分割起点形成ステップと、分割起点形成ステップを実施する前または後に、表面に粘着層を有した粘着テープに被加工物を貼着するとともに粘着テープを介して環状フレームに装着する粘着テープ貼着ステップと、分割起点形成ステップと粘着テープ貼着ステップを実施した後、被加工物を吸引保持可能な保持テーブル上に粘着テープを介して被加工物を載置するとともに環状フレームをフレーム保持手段で保持する保持ステップと、保持ステップを実施した後、保持テーブルとフレーム保持手段とを鉛直方向に相対移動させてフレーム保持手段に対して保持テーブルを突き上げ粘着テープを拡張することで、被加工物を分割起点から分割予定ラインに沿って分割し複数のチップを形成するとともに隣接するチップ間に間隔を形成する分割ステップと、分割ステップを実施した後、保持テーブルで粘着テープを介して被加工物を吸引保持することで隣接するチップ間の間隔を維持する吸引保持ステップと、吸引保持ステップを開始した後、保持テーブルとフレーム保持手段とを鉛直方向に相対移動させてフレーム保持手段に対する保持テーブルの突き上げを解除して、粘着テープが拡張されて形成された粘着テープの余剰部位が被加工物の外周側で粘着テープ表面側に盛り上がった隆起部を形成する隆起部形成ステップと、隆起部形成ステップを実施した後、粘着テープの粘着層を有しない裏面側から隆起部を吸引手段で吸引し、粘着テープの裏面側のみに突出させて裏面側隆起部とする隆起部反転ステップと、隆起部反転ステップを実施した後、裏面側隆起部を挟持手段で挟持し、裏面側隆起部の内側の粘着層同士を貼着することで内側部位同士を着接して粘着テープの余剰部位を削減する余剰削減ステップと、を備える被加工物の分割方法が提供される。 According to the first aspect of the present invention, before the division start point forming step and the division start point forming step for forming the division start point along the planned division line on the workpiece in which a plurality of the planned division lines intersecting are set. Or, later, an adhesive tape attaching step for attaching a work piece to an adhesive tape having an adhesive layer on the surface and attaching the workpiece to the annular frame via the adhesive tape, a division starting point forming step, and an adhesive tape attaching step are performed. After holding the work piece on the holding table capable of sucking and holding the work piece via the adhesive tape and holding the annular frame with the frame holding means, and after holding the holding step, the holding table And the frame holding means are moved relative to each other in the vertical direction to push up the holding table with respect to the frame holding means and expand the adhesive tape. Dividing the workpiece along the planned division line from the division starting point to form a plurality of chips and forming an interval between adjacent chips, and after carrying out the dividing step, the holding table via the adhesive tape A suction holding step for maintaining the interval between adjacent chips by sucking and holding the workpiece, and after starting the suction holding step, the holding table and the frame holding means are moved relative to each other in the vertical direction to the frame holding means. A raised portion forming step for releasing the push-up of the holding table and forming a raised portion in which the excess portion of the adhesive tape formed by expanding the adhesive tape is raised on the surface of the adhesive tape on the outer peripheral side of the workpiece; after performing part forming step, a raised portion sucked by a suction means an adhesive layer of the adhesive tape from having no back side, the back side of the adhesive tape Adhering a ridge reversing step, after performing the ridges reversing step, and sandwiched between clamping means backside ridge, the inner adhesive layer between the back surface side ridge only to protrude in a rear surface side ridge Thus, there is provided a surplus reduction step of attaching inner parts to each other and reducing surplus parts of the adhesive tape.
請求項2に記載の発明によると、余剰削減ステップを実施した後、被加工物の外周側の粘着テープを粘着テープの表面側から加熱して粘着テープを収縮させる収縮ステップと、を備える被加工物の分割方法が提供される。 According to invention of Claim 2, after implementing a surplus reduction step, the shrinkage | contraction step which heats the adhesive tape of the outer peripheral side of a to-be-processed object from the surface side of an adhesive tape, and shrinks an adhesive tape is provided. A method of dividing objects is provided.
本発明によると、分割後に粘着テープが撓み、隣接するチップ同士が接触して欠損・破損するといった不具合や、隣り合うチップの裏面のDAF同士が再結合するといった不具合を防ぐことも可能となる。 According to the present invention, it is possible to prevent a problem that the adhesive tape is bent after the division and the adjacent chips come into contact with each other to be lost or damaged, and a problem that the DAFs on the back surface of the adjacent chips are recombined.
本発明は、複数の交差する分割予定ラインが設定された被加工物を分割予定ラインに沿って分割する被加工物の分割方法であり、以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。 The present invention is a workpiece dividing method for dividing a workpiece, in which a plurality of intersecting scheduled division lines are set, along the scheduled division line. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Explained.
図1は、被加工物の実施形態である半導体ウェーハ11(以下、単に「ウェーハ11」とも記載される)について示す図である。ウェーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウェーハからなっており、表面11aに複数の交差する分割予定ライン(ストリート)13が格子状に形成されているとともに、該複数の分割予定ライン13によって区画された複数の領域にそれぞれデバイス15が形成されている。
FIG. 1 is a diagram showing a semiconductor wafer 11 (hereinafter also simply referred to as “
このように構成されたウェーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。ウェーハ11の外周にはシリコンウェーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ12が形成されている。なお、被加工物としては、分割予定ラインが規定されておらず、また、デバイスが形成されておらずパターンを有しないものも想定される。
The
以上のようなウェーハ11について、本発明にかかる被加工物(ウェーハ11)の分割方法が実施される。まず、ウェーハ11の分割予定ライン13に沿って分割起点を形成する分割起点形成ステップが実施される。
For the
図2に示すように、本実施形態ではレーザー加工装置による分割予定ライン13に沿った改質層(変質層)の形成により分割起点が形成される。なお、分割起点の形成は、この他にもレーザー加工装置によるレーザー加工溝の形成や、切削ブレードによる切削加工による切削溝の形成(ハーフカット)等によることも考えられる。
As shown in FIG. 2, in this embodiment, the division starting point is formed by forming a modified layer (modified layer) along the
図2には、ウェーハ11の内部に分割予定ライン13に沿って改質層を形成するレーザー加工装置の要部が示されている。レーザー加工装置は、ウェーハ11を保持するチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持されたウェーハ11にレーザービームを照射するレーザービーム照射ユニット2と、チャックテーブル10に保持されたウェーハ11を撮像するCCDカメラ等の撮像手段4を具備して構成できる。
FIG. 2 shows a main part of a laser processing apparatus for forming a modified layer along the
チャックテーブル10は、ウェーハ11を吸引保持するように構成されており、図示しない移動機構により図1において矢印Xで示す加工送り方向及び矢印Yで示す割り出し送り方向に移動される。
The chuck table 10 is configured to suck and hold the
レーザービーム照射ユニット2は、実質上水平に配置された円筒形状のケーシング6を有している。ケーシング6内には、YAGレーザー発振器或いはYVO4レーザー発振器等のパルスレーザー発振器及び繰り返し周波数設定手段を備えたパルスレーザー発振手段が配設されている。ケーシング6の先端部には、パルスレーザー発振手段から発振されたパルスレーザービームを集光するための集光器8が装着されている。 The laser beam irradiation unit 2 has a cylindrical casing 6 arranged substantially horizontally. In the casing 6, pulse laser oscillation means including a pulse laser oscillator such as a YAG laser oscillator or a YVO4 laser oscillator and a repetition frequency setting means is disposed. A condenser 8 for condensing the pulse laser beam oscillated from the pulse laser oscillating means is attached to the tip of the casing 6.
撮像手段4は、可視光線によって撮像する撮像素子(CCD)等を備えて構成されており、撮像した画像信号は図示しない制御手段に送信される。 The imaging unit 4 includes an imaging device (CCD) that captures an image with visible light, and the captured image signal is transmitted to a control unit (not shown).
以上の構成とするレーザー加工装置を用い、集光器8からウェーハ11に対して透過性を有するパルスレーザービームを照射しつつ、チャックテーブル10を矢印X方向に所定の送り速度で移動させることで、ウェーハ11の内部に分割予定ライン13に沿った改質層(溶融再硬化層)が形成される。
Using the laser processing apparatus configured as described above, the chuck table 10 is moved in the direction of the arrow X at a predetermined feed speed while irradiating a pulsed laser beam having transparency to the
改質層は、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲とは異なる状態になった領域をいう。改質層形成の際の加工条件は、例えば次のように設定されている。
光源 :LD励起Qスイッチ Nd:YVO4パルスレーザー
波長 :1064nm
繰り返し周波数 :100kHz
パルス出力 :10μJ
集光スポット径 :φ1μm
加工送り速度 :100mm/秒
The modified layer refers to a region where the density, refractive index, mechanical strength, and other physical characteristics are different from the surroundings. The processing conditions for forming the modified layer are set as follows, for example.
Light source: LD excitation Q switch Nd: YVO 4 pulse laser Wavelength: 1064 nm
Repetition frequency: 100 kHz
Pulse output: 10μJ
Condensing spot diameter: φ1μm
Processing feed rate: 100 mm / sec
この改質層の形成は、第1の方向(図2におけるX軸方向)に伸長する全ての分割予定ライン13に沿って実施した後、チャックテーブル10を90度回転してから、第1の方向と直角の第2の方向に伸長する全ての分割予定ライン13に沿って実施される。
The reformed layer is formed along all the
以上のようにして、分割起点形成ステップが実施される。次に、この分割起点形成ステップを実施する前又は後に、図3に示すように、表面に粘着層を有した粘着テープT(テープ)にウェーハ11を貼着するとともに粘着テープTを介して環状フレームFに装着する粘着テープ貼着ステップについて説明する。
As described above, the division start point forming step is performed. Next, before or after performing the division starting point forming step, as shown in FIG. 3, the
粘着テープTは、後述する分割ステップを実施する際に、分割予定ラインにウェーハ11を分離させる外力を付与するためのものである。粘着テープTは、環状フレームFで囲まれた領域を塞ぐように設けられ、ウェーハ11を粘着テープTに貼着すると、ウェーハ11が粘着テープTを介して環状フレームFに固定される。
The adhesive tape T is used to apply an external force for separating the
次いで、以上に説明した分割起点形成ステップと粘着テープ貼着ステップを実施した後、ウェーハ11を吸引保持可能なチャックテーブル61(保持テーブル)上に粘着テープTを介して被加工物を載置するとともに環状フレームFをフレーム保持部材66(フレーム保持手段)で保持する保持ステップを実施する。
Next, after performing the split starting point forming step and the adhesive tape attaching step described above, the workpiece is placed on the chuck table 61 (holding table) capable of sucking and holding the
本実施形態では、図4に示される分割装置60にて保持ステップが実施される。分割装置60のチャックテーブル61は、切替弁69を介して吸引源67に接続されており、チャックテーブル61の上面に吸引保持面61aが形成される。
In the present embodiment, the holding step is performed by the dividing
チャックテーブル61の側方には、環状フレームFが載置される載置面66aと、載置面66aに載置された環状フレームFを上側から挟み込むように保持するクランプ68と、を有するフレーム保持部材66が配置されている。フレーム保持部材66はその載置面66aがチャックテーブル61の吸引保持面61aと略同一高さとなる基準位置に位置付けられる。
On the side of the chuck table 61, a frame having a
この保持ステップでは、切替弁69はOFFの状態とされ、吸引源67と吸引保持面61aの導通が遮断され、ウェーハ11の裏面に吸引保持面61aによる吸引力(負圧)が生じないこととしている。
In this holding step, the switching
次いで、以上に説明した保持ステップを実施した後、図5に示すように、チャックテーブル61とフレーム保持部材66とを鉛直方向に相対移動させてフレーム保持部材66に対してチャックテーブル61を突き上げ粘着テープTを拡張することで、ウェーハ11を分割起点から分割予定ラインに沿って分割し複数のチップ15A(デバイス)を形成するとともに、隣接するチップ15A間に間隔を形成する分割ステップが実施される。
Next, after carrying out the holding step described above, as shown in FIG. 5, the chuck table 61 and the
本実施形態では、エアシリンダ65を駆動してフレーム保持部材66を図5に示す拡張位置に下降させることで、チャックテーブル61とフレーム保持部材66とを鉛直方向に相対移動させる。これにより、フレーム保持部材66の載置面66a上に保持されている環状フレームFも下降するため、環状フレームFに装着された粘着テープTはチャックテーブル61の上端縁に当接して主に半径方向に拡張される。
In the present embodiment, the chuck table 61 and the
その結果、粘着テープTに貼着されているウェーハ11には放射状に引張力が作用する。このようにウェーハ11に放射状に引張力が作用すると、分割予定ライン13(図2参照)に沿って形成された改質層20は強度が低下されているので、この改質層20が分割基点となってウェーハ11は改質層20に沿って破断され、個々のチップ15Aに分割される。
As a result, a tensile force acts radially on the
この分割ステップにおいても、切替弁69はOFFの状態とされ、吸引源67と吸引保持面61aの導通が遮断され、ウェーハ11の裏面に吸引保持面61aによる吸引力(負圧)が生じないこととしている。
Also in this division step, the switching
次いで、以上の分割ステップを実施した後、図6に示すように、チャックテーブル61で粘着テープTを介してウェーハ11を吸引保持することで隣接するチップ15A間の間隔を維持する吸引保持ステップが実施される。
Next, after performing the above dividing step, as shown in FIG. 6, a suction holding step for maintaining the interval between the
即ち、分割ステップを終えて隣接するチップ15A間に間隔が形成された状態において、切替弁69をOFFからONの状態とし、吸引保持面61aを吸引源67と連通させる。
That is, in the state where the separation step is completed and the space is formed between the
これにより、吸引保持面61aに負圧が発生し、粘着テープTを介して各チップ15Aが吸引保持面61aに吸引された状態となり、各チップ15Aの横方向の移動が規制され、各チップ15Aの間の間隔を維持することができる。なお、この吸引保持ステップは、少なくとも後述する余剰削減ステップが実施完了されるまで継続される。
As a result, a negative pressure is generated on the
そして、この吸引保持ステップを開始した後、図7に示すように、チャックテーブル61とフレーム保持部材66とを鉛直方向に相対移動させてフレーム保持部材66に対するチャックテーブル61の突き上げを解除して、粘着テープTが拡張されて形成された粘着テープTの余剰部位がウェーハ11の外周側で粘着テープT表面側に盛り上がった隆起部Taを形成する隆起部形成ステップを実施する。
Then, after starting this suction holding step, as shown in FIG. 7, the chuck table 61 and the
この隆起部形成ステップがなされる際には、切替弁69のONの状態が維持され、吸引保持面61aと吸引源67が連通して各チップ15Aの間の間隔が維持される。そして、フレーム保持部材66を元の位置に上昇させる、即ち、フレーム保持部材66を下降前の基準位置に戻すと、フレーム保持部材66の下降によって吸引保持面61aとフレーム保持部材66の間の位置において伸ばされていた部位は、引張力が開放されることで弛み、テンションがかかっていない余剰部位として現れる。
When this bulge forming step is performed, the switching
そして、この余剰部位は、図8(A)にも示されるように、粘着テープT表面側、即ち、フレーム保持部材66を元の基準位置に戻す方向の側に盛り上がり、隆起部Taを形成することになる。隆起部Taにおいては粘着テープTの粘着層Tnが上側(表面側)に現れることになっている。
Then, as shown in FIG. 8A, the surplus portion bulges to the surface side of the adhesive tape T, that is, the side in the direction in which the
次いで、以上の隆起部形成ステップを実施した後、図8(B)に示すように、粘着テープTの裏面側から隆起部Ta(図8(A))を吸引機構(吸引手段)80で吸引し、粘着テープTの裏面側に突出させて裏面側隆起部Tbとする隆起部反転ステップが実施される。 Next, after performing the above-described raised portion forming step, the raised portion Ta (FIG. 8A) is sucked by the suction mechanism (suction means) 80 from the back side of the adhesive tape T as shown in FIG. 8B. And the protruding part inversion step which makes it protrude in the back surface side of the adhesive tape T and makes it the back surface side protruding part Tb is implemented.
吸引機構80は、例えば、図7に示されるチャックテーブル61の周囲とフレーム保持部材66の間に形成される円環状の空間において、図8(B)に示されるような吸引ブロック82を複数箇所に配置することで実現できる。
The
図8(B)において、吸引ブロック82は、切替弁84を介して吸引源86に接続されており、吸引ブロック82に形成した吸引口82aに負圧を発生させることにより、粘着テープTの裏側を吸い込むようにして、裏面側隆起部Tbを形成すべく構成される。
In FIG. 8B, the
図8(B)の構成とする場合、吸引ブロック82はチャックテーブル61の周囲を取り囲むように複数箇所に配置される。例えば、チャックテーブル61を取り囲む周方向において90度の位置をずらして合計4箇所に配置することで、直交する分割予定ライン13(図1参照)の延長線上に対向配置させる構成とすることが考えられる。 In the case of the configuration of FIG. 8B, the suction blocks 82 are arranged at a plurality of locations so as to surround the chuck table 61. For example, it is considered that a configuration in which the positions of 90 degrees in the circumferential direction surrounding the chuck table 61 are shifted and arranged at a total of four locations so as to face each other on an extension line of the orthogonal division planned lines 13 (see FIG. 1). It is done.
また、ロール状の粘着テープにはロールの巻回方向にテンションが内在している。当該テンションの方向性により、ロールの巻回方向に直交する方向ではエキスパンド後に皺が発生しやすく各チップ15Aの間の間隔が維持しにくいため、ロールの巻回方向と直交するこの「間隔が維持しにくい方向」においてチャックテーブル61を間に挟むような位置に、吸引ブロック82を配置することが考えられる。
Moreover, tension is inherent in the roll winding direction in the roll-shaped adhesive tape. Due to the direction of the tension, wrinkles are likely to occur after expansion in the direction perpendicular to the winding direction of the roll, and the spacing between the
さらに、本実施形態のように複数箇所に吸引ブロック82を配置する形態のほかにも、円環状の部材にて構成される吸引機構を構成し、チャックテーブル61を取り囲む全周囲において、裏面側隆起部Tbを形成させることとしてもよい。 Further, in addition to the configuration in which the suction blocks 82 are arranged at a plurality of positions as in the present embodiment, a suction mechanism configured by an annular member is configured, and the back surface side bulge is formed around the entire circumference surrounding the chuck table 61. The part Tb may be formed.
次いで、以上の隆起部反転ステップを実施した後、図9(A)に示すように、裏面側隆起部Tbを挟持機構(挟持手段)90で挟持することで裏面側隆起部Tbの内側部位同士を着接して粘着テープTの余剰部位を削減する余剰削減ステップが実施される。 Next, after performing the above-described ridge reversal step, as shown in FIG. 9A, the back side bulge portion Tb is clamped by the clamping mechanism (clamping means) 90 so that the inner portions of the back side bulge portion Tb A surplus reduction step is performed in which the surplus portion of the adhesive tape T is reduced.
挟持機構90は、本実施形態のように、例えば、裏面側隆起部Tbを挟んで対向する挟持部材92,92を、吸引ブロック82の上方に配置することで構成することができる。
As in the present embodiment, the
図9(A)に示すように、隆起部反転ステップを実施して吸引ブロック82にて裏面側隆起部Tbを形成した状態とし、挟持部材92,92同士を近づけることで、図9(B)に示すように、挟持部材92,92の間に裏面側隆起部Tbが挟まれた状態とする。
As shown in FIG. 9 (A), the raised portion reversing step is performed to form the back surface raised portion Tb in the
図9(A)の状態では、裏面側隆起部Tbにおいて粘着層Tnが内側に配置される谷状の部位が構成されているため、図9(B)のように挟持部材92,92よって裏面側隆起部Tbが挟持されると、谷状の部位の内側の粘着層Tn同士が貼着することになる。
In the state of FIG. 9 (A), since the valley-like portion where the adhesive layer Tn is disposed inside is formed in the back side raised portion Tb, the back surface is formed by the sandwiching
そして、以上のように裏面側隆起部Tbの内側部位同士を貼着することで、粘着テープTのうち引張力が開放されることで弛んでいた部分(余剰部位)が解消され、実質的に粘着テープTの弛みがなくなることになる。そして、余剰部位がなくなることによって、粘着テープTはテンションを呈することができるようになる。 And by sticking the inner site | parts of the back surface side protruding part Tb as mentioned above, the part (excess site | part) which was loosened by releasing the tension | tensile_strength among adhesive tape T is eliminated, and it is substantially. The slack of the adhesive tape T is eliminated. And the adhesive tape T can exhibit a tension | tensile_strength by eliminating an excess part.
以上のようにして、弛みによりテンションがかかっていない余剰部位(隆起部Taや裏面側隆起部Tb)がなくされることで、図10に示すように、環状フレームFをフレーム保持部材66から取り外し、チャックテーブル61から粘着テープT、及び、チップ15Aを取り外した場合には、粘着テープTがテンションを呈することになり、このテンションによって、既に形成された各チップ15Aの間の間隔を維持することができる。
As described above, the excess portion (the raised portion Ta and the back-side raised portion Tb) where no tension is applied due to the loosening is eliminated, so that the annular frame F is removed from the
以上のようにして、分割後に粘着テープTが撓み、隣接するチップ15A,15A同士が接触して欠損・破損するといった不具合を防ぐことが可能となる。
As described above, it is possible to prevent a problem that the adhesive tape T bends after the division and the
また、チップ実装時に接着剤の役割を果たす粘接着層からなるDAF(ダイアタッチフィルム)が、予めウェーハ11の裏面に貼着されている場合には、DAFがチップ15Aと一体となって分割される。
In addition, when a DAF (die attach film) composed of an adhesive layer serving as an adhesive during chip mounting is attached to the back surface of the
このようにDAFがチップ15Aの裏面に貼着されている場合であっても、隣接するチップ15A,15A同士の間隔が維持されることで、分割後に粘着テープTが撓み、隣り合うチップ15Aの裏面のDAF同士が再結合するといった不具合を防ぐことも可能となる。
Even when the DAF is attached to the back surface of the
さらに、好ましい実施形態として、図11に示すように、余剰削減ステップを実施した後、ウェーハ11の外周側の粘着テープTを粘着テープTの表面側から加熱して粘着テープを収縮させる収縮ステップを備えることとする。
Furthermore, as a preferred embodiment, as shown in FIG. 11, after performing the surplus reduction step, the shrinking step of shrinking the adhesive tape by heating the adhesive tape T on the outer peripheral side of the
本実施形態では、ランプ(照明)、又は、ヒーターなどで構成される加熱ユニット96にて、ウェーハ11の外周側の部位における粘着テープTを加熱することで、粘着テープTを収縮させることとしている。
In the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive tape T is contracted by heating the pressure-sensitive adhesive tape T on the outer peripheral side portion of the
そして、このようにウェーハ11の外周側の部位の粘着テープTを収縮させることにより、チャックテーブル61から粘着テープT、及び、チップ15Aを取り外した場合には、ウェーハ11の中心から外側に向かうテンションが生じることになり、チップ15A,15Aの間隔をより確実に維持する、あるいは、より間隔を広げることが可能となる。
When the adhesive tape T and the
なお、加熱ユニット96の形態については特に限定されるものではないが、例えば、一つの加熱ユニット96をウェーハ11の外周を巡回させるようにして、ウェーハ11の外周側にある粘着テープTを満遍なく加熱させることが考えられる。
The form of the
また、粘着テープTのシート基材としては、常温では伸縮性を有し所定温度(例えば70度)以上の熱によって収縮する性質を有するポリ塩化ビニル(PVC)、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリオレフィン等の合成樹脂シートを用いることが考えられる。 Also, as the sheet base material of the adhesive tape T, synthesis of polyvinyl chloride (PVC), polypropylene, polyethylene, polyolefin, etc., which has elasticity at room temperature and contracts by heat at a predetermined temperature (for example, 70 degrees) or more. It is conceivable to use a resin sheet.
11 ウェーハ
15A チップ
20 改質層
60 分割装置
61 チャックテーブル
66 フレーム保持部材
80 吸引機構
82 吸引ブロック
86 吸引源
90 挟持機構
92 挟持部材
96 加熱ユニット
F 環状フレーム
T 粘着テープ
Ta 隆起部
Tb 裏面側隆起部
Tn 粘着層
11
Claims (2)
該分割起点形成ステップを実施する前または後に、表面に粘着層を有した粘着テープに被加工物を貼着するとともに該粘着テープを介して環状フレームに装着する粘着テープ貼着ステップと、
該分割起点形成ステップと該粘着テープ貼着ステップを実施した後、被加工物を吸引保持可能な保持テーブル上に該粘着テープを介して被加工物を載置するとともに該環状フレームをフレーム保持手段で保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、該保持テーブルと該フレーム保持手段とを鉛直方向に相対移動させて該フレーム保持手段に対して該保持テーブルを突き上げ該粘着テープを拡張することで、被加工物を該分割起点から該分割予定ラインに沿って分割し複数のチップを形成するとともに隣接する該チップ間に間隔を形成する分割ステップと、
該分割ステップを実施した後、該保持テーブルで該粘着テープを介して被加工物を吸引保持することで隣接する該チップ間の間隔を維持する吸引保持ステップと、
該吸引保持ステップを開始した後、該保持テーブルと該フレーム保持手段とを鉛直方向に相対移動させて該フレーム保持手段に対する該保持テーブルの突き上げを解除して、該粘着テープが拡張されて形成された該粘着テープの余剰部位が被加工物の外周側で該粘着テープ表面側に盛り上がった隆起部を形成する隆起部形成ステップと、
該隆起部形成ステップを実施した後、該粘着テープの粘着層を有しない裏面側から該隆起部を吸引手段で吸引し、該粘着テープの裏面側のみに突出させて裏面側隆起部とする隆起部反転ステップと、
該隆起部反転ステップを実施した後、該裏面側隆起部を挟持手段で挟持し、該裏面側隆起部の内側の粘着層同士を貼着することで内側部位同士を着接して該粘着テープの余剰部位を削減する余剰削減ステップと、
を備える被加工物の分割方法。 A division starting point forming step for forming a division starting point along the planned division line on the workpiece in which a plurality of planned division lines intersecting are set,
Before or after carrying out the division starting point forming step, an adhesive tape attaching step for attaching a workpiece to an adhesive tape having an adhesive layer on the surface and attaching the workpiece to the annular frame via the adhesive tape;
After performing the division starting point forming step and the adhesive tape attaching step, the workpiece is placed on the holding table capable of sucking and holding the workpiece via the adhesive tape and the annular frame is held by the frame. Holding step to hold in,
After carrying out the holding step, the holding table and the frame holding means are moved relative to each other in the vertical direction, the holding table is pushed up with respect to the frame holding means, and the adhesive tape is expanded. A dividing step of forming a plurality of chips by dividing along the planned dividing line from the dividing starting point, and forming an interval between the adjacent chips;
After performing the dividing step, a suction holding step for maintaining a distance between the adjacent chips by sucking and holding a workpiece via the adhesive tape on the holding table;
After the suction holding step is started, the adhesive table is formed by extending the holding table and the frame holding means relative to each other in the vertical direction to release the pushing up of the holding table with respect to the frame holding means. A raised portion forming step of forming a raised portion where the surplus portion of the adhesive tape is raised on the outer peripheral side of the workpiece on the surface side of the adhesive tape;
After carrying out the raised portion forming step, the raised portion is sucked from the back side of the adhesive tape that does not have the adhesive layer by suction means, and protrudes only to the back side of the adhesive tape to form a raised side raised portion. Part inversion step,
After performing the ridge reversal step, the back side bulge is sandwiched by clamping means, and the adhesive portions on the inside of the back side bulge are attached to each other so that the inner portions are attached to each other to attach the adhesive tape. A surplus reduction step to reduce surplus parts;
A method of dividing a workpiece comprising:
前記余剰削減ステップを実施した後、被加工物の外周側の前記粘着テープを該粘着テープの表面側から加熱して該粘着テープを収縮させる収縮ステップと、を備える被加工物の分割方法。 A method of dividing a workpiece according to claim 1,
A method of dividing a workpiece, comprising: a shrinking step of shrinking the pressure-sensitive adhesive tape by heating the pressure-sensitive adhesive tape on the outer peripheral side of the workpiece after the surplus reduction step is performed.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012026193A JP5988599B2 (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Workpiece division method |
TW102101795A TWI614078B (en) | 2012-02-09 | 2013-01-17 | Method of dividing processed objects |
KR1020130012489A KR101895262B1 (en) | 2012-02-09 | 2013-02-04 | Method for dividing workpiece |
CN201310044022.3A CN103247573B (en) | 2012-02-09 | 2013-02-04 | Method for dividing workpiece |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012026193A JP5988599B2 (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Workpiece division method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013165105A JP2013165105A (en) | 2013-08-22 |
JP5988599B2 true JP5988599B2 (en) | 2016-09-07 |
Family
ID=48926987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012026193A Active JP5988599B2 (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Workpiece division method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5988599B2 (en) |
KR (1) | KR101895262B1 (en) |
CN (1) | CN103247573B (en) |
TW (1) | TWI614078B (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6266429B2 (en) * | 2014-05-08 | 2018-01-24 | 株式会社ディスコ | Chip interval maintaining device and chip interval maintaining method |
JP6366393B2 (en) * | 2014-07-15 | 2018-08-01 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
JP2016166120A (en) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Processing method of laminated substrate, and processing device of laminated substrate by laser beam |
JP6815138B2 (en) * | 2016-09-06 | 2021-01-20 | 株式会社ディスコ | Suction retention system |
CN107275284B (en) * | 2017-06-29 | 2019-11-12 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | A kind of preparation method of DAF chip |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4238669B2 (en) * | 2003-08-07 | 2009-03-18 | 株式会社東京精密 | Expanding method and expanding apparatus |
JP2004146727A (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-20 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Transferring method of wafer |
JP2004349456A (en) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Expand tool |
JP2006310691A (en) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Hugle Electronics Inc | Foldaway film sheet extension method and expander therefor |
JP2007027562A (en) | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of fracturing bonding film attached on wafer |
JP2007123658A (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | Expansion apparatus of adhesive tape |
JP4851795B2 (en) * | 2006-01-13 | 2012-01-11 | 株式会社ディスコ | Wafer divider |
JP2009064905A (en) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | Extension method and extension apparatus |
JP5313036B2 (en) * | 2009-05-11 | 2013-10-09 | 株式会社ディスコ | How to expand adhesive tape |
-
2012
- 2012-02-09 JP JP2012026193A patent/JP5988599B2/en active Active
-
2013
- 2013-01-17 TW TW102101795A patent/TWI614078B/en active
- 2013-02-04 CN CN201310044022.3A patent/CN103247573B/en active Active
- 2013-02-04 KR KR1020130012489A patent/KR101895262B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130092458A (en) | 2013-08-20 |
CN103247573A (en) | 2013-08-14 |
TWI614078B (en) | 2018-02-11 |
KR101895262B1 (en) | 2018-09-05 |
TW201350243A (en) | 2013-12-16 |
JP2013165105A (en) | 2013-08-22 |
CN103247573B (en) | 2017-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5313036B2 (en) | How to expand adhesive tape | |
JP5904720B2 (en) | Wafer division method | |
JP5307384B2 (en) | Wafer division method | |
US7329564B2 (en) | Wafer dividing method | |
JP5988599B2 (en) | Workpiece division method | |
JP5495695B2 (en) | Wafer processing method | |
JP5800645B2 (en) | Tip spacing maintenance method | |
JP5800646B2 (en) | Tip spacing maintenance method | |
JP2006114691A (en) | Division method of wafer | |
JP4777761B2 (en) | Wafer division method | |
JP2006229021A (en) | Wafer dividing method | |
JP2011003757A (en) | Method of dividing wafer | |
KR20160108183A (en) | Method of manufacturing device chips | |
JP2005222989A (en) | Method for dividing wafer | |
TWI693633B (en) | Processing method of single crystal substrate | |
JP2007123658A (en) | Expansion apparatus of adhesive tape | |
JP6029347B2 (en) | Wafer processing method | |
KR102256562B1 (en) | Machining method of laminated substrate | |
CN107275256B (en) | Expansion device | |
JP2013191718A (en) | Workpiece division device and division method | |
JP2014067818A (en) | Fixing method of tape slack of frame unit | |
JP2019033212A (en) | Division method | |
JP6029348B2 (en) | Wafer processing method | |
JP6061788B2 (en) | Tip spacing maintenance method | |
JP6110257B2 (en) | Wafer unit processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150123 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160809 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5988599 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |