JP5970317B2 - Wiring board and electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、例えば電子部品が搭載される配線基板および電子装置に関するものである。 The present invention relates to a wiring board and an electronic device on which electronic components are mounted, for example.
従来から、半導体素子,撮像素子,発光素子,コンデンサ,コイル,抵抗および振動子等の電子部品を搭載するための配線基板としては、絶縁基板、および導体パターンを含む導体電極を有するものが知られている。このような構成の配線基板は、例えば特許文献1に開示されている。 Conventionally, wiring boards for mounting electronic components such as semiconductor elements, imaging elements, light emitting elements, capacitors, coils, resistors, and vibrators have been known to have an insulating substrate and a conductor electrode including a conductor pattern. ing. A wiring board having such a configuration is disclosed in Patent Document 1, for example.
例えば、絶縁基板に導体電極を所定パターンに被着させるとともに、導体電極の上面に、銅、ニッケル等からなる主導体層を被着させ、さらに金から成る被覆金属層を被着させた構造のものが知られている。 For example, a conductor electrode is deposited on an insulating substrate in a predetermined pattern, a main conductor layer made of copper, nickel, etc. is deposited on the upper surface of the conductor electrode, and a coated metal layer made of gold is further deposited. Things are known.
上述の配線基板において、例えば主導体層の外縁において被覆金属層の被着が充分でなく、主導体層の外縁が露出する場合がある。このように主導体層の外縁が露出していると、主導体層を構成する元素が主導体層の露出している箇所で大気中の水分等と接触し、主導体層が腐食されて溶出して、被覆金属層上に主導体層の構成成分が付着することがある。このように被覆金属層上に主導体層の構成成分が付着すると、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等が低下してしまい、導体電極に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性の低下、電子部品の搭載時における歩留まりの低下等を招くという問題を有することがあった。 In the above-described wiring board, for example, the coating metal layer may not be sufficiently deposited on the outer edge of the main conductor layer, and the outer edge of the main conductor layer may be exposed. When the outer edge of the main conductor layer is exposed in this way, the elements constituting the main conductor layer come into contact with moisture in the atmosphere at the exposed portion of the main conductor layer, and the main conductor layer is corroded and eluted. As a result, the constituent components of the main conductor layer may adhere to the coated metal layer. When the constituent components of the main conductor layer adhere to the coated metal layer in this way, flip chip mounting property, wire bonding mounting property, solder wettability, etc. are lowered, and the electrical and mechanical properties of the electronic component with respect to the conductor electrode are reduced. There have been problems that the reliability of connection is lowered and the yield is lowered when electronic components are mounted.
本発明の一つの態様による配線基板は、絶縁基板と、絶縁基板上に設けられた導体電極と、導体電極上に設けられた主導体層と、主導体層を覆うように主導体層上に設けられた被覆金属層と、主導体層が被覆金属層から露出された露出部を有しており、露出部に形成された腐食防止層とを備えており、腐食防止層は錯体からなり、錯体は、主導体層を構成する元素のシアン化物を主成分とする。
A wiring board according to one aspect of the present invention includes an insulating substrate, a conductor electrode provided on the insulating substrate, a main conductor layer provided on the conductor electrode, and a main conductor layer so as to cover the main conductor layer. The provided covering metal layer, the main conductor layer has an exposed portion exposed from the covering metal layer, and includes a corrosion preventing layer formed on the exposed portion , the corrosion preventing layer is made of a complex, complex shall be the main component cyanide of elements constituting the main conductor layer.
本発明の他の態様によれば、電子装置は、上記構成の配線基板と、配線基板に搭載された電子部品とを備えている。 According to another aspect of the present invention, an electronic device includes the wiring board having the above-described configuration and an electronic component mounted on the wiring board.
本発明の一つの態様による配線基板は、絶縁基板と、絶縁基板上に設けられた導体電極と、導体電極上に設けられた主導体層と、主導体層を覆うように主導体層上に設けられた被覆金属層と、主導体層が被覆金属層から露出された露出部を有しており、露出部に形成された腐食防止層とを備えており、腐食防止層は錯体からなり、錯体は、主導体層を構成する元素のシアン化物を主成分とする。これらによって、被覆金属層が主導体層を覆うように主導体層上に設けられて、主導体層が被覆金属層から露出された露出部を有していても、主導体層の露出部に腐食防止層が形成されているため、主導体層の露出部が大気中の水分等と接触し難いものとなり、主導体層が腐食されにくくなり、被覆金属層上に主導体層の構成成分が付着しにくいものとなって、導体電極に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性が向上された配線基板を得ることが可能となるものである。 A wiring board according to one aspect of the present invention includes an insulating substrate, a conductor electrode provided on the insulating substrate, a main conductor layer provided on the conductor electrode, and a main conductor layer so as to cover the main conductor layer. The provided covering metal layer, the main conductor layer has an exposed portion exposed from the covering metal layer, and includes a corrosion preventing layer formed on the exposed portion , the corrosion preventing layer is made of a complex, complex shall be the main component cyanide of elements constituting the main conductor layer. Thus, even if the covering metal layer is provided on the main conductor layer so as to cover the main conductor layer and the main conductor layer has an exposed portion exposed from the covering metal layer, the exposed portion of the main conductor layer Since the corrosion prevention layer is formed, the exposed portion of the main conductor layer is difficult to come into contact with moisture in the atmosphere, the main conductor layer is not easily corroded, and the constituent components of the main conductor layer are formed on the coated metal layer. It becomes difficult to adhere, and it is possible to obtain a wiring board with improved reliability of electrical and mechanical connection of the electronic component to the conductor electrode.
本発明の他の態様によれば、電子装置は、上記構成の配線基板を備えていることによって、電子部品の実装信頼性に関して向上されている。 According to another aspect of the present invention, the electronic device includes the wiring board having the above-described configuration, thereby improving the mounting reliability of the electronic component.
以下、本発明の例示的な実施形態について図面を参照して説明する。 Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1、図2を参照して本発明の実施形態における配線基板について説明する。本実施形態における配線基板1は、絶縁基板2と、絶縁基板2上に設けられた導体電極3と、導体電極3上に設けられた主導体層4と、被覆金属層5と、腐食防止層6とを備えている。
A wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The wiring board 1 in this embodiment includes an
絶縁基板2は、例えば半導体素子,撮像素子,発光素子,センサ素子,容量素子,コイル,抵抗および振動子等の電子部品が上面に搭載され、例えば、酸化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,炭化珪素質焼結体,窒化アルミニウム質焼結体,窒化珪素質焼結体,ガラスセラミックス焼結体等の電気絶縁性セラミックス、エポキシ樹脂,ポリイミド樹脂,アクリル樹脂,フェノール樹脂,ポリエステル樹脂、および四フッ化エチレン樹脂を始めとするフッ素系樹脂等の樹脂(プラスティックス)から成る略四角形の絶縁層を複数上下に積層して形成されている。なお、絶縁基板2は単層にて形成されていてもよい。
The
絶縁基板2は、例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、アルミナ(Al2O3),シリカ(SiO2),カルシア(CaO)およびマグネシア(MgO)等の原料粉末に適当な有機溶剤および溶媒を添加混合して泥漿状となすとともに、これを従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等を採用してシート状に成形することによってセラミックグリーンシートを得て、次に、セラミックグリーンシートに適当な打ち抜きまたはレーザー加工を施すとともに必要に応じて複数枚積層し、高温(約1500〜1800℃)で焼成することによって製作される。
If the
また、絶縁基板2が、例えば樹脂から成る場合は、所定の形状に成形できるような金型を用いて、トランスファーモールド法またはインジェクションモールド法等によって成形することによって形成することができる。また、例えばガラスエポキシ樹脂のように、ガラス繊維から成る基材に樹脂を含浸させたものであってもよい。この場合は、ガラス繊維から成る基材にエポキシ樹脂の前駆体を含浸させ、このエポキシ樹脂前駆体を所定の温度で熱硬化させることによって形成することができる。
Further, when the
この絶縁基板2において、上面または下面に導体パターンを含む導体電極3が設けられており、また電子部品が搭載される上面から下面の導体電極3にかけてビアホール導体、スルーホール導体等の貫通導体を含む配線導体が被着形成されている。導体電極3および配線導体は、絶縁基板2がセラミックスから成る場合は、タングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag),銅(Cu)等の金属粉末メタライズから成り、絶縁基板2用のセラミックグリーンシートに導体電極3および配線導体用の導体ペーストをスクリーン印刷法等によって所定形状で印刷して、セラミックグリーンシートと同時に焼成することによって、絶縁基板2の所定位置に形成される。内部導体のうち、セラミックグリーンシートを厚み方向に貫通する貫通導体は、導体ペーストを印刷することに
よってセラミックグリーンシートに形成した貫通孔を充填しておけばよい。このような導体ペーストは、タングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag),銅(Cu)等の金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、絶縁基板2との接合強度を高めるために、ガラス、セラミックスを含んでいても構わない。
The
また、導体電極3および配線導体は、絶縁基板2が樹脂から成る場合には、銅(Cu),金(Au),アルミニウム(Al),ニッケル(Ni),クロム(Cr),モリブデン(Mo),チタン(Ti)およびそれらの合金等の金属材料から成る。例えば、ガラスエポキシ樹脂から成る樹脂シート上に配線導体の形状に加工した銅箔を転写し、銅箔が転写された樹脂シートを積層して接着剤で接着することによって形成する。樹脂シートを厚み方向に貫通する貫通導体は、導体ペーストの印刷、めっき法によって樹脂シートに形成した貫通孔の内面に被着形成するか、貫通孔を充填して形成すればよい。また、金属箔、金属柱を樹脂から成る絶縁基板2に一体化させたり、絶縁基板2にスパッタリング法,蒸着法等,めっき法等を用いて被着させたりして形成される。
The
この絶縁基板2の上面または下面に設けられた導体電極3上に主導体層4が設けられている。主導体層4は、導体電極3と後述する被覆金属層5との双方に対する密着性に優れたものが好ましく、例えば銅(Cu),ニッケル(Ni),鉄(Fe)等の金属材料のうち少なくとも1つから成る。主導体層4を設ける手法としては、例えば電解めっき法や無電解めっき法などのめっき法等を用いて銅(Cu),ニッケル(Ni)等が被着され、スパッタリング法,蒸着法等を用いて銅(Cu),ニッケル(Ni),鉄(Fe)等が被着される。
A
主導体層4上には主導体層4を覆うように被覆金属層5が設けられている。被覆金属層5は、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等の特性を高めるとともに、主導体層4の酸化腐食を抑制するものが好ましく、例えば金(Au)等の金属材料から成る。被覆金属層5を設ける手法としては、例えば、電解めっき法や無電解めっき法などのめっき法等を用いて被着させる。
A covering metal layer 5 is provided on the
主導体層4は、被覆金属層5から露出された露出部4aを有しており、露出部4aが主導体層4の側部に位置すると後述する腐食防止層6の形成時に用いるシアン溶液が露出部4aに接触しやすく、主導体層4の露出部4aに腐食防止層6が形成しやすいものとなり、好ましい。
The
露出部4aには腐食防止層6が形成されている。これらによって、被覆金属層5が主導体層4を覆うように主導体層4上に設けられて、主導体層4が被覆金属層5から露出された露出部4aを有していても、主導体層4の露出部4aに腐食防止層6が形成されているため、主導体層4の露出部4aが大気中の水分等と接触し難いものとなり、主導体層4が腐食されにくくなり、被覆金属層5上に主導体層4の構成成分が付着しにくいものとなって、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等が阻害されず、導体電極3に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性が向上された配線基板1を得ることが可能となるものである。
A
腐食防止層6が錯体からなると、錯体は結合力が強く、主導体層4を構成する元素のシアン化物を主成分とする錯体が主導体層4の露出部4aに被着され、主導体層4の露出部4aが大気中の水分等と接触するのを防止することができ、主導体層4が腐食され、溶出されにくくなり、被覆金属層5上に主導体層4の構成成分がより付着しにくいものとなって、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等がより阻害されず、導体電極3に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性がより向上された
配線基板1を得ることが可能となるものであり、好ましい。
When the
また、上述の錯体が主導体層4を構成する元素のシアン化物を主成分とするものからなると、主導体層4を構成する元素のシアン化物を主成分とする錯体は結合力がより強く、主導体層4を構成する元素のシアン化物を主成分とする錯体が主導体層4の露出部4aに強固に被着され、主導体層4の露出部4aが大気中の水分等と接触するのを効果的に防止することができ、主導体層4がより腐食され、溶出されにくくなり、被覆金属層5上に主導体層4の構成成分が効果的に付着しにくいものとなって、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等が効果的に阻害されず、導体電極3に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性が効果的に向上された配線基板1を得ることが可能となるものであり、好ましい。この構成において、主導体層4が銅(Cu)からなる場合は腐食防止層6としてシアン化銅を主成分とする錯体を形成する。また、主導体層4がニッケル(Ni)からなる場合は腐食防止層6としてシアン化ニッケルを主成分とする錯体を形成する。また、主導体層4が鉄(Fe)からなる場合は腐食防止層6としてシアン化鉄を主成分とする錯体を形成する。
Further, when the above-described complex is composed mainly of the cyanide of the element constituting the
また、上記構成において、図2に示されているように、主導体層4が導体電極3上に導体電極3を覆うように設けられている場合には、導体電極3が主導体層4から露出しにくく、導体電極3が大気中の水分等と接触しにくいものとなり、導体電極3が酸化したり、導体電極3が腐食するのを防ぐことが可能となり、好ましい。
In the above configuration, as shown in FIG. 2, when the
また、導体電極3と主導体層4とが同じ材料からなり、銅(Cu),ニッケル(Ni),鉄(Fe)等の金属材料のうち少なくとも1つから成る場合には、導体電極3が主導体層4から露出されていても、腐食防止層6を主導体層4の露出部4aに形成する際に、導体電極3の主導体層4から露出されている箇所にも腐食防止層6を容易に形成することが可能となり、主導体層4の露出部4aから導体電極3の主導体層4から露出されている箇所にわたって腐食防止層6が形成されることとなり、主導体層4の露出部4aと導体電極3の主導体層4から露出されている箇所とを大気中の水分等と接触し難いものとなり、主導体層4と導体電極3の主導体層4から露出されている箇所とが腐食するのを効率的に防ぐことが可能となり、好ましい。
When the
次に、本実施形態の配線基板1の製造方法について説明する。 Next, the manufacturing method of the wiring board 1 of this embodiment is demonstrated.
絶縁基板2は、例えば酸化アルミニウム(Al2O3)質焼結体からなり、上面または下面に導体パターンを含む導体電極3が設けられている。この絶縁基板2は、主成分が酸化アルミニウム(Al2O3)である酸化アルミニウム質焼結体から成る場合、Al2O3の粉末に焼結助材としてシリカ(SiO2),マグネシア(MgO)またはカルシア(CaO)等の粉末を添加し、さらに適当なバインダー、溶剤および可塑剤を添加し、次にこれらの混合物を混錬してスラリー状となす。その後、従来周知のドクターブレード法等の成形方法によって多数個取り用のセラミックグリーンシートを得る。
The insulating
このセラミックグリーンシートを用いて、以下の(1)〜(5)の工程により配線基板1が作製される。 Using this ceramic green sheet, the wiring substrate 1 is manufactured by the following steps (1) to (5).
(1)ビアホール導体またはスルーホール導体等の貫通導体となる部位の打ち抜き金型またはレーザーを用いた打ち抜き工程。 (1) A punching process using a punching die or a laser at a portion to be a through conductor such as a via-hole conductor or a through-hole conductor.
(2)絶縁基板2の上面および下面となる部位に形成される導体電極3、また絶縁基板2の上面から絶縁基板2内部、下面となる部位にかけてビアホール導体またはスルーホール導体等の貫通導体を含む配線導体をそれぞれ形成するための金属ペーストの印刷塗布工
程。
(2) Including a
(3)各絶縁層となるセラミックグリーンシートを積層してセラミックグリーンシート積層体を作製する工程。 (3) The process of producing the ceramic green sheet laminated body by laminating | stacking the ceramic green sheet used as each insulating layer.
(4)このセラミックグリーンシート積層体を焼成して、各上面、下面を有し、導体電極3が設けられた絶縁基板2が複数配列された多数個取り基板を得る工程。
(4) A step of firing this ceramic green sheet laminate to obtain a multi-piece substrate having a plurality of insulating
(5)焼成して得られた多数個取り基板に配線基板1の外縁となる箇所に沿って分割溝を形成しておき、この分割溝に沿って破断させて分割する方法、またはスライシング法等により配線基板1の外縁となる箇所に沿って切断する方法等を用いることができる。なお、分割溝は、焼成後にスライシング装置により多数個取り基板の厚みより小さく切り込むことによって形成することができるが、多数個取り基板用のセラミックグリーンシート積層体にカッター刃を押し当てたり、スライシング装置により生成形体の厚みより小さく切り込んだりすることによって形成してもよい。 (5) A method in which a dividing groove is formed along a portion serving as the outer edge of the wiring substrate 1 on the multi-piece substrate obtained by firing, and a method of dividing by dividing along the dividing groove, a slicing method, or the like Thus, it is possible to use a method of cutting along a portion that becomes the outer edge of the wiring board 1. The dividing groove can be formed by cutting the multi-cavity substrate smaller than the thickness of the multi-piece substrate after firing, but the cutter blade can be pressed against the ceramic green sheet laminate for the multi-piece substrate, or the slicing device May be formed by cutting smaller than the thickness of the generated shape.
また、絶縁基板2の上面または下面に設けられた導体電極3を、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等の特性を高めるとともに主導体層4の酸化腐食を抑制するために、導体電極3に厚さ0.5〜10μmの主導体層4となる銅(Cu)めっき層を被着させ、この銅(Cu)めっき層を覆うように被覆金属層5となる厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させる。
In addition, in order to improve the characteristics such as flip chip mounting property, wire bonding mounting property, solder wettability and the like, and to suppress the oxidative corrosion of the
また、シアン化カリウム溶液等のシアン溶液に銅(Cu)めっき層、金(Au)めっき層を被着させた絶縁基板2を浸漬して、シアン溶液のシアンと金(Au)めっき層から露出された銅(Cu)めっき層の露出部4aの銅(Cu)とが結合し、金(Au)めっき層から露出された銅(Cu)めっき層の露出部4aに腐食防止層6となるシアン化銅を主成分とする錯体を形成する。なお、主導体層4としてニッケル(Ni)層を被着させる場合は、同様に絶縁基板2を浸漬して、シアン溶液のシアンと金(Au)層から露出されたニッケル(Ni)層の露出部4aのニッケル(Ni)とが結合し、金(Au)層から露出されたニッケル(Ni)層の露出部4aに腐食防止層6となるシアン化ニッケルを主成分とする錯体を形成する。また、主導体層4として鉄(Fe)層を被着させる場合は、同様に絶縁基板2を浸漬して、シアン溶液のシアンと金(Au)層から露出された鉄(Fe)層の露出部4aの鉄(Fe)とが結合し、金(Au)層から露出された鉄(Fe)層の露出部4aに腐食防止層6となるシアン化鉄を主成分とする錯体を形成する。
Further, the insulating
このようにして形成された配線基板1に電子部品を搭載する。配線基板1の上面に電子部品を搭載した電子装置を外部回路基板に実装することで、配線基板1に搭載した電子部品が導体電極3、配線導体を介して外部回路基板に電気的に接続される。なお、電子部品は例えば、半導体素子、CCD型電子素子またはCMOS型撮像素子、LED等の発光素子、チップコンデンサ、チップコイル、抵抗素子および振動子等である。電子部品は、配線基板1の導体電極3とフリップチップ実装、ワイヤーボンディング実装、はんだ等によるろう付けを行い、電子部品の各電極が金バンプ、はんだ等またはボンディングワイヤーにより電気的に接続される。なお、電子部品の各電極と複数の導体電極3との電気的な接続に、上述の金バンプまたははんだを用いる代わりに導電性樹脂(異方性導電樹脂等)から成る接続部材を用いてもよい。
Electronic components are mounted on the wiring board 1 formed in this way. By mounting an electronic device having electronic parts mounted on the upper surface of the wiring board 1 on the external circuit board, the electronic parts mounted on the wiring board 1 are electrically connected to the external circuit board via the
本実施形態の配線基板1は、主導体層4が被覆金属層5から露出された露出部4aを有しており、露出部4aには腐食防止層6が形成されている。これらによって、被覆金属層5が主導体層4を覆うように主導体層4上に設けられて、主導体層4が被覆金属層5から露出された露出部4aを有していても、主導体層4の露出部4aに腐食防止層6が形成さ
れているため、主導体層4の露出部4aが大気中の水分等と接触し難いものとなり、主導体層4が腐食されにくくなり、被覆金属層5上に主導体層4の構成成分が付着しにくいものとなって、フリップチップ実装性、ワイヤボンディング実装性、はんだ濡れ性等が阻害されず、導体電極3に対する電子部品の電気的および機械的な接続の信頼性が向上された配線基板1を得ることが可能となるものである。
The wiring board 1 of the present embodiment has an exposed portion 4a in which the
本実施形態の電子装置は、上記構成の配線基板1を備えていることによって、実装信頼性に関して向上されている。 The electronic device of this embodiment is improved in terms of mounting reliability by including the wiring board 1 having the above-described configuration.
1・・・・・配線基板
2・・・・・絶縁基板
3・・・・・導体電極
4・・・・・主導体層
4a・・・・露出部
5・・・・・被覆金属層
6・・・・・腐食防止層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (5)
前記絶縁基板上に設けられた導体電極と、
前記導体電極上に設けられた主導体層と、
前記主導体層を覆うように該主導体層上に設けられた被覆金属層と、
前記主導体層が前記被覆金属層から露出された露出部を有しており、前記露出部に形成された腐食防止層とを備えており、
該腐食防止層は錯体からなり、該錯体は、前記主導体層を構成する元素のシアン化物を主成分とすることを特徴とする配線基板。 An insulating substrate;
A conductor electrode provided on the insulating substrate;
A main conductor layer provided on the conductor electrode;
A coated metal layer provided on the main conductor layer so as to cover the main conductor layer;
The main conductor layer has an exposed portion exposed from the coated metal layer, and includes a corrosion prevention layer formed on the exposed portion ;
Corrosion-preventing layer is made of complex, the complex is a wiring board, wherein a main component and to Rukoto cyanide of elements constituting the main conductor layer.
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