JP5818375B2 - プラスチック成型体用シロキサニル原料 - Google Patents
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Description
本願は、2006年6月30日に出願された米国出願第60/817,974号及び2006年12月12日に出願された米国出願第11/609,677号の利益を主張するものであり、これらの出願は参照によりその全文がここに組み入れられるものとする。
A.定義
1つの局面において、本発明は下記構造を含むシロキサニル化合物を含有する組成物に関する:
1つの局面において、化合物は下記構造を含む:
1つの局面では、プラスチック成型体原料は、疎水性であるシロキサニル基及び親水性であるヒドロキシル基又は加水分解性基で保護されたヒドロキシル基を有し得る。1つの局面において、シロキサニル基は得られるプラスチック成型体の酸素透過性を向上させる働きをする。シロキサニル基を有する化合物、特にその分子中に親水性基を有さない化合物は、極端に撥水性が強く、親水性モノマーとの共重合無くしては眼用レンズ製造用の原料として使用しにくいものである。しかしながら、親水性基を持たない疎水性モノマーは典型的に親水性モノマーとの共重合性が悪く、親水性モノマーの含有量を多くした場合には得られる共重合体は典型的には不透明なものになってしまう。酸素透過性を大きくしようとすれば、それだけシロキサニル基の含有量を多くしなければならない。しかしながら、そうすると撥水性が強くなるので、一層多くの親水性モノマーを共重合させなければならない。このように、眼用レンズを調製する上で、シロキサニル化合物の親水性モノマーとの相溶性は重要であり得る。本発明のプラスチック成型体用原料はその構造中に親水性のヒドロキシル基又は加水分解性基で保護されたヒドロキシル基を有するので、親水性モノマーと任意の割合で相溶し、かつ共重合性がよい。その結果、得られる共重合体は含水時でも無色透明なものになるのである。
様々な数の残基を含む化合物を含有する組成物、例えばポリマー又はオリゴマーは、個々の分子間で異なっている残基数に起因する分子量の分布を有し得るということが理解される。すなわち、組成物中の化合物の分子一つ一つはそれぞれ異なる重合度(DP)を有し得る。そのような分布は、平均値、中央値又は最頻値により表現可能な平均残基数を有し得る。
「n」が最頻値であるシロキサニル化合物の全シロキサニル化合物に占める比率は上記したGC分析により決定される。GPC法、LC-MS法又はMALDI-TOFMS法により「n」が15以上であるシロキサニル化合物が検出される場合、上記した「n」が最頻値であるシロキサニル化合物の比率の計算にはそのような化合物の含有量も含める。上記比率は典型的には約90%以上であり、より好ましくは約95%以上であり、さらに好ましくは約98%以上である。眼用レンズ成型体の光学的な不均一性が減少するため、1つの局面では、この比率は可能な限り高いことが好ましい。
化合物の含有量は、GC分析で検出される化合物のピーク面積の総和に基づいたシロキサニル化合物(「n」が典型的に0以上であるものすべて)のピーク面積の総和の割合として定義される。上記した含有量は約92%以上でなければならず、より好ましくは約94%以上であり、さらに好ましくは約96%以上である。眼用レンズ成型体の眼科的な信頼性が高まるため、該含有量は可能な限り高いことが好ましい。GPC法、LC-MS法又はMALDI-TOFMS法により「n」が15以上のシロキサニル化合物が検出される場合、上記したシロキサニル化合物含有量の計算にはそのような化合物の含有量も含める。
1つの局面では、組成物は高純度で提供される。すなわち、組成物は不所望の不純物が相対的に低濃度であり得る。不所望の不純物には、例えば、該組成物がコンタクトレンズや眼内レンズとして用いられた際に刺激性を示し得るエポキシド又はジオール部分が含まれ得る。
1つの局面において、本発明は以下の残基:
を含むポリマーを含有する組成物に関する。
さらなる局面において、組成物中のポリマーの含有量は少なくとも約92重量%である。例えば、少なくとも約93重量%、少なくとも約94重量%、少なくとも約95重量%、少なくとも約96重量%、少なくとも約97重量%、少なくとも約98重量%、又は少なくとも約99重量%である。
ある局面では、不所望の不純物、例えばエポキシド部分又はジオール部分は、約100ppm未満、約80ppm未満、約60ppm未満、約40ppm未満、約20ppm未満、又は約10ppm未満の濃度で存在する。さらなる局面では、不所望の不純物、例えばエポキシド部分又はジオール部分は、組成物中に実質的に存在しない。
1つの局面では、本発明のポリマー組成物は共重合体として提供され得る。すなわち、本発明のシロキサニル化合物は少なくとも1種のコモノマー、例えば親水性コモノマーと共重合され得る。好適な親水性コモノマーとしては2-ヒドロキシエチルメタクリレートが挙げられる。
1つの局面において、本発明は、十分な酸素透過性、十分な親水性及び破れにくさを有するプラスチック成型体を重合により製造可能な原料を提供する。該プラスチック成型体は、ドラッグデリバリー用の薬剤吸着体や、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜、メガネレンズなどの眼用レンズとして有用であり、中でもコンタクトレンズに特に好適である。
典型的には、本発明のシロキサニル化合物は、有機合成化学の当業者に公知のいかなる方法によっても調製することができる。好適な調製法の1つは、エポキシド官能化化合物をヒドロシリル化し、次いでアルキルアクリル酸との反応によりアクリロイル官能化ポリジメチルシロキサンを調製する方法である。さらなる好適な調製法は、アルキルアクリル酸との反応により調製されるアクリロイル官能化化合物のヒドロシリル化である。
1つの局面において、本発明はシロキサニル化合物の合成方法に関し、該方法は構造:
を有する第1の化合物をR1Liで処理して構造:
を有する第2の化合物を生成し、任意で前工程の産物を構造:
を有する第4の化合物を生成し、前工程の産物を構造:
を有する第6の化合物を生成し、前工程の産物でアリルグリシジルエーテルをヒドロシリル化して構造:
1つの局面において、本発明はアクリロイル化合物の合成方法に関し、該方法は構造:
を有する第1の化合物を、構造A-H(ここでAはシロキサニル基を含む)を有する第2の化合物でヒドロシリル化し、構造:
を有する第3の化合物を生成する工程を含む。
を有する出発化合物を生成するために、任意で重合禁止剤又はラジカル捕捉剤の存在下、アリルグリシジルエーテルをアルキルアクリル酸で処理することにより第1の化合物を提供し、さらに任意でヒドロキシル基を保護試薬で保護して構造:
を有する第2の化合物を生成する工程をさらに含む。
プラスチック成型体は、本発明のシロキサニル化合物を単独で又は本明細書中に記載される1種以上の他のコモノマー若しくは原料と重合させることにより調製できる。
下記実施例は、当業者に対し、特許請求の範囲に記載される化合物、組成物、製品、装置及び/又は方法の作製方法と評価方法を十分に開示し説明するために記載されており、本発明の純粋な例示を与えることを意図するものであって、本願発明者らが自己の発明とみなしているものの範囲を限定することを意図するものではない。数値(例えば、量、温度など)については正確を期するため多くの努力が払われたが、誤差やずれを考慮すべきである。他に断りがない限り、「部」は重量部を表し、温度は℃表記又は室温であり、圧は大気圧又はその近傍である。
まず、下記式(D1)で表される化合物が合成される。
(メタ)アクリル酸と式(A1)で表される化合物を反応させて式(A2−1)または(A2−2)で表される化合物(ただし式中のXは水素である。)を合成する(ステップ5)。
ガスクロマトグラフィー(GC)分析において、式(A1)で表されるシロキサニル化合物(nが0〜12のもの)のピークの同定は、別途のガスクロマトグラフ質量分析(GC−MS)法によって行なわれる。
装置:ヒューレットパッカード製GC6890型または同等品 検出器:水素炎イオン化検出器(FID) カラム:Restek DB-1HT (30m x 0.25 mm x 0.1 μm又は同等品) キャリアガス:ヘリウム Constant flow:1.0 mL/min サンプル注入量:2.0μL スプリット比:30:1 注入口温度:300℃ 検出器温度:350℃ オートサンプラー洗浄溶媒:2−プロパノール 注入口セプタム:Alltech 7/16" HT-X-11又は同等品
Initial Temperature: 100℃ Initial time: 2 min Ramp: 15℃/min;Final Temp: 200℃;hold for 0 min Ramp: 5℃/min;Final Temp: 350℃;hold for 0 min Ramp: 15℃/min;Final Temp: 400℃;hold for 15 min
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約50μLの試料を 1.0 mL の2−プロパノールに溶解。試料と2−プロパノールはGC用バイアル瓶に直接入れて混合する。
下記実施例では、各種測定は以下に示す方法で行った:
含水率(%)=100×(Ww−Wd)/Ww
A:歪み、濁りが全くがない。
B:ごく僅かに歪みまたは濁りが観察される。
C:歪みまたは濁りが観察される。
1L三口丸底フラスコに200mL滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながらヒートガンを用いて器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これにヘキサメチルシクロトリシロキサン(22.25g、0.1mol)とトルエン(25.7mL)を投入し、マグネチックスターラーで撹拌した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンが完全に溶解した後、フラスコをウォーターバス(室温)に浸漬し、1.6mol/Lブチルリチウム/ヘキサン溶液169ml(0.27mol)を34分間かけて滴下し、1時間室温で撹拌した。フラスコを氷・食塩浴で冷却し、無水テトラヒドロフラン(165mL)にヘキサメチルシクロトリシロキサン(66.75g、0.3mol)を溶解した溶液を60分かけて滴下した。冷却した状態で150分間、その後室温で45分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(39mL)をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、この溶液を45分間かけて滴下した。その後1時間撹拌した。この溶液を約400mLの水で4回(計約1.6L)分液洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ひだ折り濾紙ろ過にて固形分を除去し、濾液をナス型フラスコに回収し溶媒をエバポレートした。セミミクロ精留装置(相互理化学硝子製作所製、カタログ番号2004)を用いて精製し、下記式(d1−1)で表される化合物を得た。GC分析を行った結果、前記化合物の含有量は99%であった。
温度計とジムロート冷却管を付けた50mL三口丸底フラスコに、参考例12で得た式(a1−1)で表される化合物(ただしn=3)(6.57g)、メタクリル酸ナトリウム(0.81g)、メタクリル酸(8.58g)、4−メトキシフェノール(0.0207g)及び水(0.09g)を投入し、100℃のオイルバスに浸漬し、マグネチックスターラーで4時間撹拌した。反応溶液にヘキサン(15mL)を加え1N水酸化ナトリウム水溶液(30mL)で3回分液洗浄し、有機層を採取した。次いで2.45重量%食塩水(30mL)で3回分液洗浄し、有機層に4−t−ブチルカテコール(5mg)を添加し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。
1L三口丸底フラスコに200mL滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながらヒートガンを用いて器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これにヘキサメチルシクロトリシロキサン(22.25g、0.1mol)とトルエン(25.7mL)を投入し、マグネチックスターラーで撹拌した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンが完全に溶解した後、フラスコをウォーターバス(室温)に浸漬し、1.6mol/Lブチルリチウム/ヘキサン溶液169ml(0.27mol)を35分間かけて滴下し、1時間室温で撹拌した。フラスコを氷・食塩浴で冷却し、無水テトラヒドロフラン(165mL)にヘキサメチルシクロトリシロキサン(133.5g、0.6mol)を溶解した溶液を60分かけて滴下した。冷却した状態で150分間、その後室温で45分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(39mL)をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、この溶液を45分間かけて滴下した。その後1時間撹拌した。この溶液を約400mLの水で4回(計約1.6L)分液洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ひだ折り濾紙ろ過にて固形分を除去し、濾液をナス型フラスコに回収し溶媒をエバポレートした。セミミクロ精留装置(相互理化学硝子製作所製、カタログ番号2004)を用いて精製し、下記式(d1−2)で表される化合物を得た。GC分析を行った結果、前記化合物の含有量は98%であった。
温度計とジムロート冷却管を付けた50mL三口丸底フラスコに、参考例13で得た式(a1−1)で表される化合物(ただしn=6)(9.34g)、メタクリル酸ナトリウム(0.81g)、メタクリル酸(8.58g)、4−メトキシフェノール(0.0207g)及び水(0.09g)を投入し、100℃のオイルバスに浸漬し、マグネチックスターラーで4時間撹拌した。反応溶液にヘキサン(15mL)を加え1N水酸化ナトリウム水溶液(30mL)で3回分液洗浄し、有機層を採取した。次いで2.45重量%食塩水(30mL)で3回分液洗浄し、有機層に4−t−ブチルカテコール(5mg)を添加し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。
1L三口丸底フラスコに200mL滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながらヒートガンを用いて器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これにヘキサメチルシクロトリシロキサン(22.25g、0.1mol)とトルエン(25.7mL)を投入し、マグネチックスターラーで撹拌した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンが完全に溶解した後、フラスコをウォーターバス(室温)に浸漬し、1.6mol/Lブチルリチウム/ヘキサン溶液169ml(0.27mol)を34分間かけて滴下し、1時間室温で撹拌した。フラスコを氷・食塩浴で冷却し、無水テトラヒドロフラン(165mL)にヘキサメチルシクロトリシロキサン(66.75g、0.3mol)を溶解した溶液を60分かけて滴下した。冷却した状態で150分間、その後室温で45分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(39mL)をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、この溶液を45分間かけて滴下した。その後15時間撹拌した。この溶液を約400mLの水で4回(計約1.6L)分液洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ひだ折り濾紙ろ過にて固形分を除去し、濾液をナス型フラスコに回収し溶媒をエバポレートした。減圧蒸留法により精製し、下記式(d1−1)で表される化合物を主成分とする混合物を得た。
温度計とジムロート冷却管を付けた50mL三口丸底フラスコに、実施例5で得た式(a1−1)で表される化合物(ただしn=3)を主成分とする混合物(6.57g)、メタクリル酸ナトリウム(0.81g)、メタクリル酸(8.58g)、4−メトキシフェノール(0.0207g)及び水(0.09g)を投入し、100℃のオイルバスに浸漬し、マグネチックスターラーで4時間撹拌した。反応溶液にヘキサン(15mL)を加え1N水酸化ナトリウム水溶液(30mL)で3回分液洗浄し、有機層を採取した。次いで2.45重量%食塩水(30mL)で3回分液洗浄し、有機層に4−t−ブチルカテコール(5mg)を添加し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。
前記式(d1−1)で表される化合物(48.52mmol)のかわりに、下記式(d1−3)で表される化合物(Gelest社製、48.52mmol)を用いた他は、参考例12(2)と同様に行って、下記式(a1−2)で表される化合物(ただしn=1)を得た。
前記式(a1−1)で表される化合物(ただしn=3)(6.57g)のかわりに、参考例1で得た式(a1−2)で表される化合物(ただしn=1)(4.20g)を用いた他は実施例2と同様に行って、下記式(a2−1−2)で表されるシロキサニル化合物(ただしn=1)および下記式(a2−2−2)で表されるシロキサニル化合物(ただしn=1)の混合物が得られた。
1L三口丸底フラスコに200mL滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながらヒートガンを用いて器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これにヘキサメチルシクロトリシロキサン(22.25g、0.1mol)とトルエン(25.7mL)を投入し、マグネチックスターラーで撹拌した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンが完全に溶解した後、フラスコをウォーターバス(室温)に浸漬し、1.6mol/Lブチルリチウム/ヘキサン溶液169ml(0.27mol)を34分間かけて滴下し、1時間室温で撹拌した。フラスコを氷・食塩浴で冷却し、無水テトラヒドロフラン(165mL)にヘキサメチルシクロトリシロキサン(333.7g、1.5mol)を溶解した溶液を60分かけて滴下した。冷却した状態で150分間、その後室温で45分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(39mL)をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、この溶液を45分間かけて滴下した。その後1時間撹拌した。この溶液を約400mLの水で4回(計約1.6L)分液洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ひだ折り濾紙ろ過にて固形分を除去し、濾液をナス型フラスコに回収し溶媒をエバポレートした。減圧下加熱して低沸点成分を除去し、下記式(d1−4)で表される化合物を主成分とする混合物を得た。
温度計とジムロート冷却管を付けた50mL三口丸底フラスコに、参考例3で得た式(a1−1)で表される化合物(ただしn=15)を主成分とする混合物(17.7g)、メタクリル酸ナトリウム(0.81g)、メタクリル酸(8.58g)、4−メトキシフェノール(0.0207g)および水(0.09g)を投入し、100℃のオイルバスに浸漬し、マグネチックスターラーで4時間撹拌した。反応溶液にヘキサン(15mL)を加え1N水酸化ナトリウム水溶液(30mL)で3回分液洗浄し、有機層を採取した。次いで2.45重量%食塩水(30mL)で3回分液洗浄し、有機層に4−t−ブチルカテコール(5mg)を添加し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。
300mLのナスフラスコに下記式(a1−3)で表されるエポキシシラン(100g)、メタクリル酸(51.7g)、メタクリル酸ナトリウム(9.6g)およびp−メトキシフェノール(5.5g)を加え、空気雰囲気下で100℃に加熱して撹拌した。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料(31.6重量部)、参考例5で得た式(a2−1−3)で表されるシロキサニル化合物および式(a2−2−3)で表されるシロキサニル化合物の混合物(28.6重量部)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(6.1重量部)、N,N−ジメチルアクリルアミド(24.5重量部)、テトラエチレングリコールジメタクリレート(1重量部)およびポリビニルピロリドン(K90)(7.1重量部)、ならびに溶媒として3,7−ジメチル−3−オクタノール(17重量部)およびCGI1850(CIBA社、1.02重量部)を混合し撹拌した。均一で透明なモノマー混合物が得られた。このモノマー混合物をアルゴン雰囲気下で脱気した。窒素雰囲気下のグローブボックス中で透明樹脂(Ticona Polymers 社製“Topas”)製のコンタクトレンズ用モールドに注入し、フィリップス社TL20W/03T紫外線灯を用いて光照射(45℃、20分間)してモノマーを重合し、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたレンズ状サンプルを、イソプロピルアルコールと水の50:50(重量)混合物に浸漬してモールドから剥がし、続いてイソプロピルアルコールに浸漬、イソプロピルアルコールと水の50:50(重量)混合物に浸漬、さらに水に浸漬した。最後に該サンプルをバイアル瓶中のホウ酸緩衝液(pH7.1〜7.3)に浸漬しバイアル瓶を密封した。該バイアル瓶をオートクレーブに入れ、120℃で30分間処理した。得られたサンプルの物性を表1に示す。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料のかわりに表1中に記載のプラスチック成型体用原料を用いた他は実施例7と同様に行ない、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたサンプルの物性を表1に示す。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料のかわりに表1中に記載のプラスチック成型体用原料を用いた他は実施例7と同様に行ない、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたサンプルの物性を表1に示した。実施例7のものと比較すると光学的均一性にやや難点があった。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料のかわりに表1中に記載のプラスチック成型体用原料を用いた他は実施例7と同様に行ない、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたサンプルの物性を表1に示した。実施例7〜9のものと比較して酸素透過性が低かった。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料のかわりに表1中に記載のプラスチック成型体用原料を用いた他は実施例7と同様に行ない、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたサンプルの物性を表1に示した。実施例7〜9のものと比較して光学的均一性に劣っていた。
実施例2で得たプラスチック成型体用原料のかわりに表1中に記載のプラスチック成型体用原料を用いた他は実施例7と同様に行ない、コンタクトレンズ状サンプルを得た。得られたサンプルの物性を表1に示した。実施例7および8のものと比較して酸素透過性が低かった。また実施例7〜9のものと比較して弾性率が大きかった。
1L三口丸底フラスコにメタアクリル酸(241.2 g)、アリルグリシジルエーテル(80.3 g)、メタクリル酸ナトリウム(22.7 g)および4−メトキシフェノール(1.14 g)を加え、メカニカルスターラーで撹拌した。フラスコをオイルバスに浸漬して100℃に昇温し、ガスクロマトグラフィー(GC)分析により反応を追跡しながら4時間加熱撹拌した。放冷後、トルエン(300 mL)を加え、1L分液ロートに移して0.5N水酸化ナトリウム水溶液(300 mL)で7回、次いで飽和食塩水(300 mL)で3回洗浄した。有機層を採取し、無水硫酸ナトリウムを加えて一晩乾燥した。濾過にて固形分を除去し、濾液を1Lナス型フラスコに回収して溶媒をエバポレートした。500 mLナス型フラスコに移し、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(0.23 g)を加えてさらに濃縮した(収量:226.74 g)。これにN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム(0.23 g)を加えて減圧蒸留し、下記式(F1−1)又は(F1−2)で表される化合物を含有することを特徴とするプラスチック成型体用原料を得た。
窒素ラインに接続するジムロート冷却管を付けた200mL三口丸底フラスコに、参考例10で得た式(F1−1)で表される化合物と式(F1−2)で表される化合物の混合物(50 g)、ヘキサメチルジシラザン(24.34 g)、2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノール(0.161 g)及びサッカリン(0.148 g)を加え、100℃のオイルバス中でマグネチックスターラーを用いて加熱撹拌した。加熱中にアンモニアガスが発生した。45分後に加熱撹拌を終了し、室温まで放冷後、反応溶液を濾過して固形分を除去した。これに2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノール(0.32 g)とN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム(0.32 g)を加えて減圧蒸留し、下記式(F2−1)又は(F2−2)で表される化合物を含有することを特徴とするプラスチック成型体用原料を得た。GC分析の結果、該化合物の含有量は97%であった。
1L三口丸底フラスコに200mL滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながらヒートガンを用いて器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これにヘキサメチルシクロトリシロキサン(22.25g、0.1mol)とトルエン(25.7mL)を投入し、マグネチックスターラーで撹拌した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンが完全に溶解した後、フラスコをウォーターバス(室温)に浸漬し、1.6mol/Lブチルリチウム/ヘキサン溶液169ml(0.27mol)を34分間かけて滴下し、1時間室温で撹拌した。フラスコを氷・食塩浴で冷却し、無水テトラヒドロフラン(165mL)にヘキサメチルシクロトリシロキサン(66.75g、0.3mol)を溶解した溶液を60分かけて滴下した。冷却した状態で150分間、その後室温で45分間撹拌した。ジメチルクロロシラン(39mL)をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、この溶液を45分間かけて滴下した。その後1時間撹拌した。この溶液を約400mLの水で4回(計約1.6L)洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ひだ折り濾紙ろ過にて固形分を除去し、濾液をナス型フラスコに回収し溶媒をエバポレートした。セミミクロ精留装置(相互理化学硝子製作所製、カタログ番号2004)を用いて精製し、下記式(F3)で表される化合物を得た(GC純度:99%)。
200mLナス型フラスコに、実施例10で得た式(F2−1)で表される化合物と式(F2−2)で表される化合物の混合物(3.96 g)、トルエン(4 mL)、5%白金担持活性炭触媒(和光純薬工業、308mg)及びマグネットバーを投入し、上部に塩化カルシウム管を接続したジムロート冷却管を該フラスコに取り付けた。窒素雰囲気下、冷却管に冷水を流しながら80℃まで加熱した。混合物の温度が80℃に達した後、参考例11で得た式(F3)で表される化合物(4.0 g)をパスツールピペットを用いてゆっくり滴下した。反応が完了した後、セライト濾過して触媒を除去した。簡単に記載すると、桐山ロートに濾紙を敷き、セライト−535をロート半分の深さまで入れ、このロートを用いて反応溶液をヘキサンと一緒にセライト−535を通過させて減圧濾過を行った。濾液をロータリーエバポレータにて濃縮した(水浴:40℃)。濃縮後の反応液を広口ナス型フラスコ(100 mL)に移し、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウムを反応液の約0.1重量%となるように添加した。フラスコにマグネットバーを入れてスタンドに固定した。反応液から泡がほとんど出なくなるまで、室温にて真空ポンプでフラスコ内部を減圧した。真空ポンプの上部弁を全開にした後、反応液の入ったナスフラスコをオイルバスに浸し、140℃に昇温した。次いで、1時間撹拌しながら真空ポンプで吸引して低沸点成分を除去し、下記式(F4−1)又は式(F4−2)で表される化合物を含有することを特徴とするプラスチック成型体用原料を得た。GC分析の結果、得られた原料の全成分中における式(F4−1)で表される化合物および式(F4−2)で表される化合物の含有量(すなわち純度)は96%であった。GCで観察されたピーク数は18であり、得られた原料中に不純物はほとんど存在しなかった。
20L三口丸底フラスコに滴下ロートと三方コックを接続し、三方コックは真空ポンプと窒素ラインに接続した。真空ポンプで器具内を減圧しながら器具を加熱した後、窒素を吹き込み常圧に戻した。この操作を3回繰り返し、器具内の水分を除去した。これに3318 g (1.58 mol/L、d=0.68、7.71 mol)のn−ブチルリチウムを加えて撹拌した。フラスコを氷水浴中に浸漬し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(572.1 g、2.57 mol)のトルエン溶液(650 mL)を40分間かけて滴下した。これを室温で110分間撹拌した。フラスコをドライアイス・メタノール浴で−12℃まで冷却し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(1715.7 g、7.71 mol)を無水テトラヒドロフラン(3 L)に溶解した溶液を15分間かけて滴下した。滴下後のフラスコ内温度は−3℃に達した。−1℃で1時間撹拌し、40分間で25℃まで昇温し、その後約26℃で1時間撹拌した。フラスコを再度ドライアイス・メタノール浴で−1℃まで冷却し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(1715.7 g、7.71 mol)を無水テトラヒドロフラン(3 L)に溶解した溶液を8分間かけて滴下した。−1℃で1時間撹拌し、40分間で23℃まで昇温し、その後約25℃で1時間撹拌した。フラスコを再度ドライアイス・メタノール浴で−12℃まで冷却した。ジメチルクロロシラン(839.1g、8.87mol)を30分間かけて滴下した。滴下後のフラスコ内温度は18℃に達した。得られた混合物を常温で15時間撹拌した。30Lの容器を用いて反応液を約10Lの水で4回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウム(1 kg)で乾燥した。フィルターろ過により固形分を除去した後、濾液を20Lフラスコに回収し、溶媒をエバポレートし、2回蒸留して下記式(d1−5)で表される化合物を得た(GC純度:98%)
Claims (3)
- 前記化合物の多分散性が2.0〜1.0である請求項1記載の混合物。
- 前記シロキサニル基中に分岐が存在しない請求項1記載の混合物。
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