JP5703166B2 - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
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Description
この従来技術は、互いに接続された2系統の分岐管群によって構成され、面状に原料ガスを放出して基板上に成膜を行うように構成されている。
しかし、この従来技術では、異なる蒸発材料の蒸気を混合することができず、有機EL素子の発光層に必要なホスト材料とドーパント材料の共蒸着を行うことができないという問題がある。
また、特許文献1及び2に記載された従来技術では、曲管によって構成されているため、装置が大型化し、製造コスト並びに装置コストが高くなるという問題がある。
本発明では、前記蒸発源は、異なる蒸発材料の蒸気を発生させる複数の蒸発源を有するとともに、前記真空槽内に、前記複数の蒸発源から供給された異なる蒸発材料の蒸気を拡散する複数の蒸気拡散器を有し、当該複数の蒸気拡散器がそれぞれ前記面蒸気放出器に接続されている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器における蒸気拡散室の連通口は、前記蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って数が増加するように構成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、前記蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加するように構成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、隣接する蒸気拡散室の連通口が、互いに対向しない位置に設けられている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、隣接する蒸気拡散室の連通口が、通過する蒸発材料の蒸気の方向が互いに反対方向となる位置に設けられている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器の蒸気拡散室に、互いの雰囲気を隔離するための隔壁部が設けられている場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気放出器に、前記蒸発材料の蒸気を独立して加熱するための加熱手段が設けられている場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気放出器に対し、互いの熱輻射を防止するための冷却手段が設けられている場合にも効果的である。
一方、本発明は、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で成膜対象物表面に有機膜を形成する方法であって、当該蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる蒸着方法である。
また、本発明は、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で成膜対象物表面に膜を形成する方法であって、蒸発材料として、フッ化リチウム、フッ化セシウム(CsF)、リチウム(Li)、又は三酸化モリブデンを用いる蒸着方法である。
また、本発明の面蒸気放出器は、真空槽内において複数の細長形状の蒸気放出器が所定間隔で配列されていることから、大きな面積の成膜対象物に対して均一な成膜を行うことができる。
本発明において、蒸発源が、異なる蒸発材料の蒸気を発生させる複数の蒸発源を有するとともに、真空槽内に、複数の蒸発源から供給された異なる蒸発材料の蒸気を拡散する複数の蒸気拡散器を有し、当該複数の蒸気拡散器がそれぞれ面蒸気放出器に接続されている場合には、異なる蒸発材料の蒸気を面蒸発器において十分に混合拡散して成膜対象物に向って放出することができるので、成膜対象物上において異なる蒸発材料からなる均一な膜を形成することができる。
本発明において、複数の蒸気放出器における蒸気拡散室の連通口が、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って例えば2n-1個(nは自然数)で数が増加するように構成されている場合には、蒸気拡散室の連通口を通過する際に蒸発材料の蒸気が蒸気拡散室の壁面に衝突する回数を段階的に増加させることができ、これにより、蒸発材料の蒸気の拡散を促進することができるため、蒸気放出器内における蒸発材料の蒸気の均一性をより向上させることができる。
本発明において、蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口について、隣接する蒸気拡散室の連通口が、互いに対向しない位置、例えば、通過する蒸発材料の蒸気の方向が互いに反対方向となる位置に設けられている場合には、連通口を通過した蒸発材料の蒸気を、隣接する蒸気拡散室の壁面に確実に衝突させてその拡散を促進することができるため、蒸気放出器内における蒸発材料の蒸気の均一性をより向上させることができる。
本発明において、蒸気放出器の蒸気拡散室に、互いの雰囲気を隔離するための隔壁部が設けられている場合には、蒸発材料の蒸気を、隔壁部に衝突させてその拡散を促進させることができるため、蒸気放出器内における蒸発材料の蒸気の均一性をより向上させることができる。
本発明において、蒸発材料の蒸気を独立して加熱するための加熱手段が設けられている場合、また、複数の蒸気放出器に対し、互いの熱輻射を防止するための冷却手段が設けられている場合には、蒸気放出器内において、蒸発材料の蒸気の温度を正確に制御することができるので、蒸発材料の成分が析出することなく、より均一な状態で蒸発材料の蒸気を放出することができる。
一方、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に有機膜を形成する際に、蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の有機薄膜層を均一且つ高速で形成することができる。
また、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する際に、蒸発材料として、フッ化リチウム、フッ化セシウム、リチウムを用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の電子注入層及び電子輸送層を均一且つ高速で形成することができる。
さらに、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する際に、蒸発材料として、三酸化モリブデンを用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の陽極バッファ層を均一且つ高速で形成することができる。
図1は、本発明を実施するための有機EL製造装置の実施の形態の全体構成を示す平面図である。
図1に示すように、本実施の形態の有機EL製造装置1は、図示しない真空排気系に接続された真空槽2を有している。
ホスト材料用蒸気放出器3hは、それぞれ、蒸気導入管4h、ホスト材料分岐器5h及び蒸気供給管6hを介してホスト材料用蒸発源7hに接続されている。
一方、ホスト材料用蒸気放出器3hと、ドーパント材料用蒸気放出器3dの周囲には、それぞれ独立して温度制御が可能な加熱手段8h、8dが設けられている。
以下、蒸気放出器の上下関係については図2(a)(b)に示す構成に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
この蒸気導入部10の蒸気放出器3側の部分には、蒸気拡散室として筒状(ここでは断面長方形形状)の第1の蒸気拡散室11が設けられ、この第1の蒸気拡散室11の周囲には、それぞれ径の異なる筒状(ここでは断面長方形形状)の複数個(本実施の形態では4個)の蒸気拡散室、すなわち、第2〜第5の蒸気拡散室12、13、14、15が同心状に設けられている。
そして、第1〜第5の蒸気拡散室11〜15には、以下に説明するように、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加する数の連通口並びに蒸気放出口、即ち第1〜第4の連通口21〜24並びに蒸気放出口25が設けられている。
また、第2の蒸気拡散室12には、第2の連通口22が2個設けられ、これら第2の連通口22によって第2の蒸気拡散室12と第3の蒸気拡散室13とが接続されている。
また、本発明の場合、特に限定されることはないが、蒸発材料の蒸気の逆流れを生じさせない、即ち圧力勾配を保持する観点からは、第2の連通口22の面積の和が、第1の連通口21の面積の和より大きくならない(小さくなる)ように設定することが好ましい。
さらに、第3の蒸気拡散室13には、第3の連通口23が4個設けられ、これら第3の連通口23によって第3の蒸気拡散室13と第4の蒸気拡散室14とが接続されている。
そして、このような構成により、上述した第2の連通口22が、Y軸方向に関し、それぞれ第3の連通口23の間において、第3の連通口23からそれぞれ等距離の位置に配置されるようになっている。
更には、蒸気流を均等に分配する観点からは、第3の連通口23の面積並びに形状を同一にすることがより好ましい。
これら第4の連通口24は、第4の蒸気拡散室14の下側において、Y軸方向に関し、上記基準線Lに対して線対称となる位置に等間隔で配置されている。
更には、蒸気流を均等に分配する観点からは、第4の連通口24の面積並びに形状を同一にすることがより好ましい。
これら蒸気放出口25は、第5の蒸気拡散室15の上側において、Y軸方向に関し一列に並べられ、上記基準線Lに対して線対称となる位置に等間隔で配置されている。
更には、蒸気流を均等に分配する観点からは、蒸気放出口25の面積並びに形状を同一にすることがより好ましい。
このような構成を有する本実施の形態において、基板上に有機材料の膜を蒸着形成する場合には、真空槽2内の圧力を所定の圧力にした状態で、図1に示すように、ホスト材料用蒸発源7hから蒸気供給管6h、ホスト材料分岐器5h及び蒸気導入管4hを介してホスト材料の蒸気を面蒸気放出器30のホスト材料用蒸気放出器3h内にそれぞれ導入する。
以下、ホスト材料用蒸気放出器3h並びにドーパント材料用蒸気放出器3d内における蒸気の拡散について図2の蒸気放出器3を例にとって説明する。
第2の蒸気拡散室12内に導入されたホスト材料又はドーパント材料の蒸気は、第2の蒸気拡散室12の内壁に衝突して十分に拡散された後、第2の連通口22を介して第3の蒸気拡散室13内に導入される。
これにより、基板全表面に、ホスト材料及びドーパント材料の共蒸着膜が形成される。
図3に示すように、本実施の形態の蒸着装置1Aは、図示しない真空排気系に接続され基板20が配置される真空槽2を有し、この真空槽2内部に、第1の蒸気拡散部3Aと、第2の蒸気拡散部3Bとを有する面蒸気放出器30Aが設けられて構成されている。
第1の蒸気拡散室31の周囲には、上記実施の形態と同様に、それぞれ径の異なる筒状の3個の蒸気拡散室、すなわち、第2〜第4の蒸気拡散室32、33、34が同心状に設けられている。
そして、第1〜第4の蒸気拡散室31〜34には、上記実施の形態と同様に、蒸発材料の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加する数の連通口並びに蒸気放出口、即ち第1〜第3の連通口41〜43並びに蒸気放出口44が設けられている。
ここで、第1の蒸気拡散部3Aにおける第1〜第3の連通口41〜43並びに蒸気放出口44の配置位置等の条件は、上記実施の形態と同一にすることが好ましい。
なお、蒸発材料の蒸気を均一に拡散させる観点から、各蒸気放出器3aにおける第1〜第4の連通口21〜24並びに蒸気放出口25の配置位置等の条件は、上記実施の形態と同一にすることが好ましい。
これにより、蒸発材料の蒸気は、第1の蒸気拡散室31の内壁に衝突して十分に拡散された後、第1の連通口41を介して第2の蒸気拡散室32内に導入される。
その他の構成及び作用効果については上述の実施の形態と同一であるのでその詳細な説明を省略する。
図4に示すように、本実施の形態の蒸着装置1Bは、図示しない真空排気系に接続され基板20が配置される真空槽2を有し、この真空槽2内部に、ホスト材料用蒸気放出器30hと、ドーパント材料用蒸気放出器30dとを有する面蒸気放出器30Bが設けられて構成されている。
第1の蒸気拡散室11hの周囲には、図4において部分的に示すように、上記実施の形態と同様に、それぞれ径の異なる筒状の第2及び第3の蒸気拡散室12h、13hが同心状に設けられている。
そして、第1〜第3の蒸気拡散室11h〜13hには、上記実施の形態と同様に、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加する数の連通口並びに蒸気放出口、即ち第1及び第2の連通口21h、22h並びに蒸気放出口23hが設けられている。
なお、第1の蒸気拡散部31hの表面には、例えば抵抗加熱による加熱手段34hが設けられている。
すなわち、ドーパント材料用蒸気放出器30dの第1の蒸気拡散部31dは、詳細は図示しないが、その中央部において2分割され、さらに、これら分割された二つの部分が、例えば水平方向(Y軸方向)に延びる第1の蒸気拡散部(図示せず)によって連結されている。
第1の蒸気拡散室の周囲には、詳細には図示しないが、ホスト材料用蒸気放出器30hと同様に、それぞれ径の異なり両端部が塞がれた筒状の第2及び第3の蒸気拡散室が同心状に設けられている。
これら第1〜第3の蒸気拡散室には、ホスト材料用蒸気放出器30hと同様に、蒸発材料の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加する数の連通口並びに蒸気放出口、即ち第1及び第2の連通口並びに蒸気放出口が設けられている。
そして、第1の蒸気拡散部31dの上部には、第2の蒸気拡散部32dが配置され、この第2の蒸気拡散部32dは、上述したホスト材料用蒸気放出器33hと同一構成のドーパント材料用蒸気放出器33dが所定の間隔をおいて複数(本実施の形態では8個)設けられて構成されている。
さらに、本実施の形態においては、上述したホスト材料用蒸気放出器33hと、ドーパント材料用蒸気放出器33dとが例えば一定間隔をおいて交互に且つ平行に配列されている。
その他の構成及び作用効果については上述の実施の形態と同一であるのでその詳細な説明を省略する。
図5及び図6に示すように、本実施の形態の蒸着装置1Cは、図示しない真空排気系に接続され基板20が配置される真空槽2を有し、この真空槽2内部に、以下に説明する蒸気放出器3Cを複数個(ここでは16個)有する面蒸気放出器30Cが設けられて構成されている。
すなわち、蒸気放出器3Cは、図6に示すように、例えばY軸方向に直線状に延びる第1〜第5の蒸気拡散室11〜15を有し、これら第1〜第5の蒸気拡散室11〜15には、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加する数の連通口並びに蒸気放出口、即ち第1〜第4の連通口21〜24並びに蒸気放出口25が設けられている。
一方、蒸気放出器3Cの例えば下部下方には、蒸気放出器3Cからの熱輻射を防止するための冷却手段27が設けられている。
本実施の形態の第1及び第2の蒸気拡散器50A、50Bは、同一の構成を有している。
なお、第1及び第2のホスト材料用蒸発源7h1、7h2、第1及び第2のドーパント材料用蒸発源7d1、7d2は、それぞれキャリアガス制御手段75、76、77、78を介してキャリアガス源79に接続されている。
これにより、基板20全表面に、第1のホスト材料及びドーパント材料の共蒸着膜が形成される。
その他の構成及び作用効果については上述の実施の形態と同一であるのでその詳細な説明を省略する。
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
また、上記実施の形態においては、成膜対象物である基板の下側から蒸気を放出させて基板上に蒸着を行うようにしたが、本発明はこれに限られず、鉛直方向に対して傾けた基板に対して蒸気を放出させることもでき、また、水平方向に向けて配置した基板に対して上方から蒸気を放出し、いわゆるデポダウンの成膜を行うように構成することもできる。
さらにまた、本発明は、複数の原料モノマーを用いて蒸着重合を行う装置にも適用することができる。
加えて、本発明は、有機材料のみならず、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、リチウム(Li)、三酸化モリブデン(MoO3)等の金属又は無機材料についても適用することができる。
2…真空槽
3…蒸気放出器
3h…ホスト材料用蒸気放出器
3d…ドーパント材料用蒸気放出器
7h…ホスト材料用蒸発源(蒸発源)
7d…ドーパント材料用蒸発源(蒸発源)
11…第1の蒸気拡散室(蒸気拡散室)
12…第2の蒸気拡散室(蒸気拡散室)
13…第3の蒸気拡散室(蒸気拡散室)
14…第4の蒸気拡散室(蒸気拡散室)
15…第5の蒸気拡散室(蒸気拡散室)
20…基板(成膜対象物)
21…第1の連通口(連通口)
22…第2の連通口(連通口)
23…第3の連通口(連通口)
24…第4の連通口(連通口)
25…蒸気放出口
30…面蒸気放出器
Claims (11)
- 成膜対象物が配置される真空槽と、
前記真空槽の外部に設けられ蒸発材料の蒸気を発生させるための蒸発源と、
前記蒸発源から供給された蒸発材料の蒸気を前記成膜対象物に向って面状に放出する面蒸気放出器とを備え、
前記面蒸気放出器は、前記真空槽内において所定間隔で配列された複数の細長形状の蒸気放出器を有し、
前記複数の蒸気放出器は、同心状に配置された径の異なる複数の筒状の蒸気拡散室を有するとともに、当該複数の蒸気拡散室は、隣接する蒸気拡散室が、前記蒸発材料の蒸気が通過可能な連通口を介して互いに接続されている蒸着装置。 - 前記蒸発源は、異なる蒸発材料の蒸気を発生させる複数の蒸発源を有するとともに、前記真空槽内に、前記複数の蒸発源から供給された異なる蒸発材料の蒸気を拡散する複数の蒸気拡散器を有し、当該複数の蒸気拡散器がそれぞれ前記面蒸気放出器に接続されている請求項1記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器における蒸気拡散室の連通口は、前記蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って数が増加するように構成されている請求項1又は2のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、前記蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って2n-1個(nは自然数)で増加するように構成されている請求項1乃至3のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、隣接する蒸気拡散室の連通口が、互いに対向しない位置に設けられている請求項1乃至4のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器における蒸気拡散室の複数の連通口は、隣接する蒸気拡散室の連通口が、通過する蒸発材料の蒸気の方向が互いに反対方向となる位置に設けられている請求項5記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器の蒸気拡散室に、互いの雰囲気を隔離するための隔壁部が設けられている請求項1乃至6のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気放出器に、前記蒸発材料の蒸気を独立して加熱するための加熱手段が設けられている請求項1乃至7のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気放出器に対し、互いの熱輻射を防止するための冷却手段が設けられている請求項1乃至7のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の蒸着装置を用い、真空中で成膜対象物表面に有機膜を形成する方法であって、
当該蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる蒸着方法。 - 請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の蒸着装置を用い、真空中で成膜対象物表面に膜を形成する方法であって、
蒸発材料として、フッ化リチウム、フッ化セシウム(CsF)、リチウム(Li)、又は三酸化モリブデンを用いる蒸着方法。
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JP6526880B1 (ja) * | 2018-06-29 | 2019-06-05 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源及び蒸着装置 |
CN110894588A (zh) * | 2019-12-17 | 2020-03-20 | 合肥师范学院 | 一种金属锂蒸镀方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2004010990A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Sony Corp | 薄膜形成装置 |
JP2005048242A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Sony Corp | 薄膜形成装置 |
EP1784056B1 (en) * | 2004-07-23 | 2011-04-13 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Organic electroluminescent device, display and illuminating device |
DE102008026001B4 (de) * | 2007-09-04 | 2012-02-16 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten unter definierter Prozessatmosphäre und Heizelement |
KR101128747B1 (ko) * | 2007-09-10 | 2012-03-23 | 가부시키가이샤 알박 | 유기 박막 제조 방법 |
JP5247239B2 (ja) * | 2008-05-22 | 2013-07-24 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置の放出部構造 |
JP5685455B2 (ja) * | 2011-02-23 | 2015-03-18 | 株式会社アルバック | 蒸着装置及び蒸着方法 |
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