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JP5743237B2 - Touch panel sensor, touch panel device, and display device - Google Patents

Touch panel sensor, touch panel device, and display device Download PDF

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JP5743237B2 JP2013198875A JP2013198875A JP5743237B2 JP 5743237 B2 JP5743237 B2 JP 5743237B2 JP 2013198875 A JP2013198875 A JP 2013198875A JP 2013198875 A JP2013198875 A JP 2013198875A JP 5743237 B2 JP5743237 B2 JP 5743237B2
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Description

本発明は、電極を有したタッチパネルセンサ、タッチパネルセンサを含むタッチパネル装置、並びに、タッチパネルセンサまたはタッチパネル装置を含む表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel sensor having electrodes, a touch panel device including a touch panel sensor, and a display device including a touch panel sensor or a touch panel device.

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびFPC(フレキシブルプリント基板)を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の画像表示機構が組み込まれた種々の装置等(例えば、券売機、ATM装置、携帯電話、ゲーム機)に対する入力手段として、画像表示機構とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルセンサは画像表示機構の表示面上に配置され、これにより、タッチパネル装置は表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。タッチパネルセンサのうちの画像表示機構の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置(接近位置)を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit that detects a contact position on the touch panel sensor, wiring, and an FPC (flexible printed circuit board). In many cases, the touch panel device is used as an input means for various devices including an image display mechanism such as a liquid crystal display or a plasma display (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine) and the image display mechanism. It is used. In such a device, the touch panel sensor is disposed on the display surface of the image display mechanism, and thus the touch panel device enables a very direct input to the display device. An area of the touch panel sensor that faces the display area of the image display mechanism is transparent, and this area of the touch panel sensor constitutes an active area that can detect a contact position (approach position).

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置(接近位置)を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別され得る。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、投影型の容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。投影型容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体(典型的には、指)が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触(接近)することにより、新たに奇生容量が発生し、この静電容量の変化を利用して、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置を検出するようになっている。   The touch panel device can be classified into various types based on the principle of detecting a contact position (approach position) on the touch panel sensor. In recent years, attention has been paid to a projection type capacitively coupled touch panel device because it is optically bright, has a good design, has a simple structure, and is excellent in function. In the projected capacitive coupling type touch panel device, the external conductor (typically, a finger) whose position is to be detected comes into contact (approach) with the touch panel sensor via a dielectric, so that a new strange capacity is generated. The position of the external conductor on the touch panel sensor is detected using this change in capacitance.

投影型の容量結合方式のタッチパネル装置は、アクティブエリア内に配置された一対の検出電極群を含んでいる。一対の検出電極群は、誘電体を挟んで異なる厚さ方向位置に配置される。各検出電極群は、ストライプ状に配列された多数の線状検出電極を含んでいる。一対の検出電極群の間で、検出電極の配列方向は直交している。   The projected capacitive touch panel device includes a pair of detection electrode groups arranged in an active area. The pair of detection electrode groups are arranged at different positions in the thickness direction across the dielectric. Each detection electrode group includes a large number of linear detection electrodes arranged in a stripe shape. Between the pair of detection electrodes, the arrangement direction of the detection electrodes is orthogonal.

これまでの多くのタッチパネルセンサにおいて、検出電極は、ITO等の透明導電材料を用いて形成されてきた。例えば、特許文献1では、両面露光法を用いてITOをパターニングすることにより、タッチパネルセンサの一対の検出電極群を互いに対して高精度に位置決めすることを開示している。ただし昨今では、特許文献2に開示されているように、表示装置の大型化にともなって検出電極の抵抗値を低下させることが求められており、電気抵抗値の低い金属材料を用いて検出電極を作製したタッチパネルセンサも普及しつつある。このタッチパネルセンサでは、検出電極が幅狭の導線として形成されている。このため、アクティブエリアでの透過率を十分高くすることができる。その一方で、金属材料の導電率が高いことから、金属導線の幅を狭くしても、タッチパネルセンサの面抵抗率(単位:Ω/□)を十分小さくすることができる。   In many touch panel sensors so far, the detection electrode has been formed using a transparent conductive material such as ITO. For example, Patent Document 1 discloses that a pair of detection electrode groups of a touch panel sensor is positioned with high accuracy with respect to each other by patterning ITO using a double-sided exposure method. However, recently, as disclosed in Patent Document 2, it is required to reduce the resistance value of the detection electrode as the display device becomes larger, and the detection electrode is made of a metal material having a low electric resistance value. The touch panel sensor that has been manufactured is also spreading. In this touch panel sensor, the detection electrode is formed as a narrow conducting wire. For this reason, the transmittance in the active area can be sufficiently increased. On the other hand, since the electrical conductivity of the metal material is high, the surface resistivity (unit: Ω / □) of the touch panel sensor can be sufficiently reduced even if the width of the metal conductor is reduced.

金属材料からなる検出電極は、透明基材上に、接着剤を介して金属箔を積層し、次に、パターニングされたレジストをマスクとして、金属箔をエッチングすることにより作製されてきた。ただし、工業的に製造されている金属箔の厚みは10μm以上である。このような厚みの金属箔をエッチングすることによって安定して作製され得る、其の場合、金属導線の幅は少なくとも10μm以上となる。その理由は、エッチング加工で十分な形状及び寸法精度で安定して製造可能となるのは線幅が厚み以上の場合に限られる為である。即ち、厚み未満の線幅にエッチングすると、図15に示すように、エッチング時に必然的に生じてしまう横方向への浸食(サイドエッチング)により、隣り合う浸食箇所がレジストの下方で繋がってしまうことにある。レジストの下方で浸食箇所が繋がってしまうと、当該レジスト部分はもはや安定して支持され得ない。結果として、当該レジスト部分の下方に形成されるべき金属導線は直線性に欠け、また、高さ(厚み)にばらつきが生じる。加えて、図15に示すように、得られた金属導線の断面形状は、基材から突出する三角形形状となる。このような金属導線は、幅が狭い上に高さも低いため、十分な導電率を呈することはない。したがって、このタッチパネルセンサの面抵抗率は高くなってしまい、位置検出のためのセンシング感度が低下する。さらに、このようなタッチパネルセンサを、突出した金属導線が観察者側を向くようにしてタッチパネル装置や表示装置に組み込んだ場合、必要な面抵抗率を有する金属導線が視認されやすくもなる。   A detection electrode made of a metal material has been produced by laminating a metal foil on a transparent substrate via an adhesive, and then etching the metal foil using a patterned resist as a mask. However, the thickness of the metal foil manufactured industrially is 10 micrometers or more. The metal foil having such a thickness can be stably produced by etching. In that case, the width of the metal conductor is at least 10 μm or more. This is because the etching can be stably performed with sufficient shape and dimensional accuracy only when the line width is equal to or greater than the thickness. That is, if etching is performed to a line width less than the thickness, as shown in FIG. 15, adjacent erosion sites are connected below the resist due to lateral erosion (side etching) that inevitably occurs during etching. It is in. If the erosion site is connected below the resist, the resist portion can no longer be stably supported. As a result, the metal conductive wire to be formed below the resist portion lacks linearity, and the height (thickness) varies. In addition, as shown in FIG. 15, the cross-sectional shape of the obtained metal conducting wire is a triangular shape protruding from the base material. Since such a metal conducting wire is narrow and low in height, it does not exhibit sufficient electrical conductivity. Therefore, the surface resistivity of the touch panel sensor is increased, and the sensing sensitivity for position detection is reduced. Furthermore, when such a touch panel sensor is incorporated in a touch panel device or a display device so that the protruding metal conductor faces the viewer, the metal conductor having the required surface resistivity is easily visible.

特許文献2では、このような問題に対処すべく、真空蒸着法等の成膜法によって透明基材上に金属薄膜を形成し、次に、パターニングされたレジストをマスクとして、この金属薄膜をエッチングすることによって、サイドエッチングによる上記不具合を生じること無く十分に細線化された検出電極を形成することを提案している。また、特許文献2では、金属薄膜よりも低反射性の暗色層で検出電極の表面を形成することにより、アクティブエリア内に位置する検出電極の不可視化を図ることも提案している。   In Patent Document 2, in order to cope with such a problem, a metal thin film is formed on a transparent substrate by a film forming method such as a vacuum vapor deposition method, and then this metal thin film is etched using the patterned resist as a mask. By doing so, it has been proposed to form a sufficiently thin detection electrode without causing the above-mentioned problems due to side etching. Patent Document 2 also proposes that the detection electrode located in the active area is made invisible by forming the surface of the detection electrode with a dark color layer that is less reflective than the metal thin film.

特許第4775722号Japanese Patent No. 4775722 特許第5224203号Patent No. 5224203

しかしながら、十分に細線化された金属材料からなる一対の検出電極群を両面露光法により作製する場合、透明基材の両面に金属薄膜及び暗色膜を成膜する必要がある。真空蒸着法等の薄膜形成法は、透明基材に熱的負荷を及ぼす。このため、金属薄膜上ではなく透明基材の両面に金属薄膜及び暗色膜をそれぞれ成膜するためには、蒸着等の金屬薄膜形成時の透明基材の熱による收縮、歪等の劣化を防止すべく厚い透明基材を用いる等、透明基材の選定に制約が生じる。また、一方の面に於いては暗色膜を、透明基材上に成膜する必要があり、密着性を考慮すると、暗色膜の材料選定に大きな制約が生じる。加えて、透明基材の一方の側に成膜処理を行った後に透明基材の他方の側に成膜処理を行う際、先に成膜した金属薄膜または黒化膜が、搬送用のローラ等に接触するため、タッチパネルセンサの製品歩留まりが大幅に低下する。   However, when a pair of detection electrode groups made of a sufficiently thin metal material is produced by a double-sided exposure method, it is necessary to form a metal thin film and a dark color film on both sides of the transparent substrate. A thin film forming method such as a vacuum deposition method exerts a thermal load on the transparent substrate. For this reason, in order to form a metal thin film and a dark color film on both sides of the transparent substrate, not on the metal thin film, the deterioration of the shrinkage, distortion, etc. due to the heat of the transparent substrate when forming a metal thin film such as vapor deposition is prevented. Restrictions arise in selection of a transparent base material, such as using a transparent base material as thick as possible. Further, on one surface, it is necessary to form a dark color film on a transparent substrate, and considering the adhesion, there is a great restriction on the material selection of the dark color film. In addition, when the film formation process is performed on one side of the transparent substrate and then the other side of the transparent substrate is subjected to the film formation process, the previously formed metal thin film or blackened film is transferred to the transfer roller. The product yield of the touch panel sensor is greatly reduced.

本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、高精度に位置決めされるとともに十分に細線化された検出電極を両面に有したタッチパネルセンサであって、材料選定に関する自由度が高く、且つ透明基材の熱的劣化を最小化し安定して製造され得るタッチパネルセンサを提供することを目的とする。また、本発明は、高精度に位置決めされるとともに十分に細線化された検出電極を両面に有したタッチパネルセンサを、材料選定に関する自由度が高く且つ安定して製造することができる製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and is a touch panel sensor that has detection electrodes that are positioned with high accuracy and are sufficiently thinned on both sides, and has a high degree of freedom in selecting materials. An object of the present invention is to provide a touch panel sensor that can be stably manufactured by minimizing thermal degradation of a transparent substrate. In addition, the present invention provides a manufacturing method capable of stably manufacturing a touch panel sensor having a highly accurate positioning and a sufficiently thinned detection electrode on both sides with a high degree of freedom regarding material selection. The purpose is to do.

本発明によるタッチパネルセンサは、
透明樹脂シートと、
前記透明樹脂シートの一方の側の面上に設けられた第1検出電極と、
前記透明樹脂シートの他方の側の面上に設けられた接合層と、
前記接合層の他方の側の面上に設けられた第2検出電極と、を備え、
前記第1検出電極は、第1導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている第1導電体メッシュを含み、
前記第2検出電極は、第2導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている第2導電体メッシュを含み、
前記第1導電体メッシュをなす前記第1導線は、前記透明樹脂シート側に位置する第1導電性金属層と、前記第1導電性金属層を一方の側から覆う第1暗色層と、を含み、
前記第2導電体メッシュをなす前記第2導線は、前記接合層側に位置する第2暗色層と、前記第2暗色層によって一方の側から覆われた第2導電性金属層と、を含む。
The touch panel sensor according to the present invention includes:
A transparent resin sheet;
A first detection electrode provided on one surface of the transparent resin sheet;
A bonding layer provided on the surface of the other side of the transparent resin sheet;
A second detection electrode provided on a surface on the other side of the bonding layer,
The first detection electrode includes a first conductor mesh disposed in a mesh pattern in which a first conductor defines a plurality of opening regions;
The second detection electrode includes a second conductor mesh disposed in a mesh pattern in which the second conductor defines a plurality of opening regions,
The first conductive wire forming the first conductive mesh includes: a first conductive metal layer positioned on the transparent resin sheet side; and a first dark color layer covering the first conductive metal layer from one side. Including
The second conductive wire forming the second conductor mesh includes a second dark color layer located on the bonding layer side and a second conductive metal layer covered from one side by the second dark color layer. .

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第1導電性金属層は、前記透明樹脂シート側に位置する基材側導電性金属層と、前記第1暗色層側に位置する表層側導電性金属層と、を含んでいてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the first conductive metal layer includes a base-side conductive metal layer located on the transparent resin sheet side, a surface-side conductive metal layer located on the first dark color layer side, May be included.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記基材側導電性金属層の幅は、前記表層側導電性金属層の幅よりも広くなっていてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the width of the base-side conductive metal layer may be wider than the width of the surface-side conductive metal layer.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記接合層は、硬化性樹脂の硬化物からなる接着層であってもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the bonding layer may be an adhesive layer made of a cured product of a curable resin.

本発明によるタッチパネル装置は、上述した本発明によるタッチパネルセンサのいずれかを備える。   The touch panel device according to the present invention includes any of the touch panel sensors according to the present invention described above.

本発明によるタッチパネル装置が、前記タッチパネルセンサに積層されたカバー層をさらに備えるようにしてもよい。   The touch panel device according to the present invention may further include a cover layer laminated on the touch panel sensor.

本発明による表示装置は、上述した本発明によるタッチパネルセンサのいずれか、或いは、上述した本発明によるタッチパネル装置のいずれかを含む。   The display device according to the present invention includes any of the touch panel sensors according to the present invention described above or any of the touch panel devices according to the present invention described above.

本発明によるタッチパネルセンサの製造方法は、
透明樹脂シートと、蒸着法、スパッタリング法、めっき法、CVD法、イオンプレーティング法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により前記透明樹脂シートに積層された第1導電性金属膜と、前記第1導電性金属膜の前記透明樹脂シートとは反対側に積層された第1暗色膜と、を有する第1積層体に、支持体と、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により前記支持体に積層された第2導電性金属膜と、前記第2導電性金属膜の前記支持体とは反対側に積層された第2暗色膜と、を有する第2積層体を、前記第1積層体の前記透明樹脂シートの側と前記第2積層体の前記第2暗色膜の側とが対面するようにして、接合層を介して積層する工程と、
前記第2積層体の前記第2暗色膜及び前記第2導電性金属膜が前記接合層を介して前記第1積層体に接合した状態で、前記支持体を剥がして、前記第2導電性金属膜、前記第2暗色膜、前記接合層、前記透明樹脂シート、前記第1導電性金属膜及び前記第1暗色膜をこの順で含む中間積層体を作製する工程と、
前記中間積層体の前記第2導電性金属膜及び前記第2暗色膜、並びに、前記第1暗色膜及び前記第1導電性金属膜をパターニングする工程と、を備える。
A method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention includes:
A transparent resin sheet, a first conductive metal film laminated on the transparent resin sheet by a vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, a CVD method, an ion plating method, or a combination of two or more thereof, and the first A first laminated body having a first dark color film laminated on the side opposite to the transparent resin sheet of the conductive metal film, a support, and an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or these A second conductive metal film laminated on the support by a method combining two or more of the above, and a second dark color film laminated on the opposite side of the second conductive metal film from the support. A step of laminating the second laminated body via a bonding layer so that the transparent resin sheet side of the first laminated body and the second dark color film side of the second laminated body face each other;
In the state where the second dark color film and the second conductive metal film of the second laminate are joined to the first laminate via the joining layer, the support is peeled off, and the second conductive metal is removed. Producing an intermediate laminate including the film, the second dark film, the bonding layer, the transparent resin sheet, the first conductive metal film, and the first dark film in this order;
Patterning the second conductive metal film and the second dark color film, and the first dark color film and the first conductive metal film of the intermediate laminate.

本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記第1積層体の前記第1導電性金属膜は、前記透明樹脂シート側に位置する基材側導電性金属膜と、前記第1暗色膜側に位置する表層側導電性金属膜と、を含んでもよい。   In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the first conductive metal film of the first laminate is positioned on the base-side conductive metal film located on the transparent resin sheet side and on the first dark color film side. And a surface layer side conductive metal film.

本発明によれば、高精度に位置決めされるとともに十分に細線化された検出電極を両面に有したタッチパネルセンサが、高い自由度で材料を選定しながら透明基材の熱的劣化を最小化して安定して製造され得る。   According to the present invention, a touch panel sensor having detection electrodes that are positioned with high precision and sufficiently thinned on both sides minimizes thermal degradation of a transparent substrate while selecting a material with a high degree of freedom. It can be manufactured stably.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、タッチパネル装置を画像表示機構とともに概略的に示す斜視図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment according to the present invention, and is a perspective view schematically showing a touch panel device together with an image display mechanism. 図2は、図1のタッチパネル装置を画像表示機構とともに示す断面図である。なお、図2に示された断面は、図1のII−II線に沿った断面に概ね対応している。FIG. 2 is a sectional view showing the touch panel device of FIG. 1 together with an image display mechanism. The cross section shown in FIG. 2 generally corresponds to the cross section taken along the line II-II in FIG. 図3は、タッチパネル装置のタッチパネルセンサを一方の側から示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing the touch panel sensor of the touch panel device from one side. 図4は、図3の拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view of FIG. 図5は、タッチパネルセンサの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the touch panel sensor. 図6(a)〜(c)は、第1積層体の製造方法を説明するための図である。6A to 6C are views for explaining a method for manufacturing the first laminate. 図7(a)及び(b)は、第2積層体の製造方法を説明するための図である。FIGS. 7A and 7B are views for explaining a method of manufacturing the second stacked body. 図8は、中間積層体の製造方法を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a method of manufacturing the intermediate laminate. 図9は、中間積層体の製造方法を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a method of manufacturing the intermediate laminate. 図10は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a method of manufacturing the touch panel sensor. 図11は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a method of manufacturing the touch panel sensor. 図12は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a method of manufacturing the touch panel sensor. 図13は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a method of manufacturing the touch panel sensor. 図14は、図5に対応する図であって、タッチパネルセンサの一変形例を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram corresponding to FIG. 5 and illustrating a modified example of the touch panel sensor. 図15は、エッチング時の不具合を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram for explaining a problem during etching.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

図1〜図13は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図1はタッチパネル装置及び表示装置を概略的に示す斜視図であり、図2は図1のタッチパネル装置及び表示装置を示す断面図であり、図3および図4はタッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す平面図である。   1 to 13 are diagrams for explaining an embodiment according to the present invention. 1 is a perspective view schematically showing the touch panel device and the display device, FIG. 2 is a cross-sectional view showing the touch panel device and the display device of FIG. 1, and FIGS. 3 and 4 show the touch panel sensor of the touch panel device. FIG.

図1〜図4に示されたタッチパネル装置20は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネル装置への外部導体(例えば、人間の指)の接触位置を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネル装置20の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネル装置に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。このような現象にともなって、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。   The touch panel device 20 shown in FIGS. 1 to 4 is configured as a projection-type capacitive coupling method, and is configured to be able to detect a contact position of an external conductor (for example, a human finger) to the touch panel device. . In addition, when the detection sensitivity of the capacitively coupled touch panel device 20 is excellent, it is possible to detect which region of the touch panel device the external conductor is approaching just by approaching the external conductor. Can do. Along with such a phenomenon, the “contact position” used here is a concept including an approach position that is not actually in contact but can be detected.

<<<画像表示機構12>>>
図1および図2に示すように、タッチパネル装置20は、画像表示機構(例えば液晶表示装置)12とともに組み合わせられて用いられ、表示装置10を構成している。図示された画像表示機構12は、一例としてフラットパネルディスプレイ、より具体的には液晶表示装置として構成されている。画像表示機構12は、表示面12aを形成する液晶表示パネル15と、液晶表示パネル15を背面から照明するバックライト14と、液晶表示パネル15に接続された表示制御部13と、を有している。液晶表示パネル15は、映像を表示することができる表示領域A1と、表示領域A1を取り囲むようにして表示領域A1の外側に配置された非表示領域(額縁領域とも呼ばれる)A2と、を含んでいる。表示制御部13は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて液晶表示パネル15を駆動する。液晶表示パネル15は、表示制御部13の制御信号により、所定の映像を表示面12aに表示するようになる。すなわち、画像表示機構12は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置として役割を担っている。
<<< Image display mechanism 12 >>>
As shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel device 20 is used in combination with an image display mechanism (for example, a liquid crystal display device) 12, and constitutes a display device 10. The illustrated image display mechanism 12 is configured as a flat panel display as an example, more specifically as a liquid crystal display device. The image display mechanism 12 includes a liquid crystal display panel 15 that forms the display surface 12a, a backlight 14 that illuminates the liquid crystal display panel 15 from the back, and a display control unit 13 that is connected to the liquid crystal display panel 15. Yes. The liquid crystal display panel 15 includes a display area A1 that can display an image, and a non-display area (also referred to as a frame area) A2 that is disposed outside the display area A1 so as to surround the display area A1. Yes. The display control unit 13 processes information related to the video to be displayed and drives the liquid crystal display panel 15 based on the video information. The liquid crystal display panel 15 displays a predetermined image on the display surface 12a according to a control signal from the display control unit 13. That is, the image display mechanism 12 plays a role as an output device that outputs information such as characters and drawings as video.

なお、図2に示されているように、液晶表示パネル15は、一対の偏光板16,18と、一対の偏光板16,18間に配置された液晶セル17と、を有している。出光側に配置された偏光板18の出光側には、機能層19が設けられている。機能層19は、特定の機能を発揮することを期待された層であって、画像表示機構12の最出光側面、すなわち表示面12aを形成している。機能層19は、一例として、反射防止層(AR層)としての機能する低屈折率層とすることができる。また機能層19の他の例として、反射防止層に代えて或いは反射防止層に加えて、防眩機能を有した防眩層(AG層)、耐擦傷性を有したハードコート層(HC層)、帯電防止機能を有した帯電防止層(AS層)等の一以上を含むように構成され得る。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal display panel 15 includes a pair of polarizing plates 16 and 18 and a liquid crystal cell 17 disposed between the pair of polarizing plates 16 and 18. A functional layer 19 is provided on the light output side of the polarizing plate 18 disposed on the light output side. The functional layer 19 is a layer expected to exhibit a specific function, and forms the most light emitting side surface of the image display mechanism 12, that is, the display surface 12a. As an example, the functional layer 19 can be a low refractive index layer that functions as an antireflection layer (AR layer). Other examples of the functional layer 19 include an antiglare layer (AG layer) having an antiglare function, and a hard coat layer (HC layer) having scratch resistance instead of or in addition to the antireflection layer. ), One or more antistatic layers (AS layers) having an antistatic function, and the like.

偏光板16,18は、入射した光を直交する二つの偏光成分に分解し、一方の方向の偏光成分を透過させ、前記一方の方向に直交する他方の方向の偏光成分を吸収する機能を有した偏光子を有している。以下においては、液晶表示パネル15に含まれる一対の偏光板を区別するため、液晶表示パネル15の配置状態に関係なく、入光側(バックライト側)の偏光板16を下偏光板と呼び、出光側(観察者側)の偏光板18を上偏光板と呼ぶ。   The polarizing plates 16 and 18 have a function of decomposing incident light into two orthogonal polarization components, transmitting the polarization component in one direction, and absorbing the polarization component in the other direction orthogonal to the one direction. It has a polarizer. In the following, in order to distinguish a pair of polarizing plates included in the liquid crystal display panel 15, regardless of the arrangement state of the liquid crystal display panel 15, the light incident side (backlight side) polarizing plate 16 is referred to as a lower polarizing plate, The light output side (observer side) polarizing plate 18 is referred to as an upper polarizing plate.

液晶セル17は、一対の支持板と、一対の支持板間に配置された液晶と、を有している。液晶セル17は、一つの画素を形成する領域毎に、電界印加がなされ得るようになっている。そして、電界印加された液晶セル17の液晶の配向は変化するようになる。入光側に配置された下偏光板16を透過した特定方向(透過軸と平行な方向)の偏光成分は、一例として、電界印加されている液晶セル17を通過する際にその偏光方向を90°回転させ、電界印加されていない液晶セル17を通過する際にその偏光方向を維持する。このため、液晶セル17への電界印加の有無によって、下偏光板16を透過した特定方向の偏光成分が、下偏光板16の出光側に配置された上偏光板18をさらに透過するか、あるいは、上偏光板18で吸収されて遮断されるか、を制御することができる。   The liquid crystal cell 17 has a pair of support plates and a liquid crystal disposed between the pair of support plates. In the liquid crystal cell 17, an electric field can be applied to each region where one pixel is formed. Then, the orientation of the liquid crystal in the liquid crystal cell 17 to which an electric field is applied changes. As an example, the polarization component of a specific direction (direction parallel to the transmission axis) transmitted through the lower polarizing plate 16 disposed on the light incident side has a polarization direction of 90 when passing through the liquid crystal cell 17 to which an electric field is applied. Rotate and maintain the polarization direction when passing through the liquid crystal cell 17 to which no electric field is applied. For this reason, depending on whether or not an electric field is applied to the liquid crystal cell 17, the polarized light component in a specific direction transmitted through the lower polarizing plate 16 further passes through the upper polarizing plate 18 disposed on the light output side of the lower polarizing plate 16, or It is possible to control whether the light is absorbed and blocked by the upper polarizing plate 18.

バックライト14は、光源を含んでおり、面状に光を照射する。バックライト14は、エッジライト型(サイドライト型)や直下型として構成された既知の面光源装置を用いることができる。光源は、発光ダイオード(LED)、冷陰極管、白熱灯、有機EL等の既知の光源から構成され得る。   The backlight 14 includes a light source and irradiates light in a planar shape. As the backlight 14, a known surface light source device configured as an edge light type (side light type) or a direct type can be used. The light source may be a known light source such as a light emitting diode (LED), a cold cathode tube, an incandescent lamp, or an organic EL.

<<<タッチパネル装置20>>>
次に、タッチパネル装置20について説明する。タッチパネル装置20は、タッチパネルセンサ30を含む積層構造体20aと、タッチパネルセンサ30に接続された検出制御部21と、を有している。タッチパネルセンサ30を含む積層構造体20aは、画像表示機構12の表示面12aに対面する位置に配置されている。上述したように、タッチパネル装置20は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、情報を入力する入力装置としての役割を担っている。図2に示された例では、タッチパネル装置20の積層構造体20aは、観察者側、すなわち、画像表示機構12とは反対の側から順に、カバー層22、接合層23、タッチパネルセンサ30及び第2カバー層24を有している。
<<<< Touch Panel Device 20 >>>>
Next, the touch panel device 20 will be described. The touch panel device 20 includes a laminated structure 20 a including the touch panel sensor 30 and a detection control unit 21 connected to the touch panel sensor 30. The laminated structure 20 a including the touch panel sensor 30 is disposed at a position facing the display surface 12 a of the image display mechanism 12. As described above, the touch panel device 20 is configured as a projected capacitively coupled touch panel device, and plays a role as an input device for inputting information. In the example illustrated in FIG. 2, the stacked structure 20 a of the touch panel device 20 includes a cover layer 22, a bonding layer 23, a touch panel sensor 30, and a first touch panel in order from the observer side, that is, the side opposite to the image display mechanism 12. Two cover layers 24 are provided.

カバー層22は、誘電体として機能する透光性を有した層であり、例えばガラス板や樹脂フィルムから形成される。このカバー層22は、タッチパネル装置20への入力面(タッチ面、接触面)として機能するようになる。つまり、カバー層22に導体、例えば人間の指5を接触させることにより、タッチパネル装置20に対して外部から情報を入力することができるようになっている。また、カバー層22は、表示装置10の最観察者側面をなしており、表示装置10において、タッチパネル装置20および画像表示機構12を外部から保護するカバーとしても機能する。   The cover layer 22 is a light-transmitting layer that functions as a dielectric, and is formed of, for example, a glass plate or a resin film. The cover layer 22 functions as an input surface (touch surface, contact surface) to the touch panel device 20. That is, information can be input from the outside to the touch panel device 20 by bringing a conductor such as a human finger 5 into contact with the cover layer 22. Further, the cover layer 22 forms the most observer side of the display device 10 and functions as a cover for protecting the touch panel device 20 and the image display mechanism 12 from the outside in the display device 10.

カバー層22は、接合層23を介してタッチパネルセンサ30と接合されている。接合層23は、タッチパネルセンサ30の電極40,50と、カバー層22に接触する導体、例えば人間の指5と、の間で誘電体として機能する。このような接合層23としては、種々の接着性または粘着性を有した材料からなる層を用いることができる。第2カバー層24は、タッチパネルセンサ30の後述する第2電極50を覆う層である。第2カバー層24は、繊細なパターンを有する第2電極50を保護する層として機能する。   The cover layer 22 is bonded to the touch panel sensor 30 via the bonding layer 23. The bonding layer 23 functions as a dielectric between the electrodes 40 and 50 of the touch panel sensor 30 and a conductor that contacts the cover layer 22, for example, a human finger 5. As such a bonding layer 23, a layer made of a material having various adhesiveness or tackiness can be used. The second cover layer 24 is a layer that covers a later-described second electrode 50 of the touch panel sensor 30. The second cover layer 24 functions as a layer that protects the second electrode 50 having a delicate pattern.

なお、タッチパネル装置20の積層構造体20aには、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、一つの機能層が二以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、タッチパネルセンサ30の後述する透明樹脂シート32や、その他の積層構造体20aに含まれる各層(各基材や、接着層)に機能を付与するようにしてもよい。タッチパネル装置20の積層構造体20aに付与され得る機能としては、一例として、防眩(AG)機能、反射防止(AR)機能、耐擦傷性を有したハードコート(HC)機能、帯電防止(AS)機能、電磁波遮蔽機能、赤外線遮蔽機能、紫外線遮蔽機能、位相差機能、偏光機能、防汚機能等を例示することができる。   The laminated structure 20a of the touch panel device 20 is not limited to the illustrated example, and may be provided with other functional layers expected to exhibit a specific function. In addition, one functional layer may exhibit two or more functions. For example, the transparent resin sheet 32 (to be described later) of the touch panel sensor 30 or each layer included in the other laminated structure 20a (each substrate or , A function may be imparted to the adhesive layer). Examples of functions that can be imparted to the laminated structure 20a of the touch panel device 20 include an antiglare (AG) function, an antireflection (AR) function, a hard coat (HC) function having scratch resistance, and an antistatic (AS ) Function, electromagnetic wave shielding function, infrared shielding function, ultraviolet shielding function, phase difference function, polarization function, antifouling function, and the like.

タッチパネル装置20の検出制御部21は、タッチパネルセンサ30に接続され、カバー層22を介して入力された情報を処理する。具体的には、検出制御部21は、カバー層22へ導体(典型的には、人間の指)5が接触している際に、カバー層22への導体5の接触位置を特定し得るように構成された回路(検出回路)を含んでいる。また、検出制御部21は、画像表示機構12の表示制御部13と接続され、処理した入力情報を表示制御部13へ送信することもできる。この際、表示制御部13は、入力情報に基づいた映像情報を作成し、入力情報に対応した映像を画像表示機構12に表示させることができる。   The detection control unit 21 of the touch panel device 20 is connected to the touch panel sensor 30 and processes information input via the cover layer 22. Specifically, the detection control unit 21 can specify the contact position of the conductor 5 with the cover layer 22 when the conductor (typically a human finger) 5 is in contact with the cover layer 22. The circuit (detection circuit) comprised in this is included. Further, the detection control unit 21 is connected to the display control unit 13 of the image display mechanism 12 and can also transmit the processed input information to the display control unit 13. At this time, the display control unit 13 can create video information based on the input information and cause the image display mechanism 12 to display a video corresponding to the input information.

なお、「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は、タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして、本件においても用いている。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネル装置は電極(導電体層)を含んでおり、外部の導体(典型的には人間の指)がタッチパネルに接触することにより、外部の導体とタッチパネル装置の電極(導電体層)との間でコンデンサ(静電容量)が形成されるようになる。そして、このコンデンサの形成にともなった電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接触している位置の位置座標が特定(位置検出)されるようになる。   Note that the terms “capacitive coupling” and “projection type” capacitive coupling have the same meaning as that used in the technical field of touch panels, and are used in this case. The “capacitive coupling” method is also referred to as “capacitance” method or “capacitance coupling” method in the technical field of touch panels. It is treated as a term synonymous with the “capacitive coupling” method. A typical capacitive coupling type touch panel device includes an electrode (conductor layer), and an external conductor (typically a human finger) comes into contact with the touch panel, whereby the external conductor and the touch panel device are connected. A capacitor (capacitance) is formed between the electrode (conductor layer). Based on the change in the electrical state accompanying the formation of the capacitor, the position coordinates of the position where the external conductor is in contact on the touch panel are specified (position detection).

<<タッチパネルセンサ30>>
次に、タッチパネルセンサ30について、詳述する。図2および図3に示すように、タッチパネルセンサ30は、透明樹脂シート32と、透明樹脂シート32の一方の側の面上に設けられた第1電極40と、透明樹脂シート32の他方の側の面上に設けられた接合層34と、接合層34の他方の側の面上に設けられた第2電極50と、を含んでいる。図示された実施の形態では、タッチパネルセンサ30に関連して用いる「一方の側」は、観察者側、すなわち、検出制御部21とは反対の側となっている。また図示された実施の形態では、タッチパネルセンサ30に関連して用いる「他方の側」は、画像表示機構12側、すなわち、観察者側とは反対の側となっている。
<< Touch panel sensor 30 >>
Next, the touch panel sensor 30 will be described in detail. As shown in FIGS. 2 and 3, the touch panel sensor 30 includes a transparent resin sheet 32, a first electrode 40 provided on one side of the transparent resin sheet 32, and the other side of the transparent resin sheet 32. And the second electrode 50 provided on the other side surface of the bonding layer 34. In the illustrated embodiment, “one side” used in connection with the touch panel sensor 30 is the observer side, that is, the side opposite to the detection control unit 21. In the illustrated embodiment, the “other side” used in connection with the touch panel sensor 30 is the image display mechanism 12 side, that is, the side opposite to the observer side.

<透明樹脂シート32>
透明樹脂シート32は、電極40,50を支持する基材として機能し、且つ、タッチパネルセンサ30における誘電体としても機能する。図1および図3に示すように、透明樹脂シート32は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアAa1と、アクティブエリアAa1に隣接する非アクティブエリアAa2と、を含んでいる。図1に示すように、タッチパネルセンサ30のアクティブエリアAa1は、画像表示機構12の表示領域A1に対面する領域の中央部から周縁部にかけての領域を占めている。一方、非アクティブエリアAa2は、矩形状のアクティブエリアAa1の周縁部を四方から周状に取り囲むように、言い換えると、額縁状に形成されている。この非アクティブエリアAa2は、画像表示機構12の非表示領域A2に対面する領域に形成されている。
<Transparent resin sheet 32>
The transparent resin sheet 32 functions as a base material that supports the electrodes 40 and 50 and also functions as a dielectric in the touch panel sensor 30. As shown in FIGS. 1 and 3, the transparent resin sheet 32 includes an active area Aa1 corresponding to a region where the touch position can be detected, and an inactive area Aa2 adjacent to the active area Aa1. As shown in FIG. 1, the active area Aa1 of the touch panel sensor 30 occupies a region from the central portion to the peripheral portion of the region facing the display region A1 of the image display mechanism 12. On the other hand, the non-active area Aa2 is formed in a frame shape so as to surround the peripheral edge of the rectangular active area Aa1 from the four sides. The inactive area Aa2 is formed in a region facing the non-display region A2 of the image display mechanism 12.

アクティブエリアAa1を介して画像表示機構12の画像を観察することができるよう、透明樹脂シート32は、透明または半透明となっている。透明樹脂シート32は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、84%以上であることがより好ましい。なお、透明樹脂シート32の可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV−3100PC」、JISK0115準拠品)を用いて測定波長380nm〜780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。   The transparent resin sheet 32 is transparent or translucent so that an image of the image display mechanism 12 can be observed through the active area Aa1. The transparent resin sheet 32 preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 84% or more. The visible light transmittance of the transparent resin sheet 32 is measured using a spectrophotometer (“UV-3100PC” manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K0115 compliant product) within a measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm. It is specified as an average value of transmittance at each wavelength.

透明樹脂シート32は、例えば、誘電体として機能し得るガラスや樹脂の板やフィルムから構成され得る。樹脂フィルムとしては、光学部材の基材として使用されている種々の樹脂フィルムを好適に用いることができる。一例として、タッチパネル裝置20の積層構造体20aに位相差板や偏光板を含む場合は複屈折性を有さない光学等方性の樹脂、典型的には、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステル樹脂を、透明樹脂シート32として用いることができる。その一方で、該積層構造体20aに位相差板又は偏光板を含ま無い場合は複屈折性を有する光学異方性の樹脂も、透明樹脂シート32として用いることができる。例えば、安価で安定性に優れたポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂を、透明樹脂シート32として用いることができる。ポリエステル樹脂フィルムは、吸湿性が低く、高温多湿の環境化においても変形等が生じ難いといった利点を、有している。   The transparent resin sheet 32 can be composed of, for example, a glass or resin plate or film that can function as a dielectric. As the resin film, various resin films used as the base material of the optical member can be suitably used. As an example, when the laminated structure 20a of the touch panel device 20 includes a retardation plate or a polarizing plate, an optically isotropic resin having no birefringence, typically a cellulose ester typified by triacetylcellulose. Resin can be used as the transparent resin sheet 32. On the other hand, when the laminated structure 20a does not include a retardation plate or a polarizing plate, an optically anisotropic resin having birefringence can also be used as the transparent resin sheet 32. For example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) that is inexpensive and excellent in stability can be used as the transparent resin sheet 32. Polyester resin films have the advantage that they are less hygroscopic and less likely to be deformed even in high temperature and high humidity environments.

<接合層34>
図2に示すように、接合層34は、透明樹脂シート32の片側のみに設けられている。より具体的には、接合層34は、透明樹脂シート32の他方の側の面上に設けられている。図2に示された例において、接合層34は、透明樹脂シート32の他方の側の面上にベタで設けられ、すなわち、透明樹脂シート32の他方の側の面上に隙間無く面状の領域に設けられている。
<Junction layer 34>
As shown in FIG. 2, the bonding layer 34 is provided only on one side of the transparent resin sheet 32. More specifically, the bonding layer 34 is provided on the surface on the other side of the transparent resin sheet 32. In the example shown in FIG. 2, the bonding layer 34 is solid on the surface of the other side of the transparent resin sheet 32, that is, the surface of the other side of the transparent resin sheet 32 has no gap. It is provided in the area.

接合層34は、第2電極50を透明樹脂シート32に接合するための層である。接合層34をなす材料は、第2電極50を透明樹脂シート32に接合し得る範囲で特に限定されることはない。一例として、接合層34は、いわゆるリワーク性(一度剥がした後に再接合可能である性質)を有した粘着剤からなる粘着層ではなく、リワーク性を持たない接着剤からなる接着層として形成されていることが好ましい。例えば、接合層34は、硬化性樹脂の硬化物からなる接着層であることが好ましい。接合層34が硬化性樹脂の硬化物からなる接着層である場合には、タッチパネルセンサ30が用いられる環境条件の変化(温度変化や湿度変化等)にともなって第2電極50の透明樹脂シート32に対する相対位置が変化することを、効果的に抑制することができる。これにより、安定して優れた位置検出精度を確保することが可能となる。   The bonding layer 34 is a layer for bonding the second electrode 50 to the transparent resin sheet 32. The material forming the bonding layer 34 is not particularly limited as long as the second electrode 50 can be bonded to the transparent resin sheet 32. As an example, the bonding layer 34 is not an adhesive layer made of an adhesive having so-called reworkability (property that can be rejoined after being peeled once), but is formed as an adhesive layer made of an adhesive having no reworkability. Preferably it is. For example, the bonding layer 34 is preferably an adhesive layer made of a cured product of a curable resin. When the bonding layer 34 is an adhesive layer made of a cured product of a curable resin, the transparent resin sheet 32 of the second electrode 50 is accompanied by changes in environmental conditions (temperature change, humidity change, etc.) in which the touch panel sensor 30 is used. It can suppress effectively that the relative position with respect to changes. This makes it possible to ensure stable and excellent position detection accuracy.

<電極40>
次に、透明樹脂シート32または接合層34上に設けられたタッチパネルセンサ30の第1電極40及び第2電極50について説明する。なお、以下の説明及び図面においては、第1電極40について、40番台の符号を付して説明し、第2電極50について、50番台の符号を付して説明する。ただし、第1電極40及び第2電極50は、共通する構成を含んでおり、共通する構成については、「第1」や「第2」との用語を用いることなく且つ40番台の符号と第2電極50番台の符号の両方を参照しながら説明する。
<Electrode 40>
Next, the first electrode 40 and the second electrode 50 of the touch panel sensor 30 provided on the transparent resin sheet 32 or the bonding layer 34 will be described. In the following description and drawings, the first electrode 40 will be described with reference numerals in the 40th order, and the second electrode 50 will be described with reference numerals in the 50th order. However, the first electrode 40 and the second electrode 50 include a common configuration, and for the common configuration, the terms “first” and “second” are not used, and the reference numbers in the 40s and the second are used. The description will be made with reference to both of the two-electrode 50s.

図3に示すように、透明樹脂シート32の一方の側の面上には、多数の第1電極40が設けられている。また、接合層34の他方の側の面上には、多数の第2電極50が設けられている。各電極40,50は、位置検出に用いられる検出電極45,55と、検出電極45,55に接続された取出電極(取出配線)42,52と、を有している。検出電極45,55は、パターンをなすようにしてアクティブエリアAa1内に配置されている。一方、取出電極42,52は、非アクティブエリアAa2内に配置されている。   As shown in FIG. 3, a large number of first electrodes 40 are provided on one surface of the transparent resin sheet 32. A large number of second electrodes 50 are provided on the other surface of the bonding layer 34. Each of the electrodes 40 and 50 has detection electrodes 45 and 55 used for position detection, and extraction electrodes (extraction wirings) 42 and 52 connected to the detection electrodes 45 and 55. The detection electrodes 45 and 55 are arranged in the active area Aa1 so as to form a pattern. On the other hand, the extraction electrodes 42 and 52 are disposed in the inactive area Aa2.

(検出電極45,55)
第1検出電極45は、透明樹脂シート32の一方の側(観察者側)の面上に所定のパターンで配置されている。また、第2検出電極55は、接合層34の他方の側(画像表示機構12側)の面上に、第1検出電極45とは異なるパターンで配置されている。より具体的には、図3に示すように、第1検出電極45は、長方形の輪郭形状を有して線状に延び、且つ、その長手方向と交差する方向に配列されている。同様に、第2検出電極55も、長方形の輪郭形状を有して線状に延び、且つ、その長手方向と交差する方向に配列されている。ただし、第1検出電極45の配列方向と第2検出電極55の配列方向とは非平行となっている。図示された例において、第1検出電極45は、ストライプ状に当該図上で上下方向に配列され、且つ、その配列方向に直交する方(当該図上に於いて左右方向)向に直線状に延びている。また、第2検出電極55も、ストライプ状に当該図上で左右方向配列され、且つ、その配列方向に直交する方向(当該図上で上下方向)に直線状に延びている。さらに、第1検出電極45の配列方向と第2検出電極55の配列方向とは直交している。
(Detection electrodes 45 and 55)
The first detection electrodes 45 are arranged in a predetermined pattern on the surface on one side (observer side) of the transparent resin sheet 32. The second detection electrodes 55 are arranged in a pattern different from that of the first detection electrodes 45 on the other side (image display mechanism 12 side) of the bonding layer 34. More specifically, as shown in FIG. 3, the first detection electrodes 45 have a rectangular outline shape, extend linearly, and are arranged in a direction intersecting the longitudinal direction. Similarly, the second detection electrodes 55 also have a rectangular outline shape, extend linearly, and are arranged in a direction intersecting the longitudinal direction. However, the arrangement direction of the first detection electrodes 45 and the arrangement direction of the second detection electrodes 55 are not parallel. In the illustrated example, the first detection electrodes 45 are arranged in a stripe shape in the vertical direction on the drawing and linearly in the direction perpendicular to the arrangement direction (the horizontal direction in the drawing). It extends. The second detection electrodes 55 are also arranged in the left-right direction on the drawing in a stripe shape and extend linearly in a direction perpendicular to the arrangement direction (up-down direction on the drawing). Further, the arrangement direction of the first detection electrodes 45 and the arrangement direction of the second detection electrodes 55 are orthogonal to each other.

検出電極45,55は、外部導体がタッチパネルセンサ30に接近した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化を検知するために設けられるものである。従って、検出電極45,55には、電磁的な変化または静電容量の変化に起因する電流を検知可能なレベルで流すことができる程度の導電性が求められる。このような検出電極45,55を構成するための材料として、優れた導電性を有する金属材料、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上を用いることができる。   The detection electrodes 45 and 55 are provided to detect an electromagnetic change or a change in capacitance that occurs when an external conductor approaches the touch panel sensor 30. Therefore, the detection electrodes 45 and 55 are required to have such conductivity that a current caused by an electromagnetic change or a change in capacitance can be passed at a detectable level. As a material for constituting such detection electrodes 45 and 55, a metal material having excellent conductivity, for example, gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, and One or more of these alloys can be used.

一方、これらの金属材料は、可視光に対して遮光性を有している。そこで、検出電極45,55は、導線46,56が多数の開口領域45b,55bを画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュ45a,55aを含んでいる。とりわけ図3及び図4に示された例においては、各検出電極45,55が、細長い領域に形成された導電体メッシュ45a,55aから形成されている。図4に示された例においては、アクティブエリアAa1の全域に導電体メッシュ45a,55aが形成され、各検出電極45,55の輪郭に対応して、導電体メッシュをなす導線46,56を断線させることにより、各検出電極45,55が形成されている。なお、図4に示された例において、導電体メッシュ45a,55aは、格子配列状の規則的なメッシュパターンを有している。ただし、導電体メッシュ45a,55aは、格子配列以外の規則的なメッシュパターンを有していてもよいし、不規則的なメッシュパターンを有していてもよい。   On the other hand, these metal materials have a light shielding property against visible light. Therefore, the detection electrodes 45 and 55 include conductor meshes 45a and 55a in which the conductive wires 46 and 56 are arranged in a mesh pattern that defines a large number of opening regions 45b and 55b. In particular, in the example shown in FIGS. 3 and 4, the detection electrodes 45 and 55 are formed of conductor meshes 45 a and 55 a formed in elongated regions. In the example shown in FIG. 4, conductor meshes 45a and 55a are formed over the entire active area Aa1, and the conductors 46 and 56 forming the conductor mesh are disconnected corresponding to the contours of the detection electrodes 45 and 55. Thus, the detection electrodes 45 and 55 are formed. In the example shown in FIG. 4, the conductor meshes 45a and 55a have a regular mesh pattern in a lattice arrangement. However, the conductor meshes 45a and 55a may have a regular mesh pattern other than the lattice arrangement, or may have an irregular mesh pattern.

(取出電極42,52)
取出電極42,52は、検出電極45,55の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一つまたは二つ設けられている。各取出電極42,52は、対応する検出電極45,55に接続されて配線を形成している。取出電極42,52は、透明樹脂シート32の非アクティブエリアAa2内を、対応する検出電極45,55から透明樹脂シート32の端縁まで延びている。そして、取出電極42,52の検出電極45,55とは反対側の端部に、端子部42a,52aが形成されている。取出電極42,52は、その端子部42a,52aにて、図示しない外部接続配線(例えば、FPC)を介し、検出制御部21に接続される。
(Extraction electrodes 42 and 52)
One or two extraction electrodes 42 and 52 are provided for each of the detection electrodes 45 and 55 depending on the contact position detection method. Each extraction electrode 42, 52 is connected to a corresponding detection electrode 45, 55 to form a wiring. The extraction electrodes 42 and 52 extend from the corresponding detection electrodes 45 and 55 to the edge of the transparent resin sheet 32 in the inactive area Aa2 of the transparent resin sheet 32. Terminal portions 42a and 52a are formed at the ends of the extraction electrodes 42 and 52 opposite to the detection electrodes 45 and 55, respectively. The extraction electrodes 42 and 52 are connected to the detection control unit 21 at the terminal portions 42a and 52a via an external connection wiring (for example, FPC) (not shown).

(電極40,50の断面形状)
次に、電極40,50の断面形状について説明する。図5は、厚さ方向に沿った断面において、タッチパネルセンサ30が示されている。とりわけ図5は、導電体メッシュ45a,55aをなす導線46,56の断面形状を示している。ここで厚さ方向とは、シート状(フィルム状、板状、パネル状)からなるタッチパネルセンサ30のシート面(フィルム面、板面、パネル面)への法線方向に沿った断面のことを指す。また、シート面(フィルム面、板面、パネル面)とは、対象となるシート状(フィルム状、板状、パネル状)の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材の平面方向と一致する面のことを指す。そして、本実施の形態においては、透明樹脂シート32が一対の主面を有するシート状の形状を有している。したがって、本実施の形態では、厚さ方向に沿った断面とは、透明樹脂シート32の面への法線方向に沿った断面と一致する。
(Cross sectional shape of electrodes 40 and 50)
Next, the cross-sectional shape of the electrodes 40 and 50 will be described. FIG. 5 shows the touch panel sensor 30 in a cross section along the thickness direction. In particular, FIG. 5 shows the cross-sectional shape of the conducting wires 46 and 56 forming the conductor meshes 45a and 55a. Here, the thickness direction refers to a cross section along the normal direction to the sheet surface (film surface, plate surface, panel surface) of the touch panel sensor 30 having a sheet shape (film shape, plate shape, panel shape). Point to. Further, the sheet surface (film surface, plate surface, panel surface) is the target sheet shape when the target sheet-like (film shape, plate shape, panel shape) member is viewed as a whole and globally. It refers to the surface that matches the planar direction of the member. And in this Embodiment, the transparent resin sheet 32 has a sheet-like shape which has a pair of main surface. Therefore, in the present embodiment, the cross section along the thickness direction coincides with the cross section along the normal direction to the surface of the transparent resin sheet 32.

図5に示すように、第1検出電極45の導電体メッシュ45aをなす第1導線46は、透明樹脂シート32側に位置する基端面46aと、基端面46aに対向して配置された平坦な先端面46bと、基端面46aと先端面46bとの間を接続する一対の側面46cと、を有している。基端面46aと先端面46bは互いに平行となっている。そして、図5に示された例において、第1導線46は、透明樹脂シート32側に位置して基端面46aを形成する第1導電性金属層47と、第1導電性金属層47上に設けられ先端面46bを形成する第1暗色層48と、有している。すなわち、第1暗色層48は、第1導電性金属層47を一方の側から覆っている。   As shown in FIG. 5, the first conductive wire 46 forming the conductor mesh 45a of the first detection electrode 45 is composed of a base end face 46a located on the transparent resin sheet 32 side, and a flat surface disposed facing the base end face 46a. It has a distal end surface 46b and a pair of side surfaces 46c connecting the proximal end surface 46a and the distal end surface 46b. The proximal end surface 46a and the distal end surface 46b are parallel to each other. In the example shown in FIG. 5, the first conductive wire 46 is positioned on the transparent resin sheet 32 side, on the first conductive metal layer 47 that forms the base end surface 46 a and on the first conductive metal layer 47. And a first dark color layer 48 which is provided and forms the leading end face 46b. That is, the first dark color layer 48 covers the first conductive metal layer 47 from one side.

同様に、第2検出電極55の導電体メッシュ55aをなす第2導線56は、透明樹脂シート32側に位置する基端面56aと、基端面56aに対向して配置された平坦な先端面56bと、基端面56aと先端面56bとの間を接続する一対の側面56cと、を有している。基端面56aと先端面56bは互いに平行となっている。そして、図5に示された例において、第2導線56は、接合層34側に位置して基端面56aを形成する第2暗色層58と、第2暗色層58上に設けられ先端面56bを形成する第2導電性金属層57と、を有している。すなわち、第2導電性金属層57は、第1暗色層48によって一方の側から覆われている。   Similarly, the second conductive wire 56 forming the conductor mesh 55a of the second detection electrode 55 includes a base end face 56a located on the transparent resin sheet 32 side, and a flat front end face 56b disposed to face the base end face 56a. And a pair of side surfaces 56c connecting the base end surface 56a and the front end surface 56b. The proximal end surface 56a and the distal end surface 56b are parallel to each other. In the example shown in FIG. 5, the second conductive wire 56 is provided on the bonding layer 34 side, the second dark color layer 58 that forms the base end surface 56a, and the distal end surface 56b provided on the second dark color layer 58. And a second conductive metal layer 57 that forms a layer. That is, the second conductive metal layer 57 is covered with the first dark color layer 48 from one side.

ここで導電性金属層47,57は、高導電率を有した金属材料を用いて形成された層であり、上述したように、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上からなる層である。   Here, the conductive metal layers 47 and 57 are layers formed using a metal material having high conductivity. As described above, gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, It is a layer made of one or more of titanium, palladium, indium, and alloys thereof.

また、導電性金属層47,57は、単層である必要はなく、複数の層として構成されていてもよい。図5に示された例では、透明樹脂シート32の一方の側の面上に直接に積層された第1導電性金属層47は、透明樹脂シート32側に位置する基材側導電性金属層47aと、第1暗色層48側に位置する表層側導電性金属層47bと、を含んでいる。このような構成によれば、透明樹脂シート32と直接接触する基材側導電性金属層47aを、透明樹脂シート32との密着性に優れた材料、例えば、例えば、透明樹脂シート32がポリエステル樹脂フィルムからなる場合はニッケルやニッケル合金から形成することができる。その一方で、透明樹脂シート32と接触しない表層側導電性金属層47bを、導電率に優れ且つ安価な材料、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、又はアルミニウム合金から形成することができる。   The conductive metal layers 47 and 57 do not have to be a single layer, and may be configured as a plurality of layers. In the example shown in FIG. 5, the first conductive metal layer 47 directly laminated on the surface on one side of the transparent resin sheet 32 is a base-side conductive metal layer positioned on the transparent resin sheet 32 side. 47a and a surface layer side conductive metal layer 47b located on the first dark color layer 48 side. According to such a configuration, the base-side conductive metal layer 47a that is in direct contact with the transparent resin sheet 32 is made of a material having excellent adhesion to the transparent resin sheet 32, for example, the transparent resin sheet 32 is a polyester resin. In the case of a film, it can be formed from nickel or a nickel alloy. On the other hand, the surface-side conductive metal layer 47b that does not come into contact with the transparent resin sheet 32 can be formed from a material that is excellent in conductivity and inexpensive, such as copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy.

金属材料からなる導電性金属層47,57は、優れた導電率を有する反面、比較的に高い反射率を呈する。したがって、タッチパネルセンサ30の検出電極45,55をなす導電性金属層47,57によって外光が反射されると、タッチパネル装置20のアクティブエリアAa1を介して観察される画像表示機構12の画像コントラストが低下してしまう。そこで、暗色層48,58が、導電性金属層47,57の観察者側(一方の側)に配置されている。この暗色層48,58によって、画像のコントラストを向上させ、画像表示機構12によって表示される画像の視認性を改善することができる。すなわち、暗色層48,58は、黒色等の暗色の層であり、隣接する導電性金属層47,57よりも低反射率の層である。   The conductive metal layers 47 and 57 made of a metal material have excellent conductivity, but exhibit a relatively high reflectance. Therefore, when external light is reflected by the conductive metal layers 47 and 57 forming the detection electrodes 45 and 55 of the touch panel sensor 30, the image contrast of the image display mechanism 12 observed through the active area Aa1 of the touch panel device 20 is increased. It will decline. Therefore, the dark color layers 48 and 58 are disposed on the viewer side (one side) of the conductive metal layers 47 and 57. The dark color layers 48 and 58 can improve the contrast of the image and improve the visibility of the image displayed by the image display mechanism 12. That is, the dark color layers 48 and 58 are dark color layers such as black, and have a lower reflectance than the adjacent conductive metal layers 47 and 57.

暗色層48,58としては、種々の既知の層を用いることができる。導電性金属層47,57を部分的に暗色化処理して、金属酸化物や金属硫化物からなる暗色層48,58を導電性金属層47,57の一部分から形成してもよい。また、暗色材料の塗膜や、ニッケルやクロム等のめっき層等のように、導電性金属層47,57上に暗色層48,58を設けるようにしてもよい。一具体例として、導電性金属層47,57が鉄からなる場合には、450〜470℃程度のスチーム雰囲気中に導電性金属層47,57を10〜20分間さらして、導電性金属層47,57の表面に1〜2μm程度の酸化膜(暗色膜)を形成するようにしてもよい。別の方法として、鉄からなる導電性金属層47,57を濃硝酸などで薬品処理して、導電性金属層47,57の表面に四三酸化鉄(Fe3O4)からなる酸化膜(暗色膜)を形成するようにしてもよい。また、導電性金属層47,57が銅からなる場合には、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中にて、導電性金属層47,57を陰極電解処理して、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好ましい。該カチオン性粒子を設けることでより粗化し、同時に暗色が得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、好ましくは銅−コバルト合金の粒子である。該カチオン性粒子の粒径は、黒濃度の点から、平均粒径0.1〜1μm程度が好ましい。なお、ここで用いる暗色層48,58とは、暗色化された層のみでなく、粗化された層も含む。   Various known layers can be used as the dark color layers 48 and 58. The conductive metal layers 47 and 57 may be partially darkened to form dark color layers 48 and 58 made of metal oxide or metal sulfide from a part of the conductive metal layers 47 and 57. Further, the dark color layers 48 and 58 may be provided on the conductive metal layers 47 and 57 such as a coating film of dark color material or a plating layer of nickel or chromium. As one specific example, when the conductive metal layers 47 and 57 are made of iron, the conductive metal layers 47 and 57 are exposed to a steam atmosphere at about 450 to 470 ° C. for 10 to 20 minutes to form the conductive metal layers 47. , 57 may be formed with an oxide film (dark color film) of about 1 to 2 μm. As another method, the conductive metal layers 47 and 57 made of iron are chemically treated with concentrated nitric acid or the like, and an oxide film (dark color film) made of triiron tetroxide (Fe 3 O 4) is formed on the surfaces of the conductive metal layers 47 and 57. May be formed. Further, when the conductive metal layers 47 and 57 are made of copper, the conductive metal layers 47 and 57 are subjected to cathodic electrolysis in an electrolytic solution made of sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate, or the like, so that the cationic particles Cathodic electrodeposition for depositing is preferred. By providing the cationic particles, the particles become rougher and at the same time a dark color is obtained. As the cationic particles, copper particles and alloy particles of copper and other metals can be applied, but copper-cobalt alloy particles are preferable. The average particle diameter of the cationic particles is preferably about 0.1 to 1 μm from the viewpoint of black density. The dark color layers 48 and 58 used here include not only darkened layers but also roughened layers.

コントラストの低下を防止する観点から、暗色層48,58に関しては、その色味がL*a*b*表色系(CIE1976)において、a*が−5.0〜3.0、b*が−5.0〜4.0であることが好ましい。暗色層48,58の色味の測定条件は、C光源、観測視野2°であり、導電体メッシュ45a,55aの開口率が95%以上である電極40,50の背面に黒色アクリル板を配置した状態で測定するものとする。   From the viewpoint of preventing a decrease in contrast, the dark color layers 48 and 58 have a color tone of L * a * b * color system (CIE1976), a * is −5.0 to 3.0, and b * is It is preferably −5.0 to 4.0. The measurement conditions of the color of the dark color layers 48 and 58 are a C light source, an observation visual field of 2 °, and a black acrylic plate is disposed on the back surface of the electrodes 40 and 50 in which the aperture ratio of the conductor meshes 45a and 55a is 95% or more. It shall be measured in the condition.

なお、図5は、導電体メッシュ45a,55aをなす導線46,56の断面形状を示しているが、電極40,50の導電体メッシュ45a,55a以外の部分も、幅が異なるだけで、導電体メッシュ45a,55aをなす導線46,56と同様の断面形状を有するようにしてもよい。   FIG. 5 shows the cross-sectional shape of the conductors 46 and 56 forming the conductor meshes 45a and 55a. However, the portions other than the conductor meshes 45a and 55a of the electrodes 40 and 50 also have different widths. You may make it have the same cross-sectional shape as the conducting wires 46 and 56 which make the body meshes 45a and 55a.

例えば、第1取出電極42も、図5に示された第1検出電極45の第1導線46と同様の断面形状を有することができる。したがって、第1取出電極42は、透明樹脂シート32側に位置する基端面46aと、基端面46aに対向して配置された平坦な先端面46bと、基端面46aと先端面46bとの間を接続する一対の側面46cと、を有していてもよい。また、図5に示されているように、第1取出電極42の基端面46aと先端面46bが互いに平行となっていてもよい。さらに、第1取出電極42は、厚さ方向の断面において、第1導電性金属層47を含んでいる。そして、第1取出電極42と第1検出電極45との間で、第1導電性金属層47は一体的に形成されていてもよい。すなわち、第1電極40が、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める第1導電性金属層47を含んでいてもよい。   For example, the first extraction electrode 42 can also have the same cross-sectional shape as the first conducting wire 46 of the first detection electrode 45 shown in FIG. Therefore, the first extraction electrode 42 is formed between the base end face 46a located on the transparent resin sheet 32 side, the flat front end face 46b disposed to face the base end face 46a, and the base end face 46a and the front end face 46b. And a pair of side surfaces 46c to be connected. Further, as shown in FIG. 5, the base end face 46a and the front end face 46b of the first extraction electrode 42 may be parallel to each other. Further, the first extraction electrode 42 includes a first conductive metal layer 47 in the cross section in the thickness direction. The first conductive metal layer 47 may be integrally formed between the first extraction electrode 42 and the first detection electrode 45. In other words, the first electrode 40 may include the first conductive metal layer 47 that occupies at least a part thereof in an arbitrary cross section in the thickness direction.

一方、第1取出電極42は、画像表示機構12の非表示領域A2に対面する非アクティブエリアAa2内に配置されている。したがって、第1取出電極42は、第1暗色層48を有している必要はない。ただし、第1暗色層48のパターニング等の煩雑さを回避するため、第1取出電極42が、第1検出電極45と同様に第1暗色層48を有するようにしてもよい。この場合、第1取出電極42と第1検出電極45との間で、第1暗色層48が一体的に形成されていてもよい。   On the other hand, the first extraction electrode 42 is disposed in the non-active area Aa2 facing the non-display area A2 of the image display mechanism 12. Therefore, the first extraction electrode 42 does not need to have the first dark color layer 48. However, in order to avoid complications such as patterning of the first dark color layer 48, the first extraction electrode 42 may have the first dark color layer 48 like the first detection electrode 45. In this case, the first dark color layer 48 may be integrally formed between the first extraction electrode 42 and the first detection electrode 45.

同様に、第2取出電極52も、図5に示された第2検出電極55の第2導線56と同様の断面形状を有することができる。したがって、第2取出電極52は、接合層34側に位置する基端面56aと、基端面56aに対向して配置された平坦な先端面56bと、基端面56aと先端面56bとの間を接続する一対の側面56cと、を有していてもよい。また、第2取出電極52についても図5に示されているように、その基端面56aと先端面56bが互いに平行となっていてもよい。さらに、第2取出電極52は、厚さ方向の断面において、第2導電性金属層48を含んでいてもよい。そして、第2取出電極52と第2検出電極55との間で、第2導電性金属層57は一体的に形成されていてもよい。すなわち、第2電極50が、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める第2導電性金属層57を含んでいてもよい。さらに、第2取出電極52は、第1取出電極42と同様の理由で、第2暗色層58を有している必要はない。ただし、第2取出電極52は、第1取出電極42と同様の理由で、第2暗色層58を有するようにしてもよい。この場合、第2取出電極52と第2検出電極55との間で、第2暗色層58が一体的に形成されていてもよい。   Similarly, the second extraction electrode 52 can have the same cross-sectional shape as the second conducting wire 56 of the second detection electrode 55 shown in FIG. Therefore, the second extraction electrode 52 connects the base end surface 56a located on the bonding layer 34 side, the flat front end surface 56b disposed to face the base end surface 56a, and the base end surface 56a and the front end surface 56b. And a pair of side surfaces 56c. Further, as shown in FIG. 5, the second extraction electrode 52 may have a base end surface 56a and a front end surface 56b that are parallel to each other. Further, the second extraction electrode 52 may include a second conductive metal layer 48 in the cross section in the thickness direction. In addition, the second conductive metal layer 57 may be integrally formed between the second extraction electrode 52 and the second detection electrode 55. That is, the second electrode 50 may include the second conductive metal layer 57 that occupies at least a part of the arbitrary cross section in the thickness direction. Further, the second extraction electrode 52 does not need to have the second dark color layer 58 for the same reason as the first extraction electrode 42. However, the second extraction electrode 52 may have the second dark color layer 58 for the same reason as the first extraction electrode 42. In this case, the second dark color layer 58 may be integrally formed between the second extraction electrode 52 and the second detection electrode 55.

なお図示された例において、電極40,50は導電性金属層47,57と暗色層48,58とを有するように構成されているが、これに限れず、電極40,50がさらに他の層を含んでいてもよい。電極40,50に含まれるべき他の層として、例えば、防錆層が例示される。   In the illustrated example, the electrodes 40 and 50 are configured to include the conductive metal layers 47 and 57 and the dark color layers 48 and 58. However, the present invention is not limited to this, and the electrodes 40 and 50 are further formed of other layers. May be included. As another layer which should be contained in the electrodes 40 and 50, a rust prevention layer is illustrated, for example.

このような構成からなる電極40,50において、図5に示された導電体メッシュ45a,45b,56a、56bをなす導線46,56の幅(最大幅)W、すなわち、シート状からなるタッチパネルセンサ30のシート面に沿った幅(最大幅)Wを1μm以上5μm以下とし、且つ、図5に示された導電体メッシュ45a,45b,56a、56bをなす導線46,56の高さ(厚さ)H、すなわち、シート状からなるタッチパネルセンサ30のシート面への法線方向に沿った高さ(厚さ)Hを0.2μm以上2μm以下とすることが好ましい。このような寸法の導電体メッシュ45a,45b,56a、56bによれば、導線46,56が十分に細線化されているので、電極40,50を極めて効果的に不可視化することができる。同時に、断面形状において平行となる基端面46a,56aおよび先端面46b,56bの間の高さが十分な高さとなり、すなわち、導線46,56の断面形状のアスペクト比(H/W)が十分に大きくなり、高い導電性を有するようになる。結果として、導電性メッシュ55における面抵抗率を50Ω/□以下、さらに好ましくは20Ω/□以下にすることも可能となる。   In the electrodes 40 and 50 having such a configuration, the width (maximum width) W of the conductive wires 46 and 56 forming the conductor meshes 45a, 45b, 56a and 56b shown in FIG. The width (maximum width) W along the sheet surface 30 is 1 μm or more and 5 μm or less, and the heights (thicknesses) of the conductors 46 and 56 forming the conductor meshes 45a, 45b, 56a and 56b shown in FIG. ) H, that is, the height (thickness) H along the normal direction to the sheet surface of the sheet-shaped touch panel sensor 30 is preferably 0.2 μm or more and 2 μm or less. According to the conductor meshes 45a, 45b, 56a, and 56b having such dimensions, since the conductive wires 46 and 56 are sufficiently thinned, the electrodes 40 and 50 can be invisible very effectively. At the same time, the height between the base end faces 46a and 56a and the front end faces 46b and 56b, which are parallel in the cross-sectional shape, is sufficiently high, that is, the aspect ratio (H / W) of the cross-sectional shapes of the conducting wires 46 and 56 is sufficient. And becomes highly conductive. As a result, the surface resistivity of the conductive mesh 55 can be 50Ω / □ or less, more preferably 20Ω / □ or less.

すなわち、このような断面寸法を有した導線46,56によれば、タッチパネルセンサ30の電極40,50を低抵抗に維持しながら、当該電極40,50をなす導線46,56を細線化することができる。細線化した導線46,56によれば、高精細化された画素との組み合わせにおいて、或いは、タブレットと呼ばれる携帯端末の短ピッチ配列された画素との組み合わせにおいても、十分に検出電極45,55を不可視化しながら、高い検出精度を発揮することができる。   That is, according to the conducting wires 46 and 56 having such cross-sectional dimensions, the conducting wires 46 and 56 forming the electrodes 40 and 50 are made thin while maintaining the electrodes 40 and 50 of the touch panel sensor 30 at a low resistance. Can do. According to the thinned conductive wires 46 and 56, the detection electrodes 45 and 55 are sufficiently provided in combination with high-definition pixels or in combination with pixels arranged in a short pitch of a portable terminal called a tablet. High detection accuracy can be achieved while making it invisible.

なお、シート状からなるタッチパネルセンサ30のシート面に沿った幅Wは、電極40、50の不可視化の観点から、5.0μm以下であることが好ましく、3.5μm以下であることがさらに好ましく、面抵抗率を低下させる観点から、1μm以上であることが好ましく、2μm以上であることがさらに好ましい。また、シート状からなるタッチパネルセンサ30のシート面への法線方向に沿った高さ(厚さ)Hは、電極40の製造精度を安定させる観点から、2.0μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることがさらに好ましく、面抵抗率を低下させる観点から、0.1μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であることがさらに好ましい。加えてここで説明した作用効果を確保する観点から、細導線60の断面形状のアスペクト比(H/W)は、0.04以上2.00以下であることが好ましく、0.67以上7.00以下であることがより好ましい。   Note that the width W along the sheet surface of the sheet-like touch panel sensor 30 is preferably 5.0 μm or less, and more preferably 3.5 μm or less, from the viewpoint of invisibility of the electrodes 40 and 50. From the viewpoint of reducing the surface resistivity, it is preferably 1 μm or more, and more preferably 2 μm or more. In addition, the height (thickness) H along the normal direction to the sheet surface of the sheet-like touch panel sensor 30 is preferably 2.0 μm or less from the viewpoint of stabilizing the manufacturing accuracy of the electrode 40, More preferably, it is 1.5 μm or less, and from the viewpoint of reducing the surface resistivity, it is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 0.5 μm or more. In addition, from the viewpoint of securing the operational effects described here, the aspect ratio (H / W) of the cross-sectional shape of the thin wire 60 is preferably 0.04 or more and 2.00 or less, and 0.67 or more and 7. More preferably, it is 00 or less.

後述するタッチパネルセンサ30の製造方法によれば、電極40,50の導線46,56以外の部分の高さは、導電体メッシュ45a,55aをなす導線46,56の高さと同一となる。その一方で、電極40,50の導線46,56以外の部分、例えば不可視化が要求されていない取出電極42,52の幅を5.0μm以上とすることができる。   According to the manufacturing method of the touch panel sensor 30 to be described later, the height of the portions other than the conductive wires 46 and 56 of the electrodes 40 and 50 is the same as the height of the conductive wires 46 and 56 forming the conductor meshes 45a and 55a. On the other hand, the width of the portions of the electrodes 40, 50 other than the conductive wires 46, 56, for example, the extraction electrodes 42, 52 that are not required to be invisible, can be set to 5.0 μm or more.

<タッチパネルセンサ30の製造方法>
次に、タッチパネルセンサ30の製造方法の一例について説明する。以下に説明する製造方法では、まず、図6に示すようにして第1積層体70を準備し、また、図7に示すようにして第2積層体75を準備する。第2積層体75の準備は、第1積層体70の準備の前に行っても良いし、第1積層体70の準備の後に行っても良いし、或いは、第1積層体70の準備と並行して行っても良い。その後、第1積層体70および第2積層体75から中間積層体80を作製し、中間積層体80からタッチパネルセンサ30を作製する。以下、各工程について順に説明していく。
<Method for Manufacturing Touch Panel Sensor 30>
Next, an example of a method for manufacturing the touch panel sensor 30 will be described. In the manufacturing method described below, first, the first laminated body 70 is prepared as shown in FIG. 6, and the second laminated body 75 is prepared as shown in FIG. The preparation of the second stacked body 75 may be performed before the preparation of the first stacked body 70, may be performed after the preparation of the first stacked body 70, or the preparation of the first stacked body 70 and You may go in parallel. Thereafter, the intermediate laminate 80 is produced from the first laminate 70 and the second laminate 75, and the touch panel sensor 30 is produced from the intermediate laminate 80. Hereinafter, each step will be described in order.

(第1積層体70の製造)
まず、図6を参照して、第1積層体70を準備する工程について説明する。図6(c)に示すように、第1積層体70は、透明樹脂シート32、第1導電性金属膜71及び第1暗色膜72をこの順で含んでいる。第1積層体70を作製するにあたり、まず、透明樹脂シート32を準備する。第1積層体70の透明樹脂シート32は、タッチパネルセンサ30の透明樹脂シート32をなすようになる。したがって、第1積層体70の透明樹脂シート32の材料は、タッチパネルセンサ30の透明樹脂シート32用の材料として例示した材料を適宜選択して用いることができる。また、以下に説明する第1積層体70の製造方法によれば、透明樹脂シート32に加えられる負荷、とりわけ熱負荷は大きくならない。したがって、透明樹脂シート32の厚みは、25μm以上300μm以下と薄くすることもできる。
(Manufacture of the 1st laminated body 70)
First, with reference to FIG. 6, the process of preparing the 1st laminated body 70 is demonstrated. As shown in FIG. 6C, the first laminate 70 includes a transparent resin sheet 32, a first conductive metal film 71, and a first dark color film 72 in this order. In producing the first laminated body 70, first, the transparent resin sheet 32 is prepared. The transparent resin sheet 32 of the first laminated body 70 forms the transparent resin sheet 32 of the touch panel sensor 30. Therefore, as the material of the transparent resin sheet 32 of the first laminated body 70, the materials exemplified as the material for the transparent resin sheet 32 of the touch panel sensor 30 can be appropriately selected and used. Moreover, according to the manufacturing method of the 1st laminated body 70 demonstrated below, the load added to the transparent resin sheet 32, especially heat load do not become large. Therefore, the thickness of the transparent resin sheet 32 can be reduced to 25 μm or more and 300 μm or less.

次に、透明樹脂シート32の片側の面上に、第1導電性金属膜71及び第1暗色膜72を順に作製する。第1導電性金属膜71及び第1暗色膜72は、パターニングされることにより、タッチパネルセンサ30の第1電極40を形成するようになる。このうち、第1導電性金属膜71が、第1電極40の第1導電性金属層47を形成し、第1暗色膜72が、第1電極40の第1暗色層48を形成する。   Next, a first conductive metal film 71 and a first dark color film 72 are sequentially formed on one surface of the transparent resin sheet 32. The first conductive metal film 71 and the first dark color film 72 are patterned to form the first electrode 40 of the touch panel sensor 30. Among these, the first conductive metal film 71 forms the first conductive metal layer 47 of the first electrode 40, and the first dark color film 72 forms the first dark color layer 48 of the first electrode 40.

また、図示された例では、第1導電性金属膜71は、透明樹脂シート32上に形成された基材側導電性金属膜71aと、基材側導電性金属膜71aの透明樹脂シート32とは反対側に形成された表層側導電性金属膜71bと、を有している。基材側導電性金属膜71aは、第1導電性金属層47の基材側導電性金属層47aを形成し、表層側導電性金属膜71bは、第1導電性金属層47の表層側導電性金属層47bを形成するようになる。図6(a)では、透明樹脂シート32の面上に、基材側導電性金属膜71aが形成されている。図6(b)では、基材側導電性金属膜71aの透明樹脂シート32とは逆側の面上に、表層側導電性金属膜71bが形成されている。そして、図6(c)では、表層側導電性金属膜71bの基材側導電性金属膜71aとは逆側の面上に、第1暗色膜72が形成されている。   In the illustrated example, the first conductive metal film 71 includes a base-side conductive metal film 71a formed on the transparent resin sheet 32, and a transparent resin sheet 32 of the base-side conductive metal film 71a. Has a surface layer side conductive metal film 71b formed on the opposite side. The substrate-side conductive metal film 71 a forms the substrate-side conductive metal layer 47 a of the first conductive metal layer 47, and the surface-layer-side conductive metal film 71 b is the surface layer-side conductive of the first conductive metal layer 47. The conductive metal layer 47b is formed. In FIG. 6A, a base-side conductive metal film 71 a is formed on the surface of the transparent resin sheet 32. In FIG.6 (b), the surface layer side conductive metal film 71b is formed on the surface on the opposite side to the transparent resin sheet 32 of the base material side conductive metal film 71a. In FIG. 6C, the first dark color film 72 is formed on the surface of the surface layer side conductive metal film 71b opposite to the substrate side conductive metal film 71a.

上述した厚みの第1電極40を作製する観点から、基材側導電性金属膜71aの厚みは、10nm以上100nm以下とすることができる。また、表層側導電性金属膜71bの厚みは、0.1μm以上3.0μm以下とすることができる。さらに、第1暗色膜72の厚みは、10nm以上100nm以下とすることができる。   From the viewpoint of producing the first electrode 40 having the thickness described above, the thickness of the base-side conductive metal film 71a can be set to 10 nm or more and 100 nm or less. The thickness of the surface layer side conductive metal film 71b can be set to 0.1 μm or more and 3.0 μm or less. Furthermore, the thickness of the first dark color film 72 can be 10 nm or more and 100 nm or less.

基材側導電性金属膜71aは、銅箔等の金属箔を接着層を介して基材にラミネートしたものから形成するのではなく、接着層を介さずに透明樹脂シート32上に直接的に形成する。また、表層側導電性金属膜71bも、銅箔等の金属箔を接着層を介して基材にラミネートしたものから形成するのではなく、接着層を介さずに基材側導電性金属膜71a上に直接的に形成する。すなわち、入手可能な特定の厚みを有した金属箔を積層するのではなく、透明樹脂シート32または基材側導電性金属膜71a上に所望の厚みを有した基材側導電性金属膜71a及び表層側導電性金属膜71bを成膜する。基材側導電性金属膜71a及び表層側導電性金属膜71bの成膜方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、電界めっき法及び無電界めっき法を含むめっき法、CVD法、イオンプレーティング法又はこれらの二以上を組み合わせた方法を採用することができる。   The substrate-side conductive metal film 71a is not formed from a metal foil such as a copper foil laminated on a substrate via an adhesive layer, but directly on the transparent resin sheet 32 without an adhesive layer. Form. Further, the surface layer side conductive metal film 71b is not formed from a metal foil such as a copper foil laminated on the base material via the adhesive layer, but the base side conductive metal film 71a without the adhesive layer. Form directly on top. That is, instead of laminating a metal foil having a specific thickness that can be obtained, the base-side conductive metal film 71a having a desired thickness on the transparent resin sheet 32 or the base-side conductive metal film 71a and A surface layer side conductive metal film 71b is formed. As a method for forming the base-side conductive metal film 71a and the surface-layer-side conductive metal film 71b, a sputtering method, a vacuum deposition method, a plating method including an electroplating method and an electroless plating method, a CVD method, and an ion plating method. Alternatively, a method combining two or more of these can be employed.

上述したように、第1電極40の高さ(厚さ)Hを0.2〜2μm程度とするため、0.2〜2μmの厚みで第1導電性金属膜71を成膜しようとすると、真空蒸着法を採用することが好ましい。蒸着によれば、0.2〜2μmの厚みの第1導電性金属膜71、とりわけ0.5μm以上の厚みの第1導電性金属膜71を比較的に短時間で安価に製造することができる。図示された例では、第1導電性金属膜71が基材側導電性金属膜71aと表層側導電性金属膜71bとを含んでおり、基材側導電性金属膜71a及び表層側導電性金属膜71bを、それぞれ、別の材料を用いて真空蒸着法により形成することができる。   As described above, in order to set the height (thickness) H of the first electrode 40 to about 0.2 to 2 μm, when trying to form the first conductive metal film 71 with a thickness of 0.2 to 2 μm, It is preferable to employ a vacuum deposition method. According to the vapor deposition, the first conductive metal film 71 having a thickness of 0.2 to 2 μm, particularly the first conductive metal film 71 having a thickness of 0.5 μm or more can be manufactured in a relatively short time and at a low cost. . In the illustrated example, the first conductive metal film 71 includes a substrate side conductive metal film 71a and a surface layer side conductive metal film 71b, and the substrate side conductive metal film 71a and the surface layer side conductive metal are included. The films 71b can be formed by vacuum deposition using different materials.

また、別の方法として、スパッタリングと他の方法、例えばスパッタリングと電界めっきとを含む複数工程にて、第1導電性金属膜71を成膜することも有効である。スパッタリングによれば、密着性に優れた下地層を形成することができ、且つ、その後の電界メッキによって、第1導電性金属膜71の厚みを比較的迅速に所望の厚みまで増加させることができる。さらに、図示された例のように、第1導電性金属膜71が基材側導電性金属膜71aと表層側導電性金属膜71bとを含む場合には、基材側導電性金属膜71aを真空蒸着法やスパッタリング法により作製し、その後に、表層側導電性金属膜71bを電界めっき法によって作製することもできる。   As another method, it is also effective to form the first conductive metal film 71 in a plurality of steps including sputtering and other methods, for example, sputtering and electroplating. According to sputtering, a base layer having excellent adhesion can be formed, and the thickness of the first conductive metal film 71 can be increased to a desired thickness relatively quickly by subsequent electric field plating. . Further, as in the illustrated example, when the first conductive metal film 71 includes the base-side conductive metal film 71a and the surface-layer-side conductive metal film 71b, the base-side conductive metal film 71a is It can also be produced by a vacuum deposition method or a sputtering method, and then the surface layer side conductive metal film 71b can be produced by an electroplating method.

なお、第1導電性金属膜71の材料は、既に説明したタッチパネルセンサ30の第1導電性金属層47用の材料を用いることができる。すなわち、第1導電性金属膜71に用いられる材料として、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上を採用することができる。とりわけ、透明樹脂シート32に接触する第1導電性金属膜71の基材側導電性金属膜71aの材料は、透明樹脂シート32との密着性に優れた材料、例えば、ポリエステル樹脂フィルムとの密着性に優れたニッケルやニッケル合金とすることができる。また、透明樹脂シート32から離間した第1導電性金属膜71の表層側導電性金属膜71bの材料は、導電率に優れ且つ安価な材料、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金とすることができる。なお、透明樹脂フィルムへの密着性に優れた基材側金属層47a(基材側導電性金属膜71a)を設けることに代えて、透明樹脂フィルムの第1金属層47(第1導電性金属膜71)が形成される側の面が、熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる密着強化層によって形成されるようにしてもよい。   As the material of the first conductive metal film 71, the material for the first conductive metal layer 47 of the touch panel sensor 30 described above can be used. That is, as the material used for the first conductive metal film 71, one or more of gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, and alloys thereof may be adopted. it can. In particular, the material of the base-side conductive metal film 71a of the first conductive metal film 71 that is in contact with the transparent resin sheet 32 is a material having excellent adhesion to the transparent resin sheet 32, for example, adhesion to a polyester resin film. Nickel or nickel alloy having excellent properties can be obtained. Moreover, the material of the surface side conductive metal film 71b of the first conductive metal film 71 separated from the transparent resin sheet 32 is an excellent and inexpensive material such as copper, copper alloy, aluminum, and aluminum alloy. be able to. Instead of providing the base-side metal layer 47a (base-side conductive metal film 71a) having excellent adhesion to the transparent resin film, the first metal layer 47 (first conductive metal) of the transparent resin film is used. The surface on which the film 71) is formed may be formed by an adhesion reinforcing layer made of a cured product of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.

透明樹脂シート32上に第1導電性金属膜71を形成した後、透明樹脂シート32から離間した第1導電性金属膜71の面上に、第1電極40の第1暗色層48を構成するようになる第1暗色膜72を成膜する。既に説明したように、第1導電性金属膜71の表層部分を黒化処理して、第1導電性金属膜71の一部分に金属酸化物や金属硫化物からなる第1暗色膜72を形成してもよい。また、スパッタリング法、真空蒸着法、電界めっき法及び無電界めっき法を含むめっき法、CVD法、イオンプレーティング法、又は、これらの二以上を組み合わせた方法により、第1導電性金属膜71上に第1暗色膜72を設けるようにしてもよい。   After the first conductive metal film 71 is formed on the transparent resin sheet 32, the first dark color layer 48 of the first electrode 40 is formed on the surface of the first conductive metal film 71 that is separated from the transparent resin sheet 32. A first dark color film 72 is formed. As described above, the surface layer portion of the first conductive metal film 71 is blackened to form the first dark color film 72 made of a metal oxide or metal sulfide on a part of the first conductive metal film 71. May be. Further, on the first conductive metal film 71 by a sputtering method, a vacuum deposition method, a plating method including an electroplating method and an electroless plating method, a CVD method, an ion plating method, or a combination of these two or more. Alternatively, the first dark color film 72 may be provided.

以上のようにして、第1積層体70が製造され得る。一般に、樹脂シートと黒化膜との密着性は悪く、従来、黒化膜の材料選択の自由度は非常に制約されてきた。しかしながら、以上に説明した方法では、第1暗色膜72を、樹脂製の透明樹脂シート32上ではなく、第1導電性金属膜71上に形成すればよい。このため、上述したように、種々の方法を採用しながら種々の材料を用いて、第1導電性金属膜71上に第1暗色膜72を形成することができる。また、第1積層体70の製造において、透明樹脂シート32の片側のみに、成膜処理を行う。したがって、透明樹脂シート32への熱的負荷が大きくなり過ぎることを回避することができ、真空蒸着法等の高温処理によって、透明樹脂シート32が大きく損傷してしまうことを防止することができる。このため、透明樹脂シート32の材料選択の自由度が増し、加えて、透明樹脂シート32の厚みを薄くすることも可能となる。さらに、透明樹脂シート32の片側のみに成膜処理が行われており、透明樹脂シート32の一方の面が、第1積層体70の一方の面となっている。このため、第1積層体70は取り扱い性に優れ、透明樹脂シート32上に成膜された薄膜を損傷してしまうことを効果的に抑制することができる。これにより、第1積層体70の歩留まり、最終的にはタッチパネルセンサ30の歩留まりを改善することができる。   The first laminated body 70 can be manufactured as described above. In general, the adhesion between the resin sheet and the blackened film is poor, and conventionally, the degree of freedom in selecting the material for the blackened film has been very limited. However, in the method described above, the first dark color film 72 may be formed on the first conductive metal film 71 instead of the resin transparent resin sheet 32. Therefore, as described above, the first dark color film 72 can be formed on the first conductive metal film 71 using various materials while employing various methods. Further, in the manufacture of the first laminate 70, the film forming process is performed only on one side of the transparent resin sheet 32. Therefore, it can be avoided that the thermal load on the transparent resin sheet 32 becomes too large, and the transparent resin sheet 32 can be prevented from being greatly damaged by high-temperature treatment such as vacuum deposition. For this reason, the freedom degree of selection of the material of the transparent resin sheet 32 increases, and also the thickness of the transparent resin sheet 32 can be reduced. Further, the film forming process is performed only on one side of the transparent resin sheet 32, and one surface of the transparent resin sheet 32 is one surface of the first laminate 70. For this reason, the 1st laminated body 70 is excellent in handleability, and can suppress effectively damaging the thin film formed on the transparent resin sheet 32. FIG. Thereby, the yield of the 1st laminated body 70 and the yield of the touch panel sensor 30 can be improved finally.

(第2積層体75の製造)
次に、図7を参照して、第2積層体75を準備する工程について説明する。図7(b)に示すように、第2積層体75は、支持体78、第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77をこの順で含んでいる。第2積層体75を作製するにあたり、まず、支持体78を準備する。第2積層体75の支持体78は、最終的に廃棄され、タッチパネルセンサ30の一部分を構成するものではない。したがって、支持体78の材料は、特に限定されることなく種々の材料、例えば樹脂や紙を用いることができ、また不透明な材料を用いることもできる。なお、図示された例においては、後述する第2導電性金属膜76との剥離を円滑に行うため、支持体78の一方の面に剥離層78aが設けられている。剥離層78aは、シリコーン等の、珪素樹脂、弗素樹脂、メラミン樹脂、或いはこれらの樹脂を適宜比率で2種以上混合したものからなる剥離剤の塗膜として形成され得る。
(Manufacture of 2nd laminated body 75)
Next, with reference to FIG. 7, the process of preparing the 2nd laminated body 75 is demonstrated. As shown in FIG. 7B, the second stacked body 75 includes a support 78, a second conductive metal film 76, and a second dark color film 77 in this order. In producing the second stacked body 75, first, the support body 78 is prepared. The support body 78 of the second stacked body 75 is finally discarded and does not constitute a part of the touch panel sensor 30. Therefore, the material of the support 78 is not particularly limited, and various materials such as resin and paper can be used, and an opaque material can also be used. In the illustrated example, a release layer 78 a is provided on one surface of the support 78 in order to smoothly release the second conductive metal film 76 described later. The release layer 78a can be formed as a coating film of a release agent made of silicon resin such as silicone, fluorine resin, melamine resin, or a mixture of two or more of these resins in an appropriate ratio.

この支持体78の片側の面、図示された例では、支持体78の剥離層78a上に、第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77を順に作製する。第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77は、パターニングされることにより、タッチパネルセンサ30の第2電極50を形成するようになる。このうち、第2導電性金属膜76が、第2電極50の第2導電性金属層57を形成し、第2暗色膜77が、第2電極50の第2暗色層58を形成する。図7(a)では、支持体78上に、第2導電性金属膜76が形成されている。図7(b)では、第2導電性金属膜76の支持体78とは逆側の面上に、第2暗色膜77が形成されている。上述した厚みの第2電極50を作製する観点から、第2導電性金属膜76の厚みは、0.1μm以上3.0μm以下とすることができ、第2暗色膜77の厚みは、10nm以上100nm以下とすることができる。   A second conductive metal film 76 and a second dark color film 77 are sequentially formed on one surface of the support 78, in the illustrated example, on the release layer 78 a of the support 78. The second conductive metal film 76 and the second dark color film 77 are patterned to form the second electrode 50 of the touch panel sensor 30. Among these, the second conductive metal film 76 forms the second conductive metal layer 57 of the second electrode 50, and the second dark color film 77 forms the second dark color layer 58 of the second electrode 50. In FIG. 7A, the second conductive metal film 76 is formed on the support body 78. In FIG. 7B, a second dark color film 77 is formed on the surface of the second conductive metal film 76 opposite to the support 78. From the viewpoint of manufacturing the second electrode 50 having the thickness described above, the thickness of the second conductive metal film 76 can be set to 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, and the thickness of the second dark color film 77 is set to 10 nm or more. It can be 100 nm or less.

第2導電性金属膜76は、銅箔等の金属箔を接着層を介して基材にラミネートしたものから形成するのではなく、接着層を介さずに支持体78上に直接的に形成する。すなわち、入手可能な特定の厚みを有した金属箔を積層するのではなく、支持体78上に所望の厚みを有した第2導電性金属膜76を成膜する。第2導電性金属膜76の成膜方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、電界めっき法及び無電界めっき法を含むめっき法、CVD法、イオンプレーティング法、又は、これらの二以上を組み合わせた方法を採用することができる。上述したように、第2電極50の高さ(厚さ)Hを0.2〜2μm程度とするため、0.2〜2μmの厚みで第2導電性金属膜76を成膜しようとすると、真空蒸着法を採用することが好ましい。真空蒸着法によれば、0.2〜2μmの厚みの第2導電性金属膜76、とりわけ0.5μm以上の厚みの第2導電性金属膜76を比較的に短時間で安価に製造することができる。また、別の方法として、スパッタリングと他の方法、例えばスパッタリングと電界めっきとを含む複数工程にて、第2導電性金属膜76を成膜することも有効である。   The second conductive metal film 76 is not formed from a metal foil such as a copper foil laminated on a base material via an adhesive layer, but directly formed on the support 78 without going through the adhesive layer. . That is, the second conductive metal film 76 having a desired thickness is formed on the support 78 instead of laminating a metal foil having a specific thickness that can be obtained. As a method for forming the second conductive metal film 76, a sputtering method, a vacuum deposition method, a plating method including an electroplating method and an electroless plating method, a CVD method, an ion plating method, or a combination of two or more thereof. Can be adopted. As described above, in order to set the height (thickness) H of the second electrode 50 to about 0.2 to 2 μm, when the second conductive metal film 76 is formed with a thickness of 0.2 to 2 μm, It is preferable to employ a vacuum deposition method. According to the vacuum deposition method, the second conductive metal film 76 having a thickness of 0.2 to 2 μm, particularly the second conductive metal film 76 having a thickness of 0.5 μm or more can be manufactured in a relatively short time and at a low cost. Can do. As another method, it is also effective to form the second conductive metal film 76 in a plurality of steps including sputtering and other methods such as sputtering and electroplating.

第2導電性金属膜76の材料は、既に説明したタッチパネルセンサ30の第2導電性金属層57用の材料を用いることができる。すなわち、第2導電性金属膜76に用いられる材料として、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上を採用することができる。なお、後述するように、支持体78は、第2導電性金属膜76から剥がされるようになる。したがって、第2導電性金属膜76は、支持体78に対して優れた密着性を有する必要はない。このため、第2導電性金属膜76は、導電率に優れ且つ安価な材料、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金からなる単層とすることが有効である。   As the material of the second conductive metal film 76, the material for the second conductive metal layer 57 of the touch panel sensor 30 described above can be used. That is, as the material used for the second conductive metal film 76, one or more of gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, and alloys thereof may be adopted. it can. As described later, the support 78 is peeled off from the second conductive metal film 76. Therefore, the second conductive metal film 76 does not need to have excellent adhesion to the support 78. For this reason, it is effective that the second conductive metal film 76 is a single layer made of a material having excellent conductivity and low cost, for example, copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy.

支持体78上に第2導電性金属膜76を形成した後、支持体78から離間した第2導電性金属膜76の面上に、第2電極50の第2暗色層58を構成するようになる第2暗色膜77を成膜する。既に説明したように、また第1暗色膜72と同様に、第2導電性金属膜76の表層部分を黒化処理して、第2導電性金属膜76の一部分に金属酸化物や金属硫化物からなる第2暗色膜77を形成してもよい。また、スパッタリング法、真空蒸着法、電界めっき法及び無電界めっき法を含むめっき法、CVD法、イオンプレーティング法、又は、これらの二以上を組み合わせた方法により、第2導電性金属膜76上に第2暗色膜77を設けるようにしてもよい。   After forming the second conductive metal film 76 on the support 78, the second dark color layer 58 of the second electrode 50 is formed on the surface of the second conductive metal film 76 that is separated from the support 78. A second dark color film 77 is formed. As already described, and similarly to the first dark color film 72, the surface layer portion of the second conductive metal film 76 is blackened, and a metal oxide or metal sulfide is partially applied to the second conductive metal film 76. A second dark color film 77 made of may be formed. Further, a sputtering method, a vacuum deposition method, a plating method including an electroplating method and an electroless plating method, a CVD method, an ion plating method, or a method in which two or more of these are combined is used on the second conductive metal film 76. A second dark color film 77 may be provided.

以上のようにして、第2積層体75が製造され得る。一般に、黒化膜と他の膜との密着性が悪く、従来、黒化膜の材料選択の自由度は非常に制約されてきた。しかしながら、以上に説明した方法では、第2暗色膜77を、比較的に相性の良い金属材料からなる第2導電性金属膜76上に形成すればよい。このため、上述したように、種々の方法を採用しながら種々の材料を用いて、第2導電性金属膜76上に第2暗色膜77を形成することができる。また、第2積層体75の製造において、支持体78の片側のみに、成膜処理を行う。したがって、支持体78への負荷が大きくなり過ぎることを回避することができ、真空蒸着法等の高温処理によって、支持体78が大きく損傷してしまうことを防止することができる。加えて、該支持体78はタッチパネルセンサ30を製造する過程に於いて、一時的に、第2導電性金屬層57と第2暗色層58を支持するに過ぎず、最終的にはタッチパネルセンサ30上には殘留し無い。従って、支持体78に熱的劣化や損傷を生じた場合でも顕著で無ければ、製造工程及び得られるタッチパネルセンサ30の品質には影響無い。このため、支持体78の材料選択の自由度が増し、加えて、支持体78の厚みを薄くすることも可能となる。さらに、支持体78の片側のみに成膜処理が行われており、支持体78の一方の面が、第2積層体75の一方の面となっている。このため、第2積層体75は取り扱い性に優れ、支持体78上に成膜された薄膜を損傷してしまうことを効果的に抑制することができる。これにより、第2積層体75の歩留まり、最終的にはタッチパネルセンサ30の歩留まりを改善することができる。   As described above, the second laminated body 75 can be manufactured. In general, the adhesion between the blackened film and other films is poor, and conventionally, the degree of freedom in selecting the material of the blackened film has been very limited. However, in the method described above, the second dark color film 77 may be formed on the second conductive metal film 76 made of a relatively compatible metal material. Therefore, as described above, the second dark color film 77 can be formed on the second conductive metal film 76 using various materials while employing various methods. Further, in the manufacture of the second stacked body 75, the film forming process is performed only on one side of the support body 78. Therefore, it is possible to avoid an excessive load on the support 78, and it is possible to prevent the support 78 from being greatly damaged by a high temperature process such as a vacuum deposition method. In addition, the support 78 temporarily supports the second conductive metal layer 57 and the second dark color layer 58 in the process of manufacturing the touch panel sensor 30, and finally the touch panel sensor 30. I don't stay on top. Accordingly, even if the support 78 is thermally deteriorated or damaged, it does not affect the manufacturing process and the quality of the touch panel sensor 30 to be obtained. For this reason, the freedom degree of selection of the material of the support body 78 increases, and also the thickness of the support body 78 can be reduced. Further, the film forming process is performed only on one side of the support 78, and one surface of the support 78 is one surface of the second stacked body 75. For this reason, the 2nd laminated body 75 is excellent in handleability, and can suppress effectively damaging the thin film formed into the film on the support body 78. FIG. Thereby, the yield of the 2nd laminated body 75 and the yield of the touch panel sensor 30 can be improved finally.

(中間積層体80の製造)
次に、図8及び図9を参照して、中間積層体80を準備する工程について説明する。図8に示すように、接合層34を介して、第1積層体70と第2積層体75とを接合する。この際、第1積層体70の透明樹脂シート32と、第2積層体75の第2暗色膜77とが向き合うように、第1積層体70及び第2積層体75を積層する。
(Manufacture of intermediate laminate 80)
Next, with reference to FIG.8 and FIG.9, the process of preparing the intermediate | middle laminated body 80 is demonstrated. As shown in FIG. 8, the first stacked body 70 and the second stacked body 75 are bonded via the bonding layer 34. At this time, the first stacked body 70 and the second stacked body 75 are stacked so that the transparent resin sheet 32 of the first stacked body 70 and the second dark color film 77 of the second stacked body 75 face each other.

ここで、第1積層体70と第2積層体75とを接合する接合層34は、最終的に、タッチパネルセンサ30の接合層34を形成するようになる。この接合層34は、タッチパネルセンサ30において、第1電極40と第2電極50との間に位置する。したがって、タッチパネルセンサ30が配置された環境の条件変化によって、第1電極40の第1検出電極45と第2電極50の第2検出電極55との相対位置が変化しないよう、接合層34は、環境条件の変化に対して耐性を有していることが好ましい。この点から、接合層34は、いわゆるリワーク性(一度剥がした後に再接合可能である性質)を有した粘着剤からなる粘着層ではなく、リワーク性を持たない接着剤からなる接着層として形成されていることが好ましい。例えば、接合層34は、硬化性樹脂の硬化物からなる接着層であることが好ましい。このような接合層34として、エポキシ系又はアクリル系の電離放射線硬化性樹脂からなる接着剤層を例示することができる。尚、電離放射線としては、紫外線、電子線等が選択出来る。   Here, the bonding layer 34 that bonds the first stacked body 70 and the second stacked body 75 finally forms the bonding layer 34 of the touch panel sensor 30. The bonding layer 34 is located between the first electrode 40 and the second electrode 50 in the touch panel sensor 30. Therefore, the bonding layer 34 is configured so that the relative position between the first detection electrode 45 of the first electrode 40 and the second detection electrode 55 of the second electrode 50 does not change due to a change in environmental conditions in which the touch panel sensor 30 is disposed. It preferably has resistance to changes in environmental conditions. From this point, the joining layer 34 is not an adhesive layer made of an adhesive having so-called reworkability (property that can be rejoined after being peeled once), but is formed as an adhesive layer made of an adhesive having no reworkability. It is preferable. For example, the bonding layer 34 is preferably an adhesive layer made of a cured product of a curable resin. Examples of the bonding layer 34 include an adhesive layer made of an epoxy or acrylic ionizing radiation curable resin. As the ionizing radiation, ultraviolet rays, electron beams, etc. can be selected.

接合層34が硬化性樹脂からなる場合、まず、未硬化状態の原材料を、第1積層体70と第2積層体75との間に塗布する。次に、第1積層体70と第2積層体75とを積層した状態で、電離放射線照射、過熱、経時での化学反応等によって当該原材料を硬化させる。これにより、第1積層体70及び第2積層体75を接合層34で接合してなる積層物が得られる。   When the bonding layer 34 is made of a curable resin, first, an uncured raw material is applied between the first stacked body 70 and the second stacked body 75. Next, in a state where the first laminated body 70 and the second laminated body 75 are laminated, the raw material is cured by ionizing radiation irradiation, overheating, a chemical reaction with time, or the like. Thereby, the laminated body formed by joining the 1st laminated body 70 and the 2nd laminated body 75 with the joining layer 34 is obtained.

次に、図9に示すように、第1積層体70、接合層34及び第2積層体75がこの順番で接合された積層物から、第1積層体70の支持体78を剥ぎ取る。図示された例では、支持体78の第2導電性金属膜76に対面する面が、剥離層78aとなっている。したがって、第1積層体70、接合層34及び第2積層体75からなる積層物から、支持体78だけを、円滑かつ安定して分離させることができる。ただし、剥離層78aを設けることは必須ではなく、支持体78と第2導電性金属膜76との接合力(密着力)が、他の層の間での密着力、とりわけ第2導電性金属膜76と第2暗色膜77との接合力(密着力)及び第2暗色膜77と接合層34との接合力(密着力)よりも弱くなっていればよい。このような接合力の調整は、各層に用いられる材料の選択、とりわけ、支持体78をなす材料の選択によって、調整可能である。なお、層間の密着力の強さは、JIS K5600−5−7に規定されたプルオフ法によって、評価することができる。   Next, as shown in FIG. 9, the support body 78 of the first stacked body 70 is peeled off from the stacked body in which the first stacked body 70, the bonding layer 34, and the second stacked body 75 are bonded in this order. In the illustrated example, the surface of the support 78 that faces the second conductive metal film 76 is a release layer 78a. Therefore, only the support body 78 can be separated smoothly and stably from the laminate composed of the first laminate 70, the bonding layer 34, and the second laminate 75. However, it is not essential to provide the release layer 78a, and the bonding strength (adhesion strength) between the support 78 and the second conductive metal film 76 is the adhesion strength between other layers, particularly the second conductive metal. It is only necessary to be weaker than the bonding force (adhesion force) between the film 76 and the second dark color film 77 and the bonding force (adhesion force) between the second dark color film 77 and the bonding layer 34. Such adjustment of the bonding force can be adjusted by selecting a material used for each layer, in particular, by selecting a material forming the support 78. The strength of adhesion between layers can be evaluated by the pull-off method defined in JIS K5600-5-7.

以上のようにして、第2導電性金属膜76、第2暗色膜77、接合層34、透明樹脂シート32、第1導電性金属膜71及び第1暗色膜72をこの順で含む中間積層体80が、得られる。   As described above, the intermediate laminate including the second conductive metal film 76, the second dark color film 77, the bonding layer 34, the transparent resin sheet 32, the first conductive metal film 71, and the first dark color film 72 in this order. 80 is obtained.

(パターニング)
次に、図10〜図13を参照して、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより、透明樹脂シート32上の第1導電性金属膜71および第1暗色膜72を所望のパターンにて、パターニングする。同様に、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより、接合層34上の第2導電性金属膜76および第2暗色膜77を所望のパターンにて、パターニングする。
(Patterning)
Next, referring to FIGS. 10 to 13, the first conductive metal film 71 and the first dark color film 72 on the transparent resin sheet 32 are patterned in a desired pattern by patterning using a photolithography technique. . Similarly, the second conductive metal film 76 and the second dark color film 77 on the bonding layer 34 are patterned in a desired pattern by patterning using a photolithography technique.

まず、図10に示すように、第1暗色膜72によって形成されている中間積層体80の一方の面上に、第1感光膜81を設け、第2導電性金属膜76によって形成されている中間積層体80の他方の面上に、第2感光膜86を設ける。ここでは、感光膜81,86は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光膜81,86の具体的な感光特性が特に限られることはない。例えば、感光膜81,86として、光硬化型の感光材が用いられてもよく、若しくは、光溶解型の感光材が用いられてもよい。ここでは、感光膜81,86として光硬化型の感光材が用いられる例を説明する。   First, as shown in FIG. 10, the first photosensitive film 81 is provided on one surface of the intermediate laminate 80 formed by the first dark color film 72, and is formed by the second conductive metal film 76. A second photosensitive film 86 is provided on the other surface of the intermediate laminate 80. Here, the photosensitive films 81 and 86 have photosensitivity to light in a specific wavelength range, for example, ultraviolet rays. The specific photosensitive characteristics of the photosensitive films 81 and 86 are not particularly limited. For example, as the photosensitive films 81 and 86, a photocurable photosensitive material may be used, or a photodissolvable photosensitive material may be used. Here, an example in which a photo-curing type photosensitive material is used as the photosensitive films 81 and 86 will be described.

(露光工程)
次に、図11に示すように、第1感光膜81上に第1マスク83を配置するとともに、第2感光膜86上に第2マスク88を配置する。マスク83,88は各々、後に形成される第1電極40及び第2電極50に対応したパターンで露光光を透過させる透過部83a,88aと、露光光を遮蔽する遮光部83b,88bと、を含んでいる。その後、図11に示すように、露光光を、マスク83,88を介して感光膜81,86に照射する。この結果、第1感光膜81および第2感光膜86が互いに異なるパターンで同時に露光される。
(Exposure process)
Next, as shown in FIG. 11, a first mask 83 is disposed on the first photosensitive film 81 and a second mask 88 is disposed on the second photosensitive film 86. Each of the masks 83 and 88 includes transmission parts 83a and 88a that transmit exposure light in a pattern corresponding to the first electrode 40 and the second electrode 50 that are formed later, and light shielding parts 83b and 88b that shield the exposure light. Contains. Thereafter, as shown in FIG. 11, exposure light is irradiated to the photosensitive films 81 and 86 through masks 83 and 88. As a result, the first photosensitive film 81 and the second photosensitive film 86 are simultaneously exposed in different patterns.

ここで本実施の形態によれば、中間積層体80は、遮光性を有する第1暗色膜72、第1導電性金属膜71,第2暗色膜77及び第2導電性金属膜76を有している。このため、第1感光膜81を透過した露光光は第1暗色膜72及び第1導電性金属膜71によって遮光される。また、第2感光膜86を透過した露光光は第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77によって遮光される。従って、第1感光膜81を露光するために中間積層体80の一方の側から照射される露光光が第2感光膜86に到達することはなく、同様に、第2感光膜86を露光するために中間積層体80の他方の側から照射される露光光が第1感光膜81に到達することもない。この結果、この露光工程において、第1感光膜81および第2感光膜86を、それぞれ所望のパターンで精度良く同時に露光することができる。とりわけ、この露光工程では、第1マスク83及び第2マスク88が中間積層体80を挟んで対向して配置されている。したがって、第1マスク83及び第2マスク88の相対位置を極めて精度良く位置決めすることができる。結果として、製造されたタッチパネルセンサ30において、第1電極40及び第2電極50の相対位置が極めて高精度に位置決めされる。   Here, according to the present embodiment, the intermediate stacked body 80 includes the first dark color film 72, the first conductive metal film 71, the second dark color film 77, and the second conductive metal film 76 having light shielding properties. ing. Therefore, the exposure light transmitted through the first photosensitive film 81 is blocked by the first dark color film 72 and the first conductive metal film 71. Further, the exposure light transmitted through the second photosensitive film 86 is shielded by the second conductive metal film 76 and the second dark color film 77. Accordingly, the exposure light irradiated from one side of the intermediate laminate 80 for exposing the first photosensitive film 81 does not reach the second photosensitive film 86, and similarly, the second photosensitive film 86 is exposed. Therefore, the exposure light irradiated from the other side of the intermediate laminate 80 does not reach the first photosensitive film 81. As a result, in this exposure step, the first photosensitive film 81 and the second photosensitive film 86 can be simultaneously exposed with a desired pattern with high accuracy. In particular, in this exposure step, the first mask 83 and the second mask 88 are arranged to face each other with the intermediate laminate 80 interposed therebetween. Therefore, the relative positions of the first mask 83 and the second mask 88 can be positioned with extremely high accuracy. As a result, in the manufactured touch panel sensor 30, the relative positions of the first electrode 40 and the second electrode 50 are positioned with extremely high accuracy.

(現像工程)
次に、露光された第1感光膜81および第2感光膜86を現像する。具体的には、感光膜81,86に対応した現像液を用意し、この現像液を用いて、感光膜81,86を現像する。これにより、図12に示すように、感光膜81,86のうち露光光が照射されていない部分が除去され、感光膜81,86が所定のパターンにパターニングされる。この結果、第1感光膜81が所定のパターンにパターニングされてなる第1レジストパターン82が、第1暗色膜72によって形成されている中間積層体80の一方の面上に形成される。また、第2感光膜86が所定のパターンにパターニングされてなる第2レジストパターン87が、第2導電性金属膜76によって形成されている中間積層体80の他方の面上に形成される。
(Development process)
Next, the exposed first photosensitive film 81 and second photosensitive film 86 are developed. Specifically, a developer corresponding to the photosensitive films 81 and 86 is prepared, and the photosensitive films 81 and 86 are developed using this developer. Thereby, as shown in FIG. 12, portions of the photosensitive films 81 and 86 that are not irradiated with the exposure light are removed, and the photosensitive films 81 and 86 are patterned into a predetermined pattern. As a result, a first resist pattern 82 obtained by patterning the first photosensitive film 81 into a predetermined pattern is formed on one surface of the intermediate laminate 80 formed by the first dark color film 72. Also, a second resist pattern 87 formed by patterning the second photosensitive film 86 into a predetermined pattern is formed on the other surface of the intermediate laminate 80 formed by the second conductive metal film 76.

(パターニング工程)
その後、図13に示すように、第1レジストパターン82をマスクとして、第1暗色膜72及び第1導電性金属膜71をエッチングする。このエッチングにより、第1暗色膜72及び第1導電性金属膜71が、第1レジストパターン82と略同一のパターンにパターニングされる。また、第2レジストパターン87をマスクとして、第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77をエッチングする。このエッチングにより、第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77が、第2レジストパターン87と略同一のパターンにパターニングされる。エッチング方法は特に限られることはなく、エッチング液を用いるウェットエッチングや、プラズマエッチングなどが適宜用いられる。ウェットエッチングが採用される場合、導電性金属膜71,76及び暗色膜72,77を構成する材料を溶解させることができるエッチング液が適宜選択される。例えば、塩化第2鉄水溶液、塩酸等をエッチング液として用いることができる。
(Patterning process)
Thereafter, as shown in FIG. 13, the first dark color film 72 and the first conductive metal film 71 are etched using the first resist pattern 82 as a mask. By this etching, the first dark color film 72 and the first conductive metal film 71 are patterned into substantially the same pattern as the first resist pattern 82. Further, the second conductive metal film 76 and the second dark color film 77 are etched using the second resist pattern 87 as a mask. By this etching, the second conductive metal film 76 and the second dark color film 77 are patterned into substantially the same pattern as the second resist pattern 87. The etching method is not particularly limited, and wet etching using an etchant, plasma etching, or the like is appropriately used. When wet etching is employed, an etching solution capable of dissolving the materials constituting the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 is appropriately selected. For example, ferric chloride aqueous solution, hydrochloric acid or the like can be used as an etching solution.

(感光膜の除去工程)
その後、第1レジストパターン82及び第2レジストパターン87を除去する。これによって、図5に示すように、パターニングされた第1暗色膜72及び第1導電性金属膜71によって形成された第1電極40が、一方の側に露出し、パターニングされた第2導電性金属膜76及び第2暗色膜77によって形成された第2電極50が、他方の側に露出する。以上のようにして、タッチパネルセンサ30が得られる。
(Photosensitive film removal process)
Thereafter, the first resist pattern 82 and the second resist pattern 87 are removed. Accordingly, as shown in FIG. 5, the first electrode 40 formed by the patterned first dark color film 72 and the first conductive metal film 71 is exposed on one side, and the patterned second conductive The second electrode 50 formed by the metal film 76 and the second dark color film 77 is exposed on the other side. The touch panel sensor 30 is obtained as described above.

以上の製造方法によれば、エッチングされる導電性金属膜71,76及び暗色膜72,77の厚みは、作製されるべき電極40,50の厚さと同一の厚さ、例えば0.2μm以上2μm以下とすることができる。そして、この厚みの導電性金属膜71,76及び暗色膜72,77をエッチングする場合、大きなサイドエッチングによる図15図示の如き導線46、56の厚み減少及び断線を引き起こすことなく、1μm〜5μm程度の細線化された電極40,50を作製することができる。すなわち、形成されるべき導線46,56の線幅に対して、導電性金属膜71,76及び暗色膜72,77の厚みが厚過ぎない。これにより、図15を参照して説明した金属箔を用いた場合と比較して、エッチングによる浸食箇所が、レジスト膜の下方で繋がってしまうことはない。これにより、安定して精度よく細線化された電極40,50(導線46,56)を作製することができる。加えて、形成されるべき導線46,56の線幅に対して、導電性金属膜71,76及び暗色膜72,77を適切な厚みに設定しておくことにより、形成された導線46,56の厚さ方向での断面形状を所望の形状、例えば所望のアスペクト比を有した形状とすることができる。   According to the above manufacturing method, the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 to be etched have the same thickness as the electrodes 40 and 50 to be manufactured, for example, 0.2 μm or more and 2 μm. It can be as follows. When the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 having this thickness are etched, the conductive wires 46 and 56 as shown in FIG. 15 are not reduced in thickness and disconnected by large side etching, and about 1 μm to 5 μm. The thinned electrodes 40 and 50 can be produced. That is, the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 are not too thick with respect to the line width of the conductive wires 46 and 56 to be formed. Thereby, compared with the case where the metal foil described with reference to FIG. 15 is used, the erosion site by etching is not connected below the resist film. Thereby, the electrodes 40 and 50 (the conducting wires 46 and 56) that are stably and accurately thinned can be manufactured. In addition, by setting the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 to appropriate thicknesses with respect to the line width of the conductive lines 46 and 56 to be formed, the formed conductive lines 46 and 56 are formed. The cross-sectional shape in the thickness direction can be a desired shape, for example, a shape having a desired aspect ratio.

<<<作用効果>>>
以上のような本実施の形態によれば、透明樹脂シート32の一方の側の面上に第1電極40が設けられ、透明樹脂シート32の他方の側の面上に接合層34を介して第2電極50が設けられている。第1電極40の導電体メッシュ45aをなす第1導線46は、透明樹脂シート32側に位置する第1導電性金属層47と、導電性金属層47を一方の側から覆う第1暗色層48と、を有している。第2電極50の導電体メッシュ55aをなす第2導線56は、接合層34側に位置する第2暗色層58と、第2暗色層58によって一方の側から覆われた第2導電性金属層57と、を有している。このようなタッチパネルセンサ30を一方の側から観察した場合、第1暗色層48によって第1導電性金属層47が覆われ、第2暗色層58によって第2導電性金属層57が覆われている。このため、高い反射率を有した導電性金属層47,57を、低反射率で暗色の暗色層48,58によって不可視化することができる。これにより、タッチパネルセンサ30を含む表示装置10は優れたコントラスを呈することができる。
<<< Action and effect >>>
According to the present embodiment as described above, the first electrode 40 is provided on the surface on one side of the transparent resin sheet 32, and the bonding layer 34 is disposed on the surface on the other side of the transparent resin sheet 32. A second electrode 50 is provided. The first conductive wire 46 constituting the conductor mesh 45a of the first electrode 40 includes a first conductive metal layer 47 located on the transparent resin sheet 32 side, and a first dark color layer 48 covering the conductive metal layer 47 from one side. And have. The second conductive wire 56 forming the conductor mesh 55a of the second electrode 50 includes a second dark color layer 58 located on the bonding layer 34 side, and a second conductive metal layer covered from one side by the second dark color layer 58. 57. When such a touch panel sensor 30 is observed from one side, the first conductive metal layer 47 is covered with the first dark color layer 48, and the second conductive metal layer 57 is covered with the second dark color layer 58. . Therefore, the conductive metal layers 47 and 57 having high reflectivity can be invisible by the dark color layers 48 and 58 having low reflectivity and dark colors. Thereby, the display apparatus 10 including the touch panel sensor 30 can exhibit an excellent contrast.

このタッチパネルセンサ30において、第1暗色層48及び第2暗色層58は、いずれも透明樹脂シート32に接触していない。したがって、第1暗色層48及び第2暗色層58をそれぞれ構成するようになる第1暗色膜72及び第2暗色膜77を、いずれも透明樹脂シート32上に形成する必要がなく、導電性金属膜71,76上に形成すればよい。一般に黒化膜に代表される暗色膜は、樹脂製のシートに対して低密着性を示す。このため、透明樹脂シート32上に積層される暗色膜の材料は、制約を受け、結果としてコスト面や取り扱い面において劣っていた。その一方で、黒化膜に代表される暗色膜は、金属材料からなる膜に対して比較的に良好な密着性を示す。このため、種々の方法を採用しながら種々の材料を用いて、導電性金属膜71,76上に第1暗色層48及び第2暗色層58を形成することができる。すなわち、第1暗色層48及び第2暗色層58の材料選択における自由度、及び、第1暗色層48及び第2暗色層58の作製方法選択における自由度を大幅に改善することができる。   In the touch panel sensor 30, neither the first dark color layer 48 nor the second dark color layer 58 is in contact with the transparent resin sheet 32. Therefore, it is not necessary to form the first dark color film 72 and the second dark color film 77 that constitute the first dark color layer 48 and the second dark color layer 58 on the transparent resin sheet 32, respectively. What is necessary is just to form on the film | membrane 71,76. In general, a dark color film typified by a blackened film exhibits low adhesion to a resin sheet. For this reason, the material of the dark color film laminated | stacked on the transparent resin sheet 32 received restrictions, and as a result, it was inferior in terms of cost or handling. On the other hand, dark films typified by blackened films exhibit relatively good adhesion to films made of metal materials. Therefore, the first dark color layer 48 and the second dark color layer 58 can be formed on the conductive metal films 71 and 76 using various materials while employing various methods. That is, the degree of freedom in selecting the material of the first dark color layer 48 and the second dark color layer 58 and the degree of freedom in selecting the manufacturing method of the first dark color layer 48 and the second dark color layer 58 can be greatly improved.

また、このタッチパネルセンサ30は、第1積層体70及び第2積層体75を用いて作製された中間積層体80をブランク(材料)として、製造され得る。第1積層体70及び第2積層体75を用いて中間積層体80を製造する際、透明樹脂シート32または支持体78の片面のみに、蒸着法、スパッタリング法、めっき法、CVD法、イオンプレーティング法、又は、これらの二以上を組み合わせた方法による成膜処理を行う。すなわち、透明樹脂シート32又は支持体78の両面に成膜処理を行う必要はない。したがって、透明樹脂シート32及び支持体78への熱的負荷が大きくなり過ぎることを回避することができる(両面成膜處理の場合に比べて熱的負荷は1/2となる)。真空蒸着法等の高温処理によって、透明樹脂シート32又は支持体78が大きく損傷してしまうことを防止することができる。このため、透明樹脂シート32及び支持体78の材料選択の自由度が増し、加えて、透明樹脂シート32及び支持体78の厚みを薄くすることも可能となる。   In addition, the touch panel sensor 30 can be manufactured using the intermediate laminate 80 produced using the first laminate 70 and the second laminate 75 as a blank (material). When the intermediate laminate 80 is manufactured using the first laminate 70 and the second laminate 75, the vapor deposition method, the sputtering method, the plating method, the CVD method, the ion plate, and the like are applied only to one side of the transparent resin sheet 32 or the support 78. A film forming process is performed by a coating method or a combination of two or more of these. That is, it is not necessary to perform the film forming process on both surfaces of the transparent resin sheet 32 or the support 78. Therefore, it is possible to avoid an excessive increase in the thermal load on the transparent resin sheet 32 and the support 78 (the thermal load is ½ compared to the case of double-sided film formation). It is possible to prevent the transparent resin sheet 32 or the support 78 from being greatly damaged by a high temperature treatment such as a vacuum deposition method. For this reason, the freedom degree of the material selection of the transparent resin sheet 32 and the support body 78 increases, and also it becomes possible to make thickness of the transparent resin sheet 32 and the support body 78 thin.

第1積層体70及び第2積層体75を用いて中間積層体80を製造する際、透明樹脂シート32の片面のみに成膜処理が行われており、透明樹脂シート32の一方の面が、第1積層体70の一方の面となっている。また、支持体78の片面のみに成膜処理が行われており、支持体78の一方の面が、第2積層体75の一方の面となっている。即ち、導電性金屬膜71、76、暗色膜72、77に対して導きローラ等により傷付く工程は両面成膜の場合と比べて1/2となる。このため、第1積層体70及び第2積層体75の取り扱い性が良く、透明樹脂シート32上に成膜された薄膜を損傷してしまうこと並びに支持体78上に成膜された薄膜を損傷してしまうことを効果的に抑制することができる。これにより、第1積層体70及び第2積層体75の歩留まり、最終的にはタッチパネルセンサ30の歩留まりを改善することができる。   When the intermediate laminate 80 is manufactured using the first laminate 70 and the second laminate 75, the film forming process is performed only on one side of the transparent resin sheet 32, and one side of the transparent resin sheet 32 is This is one surface of the first laminate 70. The film forming process is performed only on one surface of the support 78, and one surface of the support 78 is one surface of the second stacked body 75. That is, the process of damaging the conductive metal films 71 and 76 and the dark color films 72 and 77 with a guide roller or the like is ½ compared to the case of double-sided film formation. Therefore, the first laminate 70 and the second laminate 75 are easy to handle, damage the thin film formed on the transparent resin sheet 32, and damage the thin film formed on the support 78. This can be effectively suppressed. Thereby, the yield of the 1st laminated body 70 and the 2nd laminated body 75, and the yield of the touch panel sensor 30 can be improved finally.

以上のことから、本実施の形態によるタッチパネルセンサ30は、高い自由度で材料を選定しながら安定して製造され得る。このタッチパネルセンサ30は、蒸着法、スパッタリング法、めっき法、CVD法、イオンプレーティング法、又は、これらの二以上を組み合わせた方法によって成膜された膜を、パターニングすることによって、形成され得る。このため、タッチパネルセンサ30の第1電極40及び第2電極50を十分に細線化することができる。また、第1電極40及び第2電極50は、両面露光を用いたフォトリソグラフィー技術によって、パターニングされる。したがって、第1電極40及び第2電極50を互いに対して高精度に位置決めすることも可能となる。   From the above, the touch panel sensor 30 according to the present embodiment can be stably manufactured while selecting a material with a high degree of freedom. The touch panel sensor 30 can be formed by patterning a film formed by a vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, a CVD method, an ion plating method, or a combination of two or more thereof. For this reason, the first electrode 40 and the second electrode 50 of the touch panel sensor 30 can be sufficiently thinned. The first electrode 40 and the second electrode 50 are patterned by a photolithography technique using double-sided exposure. Therefore, the first electrode 40 and the second electrode 50 can be positioned with high accuracy with respect to each other.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment.

例えば、図14に示された例のように、第1電極40の幅が一定ではないようにしてもよい。図14に示された例では、透明樹脂シート32に対して高い密着性を示す基材側導電性金属層47aの幅Waが、表層側導電性金属層47bの幅Wbよりも太くなっている。そして、図14に示すように、表層側導電性金属層47bは、基材側導電性金属層47aの上方となる領域内に配置されている。すなわち、タッチパネルセンサ30のシート面への法線方向からの観察において、基材側導電性金属層47aが、表層側導電性金属層47bの外輪郭の内側に配置されている。このようなタッチパネルセンサ30によれば、表層側導電性金属層47bが透明樹脂シート32から完全離間する。そして、明樹脂シート32に優れた密着性を有し得る基材側導電性金属層47aのみが、透明樹脂シート32と接触している。この結果、剥離の起点が形成され難くなり、第1電極40が透明樹脂シート32により安定して密着し続けるようになる。且つ表層側導電性金屬層47bとしては、透明樹脂シート32との密着性を考慮すること無く、導電性及びエッチング適性上最適な材料を選択出来る。   For example, the width of the first electrode 40 may not be constant as in the example shown in FIG. In the example shown in FIG. 14, the width Wa of the base-side conductive metal layer 47 a showing high adhesion to the transparent resin sheet 32 is thicker than the width Wb of the surface-side conductive metal layer 47 b. . And as shown in FIG. 14, the surface layer side conductive metal layer 47b is arrange | positioned in the area | region which becomes the upper side of the base material side conductive metal layer 47a. That is, in observation from the normal direction to the sheet surface of the touch panel sensor 30, the base-side conductive metal layer 47a is disposed inside the outer contour of the surface-layer side conductive metal layer 47b. According to such a touch panel sensor 30, the surface side conductive metal layer 47 b is completely separated from the transparent resin sheet 32. Only the base-side conductive metal layer 47 a that can have excellent adhesion to the bright resin sheet 32 is in contact with the transparent resin sheet 32. As a result, it becomes difficult to form a starting point of peeling, and the first electrode 40 continues to be stably adhered to the transparent resin sheet 32. Further, as the surface layer side conductive metal layer 47b, an optimum material in terms of conductivity and etching suitability can be selected without considering the adhesiveness with the transparent resin sheet 32.

なお、上述したタッチパネルセンサの製造方法において、第1導電性金属膜71の基材側導電性金属膜71aをなす材料と、表層側導電性金属膜71bをなす材料とのエッチング液に対する耐性(エッチングレート)が異なる場合、基材側導電性金属膜71aからなる基材側導電性金属層47aの幅と、表層側導電性金属膜71bからなる表層側導電性金属層47bの幅が異なるようにすることができる。基材側導電性金属膜71aをなす材料が、表層側導電性金属膜71bをなす材料よりも、エッチング液に対して耐性を有する場合、図14に示すように、第1金属層47が作製され、基材側導電性金属層47aの幅Waが表層側導電性金属層47bの幅Wbよりも太くなる。例えば、基材側導電性金属膜71aをなす材料がニッケルであり、表層側導電性金属膜71bが銅、アルミニウム、又は、これらの合金である場合、図14に示された第1金属層47を作製することができる。   In the touch panel sensor manufacturing method described above, the resistance (etching) to the etching solution of the material forming the base-side conductive metal film 71a of the first conductive metal film 71 and the material forming the surface-layer side conductive metal film 71b. When the rate is different, the width of the base-side conductive metal layer 47a made of the base-side conductive metal film 71a is different from the width of the surface-side conductive metal layer 47b made of the surface-side conductive metal film 71b. can do. When the material forming the base-side conductive metal film 71a is more resistant to the etching solution than the material forming the surface-layer side conductive metal film 71b, the first metal layer 47 is formed as shown in FIG. Thus, the width Wa of the base-side conductive metal layer 47a is larger than the width Wb of the surface-side conductive metal layer 47b. For example, when the material forming the base-side conductive metal film 71a is nickel and the surface-layer side conductive metal film 71b is copper, aluminum, or an alloy thereof, the first metal layer 47 shown in FIG. Can be produced.

10 表示装置
12 画像表示機構
12a 表示面
13 表示制御部
14 バックライト
15 表示パネル、液晶表示パネル
16 偏光板、下偏光板
17 液晶セル
18 偏光板、上偏光板
19 低屈折率層
20 タッチパネル装置
20a 積層構造体
21 検出制御部
22 カバー層
23 接合層(粘着層)
30 タッチパネルセンサ
32 透明樹脂シート
34 接合層
40 第1電極
42 第1取出電極、第1取出配線
42a 端子部
45 第1検出電極
45a 導電体メッシュ
45b 開口領域
46 第1導線
46a 基端面
46b 先端面
46c 側面
47 第1導電性金属層
47a 基材側導電性金属層
47b 表層側導電性金属層
48 第1暗色層
50 第2電極
52 第2取出電極、第2取出配線
52a 端子部
55 第2検出電極
55a 導電体メッシュ
55b 開口領域
56 第2導線
56a 基端面
56b 先端面
56c 側面
57 第2導電性金属層
58 第2暗色層
70 第1積層体
71 第1導電性金属膜
71a 基材側導電性金属膜
71b 表層側導電性金属膜
72 第1暗色膜
75 第2積層体
76 第2導電性金属膜
77 第2暗色膜
78 支持体
78a 剥離層
80 中間積層体
81 第1感光膜
82 第1レジストパターン
83 第1マスク
83a 透過部、開口部
83b 遮光部
86 第2感光膜
87 第2レジストパターン
88 第2マスク
88a 透過部、開口部
88b 遮光部
A1 表示領域
A2 非表示領域
Aa1 アクティブエリア
Aa2 非アクティブエリア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Display apparatus 12 Image display mechanism 12a Display surface 13 Display control part 14 Backlight 15 Display panel, liquid crystal display panel 16 Polarizing plate, lower polarizing plate 17 Liquid crystal cell 18 Polarizing plate, upper polarizing plate 19 Low refractive index layer 20 Touch panel device 20a Laminated structure 21 Detection control unit 22 Cover layer 23 Bonding layer (adhesive layer)
30 Touch Panel Sensor 32 Transparent Resin Sheet 34 Bonding Layer 40 First Electrode 42 First Extraction Electrode, First Extraction Wiring 42a Terminal Part 45 First Detection Electrode 45a Conductor Mesh 45b Opening Area 46 First Conductor 46a Base End Surface 46b Tip End Surface 46c Side surface 47 First conductive metal layer 47a Substrate side conductive metal layer 47b Surface layer side conductive metal layer 48 First dark color layer 50 Second electrode 52 Second extraction electrode, second extraction wiring 52a Terminal portion 55 Second detection electrode 55a Conductor mesh 55b Opening region 56 Second conductor 56a Base end face 56b Tip end face 56c Side face 57 Second conductive metal layer 58 Second dark color layer 70 First laminate 71 First conductive metal film 71a Base-side conductive metal Film 71b Surface side conductive metal film 72 First dark color film 75 Second laminated body 76 Second conductive metal film 77 Second dark color film 78 Support 78a Release layer 80 Intermediate Laminated body 81 First photosensitive film 82 First resist pattern 83 First mask 83a Transmission portion, opening 83b Light shielding portion 86 Second photosensitive film 87 Second resist pattern 88 Second mask 88a Transmission portion, opening 88b Light shielding portion A1 Display Area A2 Non-display area Aa1 Active area Aa2 Inactive area

Claims (6)

透明樹脂シートと、
前記透明樹脂シートの一方の側の面上に設けられた第1検出電極と、
前記透明樹脂シートの他方の側の面上に設けられた接合層と、
前記接合層の他方の側の面上に設けられた第2検出電極と、を備え、
前記第1検出電極は、第1導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている第1導電体メッシュを含み、
前記第2検出電極は、第2導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている第2導電体メッシュを含み、
前記第1導電体メッシュをなす前記第1導線は、前記透明樹脂シート側に位置する第1導電性金属層と、前記第1導電性金属層を一方の側から覆う第1暗色層と、を含み、
前記第2導電体メッシュをなす前記第2導線は、前記接合層側に位置する第2暗色層と、前記第2暗色層によって一方の側から覆われた第2導電性金属層と、を含み、
前記第1導電性金属層は、前記透明樹脂シート側に位置する基材側導電性金属層と、前記第1暗色層側に位置する表層側導電性金属層と、を含み、
前記基材側導電性金属層の幅は、前記表層側導電性金属層の幅よりも広い、タッチパネルセンサ。
A transparent resin sheet;
A first detection electrode provided on one surface of the transparent resin sheet;
A bonding layer provided on the surface of the other side of the transparent resin sheet;
A second detection electrode provided on a surface on the other side of the bonding layer,
The first detection electrode includes a first conductor mesh disposed in a mesh pattern in which a first conductor defines a plurality of opening regions;
The second detection electrode includes a second conductor mesh disposed in a mesh pattern in which the second conductor defines a plurality of opening regions,
The first conductive wire forming the first conductive mesh includes: a first conductive metal layer positioned on the transparent resin sheet side; and a first dark color layer covering the first conductive metal layer from one side. Including
The second conductive wire forming the second conductor mesh includes a second dark color layer located on the bonding layer side and a second conductive metal layer covered from one side by the second dark color layer. See
The first conductive metal layer includes a base-side conductive metal layer located on the transparent resin sheet side, and a surface-side conductive metal layer located on the first dark color layer side,
The width | variety of the said base material side electroconductive metal layer is a touchscreen sensor wider than the width | variety of the said surface layer side electroconductive metal layer .
前記接合層は、硬化性樹脂の硬化物からなる接着層である、請求項に記載のタッチパネルセンサ。 The touch panel sensor according to claim 1 , wherein the bonding layer is an adhesive layer made of a cured product of a curable resin. 請求項1又は2に記載のタッチパネルセンサを備える、タッチパネル装置。 A touch panel sensor according to claim 1 or 2, the touch panel device. 前記タッチパネルセンサに積層されたカバー層をさらに備える、請求項3に記載のタッチパネル装置。   The touch panel device according to claim 3, further comprising a cover layer laminated on the touch panel sensor. 請求項1又は2に記載のタッチパネルセンサ、或いは、請求項又はに記載のタッチパネル装置を備える、表示装置。 A display device comprising the touch panel sensor according to claim 1 or 2 , or the touch panel device according to claim 3 or 4 . 透明樹脂シートと、蒸着法、スパッタリング法、めっき法、CVD法、イオンプレーティング法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により前記透明樹脂シートに積層された第1導電性金属膜と、前記第1導電性金属膜の前記透明樹脂シートとは反対側に積層された第1暗色膜と、を有する第1積層体に、支持体と、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により前記支持体に積層された第2導電性金属膜と、前記第2導電性金属膜の前記支持体とは反対側に積層された第2暗色膜と、を有する第2積層体を、前記第1積層体の前記透明樹脂シートの側と前記第2積層体の前記第2暗色膜の側とが対面するようにして、接合層を介して積層する工程と、
前記第2積層体の前記第2暗色膜及び前記第2導電性金属膜が前記接合層を介して前記第1積層体に接合した状態で、前記支持体を剥がして、前記第2導電性金属膜、前記第2暗色膜、前記接合層、前記透明樹脂シート、前記第1導電性金属膜及び前記第1暗色膜をこの順で含む中間積層体を作製する工程と、
前記中間積層体の前記第2導電性金属膜及び前記第2暗色膜、並びに、前記第1暗色膜及び前記第1導電性金属膜をパターニングする工程と、を備え、
前記第1積層体の前記第1導電性金属膜は、前記透明樹脂シート側に位置する基材側導電性金属膜と、前記第1暗色膜側に位置する表層側導電性金属膜と、を含み、
前記第1導電性金属膜をパターニングする際、前記基材側導電性金属膜をパターニングしてなる基材側導電性金属層の幅が、前記表層側導電性金属膜をパターニングしてなる表層側導電性金属層の幅よりも広くなるようにする、タッチパネルセンサの製造方法。
A transparent resin sheet, a first conductive metal film laminated on the transparent resin sheet by a vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, a CVD method, an ion plating method, or a combination of two or more thereof, and the first A first laminated body having a first dark color film laminated on the side opposite to the transparent resin sheet of the conductive metal film, a support, and an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or these A second conductive metal film laminated on the support by a method combining two or more of the above, and a second dark color film laminated on the opposite side of the second conductive metal film from the support. A step of laminating the second laminated body via a bonding layer so that the transparent resin sheet side of the first laminated body and the second dark color film side of the second laminated body face each other;
In the state where the second dark color film and the second conductive metal film of the second laminate are joined to the first laminate via the joining layer, the support is peeled off, and the second conductive metal is removed. Producing an intermediate laminate including the film, the second dark film, the bonding layer, the transparent resin sheet, the first conductive metal film, and the first dark film in this order;
Patterning the second conductive metal film and the second dark color film of the intermediate laminate, and the first dark color film and the first conductive metal film,
The first conductive metal film of the first laminate includes a base-side conductive metal film located on the transparent resin sheet side, and a surface layer-side conductive metal film located on the first dark color film side. Including
When patterning the first conductive metal film, the width of the base-side conductive metal layer formed by patterning the base-side conductive metal film is the surface layer side formed by patterning the surface-side conductive metal film. A method for manufacturing a touch panel sensor, which is wider than the width of the conductive metal layer .
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