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JP5696538B2 - Manufacturing method of opto-electric hybrid board - Google Patents

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JP5696538B2
JP5696538B2 JP2011057252A JP2011057252A JP5696538B2 JP 5696538 B2 JP5696538 B2 JP 5696538B2 JP 2011057252 A JP2011057252 A JP 2011057252A JP 2011057252 A JP2011057252 A JP 2011057252A JP 5696538 B2 JP5696538 B2 JP 5696538B2
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Description

本発明は、光電気混載基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing an opto-electric hybrid board .

近年、情報化の波とともに、大容量の情報を高速で通信可能な広帯域回線(ブロードバンド)の普及が進んでいる。また、これらの広帯域回線に情報を伝送する装置として、ルーター装置、WDM(Wavelength Division Multiplexing)装置等の伝送装置が用いられている。これらの伝送装置内には、LSIのような演算素子、メモリーのような記憶素子等が組み合わされた信号処理基板が多数設置されており、各回線の相互接続を担っている。   In recent years, with the wave of computerization, wideband lines (broadband) capable of communicating a large amount of information at high speed have been spreading. Also, as devices for transmitting information to these broadband lines, transmission devices such as router devices and WDM (Wavelength Division Multiplexing) devices are used. In these transmission apparatuses, a large number of signal processing boards in which arithmetic elements such as LSIs and storage elements such as memories are combined are installed, and each line is interconnected.

各信号処理基板には、演算素子や記憶素子等が電気配線で接続された回路が構築されているが、近年、処理する情報量の増大に伴って、各基板では、極めて高いスループットで情報を伝送することが要求されている。しかしながら、情報伝送の高速化に伴い、クロストークや高周波ノイズの発生、電気信号の劣化等の問題が顕在化しつつある。このため、電気配線がボトルネックとなって、信号処理基板のスループットの向上が困難になっている。また、同様の課題は、スーパーコンピューターや大規模サーバー等でも顕在化しつつある。   Each signal processing board has a circuit in which arithmetic elements, storage elements, etc. are connected by electrical wiring. However, with the increase in the amount of information to be processed in recent years, each board has a very high throughput. It is required to transmit. However, with the speeding up of information transmission, problems such as generation of crosstalk and high frequency noise and deterioration of electric signals are becoming apparent. For this reason, electrical wiring becomes a bottleneck, making it difficult to improve the throughput of the signal processing board. Similar problems are also becoming apparent in supercomputers and large-scale servers.

一方、光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。   On the other hand, an optical communication technique for transferring data using an optical carrier wave has been developed, and in recent years, an optical waveguide is becoming popular as a means for guiding the optical carrier wave from one point to another point. This optical waveguide has a linear core part and a clad part provided so as to cover the periphery thereof. The core part is made of a material that is substantially transparent to the light of the optical carrier wave, and the cladding part is made of a material having a refractive index lower than that of the core part.

光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に伝送(搬送)される。光導波路の入射側には、半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。   In the optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is transmitted (conveyed) to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the flickering pattern of the received light or its intensity pattern.

このような光導波路で信号処理基板内の電気配線を置き換えることにより、前述したような電気配線の問題が解消され、信号処理基板のさらなる高スループット化が可能になると期待されている。   By replacing the electric wiring in the signal processing board with such an optical waveguide, it is expected that the problem of the electric wiring as described above is solved and the signal processing board can be further increased in throughput.

例えば、特許文献1には、信号処理基板(光電気混載基板)内に、支持基板上に配置された複数の光導波路と、光導波路に対応して発光素子および受光素子がこの光導波路上に配置されたものが提案されている。   For example, in Patent Document 1, a plurality of optical waveguides arranged on a support substrate in a signal processing substrate (an opto-electric hybrid substrate), and a light emitting element and a light receiving element corresponding to the optical waveguide are provided on the optical waveguide. Arranged ones have been proposed.

この信号処理基板では、隣接するコア部同士の間に、これらに互いに接触するクラッド部が配置されていることで、信号処理基板内に複数の光導波路が形成されている。そして、この光導波路には、その上側に配置された発光素子からの光を光導波路の一端に伝送し、さらに光導波路の他端からの光を、同じく上側に配置された受光素子に伝送するためのミラー(光路変更部)を形成することが求められる。   In this signal processing board, a plurality of optical waveguides are formed in the signal processing board by disposing clad parts that are in contact with each other between adjacent core parts. In this optical waveguide, light from the light emitting element arranged on the upper side is transmitted to one end of the optical waveguide, and light from the other end of the optical waveguide is also transmitted to the light receiving element arranged on the upper side. It is required to form a mirror (optical path changing unit) for the purpose.

したがって、このようなミラーを備える光導波路を有する信号処理基板を形成するためには、まず、光導波路を用意し、この光導波路にミラーを作り込んだ後に、かかる光導波路を支持基板上に接合し、さらに、光導波路上に発光素子および受光素子を接合する工程を経る必要があり、信号処理基板の製造工程の煩雑化を招くという問題があった。   Therefore, in order to form a signal processing substrate having an optical waveguide provided with such a mirror, first, an optical waveguide is prepared, and after the mirror is formed in the optical waveguide, the optical waveguide is bonded onto the support substrate. In addition, it is necessary to go through a process of joining the light emitting element and the light receiving element on the optical waveguide, which causes a problem that the manufacturing process of the signal processing board becomes complicated.

特開2008−122908号公報JP 2008-122908 A

本発明の目的は、製造工程の煩雑化を招くことなく簡単な工程で光導波路混載基板を製造することができる光電気混載基板の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a manufacturing how the opto-electric hybrid board which is capable of manufacturing an optical waveguide hybrid board by a simple process without increasing the complexity of the manufacturing process.

このような目的は、下記(1)〜()に記載の本発明により達成される。
(1) レーザ光を透光させるための孔部を備える支持基板と、シート状をなすシート材とを用意し、前記孔部を覆うように前記シート材を前記支持基板に接合する第1の工程と、
光導波路を形成するための光導波路形成用材料を含有する液状材料を塗布法を用いて、前記シート材を介在させた状態で、前記支持基板上に供給することで液状被膜を形成する第2の工程と、
前記液状被膜を乾燥させて、前記光導波路形成用材料を含む層を成膜する第3の工程と、
該層に所定の処理を施すことにより前記光導波路を形成する第4の工程と
前記孔部を介して前記シート材と前記光導波路との一部を前記レーザ光を用いて除去することにより、光路の方向を変更する光路変更ミラーを含む欠損部を形成するとともに、発光素子および受光素子が搭載された配線基板を、前記光導波路上に接合する第5の工程とを有することを特徴とする光電気混載基板の製造方法。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to ( 2 ).
(1) A first support substrate having a hole portion for transmitting laser light and a sheet material having a sheet shape are prepared, and the sheet material is bonded to the support substrate so as to cover the hole portion. Process,
A liquid film is formed by supplying a liquid material containing an optical waveguide forming material for forming an optical waveguide onto the support substrate in a state where the sheet material is interposed using a coating method. And the process of
A third step of drying the liquid film to form a layer containing the optical waveguide forming material;
A fourth step of forming the optical waveguide by applying a predetermined treatment to the layer ;
A part of the sheet material and the optical waveguide is removed using the laser light through the hole portion, thereby forming a defect portion including an optical path changing mirror that changes the direction of the optical path, and a light emitting element and And a fifth step of bonding a wiring board on which the light receiving element is mounted on the optical waveguide .

) 前記第2の工程において、光導波路形成用材料は、ポリマーと、該ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含み、前記層に対して活性放射線を照射して、前記活性放射線が照射された照射領域内において、前記モノマーの反応を進行させることにより、前記活性放射線が照射されない未照射領域から、未反応の前記モノマーを前記照射領域に拡散させ、結果として、前記照射領域と前記未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記未照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記コア部よりも屈折率が低い前記クラッド部としてなるコア層を備える前記光導波路が形成される上記()に記載の光電気混載基板の製造方法。 ( 2 ) In the second step, the optical waveguide forming material includes a polymer and a monomer having a refractive index different from that of the polymer. The active radiation is irradiated to the layer, and the active radiation is irradiated. In the irradiated region, the reaction of the monomer proceeds to diffuse the unreacted monomer from the unirradiated region that is not irradiated with the actinic radiation to the irradiated region, and as a result, the irradiated region and the unirradiated region. A core layer in which one of the irradiated region and the non-irradiated region is used as the core portion and the other is used as the cladding portion having a lower refractive index than the core portion by causing a difference in refractive index between the core portion and the irradiated portion. The method for producing an opto-electric hybrid board according to ( 1 ), wherein the optical waveguide is provided.

本発明の光電気混載基板の製造方法によれば、比較的簡単な工程で光電気混載基板を製造することができ、かつ信頼性に優れた光導波路を備える光電気混載基板を製造することができる。   According to the method for manufacturing an opto-electric hybrid board of the present invention, it is possible to manufacture an opto-electric hybrid board by a relatively simple process, and to manufacture an opto-electric hybrid board having an optical waveguide with excellent reliability. it can.

光電気混載基板の第1実施形態の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of 1st Embodiment of a photoelectric hybrid board | substrate . 図1に示す光電気混載基板が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。It is a top view which shows the support substrate and sheet | seat material with which the opto-electric hybrid board shown in FIG. 1 is provided. 光電気混載基板が備える光導波路基板の製造工程を説明するための部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-sectional view for demonstrating the manufacturing process of the optical waveguide board | substrate with which an opto-electric hybrid board is provided. 光電気混載基板が備える光導波路基板の製造工程を説明するための部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-sectional view for demonstrating the manufacturing process of the optical waveguide board | substrate with which an opto-electric hybrid board is provided. 光電気混載基板が備える光導波路基板の製造工程を説明するための部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-sectional view for demonstrating the manufacturing process of the optical waveguide board | substrate with which an opto-electric hybrid board is provided. 光電気混載基板の第2実施形態の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of 2nd Embodiment of a photoelectric hybrid board | substrate . 図6に示す光電気混載基板が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。It is a top view which shows the support substrate and sheet material with which the opto-electric hybrid board shown in FIG. 6 is provided. 光電気混載基板の第3実施形態が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。It is a top view which shows the support substrate and sheet material with which 3rd Embodiment of an opto-electric hybrid board is equipped.

以下、本発明の光電気混載基板の製造方法について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

まず、本発明の光電気混載基板の製造方法を説明するのに先立って、本発明の光電気混載基板の製造方法で製造された光電気混載基板について説明する。 First, prior to describing the method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to the present invention, the opto-electric hybrid board manufactured by the method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to the present invention will be described.

<第1実施形態>
まず、光電気混載基板の第1実施形態について説明する。
<First Embodiment>
First, a first embodiment of the opto-electric hybrid board will be described.

図1は、光電気混載基板の第1実施形態の概略を示す縦断面図、図2は、図1に示す光電気混載基板が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」といい、下側を「下」という。また、図2中には、シート材上に接合される光導波路を二点鎖線で示している。 FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing a first embodiment of the opto-electric hybrid board , and FIG. 2 is a plan view showing a support substrate and a sheet material provided in the opto-electric hybrid board shown in FIG. In the following description, the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”. Moreover, in FIG. 2, the optical waveguide joined on a sheet | seat material is shown with the dashed-two dotted line.

光電気混載基板1は、主に、支持基板81と、支持基板81に接合されたシート材82と、シート材82を介して支持基板81上に接合された光導波路20と、光導波路20の上面に接合された配線基板3と、配線基板3上にそれぞれ搭載された発光素子4および発光素子用IC40と、受光素子5および受光素子用IC50とを有する。   The opto-electric hybrid board 1 mainly includes a support substrate 81, a sheet material 82 bonded to the support substrate 81, an optical waveguide 20 bonded on the support substrate 81 via the sheet material 82, and the optical waveguide 20. The wiring board 3 bonded to the upper surface, the light emitting element 4 and the light emitting element IC 40 mounted on the wiring board 3, respectively, and the light receiving element 5 and the light receiving element IC 50 are provided.

かかる構成の光電気混載基板1において、発光素子4からの光Lは、光導波路(光回路)20内を伝送され、受光素子5により受光される。すなわち、光導波路20を介して、発光素子4と受光素子5との間において、光通信がなされる。   In the opto-electric hybrid board 1 having such a configuration, the light L from the light emitting element 4 is transmitted through the optical waveguide (optical circuit) 20 and received by the light receiving element 5. That is, optical communication is performed between the light emitting element 4 and the light receiving element 5 via the optical waveguide 20.

支持基板81は、このものに載置されるシート材82および光導波路20を支持するものである。   The support substrate 81 supports the sheet material 82 and the optical waveguide 20 placed on the support substrate 81.

この支持基板81は、本実施形態では、その全体形状が平板状をなしており、さらに、透光させるための孔部83を2つ有している。   In this embodiment, the support substrate 81 has a flat plate shape as a whole, and further has two holes 83 for transmitting light.

また、孔部83は、後述する光電気混載基板1の製造方法において、光導波路20およびシート材82に欠損部28a、28bを形成し得るように、これらを包含する領域に対応して設けられており、図2に示すように、平面視で長方形状をなすものが、コア部211の光路方向の端部側に2つ形成されている。   In addition, in the method for manufacturing the opto-electric hybrid board 1 described later, the hole 83 is provided corresponding to a region including these so that the defect portions 28a and 28b can be formed in the optical waveguide 20 and the sheet material 82. As shown in FIG. 2, two rectangular shapes in plan view are formed on the end portion side of the core portion 211 in the optical path direction.

さらに、支持基板81の構成材料としては、シート材82および光導波路20を支持し得る程度の強度を有するものであれば特に限定されないが、例えば、アルミナのようなセラミックス材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料、アルミニウム、ステンレス鋼のような金属材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Further, the constituent material of the support substrate 81 is not particularly limited as long as it has a strength that can support the sheet material 82 and the optical waveguide 20. For example, a ceramic material such as alumina, polyethylene terephthalate, polypropylene, Examples include resin materials such as cycloolefin polymer, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyarylate, glass materials such as quartz glass and soda glass, and metal materials such as aluminum and stainless steel. Alternatively, two or more kinds can be used in combination.

なお、支持基板81は、例えば、その上面に配線が形成され、これにより電気配線基板としての機能が付与されたものであってもよい。また、支持基板81をアルミニウム等で構成した場合には、放熱基板としての機能を付与することができる。   For example, the support substrate 81 may have a wiring formed on the upper surface thereof, thereby providing a function as an electric wiring substrate. Further, when the support substrate 81 is made of aluminum or the like, a function as a heat dissipation substrate can be given.

また、支持基板81の平均厚さは、特に限定されないが、0.01〜20mm程度であるのが好ましく、0.1〜10mm程度であるのがより好ましい。   Further, the average thickness of the support substrate 81 is not particularly limited, but is preferably about 0.01 to 20 mm, and more preferably about 0.1 to 10 mm.

シート材82は、光導波路20を支持し、かつ光導波路20の下面を保護する機能を有するとともに、後述する光電気混載基板1の製造方法において、光導波路20を形成するために用いられる液状材料(液状被膜75)が、孔部83側に漏出してしまうのを防止する機能を有する。   The sheet material 82 has a function of supporting the optical waveguide 20 and protecting the lower surface of the optical waveguide 20 and is a liquid material used for forming the optical waveguide 20 in the method of manufacturing the opto-electric hybrid board 1 described later. (Liquid coating film 75) has a function of preventing leakage to the hole 83 side.

このシート材82は、その全体形状が平板状(シート状)をなしており、本実施形態では、支持基板81の縁部を除くほぼ全面(全体)を覆うように、支持基板81上に配置されている。   The sheet material 82 has a flat plate shape (sheet shape). In this embodiment, the sheet material 82 is disposed on the support substrate 81 so as to cover almost the entire surface (the entire surface) except for the edge of the support substrate 81. Has been.

シート材82の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミドおよびポリイミドエーテル等が挙げられる。   The constituent material of the sheet material 82 is not particularly limited, and examples thereof include polyimide, polyimide amide, polyimide amide ether, polyester imide, and polyimide ether.

シート材82の平均厚さは、特に限定されないが、5〜200μm程度であるのが好ましく、10〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、シート材82は、前記機能を十分に発揮するものとなる。   The average thickness of the sheet material 82 is not particularly limited, but is preferably about 5 to 200 μm, and more preferably about 10 to 100 μm. Thereby, the sheet | seat material 82 fully exhibits the said function.

光導波路20は、層状をなすコア層21と、このコア層21の上下面にそれぞれ設けられた層状をなすクラッド層22とを有しており、コア層21の一端に入射された光Lが、その他端にまで伝送(伝搬)される。   The optical waveguide 20 has a layered core layer 21 and a layered clad layer 22 provided on each of the upper and lower surfaces of the core layer 21, and light L incident on one end of the core layer 21 is incident on the optical waveguide 20. , Transmitted (propagated) to the other end.

コア層21は、所定パターン(本実施形態では、光導波路20の長手方向に長い短冊状)のコア部211と、このコア部(導波路チャンネル)211に隣接するクラッド部212(側面クラッド部)とで構成されている。   The core layer 21 includes a core portion 211 having a predetermined pattern (in the present embodiment, a strip shape long in the longitudinal direction of the optical waveguide 20), and a clad portion 212 (side clad portion) adjacent to the core portion (waveguide channel) 211. It consists of and.

なお、本実施形態では、図2に示すように、4つのコア部211が設けられ、これらコア部211同士間に介在するように、コア部211に隣接してクラッド部212が設けられている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, four core portions 211 are provided, and a cladding portion 212 is provided adjacent to the core portions 211 so as to be interposed between the core portions 211. .

クラッド部212は、クラッド層22と同様の機能を果たす部分であり、クラッド部212(低屈折率領域215)およびクラッド層22は、コア部211と比較して、その平均屈折率(以下、単に「屈折率」と言うこともある。)が低くなっている。   The clad part 212 is a part that performs the same function as the clad layer 22, and the clad part 212 (low refractive index region 215) and the clad layer 22 have an average refractive index (hereinafter simply referred to as the core part 211). Sometimes called "refractive index").

これにより、クラッド部212およびクラッド層22で取り囲まれて形成されたコア部211は、後述する欠損部28aから入射された光Lを、コア部211とクラッド部212およびクラッド層22との界面で反射させて、欠損部28bまで伝送(伝搬)する光路を構成する。   Thereby, the core part 211 formed by being surrounded by the clad part 212 and the clad layer 22 transmits the light L incident from the defect part 28a described later at the interface between the core part 211, the clad part 212, and the clad layer 22. An optical path that is reflected and transmitted (propagated) to the defect portion 28b is formed.

また、本実施形態では、コア部211は、その横断面形状が正方形または矩形(長方形)のような四角形をなしている。   In the present embodiment, the core section 211 has a quadrangular shape such as a square or a rectangle (rectangle) in cross section.

さらに、コア部211は、図3に示すような平面視において、光Lの光路の方向の幅が、10〜100μm程度であるのが好ましく、15〜80μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部211から入射された光Lを、コア部211とクラッド部212およびクラッド層22との界面で反射させて、その端部まで伝送(伝搬)する光路としての機能を確実に発揮するようになる。   Furthermore, the core portion 211 preferably has a width in the direction of the optical path of the light L of about 10 to 100 μm, and more preferably about 15 to 80 μm in plan view as shown in FIG. As a result, the light L incident from the core part 211 is reflected at the interface between the core part 211, the clad part 212, and the clad layer 22 and reliably functions as an optical path for transmission (propagation) to the end part. To come.

コア部211とクラッド部212およびクラッド層22との屈折率の差は、特に限定されないが、0.5%以上であるのが好ましく、0.8%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率の差が前記下限値未満であると光を伝達する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えても、光の伝送効率のそれ以上の増大は期待できない。   The difference in refractive index between the core part 211, the clad part 212, and the clad layer 22 is not particularly limited, but is preferably 0.5% or more, and more preferably 0.8% or more. On the other hand, the upper limit value may not be set, but is preferably about 5.5%. If the difference in refractive index is less than the lower limit, the effect of transmitting light may be reduced, and even if the upper limit is exceeded, no further increase in light transmission efficiency can be expected.

なお、前記屈折率差とは、コア部211の屈折率をA、クラッド部212およびクラッド層22の屈折率をBとしたとき、次式で表される。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
The difference in refractive index is expressed by the following equation, where A is the refractive index of the core portion 211 and B is the refractive index of the cladding portion 212 and the cladding layer 22.
Refractive index difference (%) = | A / B-1 | × 100

なお、本実施形態では、コア部211は、それぞれ、平面視で短冊状(直線状)に形成されているが、途中で湾曲、分岐等してもよく、その形状は任意である。なお、後述するような光導波路20の製造方法を用いれば、複雑かつ任意の形状のコア部211を容易にかつ寸法精度よく形成することができる。   In addition, in this embodiment, although the core part 211 is each formed in strip shape (straight line shape) by planar view, you may curve and branch in the middle and the shape is arbitrary. In addition, if the manufacturing method of the optical waveguide 20 which is mentioned later is used, the core part 211 of a complicated and arbitrary shape can be formed easily and with sufficient dimensional accuracy.

一方、2つのクラッド層22は、コア部211の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、コア部211は、その外周をクラッド部に囲まれた導光路として機能する。   On the other hand, the two clad layers 22 constitute a clad portion located below and above the core portion 211. With such a configuration, the core portion 211 functions as a light guide path whose outer periphery is surrounded by the clad portion.

クラッド層22の平均厚さは、コア層21の平均厚さの0.1〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.3〜1.25倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層22の平均厚さは、特に限定されないが、通常、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、光導波路20が不要に大型化(厚膜化)するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。   The average thickness of the clad layer 22 is preferably about 0.1 to 1.5 times the average thickness of the core layer 21, and more preferably about 0.3 to 1.25 times. Specifically, the average thickness of the clad layer 22 is not particularly limited, but is usually preferably about 1 to 200 μm, and more preferably about 5 to 100 μm. Thereby, the function as a clad layer is suitably exhibited while preventing the optical waveguide 20 from becoming unnecessarily large (thickened).

コア層21およびクラッド層22の各構成材料は、それぞれ上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。   Each constituent material of the core layer 21 and the clad layer 22 is not particularly limited as long as the above-described refractive index difference is generated. Specifically, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, Various resin materials such as polyamide, polyimide, polybenzoxazole, polysilane, polysilazane, and cyclic olefin resins such as benzocyclobutene resin and norbornene resin, and glass materials such as quartz glass and borosilicate glass Can be used.

また、本実施形態では、シート材82および光導波路20は、シート材82の下面から下側のクラッド層22およびコア層21(コア部211)を超えて、上側のクラッド層22に至るまでの部分を欠損(除去)させることにより形成された欠損部28a、28bを備える。これにより、少なくともコア層21の欠損部28a、28bに臨む面は、それぞれ、コア層21と欠損部28a、28b内の空気との屈折率差に基づいて光を反射するミラー(光の光路を変更する光路変更部)23a、23bを構成している。   In this embodiment, the sheet material 82 and the optical waveguide 20 extend from the lower surface of the sheet material 82 to the upper cladding layer 22 beyond the lower cladding layer 22 and the core layer 21 (core portion 211). Defects 28a and 28b formed by removing (removing) portions are provided. As a result, at least the surfaces of the core layer 21 that face the defect portions 28a and 28b are mirrors that reflect light based on the refractive index difference between the core layer 21 and the air in the defect portions 28a and 28b, respectively. Optical path changing section 23a, 23b to be changed.

なお、かかる構成とすることにより、コア部211のミラー23a、23bが形成された領域がコア部211の端部を構成する。   In addition, by setting it as this structure, the area | region in which the mirrors 23a and 23b of the core part 211 were formed comprises the edge part of the core part 211. FIG.

また、欠損部28a、28bは、光導波路20の縦断面において直角三角形状をなすように形成されており、ミラー(光路変更部)23a、23bは、コア層21の中心軸に対してほぼ45°で傾斜している。したがって、図1中の矢印で示すように、発光素子4から下方に向かって発せられた光Lは、その直下のミラー23aにより、その光路がほぼ90°で変更(屈曲)された後、コア層21(コア部211)内を伝送され、受光素子5の直下のミラー23bで上方に向かって光路がほぼ90°で変更された後、受光素子5に入射する。   Further, the defect portions 28 a and 28 b are formed so as to form a right triangle in the longitudinal section of the optical waveguide 20, and the mirrors (optical path changing portions) 23 a and 23 b are approximately 45 with respect to the central axis of the core layer 21. Inclined at °. Therefore, as indicated by the arrow in FIG. 1, the light L emitted downward from the light emitting element 4 is changed (bent) by 90 ° by the mirror 23a immediately below the light L, and then the core The light is transmitted through the layer 21 (core portion 211), and the light path is changed upward by about 90 ° by the mirror 23 b directly below the light receiving element 5, and then enters the light receiving element 5.

このようなミラー23a、23bを設けることにより、光導波路20の主面(上面および/または下面)を、配線基板3を介して発光素子4および受光素子5を搭載する領域として用いることができるので、光電気混載基板1の小型化を図ることができるとともに、高密度実装にも寄与する。   By providing such mirrors 23 a and 23 b, the main surface (upper surface and / or lower surface) of the optical waveguide 20 can be used as a region for mounting the light emitting element 4 and the light receiving element 5 through the wiring substrate 3. The opto-electric hybrid board 1 can be downsized and contributes to high-density mounting.

このような光導波路20の上面には、配線基板3が接合され、さらに、配線基板3の上面には、それぞれ、後述するコア層21が備えるコア部211に対応するように発光素子4および発光素子用IC40と、受光素子5および受光素子用IC50とが搭載されている。   The wiring board 3 is bonded to the upper surface of the optical waveguide 20, and the light emitting element 4 and the light emitting elements are formed on the upper surface of the wiring board 3 so as to correspond to a core portion 211 provided in the core layer 21 described later. The element IC 40, the light receiving element 5 and the light receiving element IC 50 are mounted.

配線基板3は、所定のパターンで形成された配線部(図示せず)を有している。
また、発光素子(光学素子)4は、発光部を備える素子本体41とバンプ42とを備え、バンプ42が、配線部(導体部)が備える端子に接合されている。また、発光素子用IC40は、所定の回路が形成された素子本体401とバンプ402とを備え、バンプ402が、配線部が備える端子に接合されている。これにより、発光素子4は、発光素子用IC40と配線基板3を介して電気的に接続され、その動作が発光素子用IC40により制御される。
The wiring board 3 has a wiring part (not shown) formed in a predetermined pattern.
The light emitting element (optical element) 4 includes an element main body 41 including a light emitting portion and a bump 42, and the bump 42 is bonded to a terminal included in the wiring portion (conductor portion). The light emitting element IC 40 includes an element body 401 and a bump 402 on which a predetermined circuit is formed, and the bump 402 is bonded to a terminal included in the wiring portion. As a result, the light emitting element 4 is electrically connected to the light emitting element IC 40 via the wiring substrate 3, and its operation is controlled by the light emitting element IC 40.

さらに、受光素子(光学素子)5は、受光部を備える素子本体51とバンプ52とを備え、バンプ52が、配線部が備える端子に接合されている。また、受光素子用IC50は、所定の回路が形成された素子本体501とバンプ502とを備え、バンプ502が、配線部の端子に接合されている。これにより、受光素子5は、受光素子用IC50と配線基板3を介して電気的に接続され、受光素子用IC50は、受光素子5による検出信号を増幅するよう動作する。   Furthermore, the light receiving element (optical element) 5 includes an element body 51 including a light receiving portion and a bump 52, and the bump 52 is bonded to a terminal included in the wiring portion. The light receiving element IC 50 includes an element body 501 on which a predetermined circuit is formed and a bump 502, and the bump 502 is joined to a terminal of the wiring portion. As a result, the light receiving element 5 is electrically connected to the light receiving element IC 50 via the wiring board 3, and the light receiving element IC 50 operates to amplify the detection signal from the light receiving element 5.

これにより、光電気混載基板1内に、電気回路が構築され、光電気混載基板1では、これらの光素子(発光素子4および受光素子5)と電気素子(発光素子用IC40および受光素子用IC50)とが協調して動作することにより、光信号と電気信号の相互変換が確実に行われ、高速かつ低ノイズでの信号処理を容易に行うことができる。   As a result, an electric circuit is constructed in the opto-electric hybrid board 1. In the opto-electric hybrid board 1, these optical elements (light emitting element 4 and light receiving element 5) and electric elements (light emitting element IC 40 and light receiving element IC 50). ) In cooperation with each other, the mutual conversion between the optical signal and the electric signal is performed reliably, and the signal processing with high speed and low noise can be easily performed.

また、このような配線基板3における、発光素子4からの光Lの光路に対応する部分、および、受光素子5への光Lの光路に対応する部分は、それぞれ、光Lの透過が許容されるように光透過性を有する部材で構成される。   Further, in such a wiring board 3, the portion corresponding to the optical path of the light L from the light emitting element 4 and the portion corresponding to the optical path of the light L to the light receiving element 5 are allowed to transmit the light L, respectively. As shown in FIG.

なお、本実施形態では、このような光電気混載基板1のうち、支持基板81と、シート材82と、光導波路20とにより光導波路基板2が構成される。   In the present embodiment, the optical waveguide substrate 2 is constituted by the support substrate 81, the sheet material 82, and the optical waveguide 20 among such an opto-electric hybrid substrate 1.

また、本実施形態では、シート材82を、クラッド層22と同様の材料で構成することで、コア部211の屈折率よりも低い屈折率を有するものとし、これにより、シート材82にクラッド層22としての機能を発揮させるようにしてもよい。なお、この場合、光導波路20が有する下側のクラッド部22については、その形成を省略することができる。   In the present embodiment, the sheet material 82 is made of the same material as that of the cladding layer 22, so that the sheet material 82 has a refractive index lower than that of the core portion 211. You may make it exhibit the function as 22. FIG. In this case, the formation of the lower clad portion 22 of the optical waveguide 20 can be omitted.

さらに、欠損部28a、28bの縦断面が、直角三角形状をなす場合について説明したが、かかる場合に限定されず、欠損部を設けることでミラー23a、23bが形成されるものであれば、欠損部は、如何なる形状を有するものであってもよく、例えば、その縦断面が台形状をなすものであってもよい。   Furthermore, although the case where the longitudinal sections of the defect portions 28a and 28b have a right triangle shape has been described, the present invention is not limited to such a case, and if the mirrors 23a and 23b are formed by providing the defect portions, the defect The part may have any shape, for example, the longitudinal section thereof may have a trapezoidal shape.

以上説明したような光電気混載基板1は、本発明の光電気混載基板の製造方法を用いて、例えば、次のようにして製造される。   The opto-electric hybrid board 1 as described above is manufactured, for example, as follows using the opto-electric hybrid board manufacturing method of the present invention.

なお、以下では、感光用光の作用により屈折率が低くなる感光性樹脂組成物70を用いて光導波路20が備えるコア層21を形成する場合を一例に説明する。   In the following, a case where the core layer 21 provided in the optical waveguide 20 is formed using the photosensitive resin composition 70 whose refractive index is lowered by the action of the photosensitive light will be described as an example.

図3〜5は、それぞれ、光電気混載基板が備える光導波路基板の製造工程を説明するための部分縦断面図である。なお、図3〜5中の左図は、図2のA−A線断面における部分縦断面図であり、図3〜5中の右図は、図2のB−B線断面における部分縦断面図である。また、以下の説明では、図3〜5中の上側を「上」といい、下側を「下」という。   3 to 5 are partial vertical cross-sectional views for explaining the manufacturing process of the optical waveguide substrate provided in the opto-electric hybrid board. 3 to 5 are partial longitudinal sectional views taken along the line AA of FIG. 2, and the right diagrams of FIGS. 3 to 5 are partial longitudinal sectional views taken along the line BB of FIG. FIG. In the following description, the upper side in FIGS. 3 to 5 is referred to as “upper”, and the lower side is referred to as “lower”.

<1> まず、孔部83を備える支持基板81と、シート状をなすシート材82とを用意し、シート材82を支持基板(支持基材)81に接合する(第1の工程)。   <1> First, a support substrate 81 having a hole 83 and a sheet material 82 having a sheet shape are prepared, and the sheet material 82 is joined to the support substrate (support base material) 81 (first step).

本実施形態では、支持基板81の縁部を除くほぼ全面を覆うように支持基板81上に、シート材82が接合され、これにより、孔部83がシート材82により覆われることとなる。   In the present embodiment, the sheet material 82 is bonded onto the support substrate 81 so as to cover almost the entire surface excluding the edge portion of the support substrate 81, whereby the hole 83 is covered with the sheet material 82.

また、シート材82の支持基板81への接合は、例えば、ポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリエステル系およびポリウレタン系等の接着剤を用いて行うことができる。   The sheet material 82 can be bonded to the support substrate 81 using, for example, an adhesive such as polyolefin, polyamide, polyester, or polyurethane.

<2> 次に、シート材82を介在させた状態で、支持基板81上に光導波路20を形成することで、光導波路基板2を得る。   <2> Next, the optical waveguide substrate 2 is obtained by forming the optical waveguide 20 on the support substrate 81 with the sheet material 82 interposed therebetween.

<2−1> まず、感光用光EL(活性放射線)の作用により屈折率が低くなるよう変化する感光性樹脂組成物(コア層形成用樹脂組成物)70と、感光用光ELの作用によっても屈折率が変化しない非感光性樹脂組成物(クラッド層形成用樹脂組成物)71とを用意する。   <2-1> First, by the action of the photosensitive resin composition (core layer forming resin composition) 70 that changes so that the refractive index is lowered by the action of the photosensitive light EL (active radiation) and the photosensitive light EL. A non-photosensitive resin composition (clad layer forming resin composition) 71 whose refractive index does not change is prepared.

ここで、感光性樹脂組成物70としては、例えば、特殊な配合の樹脂組成物を用いることができる。   Here, as the photosensitive resin composition 70, for example, a resin composition having a special composition can be used.

この樹脂組成物には、ベースポリマーと、このベースポリマーより屈折率の低いモノマーとを含み、感光用光ELを照射させた照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、感光用光ELを照射させない未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、未照射領域の屈折率が照射領域の屈折率より高くなるようなものがある。   This resin composition contains a base polymer and a monomer having a refractive index lower than that of the base polymer, and the reaction of the monomer proceeds in the irradiation region irradiated with the photosensitive light EL, whereby the photosensitive light EL. In some cases, unreacted monomer is diffused into the irradiated region from the unirradiated region where no irradiation is performed, and as a result, the refractive index of the unirradiated region becomes higher than the refractive index of the irradiated region.

ベースポリマーとしては、例えば、ノルボルネン系樹脂やベンゾシクロブテン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(ポリマーアロイ、ポリマーブレンド(混合物)、共重合体など)用いることができる。   Examples of the base polymer include cyclic olefin resins such as norbornene resins and benzocyclobutene resins, acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonates, polystyrenes, epoxy resins, polyamides, polyimides, polybenzoxazoles, and silicone resins. , Fluorine resins and the like, and one or more of these can be used in combination (polymer alloy, polymer blend (mixture), copolymer, etc.).

これらの中でも、特に、環状オレフィン系樹脂を主とするものが好ましい。ベースポリマーとして環状オレフィン系樹脂を用いることにより、優れた光伝送性能や耐熱性を有するコア層21を形成することができる。   Among these, those mainly composed of cyclic olefin resins are preferable. By using a cyclic olefin-based resin as the base polymer, the core layer 21 having excellent optical transmission performance and heat resistance can be formed.

さらに、環状オレフィン系樹脂としては、耐熱性、透明性等の観点から、ノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。また、ノルボルネン系樹脂は、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化等を生じ難いコア層21を形成することができる。   Furthermore, as the cyclic olefin-based resin, it is preferable to use a norbornene-based resin from the viewpoints of heat resistance and transparency. Moreover, since norbornene-type resin has high hydrophobicity, the core layer 21 which is hard to produce the dimensional change by water absorption, etc. can be formed.

一方、モノマーとしては、例えば、ノルボルネン系モノマー、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー等のうち、ベースポリマーより屈折率が低いものが選択され、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   On the other hand, as the monomer, for example, a norbornene monomer, an acrylic acid (methacrylic acid) monomer, an epoxy monomer, an oxetane monomer, a vinyl ether monomer, a styrene monomer, or the like having a lower refractive index than the base polymer is selected. Of these, one or two or more of these can be used in combination.

これらの中でも、モノマーとしては、オキセタニル基またはエポキシ基等の環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーを用いるのが好ましい。環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーを用いることにより、環状エーテル基の開環が起こり易いため、速やかに反応し得るモノマーが得られる。   Among these, as the monomer, it is preferable to use a monomer or oligomer having a cyclic ether group such as an oxetanyl group or an epoxy group. By using a monomer or oligomer having a cyclic ether group, the cyclic ether group is likely to be opened, so that a monomer capable of reacting quickly can be obtained.

具体的には、オキセタニル基を有し、かつ、ベースポリマーより屈折率が低いモノマーとしては、例えば、下記式(1)で表わされる単官能オキセタン(3−(シクロヘキシルオキシ)メチル−3−エチルオキセタン;CHOX)等が挙げられる。   Specifically, as a monomer having an oxetanyl group and having a refractive index lower than that of the base polymer, for example, a monofunctional oxetane (3- (cyclohexyloxy) methyl-3-ethyloxetane represented by the following formula (1): CHOX) and the like.

Figure 0005696538
Figure 0005696538

また、非感光性樹脂組成物71としては、例えば、後工程で形成されるコア部211よりも低い屈折率を有する前記ベースポリマーを主材料として含有するものを用いることができる。   Moreover, as the non-photosensitive resin composition 71, what contains the said base polymer which has a refractive index lower than the core part 211 formed in a post process as a main material, for example can be used.

なお、本実施形態では、これら感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物71により、光導波路20を形成するための光導波路形成用材料が構成される。   In the present embodiment, the photosensitive resin composition 70 and the non-photosensitive resin composition 71 constitute an optical waveguide forming material for forming the optical waveguide 20.

<2−2> 次に、シート材82を介在させた状態で、支持基板81上に、非感光性樹脂組成物71、感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物71が支持基板81側からこの順で積層された3層構成をなす、液状被膜75を形成する(第2の工程)。   <2-2> Next, the non-photosensitive resin composition 71, the photosensitive resin composition 70, and the non-photosensitive resin composition 71 are supported on the support substrate 81 with the sheet material 82 interposed therebetween. A liquid film 75 having a three-layer structure laminated in this order from the side is formed (second step).

なお、このような液状被膜75は、例えば、感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物70の双方をそれぞれワニス状(液状)とし、ワニス状とされたこれら材料(液状材料)を、個別にまたは一括してシート材82に供給することにより形成し得る。   In addition, such a liquid coating 75 makes each of the photosensitive resin composition 70 and the non-photosensitive resin composition 70 varnish (liquid), and these varnish-like materials (liquid materials), for example, It can be formed by supplying the sheet material 82 individually or collectively.

また、感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物71をワニス状とする際には、各樹脂組成物70、71をそれぞれ溶媒または分散媒中に溶解または分散させることにより得られるが、この溶媒または分散媒としては、特に限定されないが、例えば、特開2010−90328号公報に記載されたもの等が挙げられる。   Further, when the photosensitive resin composition 70 and the non-photosensitive resin composition 71 are varnished, each resin composition 70, 71 can be obtained by dissolving or dispersing in a solvent or a dispersion medium, The solvent or dispersion medium is not particularly limited, and examples thereof include those described in JP 2010-90328 A.

また、感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物71をクラッド層22上に供給する方法としては、各種塗布法を用いることができ、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、カーテンコート法を用いるのが好ましい。   Further, as a method for supplying the photosensitive resin composition 70 and the non-photosensitive resin composition 71 onto the cladding layer 22, various coating methods can be used, for example, a doctor blade method, a spin coating method, a dipping method, Examples of the method include a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, and a die coating method. The curtain coating method is preferably used.

カーテンコート法によれば、3種の液状材料を積層状態で供給することができるヘッドH1を用いることで、図3(a)に示すように、非感光性樹脂組成物71、感光性樹脂組成物70および非感光性樹脂組成物71がこの順で積層された状態で、支持基板81上に供給することができるため、3層構成をなす液状被膜75を容易に一括して形成することができる。その結果、液状被膜75を形成するための工程の簡略化を図ることができる。   According to the curtain coating method, by using the head H1 that can supply three kinds of liquid materials in a laminated state, as shown in FIG. 3A, the non-photosensitive resin composition 71, the photosensitive resin composition, Since the product 70 and the non-photosensitive resin composition 71 can be supplied on the support substrate 81 in a state of being laminated in this order, the liquid coating 75 having a three-layer structure can be easily formed collectively. it can. As a result, the process for forming the liquid film 75 can be simplified.

ここで、支持基板81は、後工程<3>において、光導波路20に欠損部28a、28bを形成し得るように、孔部83を備える構成となっている。そのため、シート材82を支持基板81に接合することなく、液状被膜75を支持基板81上に形成すると、液状被膜75の粘度等によっては、孔部83の内部に、液状被膜75の一部が漏出(埋入)してしまい、均一な膜厚の液状被膜75、ひいては均一な膜厚の光導波路20(特に、下側のクラッド層22)を形成することができないという問題が生じるおそれがある。これに対して、本発明では、孔部83を覆うようにシート材82が支持基板81に接合されている。そのため、液状被膜75と支持基板81との間にはシート材82が介在することから、孔部83への液状被膜75の漏出を確実に防止することができる。   Here, the support substrate 81 is configured to include the hole portion 83 so that the defect portions 28a and 28b can be formed in the optical waveguide 20 in the post-process <3>. Therefore, when the liquid film 75 is formed on the support substrate 81 without bonding the sheet material 82 to the support substrate 81, a part of the liquid film 75 is formed inside the hole 83 depending on the viscosity of the liquid film 75. Leakage (embedding) may cause a problem that the liquid film 75 having a uniform film thickness, and hence the optical waveguide 20 (particularly, the lower clad layer 22) having a uniform film thickness cannot be formed. . On the other hand, in the present invention, the sheet material 82 is bonded to the support substrate 81 so as to cover the hole 83. Therefore, since the sheet material 82 is interposed between the liquid film 75 and the support substrate 81, it is possible to reliably prevent the liquid film 75 from leaking into the hole 83.

さらに、本実施形態のように、支持基板81の上面のほぼ全面をシート材82で覆う構成とした場合、液状被膜75は、支持基板81に接することなく、シート材82上に形成されることとなる。したがって、かかる構成とした場合には、比較的その表面性状が粗い支持基板81を用いたとしても、均一な膜厚の光導波路20を確実に形成することができる。   Furthermore, when the substantially upper surface of the support substrate 81 is covered with the sheet material 82 as in this embodiment, the liquid coating 75 is formed on the sheet material 82 without contacting the support substrate 81. It becomes. Therefore, in such a configuration, even when the support substrate 81 having a relatively rough surface property is used, the optical waveguide 20 having a uniform film thickness can be reliably formed.

<2−3> 次に、支持基板81上に形成した3層構成をなす液状被膜75を乾燥することにより、図3(b)に示すように、クラッド層形成用フィルム73、コア層形成用フィルム72およびクラッド層形成用フィルム73がこの順で積層された光導波路形成用のフィルム(層)76を形成する(第3の工程)。   <2-3> Next, by drying the liquid film 75 having a three-layer structure formed on the support substrate 81, as shown in FIG. 3B, the clad layer forming film 73 and the core layer forming film are formed. An optical waveguide forming film (layer) 76 in which the film 72 and the clad layer forming film 73 are laminated in this order is formed (third step).

このフィルム76のうちコア層形成用フィルム72は、後述する感光用光(活性放射線)ELの照射により、コア部211とクラッド部212とを備えるコア層21となるものである。   Among the films 76, the core layer forming film 72 becomes the core layer 21 including the core part 211 and the clad part 212 by irradiation with photosensitive light (active radiation) EL described later.

また、クラッド層形成用フィルム73は、感光用光(活性放射線)ELの照射によっても、その屈折率が変化しないものであり、コア部211とクラッド部212とを備えるコア層21の形成により、クラッド層22としての機能を発揮するものである。   In addition, the refractive index of the clad layer forming film 73 does not change even when irradiated with photosensitive light (active radiation) EL. By forming the core layer 21 including the core part 211 and the clad part 212, The function as the cladding layer 22 is exhibited.

したがって、この3層構成をなすフィルム76により、光導波路形成用材料を含有する層が構成される。   Therefore, the film 76 having the three-layer structure forms a layer containing the optical waveguide forming material.

<2−4> 次に、フィルム76に所定の処理を施すことにより、光導波路20を形成する(第4の工程)。   <2-4> Next, the optical waveguide 20 is formed by performing a predetermined process on the film 76 (fourth step).

本実施形態では、この所定の処理は、コア層形成用フィルム72における、クラッド部212を形成すべき領域に対して、選択的に感光用光EL(例えば、紫外線)を照射することで行われる。   In the present embodiment, this predetermined processing is performed by selectively irradiating the region for forming the clad portion 212 in the core layer forming film 72 with photosensitive light EL (for example, ultraviolet rays). .

この際、図4(a)に示すように、コア層形成用フィルム72(フィルム76)の上方に形成すべきクラッド部212の形状に対応した開口部を備えるマスクMを配置する。このマスクMを介して、コア層形成用フィルム72に対し、感光用光ELを照射する。換言すれば、コア部211を形成すべき領域に対して、マスクMを用いてマスクする。   At this time, as shown in FIG. 4A, a mask M having an opening corresponding to the shape of the clad portion 212 to be formed above the core layer forming film 72 (film 76) is disposed. Through this mask M, the core layer forming film 72 is irradiated with the photosensitive light EL. In other words, the region where the core part 211 is to be formed is masked using the mask M.

用いられる感光用光ELとしては、例えば、波長200〜450nmの範囲にピーク波長を有するものが挙げられる。これにより、コア層形成用フィルム72の感光用光ELが照射された領域における屈折率を、比較的容易に低くすることができる。   Examples of the photosensitive light EL used include those having a peak wavelength in a wavelength range of 200 to 450 nm. Thereby, the refractive index in the area | region where the photosensitive light EL of the film 72 for core layer formation was irradiated can be made comparatively easily low.

また、感光用光ELの照射量は、特に限定されないが、0.1〜9J/cm程度であるのが好ましく、0.2〜6J/cm程度であるのがより好ましく、0.2〜3J/cm程度であるのがさらに好ましい。 The irradiation amount of the photosensitive optical EL is not particularly limited, and is preferably about 0.1~9J / cm 2, more preferably about 0.2~6J / cm 2, 0.2 More preferably, it is about ˜3 J / cm 2 .

なお、レーザ光のように指向性の高い感光用光ELを用いる場合には、マスクMの使用を省略することもできる。   Note that the use of the mask M can be omitted in the case where photosensitive light EL having high directivity such as laser light is used.

ここで、コア層形成用フィルム72のうち、感光用光ELが照射された照射領域では、モノマーの反応(ペースポリマーの架橋、モノマーの重合等)が開始する。また、感光用光ELが照射されていない未照射領域では、モノマーの反応は生じない。   Here, in the irradiation region of the core layer forming film 72 irradiated with the photosensitive light EL, monomer reaction (crosslinking of the pace polymer, polymerization of the monomer, etc.) starts. Further, no monomer reaction occurs in the non-irradiated region where the photosensitive light EL is not irradiated.

そのため、照射領域では、モノマーの反応の進行に応じて、モノマーの残存量が少なくなる。これに応じて、未照射領域のモノマーが照射領域側に拡散し、これにより、照射領域と未照射領域とで屈折率差が生じる。   Therefore, in the irradiation region, the remaining amount of monomer decreases as the reaction of the monomer proceeds. In response, the monomer in the unirradiated region diffuses toward the irradiated region, thereby causing a refractive index difference between the irradiated region and the unirradiated region.

ここで、本実施形態では、モノマーの屈折率が、ベースポリマーの屈折率よりも低いため、未照射領域のモノマーが照射領域に拡散することで、照射領域の屈折率が連続的に低くなるとともに、未照射領域の屈折率は連続的に高くなる。   Here, in this embodiment, since the refractive index of the monomer is lower than the refractive index of the base polymer, the monomer in the unirradiated region diffuses into the irradiated region, so that the refractive index of the irradiated region continuously decreases. The refractive index of the unirradiated region is continuously increased.

かかる過程を経て、図4(b)に示すように、コア層形成用フィルム72の未照射領域が、コア部211となり、コア層形成用フィルム72の照射領域がクラッド部212となったコア層21が形成される。   Through this process, as shown in FIG. 4B, the unirradiated region of the core layer forming film 72 becomes the core portion 211, and the irradiated region of the core layer forming film 72 becomes the cladding portion 212. 21 is formed.

また、クラッド層形成用フィルム73は、感光用光ELの照射によってもその屈折率に変化が認められず、さらに、コア部211よりも低い屈折率を有するベースポリマーを主材料としているため、このクラッド層形成用フィルム73により、クラッド層22が構成される。   In addition, since the clad layer forming film 73 has no change in the refractive index even when irradiated with the photosensitive light EL, and the base material having a lower refractive index than that of the core portion 211 is used as a main material, The clad layer 22 is constituted by the clad layer forming film 73.

したがって、一対のクラッド層22は、クラッド部212とは異なる方向すなわちコア部211の上下方向から、コア部211を挟むように配置される構成となるため、図4(b)に示すような光導波路20が形成される。   Accordingly, the pair of clad layers 22 are arranged so as to sandwich the core portion 211 from a direction different from that of the clad portion 212, that is, from the vertical direction of the core portion 211, and therefore, as shown in FIG. A waveguide 20 is formed.

以上のようにて、シート材82を介して支持基板81上に光導波路20が形成された光導波路基板2を製造されるが、上記のような工程を経ることで、支持基板81上に直接、光導波路20を作り込むことができる。そのため、ダミー基板上に光導波路20を作製し、その後、ダミー基板から剥離させた光導波路20を支持基板81上に貼り合わせて光導波路基板2を得る場合と比較して製造工程の簡略化を図ることができる。   As described above, the optical waveguide substrate 2 in which the optical waveguide 20 is formed on the support substrate 81 is manufactured through the sheet material 82. However, the optical waveguide substrate 2 is directly formed on the support substrate 81 through the above-described steps. The optical waveguide 20 can be formed. Therefore, the manufacturing process is simplified compared with the case where the optical waveguide 20 is manufactured on the dummy substrate, and then the optical waveguide 20 separated from the dummy substrate is bonded to the support substrate 81 to obtain the optical waveguide substrate 2. Can be planned.

<3> 次に、シート材82と光導波路20との一部を除去することにより欠損部28a、28bを形成する(第5の工程)。   <3> Next, the defective parts 28a and 28b are formed by removing a part of the sheet material 82 and the optical waveguide 20 (fifth step).

より具体的には、本実施形態では、欠損部28a、28bは、シート材82の下面から下側のクラッド層22およびコア層21(コア部211)を超えて、上側のクラッド層22に至るまでの部分を欠損(除去)させることにより形成される。   More specifically, in the present embodiment, the missing portions 28 a and 28 b extend from the lower surface of the sheet material 82 to the upper cladding layer 22 beyond the lower cladding layer 22 and the core layer 21 (core portion 211). It is formed by deleting (removing) the previous part.

このような、欠損部28a、28bの形成は、例えば、光導波路20に、レーザ加工、研削加工等を施すことで行われる。   Such formation of the defect portions 28a and 28b is performed, for example, by subjecting the optical waveguide 20 to laser processing, grinding processing, or the like.

そこで、例えば、レーザ加工により、欠損部28a、28bを形成する場合、本発明では、上述したように、光導波路20およびシート材82の欠損部28a、28bを形成すべき領域を包含するように孔部83が設けられている。そのため、レーザ装置が備えるヘッドH2を、図5(a)に示すように、支持基板81下側の孔部83に対応する位置に配置することで、レーザを、孔部83を介してシート材82および光導波路20に直接照射することが可能となる。したがって、支持基板81上に、光導波路20を直接作り込んでいたとしても、容易に欠損部28a、28bを形成することができる(図5(b)参照。)。   Therefore, for example, when the defect portions 28a and 28b are formed by laser processing, the present invention includes the regions where the optical waveguide 20 and the defect portions 28a and 28b of the sheet material 82 are to be formed as described above. A hole 83 is provided. Therefore, as shown in FIG. 5A, the head H <b> 2 provided in the laser device is disposed at a position corresponding to the hole 83 below the support substrate 81, so that the laser is transmitted through the hole 83 to the sheet material. 82 and the optical waveguide 20 can be directly irradiated. Therefore, even if the optical waveguide 20 is directly formed on the support substrate 81, the defect portions 28a and 28b can be easily formed (see FIG. 5B).

なお、シート材82の下面には、欠損部28a、28bを形成すべき位置に、予めアライメントマークを付すようにしてもよい。これにより、たとえシート材82が透明性を有しない材料で構成されていたとしても、位置ずれを生じることなく、シート材82および光導波路20の一部を除去して、欠損部28a、28bを形成することができるようになる。   It should be noted that an alignment mark may be provided in advance on the lower surface of the sheet material 82 at a position where the missing portions 28a and 28b are to be formed. Thereby, even if the sheet material 82 is made of a material having no transparency, the sheet material 82 and a part of the optical waveguide 20 are removed without causing displacement, and the defective portions 28a and 28b are formed. Can be formed.

<4> 次に、配線基板3を用意する。
配線基板3は、それぞれ、例えば、平板状の基部の両面に金属層が形成された積層板(例えば、両面銅張り板)を用意し、エッチング、レーザ加工等を施して、金属層を所定形状にパターニングして配線部を形成することにより製造される。
<4> Next, the wiring board 3 is prepared.
For each wiring board 3, for example, a laminated board (for example, a double-sided copper-clad board) in which a metal layer is formed on both sides of a flat base is prepared, and subjected to etching, laser processing, etc., so that the metal layer has a predetermined shape. It is manufactured by patterning to form a wiring part.

<5> 次に、発光素子4および発光素子用IC40と、受光素子5および受光素子用IC50とを、それぞれ用意し、これらを配線基板3の所定の位置に搭載(接合)する。   <5> Next, the light-emitting element 4 and the light-emitting element IC 40, the light-receiving element 5 and the light-receiving element IC 50 are respectively prepared and mounted (bonded) at predetermined positions on the wiring board 3.

<6> 次に、発光素子4が有する発光部が欠損部28aのミラー23aに、受光素子5が有する受光部が欠損部28bのミラー23bにそれぞれ対応するように、配線基板3を位置決めしつつ、光導波路20の上面に接着剤を用いて接合する。   <6> Next, while positioning the wiring board 3 such that the light emitting part of the light emitting element 4 corresponds to the mirror 23a of the missing part 28a, and the light receiving part of the light receiving element 5 corresponds to the mirror 23b of the missing part 28b. The upper surface of the optical waveguide 20 is bonded using an adhesive.

以上のような工程を経て、光電気混載基板1が製造される。
なお、本実施形態では、ベースポリマーよりも屈折率の低いモノマーを含有する樹脂組成物を用いて、コア部211とクラッド部212とを備えるコア層21を形成する場合について説明したが、かかる場合に限定されず、ベースポリマーよりも屈折率の高いモノマーを含有する樹脂組成物を用いて、前記コア層21を形成するようにしてもよい。
The opto-electric hybrid board 1 is manufactured through the steps as described above.
In the present embodiment, the case where the core layer 21 including the core part 211 and the clad part 212 is formed using a resin composition containing a monomer having a refractive index lower than that of the base polymer has been described. The core layer 21 may be formed using a resin composition containing a monomer having a higher refractive index than that of the base polymer.

このような樹脂組成物を用いる場合、感光用光ELの照射によりモノマーが拡散するコア層形成用フィルム72の照射領域において、コア層形成用フィルム72の未照射領域よりも屈折率が高くなる。そのため、かかる形態では、コア層形成用フィルム72の照射領域および未照射領域がそれぞれコア部211およびクラッド部212となったコア層21が形成される。   When such a resin composition is used, the refractive index in the irradiated region of the core layer forming film 72 where the monomer diffuses by irradiation with the photosensitive light EL is higher than that in the unirradiated region of the core layer forming film 72. Therefore, in such a form, the core layer 21 is formed in which the irradiated region and the non-irradiated region of the core layer forming film 72 become the core part 211 and the clad part 212, respectively.

<第2実施形態>
次に、光電気混載基板の第2実施形態について説明する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the opto-electric hybrid board will be described.

図6は、光電気混載基板の第2実施形態の概略を示す縦断面図、図7は、図6に示す光電気混載基板が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。なお、以下の説明では、図6中の上側を「上」といい、下側を「下」という。また、図7中には、シート材上に接合される光導波路を二点鎖線で示している。さらに、図7中のハッチングは、支持基板とシート材との違いを分かり易く示すためにシート材に入れたものであり、断面を示すものではない。 FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing an outline of the second embodiment of the opto-electric hybrid board , and FIG. 7 is a plan view showing a support substrate and a sheet material provided in the opto-electric hybrid board shown in FIG. In the following description, the upper side in FIG. 6 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”. Moreover, in FIG. 7, the optical waveguide joined on a sheet | seat material is shown with the dashed-two dotted line. Furthermore, the hatching in FIG. 7 is included in the sheet material for easy understanding of the difference between the support substrate and the sheet material, and does not indicate a cross section.

以下、本実施形態にかかる光電気混載基板1について説明するが、前記第1実施形態にかかる光電気混載基板1との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although the opto-electric hybrid board 1 according to the present embodiment will be described, differences from the opto-electric hybrid board 1 according to the first embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

本実施形態にかかる光電気混載基板1は、孔部83を覆うように支持基板81に接合されたシート材82の平面視形状が異なること以外は、前記第1実施形態と同様である。   The opto-electric hybrid board 1 according to the present embodiment is the same as that of the first embodiment except that the shape of the sheet material 82 joined to the support substrate 81 so as to cover the hole 83 is different.

図6、7に示すシート材82は、その平面視形状が、孔部83の平面視形状とほぼ一致するように形成され、孔部83に対して選択的に設けられている。そして、図6に示すように、孔部83の上側に偏在させることで、支持基板81の上面とシート材82の上面とにより平坦面が構成される。   The sheet material 82 shown in FIGS. 6 and 7 is formed so that the planar view shape thereof substantially matches the planar view shape of the hole 83, and is provided selectively with respect to the hole 83. As shown in FIG. 6, a flat surface is formed by the upper surface of the support substrate 81 and the upper surface of the sheet material 82 by being unevenly distributed above the hole 83.

かかる構成のシート材82を支持基板81に接合することによっても、前記第1実施形態で説明したのと同様に、シート材82を設けることによる作用・効果を得ることができる。   Also by joining the sheet material 82 having such a configuration to the support substrate 81, the operation and effect obtained by providing the sheet material 82 can be obtained in the same manner as described in the first embodiment.

すなわち、前記工程<2−2>において、液状被膜75の一部が孔部83に漏出するのを防止して、均一な膜厚の光導波路20を形成することが可能となるとともに、前記工程<3>における孔部83を介した欠損部28a、28bの形成が実現可能となる。   That is, in the step <2-2>, it is possible to prevent a part of the liquid coating 75 from leaking into the hole 83 and form the optical waveguide 20 with a uniform film thickness. Formation of the defect | deletion parts 28a and 28b via the hole 83 in <3> is realizable.

<第3実施形態>
次に、光電気混載基板の第3実施形態について説明する。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the opto-electric hybrid board will be described.

図8は、光電気混載基板の第3実施形態が備える支持基板とシート材とを示す平面図である。なお、以下の説明では、図8中の紙面手前側を「上」といい、紙面奥側を「下」という。また、図8中には、シート材上に接合される光導波路を二点鎖線で示している。 FIG. 8 is a plan view showing a support substrate and a sheet material provided in the third embodiment of the opto-electric hybrid board . In the following description, the front side of the paper in FIG. 8 is referred to as “upper”, and the rear side of the paper is referred to as “lower”. Moreover, in FIG. 8, the optical waveguide joined on a sheet | seat material is shown with the dashed-two dotted line.

以下、本実施形態にかかる光電気混載基板1について説明するが、前記第1実施形態にかかる光電気混載基板1との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although the opto-electric hybrid board 1 according to the present embodiment will be described, differences from the opto-electric hybrid board 1 according to the first embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

本実施形態にかかる光電気混載基板1は、支持基板81に形成される孔部83の構成が異なること以外は、前記第1実施形態と同様である。   The opto-electric hybrid board 1 according to the present embodiment is the same as the first embodiment except that the configuration of the hole 83 formed in the support substrate 81 is different.

図8に示す支持基板81では、孔部83が平面視でほぼ正方形状に形成され、この孔部83が8つ設けられ、各欠損部28a、28bに対応するように別個に形成されている。   In the support substrate 81 shown in FIG. 8, the hole 83 is formed in a substantially square shape in a plan view, and eight holes 83 are provided, and are formed separately so as to correspond to the respective defective portions 28a and 28b. .

かかる構成の孔部83を備える支持基板81においても、前記第1実施形態で説明したのと同様に、シート材82を支持基板81に設けることによる作用・効果を得ることができる。   Also in the support substrate 81 including the hole 83 having such a configuration, it is possible to obtain the operation and effect by providing the sheet material 82 on the support substrate 81 as described in the first embodiment.

すなわち、前記工程<2−2>において、液状被膜75の一部が孔部83に漏出するのを防止して、均一な膜厚の光導波路20を形成することが可能となるとともに、前記工程<3>における孔部83を介した欠損部28a、28bの形成が実現可能となる。   That is, in the step <2-2>, it is possible to prevent a part of the liquid coating 75 from leaking into the hole 83 and form the optical waveguide 20 with a uniform film thickness. Formation of the defect | deletion parts 28a and 28b via the hole 83 in <3> is realizable.

なお、欠損部28a、28bの平面視における形状は、特に限定されず、本実施形態のように正方形状なす場合の他、例えば、真円、楕円、長円のような円形状、三角形、長方形、六角形、八角形のような多角形状をなすものであってもよい。   In addition, the shape in plan view of the defect portions 28a and 28b is not particularly limited, and other than the case where it is a square shape as in the present embodiment, for example, a circular shape such as a perfect circle, an ellipse, an ellipse, a triangle, a rectangle It may be a polygonal shape such as a hexagon or an octagon.

光電気混載基板は、光信号と電気信号の双方の信号処理を行ういかなる電子機器にも適用可能であるが、例えば、ルータ装置、WDM装置、携帯電話、ゲーム機、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類への適用が好適である。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が光電気混載基板を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消されるため、その性能の飛躍的な向上が期待できる。 The opto-electric hybrid board can be applied to any electronic device that performs signal processing of both optical signals and electric signals. For example, a router device, a WDM device, a mobile phone, a game machine, a personal computer, a television, and a home server. Application to electronic devices such as these is preferable. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the opto-electric hybrid board , problems such as noise and signal degradation peculiar to the electric wiring are eliminated, and a dramatic improvement in performance can be expected.

さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、基板内の集積度が高められるとともに、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。   In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the degree of integration in the substrate can be increased, the power required for cooling can be reduced, and the power consumption of the entire electronic device can be reduced.

以上、本発明の光電気混載基板の製造方法の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。 As mentioned above, although embodiment of the manufacturing method of the opto-electric hybrid board | substrate of this invention was described, this invention is not limited to this.

例えば、光電気混載基板を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。   For example, each part constituting the opto-electric hybrid board can be replaced with any part having a similar function. Moreover, arbitrary components may be added.

また、光電気混載基板では、前記第1〜第3実施形態の任意の構成を組み合わせることもできる。 Further, in the opto-electric hybrid board , any configuration of the first to third embodiments can be combined.

また、前記各実施形態では、コア部およびの縦断面形状が四角形状をなしている場合について示したが、これに限定されない。コア部の縦断面形状は、楕円形、長円形、三角形等であってもよい。   In each of the above embodiments, the case where the longitudinal cross-sectional shape of the core portion and the core portion are rectangular has been described, but the present invention is not limited to this. An elliptical shape, an oval shape, a triangular shape, etc. may be sufficient as the longitudinal cross-sectional shape of a core part.

1 光電気混載基板
2 光導波路基板
20 光導波路
21 コア層
211 コア部
212 クラッド部
22 クラッド層
23a、23b ミラー
28a、28b 欠損部
3 配線基板
4 発光素子
41 素子本体
42 バンプ
40 発光素子用IC
401 素子本体
402 バンプ
5 受光素子
51 素子本体
52 バンプ
50 受光素子用IC
501 素子本体
502 バンプ
70 感光性樹脂組成物
71 非感光性樹脂組成物
72 コア層形成用フィルム
73 クラッド層形成用フィルム
75 液状被膜
76 フィルム
81 支持基板
82 シート材
83 孔部
H1 ヘッド
H2 ヘッド
M マスク
L 光
EL 感光用光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Opto-electric hybrid board 2 Optical waveguide board 20 Optical waveguide 21 Core layer 211 Core part 212 Clad part 22 Clad layer 23a, 23b Mirror 28a, 28b Defect part 3 Wiring board 4 Light emitting element 41 Element main body 42 Bump 40 Light emitting element IC
401 Element body 402 Bump 5 Light receiving element 51 Element body 52 Bump 50 Light receiving element IC
501 Element body 502 Bump 70 Photosensitive resin composition 71 Non-photosensitive resin composition 72 Core layer forming film 73 Clad layer forming film 75 Liquid coating 76 Film 81 Support substrate 82 Sheet material 83 Hole H1 head H2 head M mask L light EL light for light exposure

Claims (2)

レーザ光を透光させるための孔部を備える支持基板と、シート状をなすシート材とを用意し、前記孔部を覆うように前記シート材を前記支持基板に接合する第1の工程と、
光導波路を形成するための光導波路形成用材料を含有する液状材料を塗布法を用いて、前記シート材を介在させた状態で、前記支持基板上に供給することで液状被膜を形成する第2の工程と、
前記液状被膜を乾燥させて、前記光導波路形成用材料を含む層を成膜する第3の工程と、
該層に所定の処理を施すことにより前記光導波路を形成する第4の工程と
前記孔部を介して前記シート材と前記光導波路との一部を前記レーザ光を用いて除去することにより、光路の方向を変更する光路変更ミラーを含む欠損部を形成するとともに、発光素子および受光素子が搭載された配線基板を、前記光導波路上に接合する第5の工程とを有することを特徴とする光電気混載基板の製造方法。
A first step of preparing a support substrate including a hole for transmitting laser light and a sheet material in a sheet shape, and bonding the sheet material to the support substrate so as to cover the hole;
A liquid film is formed by supplying a liquid material containing an optical waveguide forming material for forming an optical waveguide onto the support substrate in a state where the sheet material is interposed using a coating method. And the process of
A third step of drying the liquid film to form a layer containing the optical waveguide forming material;
A fourth step of forming the optical waveguide by applying a predetermined treatment to the layer ;
A part of the sheet material and the optical waveguide is removed using the laser light through the hole portion, thereby forming a defect portion including an optical path changing mirror that changes the direction of the optical path, and a light emitting element and And a fifth step of bonding a wiring board on which the light receiving element is mounted on the optical waveguide .
前記第2の工程において、光導波路形成用材料は、ポリマーと、該ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含み、前記層に対して活性放射線を照射して、前記活性放射線が照射された照射領域内において、前記モノマーの反応を進行させることにより、前記活性放射線が照射されない未照射領域から、未反応の前記モノマーを前記照射領域に拡散させ、結果として、前記照射領域と前記未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、前記照射領域および前記未照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記コア部よりも屈折率が低い前記クラッド部としてなるコア層を備える前記光導波路が形成される請求項に記載の光電気混載基板の製造方法。 In the second step, the optical waveguide forming material includes a polymer and a monomer having a refractive index different from that of the polymer. The irradiation region is irradiated with the active radiation and irradiated with the active radiation. In the above, by allowing the reaction of the monomer to proceed, the unreacted monomer is diffused into the irradiated region from the unirradiated region that is not irradiated with the actinic radiation, and as a result, the irradiated region and the unirradiated region By providing a difference in refractive index between them, one of the irradiated region and the non-irradiated region is used as the core portion, and the other is provided with a core layer serving as the cladding portion having a refractive index lower than that of the core portion. The method for manufacturing an opto-electric hybrid board according to claim 1 , wherein an optical waveguide is formed.
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