JP5684973B2 - 排ガス浄化用触媒及びそれを用いた排ガス浄化方法 - Google Patents
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Description
第2多孔質担体及び前記第2多孔質担体に担持された第2貴金属を備え、前記第2貴金属が少なくともRhを含有し、前記第2貴金属中の前記Rhの含有量が前記第2貴金属の総量に対して50質量%を超えており、且つ、NOx吸蔵材の担持量が前記第2多孔質担体100gに対して0.03mol以下である第2触媒粉末と、
第3多孔質担体、前記第3多孔質担体に担持された第3貴金属及び前記第3多孔質担体に担持されたNOx吸蔵材を備え、前記第3貴金属が少なくともPdを含有し、前記Pdの担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.05g以上であり、且つ、前記NOx吸蔵材の担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.03molを超えている第3触媒粉末と、
を備え、
前記第1触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して5〜40質量%であり、前記第2触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して5〜40質量%であり、且つ、前記第3触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して50〜90質量%であることを特徴とするものである。
(A)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末に排ガスが接触した後に前記第2触媒粉末及び前記第3触媒粉末に排ガスが接触するように配置されていること、
(B)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第2触媒粉末、前記第3触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること、
(C)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第3触媒粉末、前記第2触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること。
のうちのいずれかの条件を満たすことが好ましい。
(第1ステップ)排ガス中のNOが主にPt上によりNO2へ酸化される。
(第2ステップ)酸性物質であるNO2が塩基性物質であるNOx吸蔵材に吸蔵される。
(第3ステップ)短時間のパルス状に導入される空燃比リッチ時(リッチスパイク)によって酸素濃度が低下し、NOx吸蔵材からNOxが放出される。
(第4ステップ)放出されたNOxが主にRh上でCOやHC等の還元性ガスと反応し、N2に還元されて浄化される。
第2多孔質担体及び前記第2多孔質担体に担持された第2貴金属を備え、前記第2貴金属が少なくともRhを含有し、前記第2貴金属中の前記Rhの含有量が前記第2貴金属の総量に対して50質量%を超えており、且つ、NOx吸蔵材の担持量が前記第2多孔質担体100gに対して0.03mol以下である第2触媒粉末と、
第3多孔質担体、前記第3多孔質担体に担持された第3貴金属及び前記第3多孔質担体に担持されたNOx吸蔵材を備え、前記第3貴金属が少なくともPdを含有し、前記Pdの担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.05g以上であり、且つ、前記NOx吸蔵材の担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.03molを超えている第3触媒粉末と、
を備えることを特徴とするものである。
(A)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末に排ガスが接触した後に前記第2触媒粉末及び前記第3触媒粉末に排ガスが接触するように配置されていること、
(B)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第2触媒粉末、前記第3触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること、
(C)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第3触媒粉末、前記第2触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること。
のうちのいずれかの条件を満たすことが好ましい。すなわち、本発明においては、排ガス浄化用触媒に排ガスを接触させる際に最初に第1触媒粉末に排ガスが接触するように、第1〜第3触媒粉末を配置することが好ましい。このように第1触媒粉末に最初に排ガスが接触するように各触媒粉末を配置することにより、排ガスを浄化する際に第1触媒粉末が排ガス中のNOをより効率よく酸化できるため、NO2を第2及び第3触媒粉末に効率よく接触させることが可能となる。そのため、前述の排ガス浄化過程の第1〜第4ステップをより効率よく促進させることが可能となる。
先ず、Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)90g及び四塩化チタンとオキシ硝酸ジルコニウムを用いて共沈法により調製したTiO2−ZrO2複合酸化物(平均粒子径20μm、各成分の重量比(TiO2:ZrO2)が30:70)90gの混合物からなる第3多孔質担体180gをイオン交換水中に分散させて分散液を得た。次に、前記分散液中に硝酸Pd溶液を添加した後、溶媒を蒸発させて得られた固形分を大気中400℃の温度条件で焼成することにより、前記第3多孔質担体180gにPdが0.5g担持されてPd担持粉末を得た。次に、得られたPd担持粉末の全量を0.2molの酢酸Baを含有する水溶液中に添加し、得られた混合物を100℃に加熱して混合物中から水分を除去し、次いで、得られた固形分を大気中400℃の温度条件で焼成して前記第3多孔質担体にBaとPdとが担持された第3触媒粉末220gを得た。
先ず、Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)90g及び四塩化チタンとオキシ硝酸ジルコニウムを用いて共沈法により調製したTiO2−ZrO2複合酸化物(平均粒子径20μm、各成分の重量比(TiO2:ZrO2)が30:70)90gの混合物からなる第3多孔質担体180gと、硝酸セリウムと硝酸アルミニウムを用いて共沈法により調製したCeO2−Al2O3複合酸化物(平均粒子径20μm、各成分の重量比(CeO2:Al2O3)が25:75)からなる第1多孔質担体40gと、ZrO2(第一稀元素社製の商品名「RC−100」、平均粒子径2μm)50gからなる第2多孔質担体にRhが1.0質量%担持されたRh担持粉末(第2触媒粉末)とを混合してスラリーを調製した。次に、前記スラリーを直径30mm、長さ25mm(容量:17.5cc)のコージェライト製のモノリス基材にコートして、モノリス基材の表面上に触媒層を形成せしめた。なお、かかる触媒層を形成させる際には、触媒層の担持量がモノリス基材の容量1Lあたり270g/Lとなるようにして前記スラリーを前記基材にコートした。次に、前記触媒層が形成されたモノリス基材に対して酢酸Baを含有する水溶液を、モノリス基材1LあたりのBaの担持量が0.2mol/Lとなるようにして含浸担持し、大気中400℃の温度条件で焼成して前記触媒層の全域にBaを担持した。次いで、前記触媒層が形成されたモノリス基材に対して、ジニトロジアンミンPt硝酸溶液を、モノリス基材1LあたりのPtの担持量が2.0g/Lとなるようにして含浸担持した後、大気中400℃の温度条件で焼成して前記触媒層の全域にPtを担持し、1層構造の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lであった。このようにして得られた排ガス浄化用触媒中の構成元素等を表1及び表2に示す。
触媒層に担持するPtの量をモノリス基材1Lあたり1.5g/Lとし、更に硝酸Pd溶液を用いてPdの担持量がモノリス基材1Lあたり0.5g/Lとなるようにして触媒層の全域にPdを担持した以外は、比較例1と同様にして1層構造の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表1及び表2に示す。
先ず、Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)90g及び四塩化チタンとオキシ硝酸ジルコニウムを用いて共沈法により調製したTiO2−ZrO2複合酸化物(平均粒子径20μm)、各成分の重量比(TiO2:ZrO2)が30:70)90gの混合物からなる第3多孔質担体180gと、ZrO2(第一稀元素社製の商品名「RC−100」、平均粒子径2μm)50gからなる第2多孔質担体にRhが1.0質量%担持されたRh担持粉末からなる第2触媒粉末とを混合してスラリー(III)を調製した。次に、スラリー(III)を直径30mm、長さ25mm(容量:17.5cc)のコージェライト製のモノリス基材にコートして、モノリス基材の表面上に触媒層を形成せしめた。なお、触媒層を形成させる際には、触媒層の担持量がモノリス基材の容量1Lあたり230g/Lとなるようにして前記スラリー(III)を前記基材にコートした。次いで、前記触媒層が形成されたモノリス基材に対して酢酸Baを含有する水溶液を、モノリス基材1LあたりのBaの担持量が0.2mol/Lとなるようにして含浸担持し、大気中400℃の温度条件で焼成して、触媒層の全体にBaを担持せしめて、モノリス基材上に触媒層(C)を製造した。
第3多孔質担体に対してPdを担持せず、Ptの担持量を1.5g/Lから2.0g/Lに変更した以外は実施例1と同様にして、モノリス基材上にPtとBaが担持された第3多孔質担体からなる触媒粉末(Pdなし)と前記第2触媒粉末(Rh担持粉末)により形成された触媒層(E)を製造し且つその上層に第1触媒粉末からなる触媒層(F)を製造して、モノリス基材上に触媒層(E)と触媒層(F)とが積層された形態の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表1及び表2に示す。
〈高温耐久試験(1)〉
実施例1及び比較例1〜4で得られた排ガス浄化用触媒を用い、各触媒に対して、それぞれ750℃の温度条件下において、表3に示す組成のリーンガス及びリッチガスをリーン/リッチ=110秒/10秒の間隔で変動させながら5時間流通させる高温耐久試験(1)を行った。
上記高温耐久試験(1)後の実施例1及び比較例1〜4で得られた排ガス浄化用触媒を用い、各触媒に対して、380℃の温度条件下において表4に示す硫黄被毒処理(S被毒処理)用のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=40秒/5秒の間隔で変動させながら30L/minの流量で40分間流通させ、触媒1Lあたり硫黄として1.5g/L相当のSO2を供給してS被毒処理を行った。次いで、S被毒処理後の各触媒に対して、580℃の温度条件下において、表4に示す組成のS再生処理用(S再生)のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=5秒/5秒の間隔で変動させながら30L/minの流量で10分間流通させて、被毒した硫黄を脱離させ、触媒の再生処理を行った。
硫黄被毒耐久試験(1)後の実施例1及び比較例1〜4で得られた排ガス浄化用触媒を用い、各触媒に対して、300℃の温度条件下において、表5に示す組成のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=40秒/3秒の間隔で変動させながら30L/minの流量で流通させ、定常状態におけるNOx浄化率を測定した。なお、測定時の空間速度(SV)は51400h−1とした。また、NOx浄化率は、各触媒について、それぞれ触媒に接触する前後のガス中に含有されるNOxの濃度を測定し、そのNOx濃度の値に基づいて求めた。得られた結果を図1に示す。
CeO2−Al2O3複合酸化物40gの代わりにAl2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)20g及び四塩化チタンとオキシ硝酸ジルコニウムを用いて共沈法により調製したTiO2−ZrO2複合酸化物(平均粒子径20μm)20gの混合物を第1多孔質担体として用いたこと以外は実施例1と同様にして、モノリス基材上に、下層として第2触媒粉末と第3触媒粉末とからなる触媒層(G)を製造し且つその上層に第1触媒粉末からなる触媒層(H)を製造して、モノリス基材上に触媒層(G)と触媒層(H)とが積層された形態の排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表6及び表7に示す。
CeO2−Al2O3複合酸化物40gを含有するスラリー(II)を触媒層(C)上にコートせず、触媒層(C)に対して直接ジニトロジアンミンPt硝酸溶液を用いてPtの担持量がモノリス基材1Lあたり2.0g/LとなるようにしてPtを担持した以外は比較例3と同様の方法を採用して、1層構造の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は270g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表6及び表7に示す。
CeO2−Al2O3複合酸化物40gを含有するスラリー(II)の変わりに、Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)20g及び四塩化チタンとオキシ硝酸ジルコニウムを用いて共沈法により調製したTiO2−ZrO2複合酸化物(平均粒子径20μm)20gの混合物からなる第1多孔質担体40gのスラリー(IV)を用いた以外は、比較例3と同様にして、モノリス基材上に下層として触媒層(C)と同様の構成の触媒層(I)を製造し且つその上層に第1触媒粉末からなる触媒層(J)を製造して、モノリス基材上に触媒層(I)と触媒層(J)とが積層された形態の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表6及び表7に示す。
第3多孔質担体にPdを担持せず、Pt担持量をモノリス基材1Lあたり1.5g/Lから2.0g/Lへ変更したこと以外は実施例2と同様にして、モノリス基材上にPtとBaが担持された第3多孔質担体からなる触媒粉末(Pdなし)と前記第2触媒粉末(Rh担持粉末)とからなる触媒層(K)を製造し且つその上層に第1触媒粉末からなる触媒層(L)を製造して、モノリス基材上に触媒層(K)と触媒層(L)とが積層された形態の比較のための排ガス浄化用触媒を得た。なお、Baを含めた触媒層の総コート量は310g/Lである。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表6及び表7に示す。
〈NOx浄化試験(2)〉
先ず、実施例2及び比較例5〜7で得られた排ガス浄化用触媒に対して、それぞれ前述の高温耐久試験(1)と前述の硫黄被毒耐久試験(1)と同様の試験を順次実施した。そして、高温耐久試験(1)及び硫黄被毒耐久試験(1)を実施した後の実施例2及び比較例5〜7で得られた排ガス浄化用触媒に対して、前述のNOx浄化試験(1)と同様の試験を行ってNOx浄化率を測定した。得られた結果を図2に示す。
Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)100gにイオン交換水1Lを加えて攪拌することにより分散液を得た後、前記分散液中にPtを金属換算で1g含むジニトロジアンミンPt溶液を加え、水分を取り除くことにより、Ptが担持されたAl2O3からなるPt/Al2O3粉末を調製した。
Al2O3(WRグレース社製の商品名「MI386」、平均粒子径22μm)100gにイオン交換水1Lを加えて攪拌することにより分散液を得た後、前記分散液中にPdを金属換算で0.7g含む硝酸Pd溶液を加え、水分を取り除くことにより、Pdが担持されたAl2O3からなるPd/Al2O3粉末を調製した。
ZrO2(第一稀元素社製の商品名「RC−100」、平均粒子径2μm)100gにイオン交換水1Lを加えて攪拌することにより分散液を得た後、前記分散液中にRhを金属換算で1g含む硝酸Rh溶液を加え、水分を取り除くことにより、Rhが担持されZrO2からなるRh/ZrO2粉末を調製した。
調製例1で得られたPt/Al2O3粉末100gをイオン交換水1L中に加えて攪拌することにより分散液を得た後、Baの担持量が担体(Al2O3)1g当たり0.4mmolとなり且つKの担持量が担体(Al2O3)1g当たり0.8mmolとなるようにして、前記分散液中に酢酸Ba溶液及び酢酸K溶液を加え、水分を取り除くことにより、Pt/Al2O3粉末にBaとKとが担持されたBaK/Pt/Al2O3粉末を得た。 (調製例5:BaK/Pd/Al2O3粉末の調製)
調製例1で得られたPt/Al2O3粉末100gの代わりに、調製例2で得られたPd/Al2O3粉末100gを用いた以外は調製例4と同様にして、Pd/Al2O3粉末にBaと担体Kとが担持されたBaK/Pd/Al2O3粉末を得た。
調製例3で得られたRh/ZrO2粉末100gをイオン交換水1L中に加えて攪拌することにより分散液を得た後、Baの担持量が担体(ZrO2)1g当たり0.2mmolとなり且つKの担持量が担体(ZrO2)1g当たり0.4mmolとなるようにして、前記分散液中に酢酸Ba溶液及び酢酸K溶液を加え、水分を取り除くことにより、Rh/ZrO2粉末にBaとKとが担持されたBaK/Rh/ZrO2粉末を得た。
先ず、調製例1で得られたPt/Al2O3粉末50gを第1触媒粉末として用い、調製例3で得られたRh/ZrO2粉末50gを第2触媒粉末として用い、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末100g及び調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末70gの混合物を第3触媒粉末として用いるため、これらの粉末をそれぞれ前述の重量となるようにして測り取り、乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。なお、各粉末の重量は全て担体の重量に換算した値である(以下の実施例4〜5及び比較例8〜12においても同様である。)。次に、このようにして得られた混合粉末を約1000kgf/cm2で圧粉成型し、破砕、整粒して0.5〜1.0mmのペレットとし、ペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例1で得られたPt/Al2O3粉末38gと調製例2で得られたPd/Al2O3粉末12gとの混合物を第1触媒粉末として用い、調製例3で得られたRh/ZrO2粉末50gを第2触媒粉末として用い、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末112gと調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末58gとの混合物を第3触媒粉末として用いるため、これらの粉末をそれぞれ前述の重量となるようにして測り取り、乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にしてペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例1で得られたPt/Al2O3粉末25gと調製例2で得られたPd/Al2O3粉末25gとの混合物を第1触媒粉末として用い、調製例3で得られたRh/ZrO2粉末50gを第2触媒粉末として用い、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末125gと調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末45gとの混合物を第3触媒粉末として用いるため、これらの粉末をそれぞれ前述の重量となるようにして測り取り、乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にしてペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例1で得られたPt/Al2O3粉末50gと、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末100gと、調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末70gと、調製例6で得られたBaK/Rh/ZrO2粉末50gとを乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にして、比較のためのペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例2で得られたPd/Al2O3粉末50gと、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末150gと、調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末20gと、調製例6で得られたBaK/Rh/ZrO2粉末50gとを乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にして、比較のためのペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例3で得られたRh/ZrO2粉末50gと、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末150gと、調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末70gとを乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にして、比較のためのペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例4で得られたBaK/Pt/Al2O3粉末150gと、調製例5で得られたBaK/Pd/Al2O3粉末70gと、調製例6で得られたBaK/Rh/ZrO2粉末50gとを乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にして、比較のためのペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
先ず、調製例1で得られたPt/Al2O3粉末150gと、調製例2で得られたPd/Al2O3粉末70gと、調製例3で得られたRh/ZrO2粉末50gとを乳鉢を用いて乾式混合することにより混合粉末を得た。そして、このような混合粉末を用いた以外は実施例3と同様にして、比較のためのペレット状の排ガス浄化用触媒を得た。このようにして得られた排ガス浄化用触媒の構成元素等を表8及び9に示す。
〈高温耐久試験(2)〉
実施例3〜5及び比較例8〜12で得られた排ガス浄化用触媒をそれぞれ2g用い、各触媒に対して、それぞれ750℃の温度条件下において、表10に示す組成のリーンガス及びリッチガスをリーン/リッチ=4分/1分の間隔で変動させながら1L/minの流量で5時間流通させる高温耐久試験(2)を行った。
高温耐久試験(2)後の実施例3〜5及び比較例8〜12で得られた排ガス浄化用触媒をそれぞれ担体換算にして1g用い、各触媒をそれぞれ常圧固定床流通型反応装置(ベスト測器製CATA−5000−6)に設置し、表11に示す組成のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=40秒/6秒の間隔で変動させながら10L/minの流量で流通させ、定常状態におけるNOx浄化率を測定した。なお、このようなNOx浄化率の測定は入りガス温度を300℃、350℃、400℃にそれぞれ設定して行った。更に、NOx浄化率は、各触媒について、それぞれ触媒に接触する前後のガス中に含有されるNOxの濃度を測定し、そのNOx濃度の値に基づいて求めた。入りガス温度(300℃、350℃、400℃)と、実施例3〜5及び比較例8〜12で得られた排ガス浄化用触媒のNOx浄化率との関係を示すグラフを図3に示し、350℃の温度条件下における実施例3〜5及び比較例8〜12で得られた排ガス浄化用触媒のNOx浄化率のグラフを図4に示す。
上記高温耐久試験(2)を実施した後の実施例3、比較例8、比較例11及び比較例12で得られた排ガス浄化用触媒をそれぞれ担体換算にして1.1g用い、400℃の温度条件下において、表12に示す硫黄被毒処理(S被毒)用のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=40秒/6秒の間隔で変動させながら10L/minの流量で15分間流通させ、担体270gあたり硫黄として3g相当のSO2を供給してS被毒処理を行った。次いで、S被毒処理後の各触媒に対して、表12に示す組成のS再生処理用(S再生)のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=6秒/6秒の間隔で変動させながら10L/minの流量で、650℃で10分間、次いで680℃で10分間流通させて、被毒した硫黄を脱離させて触媒の再生処理を行った。
上記硫黄被毒耐久試験(2)後の実施例3、比較例8、比較例11及び比較例12で得られた排ガス浄化用触媒をそれぞれ担体換算にして1.1g用い、前述のNOx浄化試験(3)と同様の試験を行ってNOx浄化率を測定した。入りガス温度とNOx浄化率との関係を図5に示し、350℃の温度条件下におけるNOx浄化率を図6に示す。
Claims (4)
- 第1多孔質担体及び前記第1多孔質担体に担持された第1貴金属を備え、前記第1貴金属が少なくともPtを含有し、前記第1貴金属中の前記Ptの含有量が前記第1貴金属の総量に対して50質量%を超えており、且つ、NOx吸蔵材の担持量が前記第1多孔質担体100gに対して0.03mol以下である第1触媒粉末と、
第2多孔質担体及び前記第2多孔質担体に担持された第2貴金属を備え、前記第2貴金属が少なくともRhを含有し、前記第2貴金属中の前記Rhの含有量が前記第2貴金属の総量に対して50質量%を超えており、且つ、NOx吸蔵材の担持量が前記第2多孔質担体100gに対して0.03mol以下である第2触媒粉末と、
第3多孔質担体、前記第3多孔質担体に担持された第3貴金属及び前記第3多孔質担体に担持されたNOx吸蔵材を備え、前記第3貴金属が少なくともPdを含有し、前記Pdの担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.05g以上であり、且つ、前記NOx吸蔵材の担持量が前記第3多孔質担体100gに対して0.03molを超えている第3触媒粉末と、
を備え、
前記第1触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して5〜40質量%であり、前記第2触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して5〜40質量%であり、且つ、前記第3触媒粉末の含有量が前記第1〜第3触媒粉末の総量に対して50〜90質量%であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 下記条件(A)〜(C):
(A)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末に排ガスが接触した後に前記第2触媒粉末及び前記第3触媒粉末に排ガスが接触するように配置されていること、
(B)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第2触媒粉末、前記第3触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること、
(C)前記第1〜第3触媒粉末が、前記第1触媒粉末、前記第3触媒粉末、前記第2触媒粉末の順に排ガスが接触するように配置されていること。
のうちのいずれかの条件を満たすことを特徴とする請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。 - 触媒基材と、前記第1触媒粉末からなる第1触媒層と、前記第2触媒粉末及び前記第3触媒粉末からなる第2触媒層とを備え、且つ、前記第1〜第2触媒層が、前記第1触媒層に排ガスが接触した後に前記第2触媒層に排ガスが接触するように前記触媒基材上に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒に排ガスを接触させて、排ガスを浄化することを特徴とする排ガス浄化方法。
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