JP5642832B2 - Manufacturing method of glass plate - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス板の製造方法およびガラス板製造装置に関し、より具体的には、オーバーフローダウンドロー法によるガラス板の製造方法およびガラス板製造装置に関する。 The present invention relates to a glass plate manufacturing method and a glass plate manufacturing apparatus, and more specifically, to a glass plate manufacturing method and a glass plate manufacturing apparatus by an overflow downdraw method.
オーバーフローダウンドロー法とは、(1)熔融ガラスの供給溝が上部に形成された、楔形の断面を有する成形装置に熔融ガラスを供給し、(2)供給溝から溢れ出た熔融ガラスを、成形装置における上記楔形の双方の側面に相当する一対の壁面に誘導し、当該壁面に沿って流下させ、(3)それぞれの壁面を流下した熔融ガラスを成形装置の下端で融合させてガラスリボンを連続的に成形する方法である。得られたガラスリボンは、その後、厚さの調整、徐冷などの工程を経て所望のサイズに切断され、ガラス板となる。オーバーフローダウンドロー法は、大面積かつ薄いガラス板、例えば液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)に使用するガラス基板、の製造に適している。 The overflow down-draw method is (1) supplying molten glass to a forming device having a wedge-shaped cross section in which a molten glass supply groove is formed, and (2) forming molten glass overflowing from the supply groove. Guide to a pair of wall surfaces corresponding to both side surfaces of the wedge shape in the apparatus, let it flow down along the wall surface, and (3) fuse the molten glass flowing down each wall surface at the lower end of the molding apparatus to continue the glass ribbon It is a method of forming automatically. The obtained glass ribbon is then cut into a desired size through steps such as thickness adjustment and slow cooling to form a glass plate. The overflow downdraw method is suitable for manufacturing a large area and thin glass plate, for example, a glass substrate used for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display, an organic EL display, and a plasma display.
成形装置における幅方向の両端部、より具体的には、熔融ガラスが流下する壁面における幅方向の双方の端部に、当該端部から突出するように、互いに対向して形成された一対のガイドが設けられることがある。ガイドの配置によって、壁面に沿って流下する熔融ガラスの幅が規制される。特許文献1(特開2010-189220号公報)には、特定の形状を有するガイドを備えた成形装置が開示されている。特許文献1には、当該成形装置により、熔融ガラスの粘度が相対的に高い場合においても両端部(耳部)の形状が安定したガラスリボンを成形できることが記載されている。
A pair of guides formed opposite to each other so as to protrude from both end portions in the width direction of the forming apparatus, more specifically, both end portions in the width direction of the wall surface where the molten glass flows down. May be provided. The width of the molten glass flowing down along the wall surface is regulated by the arrangement of the guides. Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-189220) discloses a molding apparatus including a guide having a specific shape.
特許文献2(特開2010-215428号公報)には、ガラスリボンの端部の形状不良を防止する技術が開示されている。より具体的に特許文献2には、成形装置の下端と、当該装置から最も近くに位置する、ガラスリボンの搬送ロールとの間の空間にヒータを配置し、当該ヒータによって融合直後のガラスリボンの端部を局所的に加熱しながらガラスリボンの成形および搬送を実施する技術が開示されている。
Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-215428) discloses a technique for preventing a defective shape of an end portion of a glass ribbon. More specifically, in
オーバーフローダウンドロー法においてガイドを備える成形装置を用いた場合、液相粘度の小さいガラスを成形しようとすると、ガイド近傍を流下する熔融ガラスに失透が、すなわち、成形したガラスリボンにおける幅方向の端部(以下、「幅方向の端部」を単に「端部」という)に失透が生じやすいという問題がある。特許文献1には、このようなガラスリボン端部の失透に関する記載がない。特許文献2には、成形装置の下端と、成形装置よりも下流側に位置する搬送ロールとの間に配置されたヒータによってガイド下端を加熱することで、ガイド下端近傍の熔融ガラスだけが失透の生じやすい温度域に長く保存されるのを防止できることが記載されている。しかし、特許文献2の技術において上記ヒータにより加熱されるのはガイドの下端のみであり、必ずしも、ガイド近傍を流下する熔融ガラスの失透を十分に抑制できるとはいえない。特に、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が小さい場合には、成形したガラスリボンの端部における失透の抑制が困難である。液相粘度が小さいガラス組成物としては、例えば、熱収縮率を小さくするために歪点を上昇させた低温ポリシリコン(p−Si)用ガラス組成物が挙げられる。
When using a molding device equipped with a guide in the overflow down draw method, when trying to mold a glass having a small liquidus viscosity, devitrification occurs in the molten glass flowing down the vicinity of the guide, that is, the end in the width direction of the molded glass ribbon. There is a problem that devitrification is likely to occur in a portion (hereinafter, “end portion in the width direction” is simply referred to as “end portion”).
本発明の目的は、オーバーフローダウンドロー法によるガラス板の製造方法および製造装置であって、成形したガラスリボンの端部における失透を抑制する効果が高く、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が小さいにも拘わらず、当該端部における失透抑制の効果が得られる製造方法および製造装置の提供を目的とする。 An object of the present invention is a glass plate manufacturing method and manufacturing apparatus by an overflow downdraw method, which has a high effect of suppressing devitrification at the end of a molded glass ribbon, and is a liquid of a glass composition constituting a molten glass An object of the present invention is to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of obtaining the effect of suppressing devitrification at the end portion even though the phase viscosity is small.
本発明のガラス板の製造方法は、熔融ガラスが供給される供給溝が形成された上面と、前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面の両端部から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてガラスリボンとする一対の壁面と、を備える成形装置を用いて、オーバーフローダウンドロー法によりガラスリボンを成形する成形工程を有する。本発明のガラス板の製造方法では、前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が120000dPa・s以下であり、当該ガラス組成物の液相温度が1100℃〜1250℃である。本発明のガラス板の製造方法における前記成形工程では、(1)前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、(2)前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の粘度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで前記液相粘度未満を保つように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する。 The glass plate manufacturing method of the present invention induces molten glass that overflows on both sides of the supply groove and flows from both ends of the upper surface, and is fused at the lower end. And forming a glass ribbon by an overflow down draw method using a forming apparatus including a pair of wall surfaces to be a glass ribbon. In the manufacturing method of the glass plate of this invention, the liquid phase viscosity of the glass composition which comprises the said molten glass is 120,000 dPa * s or less, and the liquidus temperature of the said glass composition is 1100 degreeC-1250 degreeC. In the forming step in the method for producing a glass plate of the present invention, (1) the fusion is performed by a pair of guides formed to face each other at both ends in the width direction of the wall surface so as to protrude from the ends. The glass is allowed to flow down along the wall surface while regulating the width of the molten glass, and (2) the liquid in the vicinity of the guide in the molten glass flowing down until the viscosity reaches the lower end from the upper surface of the molding apparatus. The part is heated along the guide so as to keep the phase viscosity below.
本発明のガラス板の製造方法および製造装置は、成形したガラスリボンの端部における失透を抑制する効果が高い。本発明のガラス板の製造方法または製造装置によれば、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が120000dPa・s以下と小さいにも拘わらず、当該端部における失透抑制の効果を得ることができる。 The glass plate manufacturing method and manufacturing apparatus of the present invention are highly effective in suppressing devitrification at the end of the molded glass ribbon. According to the manufacturing method or the manufacturing apparatus of the glass plate of the present invention, although the liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass is as small as 120,000 dPa · s or less, the effect of suppressing devitrification at the end is obtained. be able to.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下に示す実施形態は本発明の一例であり、本発明はこれらの実施形態に限定されない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The following embodiments are examples of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments.
図1に、本発明の製造方法に使用できる成形装置の一例を、図2に、図1に示す成形装置を用いた本発明の製造方法の一例を、それぞれ示す。成形装置1は、熔融ガラスが供給される供給溝2が形成された上面3と、供給溝2の両側に溢れ出して上面3の両端部3a,3bから流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、装置1の下端4で融合させてガラスリボン50とする一対の壁面5(図1,2では一方の壁面のみが図示されている)と、壁面5の幅方向における双方の端部5a,5bに形成された一対のガイド6a,6bとを備える。ガイド6a,6bは、それぞれ、端部5a,5bから突出するように互いに対向して形成されている。供給溝2から溢れ出た熔融ガラスは一対の壁面5のそれぞれを流下する。壁面5は、供給溝2から溢れ出た熔融ガラスが鉛直方向に流下する垂直壁面と、垂直壁面を流下した熔融ガラスを成形装置の下端4に導く、垂直壁面と接続した傾斜壁面と、を有する。壁面5を流下する熔融ガラスの一対の流れは成形装置1の下端4で合流し、互いに融合する。このとき、ガイド6a,6bによって、壁面5に沿って流下する熔融ガラスの幅が規制され、例えば幅方向の厚さの均一性が高いガラスリボン50が連続して形成される。成形装置1の下端4は、一対の壁面5同士(傾斜壁面同士)が接続した直線状の稜線を形成している。図1,2に示す符号2aは、供給溝2の底面2aであり、図2に示す符号7は、供給溝2に供給された熔融ガラスの液面7である。
FIG. 1 shows an example of a molding apparatus that can be used in the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 shows an example of the manufacturing method of the present invention using the molding apparatus shown in FIG. The forming
図2に示すように、ガイド6a,6bのそれぞれの近傍には、成形装置1の上面3側から下端4側に延びるようにヒータ8が配置されており、成形装置1における図2に示されていない側を含めて(当該側にも、図2に示されている側と同様にヒータ8が配置されている)、一対の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分が、当該ヒータ8によって加熱される。この加熱は、壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の粘度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで(熔融ガラスの当該部分が成形装置1の上面3から流下して下端4に至るまで)、当該熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度(以下、単に「液相粘度」ともいう)未満となるように、ガイド6a,6bに沿って行われる。
As shown in FIG. 2, a
ガイドを備える成形装置を用いたオーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形(および当該リボンを冷却して得るガラス板の製造)では、ガイド近傍、すなわち成形するガラスリボンの端部(図2に示す符号50a)において失透が発生しやすい。これは、成形装置が収容される成形炉が、成形装置の下端で熔融ガラスを成形に適した粘度にすることを目的として、ガラスリボンの成形だけではなく熔融ガラスの冷却をも目的とする温度、すなわち熔融ガラスよりも低い温度、に通常設定されているために、ガイドによって熱が奪われることで、ガイド近傍の熔融ガラスの温度が熔融ガラスにおける他の部分の温度よりも低下しやすいこと、ならびにこのような温度の低下およびガイドとの接触による物理的な抵抗によって、ガイド近傍の熔融ガラスの流下速度が熔融ガラスにおける他の部分よりも低下しやすく、ガイドに接してから成形装置を離れるまでに長時間要すること、などの理由によると考えられる。 In the formation of a glass ribbon by the overflow down draw method using a forming apparatus equipped with a guide (and production of a glass plate obtained by cooling the ribbon), in the vicinity of the guide, that is, the end of the glass ribbon to be formed (reference numeral shown in FIG. 2) Devitrification is likely to occur in 50a). This is the temperature at which the molding furnace in which the molding apparatus is housed is intended not only to form the glass ribbon but also to cool the molten glass for the purpose of making the molten glass suitable for molding at the lower end of the molding apparatus. That is, since it is usually set to a temperature lower than the molten glass, the temperature of the molten glass in the vicinity of the guide is likely to be lower than the temperature of the other part in the molten glass because heat is taken away by the guide. In addition, due to such a decrease in temperature and physical resistance due to contact with the guide, the flow rate of the molten glass in the vicinity of the guide tends to be lower than other portions of the molten glass, and until it leaves the forming device after coming into contact with the guide This is probably because it takes a long time to complete.
特許文献2(特開2010-215428号公報)の技術によれば、ガイドの下端で生じる失透が抑制できる可能性がある。しかし特許文献2の技術では、ガイドの下端よりも上流の領域、特に、熔融ガラスがガイドと接触して冷え始めた初期に生じる失透を抑制することは難しく、一度生じた失透をガイドの下端の加熱で解消することもできない。また、FPDのガラス基板への使用に適した無アルカリガラス、アルカリ微量含有ガラスなどの、液相温度が高く、液相粘度が小さいガラス組成物、例えば、本発明の製造方法で使用される液相粘度が120000dPa・s以下かつ液相温度が1100℃〜1250℃の範囲にあるガラス組成物から構成されるガラスリボンを成形する場合に、このような失透が特に発生しやすくなる。
According to the technique of Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-215428), there is a possibility that devitrification occurring at the lower end of the guide can be suppressed. However, in the technique of
本発明の製造方法では、成形装置1の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の粘度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相粘度未満を保つように(当該部分の温度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相温度以上となるように)、ガイド6a,6bに沿って熔融ガラスにおける当該部分を加熱する。これにより、熔融ガラスのガイド近傍の部分(熔融ガラスの端部)における失透を抑制する高い効果が得られ、熔融ガラスを構成するガラス組成物が120000dPa・s以下の小さい液相粘度を有し、かつ1100℃〜1250℃の範囲の液相温度を有する場合にも、当該端部における失透の発生が抑制される。
In the manufacturing method of the present invention, the viscosity of the portion near the
本明細書において、液相温度とは、熔融体と結晶の初相との間の平衡温度で、その温度以上では結晶が存在しない温度のことであり、液相粘度とは、ガラスが上記液相温度となる粘度のことである。 In the present specification, the liquidus temperature is the equilibrium temperature between the melt and the initial phase of the crystal, and is the temperature above which no crystal is present. It is the viscosity that becomes the phase temperature.
本発明の製造方法では、成形装置1の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の温度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相温度よりも10℃以上高い温度となるように当該部分を加熱することが好ましく、液相温度よりも15℃以上高い温度となるように当該部分を加熱することがより好ましい。これらの場合、成形するガラスリボンの端部における失透の発生がより確実に抑制される。具体的な液相温度は、ガラス組成物の組成によって異なる。
In the manufacturing method of the present invention, the temperature in the vicinity of the
本発明の製造方法では、成形工程において、成形装置1の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の温度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相温度よりも10℃〜150℃高くなるように(液相温度よりも10℃以上高く、かつ液相温度に150℃を加えた温度以下となるように)、ガイドに沿って当該部分を加熱することが好ましい。これにより、成形装置1の変形、および成形後のガラスリボン50における幅方向の収縮を抑制できる。成形装置1の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の温度が、成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相温度よりも15℃〜100℃高くなるように、ガイドに沿って当該部分を加熱することがさらに好ましい。
In the manufacturing method of the present invention, in the molding step, the temperature of the portion in the vicinity of the
熔融ガラスが成形装置1から離れた後の端部の急冷(ガラスリボン50端部の急冷)と組み合わせることにより、当該端部における失透の発生の抑制がさらに確実になる。 Combining with the rapid cooling of the end portion after the molten glass leaves the molding apparatus 1 (rapid cooling of the end portion of the glass ribbon 50) further suppresses the occurrence of devitrification at the end portion.
本発明の製造方法に従って、成形装置1の壁面5を流下する熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分を加熱するのではなく、当該部分の温度が成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相温度よりも十分に高くなるように成形装置1を流下する熔融ガラス全体の温度を液相温度よりも十分に高温とすることによっても理論上は失透が抑制される。しかし、液相温度が高いガラスを製造する場合、現実には、オーバーフローダウンドロー法にこのような方法を適用できない。オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形に適切な熔融ガラスの粘度が存在するためである(下記のようなガラスリボンの弛みやガラスリボンの幅の収縮の問題が生じないようにするためには、成形装置の下端における熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上であることが好ましく、70000dPa・s以上であることがより好ましい)。熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の温度が液相温度よりも十分に高くなるように、成形装置を流下する熔融ガラス全体の温度を液相温度よりも十分に高温にすると、あるいは成形装置の下端での加熱を過度に行うと、成形装置の下端における熔融ガラスの粘度が上記適切な範囲よりも小さくなってしまう可能性がある。すると、成形装置を離れた後のガラスリボンの粘度が十分に上昇せず、成形装置の下流側に配置された搬送ロールによる引張速度以上の速度でガラスリボンが落下して当該ロール上でガラスリボンが弛んだり、ガラスリボンの幅が収縮したりする問題が発生する。また、成形装置の温度が高くなればなるほど、成形装置のクリープ現象が顕著となり、成形開始からの時間の経過に従ってガラスリボンの中央部が垂れ下がるなどの問題も生じる。ガラス板として所望される厚さおよび成形後の徐冷工程で実施されるガラスリボンの温度制御を考慮すると、搬送ロールによる引張速度の増加には限界がある(徐冷工程で実施されるガラスリボンの温度制御を考慮すると、ガラスリボンの搬送速度は50〜500m/時が好ましく、100〜400m/時が好ましく、120〜300m/時が好ましい)。成形するガラスリボンの幅が収縮するとガラス板としての製品幅が確保できない。クリープ現象が顕著になると、製造するガラス板の板厚の均一性が低下する。
According to the manufacturing method of the present invention, the portion near the
本発明の製造方法では、成形装置の壁面を流下する熔融ガラス全体の温度を均一に上昇させて、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の温度を液相温度以上とするのではない。失透が特に生じやすい、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の温度を成形装置の上面から下端に至るまで液相温度以上とすることにより、すなわち成形装置の壁面を流下する熔融ガラスに対する局所的な加熱により、熔融ガラス全体および成形装置全体が過熱することを抑制しつつ、当該部分の粘度を成形装置の上面から下端に至るまで液相粘度未満として、ガラスリボンの端部に生じる失透を抑制することができる。 In the production method of the present invention, the temperature of the entire molten glass flowing down the wall surface of the molding apparatus is uniformly raised so that the temperature in the vicinity of the guide in the molten glass does not exceed the liquidus temperature. Devitrification is particularly likely to occur. By setting the temperature in the vicinity of the guide in the molten glass above the liquid phase temperature from the upper surface to the lower end of the molding apparatus, that is, local heating of the molten glass flowing down the wall surface of the molding apparatus. Thus, while suppressing the entire molten glass and the entire molding apparatus from being overheated, the viscosity of the part is made less than the liquid phase viscosity from the upper surface to the lower end of the molding apparatus, and devitrification occurring at the end of the glass ribbon is suppressed. be able to.
本発明の製造方法において熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分をガイドに沿って加熱する方法は、当該部分の粘度が成形装置1の上面3から下端4に至るまで液相粘度未満を保つことができる限り、限定されない。
In the production method of the present invention, the method of heating a portion in the vicinity of the guide in the molten glass along the guide can keep the viscosity of the portion below the liquid phase viscosity from the
加熱する方法の一例が、図2に示すように、ガイド6a,6bの近傍に、成形装置1の上面3側から下端4側に延びるように配置された加熱装置による加熱である。この方法によれば、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の加熱および当該加熱の制御を比較的簡便に行うことができる。
An example of the heating method is heating by a heating device arranged in the vicinity of the
加熱装置は、当該部分における熔融ガラスの粘度が液相粘度未満となるように、すなわち当該部分における熔融ガラスの温度が液相温度以上となるように、熔融ガラスを加熱することができる限り限定されない。加熱装置は、例えば、ヒータである。 The heating device is not limited as long as the molten glass can be heated so that the viscosity of the molten glass in the part is less than the liquidus viscosity, that is, the temperature of the molten glass in the part is equal to or higher than the liquidus temperature. . The heating device is, for example, a heater.
ヒータの種類は、ガラスリボン成形炉の温度雰囲気下で使用でき、当該ヒータによる熔融ガラスの加熱によって、熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分の粘度を液相粘度未満とすることができる限り限定されない。加熱装置には、レーザーあるいは電磁波を利用して熔融ガラスの加熱を行うものも含まれる。
The type of the heater is limited as long as it can be used in the temperature atmosphere of a glass ribbon molding furnace and the viscosity of the portions near the
加熱装置の配置の状態は、成形装置におけるガイドの近傍に、成形装置の上面側から下端側に延びるように配置され、成形装置の壁面を流下する熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の粘度が、成形装置の上面から下端に至るまで液相粘度未満を保つことができる限り、限定されない。加熱装置は、図2に示すように、1つの成形装置1について4箇所存在する「ガイド近傍の部分」のそれぞれに配置されていることが好ましい。
The state of the arrangement of the heating device is arranged in the vicinity of the guide in the molding device so as to extend from the upper surface side to the lower end side of the molding device, and the viscosity of the portion near the guide in the molten glass flowing down the wall surface of the molding device is It is not limited as long as it can keep less than liquid phase viscosity from the upper surface to the lower end of the apparatus. As shown in FIG. 2, it is preferable that the heating device is arranged in each of “portions near the guides” that exist at four locations for one
図2に示す例では、加熱装置としてヒータ8が、ガイド6a,6bに沿うように配置されている。ヒータ8の形状は、成形装置の上面側から下端側に延びる直線状である。ヒータ8の形状は、全体として成形装置の上面側から下端側に延びていれば(全体としてガイド6a,6bに沿う形状であれば)、直線状でなくても構わない。
In the example shown in FIG. 2, the
加熱装置は、例えば、図3に示すように、成形装置1におけるガイド6bの近傍に、成形装置1の上面3側から下端4側に垂直に延びるように配置されたヒータ8であってもよい。なお、図3では成形装置1のガイド6b側が示されているが、当該垂直に延びるヒータ8はガイド6a側にも同様に配置できる。
For example, as shown in FIG. 3, the heating device may be a
加熱装置は、例えば、図4に示すように、成形装置1におけるガイド6bの近傍に、成形装置1の上面3側から下端4側へと壁面5にも沿って延びるように配置されたヒータ8であってもよい。なお、図4では成形装置1のガイド6b側が示されているが、当該壁面5にも沿って延びるヒータ8はガイド6a側にも同様に配置できる。
For example, as shown in FIG. 4, the heating device includes a
ガイド6a,6bと加熱装置との位置関係について、加熱装置(ヒータ8)は、例えば図2に示すように、ガイド6a,6bの熔融ガラス側の近傍に配置してもよいし、図5に示すように、ガイド6a,6bの熔融ガラスとは反対側の近傍に配置してもよい。前者の場合、加熱装置によって熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分を直接的に加熱することができる。後者の場合、加熱装置の具体的な配置の位置およびガイド6a,6bを構成する材料によっても異なるが、加熱装置によってガイド6a,6bを発熱させ、発熱したガイド6a,6bによって熔融ガラスにおける当該ガイド近傍の部分を加熱することも可能である。加熱の効率の観点からは、加熱装置によって熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分を、直接、加熱することが好ましい。
Regarding the positional relationship between the
加熱装置による具体的な加熱の制御は、成形装置の壁面を流下する熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の粘度が、成形装置の上面から下端に至るまで液相粘度未満を保つことができる限り、自由に設定できる。例えば、加熱装置による加熱が連続的であっても断続的であってもよい。複数の加熱装置を配置した場合、各加熱装置による加熱を独立して制御してもよい。1つの加熱装置について複数の加熱セクションを設定しておき、各加熱セクションによる加熱を独立して制御してもよい。 The specific heating control by the heating device is free as long as the viscosity of the portion near the guide in the molten glass flowing down the wall of the molding device can be kept below the liquid phase viscosity from the upper surface to the lower end of the molding device. Can be set. For example, the heating by the heating device may be continuous or intermittent. When a plurality of heating devices are arranged, heating by each heating device may be controlled independently. A plurality of heating sections may be set for one heating device, and heating by each heating section may be controlled independently.
加熱する方法の別の一例が、熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分を、ガイドを発熱させることにより行う方法である。
Another example of the heating method is a method in which a portion of the molten glass near the
ガイドを発熱させる方法および程度は、成形装置の壁面を流下する熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の粘度が、成形装置の上面から下端に至るまで液相粘度未満を保つことができる限り、限定されない。 The method and degree of heating the guide are not limited as long as the viscosity of the portion near the guide in the molten glass flowing down the wall surface of the molding apparatus can be kept below the liquid phase viscosity from the upper surface to the lower end of the molding apparatus.
本発明の製造方法では、熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の温度を、成形装置の上面から下端に至るまで液相温度以上に保持する。このため、ガイド6a,6bを発熱させて、ガイド6a,6bのうち熔融ガラスに接する部分(熔融ガラスが流動する全長(経路)に沿った部分)の温度を液相温度以上とすることが好ましい。ガイド6a,6bを発熱させて、ガイド6a,6b全体の温度を液相温度以上としてもよい。
In the production method of the present invention, the temperature in the vicinity of the
ガイド6a,6bの発熱は、ガイド6a,6bのうち熔融ガラスに接する部分の温度が液相温度よりも10℃以上高い温度となるように実施することが好ましく、15℃以上高い温度となるように実施することがより好ましい。この場合、成形するガラスリボンの端部における失透の発生がより確実に抑制される。
The heat generation of the
ガイド6a,6bの発熱は、ガイド6a,6bのうち熔融ガラスに接する部分の温度が液相温度よりも10℃〜150℃高い温度となるように実施することが好ましく、15℃〜100℃高い温度となるように実施することがより好ましい。この場合、成形装置1の変形、および成形後のガラスリボン50における幅方向の収縮を抑制できる。
The heat generation of the
ガイドを発熱させる方法の一例が、ヒータなどの加熱装置による加熱である。そのための加熱装置の配置および制御は、当該加熱装置によって発熱させたガイドによって、熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の粘度を成形装置の上面から下端に至るまで液相粘度未満とすることができる限り、限定されない。その一例が、図5に示す、ガイド6a,6bの近傍に、成形装置1の上面3側から下端4側に延びるように配置された加熱装置(ヒータ8)によるガイド6a,6bの加熱である。これとは別に、例えば、電流により発熱するヒータを、ガイド6a,6bの表面に配置したり、ガイド6a,6bの表面に埋め込んだりしてもよい。その場合の表面は、例えば、ガイド6a,6bにおける熔融ガラスに面する面とは反対側の面(熔融ガラスに接しない面)である。
An example of a method for generating heat from the guide is heating by a heating device such as a heater. As for the arrangement and control of the heating device for that purpose, as long as the viscosity of the molten glass near the
ガイドを発熱させる方法の別の一例が、ガイド6a,6bが金属により構成される場合におけるガイド6a,6bへの通電による発熱(通電発熱)である。本発明の製造方法では、ガイド6a,6bが金属により構成され、ガイド6a,6bに通電して当該ガイドを発熱させることにより、熔融ガラスにおけるガイド6a,6b近傍の部分を加熱してもよい。この方法は熱効率が高く、温度制御が比較的容易である。
Another example of a method of generating heat in the guide is heat generation (energization heat generation) due to energization of the
通電によりガイド6a,6bを発熱させる具体的な方法は限定されない。ガイド6a,6bのそれぞれに電極を接続し、当該電極を介してガイド6a,6bに電流を流せばよい。各ガイドに接続する電極の個数および配置は任意に設定できる。電極は、ガイド6a,6bにおける熔融ガラスに面する面に接続しても、当該面とは反対側の面に接続してもよい。
A specific method for generating heat in the
ガイド6bにおける通電発熱のための電極の配置例を図6に示す。図6に示す例では、ガイド6bの下端近傍の1箇所および上端近傍の互いに間隔をおいた2箇所に電極11a,11b,11cが接続されている。電極11a−11b間および11a−11c間に電流を流すことにより、ガイド6bにおける熔融ガラスと接する部分を発熱させることができる。さらに電極11b−11c間に電流が流れるように、各電極の電位を設定してもよい。ガイド6aについても同様に電極を配置できる。
FIG. 6 shows an arrangement example of electrodes for energizing heat generation in the
通電によりガイド6a,6bを発熱させる場合、ガイド6a,6bの熔融ガラスに接する部分を構成する金属の組成を、ガイド6a,6bの他の部分を構成する金属と異なる組成とすることにより、当該接する部分における発熱量を当該他の部分よりも大きくしてもよい。この場合、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の粘度を液相粘度未満とするための熱効率がより高くなる。各部分の金属の組成は、例えば、当該組成が示す導電率により決定できる。
When the
ガイド6a,6bは、当該ガイドに電流を流すことによる通電発熱と、加熱装置による加熱とを併用して発熱させてもよい。ガイド6aとガイド6bとで、異なる発熱方法を採用することもできる。
The
ガイド6a,6bの発熱温度(加熱装置による加熱温度を含む)は液相温度以上であればよく、液相温度より10℃以上高い温度が好ましく、液相温度より15℃以上高い温度がより好ましい。また、ガイド6a,6bの発熱温度は、液相温度より10℃〜150℃高い温度が好ましく、液相温度より15℃〜100℃高い温度がより好ましい。ガイドが金属により構成される場合、特に、熱伝導率が高い白金または白金合金により構成される場合、ガイド6a,6bの発熱温度と、熔融ガラスにおける当該ガイド近傍の部分の温度とがほぼ等しくなる。
The heat generation temperature of the
本発明の製造方法では、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分に対する加熱について、上記加熱装置による加熱とガイドの発熱による加熱とを併用してもよい。 In the manufacturing method of the present invention, for heating the portion near the guide in the molten glass, heating by the heating device and heating by heat generation of the guide may be used in combination.
本発明の製造方法では、必要に応じて、成形装置の近傍に水平方向に延びるように配置された加熱装置による熔融ガラスに対する加熱を併用してもよい。 In the manufacturing method of this invention, you may use together the heating with respect to the molten glass by the heating apparatus arrange | positioned so that it may extend in the horizontal direction in the vicinity of a shaping | molding apparatus as needed.
ガイド6a,6bを発熱させる場合を除き、成形装置1における各部分の構成(形状、材料など)は、オーバーフローダウンドロー法に用いる公知の成形装置における当該部分の構成と同様であればよい。例えば、成形装置1におけるガイド6a,6b以外の部分は、通常、耐火煉瓦により構成される。
Except for the case where the
ガイド6a,6bを構成する材料は限定されないが、耐熱性および耐火性が高く、熔融ガラスを汚染し難いことから、白金または白金合金により構成されることが好ましい。これは、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の加熱方法によらないが、当該加熱をガイドを発熱させることにより行う場合に特に好ましい。白金および白金合金は熱伝導率が高いことから、白金または白金合金により構成されるガイドを用いた従来のオーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形では、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の温度が低下しやすく、端部に失透が生じやすい。しかし、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の加熱を、ガイドを発熱させることにより行う場合、ガイドを白金または白金合金により構成することにより、その熱伝導率の高さを逆に利用して発熱によるガイド6a,6bの熱効率を高めることができ、温度制御もより容易となる。
Although the material which comprises the
熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の加熱方法によらず、ガイド6a,6bの形状およびサイズ自体は、オーバーフローダウンドロー法に用いる公知の成形装置におけるガイドと同様であればよい。成形装置における一対のガイドの壁面からの高さは、傾斜壁面からガイドが突出した領域全体において、熔融ガラスが当該一対のガイドを乗り越えない範囲で、壁面を流れる熔融ガラスの厚さに比べて低く設定されていることが好ましい。これにより、成形するガラスリボンの耳部が二叉形状に開く(ガラスリボンの幅方向の切断面を見たときに、耳部がY字状になる)ことが抑制され、成形するガラスリボンの耳部の形状を安定させることができる。耳部の形状が二叉形状に開いた場合、そうでない場合と比較して、ガラスリボンを切断する工程において大きな応力が必要となる。より詳細には、耳部の形状が二叉形状に開いていると、ガラスリボンにカッターで切り込みをいれた後に応力をかけて当該ガラスリボンを切断する際に、切断に必要な応力が大きくなる。ガラスリボンを切断するために必要な応力が大きくなると、上記カッターにより形成した切り込み線以外の領域からガラスリボンが切断されることがあり、この場合、切断不良となってしまう。また、耳部の形状が二叉形状に開いていると、ガラスリボンが割れやすくなる。すなわち、ガイドを上記好ましい構成にすることによって、ガラスリボンの切断不良の発生が抑制され、あるいはガラスリボンの割れが抑制されて、安定してガラス板を連続的に生産することができる。
Regardless of the heating method in the vicinity of the guide in the molten glass, the shape and size of the
成形装置における壁面からのガイドの高さは、成形装置の下方の位置ほど低くなることが好ましい。成形装置の下端4が、両側の傾斜壁面同士が接続した直線状の稜線であり、一対のガイドの傾斜壁面における高さが、当該稜線の位置において0(ゼロ)であることが好ましい。これにより、ガラスリボンの耳部が二叉形状に開くことがさらに抑制され、ガラス板をより安定して連続的に生産することができる。 The height of the guide from the wall surface in the molding apparatus is preferably lower as the position is lower in the molding apparatus. It is preferable that the lower end 4 of the forming device is a linear ridge line in which the inclined wall surfaces on both sides are connected, and the height of the pair of guides on the inclined wall surface is 0 (zero) at the position of the ridge line. Thereby, it is further suppressed that the ear | edge part of a glass ribbon opens in a bifurcated shape, and a glass plate can be produced more stably and continuously.
本発明の製造方法によれば、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相温度が高く、液相粘度が小さい場合、例えば、ガラス組成物が無アルカリガラス、アルカリ微量含有ガラスなどの場合、においても、成形するガラスリボンの端部における失透を抑制する効果が得られる。すなわち、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相温度が高く、液相粘度が小さい場合に、本発明の製造方法によってもたらされる利点が大きい。 According to the production method of the present invention, when the liquid phase temperature of the glass composition constituting the molten glass is high and the liquid phase viscosity is small, for example, when the glass composition is an alkali-free glass, a glass containing a trace amount of alkali, etc. Moreover, the effect which suppresses devitrification in the edge part of the glass ribbon to shape | mold is acquired. That is, when the liquid phase temperature of the glass composition constituting the molten glass is high and the liquid phase viscosity is small, the advantages brought about by the production method of the present invention are great.
本発明の製造方法では、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度は120000dPa・s以下である。このようなガラス組成物では、従来、オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形において端部における失透の問題が発生しやすい。しかし、本発明の製造方法では、失透抑制の効果が得られる。 In the production method of the present invention, the liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass is 120,000 dPa · s or less. In such a glass composition, the problem of devitrification at the end portion tends to occur in the conventional molding of a glass ribbon by the overflow down draw method. However, in the production method of the present invention, an effect of suppressing devitrification can be obtained.
当該液相粘度は100000dPa・s以下であってもよい。液相粘度が100000dPa・s以下であるガラス組成物では上記失透の問題がより顕著となるが、本発明の製造方法では失透抑制の効果が得られる。オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形を安定して実施できる観点からは、当該液相粘度は40000dPa・s以上が好ましい。当該液相粘度は、例えば、50000dPa・s以上120000dPa・s以下であり、50000dPa・s以上100000dPa・s以下であってもよく、50000dPa・s以上80000dPa・s以下であってもよい。 The liquid phase viscosity may be 100,000 dPa · s or less. In the glass composition having a liquid phase viscosity of 100000 dPa · s or less, the above-described devitrification problem becomes more prominent, but the production method of the present invention provides an effect of suppressing devitrification. The liquid phase viscosity is preferably 40,000 dPa · s or more from the viewpoint of stably forming the glass ribbon by the overflow downdraw method. The liquid phase viscosity is, for example, 50000 dPa · s or more and 120,000 dPa · s or less, 50000 dPa · s or more and 100000 dPa · s or less, or 50000 dPa · s or more and 80000 dPa · s or less.
本発明の製造方法では、熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相温度が1100℃以上1250℃以下である。このようなガラス組成物では、従来、オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形において端部における失透の問題が発生しやすい。しかし、本発明の製造方法では、失透抑制の効果が得られる。 In the manufacturing method of this invention, the liquidus temperature of the glass composition which comprises molten glass is 1100 degreeC or more and 1250 degrees C or less. In such a glass composition, the problem of devitrification at the end portion tends to occur in the conventional molding of a glass ribbon by the overflow down draw method. However, in the production method of the present invention, an effect of suppressing devitrification can be obtained.
本発明の製造方法では、熔融ガラスがジルコニアおよび/または酸化スズを含有していてもよい。ジルコニアを含有する熔融ガラスでは、ジルコニアを含有していない場合に比べてガラス組成物の液相温度が上昇する。このような熔融ガラスでは、従来、オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形において端部における失透の問題が発生しやすい。しかし、本発明の製造方法では、失透抑制の効果が得られる。ジルコニアは、ガラス組成物の成分として元々熔融ガラスに含まれる場合以外にも、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽および成形装置を用いることによっても熔融ガラスに溶出する。特に、このような熔解槽を用いてガラス原料を電気熔解する場合、熔融ガラス中のジルコニア濃度が高くなる傾向がある。すなわち本発明の製造方法は、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽を用いてガラス原料を電気熔解する場合に、より好適となる。 In the production method of the present invention, the molten glass may contain zirconia and / or tin oxide. In the molten glass containing zirconia, the liquidus temperature of the glass composition increases as compared with the case where zirconia is not contained. In such a molten glass, the problem of devitrification at the end portion is likely to occur in the conventional glass ribbon forming by the overflow down draw method. However, in the production method of the present invention, an effect of suppressing devitrification can be obtained. In addition to the case where zirconia is originally contained in the molten glass as a component of the glass composition, zirconia is also eluted into the molten glass by using a melting tank and a molding apparatus configured using a high zirconia refractory. In particular, when a glass raw material is electrically melted using such a melting tank, the zirconia concentration in the molten glass tends to increase. That is, the production method of the present invention is more suitable when the glass raw material is electrically melted using a melting tank configured using a high zirconia refractory.
なお、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽は、従来広く使用されているアルミナ電鋳耐火物を使用して構成される熔解槽に比べて、ガラスに浸食されにくく、熔解槽としての寿命が長い。また、熔融ガラスの発泡を抑えることもできる。このため、熔融温度(ガラス組成物の粘度が102.5ポアズとなる温度)が高いガラス組成物、例えば無アルカリガラスおよびアルカリ微量含有ガラス、の熔融ガラスの形成に適している。 In addition, the melting tank configured using high zirconia refractories is less susceptible to erosion by glass than the melting tank configured using alumina electrocast refractories widely used in the past. As a long life. Moreover, foaming of molten glass can also be suppressed. Therefore, suitable for the formation of the melt temperature (viscosity 10 2.5 poise to become the temperature of the glass composition) is high glass composition, for example, non-alkali glass and alkali trace containing glass, the molten glass.
また、熔解槽で形成する熔融ガラスが無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスにより構成される場合、ガラス組成物の比抵抗が高くなりやすく、ガラス原料ではなく高ジルコニア耐火物に電流が流れる傾向がある。当該耐火物に電流が流れると、熔解槽で形成される熔融ガラスにジルコニアが溶出する。すなわち本発明の製造方法は、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽を用いて、無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスの熔融ガラスを電気熔解により形成する場合に、さらに好適となる。 In addition, when the molten glass formed in the melting tank is made of alkali-free glass or glass containing a small amount of alkali, the specific resistance of the glass composition tends to increase, and current tends to flow through the high zirconia refractory instead of the glass raw material. . When a current flows through the refractory, zirconia is eluted in the molten glass formed in the melting tank. That is, the production method of the present invention is further suitable when a molten glass of an alkali-free glass or a glass containing a trace amount of alkali is formed by electric melting using a melting tank configured using a high zirconia refractory. .
液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどのFPD用ガラス基板には、無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスから構成されるガラス板が好ましい。パネル製造工程においてガラス基板からアルカリ成分が溶出すると、薄膜トランジスタ(TFT)などの電子素子の特性が劣化するおそれがあるためである。すなわち本発明の製造方法は、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽を用いてガラス原料を電気熔解し、得られた熔融ガラスを用いてオーバーフローダウンドロー法によりFPD用ガラス基板を製造する場合に、特に好適となる。なお、無アルカリガラスとは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しない(含有率にして0.05質量%未満)ガラス組成物をいう。アルカリ微量含有ガラスとは、アルカリ金属酸化物を0.05〜2.0質量%含有するガラス組成物をいう。 For a glass substrate for FPD such as a liquid crystal display and an organic EL display, a glass plate composed of non-alkali glass or alkali-containing glass is preferable. This is because if alkaline components are eluted from the glass substrate in the panel manufacturing process, the characteristics of electronic devices such as thin film transistors (TFTs) may be deteriorated. That is, the manufacturing method of the present invention is to electrically melt a glass raw material using a melting tank composed of a high zirconia refractory, and to use an obtained molten glass to form a glass substrate for FPD by an overflow down draw method. It is particularly suitable for manufacturing. In addition, an alkali free glass means the glass composition which does not contain an alkali metal oxide substantially (it is less than 0.05 mass% in content rate). Alkali trace amount glass means the glass composition which contains 0.05-2.0 mass% of alkali metal oxides.
酸化スズを含有する熔融ガラスでは、酸化スズの晶出により失透が生じやすくなる。また、ジルコニアと共存した場合、酸化スズはジルコニアを晶出させる作用を有する。このような熔融ガラスでは、従来、オーバーフローダウンドロー法によるガラスリボンの成形において端部における失透の問題が特に生じやすい。しかし、本発明の製造方法では、失透抑制の効果が得られる。 In molten glass containing tin oxide, devitrification is likely to occur due to crystallization of tin oxide. Moreover, when coexisting with zirconia, tin oxide has an action of crystallizing zirconia. In such a molten glass, the problem of devitrification at the end is particularly likely to occur in the conventional molding of a glass ribbon by the overflow down draw method. However, in the production method of the present invention, an effect of suppressing devitrification can be obtained.
本発明の製造方法では、熔融ガラスを構成するガラス組成物が無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスであってもよい。アルカリ金属酸化物を2.0質量%を超えて含有するアルカリガラスと比較して、このような無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスの液相温度は高く、液相粘度は小さい傾向にあるが、本発明の製造方法では失透抑制の効果が得られる。この効果が、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽を用いて無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスの熔融ガラスを電気熔解により形成する場合に特に顕著となるのは、上述したとおりである。 In the production method of the present invention, the glass composition constituting the molten glass may be alkali-free glass or glass containing a trace amount of alkali. Compared to alkali glass containing alkali metal oxide in excess of 2.0% by mass, the liquidus temperature of such alkali-free glass or alkali-containing glass is high and the liquidus viscosity tends to be small, In the production method of the present invention, an effect of suppressing devitrification is obtained. As described above, this effect is particularly noticeable when an alkali-free glass or a glass containing a trace amount of alkali is formed by electric melting using a melting tank configured using a high zirconia refractory. It is.
なお、TFTなどの電子素子の特性の劣化を防止するという観点からは、FPD用ガラス基板には無アルカリガラスが好適である。ただし、熔解性および清澄性という観点からは、FPD用ガラス基板にはアルカリ微量含有ガラスが好適である。アルカリ金属酸化物を敢えて微量含ませてアルカリ微量含有ガラスとすることによって、ガラス組成物の熔解性および清澄性が向上する。清澄性には、アルカリ金属酸化物の存在によってガラスの塩基性度が上昇し、価数変動する金属の酸化が容易となることが寄与する。また、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽においてガラス原料の電気熔解により熔融ガラスを形成する場合においても、無アルカリガラスに比べてガラスの比抵抗を小さくすることができ、熔融ガラスへのジルコニアの溶出を抑え、熔融ガラスの失透性上昇を抑えることができる。 Note that alkali-free glass is suitable for the glass substrate for FPD from the viewpoint of preventing deterioration of characteristics of electronic elements such as TFTs. However, from the viewpoints of meltability and clarity, glass containing a trace amount of alkali is suitable for the glass substrate for FPD. By intentionally containing a small amount of alkali metal oxide to form a glass containing a small amount of alkali, the meltability and clarity of the glass composition are improved. For clarity, the basicity of the glass increases due to the presence of the alkali metal oxide, and the oxidation of the metal whose valence fluctuates is facilitated. In addition, when forming molten glass by electric melting of glass raw materials in a melting tank composed of high zirconia refractories, the specific resistance of glass can be reduced compared to non-alkali glass, The elution of zirconia to the glass can be suppressed, and the devitrification increase of the molten glass can be suppressed.
本発明の製造方法では、熔融ガラスを構成するガラス組成物について、102.5ポアズの粘度を示す温度(熔融温度)が1500℃〜1750℃であってもよい。このようなガラス組成物は熔融時に高温が必要になるため、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽により熔融ガラスを形成する場合にジルコニアが溶出しやすい。このようなガラス組成物に対しても、本発明の製造方法では失透抑制の効果が得られる。 In the production method of the present invention, the glass composition constituting the molten glass may have a temperature (melting temperature) exhibiting a viscosity of 10 2.5 poise (1500 ° C. to 1750 ° C.). Since such a glass composition requires a high temperature at the time of melting, zirconia is likely to be eluted when a molten glass is formed by a melting tank configured using a high zirconia refractory. Even for such a glass composition, the production method of the present invention provides an effect of suppressing devitrification.
本発明の製造方法によって失透抑制の効果が特に得られるガラス組成物の例を以下に示す。 The example of the glass composition from which the effect of devitrification suppression is especially acquired with the manufacturing method of this invention is shown below.
(1)FPD用ガラス基板として使用するガラス組成物の例
この例は、SiO2:50〜78質量%、B2O3:0〜15質量%、Al2O3:3〜25質量%、MgO:0〜10質量%、CaO:0〜20質量%、SrO:0〜20質量%、BaO:0〜10質量%、RO:3〜20質量%を含むガラス組成物である。Rは、Mg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種の元素である。ROとは、MgO、CaO、SrOおよびBaOの合量を示す。より好ましくは、SiO2:55〜65質量%、B2O3:5〜14質量%、Al2O3:13〜20質量%、MgO:0〜5質量%、CaO:2〜10質量%、SrO:0〜10質量%、BaO:0〜4質量%、RO:7〜17質量%を含むガラス組成物である。TFTなどの電子素子の特性の劣化を防止するという観点からは、このガラス組成物は、アルカリ金属酸化物を実質的に含まない、すなわち無アルカリガラスであることが好ましい。ガラス組成物の熔解性および清澄性を向上させる観点からは、微量のアルカリ金属酸化物を含ませることが好ましいが、この場合、当該ガラス組成物は、0.05質量%を超え2.0質量%以下のR’2Oをさらに含み、好ましくは0.1質量%を超え2.0質量%以下のR’2Oをさらに含む。R’は、Li、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種の元素である。R’2Oは、Li2O、Na2OおよびK2Oの合量を示す。当該ガラス組成物は、清澄剤としてAs2O3およびPbOを実質的に含まない(含有率にして0.05質量%以下)ことが好ましく、清澄剤として少なくとも酸化スズを含むことが好ましい。また、含有率にして0.01〜0.2質量%の酸化鉄を含むことが好ましい。
(1) Example This example of the glass composition for use as a glass substrate for the FPD, SiO 2: 50 to 78 wt%, B 2 O 3: 0~15 wt%, Al 2 O 3: 3~25 wt%, It is a glass composition containing MgO: 0-10 mass%, CaO: 0-20 mass%, SrO: 0-20 mass%, BaO: 0-10 mass%, RO: 3-20 mass%. R is at least one element selected from Mg, Ca, Sr and Ba. RO indicates the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO. More preferably, SiO 2: 55 to 65 wt%, B 2 O 3: 5~14 wt%, Al 2 O 3: 13~20 wt%, MgO: 0 to 5 wt%, CaO: 2 to 10 wt% , SrO: 0 to 10% by mass, BaO: 0 to 4% by mass, RO: 7 to 17% by mass. From the viewpoint of preventing the deterioration of the characteristics of electronic devices such as TFTs, the glass composition is preferably substantially free of alkali metal oxides, that is, is alkali-free glass. From the viewpoint of improving the meltability and clarity of the glass composition, it is preferable to include a trace amount of an alkali metal oxide. In this case, the glass composition exceeds 0.05% by mass and is 2.0% by mass. % R ′ 2 O or less, preferably more than 0.1% by mass and 2.0% by mass or less R ′ 2 O. R ′ is at least one element selected from Li, Na and K. R ′ 2 O represents the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. The glass composition preferably contains substantially no As 2 O 3 and PbO as a fining agent (in terms of content, 0.05% by mass or less), and preferably contains at least tin oxide as a fining agent. Moreover, it is preferable that the content rate contains 0.01-0.2 mass% iron oxide.
近年、FPDの軽量化が求められていることを考慮すると、当該ガラス組成物におけるSrOおよびBaOの含有率の合計は0〜10質量%が好ましい。軽量化に加えて製品としての環境負荷を考慮すると、BaOの含有率は0〜2質量%が好ましい。 Considering that the weight reduction of FPD is demanded in recent years, the total content of SrO and BaO in the glass composition is preferably 0 to 10% by mass. In consideration of environmental impact as a product in addition to weight reduction, the content of BaO is preferably 0 to 2% by mass.
このようなガラス組成物によって、FPD用ガラス基板に要求される特性を満たすガラス板を実現できる。より具体的には、歪点が650℃以上を満たすガラス板、密度2.6g/cm3以下を満たすガラス板、ヤング率が70GPa以上を満たすガラス板を実現できる。さらに、液相温度1250℃以下のガラス板が実現でき、このようなガラス板はオーバーフローダウンドロー法による製造が可能である。ただし、液相温度が1050℃未満を実現しつつFPD用ガラス基板に要求される上記特性を満たすことは困難であるため、液相温度が1050〜1250℃となるようにガラス組成物の組成を調整することが好ましい。 With such a glass composition, a glass plate that satisfies the characteristics required for a glass substrate for FPD can be realized. More specifically, a glass plate having a strain point of 650 ° C. or higher, a glass plate having a density of 2.6 g / cm 3 or lower, and a glass plate having a Young's modulus of 70 GPa or higher can be realized. Furthermore, a glass plate having a liquidus temperature of 1250 ° C. or lower can be realized, and such a glass plate can be manufactured by an overflow down draw method. However, since it is difficult to satisfy the above characteristics required for the glass substrate for FPD while realizing a liquidus temperature of less than 1050 ° C, the composition of the glass composition is adjusted so that the liquidus temperature is 1050 to 1250 ° C. It is preferable to adjust.
(2)カバーガラス(化学強化用ガラス)として使用するガラス組成物の例
この例は、化学強化されるカバーガラスや太陽電池用ガラス板として使用しうるガラス組成物の例である。この例は、SiO2:50〜70質量%、Al2O3:5〜20質量%、Na2O:6〜30質量%、K2O:0〜10質量%、MgO:0〜10質量%、CaO:0〜20質量%を含むガラス組成物である。
(2) Example of glass composition used as cover glass (chemical strengthening glass) This example is an example of a glass composition that can be used as a cover glass to be chemically strengthened or a glass plate for solar cells. This example, SiO 2: 50-70 wt%, Al 2 O 3: 5~20 wt%, Na 2 O: 6~30 wt%, K 2 O: 0~10 wt%, MgO: 0 Weight %, CaO: a glass composition containing 0 to 20% by mass.
(3)ポリシリコンFPD用ガラス基板として使用するガラス組成物の例
近年、FPDのさらなる高精細化を実現するために、α−Si・TFTではなく、低温p−Si・TFTや酸化物半導体を用いたFPDの開発が進められている。低温p−Si・TFTおよび酸化物半導体の形成工程では、α−Si・TFTの形成工程よりも高温で熱処理が実施される。このため、低温p−Si・TFTおよび/または酸化物半導体が形成されるガラス基板には、小さな熱収縮率が求められる。熱収縮率を小さくするためにはガラス組成物の歪点を高くすることが好ましいが、歪点が高いガラス組成物は液相粘度が小さくなる傾向にある。また、歪点が高いガラス組成物は液相温度が高くなる傾向にもある。したがって、低温p−Si・TFT搭載FPD用ガラス基板および酸化物半導体搭載FPD用ガラス基板の製造に、本発明の製造方法は好適である。
(3) Example of glass composition used as glass substrate for polysilicon FPD In recent years, in order to realize further high definition of FPD, instead of α-Si · TFT, low-temperature p-Si · TFT or oxide semiconductor is used. Development of the used FPD is in progress. In the process of forming the low-temperature p-Si • TFT and the oxide semiconductor, the heat treatment is performed at a higher temperature than the step of forming the α-Si • TFT. For this reason, a small thermal contraction rate is calculated | required by the glass substrate in which low temperature p-Si * TFT and / or an oxide semiconductor are formed. In order to reduce the thermal shrinkage rate, it is preferable to increase the strain point of the glass composition, but a glass composition having a high strain point tends to decrease the liquidus viscosity. Further, a glass composition having a high strain point also tends to have a high liquidus temperature. Therefore, the production method of the present invention is suitable for producing a glass substrate for FPD with a low-temperature p-Si · TFT and a glass substrate for FPD with an oxide semiconductor.
低温p−Si・TFT搭載FPD用ガラス基板および酸化物半導体搭載FPD用ガラス基板を構成するガラス組成物の歪点は、例えば665℃以上であり、好ましくは675℃以上、より好ましくは680℃以上、特に好ましくは690℃以上である。当該ガラス組成物の液相粘度は、歪点の向上およびオーバーフローダウンドロー法による成形性の向上を両立させるためには、例えば35000dPa・s以上120000dPa・s以下であり、40000dPa・s以上100000dPa・s以下が好ましく、50000dPa・s以上80000dPa・s以下がより好ましい。また、歪点の向上およびオーバーフローダウンドロー法による成形性の向上を両立させるためには、当該ガラス組成物の液相温度は、例えば1100〜1250℃であり、1150〜1250℃がより好ましく、1180〜1250℃がさらに好ましく、1200〜1250℃が特に好ましい。 The strain point of the glass composition constituting the glass substrate for FPD mounted with low-temperature p-Si • TFT and the glass substrate for oxide semiconductor mounted FPD is, for example, 665 ° C. or higher, preferably 675 ° C. or higher, more preferably 680 ° C. or higher. Especially preferably, it is 690 degreeC or more. The liquid phase viscosity of the glass composition is, for example, 35000 dPa · s or more and 120,000 dPa · s or less, and 40000 dPa · s or more and 100,000 dPa · s or less in order to achieve both improvement in strain point and improvement in formability by the overflow downdraw method. The following is preferable, and more preferably 50000 dPa · s or more and 80000 dPa · s or less. In order to achieve both improvement of the strain point and improvement of formability by the overflow downdraw method, the liquidus temperature of the glass composition is, for example, 1100 to 1250 ° C, more preferably 1150 to 1250 ° C, and 1180. ˜1250 ° C. is more preferable, and 1200 to 1250 ° C. is particularly preferable.
当該ガラス組成物の具体的な一例は、SiO2:52〜78質量%、Al2O3:3〜25質量%、B2O3:3〜15質量%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrOおよびBaOの含有率の合計):3〜20質量%を含む組成を有し、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3が7.5以上であり、歪点が670℃以上のガラス組成物である。ガラス組成物の歪点をより高くする観点からは、質量比(SiO2+Al2O3)/ROは7以上が好ましい。また、同じ観点からは、β−OH値は0.1〜0.3[mm-1]が好ましい。当該ガラス組成物は無アルカリガラスであることが好ましいが、ガラスの比抵抗を下げ、電気熔解時におけるジルコニアの溶出を抑えることを考慮すると、R’2O(但し、R’2OはLi2O、Na2OおよびK2Oの含有率の合計)を0.01〜0.8質量%含んでいてもよい。Fe2O3を0.01〜1質量%含ませることによってもガラスの比抵抗を下げることができる。高い歪点を実現しつつ液相温度の上昇を抑制するためには、当該ガラス組成物における質量比CaO/ROは0.65以上が好ましく、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7.5〜20が好ましい。FPDがモバイル機器などに使用されることを考慮すると、軽量化の観点から、SrOおよびBaOの含有率の合計は0〜2質量%未満が好ましい。 Specific examples of the glass composition include SiO 2 : 52 to 78% by mass, Al 2 O 3 : 3 to 25% by mass, B 2 O 3 : 3 to 15% by mass, RO (where RO is MgO, (Total content of CaO, SrO and BaO): a composition containing 3 to 20% by mass, a mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 3 is 7.5 or more, and a strain point is It is a glass composition of 670 ° C. or higher. From the viewpoint of increasing the strain point of the glass composition, the mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / RO is preferably 7 or more. From the same viewpoint, the β-OH value is preferably 0.1 to 0.3 [mm −1 ]. The glass composition is preferably an alkali-free glass. However, in consideration of lowering the specific resistance of the glass and suppressing elution of zirconia during electric melting, R ′ 2 O (where R ′ 2 O is Li 2 The total content of O, Na 2 O and K 2 O) may be included in an amount of 0.01 to 0.8% by mass. The specific resistance of the glass can also be lowered by including 0.01 to 1% by mass of Fe 2 O 3 . In order to suppress an increase in the liquidus temperature while realizing a high strain point, the mass ratio CaO / RO in the glass composition is preferably 0.65 or more, and the mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 3 is preferably 7.5 to 20. Considering that FPD is used for mobile devices and the like, the total content of SrO and BaO is preferably less than 0 to 2% by mass from the viewpoint of weight reduction.
本発明の製造方法は、本発明の効果が得られる限り、上述した以外の任意の工程を含むことができる。 The production method of the present invention can include arbitrary steps other than those described above as long as the effects of the present invention are obtained.
当該任意の工程は、例えば、ガラス原料を熔解して熔融ガラスを形成する熔解工程である。熔解工程は、高ジルコニア系耐火物を使用して構成される熔解槽によりガラス原料を少なくとも電気熔解する工程であってもよい。このような工程は、無アルカリガラスおよびアルカリ微量含有ガラスの熔融ガラスの形成に適している。当該工程では、耐火物から熔融ガラス中にジルコニアが溶出するが(ガラスの比抵抗の関係から、無アルカリガラスおよびアルカリ微量含有ガラスの熔融ガラス形成時、特に無アルカリガラスの熔融ガラス形成時、にジルコニアの溶出量が多い傾向にある)、本発明の製造方法では、ガラスリボンにおける端部の失透を抑制できる。 The said arbitrary process is a melting process which melts a glass raw material and forms molten glass, for example. The melting step may be a step of electrically melting at least the glass raw material in a melting tank configured using a high zirconia refractory. Such a process is suitable for forming a molten glass of an alkali-free glass and a glass containing a small amount of alkali. In this process, zirconia is eluted from the refractory into the molten glass (from the relationship of the specific resistance of the glass, when forming the molten glass of the alkali-free glass and the alkali-containing glass, particularly when forming the molten glass of the alkali-free glass. In the production method of the present invention, the devitrification of the end of the glass ribbon can be suppressed.
また、熔解工程は、酸化スズ電極を用いて熔解槽でガラス原料を電気熔解する工程であってもよい。この工程では、電極から熔融ガラス中に酸化スズが溶出するが、本発明の製造方法では、ガラスリボンにおける端部の失透を抑制できる。 Further, the melting step may be a step of electrically melting a glass raw material in a melting tank using a tin oxide electrode. In this step, tin oxide is eluted from the electrode into the molten glass, but in the production method of the present invention, devitrification of the end portion of the glass ribbon can be suppressed.
上記任意の工程は、例えば、熔解槽で形成した熔融ガラスを清澄する清澄工程である。 The said arbitrary process is a clarification process which clarifies the molten glass formed with the melting tank, for example.
上記任意の工程は、例えば、成形装置からガラスリボンが離れた後に、当該ガラスリボン端部を急冷し、失透を防ぐ急冷工程である。この工程では、ガラスリボンの端部の粘度が109〜1014ポアズとなるようにガラスリボンを急冷することが好ましい。 The optional step is, for example, a rapid cooling step for rapidly cooling the end portion of the glass ribbon to prevent devitrification after the glass ribbon is separated from the forming apparatus. In this step, it is preferable to quench the glass ribbon so that the viscosity of the end of the glass ribbon is 10 9 to 10 14 poise.
上記任意の工程は、形成したガラスリボンを徐冷する徐冷工程である。徐冷工程を経たガラスリボンは、所望するサイズに切断されて各種の製品となる。製品の一例が、FPD用ガラス基板である。 The above optional step is a slow cooling step of slowly cooling the formed glass ribbon. The glass ribbon which passed through the slow cooling process is cut | disconnected to the desired size, and becomes various products. An example of a product is a glass substrate for FPD.
本発明の製造方法を実施できるガラス板製造装置は、例えば、上記本発明の製造方法の説明において上述した成形装置を備える。 The glass plate manufacturing apparatus which can implement the manufacturing method of this invention is equipped with the shaping | molding apparatus mentioned above in description of the manufacturing method of the said invention, for example.
このガラス板製造装置は、成形装置の壁面を流下する熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の粘度が、成形装置の上面から下端に至るまで当該熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度未満を保つように、ガイドに沿って当該部分を加熱する熔融ガラスの加熱機構を備える。 In this glass sheet manufacturing apparatus, the viscosity of the portion in the vicinity of the guide in the molten glass flowing down the wall surface of the molding apparatus is kept below the liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass from the upper surface to the lower end of the molding apparatus. Thus, the heating mechanism of the molten glass which heats the said part along a guide is provided.
加熱機構の構成は特に限定されない。加熱機構は、例えば、ガイドの近傍に、成形装置の上面側から下端側に延びるように配置された加熱装置を備える。加熱装置には、本発明の製造方法の説明において述べた加熱装置が使用できる。加熱装置は、例えば、ヒータである。このとき加熱機構は、当該加熱装置を制御する制御機構、電力源、当該電力源から加熱機構に電力を供給する部材、熔融ガラスにおけるガイド近傍の部分の温度を測定する部材などを備えることができる。また、加熱機構は、例えば、ガイドの発熱機構を備える。発熱機構の構成は特に限定されない。ガイドを通電発熱する場合、発熱機構は、例えば、電流(電圧)発生装置、当該装置からガイドに電流を供給する(電圧を印加する)部材および当該部材とガイドとを電気的に接続する電極を備える。ヒータなどの加熱装置によりガイドを発熱させる場合、発熱機構は、例えば、加熱装置、当該加熱装置を制御する制御機構、電力源、当該電力源からヒータに電力を供給する部材を備える。 The configuration of the heating mechanism is not particularly limited. A heating mechanism is provided with the heating apparatus arrange | positioned so that it may extend in the vicinity of a guide from the upper surface side of a shaping | molding apparatus to a lower end side, for example. As the heating device, the heating device described in the description of the production method of the present invention can be used. The heating device is, for example, a heater. At this time, the heating mechanism can include a control mechanism that controls the heating device, a power source, a member that supplies power from the power source to the heating mechanism, a member that measures the temperature in the vicinity of the guide in the molten glass, and the like. . Further, the heating mechanism includes, for example, a heat generation mechanism for the guide. The structure of the heat generating mechanism is not particularly limited. When the guide is heated and heated, the heating mechanism includes, for example, a current (voltage) generator, a member that supplies current from the device to the guide (applies voltage), and an electrode that electrically connects the member and the guide. Prepare. When the guide is heated by a heating device such as a heater, the heat generation mechanism includes, for example, a heating device, a control mechanism that controls the heating device, a power source, and a member that supplies power from the power source to the heater.
本発明の効果が得られる限り、当該ガラス板製造装置は、成形装置および加熱機構以外の任意の装置、機構を備えていてもよい。 As long as the effect of the present invention is obtained, the glass plate manufacturing apparatus may include an arbitrary apparatus and mechanism other than the forming apparatus and the heating mechanism.
(実施例)
高ジルコニア系耐火物を使用した熔解槽により、下記の組成を有するように調合したガラス原料を電気熔解し、熔融ガラスを形成した。次に、形成した熔融ガラスを白金合金製の清澄槽にて1680℃で清澄した後、攪拌槽にて攪拌し、1250℃まで冷却した。続いて、熔融ガラスを、白金合金製のガイド部材を経て図1に示す成形装置1に供給し、オーバーフローダウンドロー法によりガラスリボンを成形した。このとき、白金合金製のガイド6a,6bに電流を流して当該ガイドを通電発熱させることで、壁面5を流下するガイド6a,6b近傍の熔融ガラスの温度が、当該熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相温度である1230℃よりも15℃高い1245℃を下回らず、かつ100℃高い1330℃を上回らないように温度制御を行った。このようにして成形したガラスリボンを冷却、徐冷した後、切断して、厚さ0.7mm、サイズ2200mm×2500mmのFPD用ガラス基板を得た。なお、当該ガラス組成物の液相粘度は50000dPa・sであり、歪点は715℃であった。
SiO2:61.5質量%、
Al2O3:20質量%、
B2O3:8.4質量%、
CaO:10質量%、
SnO2:0.1質量%
(Example)
In a melting tank using a high zirconia refractory, a glass material prepared to have the following composition was electrically melted to form a molten glass. Next, the formed molten glass was clarified at 1680 ° C. in a platinum alloy clarification tank, and then stirred in a stirring tank and cooled to 1250 ° C. Subsequently, the molten glass was supplied to the forming
SiO 2 : 61.5% by mass,
Al 2 O 3 : 20% by mass,
B 2 O 3 : 8.4% by mass,
CaO: 10% by mass,
SnO 2 : 0.1% by mass
得られたガラス基板には、その幅方向の端部を含め、失透が生じていなかった。また、製品幅も確保できた。 The obtained glass substrate was not devitrified including the end in the width direction. The product width was also secured.
(比較例)
ガイドの発熱を行わなかったこと、ならびに特許文献2(特開2010-215428号公報)に記載されている方法に従い、成形装置の下端と成形装置の下流において最も近くに位置している搬送ロールとの間の空間にヒータを配置し、成形装置の下端から下方に移動するガラスリボンの端部を局所的に加熱したこと以外は実施例と同様にして、FPD用ガラス基板を得た。なお、ヒータは、成形装置の下方に成形装置の幅方向に沿って配置し、ヒータの温度は、成形装置下端の熔融ガラスの温度が液相温度以上となるように制御した。
(Comparative example)
According to the method described in Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-215428) that the guide did not generate heat, and the conveying roll located closest to the lower end of the molding apparatus and downstream of the molding apparatus A glass substrate for FPD was obtained in the same manner as in the example except that a heater was placed in the space between and the end of the glass ribbon moving downward from the lower end of the forming apparatus was locally heated. The heater was disposed below the molding device along the width direction of the molding device, and the temperature of the heater was controlled so that the temperature of the molten glass at the lower end of the molding device was equal to or higher than the liquidus temperature.
得られたガラス基板には、その幅方向の端部に失透が生じていた。特許文献2に記載の方法では、液相温度が高く、液相粘度が小さいガラス組成物によるガラスリボンの成形時に端部の失透の抑制が難しいことが確認された。
The obtained glass substrate was devitrified at the end in the width direction. In the method described in
本明細書は、ガラス板の製造方法およびガラス板製造装置に関する、以下に示す態様を開示する。 This specification discloses the aspect shown below regarding the manufacturing method and glass plate manufacturing apparatus of a glass plate.
第1態様は、熔融ガラスが供給される供給溝が形成された上面と、前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面の両端部から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてガラスリボンとする一対の壁面と、を備える成形装置を用いて、オーバーフローダウンドロー法によりガラスリボンを成形する成形工程を有するガラス板の製造方法であって、前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が120000dPa・s以下であり、前記成形工程では、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の粘度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで前記液相粘度未満を保つように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する、ガラス板の製造方法。 In the first aspect, an upper surface on which a supply groove to which molten glass is supplied is formed, and molten glass that overflows on both sides of the supply groove and flows down from both ends of the upper surface is guided, fused at the lower end, and a glass ribbon A glass plate manufacturing method comprising a forming step of forming a glass ribbon by an overflow down-draw method using a forming apparatus comprising a pair of wall surfaces, wherein the liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass Is 120,000 dPa · s or less, and in the molding step, the molten glass is squeezed by a pair of guides formed opposite to each other so as to protrude from both ends in the width direction of the wall surface. The molten glass is allowed to flow down along the wall surface while restricting the width of the molten glass. To keep below the liquid phase viscosity from the top down to the bottom, to heat the parts along the guide, the manufacturing method of the glass plate.
第2態様は、熔融ガラスが供給される供給溝が形成された上面と、前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面の両端部から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてガラスリボンとする一対の壁面と、を備える成形装置を用いて、オーバーフローダウンドロー法によりガラスリボンを成形する成形工程を有するガラス板の製造方法であって、前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が120000dPa・s以下であり、液相温度が1100℃〜1250℃であり、前記成形工程では、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の粘度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで前記液相粘度未満を保つように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する、ガラス板の製造方法。 In the second aspect, the upper surface on which a supply groove to which molten glass is supplied is formed, and the molten glass that overflows on both sides of the supply groove and flows down from both ends of the upper surface is guided, fused at the lower end, and a glass ribbon A glass plate manufacturing method comprising a forming step of forming a glass ribbon by an overflow down-draw method using a forming apparatus comprising a pair of wall surfaces, wherein the liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass Is not more than 120,000 dPa · s, and the liquidus temperature is 1100 ° C. to 1250 ° C., and in the molding step, both end portions in the width direction of the wall surface are formed to face each other so as to protrude from the end portions. With the pair of guides, the molten glass is allowed to flow down along the wall surface while regulating the width of the molten glass. Serial viscosity of the guide near portions, so as to keep less than the liquid phase viscosity from the upper surface of the forming device until the lower end, to heat the parts along the guide, the manufacturing method of the glass plate.
第3態様は、第1または第2態様に加え、前記成形工程において、前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の温度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで前記液相温度よりも10℃〜150℃高くなるように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する、ガラス板の製造方法。 In the third aspect, in addition to the first or second aspect, in the molding step, the temperature of the portion in the vicinity of the guide in the molten glass flowing down is higher than the liquidus temperature until reaching the lower end from the upper surface of the molding apparatus. The manufacturing method of the glass plate which heats the said part along the said guide so that it may become 10 to 150 degreeC high.
第4態様は、第1〜第3態様のいずれか1つに加え、前記熔融ガラスの前記部分に対する加熱を、前記ガイドに沿って前記成形装置の上面側から下端側に延びるように配置された加熱装置により行う、ガラス板の製造方法。 In addition to any one of the first to third aspects, the fourth aspect is arranged so that the heating of the portion of the molten glass extends from the upper surface side to the lower end side of the molding apparatus along the guide. A method for producing a glass plate, which is performed by a heating device.
第5態様は、第1〜第4態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物が、SiO2:50〜78質量%、B2O3:0〜15質量%、Al2O3:3〜25質量%、MgO:0〜10質量%、CaO:0〜20質量%、SrO:0〜20質量%、BaO:0〜10質量%、およびRO(但し、ROはMgO、CaO、SrOおよびBaOの合計):3〜20質量%を含むガラス組成物である、ガラス板の製造方法。 In a fifth aspect, in addition to any one of the first to fourth aspects, the glass composition contains SiO 2 : 50 to 78% by mass, B 2 O 3 : 0 to 15% by mass, Al 2 O 3 : 3 to 25% by mass, MgO: 0 to 10% by mass, CaO: 0 to 20% by mass, SrO: 0 to 20% by mass, BaO: 0 to 10% by mass, and RO (where RO is MgO, CaO, SrO And the total of BaO): A method for producing a glass plate, which is a glass composition containing 3 to 20% by mass.
第6態様は、第1〜第5態様のいずれか1つに加え、前記成形装置の下端は、前記一対の壁面同士が接続した直線状の稜線であり、前記成形装置における前記壁面からの前記ガイドの高さは、前記成形装置の下方の位置ほど低くなるとともに、前記稜線の位置においてゼロである、ガラス板の製造方法。 In a sixth aspect, in addition to any one of the first to fifth aspects, the lower end of the molding device is a linear ridge line in which the pair of wall surfaces are connected to each other, and the above-described wall surface in the molding device is from the wall surface. The method for producing a glass plate, wherein the height of the guide is lower at a position below the molding apparatus and is zero at the position of the ridgeline.
第7態様は、第1〜第6態様のいずれか1つに加え、前記熔融ガラスの前記部分に対する加熱を、前記ガイドを発熱させることにより行う、ガラス板の製造方法。 A seventh aspect is a method for producing a glass plate, in addition to any one of the first to sixth aspects, heating the portion of the molten glass by causing the guide to generate heat.
第8態様は、第1〜第7態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物の液相粘度が35000dPa・s以上120000dPa・s以下である、ガラス板の製造方法。 The eighth aspect is the method for producing a glass plate, in addition to any one of the first to seventh aspects, wherein the glass composition has a liquidus viscosity of 35000 dPa · s or more and 120,000 dPa · s or less.
第9態様は、第1〜第8態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物の液相温度が1050℃以上である、ガラス板の製造方法。 A 9th aspect is a manufacturing method of the glass plate whose liquidus temperature of the said glass composition is 1050 degreeC or more in addition to any one of the 1st-8th aspect.
第10態様は、第1〜第9態様のいずれか1つに加え、前記熔融ガラスが、ジルコニアおよび/または酸化スズを含有する、ガラス板の製造方法。 A tenth aspect is the method for producing a glass plate, in addition to any one of the first to ninth aspects, wherein the molten glass contains zirconia and / or tin oxide.
第11態様は、第1〜第10態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物がアルカリ金属酸化物を0〜2.0質量%含有する、ガラス板の製造方法。 The eleventh aspect is the method for producing a glass plate, in addition to any one of the first to tenth aspects, wherein the glass composition contains 0 to 2.0% by mass of an alkali metal oxide.
第12態様は、第1〜第11態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物について、102.5ポアズの粘度を示す温度が1500〜1750℃である、ガラス板の製造方法。 A twelfth aspect, in addition to any one of the first to eleventh aspect, the said glass composition, temperature exhibits a viscosity of 10 2.5 poise is from 1,500 to 1750 ° C., the manufacturing method of the glass plate.
第13態様は、第1〜第12態様のいずれか1つに加え、前記ガラス組成物が、SiO2:52〜78質量%、Al2O3:3〜25質量%、B2O3:3〜15質量%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrOおよびBaOの合計):3〜20質量%を含有し、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3が7.5以上であり、歪点が670℃以上のガラス組成物である、ガラス板の製造方法。 Thirteenth aspect, in addition to any one of the first to twelfth aspect, wherein the glass composition, SiO 2: 52-78 wt%, Al 2 O 3: 3~25 wt%, B 2 O 3: 3-15% by mass, RO (provided that RO is the total of MgO, CaO, SrO and BaO): 3-20% by mass, and the mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 3 is 7. The manufacturing method of the glass plate which is 5 or more and is a glass composition whose strain point is 670 degreeC or more.
第14態様は、第1〜第13態様のいずれか1つに加え、前記ガラス板が、液晶ディスプレイ用ガラス基板または有機ELディスプレイ用ガラス基板である、ガラス板の製造方法。前記ガラス板は、低温p−Si・TFT搭載ディスプレイ用ガラス基板であってもよい。 A fourteenth aspect is the method for producing a glass plate, in addition to any one of the first to thirteenth aspects, wherein the glass plate is a glass substrate for liquid crystal display or a glass substrate for organic EL display. The glass plate may be a glass substrate for a low-temperature p-Si • TFT mounted display.
第15態様は、第1〜第14態様のいずれか1つに加え、前記成形装置の下端における前記熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上となるように温度制御されている、ガラス板の製造方法。 In the fifteenth aspect, in addition to any one of the first to fourteenth aspects, the temperature is controlled so that the viscosity of the molten glass at the lower end of the molding apparatus is 40000 dPa · s or more. .
第16態様は、第1〜第15態様のいずれか1つに加え、前記成形工程において成形したガラスリボンを徐冷する徐冷工程をさらに有し、前記徐冷工程における前記ガラスリボンの搬送速度が50〜500m/時である、ガラス板の製造方法。 In addition to any one of the first to fifteenth aspects, the sixteenth aspect further has a slow cooling step of slowly cooling the glass ribbon formed in the molding step, and the conveyance speed of the glass ribbon in the slow cooling step The manufacturing method of the glass plate whose is 50-500 m / h.
第17態様は、第1〜第16態様のいずれか1つに加え、高ジルコニア系耐火物を含む熔解槽においてガラス原料を少なくとも通電加熱を用いて熔解することにより、前記熔融ガラスを得る熔解工程をさらに有する、ガラス板の製造方法。 In the seventeenth aspect, in addition to any one of the first to sixteenth aspects, a melting step of obtaining the molten glass by melting a glass raw material using at least electric heating in a melting tank containing a high zirconia refractory. The manufacturing method of the glass plate which has further.
第18態様は、熔融ガラスが供給される供給溝が形成された上面と、前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面の両端部から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてガラスリボンとする一対の壁面と、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成され、前記壁面に沿って流下する熔融ガラスの幅を規制する一対のガイドと、を有する成形装置と、前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の粘度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで、前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度未満を保つように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する前記熔融ガラスの加熱機構と、を備えるガラス板製造装置。 According to an eighteenth aspect, an upper surface on which a supply groove for supplying molten glass is formed, and molten glass that overflows on both sides of the supply groove and flows down from both ends of the upper surface is guided and fused at the lower end, A pair of wall surfaces, and a pair of guides that are formed at both end portions in the width direction of the wall surface so as to protrude from the end portions and regulate the width of the molten glass flowing down along the wall surface, The viscosity of the portion near the guide in the flowing molten glass is kept below the liquid viscosity of the glass composition constituting the molten glass from the upper surface to the lower end of the molding device. And a heating mechanism for the molten glass that heats the portion along the guide.
第19態様は、第18態様に加え、前記加熱機構が、前記ガイドの近傍に、前記成形装置の上面側から下端側に延びるように配置された加熱装置を備えるガラス板製造装置。 In addition to the eighteenth aspect, the nineteenth aspect is a glass plate manufacturing apparatus provided with a heating device that is disposed in the vicinity of the guide so as to extend from the upper surface side to the lower end side of the molding device.
第20態様は、第18または第19態様に加え、前記加熱機構が、前記ガイドの発熱機構を備えるガラス板製造装置。 A twentieth aspect is the glass plate manufacturing apparatus according to the eighteenth or nineteenth aspect, wherein the heating mechanism includes a heat generation mechanism of the guide.
第21態様は、第18〜第20態様のいずれか1つに加え、前記成形装置の下端は、前記一対の壁面同士が接続した直線状の稜線であり、前記成形装置における前記壁面からの前記ガイドの高さは、前記成形装置の下方の位置ほど低くなるとともに、前記稜線の位置においてゼロであるガラス板製造装置。 In a twenty-first aspect, in addition to any one of the eighteenth to twentieth aspects, the lower end of the molding device is a linear ridge line in which the pair of wall surfaces are connected to each other, and the above-mentioned wall surface in the molding device is from the wall surface. The height of the guide is lower at a position below the molding apparatus and is zero at the position of the ridge line.
本発明の製造方法により得たガラス板は、種々の用途、例えばFPDのガラス基板に使用することができる。 The glass plate obtained by the production method of the present invention can be used for various applications, for example, a glass substrate of FPD.
1 成形装置
2 供給溝
3 上面
3a、3b (上面の)端部
4 下端
5 壁面
6a、6b ガイド
7 液面
8 加熱装置
11a、11b、11c 電極
50 ガラスリボン
50a (ガラスリボンの)端部
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が120000dPa・s以下であり、液相温度が1100℃〜1250℃であり、
前記成形工程では、
前記成形装置の上面から下端に至るまで、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、
前記流下する熔融ガラスにおける前記ガイド近傍の部分の粘度が、前記成形装置の上面から下端に至るまで前記液相粘度未満を保つことで、当該上面から下端に至るまで前記熔融ガラスに失透が生じないように、前記ガイドに沿って当該部分を加熱する、ガラス板の製造方法。 An upper surface on which a supply groove to which molten glass is supplied is formed; and a pair of wall surfaces that induces molten glass that overflows on both sides of the supply groove and flows down from both ends of the upper surface and is fused at the lower end to form a glass ribbon; , Using a forming apparatus comprising a glass plate having a forming step of forming a glass ribbon by an overflow down draw method,
The liquid phase viscosity of the glass composition constituting the molten glass is 120,000 dPa · s or less, the liquid phase temperature is 1100 ° C. to 1250 ° C.,
In the molding step,
From the upper surface to the lower end of the molding apparatus, the molten glass is converted into the molten glass by a pair of guides formed at both ends in the width direction of the wall surface so as to protrude from the end portions. Flow down along the wall while regulating the width of
By maintaining the viscosity of the portion in the vicinity of the guide in the flowing molten glass below the liquid phase viscosity from the upper surface to the lower end of the molding apparatus , devitrification occurs in the molten glass from the upper surface to the lower end. A method for manufacturing a glass plate, in which the part is heated along the guide so as not to exist.
前記ガイドは、前記垂直壁面から前記傾斜壁面にわたって形成されている、請求項1〜3のいずれかに記載のガラス板の製造方法。The said guide is a manufacturing method of the glass plate in any one of Claims 1-3 currently formed over the said inclined wall surface from the said vertical wall surface.
前記成形装置における前記壁面からの前記ガイドの高さは、前記成形装置の下方の位置ほど低くなるとともに、前記稜線の位置においてゼロである、請求項1〜4のいずれかに記載のガラス板の製造方法。 The lower end of the molding device is a linear ridge line connected between the pair of wall surfaces,
The height of the said guide from the said wall surface in the said shaping | molding apparatus becomes low in the position below the said shaping | molding apparatus, and is zero in the position of the said ridgeline of the glass plate in any one of Claims 1-4 . Production method.
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