JP5640772B2 - Thiol group-containing charge transport material, thiol group-containing charge transport material solution, photoelectric conversion device, and electrophotographic photoreceptor - Google Patents
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明は、チオール基含有電荷輸送材料、チオール基含有電荷輸送材料溶解液、光電変換デバイス、および電子写真感光体に関する。 The present invention relates to a thiol group-containing charge transport material, a thiol group-containing charge transport material solution, a photoelectric conversion device, and an electrophotographic photoreceptor.
近年、電子写真感光体、有機ELデバイス、有機トランジスター、有機太陽電池など、有機化合物を用いた電子デバイスが盛んに開発されている。
特に、耐熱性、強度の点においては、架橋構造とすることが有効であり、例えば、熱、あるいは光硬化した膜を用いた有機ELデバイス(例えば特許文献1参照)、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体(例えば特許文献2乃至4参照)、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを、膜形成後に架橋した電子写真感光体(例えば特許文献5参照)、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜(例えば特許文献6参照)等が開示されている。また、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材およびバインダー樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が開示され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂とに有機過酸化物を用いて硬化したものが開示されている(例えば特許文献7参照)。
In recent years, electronic devices using organic compounds such as electrophotographic photosensitive members, organic EL devices, organic transistors, and organic solar cells have been actively developed.
In particular, in terms of heat resistance and strength, it is effective to have a crosslinked structure, for example, an organic EL device using a heat or photocured film (for example, see Patent Document 1), containing a charge transporting group An electrophotographic photoreceptor using an acrylic polymer (for example, see Patent Documents 2 to 4), and an electrophotographic photoreceptor obtained by crosslinking an acrylic polymer containing a charge transporting group and a reactive group after film formation (see, for example, Patent Document 5). ), A film obtained by applying and curing a liquid containing a photocurable acrylic monomer (see, for example, Patent Document 6), and the like. In addition, a mixture of a monomer having a carbon-carbon double bond, a charge transfer material having a carbon-carbon double bond, and a binder resin is subjected to heat or light energy to form the carbon-carbon double bond of the monomer and the charge transfer material. In particular, a film formed by reacting a carbon-carbon double bond is disclosed. In particular, a monofunctional methacryl-modified charge transfer material, a methacrylic monomer having no charge transport property, and a polycarbonate resin are combined with an organic solvent. What hardened | cured using the oxide is disclosed (for example, refer patent document 7).
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜(例えば特許文献8参照)、チオール基を有する正孔輸送性化合物をシロキサンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体(例えば特許文献9参照)、チオール基を有する正孔輸送性化合物をオキセタンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体(例えば特許文献10参照)等が開示されている。 Further, a film made of a compound obtained by polymerizing a hole transporting compound having two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule (see, for example, Patent Document 8), and a hole transporting compound having a thiol group in the siloxane matrix An electrophotographic photoreceptor using a film obtained by doping and curing a film (see, for example, Patent Document 9), and an electrophotographic photoreceptor using a film obtained by doping a hole transporting compound having a thiol group into an oxetane matrix and curing the film ( For example, refer to Patent Document 10).
本発明の目的は、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外のものに比べ、それを用いて形成した膜において優れた電気特性を得ることにある。 An object of the present invention is to obtain excellent electrical characteristics in a film formed using a material other than the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1).
上記課題は、以下の本発明によって達成される。
即ち、請求項1に係る発明は、
下記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料である。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
The above object is achieved by the present invention described below.
That is, the invention according to claim 1
It is a thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1).
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
請求項2に係る発明は、
前記一般式(1)における前記Fが、正孔輸送能を有する有機基である請求項1に記載のチオール基含有電荷輸送材料である。
The invention according to claim 2
2. The thiol group-containing charge transport material according to claim 1, wherein the F in the general formula (1) is an organic group having a hole transport capability.
請求項3に係る発明は、
下記一般式(2)で示される請求項1または請求項2に記載のチオール基含有電荷輸送材料である。
The invention according to claim 3
The thiol group-containing charge transport material according to claim 1 or 2 represented by the following general formula (2).
(式(2)中、Dは−(G)a−X−Y−SHで表される結合基を、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を表す。Ar1乃至Ar5のうちの1個以上4個以下は−(G)a−X−Y−SHで表される結合基と結合し得る結合手を有し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を、kは0または1を表す。) (In Formula (2), D represents a linking group represented by-(G) a -XY-SH, Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substitution. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group, G is a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, X is a -CO-O- group or -O-CO- group, Represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and a represents 0 or 1. One to four of Ar 1 to Ar 5 is-(G) a -XY-SH. And has a bond that can be bonded to the bonding group represented, c1 to c5 each independently represents an integer of 0 to 2, and k represents 0 or 1.)
請求項4に係る発明は、
下記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶媒中に溶解したチオール基含有電荷輸送材料溶解液である。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
The invention according to claim 4
A thiol group-containing charge transport material solution in which a thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1) is dissolved in a solvent.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
請求項5に係る発明は、
下記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて形成された膜を備える光電変換デバイスである。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
The invention according to claim 5
It is a photoelectric conversion device provided with the film | membrane formed using the solution which the thiol group containing charge transport material shown by following General formula (1) melt | dissolved.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
請求項6に係る発明は、
前記膜が、前記チオール基含有電荷輸送材料が重合されてなる重合体を含有する請求項5に記載の光電変換デバイスである。
The invention according to claim 6
The photoelectric conversion device according to claim 5, wherein the film contains a polymer obtained by polymerizing the thiol group-containing charge transport material.
請求項7に係る発明は、
導電性基体上に、下記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて形成された層を有する電子写真感光体である。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
The invention according to claim 7 provides:
An electrophotographic photoreceptor having a layer formed on a conductive substrate using a solution in which a thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1) is dissolved.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
請求項1に係る発明によれば、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外のものに比べ、それを用いて形成した膜において優れた電気特性が得られる。 According to the first aspect of the present invention, excellent electrical characteristics can be obtained in a film formed using a material other than the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1).
請求項2に係る発明によれば、一般式(1)におけるFが正孔輸送能を有する有機基でない場合に比べ、それを用いて形成した膜において優れた正孔輸送性が得られる。 According to the second aspect of the present invention, compared with the case where F in the general formula (1) is not an organic group having a hole transporting ability, excellent hole transportability can be obtained in a film formed using the group.
請求項3に係る発明によれば、一般式(2)で示されるチオール基含有電荷輸送材料以外のものに比べ、それを用いて形成した膜において優れた正孔輸送性が得られる。 According to the invention of claim 3, excellent hole transportability can be obtained in a film formed using a material other than the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (2).
請求項4に係る発明によれば、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解されていない場合に比べ、それを用いて形成した膜において優れた電気特性が得られる。 According to the fourth aspect of the present invention, excellent electrical characteristics can be obtained in a film formed using the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) as compared with the case where the thiol group-containing charge transport material is not dissolved.
請求項5に係る発明によれば、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解された溶解液を用いて形成された膜を有しない場合に比べ、電気特性に優れた光電変換デバイスが得られる。 According to the fifth aspect of the present invention, the photoelectric characteristics excellent in electrical characteristics can be obtained as compared with the case where the film formed using the solution in which the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) is dissolved is not provided. A conversion device is obtained.
請求項6に係る発明によれば、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が重合されてなる重合体を含有しない場合に比べ、機械的強度および耐熱性に優れた光電変換デバイスが得られる。 According to the invention of claim 6, the photoelectric conversion device is superior in mechanical strength and heat resistance as compared with a case where the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) does not contain a polymer obtained by polymerization. Is obtained.
請求項7に係る発明によれば、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解された溶解液を用いて形成された層を有しない場合に比べ、電気特性に優れた電子写真感光体が得られる。 According to the invention according to claim 7, an electron excellent in electrical characteristics as compared with a case where the layer formed using a solution in which the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) is dissolved is not included. A photographic photoreceptor is obtained.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
本実施形態に係るチオール基含有電荷輸送材料は、下記一般式(1)で示される。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
The thiol group-containing charge transport material according to this embodiment is represented by the following general formula (1).
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、極性基として−SHを有しており、−OHや−NH−などのキャリア輸送を妨げる極性基が比較的少ないため、これを用いて形成された膜においても電荷を捕獲するトラップの形成が抑制され、残留電位の蓄積が抑制されるものと推察される。
また、通常、多官能の電荷輸送材料を架橋して得た膜では、固定化されることに伴って膜中での残留歪が増大するが、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、電荷輸送性成分が運動自由度の高いチオエステル基を介して架橋されるために膜中での残留歪が抑制され、構造的なトラップを生じにくいため、これらによって優れた電気特性が得られるものと推察される。
そのため、優れた電気特性を得たまま、更に形成する膜の厚さをより厚くし得る。
The thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) has —SH as a polar group, and since there are relatively few polar groups that hinder carrier transport such as —OH and —NH—, this is used. In the film formed in this way, it is presumed that formation of traps for trapping charges is suppressed, and accumulation of residual potential is suppressed.
In addition, in a film obtained by crosslinking a polyfunctional charge transport material, the residual strain in the film increases as it is immobilized, but the thiol group-containing charge represented by the general formula (1) In the transport material, the charge transport component is cross-linked through a thioester group having a high degree of freedom of movement, so that residual strain in the film is suppressed and structural traps are hardly generated. It is assumed that it will be obtained.
Therefore, the thickness of the film to be formed can be further increased while obtaining excellent electrical characteristics.
また、形成される膜の強度を高める目的で、電荷輸送材料に対し更に多官能のアクリルモノマーを混合して成膜する場合、通常の電荷輸送材料では両者の相溶性が低いために上記多官能のアクリルモノマーの添加量を上げるには限界がある。しかし、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、多官能のアクリルモノマーと類似したエステル構造を有しており、両者が相溶性に優れるために、多官能のアクリルモノマーと相分離を生じることなく架橋され、電気特性と強度とを兼ね備えた膜が得られるものと推察される。 In addition, for the purpose of increasing the strength of the formed film, when the polyfunctional acrylic monomer is further mixed with the charge transport material, the above-mentioned polyfunctional is used because the compatibility between the two is low in the ordinary charge transport material. There is a limit to increasing the amount of acrylic monomer added. However, since the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) has an ester structure similar to that of a polyfunctional acrylic monomer and both are excellent in compatibility, it is compatible with the polyfunctional acrylic monomer. It is presumed that a film having both electrical properties and strength can be obtained by crosslinking without causing separation.
更に、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いて膜を形成することで、結晶化が抑制され、厚みのムラが抑制された薄膜が容易に得られ、その結果電気特性に優れるものと推察される。
尚、架橋構造とすることで一層耐熱性、耐溶剤性の高い膜が得られ、長期に渡って安定した性能が得られる。
Furthermore, by forming a film using the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1), a thin film in which crystallization is suppressed and thickness unevenness is easily suppressed can be easily obtained. It is assumed that it is excellent.
In addition, by setting it as a crosslinked structure, a film with much higher heat resistance and solvent resistance can be obtained, and stable performance can be obtained over a long period of time.
<チオール基含有電荷輸送材料>
本実施形態の新規なチオール基含有電荷輸送材料は、下記一般式(1)で示される。
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
<Thiol group-containing charge transport material>
The novel thiol group-containing charge transport material of this embodiment is represented by the following general formula (1).
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
Gとしては、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルキレン基(直鎖状、分枝鎖状、環状のものを含む)、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルケニル基、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルキレン基と−O−とを組合わせた有機基、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルケニル基と−O−とを組合わせた有機基、等が好ましいものとして挙げられる。これらの中でも、直鎖状且つ未置換であり炭素数1以上5以下のアルキレン基、直鎖状且つ未置換であり炭素数1以上5以下のアルキレン基と−O−とを組合わせた有機基がより好ましい。 G is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms (including linear, branched or cyclic), a substituted or unsubstituted alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, An organic group in which a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and —O— is combined, and an organic group in which a substituted or unsubstituted alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms and —O— is combined. Group, etc. are mentioned as preferred. Among these, a linear and unsubstituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a linear and unsubstituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and a combination of —O—. Is more preferable.
尚、上記置換基としては、例えばハロゲン、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。 In addition, as said substituent, a halogen, an alkyl group, an alkoxy group etc. are mentioned, for example.
より具体的には、−CH2−、−C2H4−、−C3H6−、−C4H8−、−C5H10−、−O−C2H4−O−、−CH2−O−C2H4−O−、−CH=CH−CH2−、−O−C2H2−O−、−CH2−O−C2H2−O−等が好ましいものとして挙げられ、これらの中でも、−CH2−、−C2H4−、−C3H6−、−C4H8−、−C5H10−、−O−C2H4−O−、−CH2−O−C2H4−O−が特に好ましい。 More specifically, —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —C 3 H 6 —, —C 4 H 8 —, —C 5 H 10 —, —O—C 2 H 4 —O—, -CH 2 -O-C 2 H 4 -O -, - CH = CH-CH 2 -, - O-C 2 H 2 -O -, - CH 2 -O-C 2 H 2 -O- are preferred Among them, among them, —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —C 3 H 6 —, —C 4 H 8 —, —C 5 H 10 —, —O—C 2 H 4 — O— and —CH 2 —O—C 2 H 4 —O— are particularly preferred.
Yとしては、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルキレン基(直鎖状、分枝鎖状、環状のものを含む)、置換もしくは未置換の炭素数1以上5以下のアルケニル基等が好ましいものとして挙げられる。尚、上記置換基としては、例えば−SH、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられ、これらの中でも特に−SH基が好ましい。
これらの中でも、直鎖状または分枝鎖状であり、−SH基で置換されているかまたは未置換であり、且つ炭素数1以上5以下のアルキレン基がより好ましい。
Y represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms (including linear, branched or cyclic), a substituted or unsubstituted alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the like. Is preferable. Examples of the substituent include —SH, halogen, an alkyl group, and an alkoxy group. Among these, an —SH group is particularly preferable.
Among these, an alkylene group which is linear or branched, is substituted with an —SH group or is unsubstituted, and has 1 to 5 carbon atoms is more preferable.
より具体的には、−CH2−、−C2H4−、−CH(CH3)−CH2−、−CH(CH3)−、−CH2−CH(SH)−CH2−、−CH2−CH(CH2−SH)−等が好ましいものとして挙げられる。 More specifically, —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —CH (CH 3 ) —CH 2 —, —CH (CH 3 ) —, —CH 2 —CH (SH) —CH 2 —, -CH 2 -CH (CH 2 -SH) - , and the like as preferred.
Fは、電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などが用いられる。 F represents a structure having charge transporting properties, specifically, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, Stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone compounds, and the like are used.
これらのうち、アリールアミン骨格を有するものが、電荷輸送性が高いため好ましく、特に一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料の中でも、下記一般式(2)で表されるものが最も好ましい。 Among these, those having an arylamine skeleton are preferable because of their high charge transport properties, and among the thiol group-containing charge transport materials represented by the general formula (1), those represented by the following general formula (2) are preferable. Most preferred.
(式(2)中、Dは−(G)a−X−Y−SHで表される結合基を、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を表す。Ar1乃至Ar5のうちの1個以上4個以下は−(G)a−X−Y−SHで表される結合基と結合し得る結合手を有し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を、kは0または1を表す。) (In Formula (2), D represents a linking group represented by-(G) a -XY-SH, Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substitution. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group, G is a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, X is a -CO-O- group or -O-CO- group, Represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and a represents 0 or 1. One to four of Ar 1 to Ar 5 is-(G) a -XY-SH. And has a bond that can be bonded to the bonding group represented, c1 to c5 each independently represents an integer of 0 to 2, and k represents 0 or 1.)
一般式(2)において、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、−D(即ち−(G)a−X−Y−SHで表される結合基)以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下のアリール基等が挙げられ、且つこれらのアルキル基、アルコキシ基、アリール基は置換、未置換の何れであってもよい。
In the general formula (2), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are the same. But it may be different or different.
Here, as a substituent in the substituted aryl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, carbon other than -D (that is, a linking group represented by-(G) a -XY-SH), carbon Examples thereof include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and these alkyl groups, alkoxy groups, and aryl groups may be substituted or unsubstituted.
Ar1、Ar2、Ar3およびAr4としては、下記式(1)乃至(7)のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式(1)乃至(7)は、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4の各々に連結され得る「−(D)C1」乃至「−(D)C4」を総括的に示した「−(D)C」と共に示す。 Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are preferably any of the following formulas (1) to (7). The following formulas (1) to (7) collectively indicate “— (D) C1 ” to “— (D) C4 ” that can be linked to each of Ar 1 , Ar 2 , Ar 3, and Ar 4. It is shown together with "-(D) C ".
上記式(1)乃至(7)中、R1は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、および炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表し、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Arは置換または未置換のアリーレン基を表し、Dは−(G)a−X−Y−SHで表される結合基を表し、cは0、1または2を表し、sは0または1を表し、tは0以上3以下の整数を表し、Z’は2価の有機連結基を示す。 In the above formulas (1) to (7), R 1 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Represents one selected from the group consisting of a phenyl group, an unsubstituted phenyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, wherein R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a carbon number An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, And Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group, D represents a linking group represented by-(G) a -X-Y-SH, and c represents Represents 0, 1 or 2 S represents 0 or 1, t represents an integer of 0 to 3, and Z ′ represents a divalent organic linking group.
ここで、式(7)中のArとしては、下記構造式(8)または(9)で表されるものが望ましい。 Here, as Ar in Formula (7), what is represented by following Structural formula (8) or (9) is desirable.
上記式(8)および(9)中、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t’はそれぞれ0以上3以下の整数を表す。 In the above formulas (8) and (9), R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms. It represents one selected from the group consisting of the following phenyl groups substituted with alkoxy groups, unsubstituted phenyl groups, aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms, and halogen atoms, and t ′ is 0 or more and 3 or less, respectively. Represents an integer.
また、前記式(7)中、Z’は、下記式(10)乃至(17)のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、sはそれぞれ0または1を表す。 In the formula (7), Z ′ is preferably represented by any one of the following formulas (10) to (17). S represents 0 or 1, respectively.
上記式(10)乃至(17)中、R7およびR8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、およびハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、qおよびrはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、t”はそれぞれ0以上3以下の整数を表す。 In the above formulas (10) to (17), R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms. It represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with the following alkoxy group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, W represents a divalent group, q and r each independently represent an integer of 1 to 10, and t ″ represents an integer of 0 to 3.
前記式(16)乃至(17)中のWとしては、下記(18)乃至(26)で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式(25)中、uは0以上3以下の整数を表す。 W in the formulas (16) to (17) is preferably any one of divalent groups represented by the following (18) to (26). However, in formula (25), u represents an integer of 0 or more and 3 or less.
また、一般式(2)中、Ar5は、kが0のときは置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ar1乃至Ar4の説明で例示されたアリール基が挙げられる。また、kが1のとき、Ar5は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ar1乃至Ar4の説明で例示されたアリール基から水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。 In general formula (2), Ar 5 is a substituted or unsubstituted aryl group when k is 0, and examples of the aryl group include the aryl groups exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4. It is done. When k is 1, Ar 5 is a substituted or unsubstituted arylene group. The arylene group includes an arylene group obtained by removing one hydrogen atom from the aryl group exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4. Is mentioned.
一般式(2)における−D(即ち−(G)a−X−Y−SHで表される結合基)における、GおよびYとしては、一般式(1)の説明において例示された各基が挙げられる。 As G and Y in -D in General Formula (2) (that is, a linking group represented by-(G) a -XY-SH), each group exemplified in the description of General Formula (1) is Can be mentioned.
上記一般式(2)中、c1乃至c5は各々独立に0、1または2を表し、Dの総数は1以上である。得られる硬化膜の強度を高め、繰り返し使用後の画質の低下を抑える観点からは、Dの総数は2以上であることが好適であり、4以上であることが更に好適である。 In the general formula (2), c1 to c5 each independently represents 0, 1 or 2, and the total number of D is 1 or more. From the viewpoint of increasing the strength of the resulting cured film and suppressing the deterioration of image quality after repeated use, the total number of D is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more.
ここで、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料の具体例を下記に例示するが、これに限られるものではない。尚、一般式(1)で示される化合物の例を示す以下の表では、F−(G)a−と−X−との接続部を「*」で、−X−と−Y−SHとの接続部を「#」で表す。 Here, although the specific example of the thiol group containing charge transport material shown by General formula (1) is illustrated below, it is not restricted to this. In the following table showing examples of the compound represented by the general formula (1), the connecting portion of F- (G) a -and -X- is represented by "*", -X- and -Y-SH and The connection part is represented by “#”.
次いで、合成法について説明する。
一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料は、通常のエステル化反応で合成される。
例えば、特開平9−31039号公報などに記載されたエステル基を含有するアリールアミン化合物を含チオールアルコールとエステル交換反応を行う方法や、エステル基を含有するアリールアミン化合物を加水分解によりフリーのカルボン酸とした後に、含チオールアルコール、あるいは含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物またはヨウ素化物などでエステル化する方法等により合成される。また、エステル基を含有するアリールアミン化合物をリチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウムなどで対応するアルコールに還元した後に、含チオールカルボン酸化合物と反応させることで合成される。
Next, the synthesis method will be described.
The thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) is synthesized by a normal esterification reaction.
For example, a method of transesterifying an arylamine compound containing an ester group described in JP-A-9-31039 with an thiol-containing alcohol, or free hydrolysis of an arylamine compound containing an ester group by hydrolysis. The acid is synthesized by a method of esterifying with a thiol-containing alcohol or a thiol-containing hydrocarbon chlorinated, brominated or iodinated, etc. In addition, an arylamine compound containing an ester group is synthesized by reducing it to the corresponding alcohol with lithium aluminum hydride, sodium borohydride or the like and then reacting with the corresponding thiol-containing carboxylic acid compound.
また、下記一般式(3)で示されるアルコールと、下記一般式(4)で示されるカルボン酸、あるいは下記一般式(5)で示されるカルボン酸と、下記一般式(6)で示されるアルコールを、硫酸、p−トルエンスルホン酸などの酸触媒を用いてエステル化することにより合成される。また、カルボン酸の代わりに対応するカルボン酸クロライドを用いてもよい。 Further, an alcohol represented by the following general formula (3), a carboxylic acid represented by the following general formula (4), a carboxylic acid represented by the following general formula (5), and an alcohol represented by the following general formula (6) Is synthesized by esterification using an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid. Moreover, you may use the corresponding carboxylic acid chloride instead of carboxylic acid.
F−[(G)a−OH]b 一般式(3)
HOOC−Y−SH 一般式(4)
F−[(G)a−COOH]b 一般式(5)
HO−Y−SH 一般式(6)
(式中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を示し、aは0または1を、bは1以下6以下の整数を表わす。)
F-[(G) a -OH] b General formula (3)
HOOC-Y-SH General formula (4)
F-[(G) a -COOH] b General formula (5)
HO-Y-SH General formula (6)
(In the formula, F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms. A represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
エステル交換は、たとえば、実験化学講座、第4版、28巻、P.217などに記載されたように、過剰量の含チオールアルコールと、チタン、スズ、亜鉛などの有機金属化合物を用いて加熱することで行われる。 Transesterification is described in, for example, Experimental Chemistry Course, 4th edition, volume 28, p. As described in 217 and the like, it is carried out by heating using an excess amount of a thiol-containing alcohol and an organometallic compound such as titanium, tin, or zinc.
含チオールアルコールは、アリールアミン化合物のエステル基に対し1当量以上、好ましくは、1.2当量以上、より好ましくは1.5当量以上加えることが好ましい。
硫酸、リン酸などの無機酸、チタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなどの酢酸塩あるいは炭酸塩、亜鉛や鉛の酸化物を触媒として加えてもよい。触媒は、アリールアミン化合物1質量部に対して、1/10000質量部以上1質量部以下、好ましくは1/1000質量部以上1/2質量部以下で用いることが好ましい。
The thiol-containing alcohol is preferably added in an amount of 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, more preferably 1.5 equivalents or more with respect to the ester group of the arylamine compound.
An inorganic acid such as sulfuric acid or phosphoric acid, an acetate or carbonate such as titanium alkoxide, calcium or cobalt, or an oxide of zinc or lead may be added as a catalyst. The catalyst is preferably used in an amount of 1/10000 parts by mass or more and 1 part by mass or less, and preferably 1/1000 parts by mass or more and 1/2 part by mass or less with respect to 1 part by mass of the arylamine compound.
反応は、反応温度100℃以上300℃以下で行うことが好ましく、更に好ましくは脱離するアルコールの沸点以上で行う。 The reaction is preferably performed at a reaction temperature of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, more preferably at a boiling point or higher of the alcohol to be eliminated.
アリールアミン化合物のエステル基としては、エステル交換反応を促進するため、メタノール、エタノールなどの低沸点アルコールとのエステルが好ましい。
反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で行うことが好ましく、またp−シメン、1−クロロナフタレンなどの高沸点溶剤を用いて反応させてもよい。
The ester group of the arylamine compound is preferably an ester with a low-boiling alcohol such as methanol or ethanol in order to promote the transesterification reaction.
The reaction is preferably performed in an inert gas such as nitrogen or argon, and may be performed using a high boiling point solvent such as p-cymene or 1-chloronaphthalene.
アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第4版、20巻、P.51などに記載されたように、NaOH、K2CO3などの塩基性触媒、あるいはリン酸、硫酸などの酸性触媒を用いる加水分解により行われる。この際、溶剤としては、種々のものが使用されるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることが好ましい。さらに、溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶剤量に特に制限はないが、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下で用いることが好ましい。
反応温度は、室温(20℃)以上溶剤の沸点以下で設定され、反応速度の問題上、50℃以上が好ましい。
触媒の量については特に制限はないが、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して0.001質量部以上1質量部以下、好ましくは0.01質量部以上0.5質量部以下で用いることが好ましい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を塩酸などの酸で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶生成を行った後、乾燥して使用してもよい。
The arylamine compound carboxylic acid is prepared by reacting an ester group of an arylamine compound with, for example, Experimental Chemistry Course, 4th Edition, Volume 20, P.I. As described in No. 51 and the like, it is carried out by hydrolysis using a basic catalyst such as NaOH and K 2 CO 3 or an acidic catalyst such as phosphoric acid and sulfuric acid. In this case, various solvents are used, but it is preferable to use an alcohol such as methanol, ethanol, ethylene glycol, or a mixture of water. Further, when the solubility is low, methylene chloride, chloroform, toluene, dimethyl sulfoxide, ether, tetrahydrofuran or the like may be added.
Although there is no restriction | limiting in particular in the amount of solvents, It is preferable to use 1 to 100 mass parts with respect to 1 mass part of arylamine compounds containing an ester group, Preferably it is 2 to 50 mass parts.
The reaction temperature is set from room temperature (20 ° C.) to the boiling point of the solvent, and is preferably 50 ° C. or higher in view of the reaction rate.
Although there is no restriction | limiting in particular about the quantity of a catalyst, 0.001 mass part or more and 1 mass part or less with respect to 1 mass part of arylamine compounds containing an ester group, Preferably it is 0.01 mass part or more and 0.5 mass part or less. It is preferable to use in.
When hydrolysis is performed with a basic catalyst after the hydrolysis reaction, the resulting salt is neutralized with an acid such as hydrochloric acid and released. Furthermore, after washing thoroughly with water, use it after drying, or if necessary, recrystallize it with an appropriate solvent such as methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, acetone, etc., and use it after drying. Also good.
アリールアミン化合物カルボン酸に対し、含チオールアルコールを1当量以上、好ましくは1.2当量以上、より好ましくは1.5当量以上加えることが好ましい。
硫酸、リン酸などの無機酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸を触媒として脱水、エステル化により合成する。触媒は、アリールアミン化合物の1質量部に対して、1/10000質量部以上1質量部以下、好ましくは1/1000質量部以上1/2質量部以下で用いることが好ましい。
It is preferable to add 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalent or more, more preferably 1.5 equivalent or more of the thiol-containing alcohol to the arylamine compound carboxylic acid.
It is synthesized by dehydration and esterification using an inorganic acid such as sulfuric acid and phosphoric acid and an organic acid such as p-toluenesulfonic acid as a catalyst. The catalyst is preferably used in an amount of 1/10000 parts by mass or more and 1 part by mass or less, and preferably 1/1000 parts by mass or more and 1/2 part by mass or less with respect to 1 part by mass of the arylamine compound.
反応は、重合中に生成する水を除去するために、水と共沸し得る溶剤を用いることが好ましい。トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレンなどが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いることが好ましい。
反応温度は自由に設定されるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
In the reaction, in order to remove water generated during the polymerization, it is preferable to use a solvent that can be azeotroped with water. Toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene and the like are effective, and used in the range of 1 part by mass to 100 parts by mass, preferably 2 parts by mass to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the arylamine compound carboxylic acid. Is preferred.
The reaction temperature is freely set, but it is preferable to carry out the reaction at the boiling point of the solvent in order to remove water generated during the polymerization. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and further purified using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay if necessary. Also good.
また、Cl,Br,I等のハロゲン基を有する含チオール炭化水素を、アリールアミン化合物カルボン酸の酸基に対し1等量以上5等量以下、好ましくは1.1等量以上3等量以下と、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基と、をN−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤などの有機溶剤中で反応させ合成する。
塩基はカルボン酸に対し、1等量以上3等量以下、好ましくは1等量以上2等量以下で使用することが好ましい。使用する非プロトン性の有機溶媒はカルボン酸誘導体に対し1質量部以上50質量部以下、好ましくは1.5質量部以上30質量部以下で用いることが好ましい。
反応温度は、0℃以上溶剤の沸点以下で自由に設定されるが、0℃以上150℃以下が好ましい。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
In addition, the thiol-containing hydrocarbon having a halogen group such as Cl, Br, or I is 1 equivalent or more and 5 equivalents or less, preferably 1.1 equivalent or more and 3 equivalents or less with respect to the acid group of the arylamine compound carboxylic acid. And bases such as pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc., and non-bases such as N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, etc. It is synthesized by reacting in an organic solvent such as a protic polar solvent, a ketone solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, or an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran.
The base is preferably used in an amount of 1 to 3 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, relative to the carboxylic acid. The aprotic organic solvent to be used is used in an amount of 1 to 50 parts by mass, preferably 1.5 to 30 parts by mass, based on the carboxylic acid derivative.
The reaction temperature is freely set between 0 ° C. and the boiling point of the solvent, but preferably 0 ° C. or more and 150 ° C. or less. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and further purified using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay if necessary. Also good.
また、アリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第4版、20巻、P.10などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元し、含チオールカルボン酸とエステル化して合成してもよい。 In addition, the ester group of the arylamine compound is described in, for example, Experimental Chemistry Course, 4th Edition, Volume 20, P.I. 10 or the like, it may be synthesized by reducing to the corresponding alcohol using lithium aluminum hydride, sodium borohydride or the like, and esterifying with a thiol-containing carboxylic acid.
<チオール基含有電荷輸送材料溶解液>
本実施形態に係るチオール基含有電荷輸送材料溶解液は、前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶媒中に溶解してなる。
<Thiol group-containing charge transport material solution>
The thiol group-containing charge transport material solution according to this embodiment is obtained by dissolving the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) in a solvent.
この溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒が、単独または混合溶媒として用いられる。 Solvents include aromatics such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, cellosolves such as ethylene glycol monomethyl ether, and the like. Solvents such as alcohols such as isopropyl alcohol and butanol are used alone or as a mixed solvent.
尚、これらの溶媒に前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を溶解する溶解方法としては、10℃から150℃、好ましくは15℃から120℃で溶剤と攪拌混合、あるいは、超音波照射しながら攪拌するなど通常の方法で行い得る。 In addition, as a dissolution method for dissolving the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) in these solvents, 10 to 150 ° C., preferably 15 to 120 ° C., and stirring and mixing with the solvent, or It can be carried out by a usual method such as stirring with ultrasonic irradiation.
本実施形態に係るチオール基含有電荷輸送材料溶解液は、例えば、光電変換デバイス(有機ELデバイス、電子写真感光体等)における膜の形成や、太陽電池、有機トランジスター等の形成に用いられる。 The thiol group-containing charge transport material solution according to the present embodiment is used, for example, for forming a film in a photoelectric conversion device (organic EL device, electrophotographic photoreceptor, etc.), forming a solar cell, an organic transistor, or the like.
<光電変換デバイス>
ついで、光電変換デバイスについて説明する。
本実施形態に係るチオール基含有電荷輸送材料は、単独で蒸着膜として膜を形成してもよいが、該チオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて膜を形成してもよい。また、この膜は、前記チオール基含有電荷輸送材料が重合されてなる重合体を含有してもよい。
尚、上記チオール基含有電荷輸送材料が、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂に分子分散させてなる膜が実用性に優れ、二重結合を有するモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーと混合し、硬化させた硬化膜が最も好ましく用いられる。
<Photoelectric conversion device>
Next, the photoelectric conversion device will be described.
The thiol group-containing charge transport material according to this embodiment may form a film as a vapor deposition film alone, but may also form a film using a solution in which the thiol group-containing charge transport material is dissolved. Further, this film may contain a polymer obtained by polymerizing the thiol group-containing charge transport material.
A film in which the thiol group-containing charge transport material is molecularly dispersed in a resin such as a polycarbonate resin, a polyarylate resin, or a polyester resin has excellent practicality and is mixed with a monomer, oligomer, or polymer having a double bond. The cured film is most preferably used.
・非反応性のバインダー樹脂
上記チオール基含有電荷輸送材料を樹脂に相溶させる場合、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂など公知の非反応性のバインダー樹脂が挙げられる。
-Non-reactive binder resin When the above thiol group-containing charge transport material is compatible with the resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, etc. Non-reactive binder resin is mentioned.
非反応性のバインダー樹脂の総含有量は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、0質量%以上60質量%以下が望ましく、より望ましくは0質量%以上55質量%以下、更に望ましくは0質量%以上50質量%以下である。 The total content of the non-reactive binder resin is desirably 0% by mass or more and 60% by mass or less, and more desirably 0% by mass or more and 55% by mass with respect to the total solid content of the composition used for forming the film. % Or less, more desirably 0% by mass or more and 50% by mass or less.
・反応性化合物
硬化する場合、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料に、さらに反応性化合物を含有させてもよく、特に、同一分子内に2つ以上の二重結合を含むモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを混合して硬化することが、強度向上に好ましい。
-Reactive compound In the case of curing, the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) may further contain a reactive compound, particularly including two or more double bonds in the same molecule. It is preferable to improve the strength by mixing monomers, oligomers or polymers and curing.
反応性化合物として、1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。 As a reactive compound, monofunctional monomers include, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate Phenoxypolyethyleneglycol Le acrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate and styrene.
反応性化合物として、2官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。 As a reactive compound, bifunctional monomers include, for example, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane. Examples include diol di (meth) acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate.
反応性化合物として、3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the trifunctional monomer as the reactive compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, aliphatic tri (meth) acrylate, and trivinylcyclohexane.
反応性化合物として、4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As the reactive compound, examples of the tetrafunctional monomer include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate.
反応性化合物として、5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As a reactive compound, pentafunctional or higher monomers include, for example, (pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc.), polyester skeleton, urethane skeleton, phosphazene skeleton (meth) acrylate, etc. Is mentioned.
また、反応性化合物として、反応性のポリマーは、例えば、特開平5−216249号公報、特開平5−323630号公報、特開平11―52603号公報、特開2000−264961号公報、特開2005−2291号公報などに開示されたものが挙げられる。 Further, as reactive compounds, reactive polymers include, for example, JP-A-5-216249, JP-A-5-323630, JP-A-11-52603, JP-A-2000-264961, and JP-A-2005. Examples disclosed in Japanese Patent No. 2291.
反応性化合物を用いる場合には、単独または2種以上の混合物として使用される。反応性化合物は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、好ましくは60質量%以下、より好ましくは55質量%以下で用い、更に好ましくは50質量%以下で使用される。 When using a reactive compound, it is used individually or in mixture of 2 or more types. The reactive compound is preferably used in an amount of 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, and further preferably 50% by mass or less, based on the total solid content of the composition used for forming the film. The
・重合、硬化
前記チオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用い、該溶解液中の成分を重合することで硬化された膜を得る場合、その重合の際には熱、光、放射線などが用いられる。熱、光で重合、硬化を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒または熱重合開始剤を用いてもよい。この光硬化触媒および熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が好ましい。
-Polymerization and curing When using a solution in which the thiol group-containing charge transport material is dissolved and obtaining a cured film by polymerizing the components in the solution, heat, light, radiation, etc. Is used. When polymerization and curing are performed with heat and light, a polymerization initiator is not necessarily required, but a photocuring catalyst or a thermal polymerization initiator may be used. As this photocuring catalyst and thermal polymerization initiator, a known photocuring catalyst or thermal polymerization initiator is used. The radiation is preferably an electron beam.
−電子線硬化−
電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が好ましく、最適には150KV以下である。また、線量は好ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より好ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
-Electron beam curing-
When an electron beam is used, the acceleration voltage is preferably 300 KV or less, and optimally 150 KV or less. The dose is preferably in the range of 1 Mrad to 100 Mrad, more preferably in the range of 3 Mrad to 50 Mrad. When the acceleration voltage is 300 KV or less, damage caused by electron beam irradiation on the characteristics of the photoreceptor is suppressed. Further, when the dose is 1 Mrad or more, crosslinking is sufficiently performed, and when the dose is 100 Mrad or less, deterioration of the photoreceptor is suppressed.
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が1000ppm、好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of 1000 ppm, preferably 500 ppm or less, and may be further heated to 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower during or after irradiation.
−光硬化−
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm2以上、1000mW/cm2以下が好ましく、例えば600mW/cm2のUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。
-Light curing-
As the light source, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used, and a suitable wavelength may be selected using a filter such as a band-pass filter. Irradiation time, the light intensity is selected freely, for example, the illuminance (365 nm) is 300 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, for example, the case of irradiation with UV light of 600 mW / cm 2, 5 seconds or more 360 What is necessary is just to irradiate for less than a second.
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, preferably at an oxygen concentration of 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and may be further heated to 50 ° C. or more and 150 ° C. or less during or after the irradiation.
光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。
Examples of the photocuring catalyst include intramolecular cleavage types such as benzyl ketal, alkylphenone, aminoalkylphenone, phosphine oxide, titanocene, and oxime.
More specifically, examples of the benzyl ketal system include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one.
また、アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。 Examples of the alkylphenone series include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]. 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl- Examples include propan-1-one, acetophenone, and 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone.
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。 Examples of aminoalkylphenones include p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1 -Butanone and the like.
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。 Examples of the phosphinoxide include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。 Examples of the titanocene include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。 Examples of oxime compounds include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)- 9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) and the like.
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
Examples of the hydrogen abstraction type include benzophenone series, thioxanthone series, benzyl series, and Michler ketone series.
More specifically, examples of the benzophenone series include 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, p, p′-bisdiethylaminobenzophenone, and the like. Can be mentioned.
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。 Examples of the thioxanthone series include 2,4-diethylthioxanthen-9-one, 2-chlorothioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone.
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。 Examples of the benzyl type include benzyl, (±) -camphorquinone, p-anisyl and the like.
これらの光重合開始剤は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて用られる。 These photopolymerization initiators are used alone or in combination of two or more.
−熱硬化−
熱重合開始剤としては、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−73、Vam−110、Vam−111(和光純薬製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBM、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531などが挙げられる。
-Thermosetting-
As thermal polymerization initiators, V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF-096, VE-73, Vam-110, Vam-111 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), OTazo -15, OTazo-30, AIBM, AMBN, ADVN, ACVA (Otsuka Chemical) and other azo initiators; Pertetra A, Perhexa HC, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H, Park Mill H, Park Mill H P, Permenta H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, Parhexyl D, Parroyl IB, Parroyl 355, Parroyl L, Parroyl SA, Nipper BW, Nipper BMT-K40 / M, Parroyl IPP, Parroyl NPP, Parroyl TCP, Parroyl OPP , Parroyl SBP, Park Mill D, perocta ND, perhexyl ND, perbutyl ND, perbutyl NHP, perhexyl PV, perbutyl PV, perhexa 250, perocta O, perhexyl O, perbutyl O, perbutyl L, perbutyl 355, perhexyl I, perbutyl I, perbutyl E, perhexa 25Z, Perbutyl A, Perhexyl Z, Perbutyl ZT, Perbutyl Z (manufactured by NOF Chemical), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Parkadox L-W75, Parkadox CH-50L, Trigonox TMBH, Kayacumene H, Kayabutyl H-70, Percadox BC-FF, Kaya Hexa AD, Parka Dox 14, Kaya Butyl C, Kaya Butyl D, Kaya Hexa YD-E85, Parka Dox 12-XL25, Cadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox D-T50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W50N, Trigonox 257- C70, Kaya ester P-70, Kaya ester TMPO-70, Trigonox 121, Kaya ester O, Kaya ester HTP-65W, Kaya ester AN, Trigonox 42, Trigonox F-C50, Kayabutyl B, Kaya Carbon EH-C70, Kaya Carbon EH- W60, Kayacaron I-20, Kayacaron BIC-75, Trigonox 117, Kayalen 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo), Lurpelox 610, Lupelock 188, Lupelox 844, Lupelox 259, Lupelox 10, Lupelox 701, Lupelox 11, Lupelox 26, Lupelox 80, Lupelox 7, Lupelox 270, Lupelox P, Lupelox 546, Lupelox 554, Lupelox TANPO 55 , Lupelox TAP, Lupelox TBIC, Lupelox TBEC, Lupelox JW, Lupelox TAIC, Lupelox TAEC, Lupelox DC, Lupelox 101, Lupelox F, Lupelox DI, Lupelox 130, Lupelox 220, Lupelox 230, Lupelox 233, Lupelox 233, etc.
これらのうち、分子量250以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラの抑制された高強度の膜の形成が図られる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、250以上であり、300以上が更に好適である。 Among these, when an azo polymerization initiator having a molecular weight of 250 or more is used, the reaction proceeds without unevenness at a low temperature, so that formation of a high-strength film with suppressed unevenness can be achieved. More preferably, the molecular weight of the azo polymerization initiator is 250 or more, and more preferably 300 or more.
加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、好ましくは50℃以上170℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下で、好ましくは10分以上120分以下、より好ましくは15分以上100分以下加熱する。 The heating is performed under an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and the oxygen concentration is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, preferably 50 ° C. or more and 170 ° C. or less, more preferably 70 ° C. or more and 150 ° C. or less. Preferably it is 10 minutes or more and 120 minutes or less, More preferably, 15 minutes or more and 100 minutes or less are heated.
光硬化触媒または熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下が好ましく、更には0.1質量%以上8質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上5質量%以下の範囲が特に好ましい。 The total content of the photocuring catalyst or the thermal polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more, based on the total solid content in the solution for forming the layer. 8 mass% or less is more preferable, and the range of 0.1 mass% or more and 5 mass% or less is especially preferable.
〔電子写真感光体〕
本実施形にかかる電子写真感光体は、導電性基体上に、前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて形成された層を有する。
[Electrophotographic photoconductor]
The electrophotographic photosensitive member according to this embodiment has a layer formed on a conductive substrate using a solution in which the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) is dissolved.
さらに、架橋性モノマー自身を多官能の電荷輸送性モノマーとすることで、電荷輸送成分の濃度を低下させることなく強度を付与してもよい。 Furthermore, strength may be imparted without reducing the concentration of the charge transport component by making the crosslinkable monomer itself a polyfunctional charge transport monomer.
本実施形態に係る電子写真感光体では、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を含有する層を最表面層として有するものが好ましく、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層、または電荷輸送層として機能する層として設けられる。
なお、最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層および電荷発生層からなる感光層、または単層型感光層を有することとなる。
In the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment, it is preferable that the outermost surface layer includes a layer containing the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1), and the outermost surface layer is formed of the electrophotographic photoreceptor itself. The uppermost surface may be formed and provided as a layer functioning as a protective layer or a layer functioning as a charge transport layer.
In the case where the outermost surface layer is a layer that functions as a protective layer, a photosensitive layer composed of a charge transport layer and a charge generation layer or a single-layer type photosensitive layer is provided below the protective layer.
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、および最表面層としての保護層を有し、該保護層が前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いて形成されたポリマーを含有する組成物、あるいはその硬化物を含有する層である形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、および最表面層としての電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いて形成されたポリマーを含有する組成物、あるいはその硬化物を含有する層である形態が挙げられる。
また、チオール基、不飽和結合などの反応性を有さない電荷輸送材料を混合してもよい。
When the outermost surface layer functions as a protective layer, it has a photosensitive layer and a protective layer as the outermost surface layer on the conductive substrate, and the protective layer contains a thiol group represented by the general formula (1) Examples include a composition containing a polymer formed using a charge transport material, or a layer containing a cured product thereof.
On the other hand, when the outermost surface layer is a layer that functions as a charge transport layer, it has a charge generation layer and a charge transport layer as the outermost surface layer on the conductive substrate, and the charge transport layer is represented by general formula (1) Examples include a composition containing a polymer formed using the thiol group-containing charge transporting material shown, or a layer containing a cured product thereof.
Moreover, you may mix the charge transport material which does not have reactivity, such as a thiol group and an unsaturated bond.
以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一または相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment in the case where the outermost surface layer functions as a protective layer will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
図1は、本実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図2乃至図3はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a preferred example of the electrophotographic photoreceptor according to the present exemplary embodiment. 2 to 3 are schematic sectional views showing electrophotographic photosensitive members according to other embodiments.
図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体(または積層型感光体)であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、および保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2および電荷輸送層3により感光層が構成される。 An electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function-separated photoreceptor (or laminated photoreceptor), and an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, on which a charge generation layer 2, a charge The transport layer 3 and the protective layer 5 have a structure formed in order. In the electrophotographic photoreceptor 7 </ b> A, the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 constitute a photosensitive layer.
図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aのごとく、電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、および保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3および電荷発生層2により感光層が構成される。
An electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 is a function-separated type photoreceptor in which the functions are separated into the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 like the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG.
In the electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2, a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a charge transport layer 3, a charge generation layer 2, and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. It is what has. In the electrophotographic photoreceptor 7B, the charge transport layer 3 and the charge generation layer 2 constitute a photosensitive layer.
図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6)に含有するものである。図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。 The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 contains a charge generation material and a charge transport material in the same layer (single layer type photosensitive layer 6). The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 has a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a single-layer type photosensitive layer 6 and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. .
そして、図1、図2および図3に示す電子写真感光体7A、7Bおよび7Cにおいて、保護層5が、導電性基体4から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
尚、図1、図2および図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。
In the electrophotographic photoreceptors 7A, 7B and 7C shown in FIGS. 1, 2 and 3, the protective layer 5 is the outermost surface layer disposed on the side farthest from the conductive substrate 4, and the outermost layer The surface layer has the above-described configuration.
In the electrophotographic photoreceptor shown in FIGS. 1, 2, and 3, the undercoat layer 1 may or may not be provided.
以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。 Hereinafter, each element will be described based on the electrophotographic photosensitive member 7A shown in FIG. 1 as a representative example.
−保護層−
まず、電子写真感光体7Aにおける最表面層である保護層5について説明する。
保護層5は、電子写真感光体7Aにおける最表面層であり、前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて形成されることが好ましく、一般式(1)に示される構造を部分構造として含むポリマーを含有することが好ましく、さらに硬化されていること、即ち上記チオール基含有電荷輸送材料が重合されてなる重合体を含有することが最も好ましい。
-Protective layer-
First, the protective layer 5 that is the outermost surface layer in the electrophotographic photoreceptor 7A will be described.
The protective layer 5 is the outermost surface layer in the electrophotographic photoreceptor 7A, and is preferably formed using a solution in which the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) is dissolved. It is preferable to contain a polymer containing the structure shown in 1) as a partial structure, and it is most preferable that the polymer is further cured, that is, contains a polymer obtained by polymerizing the thiol group-containing charge transport material.
硬化方法としては、熱、光、または放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると膜のムラやシワの発生が抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが望ましい。この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。 As a curing method, radical polymerization by heat, light, radiation or the like is performed. If the reaction is adjusted so that it does not proceed too quickly, the occurrence of film unevenness and wrinkles is suppressed, and therefore it is desirable to polymerize under conditions where radical generation occurs relatively slowly. From this point, thermal polymerization that allows easy adjustment of the polymerization rate is preferred.
・非反応性の電荷輸送材料
保護層(最表面層)5を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)5に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
Non-reactive charge transport material The film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5 may be used in combination with a non-reactive charge transport material. Since the non-reactive charge transport material does not have a reactive group that is not responsible for charge transport, when the non-reactive charge transport material is used for the protective layer (outermost surface layer) 5, the charge transport is substantially performed. The concentration of the component is increased, which is effective for further improving the electrical characteristics. Further, a non-reactive charge transport material may be added to reduce the crosslink density and adjust the strength.
非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
As the non-reactive charge transport material, a known charge transport material may be used. Specifically, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds. Anthracene compounds, hydrazone compounds and the like are used.
Among these, those having a triphenylamine skeleton are desirable from the viewpoint of mobility and compatibility.
非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して0質量%以上30質量%以下で用いられることが望ましく、より望ましくは1質量%以上25質量%以下であり、更に望ましくは5質量%以上25質量%以下である。 The non-reactive charge transport material is desirably used in an amount of 0% by mass to 30% by mass, and more desirably 1% by mass to 25% by mass with respect to the total solid content in the coating solution for layer formation. More preferably, it is 5 mass% or more and 25 mass% or less.
・その他の添加剤
保護層(最表面層)5を構成する硬化膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
-Other additives The cured film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5 is made of another coupling agent, particularly fluorine, for the purpose of adjusting the film formability, flexibility, lubricity, and adhesion. You may mix and use the containing coupling agent. As such a compound, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used. Moreover, you may use the silicon compound and fluorine-containing compound which have a radically polymerizable group.
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
As silane coupling agents, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, And dimethyldimethoxysilane.
As commercially available hard coat agents, KP-85, X-40-9740, X-8239 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (above, made by Toray Dow Corning) ) And the like.
また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。 In order to impart water repellency and the like, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added.
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。更に、特開2001−166510号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。
Although the silane coupling agent is used in an arbitrary amount, the amount of the fluorine-containing compound may be 0.25 times or less by mass with respect to the compound containing no fluorine from the viewpoint of the film formability of the crosslinked film. desirable. Furthermore, you may mix the reactive fluorine compound etc. which are disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-166510 etc.
Examples of the silicon compound and the fluorine-containing compound having a radical polymerizable group include compounds described in JP-A No. 2007-11005.
保護層(最表面層)5を構成する硬化膜には、劣化防止剤を添加することが好ましい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
It is preferable to add a deterioration preventing agent to the cured film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5. As the degradation inhibitor, hindered phenols or hindered amines are desirable, organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants. , Etc., may be used.
The addition amount of the deterioration inhibitor is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744、チヌビン144、チヌビン622LD、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーTPS、スミライザーTP−Dが挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10等が挙げられる。
Examples of the hindered phenol antioxidant include Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076, and 3,5-di-t-butyl-4- And hydroxybiphenyl.
Examples of the hindered amine antioxidant include Sanol LS2626, Sanol LS765, Sanol LS770, Sanol LS744, Tinuvin 144, Tinuvin 622LD, Mark LA57, Mark LA67, Mark LA62, Mark LA68, and Mark LA63. The phosphite system includes mark 2112, mark PEP-8, mark PEP-24G, mark PEP-36, mark 329K, mark HP-10, and the like.
更に、保護層(最表面層)5を構成する硬化膜には導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、好ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より好ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
Furthermore, conductive particles, organic or inorganic particles may be added to the cured film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5.
An example of such particles is silicon-containing particles. Silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples include colloidal silica and silicone particles. The colloidal silica used as the silicon-containing particles is preferably silica having an average particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less in an acidic or alkaline aqueous dispersion, or an organic solvent such as alcohol, ketone, or ester. It is selected from those dispersed in. As the particles, commercially available particles may be used.
保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層5の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。 The solid content of the colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% based on the total solid content of the protective layer 5. It is used in the range of mass% to 30 mass%.
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは1nm以上500nm以下、より好ましくは10nm以上100nm以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の全固形分全量を基準として、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
The silicone particles used as the silicon-containing particles may be selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and commercially available particles may be used.
These silicone particles are spherical, and the average particle diameter is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 10 nm to 100 nm.
The content of the silicone particles in the surface layer is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total amount of the total solid content of the protective layer 5. is there.
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、89頁”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ZnO−Al2O3、SnO2−Sb2O3、In2O3−SnO2、ZnO2−TiO2、ZnO−TiO2、MgO−Al2O3、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 Other particles include fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride. Particles composed of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin and a monomer having a hydroxyl group, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 Examples thereof include semiconductive metal oxides such as —TiO 2 , ZnO—TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO. Furthermore, various known dispersing materials may be used to disperse the particles.
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
Oil such as silicone oil may be added.
Silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as 3- (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; Hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixture, pentamethylcyclopentasiloxane, and phenylhydrocyclosiloxane And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane.
また、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が好ましい。
Metals, metal oxides, carbon black, and the like may be added. Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver and stainless steel, or those obtained by depositing these metals on the surface of plastic particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony and tantalum, and zirconium oxide doped with antimony. .
These are used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, they may be simply mixed or mixed by solid solution or fusion. The average particle size of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less.
(組成物)
保護層5を形成するために用いる組成物は、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶媒中に溶解してなる溶解液(保護層形成用塗布液)として調製されることが望ましい。
この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、トルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒などの単独または混合溶媒を用いて調製される。
(Composition)
The composition used for forming the protective layer 5 is prepared as a solution (coating solution for forming a protective layer) in which the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) is dissolved in a solvent. Is desirable.
This coating solution for forming the protective layer may be solvent-free, and if necessary, aromatics such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate and the like. It is prepared using a solvent such as an ester solvent, an ether solvent such as tetrahydrofuran or dioxane, a cellosolv solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, or an alcohol solvent such as isopropyl alcohol or butanol.
また、前述の成分を反応させて塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温(20℃)以上100℃以下、より望ましくは30℃以上80℃以下で、望ましくは10分以上100時間以下、より望ましくは1時間以上50時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。 In addition, when obtaining the coating liquid by reacting the above-mentioned components, each component may be simply mixed and dissolved, but preferably room temperature (20 ° C.) to 100 ° C., more preferably 30 ° C. to 80 ° C. Thus, the heating is preferably performed for 10 minutes to 100 hours, more preferably for 1 hour to 50 hours. It is also desirable to irradiate ultrasonic waves at this time.
(保護層5の作製)
保護層形成用塗布液は、被塗布面(図1に示す態様では電荷輸送層3)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線または熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合、硬化させる。
(Preparation of protective layer 5)
The coating liquid for forming the protective layer is formed on the surface to be coated (the charge transport layer 3 in the embodiment shown in FIG. 1) by a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife. The coating is performed by a normal method such as a coating method, a curtain coating method, or an ink jet coating method.
Thereafter, light, electron beam or heat is applied to the obtained coating film to cause radical polymerization, thereby polymerizing and curing the coating film.
熱により塗膜を重合、硬化させる際、加熱条件は50℃以上であることが望ましい。特に、加熱温度としては、100℃以上180℃以下が望ましい。 When the coating film is polymerized and cured by heat, the heating condition is desirably 50 ° C. or higher. In particular, the heating temperature is preferably 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.
光により塗膜を重合、硬化させる際、水銀灯、メタルハライドなどの公知の方法で照射して硬化膜を得る。 When the coating film is polymerized and cured by light, a cured film is obtained by irradiation with a known method such as a mercury lamp or a metal halide.
上記のような、重合、硬化反応の際には、光、電子線または熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空または不活性ガス雰囲気下で、酸素濃度が望ましくは10%以下、より望ましくは5%以下、更に望ましくは2%以下、最も望ましくは500ppm以下の低酸素濃度で行われる。 In the polymerization and curing reactions as described above, the oxygen concentration is preferably set in a vacuum or an inert gas atmosphere so that the radical generated by light, electron beam or heat can be chain-reacted without being deactivated. It is performed at a low oxygen concentration of 10% or less, more desirably 5% or less, even more desirably 2% or less, and most desirably 500 ppm or less.
本実施態様では、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が特に好ましい。 In this embodiment, a heat curing method in which radical generation occurs relatively slowly is particularly preferable.
保護層5の膜厚は3μm以上40μm以下が好ましく、5μm以上35μm以下とするのがさらに好ましい。 The thickness of the protective layer 5 is preferably 3 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 35 μm or less.
以上、図1に示される電子写真感光体7Aを参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図2に示される機能分離型の電子写真感光体7Bにおける各層においてもこの構成が採用しうる。また、図3に示される電子写真感光体7Cの単層型感光層6の場合、以下の態様であることが望ましい。 The structure of each layer in the function-separated type photosensitive layer has been described above with reference to the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1. However, in each layer in the function-separated type electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. Configurations can be employed. Further, in the case of the single-layer type photosensitive layer 6 of the electrophotographic photosensitive member 7C shown in FIG.
即ち、単層型感光層6中の電荷発生材料の含有量は、保護層(最表面層)5を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して5質量%以上50質量%以下が望ましく、更には10質量%以上40質量%以下がより望ましく、15質量%以上35質量%以下が特に好ましい。 That is, the content of the charge generating material in the single-layer type photosensitive layer 6 is 5% by mass to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition used when forming the protective layer (outermost surface layer) 5. More preferably, the content is more preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, and particularly preferably 15% by mass or more and 35% by mass or less.
単層型感光層6の形成方法は、電荷発生層2や電荷輸送層3における形成方法を採用しうる。単層型感光層6の膜厚は5μm以上50μm以下が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。 As a method for forming the single-layer type photosensitive layer 6, a method for forming the charge generation layer 2 or the charge transport layer 3 can be adopted. The film thickness of the single-layer type photosensitive layer 6 is preferably 5 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 40 μm or less.
また、上述の実施形態では、最表面層が保護層5である形態を説明したが、保護層5がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、7μm以上70μm以下が望ましく、10μm以上60μm以下がより望ましい。 In the above-described embodiment, the embodiment in which the outermost surface layer is the protective layer 5 has been described. However, in the case of a layer configuration without the protective layer 5, the charge transport layer located on the outermost surface in the layer configuration is the outermost layer. It becomes a surface layer. When the outermost surface layer is a charge transport layer, the thickness of this layer is preferably 7 μm or more and 70 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 60 μm or less.
−導電性基体−
導電性基体4としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルトが挙げられる。また、導電性基体4としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
-Conductive substrate-
Examples of the conductive substrate 4 include a metal plate, a metal drum, and a metal belt formed using a metal or an alloy such as aluminum, copper, zinc, stainless steel, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, and platinum. Is mentioned. Examples of the conductive substrate 4 include paper, plastic film, belt, etc. coated, vapor-deposited or laminated with a conductive polymer, a conductive compound such as indium oxide, or a metal or alloy such as aluminum, palladium, or gold.
Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.
電子写真感光体7Aがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体4の表面は、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化することが望ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要ない。 When the electrophotographic photosensitive member 7A is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate 4 has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more to prevent interference fringes generated when laser light is irradiated. It is desirable to roughen the surface to 5 μm or less. When non-interfering light is used as a light source, it is not particularly necessary to roughen the surface to prevent interference fringes.
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。 Surface roughening methods include wet honing by suspending an abrasive in water and spraying it on the support, or centerless grinding and anodic oxidation in which the support is brought into contact with a rotating grindstone for continuous grinding. Processing is desirable.
また、他の粗面化の方法としては、導電性基体4表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。 As another roughening method, a conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin without roughening the surface of the conductive substrate 4 to form a layer on the support surface. A method of roughening with particles dispersed in the layer is also desirably used.
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性である。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。
Here, the roughening treatment by anodic oxidation is to form an oxide film on the aluminum surface by anodizing in an electrolyte solution using aluminum as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is. Therefore, the pores in the anodized film are sealed with pressurized water vapor or boiling water (a metal salt such as nickel may be added) by volume expansion due to a hydration reaction, and a sealing process is performed to change to a more stable hydrated oxide. It is desirable.
The thickness of the anodic oxide film is desirably 0.3 μm or more and 15 μm or less.
また、導電性基体4には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸およびフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。
先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲が好ましい。処理温度は42℃以上48℃以下が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
Further, the conductive substrate 4 may be subjected to treatment with an acidic aqueous solution or boehmite treatment. The treatment with an acidic treatment solution composed of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is carried out as follows.
First, an acidic treatment liquid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is such that phosphoric acid is in the range of 10% by mass to 11% by mass, chromic acid is in the range of 3% by mass to 5% by mass, and hydrofluoric acid is 0.00%. The concentration of these acids is preferably in the range of 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The treatment temperature is preferably 42 ° C. or more and 48 ° C. or less. However, by keeping the treatment temperature high, a thicker film can be formed faster. The film thickness is preferably from 0.3 μm to 15 μm.
ベーマイト処理は、90℃以上100℃以下の純水中に5分以上60分以下浸漬すること、または90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分以上60分以下接触させて行うことが好ましい。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is preferably performed by immersing in pure water of 90 ° C. or more and 100 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less, or by contacting with heated steam of 90 ° C. or more and 120 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less. The film thickness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This may be further anodized using an electrolyte solution with low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. Good.
−下引層−
下引層1は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。
-Undercoat layer-
The undercoat layer 1 is configured by containing inorganic particles in a binder resin, for example.
As the inorganic particles, those having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ω · cm to 10 11 Ω · cm are desirably used.
なかでも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子を用いるのが望ましく、特に、酸化亜鉛は望ましく用いられる。 Among these, inorganic particles such as tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide are preferably used as the inorganic particles having the resistance value, and zinc oxide is particularly preferably used.
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど2種以上混合して用いてもよい。
無機粒子のBET法による比表面積は、10m2/g以上が望ましい。
無機粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下(望ましくは60nm以上1000nm以下)の範囲であることが望ましい。
In addition, the inorganic particles may be subjected to a surface treatment, or may be used as a mixture of two or more types such as those having different surface treatments or particles having different particle diameters.
The specific surface area of the inorganic particles by the BET method is preferably 10 m 2 / g or more.
The volume average particle size of the inorganic particles is desirably in the range of 50 nm to 2000 nm (desirably 60 nm to 1000 nm).
更に、無機粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることが好ましい。
アクセプター性化合物としては、上記特性が得られるものであれば限定されず、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。更にヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
Furthermore, it is preferable to contain an acceptor compound together with the inorganic particles.
The acceptor compound is not limited as long as the above characteristics can be obtained, and quinone compounds such as chloranil and bromoanil, tetracyanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,4 Fluorenone compounds such as 5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4 -Naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, oxadiazole compounds such as 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4 oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3, Electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as 3 ′, 5,5′tetra-t-butyldiphenoquinone are desirable, especially anthraquinone structures Compounds having desirable. Furthermore, acceptor compounds having an anthraquinone structure such as hydroxyanthraquinone compounds, aminoanthraquinone compounds, aminohydroxyanthraquinone compounds, and the like are desirably used, and specific examples include anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthracine, and purpurin.
これらのアクセプター性化合物の含有量は上記特性が得られる範囲であれば限定されないが、望ましくは無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下の範囲で含有され、更に0.05質量%以上10質量%以下の範囲で添加されることが望ましい。 The content of these acceptor compounds is not limited as long as the above characteristics are obtained, but is desirably contained in the range of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the inorganic particles, and further 0.05% by mass. It is desirable to add in the range of not less than 10% and not more than 10% by mass.
アクセプター化合物は、下引層形成用塗布液に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。
無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。
The acceptor compound may be simply added to the coating solution for forming the undercoat layer, or may be previously attached to the surface of the inorganic particles.
Examples of the method for imparting the acceptor compound to the surface of the inorganic particles include a dry method or a wet method.
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間は任意の範囲で実施される。 When surface treatment is performed by the dry method, the inorganic particles are agitated with a mixer having a large shearing force, etc., and the acceptor compound dissolved directly or in an organic solvent is dropped and sprayed with dry air or nitrogen gas. Is done. The addition or spraying is preferably performed at a temperature below the boiling point of the solvent. After addition or spraying, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking temperature and time are carried out in an arbitrary range.
また、湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散した後、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後には更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。 Also, as a wet method, inorganic particles are dispersed in a solvent using stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., and an acceptor compound is added and stirred or dispersed, followed by removing the solvent. . The solvent removal method is distilled off by filtration or distillation. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics. In the wet method, the water containing inorganic particles may be removed before adding the surface treatment agent. For example, a method of removing with stirring and heating in a solvent used for the surface treatment, a method of removing by azeotropic distillation with the solvent. May be used.
また、無機粒子にはアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。更にアミノ基を有するシランカップリング剤が望ましく用いられる。 The inorganic particles may be subjected to a surface treatment before the acceptor compound is applied. The surface treatment agent is not particularly limited as long as desired characteristics can be obtained, and is selected from known materials. For example, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a surfactant, and the like can be given. In particular, silane coupling agents are desirably used because they provide good electrophotographic properties. Furthermore, a silane coupling agent having an amino group is desirably used.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、電子写真感光体特性が得られればいかなるものを用いてもよく、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Any silane coupling agent having an amino group may be used as long as electrophotographic photoreceptor characteristics are obtained. Specific examples include γ-aminopropyltriethoxysilane and N-β- (aminoethyl). -Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like. However, it is not limited to these.
また、シランカップリング剤は2種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Two or more silane coupling agents may be mixed and used. Examples of silane coupling agents that may be used in combination with the silane coupling agent having an amino group include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyl Trimethoxysilane, etc. The present invention is not limited.
また、これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法または湿式法が用いられる。また、アクセプター化合物の付与と、カップリング剤等の表面処理剤による表面処理と、をいっぺんに行ってもよい。 Further, the surface treatment method using these surface treatment agents may be any known method, and a dry method or a wet method is used. Moreover, you may perform the provision of an acceptor compound and surface treatment by surface treatment agents, such as a coupling agent, all at once.
下引層1中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は電子写真特性が得られる量であれば限定されず、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が望ましい。 The amount of the silane coupling agent with respect to the inorganic particles in the undercoat layer 1 is not limited as long as the electrophotographic characteristics can be obtained, and is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the inorganic particles.
また、下引層1には結着樹脂が含有されてもよい。
下引層1に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものを使用してもよく、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
また、下引層1に含有される結着樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。なかでも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
The undercoat layer 1 may contain a binder resin.
As the binder resin contained in the undercoat layer 1, any known resin may be used as long as it can form a good film and can obtain desired characteristics. Acetal resin such as butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride Known polymer resin compounds such as resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkanes Kishido compounds, organic titanium compounds, known materials such as a silane coupling agent is used.
Further, as the binder resin contained in the undercoat layer 1, a charge transporting resin having a charge transporting group, a conductive resin such as polyaniline, or the like may be used. Among these, resins that are insoluble in the upper-layer coating solvent are preferable, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferable. When these are used in combination of two or more, the mixing ratio is set as necessary.
下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与させた無機粒子(アクセプター性を付与した金属酸化物)とバインダー樹脂、または、無機粒子とバインダー樹脂との比率は電子写真感光体特性が得られる範囲で設定される。 In the coating solution for forming the undercoat layer, the ratio of the inorganic particles (metal oxide provided with acceptor properties) to which the acceptor compound is added and the binder resin or the ratio of the inorganic particles and the binder resin is the characteristics of the electrophotographic photosensitive member. Is set within the range where.
また、下引層1中には種々の添加物を用いてもよい。
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。
Various additives may be used in the undercoat layer 1.
As additives, known materials such as polycyclic condensation type, azo type electron transporting pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, silane coupling agents and the like are used. It is done. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the coating solution for forming the undercoat layer as an additive.
添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
Specific examples of the silane coupling agent as an additive include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β Examples include-(aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane.
Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, octanoic acid. Zirconium, zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。 These compounds may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.
下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
Solvents for preparing the coating solution for forming the undercoat layer include known organic solvents such as alcohols, aromatics, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters, etc. Optionally selected.
Specific examples of the solvent include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, and acetic acid. Usual organic solvents such as n-butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene and toluene are used.
また、これらの溶剤は単独または2種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。 These solvents may be used alone or in combination of two or more. When mixing, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as the mixed solvent.
下引層形成用塗布液を調製する際の無機粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。
更に、下引層1を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
As a dispersion method of the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer, known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker are used.
Furthermore, as a coating method used when the undercoat layer 1 is provided, a normal method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method is used. Is used.
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層1が成膜される。 The undercoat layer 1 is formed on the conductive substrate using the undercoat layer-forming coating solution thus obtained.
また、下引層1は、ビッカース硬度が35以上とされていることが望ましい。
更に、下引層1は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されてもよいが、厚さ15μm以上が望ましく、更に望ましくは15μm以上50μm以下とされていることが望ましい。
The undercoat layer 1 preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
Further, the undercoat layer 1 may be set to any thickness as long as desired characteristics can be obtained, but the thickness is preferably 15 μm or more, and more preferably 15 μm or more and 50 μm or less. .
また、下引層1の表面粗さ(十点平均粗さ)は、使用される露光用レーザー波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整することが好ましい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。LED,有機ELイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には平滑な表面を用いてもよい。
Further, the surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer 1 is preferably adjusted from 1 / 4n (n is the refractive index of the upper layer) to 1 / 2λ of the exposure laser wavelength λ used. .
In order to adjust the surface roughness, particles such as resin may be added to the undercoat layer. As the resin particles, silicone resin particles, cross-linked polymethyl methacrylate resin particles, and the like are used.
Further, the surface of the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sandblasting, wet honing, grinding, or the like is used. When a non-coherent light source such as an LED or an organic EL image array is used, a smooth surface may be used.
下引層1は、導電性基体4上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られるが、通常乾燥は、溶剤を蒸発させ製膜し得る温度で行われる。 The undercoat layer 1 can be obtained by drying the above-described undercoat layer forming coating solution applied onto the conductive substrate 4, and the normal drying is performed at a temperature at which the solvent can be evaporated to form a film.
−電荷発生層−
電荷発生層2は、電荷発生材料および結着樹脂を含有する層である。また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成させてもよい。特に、LED,有機ELイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には好ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、金属フタロシアニン顔料、および無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましく、特に、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−11172号公報、特開平5−11173号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平4−189873号公報、特開平5−43823号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン、特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等を用いることがより望ましい。
-Charge generation layer-
The charge generation layer 2 is a layer containing a charge generation material and a binder resin. Moreover, you may form as a vapor deposition film which does not contain binder resin. In particular, it is preferable when an incoherent light source such as an LED or an organic EL image array is used.
Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone, perylene pigments, pyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, zinc oxide, and trigonal selenium. Among these, it is desirable to use a metal phthalocyanine pigment and a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material in order to cope with near-infrared laser exposure, and in particular, JP-A-5-263007 and JP-A-5 Hydrogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-2799591, chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181, dichloromethane disclosed in JP-A-5-11172, JP-A-5-11173, etc. Tin phthalocyanine, titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873, JP-A-5-43823 and the like are more preferable. Further, in order to cope with near-ultraviolet laser exposure, as a charge generation material, a condensed aromatic pigment such as dibromoanthanthrone, a thioindigo pigment, a porphyrazine compound, zinc oxide, trigonal selenium, It is more desirable to use bisazo pigments and the like disclosed in JP-A-78147 and JP-A-2005-181992.
電荷発生層2に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。
これらの結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが望ましい。
ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
The binder resin used for the charge generation layer 2 is selected from a wide range of insulating resins, and selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. Also good. Desirable binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acids, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyamides. Resins, acrylic resins, polyacrylamide resins, polyvinyl pyridine resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, caseins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone resins, and the like.
These binder resins are used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio.
Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
電荷発生層2は、上述の電荷発生材料および結着樹脂を定められた溶剤中に分散した電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成させてもよい。 The charge generation layer 2 is formed using a charge generation layer forming coating solution in which the above-described charge generation material and binder resin are dispersed in a predetermined solvent. Moreover, you may form as a vapor deposition film which does not contain binder resin.
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を混合して用いる。 Solvents used for dispersion include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, and methylene chloride. , Chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下にすることが望ましく、更には0.3μm以下がより望ましく、0.15μm以下が特に望ましい。
Further, as a method for dispersing the charge generating material and the binder resin in the solvent, usual methods such as a ball mill dispersion method, an attritor dispersion method, and a sand mill dispersion method are used.
Further, in this dispersion, the average particle size of the charge generating material is desirably 0.5 μm or less, more desirably 0.3 μm or less, and particularly desirably 0.15 μm or less.
また、電荷発生層2を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 Further, when forming the charge generation layer 2, a usual method such as a blade coating method, a Mayer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method or a curtain coating method is used. .
このようにして得られる電荷発生層2の膜厚は、望ましくは0.1μm以上5.0μm以下、更に望ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。 The film thickness of the charge generation layer 2 obtained in this manner is desirably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and more desirably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.
−電荷輸送層−
図1に示す電荷輸送層3は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、または高分子電荷輸送材を含有して形成される。
-Charge transport layer-
The charge transport layer 3 shown in FIG. 1 includes a charge transport material and a binder resin, or a polymer charge transport material.
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独でまたは2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 Charge transport materials include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, xanthone compounds, benzophenone compounds Electron transporting compounds such as cyanovinyl compounds and ethylene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, etc. A hole transporting compound may be mentioned. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が望ましい。 As the charge transport material, from the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are desirable.
(上記構造式(a−1)中、R9は、水素原子、メチル基、−C(R10)=C(R11)(R12)、または−CH=CH−CH=C(R13)(R14)を示す。lは1または2を示す。Ar6およびAr7は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−C6H4−C(R10)=C(R11)(R12)、または−C6H4−CH=CH−CH=C(R13)(R14)を示し、R10、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。) (In the structural formula (a-1), R 9 represents a hydrogen atom, a methyl group, —C (R 10 ) ═C (R 11 ) (R 12 ), or —CH═CH—CH═C (R 13 ) (R 14 ), 1 represents 1 or 2. Ar 6 and Ar 7 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6 H 4 —C (R 10 ) ═C (R 11 ) (R 12 ) or —C 6 H 4 —CH═CH—CH═C (R 13 ) (R 14 ), wherein R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.)
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、または炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。 Here, the substituent of each of the above groups is a substituent substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. An amino group is mentioned.
(上記構造式(a−2)中、R15およびR15’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、または炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。R16、R16’、R17、およびR17’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−C(R18)=C(R19)(R20)、または−CH=CH−CH=C(R21)(R22)を示し、R18、R19、R20、R21およびR22は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。mおよびnは各々独立に0以上2以下の整数を示す。) (In the structural formula (a-2), R 15 and R 15 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R 16 , R 16 ′ , R 17 and R 17 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 2 carbon atoms. An amino group substituted with the following alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, —C (R 18 ) ═C (R 19 ) (R 20 ), or —CH═CH—CH═C (R 21 ) ( R 22 ) and each of R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and m and n are 0 or more independently for each It shows the following integer.)
ここで、前記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、および前記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C6H4−CH=CH−CH=C(R13)(R14)」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−CH=CH−CH=C(R21)(R22)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像(以下「ゴースト」と言う場合がある)などの観点で優れ望ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH═CH—CH ═C (R 13 ) (R 14 ) ”and a benzidine derivative having“ —CH═CH—CH═C (R 21 ) (R 22 ) ”have charge mobility, protective layer and It is excellent and desirable from the standpoints of adhesiveness and afterimage (hereinafter sometimes referred to as “ghost”) caused by the history of the previous image remaining.
電荷輸送層3に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。特開平8−176293号公報および特開平8−208820号公報に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材料等を用いてもよい。これらのうち、ポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂が好適である。
これらの結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上で用いる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で10:1から1:5までが望ましい。
The binder resin used for the charge transport layer 3 is polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer. , Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly- N-vinyl carbazole, polysilane, etc. are mentioned. Polyester type polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 may be used. Of these, polycarbonate resin or polyarylate resin is preferred.
These binder resins are used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the charge transport material and the binder resin is desirably 10: 1 to 1: 5 by mass ratio.
特に、電荷輸送層3上には、反応性の電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる保護層(最表面層)を備える場合、電荷輸送層3に用いる結着樹脂としては、粘度平均分子量50000以上のものが望ましく、55000以上のものがより望ましい。
なお、電荷輸送層3に用いる結着樹脂の粘度平均分子量の上限値としては100000以下が望ましい。
ここで、本実施形態における結着樹脂の粘度平均分子量は、毛細管粘度計によって測定した値である。
なお、最表面層が電荷輸送層である場合には、その下層中に含まれる結着樹脂の粘度平均分子量が上記の範囲であることが望ましい。
In particular, when the charge transport layer 3 is provided with a protective layer (outermost surface layer) made of a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and a polycarbonate resin, the binder resin used for the charge transport layer 3 The viscosity average molecular weight is preferably 50000 or more, more preferably 55000 or more.
The upper limit of the viscosity average molecular weight of the binder resin used for the charge transport layer 3 is preferably 100,000 or less.
Here, the viscosity average molecular weight of the binder resin in the present embodiment is a value measured by a capillary viscometer.
When the outermost surface layer is a charge transport layer, the viscosity average molecular weight of the binder resin contained in the lower layer is preferably in the above range.
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るが、前述の結着樹脂と混合して成膜してもよい。 In addition, a polymer charge transport material may be used as the charge transport material. As the polymer charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293, JP-A-8-208820 and the like are particularly desirable. The polymer charge transport material can be formed by itself, but may be formed by mixing with the above-described binder resin.
電荷輸送層3は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または2種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の溶解方法としては、公知の方法が使用される。
The charge transport layer 3 is formed using a charge transport layer forming coating solution containing the above-described constituent materials.
Solvents used in the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, and halogenation such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Ordinary organic solvents such as aliphatic hydrocarbons, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether, or straight chain ethers may be used alone or in admixture of two or more. Moreover, a well-known method is used as a dissolution method of each said constituent material.
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層2の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 The coating method for applying the charge transport layer forming coating solution onto the charge generation layer 2 includes blade coating method, Mayer bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, A usual method such as a curtain coating method is used.
電荷輸送層3の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下である。
電荷輸送層として本実施形態の表面層材料を使用してもよい。
The film thickness of the charge transport layer 3 is desirably 5 μm or more and 50 μm or less, and more desirably 10 μm or more and 30 μm or less.
The surface layer material of the present embodiment may be used as the charge transport layer.
<プロセスカートリッジおよび画像形成装置>
次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。
本実施形態のプロセスカートリッジは、潜像保持体の表面の静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して、該記録媒体上に画像を形成する画像形成装置に対して着脱自在であり、前記潜像保持体としての前述の本実施形態に係る電子写真感光体を少なくとも備えた構成である。
<Process cartridge and image forming apparatus>
Next, a process cartridge and an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member of this embodiment will be described.
The process cartridge of this embodiment is for an image forming apparatus that transfers a toner image obtained by developing an electrostatic latent image on the surface of a latent image holding member to a recording medium and forms an image on the recording medium. The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment as the latent image holding member is provided at least.
また、本実施形態の画像形成装置は、前述の本実施形態に係る電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を備えた構成である。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。 The image forming apparatus of the present embodiment exposes the surface of the electrophotographic photosensitive member according to the above-described electrophotographic photosensitive member, a charging device that charges the electrophotographic photosensitive member, and the charged electrophotographic photosensitive member. An exposure device for forming an electrostatic latent image on the surface; a developing device for developing the electrostatic latent image with a developer to form a toner image; and a transfer device for transferring the toner image to a recording medium. It is a configuration. The image forming apparatus of the present embodiment may be a so-called tandem machine having a plurality of photoreceptors corresponding to the toners of the respective colors. In this case, all the photoreceptors are the electrophotographic photoreceptors of the embodiment. Is desirable. The toner image may be transferred by an intermediate transfer system using an intermediate transfer member.
図4は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置100は、図4に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。 FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating the image forming apparatus according to the present embodiment. The image forming apparatus 100 is as shown in FIG. A process cartridge 300 including the electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9, a transfer device 40, and an intermediate transfer member 50 are provided. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is interposed through the intermediate transfer member 50. 7, and a part of the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member 7.
図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11およびクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。 The process cartridge 300 in FIG. 4 integrally supports the electrophotographic photoreceptor 7, the charging device 8, the developing device 11, and the cleaning device 13 in a housing. The cleaning device 13 has a cleaning blade (cleaning member), and the cleaning blade 131 is disposed so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.
また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。 In addition, an example is shown in which a fibrous member 132 (roll shape) that supplies the lubricant 14 to the surface of the photoreceptor 7 and a fibrous member 133 (flat brush shape) that assists in cleaning are used. However, it may not be used.
帯電装置8としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。 As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube or the like is used. Further, a non-contact type roller charger, a known charger such as a scorotron charger using a corona discharge or a corotron charger may be used.
なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。 Although not shown, a photosensitive member heating member for raising the temperature of the electrophotographic photosensitive member 7 and reducing the relative temperature may be provided around the electrophotographic photosensitive member 7.
露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。 Examples of the exposure device 9 include optical system devices that expose the surface of the photoreceptor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image-like manner. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the photoreceptor. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength in the vicinity of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. A surface-emitting laser light source that can output a multi-beam is also effective for color image formation.
現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。 As the developing device 11, for example, a general developing device that performs development by bringing a magnetic or non-magnetic one-component developer or two-component developer into contact or non-contact with each other may be used. The developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of adhering the one-component developer or the two-component developer to the photoreceptor 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding the developer on the surface are desirable.
以下、現像装置11に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数((ML2/A)×(π/4)×100、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表す)が100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が3μm以上12μm以下であることが望ましく、3.5μm以上9μm以下であることがさらに望ましい。
Hereinafter, the toner used in the developing device 11 will be described.
The toner used in the image forming apparatus of this embodiment has an average shape factor ((ML 2 / A) × (π / 4) × 100, where ML represents the maximum length of the particles, and A represents the projected area of the particles. Is preferably from 100 to 150, more preferably from 105 to 145, and even more preferably from 110 to 140. Further, the toner preferably has a volume average particle size of 3 μm to 12 μm, and more preferably 3.5 μm to 9 μm.
トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。 The toner is not particularly limited by the production method. For example, a kneading and pulverizing method in which a binder resin, a colorant and a release agent, and a charge control agent are further added, kneaded, pulverized, and classified; A method of changing the shape of particles obtained by the method by mechanical impact force or thermal energy; a dispersion monomer formed by emulsion polymerization of a polymerizable monomer of a binder resin, a colorant and a release agent In addition, an emulsion polymerization aggregation method for obtaining toner particles by mixing a dispersion liquid such as a charge control agent and aggregating and heat-fusing to obtain toner particles; a polymerizable monomer for obtaining a binder resin, a colorant and a release agent Suspension polymerization method in which a solution of an agent, a charge control agent, etc. is suspended in an aqueous solvent for polymerization; a binder resin, a coloring agent, a release agent, and a solution of a charge control agent, etc., in an aqueous solvent Toner produced by the suspension method, etc. It is use.
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。 Further, a known method such as a production method in which the toner obtained by the above method is used as a core, and agglomerated particles are further adhered and heated and fused to give a core-shell structure is used. The toner production method is preferably a suspension polymerization method, an emulsion polymerization aggregation method, or a dissolution suspension method in which an aqueous solvent is used from the viewpoint of shape control and particle size distribution control, and an emulsion polymerization aggregation method is particularly desirable.
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。 The toner base particles desirably contain a binder resin, a colorant, and a release agent, and may further contain silica or a charge control agent.
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。 Binder resins used for toner base particles include styrenes such as styrene and chlorostyrene, monoolefins such as ethylene, propylene, butylene and isoprene, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl butyrate, etc. Α-methylene aliphatics such as vinyl esters, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, dodecyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, dodecyl methacrylate Homopolymers and copolymers of monocarboxylic acid esters, vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and vinyl butyl ether, vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone and vinyl isopropenyl ketone , Polyester resins by copolymerization of dicarboxylic acids and diols.
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。 Particularly representative binder resins include polystyrene, styrene-alkyl acrylate copolymer, styrene-alkyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer. A polymer, polyethylene, a polypropylene, a polyester resin etc. are mentioned. Further, polyurethane, epoxy resin, silicone resin, polyamide, modified rosin, paraffin wax and the like can be mentioned.
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメント・レッド48:1、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド57:1、C.I.ピグメント・イエロー97、C.I.ピグメント・イエロー17、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:3等を代表的なものとして例示される。 In addition, as colorants, magnetic powders such as magnetite and ferrite, carbon black, aniline blue, caryl blue, chrome yellow, ultramarine blue, Dupont oil red, quinoline yellow, methylene blue chloride, phthalocyanine blue, malachite green oxalate, Lamp Black, Rose Bengal, C.I. I. Pigment red 48: 1, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 57: 1, C.I. I. Pigment yellow 97, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment Blue 15: 3 is exemplified as a representative example.
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。 Typical examples of the release agent include low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, Fischer tropical wax, montan wax, carnauba wax, rice wax, and candelilla wax.
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。 As the charge control agent, known ones are used, and azo metal complex compounds, metal complex compounds of salicylic acid, and resin type charge control agents containing polar groups are used. When toner is manufactured by a wet manufacturing method, it is desirable to use a material that is difficult to dissolve in water. The toner may be either a magnetic toner containing a magnetic material or a non-magnetic toner containing no magnetic material.
現像装置11に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはVブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。 The toner used in the developing device 11 is manufactured by mixing the toner base particles and the external additive with a Henschel mixer or a V blender. Further, when the toner base particles are produced by a wet method, they may be externally added by a wet method.
現像装置11に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、1種を単独で、または2種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては0.1μm以上10μm以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは0.05質量%以上2.0質量%以下、より望ましくは0.1質量%以上1.5質量%以下の範囲である。 Lubricating particles may be added to the toner used in the developing device 11. Lubricating particles include solid lubricants such as graphite, molybdenum disulfide, talc, fatty acids and fatty acid metal salts, low molecular weight polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polybutene, silicones having a softening point upon heating, oleic amides , Erucic acid amide, ricinoleic acid amide, stearic acid amide and other aliphatic amides, carnauba wax, rice wax, candelilla wax, tree wax, jojoba oil and other plant waxes, beeswax animal wax, montan wax, ozokerite , Ceresin, paraffin wax, microcrystalline wax, minerals such as Fischer-Tropsch wax, petroleum wax, and modified products thereof. These are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. However, the average particle size is preferably in the range of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and those having the above chemical structure may be pulverized to make the particle sizes uniform. The amount added to the toner is desirably in the range of 0.05% by mass to 2.0% by mass, and more desirably in the range of 0.1% by mass to 1.5% by mass.
現像装置11に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。 To the toner used in the developing device 11, inorganic particles, organic particles, composite particles obtained by attaching inorganic particles to the organic particles, or the like may be added.
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。 Inorganic particles include silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tungsten oxide, tin oxide, tellurium oxide, Various inorganic oxides such as manganese oxide, boron oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride, and boron nitride, nitrides, borides, and the like are preferably used.
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。 In addition, the inorganic particles may be mixed with titanium coupling agents such as tetrabutyl titanate, tetraoctyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, γ- (2- Aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxy Silane hydrochloride, hexamethyldisilazane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane The treatment may be performed with a silane coupling agent such as run, decyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, and p-methylphenyltrimethoxysilane. In addition, those hydrophobized with higher fatty acid metal salts such as silicone oil, aluminum stearate, zinc stearate, calcium stearate and the like are also desirably used.
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。 Examples of the organic particles include styrene resin particles, styrene acrylic resin particles, polyester resin particles, and urethane resin particles.
粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは5nm以上1000nm以下、より望ましくは5nm以上800nm以下、さらに望ましくは5nm以上700nm以下でのものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が0.6質量%以上であることが望ましい。 The particle diameter is preferably 5 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 800 nm, and even more preferably 5 nm to 700 nm in terms of number average particle diameter. Moreover, it is desirable that the sum of the addition amounts of the above-described particles and the lubricating particles is 0.6% by mass or more.
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、1次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。 As the other inorganic oxide added to the toner, it is desirable to use a small-diameter inorganic oxide having a primary particle size of 40 nm or less, and further add an inorganic oxide having a larger diameter. Known inorganic oxide particles are used, but it is desirable to use silica and titanium oxide in combination.
また、小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。 Moreover, you may surface-treat about a small diameter inorganic particle. Furthermore, it is also desirable to add carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate and inorganic minerals such as hydrotalcite.
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。 In addition, the color toner for electrophotography is used by mixing with a carrier. As the carrier, iron powder, glass beads, ferrite powder, nickel powder, or those coated with a resin are used. The mixing ratio with the carrier is set as necessary.
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。 As the transfer device 40, for example, a contact transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., or a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger. Can be mentioned.
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。 As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) made of polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used. Further, as the form of the intermediate transfer member 50, a drum-like one is used in addition to the belt shape.
画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。 In addition to the above-described devices, the image forming apparatus 100 may include, for example, a light neutralizing device that performs light neutralization on the photoconductor 7.
図5は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置120は、図5に示すように、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an image forming apparatus according to another embodiment. As shown in FIG. 5, the image forming apparatus 120 is a tandem multicolor image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.
また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置は、電子写真感光体の移動方向(回転方向)に対して逆方向に移動(回転)する現像剤保持体である現像ローラを有してもよい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動(回転)させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。 In the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device is a developing roller that is a developer holder that moves (rotates) in the opposite direction to the moving direction (rotating direction) of the electrophotographic photosensitive member. You may have. Here, the developing roller has a cylindrical developing sleeve that holds developer on the surface, and the developing device has a configuration that includes a regulating member that regulates the amount of developer supplied to the developing sleeve. Can be mentioned. By moving (rotating) the developing roller of the developing device in a direction opposite to the rotation direction of the electrophotographic photosensitive member, the surface of the electrophotographic photosensitive member is rubbed with toner remaining between the developing roller and the electrophotographic photosensitive member. The
また、本実施形態の画像形成装置においては、現像スリーブと感光体との間隔を200μm以上600μm以下とすることが望ましく、300μm以上500μm以下とすることがより望ましい。また、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を300μm以上1000μm以下とすることが望ましく、400μm以上750μm以下とすることがより望ましい。 In the image forming apparatus according to the present exemplary embodiment, the distance between the developing sleeve and the photosensitive member is desirably 200 μm or more and 600 μm or less, and more desirably 300 μm or more and 500 μm or less. In addition, the distance between the developing sleeve and the regulating blade, which is a regulating member that regulates the developer amount, is desirably 300 μm or more and 1000 μm or less, and more desirably 400 μm or more and 750 μm or less.
更に、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値(プロセススピード)の1.5倍以上2.5倍以下とすることが望ましく、1.7倍以上2.0倍以下とすることがより望ましい。 Further, it is desirable that the absolute value of the moving speed of the developing roll surface is 1.5 times or more and 2.5 times or less of the absolute value (process speed) of the moving speed of the photosensitive member surface. It is more desirable to make it 0 times or less.
また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置(現像手段)は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリアおよびトナーを含む2成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。 Further, in the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device (developing unit) includes a developer holding body having a magnetic material, and is a two-component developer containing a magnetic carrier and toner. It is desirable to develop an image.
〔有機ELデバイス〕
ついで、有機ELデバイスについて説明する。
本実施形にかかる有機ELデバイスは、前記一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料が溶解した溶解液を用いて形成された膜を有する。
[Organic EL device]
Next, the organic EL device will be described.
The organic EL device according to this embodiment has a film formed using a solution in which the thiol group-containing charge transport material represented by the general formula (1) is dissolved.
有機ELデバイスや、太陽電池として用いる場合には、単層、あるいは積層のいずれの形態でも良く、いずれの層に用いてもよい。 When used as an organic EL device or a solar battery, it may be in a single layer or laminated form, and may be used in any layer.
有機ELデバイスの例として、有機電界発光素子について図を用いて詳述する。
図7乃至図9は、本実施形態の有機電界発光素子の実施の形態を示す模式的な断面図であり、21は基板、22は陽極、23は正孔注入層、24は正孔輸送層、25は発光層、26は電子輸送層、27は陰極を各々表わすが、素子構成はこれに限るものではない。
As an example of the organic EL device, an organic electroluminescent element will be described in detail with reference to the drawings.
7 to 9 are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the organic electroluminescence device of the present embodiment, in which 21 is a substrate, 22 is an anode, 23 is a hole injection layer, and 24 is a hole transport layer. , 25 represents a light emitting layer, 26 represents an electron transport layer, and 27 represents a cathode, but the device structure is not limited thereto.
基板21は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシートなどが用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホンなどの透明な合成樹脂の板が好ましい。
合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。このため、合成樹脂基板のどちらか片側もしくは両側に緻密なシリコン酸化膜等を設ける方法も好ましい方法の一つである。
The substrate 21 serves as a support for the organic electroluminescence device, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, or polysulfone is preferable.
When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. For this reason, a method of providing a dense silicon oxide film or the like on one or both sides of the synthetic resin substrate is also a preferable method.
基板21上には陽極22が設けられる。陽極22は正孔注入層23への正孔注入の役割を果たすものである。この陽極22は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラック等により構成される。陽極22の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法などにより行われることが多い。また、銀などの金属粒子、ヨウ化銅などの粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物粒子等を適当なバインダー樹脂溶液に分散し、基板21上に塗布することにより陽極22を形成してもよい。陽極22は異なる物質で積層して形成してもよい。
陽極22の厚みは、必要とする透明性により異なるが、一般には透明性が高いほど好ましいため、可視光の透過率を通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが望ましく、この場合厚みは、通常10nm以上1000nm以下、好ましくは20nm以上500nm以下である。
An anode 22 is provided on the substrate 21. The anode 22 plays a role of hole injection into the hole injection layer 23. The anode 22 is usually composed of a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, or platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or the like. Is done. In general, the anode 22 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. Further, the anode 22 is formed by dispersing metal particles such as silver, particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide particles and the like in an appropriate binder resin solution and coating the substrate 21. Also good. The anode 22 may be formed by stacking different materials.
Although the thickness of the anode 22 varies depending on the required transparency, it is generally preferable that the transparency is higher. Therefore, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. Is usually 10 nm to 1000 nm, preferably 20 nm to 500 nm.
端面からのレーザー発振等の目的および両電極間で反射させるなどの目的で、金属蒸着膜等を設ける場合など不透明でよい場合は陽極22には、基板21に用いたものを用いてもよい。また、上記の陽極22の上に異なる導電材料を積層してもよい。 For the purpose of laser oscillation from the end face and for the purpose of reflecting between the two electrodes, the anode 22 may be the one used for the substrate 21 when it may be opaque, such as when a metal vapor deposition film is provided. Further, different conductive materials may be laminated on the anode 22.
本実施形態の代表例として挙げた図7乃至図9の素子構造においては、陽極22の上に正孔注入層23が設けられる。 In the element structure of FIGS. 7 to 9 given as a representative example of this embodiment, a hole injection layer 23 is provided on the anode 22.
本実施形態において、一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料を用いて形成される層は、蒸着、あるいは塗布法により形成され、硬化させる場合には塗布法が好ましい。例えば、正孔注入層として形成する場合を例に説明する。
一般式(1)で示されるチオール基含有電荷輸送材料の定められた量に、必要により正孔のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤、連鎖重合性モノマー、オリゴマーなどを加えてもよい。末端にアルコキシシリル基を有する電荷輸送材を用いることも好ましく、種々の目的で他のシランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、チタネートカップリング剤などを添加してもよい。これらを溶解した塗布溶液を所望の濃度に調製し、スピンコート法やディップコート法などの方法により陽極22上に塗布し、乾燥して正孔注入層23を形成する。
このようにして形成される正孔注入層23の膜厚は、通常5nm以上3000nm以下、好ましくは10nm以上2000nm以下である。
In the present embodiment, the layer formed using the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1) is formed by vapor deposition or a coating method, and the coating method is preferable when cured. For example, the case where it forms as a positive hole injection layer is demonstrated to an example.
If necessary, a binder resin, a coating property improving agent, a chain polymerizable monomer, an oligomer, or the like that does not trap holes may be added to a predetermined amount of the thiol group-containing charge transporting material represented by the general formula (1). It is also preferable to use a charge transport material having an alkoxysilyl group at the terminal, and other silane coupling agents, aluminum coupling agents, titanate coupling agents and the like may be added for various purposes. A coating solution in which these are dissolved is prepared to a desired concentration, applied onto the anode 22 by a method such as spin coating or dip coating, and dried to form the hole injection layer 23.
The film thickness of the hole injection layer 23 thus formed is usually 5 nm to 3000 nm, preferably 10 nm to 2000 nm.
正孔注入層23の上には発光層25が設けられる。発光層25は、電界を与えられた電極間において陰極27から注入された電子と正孔注入層23から輸送された正孔を効率よく再結合し、かつ、再結合により効率よく発光する材料から形成される。このような条件を満たす材料としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体(特開平6−322362号公報)、ビススチリルベンゼン誘導体(特開平1−245087号公報、同2−222484号公報)、ビススチリルアリーレン誘導体(特開平2−247278号公報)、(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾールの金属錯体(特開平8−315983号公報)、シロール誘導体等が挙げられる。 A light emitting layer 25 is provided on the hole injection layer 23. The light emitting layer 25 is made of a material that efficiently recombines electrons injected from the cathode 27 and holes transported from the hole injection layer 23 between electrodes to which an electric field is applied, and efficiently emits light by recombination. It is formed. Materials satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (JP 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline (JP 6-322362 A). Gazette), bisstyrylbenzene derivatives (JP-A-1-245087, JP-A-2-222484), bisstyrylarylene derivatives (JP-A-2-247278), metal complexes of (2-hydroxyphenyl) benzothiazole ( JP-A-8-315983), silole derivatives and the like.
これらの発光層材料は、通常は真空蒸着法や塗布法により正孔注入層23上に積層形成される。塗布法を用いる場合、正孔注入層23を実質的に溶解しない溶剤を用いることが好ましいが、本実施形態においては、下層が三次元架橋されている場合には、溶剤に対する耐性が高く、溶剤は広範な範囲の中から選択し得る。 These light emitting layer materials are usually laminated on the hole injection layer 23 by vacuum deposition or coating. In the case of using the coating method, it is preferable to use a solvent that does not substantially dissolve the hole injection layer 23. However, in this embodiment, when the lower layer is three-dimensionally cross-linked, the resistance to the solvent is high, and the solvent Can be selected from a wide range.
素子の発光効率を向上させるとともに発光色を変える目的で、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等のレーザ用蛍光色素をドープすること(J.Appl.Phys.,65巻,3610頁,1989年)等が行われている。例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体をホスト材料として、ルブレンに代表されるナフタセン誘導体(特開平4−335087号公報)、キナクリドン誘導体(特開平5−70773号公報)、ペリレン等の縮合多環芳香族環(特開平5−198377号公報)を、ホスト材料に対して0.1質量%以上10質量%以下ドープする。発光層のホスト材料に上記ナフタセン誘導体、キナクリドン誘導体、ペリレン等の蛍光色素をドープする方法としては、共蒸着による方法と蒸着源を予め定められた濃度で混合しておく方法がある。
高分子系の発光層材料としては、先に挙げたポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレン]、ポリ(3−アルキルチオフェン)等の高分子材料や、ポリビニルカルバゾール等の高分子に発光材料と電子移動材料を混合した系等が挙げられる。
For the purpose of improving the luminous efficiency of the device and changing the emission color, for example, doping a fluorescent dye for lasers such as coumarin with an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material (J. Appl. Phys., Volume 65). 3610 (1989)). For example, using a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material, a naphthacene derivative represented by rubrene (JP-A-4-335087), a quinacridone derivative (JP-A-5-70773), perylene, etc. A condensed polycyclic aromatic ring (Japanese Patent Laid-Open No. 5-198377) is doped in an amount of 0.1% by mass to 10% by mass with respect to the host material. As a method of doping the host material of the light emitting layer with a fluorescent dye such as the naphthacene derivative, quinacridone derivative, or perylene, there are a method by co-evaporation and a method in which an evaporation source is mixed at a predetermined concentration.
Examples of the polymer light emitting layer material include poly (p-phenylene vinylene), poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylene vinylene], poly (3-alkyl) mentioned above. Examples thereof include a polymer material such as thiophene) and a system in which a light emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole.
これらの材料は正孔注入層のごとくスピンコートやディップコート等の方法により正孔注入層23上に塗布して薄膜形成され、塗布法を用いる場合、正孔注入層23を実質的に溶解しない溶剤を用いることが好ましいが、本実施形態において下層が三次元架橋されている場合には、溶剤に対する耐性が高く、溶剤は広範な範囲の中から選択し得る。
このようにして形成される発光層25の膜厚は、通常10nm以上200nm以下、好ましくは30nm以上100nm以下である。
These materials are formed on the hole injection layer 23 by a method such as spin coating or dip coating as in the case of the hole injection layer to form a thin film. When using the coating method, the hole injection layer 23 is not substantially dissolved. Although it is preferable to use a solvent, in this embodiment, when the lower layer is three-dimensionally cross-linked, resistance to the solvent is high, and the solvent can be selected from a wide range.
The film thickness of the light emitting layer 25 thus formed is usually 10 nm to 200 nm, preferably 30 nm to 100 nm.
図8に示すごとく、正孔輸送層24を正孔注入層23と発光層25との間に設けたり、さらには、図9に示すごとく電子輸送層26を発光層25と陰極27との間に設けるなど機能分離型にすることが行われる。図8および図9の機能分離型素子において、正孔輸送層24の材料としては、正孔注入層23からの正孔注入効率が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送し得る材料であることが望まれる。このような正孔輸送材料としては、例えば、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン等の3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン化合物(特開昭59−194393号公報)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族アミン(特開平5−234681号公報)、トリフェニルベンゼンの誘導体でスターバースト構造を有する芳香族トリアミン(米国特許第4,923,774号)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族ジアミン(米国特許第4,764,625号)、分子全体として立体的に非対称なトリフェニルアミン誘導体(特開平4−129271号公報)、ピレニル基に芳香族ジアミノ基が複数個置換した化合物(特開平4−175395号公報)、エチレン基で3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン(特開平4−264189号公報)、スチリル構造を有する芳香族ジアミン(特開平4−290851号公報)、チオフェン基で芳香族3級アミンユニットを連結したもの(特開平4−304466号公報)、スターバースト型芳香族トリアミン(特開平4−308688号公報)、ベンジルフェニル化合物(特開平4−364153号公報)、フルオレン基で3級アミンを連結したもの(特開平5−25473号公報)、トリアミン化合物(特開平5−239455号公報)、ビスジピリジルアミノビフェニル(特開平5−320634号公報)、N,N,N−トリフェニルアミン誘導体(特開平6−1972号公報)、フェノキサジン構造を有する芳香族ジアミン(特開平7−138562号公報)、ジアミノフェニルフェナントリジン誘導体(特開平7−252474号公報)、シラザン化合物(米国特許第4,950,950号公報)、シラナミン誘導体(特開平6−49079号公報)、ホスファミン誘導体(特開平6−25659号公報)等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよいし、必要に応じて、2種以上を混合して用いてもよい。上記の化合物以外に、正孔輸送層24の材料としては、ポリビニルカルバゾールやポリシラン、ポリフォスファゼン(特開平5−310949号公報)、ポリアミド(特開平5−310949号公報)、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平7−53953号公報)、トリフェニルアミン骨格を有する高分子(特開平4−133065号公報)、芳香族アミンを含有するポリメタクリレート等の高分子材料が挙げられる。 As shown in FIG. 8, a hole transport layer 24 is provided between the hole injection layer 23 and the light emitting layer 25, and further, as shown in FIG. 9, an electron transport layer 26 is provided between the light emitting layer 25 and the cathode 27. For example, the function separation type is provided. 8 and 9, the material of the hole transport layer 24 is a material that has a high hole injection efficiency from the hole injection layer 23 and can efficiently transport the injected holes. It is desirable that As such a hole transport material, for example, an aromatic diamine compound in which a tertiary aromatic amine unit such as 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane is linked (Japanese Patent Laid-Open No. 59-86). No. 194393), including two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, and two or more condensed aromatic rings are nitrogen atoms Aromatic amines substituted with the above (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), triphenylbenzene derivatives and aromatic triamines having a starburst structure (US Pat. No. 4,923,774), N, N′-diphenyl-N , N′-bis (3-methylphenyl) biphenyl-4,4′-diamine, etc. (US Pat. No. 4,764,625), sterically unpaired as a whole molecule Triphenylamine derivatives (JP-A-4-129271), compounds in which a pyrenyl group is substituted with a plurality of aromatic diamino groups (JP-A-4-175395), and tertiary aromatic amine units linked by an ethylene group Aromatic diamines (JP-A-4-264189), aromatic diamines having a styryl structure (JP-A-4-290851), and aromatic tertiary amine units linked by thiophene groups (JP-A-4-304466) Gazette), starburst type aromatic triamine (JP-A-4-308688), benzylphenyl compound (JP-A-4-364153), and a tertiary amine linked by a fluorene group (JP-A-5-25473) ), A triamine compound (JP-A-5-239455), bisdipyridylaminobiphenyl JP-A-5-320634), N, N, N-triphenylamine derivatives (JP-A-6-1972), aromatic diamines having a phenoxazine structure (JP-A-7-138562), diaminophenylphenol Nantridine derivative (JP-A-7-252474), silazane compound (US Pat. No. 4,950,950), silanamine derivative (JP-A-6-49079), phosphamine derivative (JP-A-6-25659) ) And the like. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more as necessary. In addition to the above compounds, materials for the hole transport layer 24 include polyvinyl carbazole, polysilane, polyphosphazene (JP-A-5-310949), polyamide (JP-A-5-310949), polyvinyltriphenylamine ( JP-A-7-53953), a polymer having a triphenylamine skeleton (JP-A-4-133055), and a polymer material such as polymethacrylate containing an aromatic amine.
正孔輸送層24は上記の正孔輸送材料を塗布法あるいは真空蒸着法により前記正孔注入層23上に積層することにより形成される。塗布法の場合は、正孔輸送材料の1種または2種以上に、必要により正孔のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤などの添加剤を添加し、溶解して塗布溶液を調製し、スピンコート法などの方法により正孔注入層23上に塗布し、乾燥して正孔輸送層24を形成する。塗布法を用いる場合、正孔注入層23を実質的に溶解しない溶剤を用いることが好ましいが、本実施形態において下層が三次元架橋されている場合には、溶剤に対する耐性が高く、溶剤は広範な範囲の中から選択し得る。 The hole transport layer 24 is formed by laminating the above hole transport material on the hole injection layer 23 by a coating method or a vacuum deposition method. In the case of the coating method, an additive such as a binder resin or a coating property improving agent that does not trap holes is added to one or more of the hole transport materials, if necessary, and dissolved to prepare a coating solution. Then, it is applied on the hole injection layer 23 by a method such as spin coating, and dried to form the hole transport layer 24. When the coating method is used, it is preferable to use a solvent that does not substantially dissolve the hole injection layer 23. However, when the lower layer is three-dimensionally cross-linked in this embodiment, the resistance to the solvent is high, and the solvent is widely used. You can choose from a wide range.
ここで、バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂の添加量は、通常50質量%以下が好ましい。 Here, examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. The addition amount of the binder resin is usually preferably 50% by mass or less.
真空蒸着法の場合には、正孔輸送材料を真空容器内に設置されたルツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度にまで排気した後、ルツボを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、ルツボと向き合って置かれた、陽極22および正孔注入層23が形成された基板21上に正孔輸送層24を形成する。
このようにして形成される正孔輸送層24の膜厚は、通常10nm以上300nm以下、好ましくは30nm以上100nm以下である。
一般には、上記の真空蒸着法がよく用いられる。
In the case of the vacuum deposition method, the hole transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, and after evacuating the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, the crucible is heated, The hole transport material is evaporated, and the hole transport layer 24 is formed on the substrate 21 on which the anode 22 and the hole injection layer 23 are formed, facing the crucible.
The film thickness of the hole transport layer 24 thus formed is usually from 10 nm to 300 nm, preferably from 30 nm to 100 nm.
In general, the above vacuum deposition method is often used.
また、この電子輸送層26に用いられる化合物には、陰極27からの電子注入が容易で、電子の輸送能力がさらに大きいことが要求される。このような電子輸送材料としては、既に発光層材料において挙げた8−ヒドロキシキノリンのアルミ錯体、オキサジアゾール誘導体(Appl.Phys.Lett.,55巻,1489頁,1989年)やそれらをポリメタクリル酸メチル(PMMA)等の樹脂に分散した系、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。
電子輸送層26の膜厚は、通常5nm以上200nm以下、好ましくは10nm以上100nm以下である。
Further, the compound used for the electron transport layer 26 is required to easily inject electrons from the cathode 27 and to have a larger electron transport capability. Examples of such an electron transport material include 8-hydroxyquinoline aluminum complexes and oxadiazole derivatives (Appl. Phys. Lett., 55, 1489, 1989) already mentioned in the light-emitting layer materials, and polymethacrylic acid. A system dispersed in a resin such as methyl acid (PMMA), a phenanthroline derivative (Japanese Patent Laid-Open No. 5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N′-dicyanoanthraquinonediimine, non-hydrogenated n-type Examples thereof include crystalline silicon carbide, n-type zinc sulfide, and n-type zinc selenide.
The film thickness of the electron transport layer 26 is usually 5 nm to 200 nm, preferably 10 nm to 100 nm.
陰極27は、発光層25に電子を注入する役割を果たす。陰極27として用いられる材料は、前記陽極22に使用される材料が用いられるが、効率よく電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。
陰極27の膜厚は通常、陽極22の説明において記載した範囲が挙げられる。
The cathode 27 serves to inject electrons into the light emitting layer 25. As the material used for the cathode 27, the material used for the anode 22 is used. However, for efficient electron injection, a metal having a low work function is preferable, such as tin, magnesium, indium, calcium, aluminum, silver, and the like. Suitable metals or their alloys are used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.
The film thickness of the cathode 27 usually includes the range described in the description of the anode 22.
低仕事関数金属から成る陰極27を保護する目的で、この上にさらに、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層することも有効である。この目的のために、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。さらに、陰極27と発光層25または電子輸送層26の界面にLiF、MgF2、Li2O等の極薄絶縁膜(0.1nm以上5nm以下)を挿入することも有効な方法である(Appl.Phys.Lett.,70巻,152頁,1997年;特開平10−74586号公報;IEEETrans.Electron.Devices,44巻,1245頁,1997年)。 In order to protect the cathode 27 made of a low work function metal, it is also effective to stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere. For this purpose, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, platinum are used. Furthermore, it is also an effective method to insert a very thin insulating film (0.1 nm or more and 5 nm or less) such as LiF, MgF 2 , or Li 2 O at the interface between the cathode 27 and the light emitting layer 25 or the electron transport layer 26 (Appl Phys. Lett., 70, 152, 1997; JP-A-10-74586; IEEE Trans. Devices, 44, 1245, 1997).
図7乃至図9は、本実施形態で採用される素子構造の一例であって、本実施形態は何ら図示のものに限定されるものではない。例えば、図7とは逆の構造、即ち、基板21上に陰極27、発光層25、正孔注入層23、陽極22の順に積層してもよく、既述したように少なくとも一方が透明性の高い2枚の基板の間に本実施形態の有機電界発光素子を設けてもよい。また、図8および図9に示したものについても、前記各構成層を逆の構造に積層してもよい。さらに樹脂あるいは金属等の材料で封じ、大気や水より保護する封止層を形成することや、素子自体を真空系中で動作させる構造とすることも効果的である。 7 to 9 are examples of the element structure employed in the present embodiment, and the present embodiment is not limited to the illustrated one. For example, the cathode 27, the light emitting layer 25, the hole injection layer 23, and the anode 22 may be laminated in this order on the substrate 21, that is, at least one of which is transparent as described above. The organic electroluminescent element of this embodiment may be provided between two high substrates. 8 and 9 may be laminated in the reverse structure. Further, it is effective to form a sealing layer that is sealed with a material such as resin or metal to protect it from the air or water, or to have a structure in which the element itself is operated in a vacuum system.
以下、実施例および比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。 EXAMPLES Examples and comparative examples will be described below, but the present invention is not limited to the following examples. In the following, “part” is based on mass unless otherwise specified.
[実施例1:化合物(13)の合成]
500mlフラスコに、下記構造式(A)で示される化合物20g、3−メルカプトプロピオン酸15g、パラトルエンスルホン酸0.5g、トルエン200mlを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら10時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、23gの化合物(13)を油状物として得た。
得られた化合物(13)のIRスペクトルを図10に示す。
[Example 1: Synthesis of compound (13)]
A 500 ml flask is charged with 20 g of the compound represented by the following structural formula (A), 15 g of 3-mercaptopropionic acid, 0.5 g of paratoluenesulfonic acid, and 200 ml of toluene. After replacing with nitrogen, the generated water is removed with a Dean-Stark trap. The mixture was heated to reflux for 10 hours. After the reaction, it was washed with an aqueous potassium carbonate solution, then washed with distilled water, and then purified by silica gel column chromatography to obtain 23 g of compound (13) as an oil.
FIG. 10 shows the IR spectrum of the obtained compound (13).
[実施例2:化合物(29)の合成]
500mlフラスコに、下記構造式(B)で示される化合物20g、3−メルカプトプロピオン酸15g、パラトルエンスルホン酸0.5g、トルエン200mlを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら10時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、20gの化合物(29)を油状物として得た。
得られた化合物(29)のIRスペクトルを図11に示す。
[Example 2: Synthesis of compound (29)]
A 500 ml flask is charged with 20 g of the compound represented by the following structural formula (B), 15 g of 3-mercaptopropionic acid, 0.5 g of paratoluenesulfonic acid, and 200 ml of toluene. After replacing with nitrogen, the generated water is removed with a Dean-Stark trap. The mixture was heated to reflux for 10 hours. After the reaction, it was washed with an aqueous potassium carbonate solution, then washed with distilled water, and purified by silica gel column chromatography to obtain 20 g of compound (29) as an oil.
FIG. 11 shows the IR spectrum of the obtained compound (29).
[実施例3:化合物(14)の合成]
500mlフラスコに、前記構造式(A)で示される化合物20g、2−メルカプトプロピオン酸15g、パラトルエンスルホン酸0.5g、トルエン200mlを入れ、窒素置換したのち、発生する水をディーンスタークトラップで除去しながら10時間加熱還流した。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで、蒸留水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、26gの化合物(14)を油状物として得た。
得られた化合物(14)のIRスペクトルを図12に示す。
[Example 3: Synthesis of compound (14)]
A 500 ml flask is charged with 20 g of the compound represented by the structural formula (A), 15 g of 2-mercaptopropionic acid, 0.5 g of paratoluenesulfonic acid, and 200 ml of toluene. After nitrogen substitution, the generated water is removed with a Dean-Stark trap. The mixture was heated to reflux for 10 hours. After the reaction, it was washed with an aqueous potassium carbonate solution, then washed with distilled water, and purified by silica gel column chromatography to obtain 26 g of compound (14) as an oil.
FIG. 12 shows the IR spectrum of the obtained compound (14).
[実施例4]
<感光体の作製>
(下引層の作製)
酸化亜鉛(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100部をテトラヒドロフラン500部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間)焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛110部を500部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン1.0部を50部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに60℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛60部と硬化剤(ブロック化イソシアネート、スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15部とをメチルエチルケトン85部に溶解した溶液38部と、メチルエチルケトン25部と、を混合し1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製)45部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ18μmの下引層を得た。
[Example 4]
<Production of photoconductor>
(Preparation of undercoat layer)
100 parts of zinc oxide (average particle size 70 nm: manufactured by Teika: specific surface area value 15 m 2 / g) is stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, and 1.3 parts of a silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added. And stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at 120 ° C. for 3 hours to obtain a surface-treated zinc oxide having a silane coupling agent.
110 parts of the surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, a solution of 1.0 part of alizarin dissolved in 50 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours. Thereafter, zinc oxide to which alizarin was imparted by filtration under reduced pressure was filtered off, and further dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain alizarin-given zinc oxide.
60 parts of this alizarin-provided zinc oxide, 13.5 parts of a curing agent (blocked isocyanate, Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.) and 15 parts of butyral resin (ESREC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 85 parts of methyl ethyl ketone 38 parts of the solution dissolved in 25 parts of methyl ethyl ketone was mixed and dispersed in a sand mill for 2 hours using 1 mmφ glass beads to obtain a dispersion.
To the obtained dispersion, 0.005 part of dioctyltin dilaurate and 45 parts of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by GE Toshiba Silicone) were added as a catalyst to obtain a coating liquid for undercoat layer. This coating solution was applied by dip coating onto an aluminum substrate having a diameter of 30 mm, a length of 340 mm, and a thickness of 1 mm, followed by drying and curing at 170 ° C. for 40 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 18 μm.
(電荷発生層の作製)
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10部、n−酢酸ブチル200部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175部、メチルエチルケトン180部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を、前記下引層上に浸漬塗布し、常温(20℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
(Preparation of charge generation layer)
Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-ray as a charge generating material are at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° A mixture of 15 parts of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak, 10 parts of vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nihon Unicar) as a binder resin, and 200 parts of n-butyl acetate was used. The glass beads were used for dispersion for 4 hours in a sand mill. To the obtained dispersion, 175 parts of n-butyl acetate and 180 parts of methyl ethyl ketone were added and stirred to obtain a charge generation layer coating solution. This charge generation layer coating solution was dip coated on the undercoat layer and dried at room temperature (20 ° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
(電荷輸送層の作製)
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)40部、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン10部、およびビスフェノールZポリカーボネート樹脂(PC(Z):粘度平均分子量:6万)55部をクロルベンゼン800部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が15μmの電荷輸送層を形成した。
(Preparation of charge transport layer)
40 parts of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine (TPD), N, N-bis (3,4 10 parts of dimethylphenyl) biphenyl-4-amine and 55 parts of bisphenol Z polycarbonate resin (PC (Z): viscosity average molecular weight: 60,000) are added to 800 parts of chlorobenzene and dissolved to obtain a coating solution for a charge transport layer. It was. This coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 130 ° C. for 45 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm.
(表面層の作製)
前記化合物(13)を10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)10部、OTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部をシクロペンタノール30部に溶解し、突き上げコートにて前記電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度200ppmの窒素下で室温(20℃)から10℃/分の速度で150℃まで昇温し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚10μmの保護層を形成して実施例4の電子写真感光体を作製した。
(Preparation of surface layer)
10 parts of the compound (13), 10 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 0.2 part of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) are mixed with cyclopentanol. It melt | dissolved in 30 parts and it apply | coated on the said charge transport layer with a push-up coat. After air drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, the temperature is raised from room temperature (20 ° C.) to 150 ° C. at a rate of 10 ° C./minute under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm, and cured by heating at 150 ° C. for 1 hour. Then, a 10 μm-thick protective layer was formed to produce an electrophotographic photoreceptor of Example 4.
<画質の評価>
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ApeosPort−III C4400に装着し、低温低湿(8℃、20%RH)および高温高湿(30℃、85%RH)において、以下の評価を連続して行なった。
<Evaluation of image quality>
The electrophotographic photosensitive member produced as described above is mounted on Apeos Port-III C4400 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and at low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) and high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH), Was continuously evaluated.
まず低温低湿(8℃、20%RH)環境下で普通紙(富士ゼロックス社製、P紙(A4サイズ、短手送り))10000枚の画像形成テストを行い、10000枚目の画質評価(下記ゴースト、カブリ、スジ、画像流れ)を実施した。次いで、低温低湿(8℃、20%RH)環境下で24時間放置した後の最初の1枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表2に示した。
First, an image formation test of 10000 sheets of plain paper (Fuji Xerox Co., Ltd., P paper (A4 size, short feed)) is performed in a low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) environment, and the image quality evaluation of the 10000th sheet (below) (Ghost, fog, streak, image flow). Next, image quality evaluation was performed on the first image quality after being left for 24 hours in a low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) environment.
The results are shown in Table 2.
この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿(30℃、85%RH)の環境下にて10000枚の画像形成テストを行い、10000枚目の画質評価を実施した。次いで、高温高湿(30℃、85%RH)環境下で24時間放置した後の最初の1枚目の画質について画質評価を行った。
その結果を表3に示した。
Following the image quality evaluation under this low temperature and low humidity environment, an image formation test of 10,000 sheets was performed in an environment of high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH), and the image quality evaluation of the 10,000th sheet was performed. Next, image quality evaluation was performed on the image quality of the first sheet after being left for 24 hours in an environment of high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH).
The results are shown in Table 3.
(ゴースト評価)
ゴーストは、図6(A)に示したGと画像濃度50%の灰色領域を有するパターンのチャートをプリントし、50%の灰色部分にGの文字の現れ具合を目視にて評価した。
A:図6(A)のように良好または軽微である。
B:図6(B)のようにやや目立つ。
C:図6(C)のようにはっきり確認される。
(Ghost evaluation)
For the ghost, a chart of a pattern having a gray area with G and an image density of 50% shown in FIG. 6A was printed, and the appearance of the letter G was visually evaluated on the 50% gray area.
A: Good or slight as shown in FIG.
B: Slightly noticeable as shown in FIG.
C: It is clearly confirmed as shown in FIG.
(カブリ評価)
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナーの付着した度合いを目視にて観察し判断した。
A:良好。
B:うっすらとカブリあり。
C:画質上問題となるカブリあり。
(Fog evaluation)
The fog evaluation was performed by visually observing and judging the degree of adhesion of the toner on the white background using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: There is a slight fog.
C: There is fogging that causes a problem in image quality.
(スジ評価)
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
A:良好。
B:部分的にスジの発生あり。
C:画質上問題となるスジ発生。
(Streak evaluation)
The streak evaluation was judged visually using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: Streaks are partially generated.
C: Streaks that cause image quality problems.
(画像流れ評価)
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
A:良好。
B:連続的にプリントテストしている時は問題ないが、1日(24時間)放置後に発生。
C:連続的にプリントテストしている時にも発生。
(Image flow evaluation)
The image flow was judged visually using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: No problem during continuous print test, but occurs after standing for 1 day (24 hours).
C: Occurs during continuous print test.
<残留電位の上昇分の評価>
以下の方法により、残留電位を測定し、プリントテスト前後での残留電位の上昇分評価を行った。富士ゼロックス社製、ApeosPort−III C4400に電位センサーを取り付け、低温低湿(8℃、20%RH)下でプリントテスト前の電子写真感光体表面の残留電位測定を行った。ついで、低温低湿(8℃、20%RH)下で1万枚のプリントテストを行った直後に、低温低湿(8℃、20%RH)下で電子写真感光体表面の残留電位測定を行った。初期および1万枚プリントテスト後の残留電位の差(1万枚プリントテスト後の残留電位−初期の残留電位)を上昇分とした。
<Evaluation of increase in residual potential>
The residual potential was measured by the following method, and the increase in the residual potential before and after the print test was evaluated. A potential sensor was attached to Apeos Port-III C4400 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and the residual potential on the surface of the electrophotographic photoreceptor before the print test was measured under low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH). Next, immediately after a print test of 10,000 sheets under low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH), the residual potential on the surface of the electrophotographic photosensitive member was measured under low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH). . The difference between the initial potential and the residual potential after the 10,000-sheet print test (residual potential after the 10,000-sheet print test-initial residual potential) was defined as the increment.
<保護層の接着性の評価>
保護層の接着性は、画像形成テスト後の感光体に2mm角で5×5個の切れ目をカッターナイフで付け、3M社製メンディングテープを貼り付け、剥離した時の残存数で評価した。
その結果を表2に示した。
A:21個以上残存。
B:11個以上20個以下残存。
C:10個以下残存。
<Evaluation of adhesiveness of protective layer>
The adhesiveness of the protective layer was evaluated by the remaining number when a 2M square 5 × 5 piece was cut with a cutter knife on the photoconductor after the image formation test and a 3M mending tape was applied and peeled off.
The results are shown in Table 2.
A: 21 or more remained.
B: 11 to 20 remaining.
C: 10 or less remained.
<保護層の磨耗量の評価>
初期の感光体膜厚と、前述した低温低湿(8℃、20%RH)環境下および高温高湿(30℃、85%RH)環境下での画像形成テストを終了した後の膜厚を渦電流測定装置(フィッシャースコープMMS)にて測定し、磨耗量を評価した。
<Evaluation of protective layer wear>
The initial film thickness of the photoconductor is vortexed after completion of the image formation test in the low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) environment and the high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH) environment. The amount of wear was evaluated by measuring with a current measuring device (Fisherscope MMS).
[実施例5]
電荷輸送層までは実施例4に記載の方法により作製した。
(表面層の作製)
前記化合物(13)を10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)10部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)0.5部をシクロペンタノール30部に溶解し、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射距離:120mm、照射強度:500mW/cm2、照射時間:60秒の条件で酸素濃度200ppmの窒素下で光照射を行ない、塗布膜を硬化させた。更に130℃で20分乾燥を加え膜厚5μmの表面層を形成して実施例5の感光体を作製し、実施例4に記載の方法により評価を行った。
[Example 5]
Up to the charge transport layer was prepared by the method described in Example 4.
(Preparation of surface layer)
10 parts of the compound (13), 10 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts were dissolved in 30 parts of cyclopentanol and applied on the charge transport layer by push-up coating. After air drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, light irradiation was performed under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm under the conditions of a metal halide lamp: 160 W / cm, irradiation distance: 120 mm, irradiation intensity: 500 mW / cm 2 , irradiation time: 60 seconds. Then, the coating film was cured. Further, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a surface layer having a thickness of 5 μm to produce a photoreceptor of Example 5, and evaluation was performed by the method described in Example 4.
[実施例6]
電荷輸送層までは実施例4に記載の方法により作製した。
(表面層の作製)
前記化合物(13)を10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)10部をシクロペンタノール30部に溶解し、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度20ppmの窒素下で感光体を300rpmの速度で回転させながら照射距離が30mm、電子線加速電圧が90kV、電子線ビーム電流が2mA、電子線照射時間が1.0秒の条件で感光体に電子線を照射した。照射後すぐに、酸素濃度20ppmの窒素下で150℃に加熱し、10分保持して硬化反応を完結させ、膜厚5μmの表面層を形成して実施例6の感光体を作製し、実施例4に記載の方法により評価を行った。
[Example 6]
Up to the charge transport layer was prepared by the method described in Example 4.
(Preparation of surface layer)
10 parts of the compound (13) and 10 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 30 parts of cyclopentanol, and applied on the charge transport layer by push-up coating. After air drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, while rotating the photoconductor at a speed of 300 rpm under nitrogen with an oxygen concentration of 20 ppm, the irradiation distance is 30 mm, the electron beam acceleration voltage is 90 kV, the electron beam beam current is 2 mA, the electron beam The photosensitive member was irradiated with an electron beam under an irradiation time of 1.0 second. Immediately after irradiation, the film was heated to 150 ° C. under nitrogen with an oxygen concentration of 20 ppm, held for 10 minutes to complete the curing reaction, and a surface layer having a film thickness of 5 μm was formed to produce the photoreceptor of Example 6. Evaluation was carried out by the method described in Example 4.
[実施例7乃至18]
実施例4における化合物(13)を表1に示すものに変えた以外は実施例4に記載の方法により感光体を作製し、評価を行った。
[Examples 7 to 18]
A photoconductor was prepared and evaluated by the method described in Example 4 except that the compound (13) in Example 4 was changed to that shown in Table 1.
[比較例1]
実施例4の電荷輸送層を25μmとし、表面層を形成しないものを比較例1の感光体とし、実施例4に記載の方法により評価を行った。
[Comparative Example 1]
Evaluation was carried out by the method described in Example 4 with the charge transport layer of Example 4 being 25 μm and the surface layer not being formed as the photoreceptor of Comparative Example 1.
[比較例2]
実施例4における化合物(13)を、下記構造式の化合物(C)に変えた以外は実施例4に記載の方法により感光体を作製し、評価を行った。
[Comparative Example 2]
A photoreceptor was prepared and evaluated by the method described in Example 4 except that the compound (13) in Example 4 was changed to the compound (C) having the following structural formula.
上記表2および表3に示すように、実施例の電子写真感光体は、長期間に渡って繰り返し使用後における画質の低下が抑えられている。 As shown in Tables 2 and 3, the electrophotographic photosensitive member of the example has suppressed deterioration in image quality after repeated use over a long period of time.
[実施例19]
<有機EL素子の作製>
厚さ150nmのITO膜を設けたガラス基板を、プラズマ洗浄機(サムコインターナショナル社製、BP1)を用い、酸素プラズマにて30秒間洗浄した。
前記化合物(13)を10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)5部、OTazo−15(大塚化学、分子量354.4)0.2部をジクロロメタン50部に溶解した溶液を、回転数300rpmでスピンコートしたのち、酸素濃度150ppmの窒素下で160℃で1時間加熱し、硬化することにより、膜厚600nm(触針膜厚計にて測定)の正孔注入層を形成した。
[Example 19]
<Production of organic EL element>
A glass substrate provided with an ITO film having a thickness of 150 nm was cleaned with oxygen plasma for 30 seconds using a plasma cleaning machine (manufactured by Samco International, BP1).
10 parts of the compound (13), 5 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 0.2 part of OTazo-15 (Otsuka Chemical, molecular weight 354.4) are dissolved in 50 parts of dichloromethane. The solution was spin-coated at a rotation speed of 300 rpm, heated at 160 ° C. for 1 hour under nitrogen with an oxygen concentration of 150 ppm, and then cured to inject holes having a thickness of 600 nm (measured with a stylus thickness meter). A layer was formed.
次に、この正孔注入層上に、発光層の材料としてトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)を50nmの厚さに真空蒸着したのち、マグネシウム・銀合金陰極を200nmの厚さに蒸着し、有機EL素子を作製した。 Next, on this hole injection layer, tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq) as a material for the light emitting layer is vacuum-deposited to a thickness of 50 nm, and then a magnesium / silver alloy cathode is deposited to a thickness of 200 nm. Then, an organic EL element was produced.
<評価>
この有機EL素子のITO電極を陽極とし、マグネシウム・銀合金電極を陰極として、直流7Vを印加して、電流密度を以下の方法により求めるとともに、輝度を以下の方法により測定した。さらに、1000時間動作後の輝度を以下の方法により測定し、その結果を表4に示す。
<Evaluation>
Using the ITO electrode of this organic EL element as the anode, the magnesium / silver alloy electrode as the cathode, a direct current of 7 V was applied, the current density was determined by the following method, and the luminance was measured by the following method. Further, the luminance after 1000 hours of operation was measured by the following method, and the results are shown in Table 4.
尚、電流密度、電圧、輝度は、測定装置として有機EL発光効率測定装置(東京インスツルメンツ社製)を用い、且つ測定条件を25℃に調整して測定した。 The current density, voltage, and luminance were measured by using an organic EL luminous efficiency measuring device (manufactured by Tokyo Instruments Co., Ltd.) as a measuring device and adjusting the measuring conditions to 25 ° C.
また、有機EL素子は、ディスプレイやレーザーに利用する場合には、高電流注入が必要となるため、印加電圧7Vでの電流密度と輝度を測定し、また、印加電圧7Vで1000時間駆動後の輝度を測定した。 In addition, when the organic EL element is used for a display or a laser, high current injection is required. Therefore, the current density and luminance at an applied voltage of 7V are measured, and after driving for 1000 hours at an applied voltage of 7V. Luminance was measured.
[実施例20乃至28]
実施例19における化合物(13)を表4に示す化合物に変えた以外は実施例19に記載の方法により有機EL素子を作製し、評価した。その結果を表4に示す。
[Examples 20 to 28]
An organic EL device was prepared and evaluated by the method described in Example 19 except that the compound (13) in Example 19 was changed to the compound shown in Table 4. The results are shown in Table 4.
[比較例3]
実施例19における化合物(13)を用いて形成した正孔注入層に代えて、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)を膜厚600nmで真空蒸着した正孔注入層を適用した以外は実施例19に記載の方法により有機EL素子を作製し、評価した。結果を表4に示す
[Comparative Example 3]
Instead of the hole injection layer formed using the compound (13) in Example 19, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4 , 4′-diamine (TPD) was prepared and evaluated by the method described in Example 19 except that a hole injection layer vacuum-deposited with a film thickness of 600 nm was applied. The results are shown in Table 4.
上記表4に示すように、実施例の有機EL素子は、長期に渡って安定した発光特性が得られる。 As shown in Table 4 above, the organic EL elements of the examples can obtain stable emission characteristics over a long period of time.
1…下引層、2…電荷発生層、3…電荷輸送層、4…導電性基体、5…保護層、6…単層型感光層、7A,7B,7C,7…電子写真感光体、8…帯電装置、9…露光装置、11…現像装置、13…クリーニング装置、14…潤滑材、21…基板、22…陽極、23…正孔注入層、24…正孔輸送層、25…発光層、26…電子輸送層、27…陰極、40…転写装置、50…中間転写体、100…画像形成装置、120…画像形成装置、300…プロセスカートリッジ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Undercoat layer, 2 ... Charge generation layer, 3 ... Charge transport layer, 4 ... Conductive substrate, 5 ... Protective layer, 6 ... Single layer type photosensitive layer, 7A, 7B, 7C, 7 ... Electrophotographic photoreceptor, DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 ... Charging device, 9 ... Exposure device, 11 ... Developing device, 13 ... Cleaning device, 14 ... Lubricant, 21 ... Substrate, 22 ... Anode, 23 ... Hole injection layer, 24 ... Hole transport layer, 25 ... Light emission Layer, 26 ... electron transport layer, 27 ... cathode, 40 ... transfer device, 50 ... intermediate transfer member, 100 ... image forming device, 120 ... image forming device, 300 ... process cartridge
Claims (7)
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。) A thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1).
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
(式(2)中、Dは−(G)a−X−Y−SHで表される結合基を、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を表す。Ar1乃至Ar5のうちの1個以上4個以下は−(G)a−X−Y−SHで表される結合基と結合し得る結合手を有し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を、kは0または1を表す。) The thiol group-containing charge transport material according to claim 1 or 2 represented by the following general formula (2).
(In Formula (2), D represents a linking group represented by-(G) a -XY-SH, Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substitution. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group, G is a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, X is a -CO-O- group or -O-CO- group, Represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and a represents 0 or 1. One to four of Ar 1 to Ar 5 is-(G) a -XY-SH. And has a bond that can be bonded to the bonding group represented, c1 to c5 each independently represents an integer of 0 to 2, and k represents 0 or 1.)
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。) A thiol group-containing charge transport material solution in which a thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1) is dissolved in a solvent.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。) A photoelectric conversion device provided with the film | membrane formed using the solution which the thiol group containing charge transport material shown by following General formula (1) melt | dissolved.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
F−[(G)a−X−Y−SH]b 一般式(1)
(式(1)中、Fは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Gは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、Xは−CO−O−基または−O−CO−基を、Yは炭素数1以上5以下の2価の有機基を、aは0または1を、bは1以上6以下の整数を表す。)
An electrophotographic photoreceptor having a layer formed on a conductive substrate using a solution in which a thiol group-containing charge transport material represented by the following general formula (1) is dissolved.
F-[(G) a -XY-SH] b General formula (1)
(In the formula (1), F represents an organic group derived from a charge transporting compound, G represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, and X represents a —CO—O— group or —O—CO. -Y represents a divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms, a represents 0 or 1, and b represents an integer of 1 to 6.
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